JPH10270619A - Method for manufacturing semiconductor device - Google Patents
Method for manufacturing semiconductor deviceInfo
- Publication number
- JPH10270619A JPH10270619A JP9077414A JP7741497A JPH10270619A JP H10270619 A JPH10270619 A JP H10270619A JP 9077414 A JP9077414 A JP 9077414A JP 7741497 A JP7741497 A JP 7741497A JP H10270619 A JPH10270619 A JP H10270619A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- stage
- frame
- die
- lead frame
- die stage
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/481—Disposition
- H01L2224/48151—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
- H01L2224/48221—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
- H01L2224/48245—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic
- H01L2224/4826—Connecting between the body and an opposite side of the item with respect to the body
Landscapes
- Lead Frames For Integrated Circuits (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 ステージフレーム材料の利用効率を向上す
る。
【解決手段】 周辺に固定部210を有するダイステー
ジ209を個別に製造し,次いでチップ300をダイス
テージ209上に搭載し,その後ダイステージ209を
固定部210でリードフレーム100に固定する。又
は,複数のダイステージを含むステージフレームのダイ
ステージ上にチップを搭載した後,ダイステージを分離
し,固定部210をリードフレーム100に固定する。
ステージフレームの繰り返しパターンのピッチをリード
フレームのピッチより短くでき,ステージフレーム材料
の利用効率が向上する。
(57) [Summary] [PROBLEMS] To improve the use efficiency of a stage frame material. SOLUTION: A die stage 209 having a fixing part 210 in the periphery is individually manufactured, and then a chip 300 is mounted on the die stage 209, and then the die stage 209 is fixed to the lead frame 100 by the fixing part 210. Alternatively, after mounting a chip on a die stage of a stage frame including a plurality of die stages, the die stage is separated and the fixing portion 210 is fixed to the lead frame 100.
The pitch of the repeating pattern of the stage frame can be made shorter than the pitch of the lead frame, and the utilization efficiency of the stage frame material is improved.
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は,ダイステージ上に
搭載された半導体チップからリードフレームを用いてリ
ード線を引き出す半導体装置の製造方法に関し,とくに
ダイステージの材料使用量を節減する製造方法に関す
る。かかる製造方法において,さらにダイステージを接
地する方法に関する。また,半導体チップを容器に封入
する際にダイステージをリードフレームに確実に固定す
る半導体装置の製造方法に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for manufacturing a semiconductor device in which a lead wire is drawn from a semiconductor chip mounted on a die stage by using a lead frame, and more particularly to a method for reducing the amount of material used for the die stage. . The present invention further relates to a method for grounding a die stage. The present invention also relates to a method for manufacturing a semiconductor device, in which a die stage is securely fixed to a lead frame when a semiconductor chip is sealed in a container.
【0002】[0002]
【従来の技術】半導体チップをダイステージ上に搭載
し,リードフレームを用いてリードを引き出し,その後
容器に封入して,例えば樹脂封止して製造する半導体装
置の製造方法は,フープ状のリードフレームを用いて連
続してチップをパッケージングできるため自動封入に適
しており,広く半導体装置の製造に利用されている。2. Description of the Related Art A method of manufacturing a semiconductor device in which a semiconductor chip is mounted on a die stage, the lead is drawn out using a lead frame, and then sealed in a container, for example, is sealed with a resin is manufactured. Since chips can be packaged continuously using a frame, it is suitable for automatic encapsulation, and is widely used in the manufacture of semiconductor devices.
【0003】従来,かかるダイステージ上に搭載された
半導体チップをリードフレームを用いて容器に封入する
半導体装置の製造方法では,リードフレームのピッチと
同一ピッチでダイステージを配置したステージフレーム
が用いられていた。以下,樹脂封止型半導体装置の製造
工程の例により従来の半導体装置の製造工程について説
明する。Conventionally, in a method of manufacturing a semiconductor device in which a semiconductor chip mounted on a die stage is sealed in a container using a lead frame, a stage frame having a die stage arranged at the same pitch as the lead frame is used. I was Hereinafter, a manufacturing process of a conventional semiconductor device will be described with reference to an example of a manufacturing process of a resin-sealed semiconductor device.
【0004】図8は従来例リードフレーム斜視図であ
り,ステージフレームをリードフレームに固定した様子
を表している。図9は従来例リードフレーム及びステー
ジフレーム平面図であり,図9(a)及び(b)は,リ
ードフレーム及びステージフレームのパターンをそれぞ
れ表している。FIG. 8 is a perspective view of a conventional lead frame, showing a state in which a stage frame is fixed to the lead frame. FIG. 9 is a plan view of a conventional lead frame and a stage frame, and FIGS. 9A and 9B show patterns of the lead frame and the stage frame, respectively.
【0005】図8を参照して,従来の方法では先ず,半
導体チップ300をステージフレーム200のダイステ
ージ上に搭載する。このステージフレーム200は,図
9(b)を参照して,リードフレームのサイドレール1
01と重なる2本の平行なサイドレール201の間に,
リードフレームのピッチと同じピッチでダイステージ2
09が列設されて構成される。ステージフレーム200
の2本のサイドレール201は,リードフレーム100
と同様に,その間を接続する固定枠204で平行に支持
される。ダイステージ209はピンチバー208により
サイドレール201に接続され,かつステージフレーム
200のサイドレール201の上面よりチップ300の
厚さ以上の窪んだ位置に支持される。従って,図8を参
照して,ダイステージ209上面をサイドレール201
の下面に固定したとき,ダイステージ209上に搭載さ
れたチップ300の上面はサイドレール201の下面と
同じ高さに又はより低くなる。Referring to FIG. 8, in the conventional method, first, the semiconductor chip 300 is mounted on the die stage of the stage frame 200. Referring to FIG. 9B, the stage frame 200 includes side rails 1 of the lead frame.
01, between two parallel side rails 201 overlapping
Die stage 2 at the same pitch as the lead frame
09 are arranged in a line. Stage frame 200
Of the lead frame 100
In the same manner as described above, they are supported in parallel by a fixed frame 204 connecting them. The die stage 209 is connected to the side rail 201 by the pinch bar 208 and is supported at a position depressed from the upper surface of the side rail 201 of the stage frame 200 by the thickness of the chip 300 or more. Therefore, referring to FIG.
When fixed to the bottom surface of the side rail 201, the top surface of the chip 300 mounted on the die stage 209 is at the same height as or lower than the bottom surface of the side rail 201.
【0006】次に,チップ300上面にリード103が
並ぶように,リードフレーム100をステージフレーム
200と重ねてチップ300及びステージフレーム20
0上に固定する。Next, the lead frame 100 is superimposed on the stage frame 200 so that the leads 103 are arranged on the upper surface of the chip 300, and the chip 300 and the stage frame 20 are stacked.
Fixed on 0.
【0007】次に,チップ300上面に設けられた回路
端子用のパッド301とリード103のインナーリード
部分の先端とをワイヤボンデングによりワイヤー302
で接続する。Next, a pad 302 for a circuit terminal provided on the upper surface of the chip 300 and a tip of an inner lead portion of the lead 103 are connected to a wire 302 by wire bonding.
Connect with.
【0008】次にチップ300を樹脂封止した後,リー
ド103及びダイステージ209をサイドレール10
1,201から切り離し,ダムバーを切断除去し,その
後リード103の曲げ加工を施して樹脂封止型半導体装
置が製造される。Next, after the chip 300 is sealed with resin, the leads 103 and the die stage 209 are attached to the side rails 10.
The semiconductor device is cut off from the substrate 1 and 201, the dam bar is cut and removed, and then the lead 103 is bent to manufacture a resin-encapsulated semiconductor device.
【0009】上述した従来の半導体装置の製造方法で
は,リードフレーム100とステージフレーム200と
を重ねて固定したまま樹脂封止をし,その後に個別の半
導体装置に分割する。かかる方法では,リードフレーム
100とステージフレーム200とを重ねるために,リ
ードフレーム100及びステージフレーム200の両方
の繰り返しピッチが一致する必要がある。通常,リード
フレーム100の繰り返しピッチはチップ300幅より
著しく長い。従って,チップ300を搭載するダイステ
ージ209の繰り返しピッチは,チップ300幅より著
しく長くなる。即ち,ステージフレーム200の繰り返
しピッチは,単にチップ300を搭載するに必要なピッ
チあるいはステージフレーム200自体の幅よりかなり
大きくなる。その結果,高価なステージフレーム材料を
ダイステージ209の形成領域以外の領域,例えば打ち
抜き部分に余分に消費することとなり,コスト上昇を招
いていた。In the above-described conventional method of manufacturing a semiconductor device, the lead frame 100 and the stage frame 200 are overlapped and fixed, resin-sealed, and thereafter divided into individual semiconductor devices. In such a method, in order to overlap the lead frame 100 and the stage frame 200, it is necessary that the repeating pitches of both the lead frame 100 and the stage frame 200 be the same. Generally, the repeating pitch of the lead frame 100 is significantly longer than the width of the chip 300. Therefore, the repetition pitch of the die stage 209 on which the chip 300 is mounted is significantly longer than the width of the chip 300. That is, the repetition pitch of the stage frame 200 is considerably larger than the pitch simply required for mounting the chip 300 or the width of the stage frame 200 itself. As a result, an expensive stage frame material is excessively consumed in a region other than the region where the die stage 209 is formed, for example, in a punched portion, resulting in an increase in cost.
【0010】また,ダイステージは高周波特性及び静電
破壊の観点から接地することが好ましく,従来,かかる
接地は接地電極とダイステージとをワイヤボンデンクす
ることでなされていた。Further, the die stage is preferably grounded from the viewpoint of high frequency characteristics and electrostatic breakdown, and conventionally such grounding has been made by wire-bonding the ground electrode and the die stage.
【0011】さらに,ステージフレームをリードフレー
ムに固定することが困難な場合がある。例えば,ステー
ジフレーム及びリードフレーム材料の電気抵抗及び接触
抵抗が小さくスポット溶接が難しい場合,ステージフレ
ーム又はリードフレーム材料が硬質なため圧着が困難な
場合である。Further, it may be difficult to fix the stage frame to the lead frame. For example, when the electric resistance and contact resistance of the material of the stage frame and the lead frame are small and spot welding is difficult, and when the material of the stage frame or the lead frame is hard, crimping is difficult.
【0012】[0012]
【発明が解決しようとする課題】上述したように,従来
の半導体装置の製造方法では,ステージフレームにチッ
プを搭載した後,リードフレームとステージフレームと
を重ねて樹脂封止をしていた。このため,ステージフレ
ームのダイステージの繰り返しピッチをリードフレーム
の繰り返しピッチと同一にしなければならず,ステージ
フレーム材料をダイステージ形成以外の部分に費やす部
分が多くなり,コスト上昇を招くという問題があった。As described above, in the conventional method for manufacturing a semiconductor device, after mounting a chip on a stage frame, the lead frame and the stage frame are overlapped with each other and sealed with a resin. Therefore, the repeat pitch of the die stage of the stage frame must be the same as the repeat pitch of the lead frame, and there is a problem that the stage frame material is consumed in many parts other than the die stage formation, resulting in cost increase. Was.
【0013】さらに,従来の製造方法では,ステージフ
レーム及びリードフレームの材料によっては,スポット
溶接又は圧着が困難になるという問題があった。本発明
は,ステージフレーム材料をダイステージの形成に有効
に利用するため,ダイステージの繰り返しピッチをリー
ドフレームの繰り返しピッチと切り離して短くすること
ができる半導体装置の製造方法を提供することを目的と
する。また,かかる半導体装置の製造方法において,ダ
イステージの接地を容易に行う方法を提供することを目
的とする。さらに,リードフレームとステージフレーム
とのスポット溶接又は圧着を容易にし,リードフレーム
とステージフレームとを容易に固定する方法を提供する
ことを目的とする。Further, the conventional manufacturing method has a problem that spot welding or crimping becomes difficult depending on the material of the stage frame and the lead frame. SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to provide a method of manufacturing a semiconductor device, which can effectively reduce the repeat pitch of the die stage from the repeat pitch of the lead frame in order to effectively use the stage frame material for forming the die stage. I do. Another object of the present invention is to provide a method of easily grounding a die stage in the method of manufacturing a semiconductor device. Another object of the present invention is to provide a method for facilitating spot welding or pressure bonding between a lead frame and a stage frame, and easily fixing the lead frame and the stage frame.
【0014】[0014]
【課題を解決するための手段】図1及び図2は本発明の
第一実施形態例工程図であり,リードフレームを用いた
半導体装置の製造工程の容器封入前の工程を表してい
る。なお,図1(a)はステージフレーム斜視図,
(b)はAB断面図,(c)はチップを搭載したステー
ジフレーム斜視図,(d)はステージフレーム分割後の
斜視図である。また,図2(a)はダイステージをリー
ドフレームに固定したときの斜視図を,(b)はその展
開図を表している。図4は本発明の第一実施形態例リー
ドフレーム及びステージフレーム平面図であり,図4
(a)及び(b)はそれぞれリードフレーム及びステー
ジフレームのパターンを表している。図5は本発明の第
一実施形態例固定部断面図であり,リードフレームにダ
イステージを固定するときの固定部近傍の材料の重ね合
わせを表している。図6は本発明の第二実施形態例説明
図であり,リードフレームに固定されたダイステージを
表している。なお,図6(a)は平面図,図6(b)は
EF断面図,及び図6(c)は図6(a)を展開した斜
視図である。1 and 2 are process charts of a first embodiment of the present invention, showing a process before a container is enclosed in a manufacturing process of a semiconductor device using a lead frame. FIG. 1A is a perspective view of a stage frame,
(B) is an AB cross-sectional view, (c) is a perspective view of a stage frame on which a chip is mounted, and (d) is a perspective view after the stage frame is divided. 2A shows a perspective view when the die stage is fixed to the lead frame, and FIG. 2B shows a developed view thereof. FIG. 4 is a plan view of a lead frame and a stage frame according to the first embodiment of the present invention.
(A) and (b) show the patterns of the lead frame and the stage frame, respectively. FIG. 5 is a sectional view of the fixing portion of the first embodiment of the present invention, and shows the superposition of the materials in the vicinity of the fixing portion when fixing the die stage to the lead frame. FIG. 6 is an explanatory view of a second embodiment of the present invention, showing a die stage fixed to a lead frame. 6A is a plan view, FIG. 6B is an EF sectional view, and FIG. 6C is a developed perspective view of FIG. 6A.
【0015】上述した課題を解決するために本発明の第
一の構成の半導体装置の製造方法は,図1(d)及び図
2を参照して,周辺から突出する固定部210を有する
ダイステージ209を個別に分離して製造する工程と,
次いで,該ダイステージ209上に半導体チップ300
を搭載する工程と,次いで,リードフレーム100を該
ダイステージ209及び該チップ300上に配置する工
程と,次いで,該固定部210を該リードフレーム10
0に固定する工程とを有することを特徴として構成し,
及び,第二の構成は,図1を参照して,第一の構成の半
導体装置の製造方法において,該ダイステージ209
は,周辺から突出する固定部210を有する複数のダイ
ステージ209が一体として配設されたステージフレー
ム200を分断して製造されることを特徴として構成
し,及び,第三の構成の半導体装置の製造方法は,図1
を参照して,周辺から突出する固定部210を有するダ
イステージ209が複数個配設されたステージフレーム
200の該ダイステージ209上に,半導体チップ30
0を搭載する工程と,次いで,該ステージフレーム20
0を分断して該ダイステージ209を個別に分離する工
程と,次いで,リードフレーム100を該ダイステージ
209及び該チップ300上に配置する工程と,次い
で,該固定部210を該リードフレーム100に固定す
る工程とを有することを特徴として構成し,及び,第4
の構成は,図1を参照して,第1又は第3の構成の半導
体装置の製造方法において,該ステージフレーム200
は,平行な2本のサイドレール201と,該サイドレー
ル201の間に該サイドレール201の延在方向に等ピ
ッチで配設されたダイステージ209と,該ダイステー
ジ209を該サイドレール201に支持するピンチバー
208とを備え,該サイドレール201を該ピッチ間隔
で切断して,該ダイステージ209の両側に該ピンチバ
ー208により支持される該サイドレール201の切片
を該固定部210として有する該ダイステージ209を
製造することを特徴として構成し,及び,第五の構成
は,図1,図2及び図4を参照して,平行な2本の第一
のサイドレール201の間にピンチバー208により該
第一のサイドレール201に支持されたダイステージ2
09が,該第一のサイドレール201の延在方向に第一
のピッチPで配設されたステージフレーム200を該第
一のピッチPで切断して,該ステージフレーム200
を,該第一のサイドレール201の切片からなる固定部
210が該ダイステージ209の両側で該ピンチバー2
08により支持された該ダイステージ209に分割する
工程と,該ダイステージ209上に半導体チップ300
を搭載する工程と,次いで,平行な2本の第二のサイド
レール101の間にダムバー102により該第二のサイ
ドレール101に支持されたリード103が該第二のサ
イドレール101の延在方向に該第一のピッチPより長
い第二のピッチP0 で配設されたリードフレーム100
を,該ダイステージ209及び該チップ300上に配置
する工程と,次いで,該固定部210を該第二のサイド
レール101に固定する工程とを有することを特徴とし
て構成し,及び,第六の構成は,図6を参照して,第一
〜三の構成のいずれかの構成の半導体装置の製造方法に
おいて,該チップ300の上面に設けられたパッド30
1と該固定部210とをワイヤ303により電気的に接
続する工程と,該ワイヤ303,該チップ300及び該
ダイステージ209をパッケージ内に封止する工程とを
有することを特徴として構成し,及び,第七の構成は,
図7を参照して,第一〜第三の構成のいずれかの構成の
半導体装置の製造方法において,該半導体装置の外部で
接地される該リード103又は電源若しくは接地電極に
接続される該リード103の一部を該チップ300の外
側に延在した短絡リード片103aを該固定部210に
電気的に接続する工程と,該短絡リード片103a,該
チップ300及び該ダイステージ209をパッケージ内
に封止する工程とを有することを特徴として構成し,及
び,第八の構成は,図5(a)を参照して,ダイステー
ジ209と連結する固定部をリードフレーム100に溶
接して,該ダイステージ209を該リードフレーム10
0に固定する工程を有する半導体装置の製造方法におい
て,該溶接は,該固定部210と該リードフレーム10
0との間に該固定部210及び該リードフレーム100
材料より抵抗率の高い金属501を介在させてスポット
溶接する工程を有することを特徴として構成し,及び,
第九の構成は,図5(b)を参照して,ダイステージ2
09と連結する固定部210をリードフレーム100に
圧着して,該ダイステージ209を該リードフレーム1
00に固定する工程を有する半導体装置の製造方法にお
いて,該圧着は,該固定部210と該リードフレーム1
00との間に該固定部210及び該リードフレーム10
0材料より軟質の金属504を介在させて圧着すること
を特徴として構成する。In order to solve the above-mentioned problems, a method of manufacturing a semiconductor device having a first configuration according to the present invention is described with reference to FIGS. 1D and 2 by using a die stage having a fixing portion 210 protruding from the periphery. 209 individually and separately;
Next, the semiconductor chip 300 is placed on the die stage 209.
Mounting the lead frame 100 on the die stage 209 and the chip 300, and then fixing the fixing portion 210 to the lead frame 10.
And a step of fixing to 0,
The second configuration refers to the die stage 209 in the method of manufacturing a semiconductor device having the first configuration, with reference to FIG.
Is manufactured by dividing a stage frame 200 in which a plurality of die stages 209 each having a fixing portion 210 protruding from the periphery are integrally arranged, and a semiconductor device having a third configuration. The manufacturing method is shown in Figure 1.
With reference to FIG. 7, a semiconductor chip 30 is mounted on a die stage 209 of a stage frame 200 in which a plurality of die stages 209 having a fixing portion 210 protruding from the periphery are provided.
0, and then the stage frame 20
0, separating the die stage 209 individually, then, arranging the lead frame 100 on the die stage 209 and the chip 300, and then attaching the fixing portion 210 to the lead frame 100. And a fourth step of fixing.
The structure of the stage frame 200 is the same as that of the stage frame 200 in the method of manufacturing a semiconductor device having the first or third structure with reference to FIG.
Is a pair of parallel side rails 201, a die stage 209 disposed between the side rails 201 at an equal pitch in the extending direction of the side rails 201, and the die stage 209 is attached to the side rails 201. And a pinch bar 208 for supporting, and cutting the side rail 201 at the pitch interval, and forming a die 210 having, as the fixing portion 210, a section of the side rail 201 supported by the pinch bar 208 on both sides of the die stage 209. The fifth embodiment is characterized in that the stage 209 is manufactured, and a fifth configuration is described with reference to FIGS. 1, 2 and 4 by a pinch bar 208 between two parallel first side rails 201. Die stage 2 supported by the first side rail 201
09 cuts the stage frame 200 arranged at the first pitch P in the extending direction of the first side rail 201 at the first pitch P, and the stage frame 200
Is fixed to the pinch bar 2 on both sides of the die stage 209.
08, and a step of dividing the die stage 209 supported by the semiconductor chip 300 onto the die stage 209.
And then the lead 103 supported on the second side rail 101 by the dam bar 102 between the two parallel second side rails 101 is arranged in the extending direction of the second side rail 101. The lead frame 100 arranged at a second pitch P 0 longer than the first pitch P.
A step of disposing the fixing part 210 on the die stage 209 and the chip 300, and then fixing the fixing part 210 to the second side rail 101. Referring to FIG. 6, in the method of manufacturing a semiconductor device having any one of the first to third configurations, pad 30 provided on the upper surface of chip 300 is formed.
1 and the fixing part 210 are electrically connected by a wire 303, and the step of sealing the wire 303, the chip 300 and the die stage 209 in a package, and , The seventh configuration is
Referring to FIG. 7, in the method of manufacturing a semiconductor device having any one of the first to third configurations, the lead 103 grounded outside the semiconductor device or the lead connected to a power supply or a ground electrode. A step of electrically connecting a short-circuit lead 103a extending part of 103 to the outside of the chip 300 to the fixing part 210; and placing the short-circuit lead 103a, the chip 300 and the die stage 209 in a package. The eighth structure is characterized in that it includes a step of sealing, and the eighth structure is such that, with reference to FIG. The die stage 209 is connected to the lead frame 10.
In a method for manufacturing a semiconductor device having a step of fixing the lead frame 10 to the lead frame 10,
0 between the fixing portion 210 and the lead frame 100.
And a spot welding process with a metal 501 having a resistivity higher than that of the material interposed therebetween, and
As for the ninth configuration, referring to FIG. 5B, the die stage 2
09 is fixed to the lead frame 100 to fix the die stage 209 to the lead frame 1.
In the method of manufacturing a semiconductor device having the step of fixing the lead frame 1 and the lead frame 1,
00 between the fixing portion 210 and the lead frame 10.
The crimping is performed by interposing a metal 504 which is softer than the material No. 0.
【0016】本発明の第一の構成では,図1(d)を参
照して,周辺から突出する固定部210を有するダイス
テージ209を個別に分離して製造した後,ダイステー
ジ209上に半導体チップ300を搭載する。なお,図
1(d)は後述する本発明の第三の構成に係る工程途中
のチップ及びダイステージを表しているが,本第一の構
成における上記工程後のチップ及びダイステージは同様
の形状をなすため,説明の便宜のために図1(d)を用
いて説明した。次いで,図2を参照して,リードフレー
ム100をダイステージ209及び半導体チップ300
上に配置し,固定部210をリードフレーム100に固
定する。なお,本構成の固定部210は,リードフレー
ム100の一部に固定されてリードフレームとダイステ
ージの位置を固定できるものであれば,形状,大きさ,
個数及び位置を適宜選択することができる。例えば,固
定部210をダイステージに密接することもでき,また
支持部材によりダイステージ209から離して設けるこ
ともできる。In the first configuration of the present invention, referring to FIG. 1 (d), after the die stage 209 having the fixing portion 210 protruding from the periphery is separately manufactured, the semiconductor is placed on the die stage 209. The chip 300 is mounted. Although FIG. 1D shows a chip and a die stage during the process according to a third configuration of the present invention described later, the chip and the die stage after the above process in the first configuration have the same shape. For the sake of convenience, the description has been made with reference to FIG. Next, referring to FIG. 2, the lead frame 100 is attached to the die stage 209 and the semiconductor chip 300.
The fixing part 210 is fixed to the lead frame 100 by disposing the fixing part 210 on the lead frame 100. In addition, if the fixing portion 210 of this configuration is fixed to a part of the lead frame 100 and can fix the positions of the lead frame and the die stage, the shape, size,
The number and position can be appropriately selected. For example, the fixed part 210 can be closely attached to the die stage, or can be provided separately from the die stage 209 by a supporting member.
【0017】この第一の構成では,ダイステージ209
は個別に分離した形状で製造されるため,ダイステージ
209間の間隔をリードフレーム100の繰り返しピッ
チとは関係なく任意に設定することができる。従って,
板材からダイステージ209を無駄なく切り出すことが
できる。また,ダイステージ209は固定部210を有
し,この固定部210を用いてリードフレームに固定さ
れるので,固定後はリードフレーム100を用いて連続
してチップを容器に封入することができ,パッケージン
グ工程の自動化が阻害されない。In the first configuration, the die stage 209
Are manufactured in an individually separated shape, the interval between the die stages 209 can be set arbitrarily regardless of the repetition pitch of the lead frame 100. Therefore,
The die stage 209 can be cut from the plate material without waste. Further, since the die stage 209 has a fixing portion 210 and is fixed to the lead frame using the fixing portion 210, the chips can be continuously sealed in the container using the lead frame 100 after fixing. Automation of the packaging process is not hindered.
【0018】本発明の第二の構成は,第一の構成のダイ
ステージの製造方法に関する。本構成では,図1(a)
を参照して,複数のダイステージ209が一列又は複数
列に配設され,かつ各ダイステージ209を接続し支持
する部分,例えばピンチバー208及びサイドレール2
01等により各ダイステージ209が一体として形成さ
れたステージフレーム200を使用し,このステージフ
レーム200を各ダイステージ209に分割することで
ダイステージ209を製造する。なお,固定部210
は,各ダイステージ209を接続し支持する部分とは別
に形成することもでき,また各ダイステージ209を接
続し支持する部分の一部又は全部により構成することも
できる。本構成では,連続した,例えばフープ状のステ
ージフレーム200を分割してダイステージ209を製
造することができるから,自動化が容易であるという利
点がある。The second configuration of the present invention relates to a method of manufacturing the die stage having the first configuration. In this configuration, FIG.
, A plurality of die stages 209 are arranged in one row or a plurality of rows, and a portion for connecting and supporting each die stage 209, for example, the pinch bar 208 and the side rail 2.
A die frame 209 is manufactured by using a stage frame 200 in which each die stage 209 is integrally formed by 01 or the like and dividing the stage frame 200 into the die stages 209. The fixing unit 210
Can be formed separately from a portion that connects and supports each die stage 209, or can be configured by part or all of a portion that connects and supports each die stage 209. With this configuration, the die stage 209 can be manufactured by dividing the continuous, for example, hoop-shaped stage frame 200, and thus there is an advantage that automation is easy.
【0019】本発明の第三の構成では,図1(a)を参
照して,第二の構成のステージフレームと同様のステー
ジフレーム200,即ちダイステージ209が複数個一
体として配設されたステージフレーム200を用いる。
本構成では,このステージフレーム200の各ダイステ
ージ209上に半導体チップ300を搭載し,その後に
各ダイステージ209に分割する。従って,チップ30
0は,ステージフレーム中に連続して配設されたダイス
テージ上に搭載されるから,個別のダイステージ上に搭
載するよりもチップ搭載工程の自動化が容易であり,ま
たスループットも優れる。また,本構成のステージフレ
ームは,チップ幅までダイステージの繰り返しピッチを
短縮できるから,リードフレームの繰り返しピッチでダ
イステージを配設する従来法に比べてステージフレーム
の材料の利用効率が高い。In the third structure of the present invention, referring to FIG. 1A, a stage frame 200 similar to the stage frame of the second structure, that is, a stage in which a plurality of die stages 209 are integrally provided. The frame 200 is used.
In this configuration, the semiconductor chip 300 is mounted on each die stage 209 of the stage frame 200, and then divided into each die stage 209. Therefore, the tip 30
Since 0 is mounted on the die stages continuously arranged in the stage frame, the chip mounting process can be automated easily and the throughput is excellent as compared with mounting on individual die stages. Further, in the stage frame of the present configuration, the repetition pitch of the die stage can be reduced to the chip width. Therefore, the use efficiency of the material of the stage frame is higher than in the conventional method in which the die stage is arranged at the repetition pitch of the lead frame.
【0020】本発明の第四の構成は,第二及び第三の構
成のステージフレームに関する。第四の構成では,ステ
ージフレーム200は,図1(a)及び(d)を参照し
て,平行な2本のサイドレール201の間にサイドレー
ル201の延在方向に沿ってダイステージ209が等ピ
ッチで配設されている。また,ダイステージ209はサ
イドレール201にピンチバー208により支持され
る。このサイドレール201をダイステージの配設ピッ
チ間隔で切断してステージフレーム200を分割し,ピ
ンチバー208で支持されたサイドレール201の切片
を両側に有するダイステージ209を製造する。本構成
では,このサイドレール201の切片を固定部210と
する。従って,固定部210を特別に配設する必要がな
く,ステージフレーム200の形状を単純にすることが
できる。なお,既述した第二又は第三の構成のダイステ
ージ209間の間隔をリードフレーム100の繰り返し
ピッチとは関係なく任意に設定することができるという
利点は,本構成のステージフレームについても同様であ
る。従って,本構成ではダイステージ209の繰り返し
ピッチを密にすることができるので,ステージフレーム
材からダイステージ209を無駄なく切り出すことがで
きステージフレーム材料の利用効率が高い。The fourth structure of the present invention relates to the stage frames of the second and third structures. In the fourth configuration, the stage frame 200 has a die stage 209 between two parallel side rails 201 along the direction in which the side rails 201 extend, with reference to FIGS. They are arranged at equal pitch. The die stage 209 is supported by the pinch bar 208 on the side rail 201. The side rail 201 is cut at the pitch of the die stage to divide the stage frame 200, and a die stage 209 having a piece of the side rail 201 supported on the pinch bar 208 on both sides is manufactured. In the present configuration, the section of the side rail 201 is the fixing part 210. Therefore, it is not necessary to arrange the fixing portion 210 specially, and the shape of the stage frame 200 can be simplified. The advantage that the distance between the die stages 209 of the second or third configuration described above can be set arbitrarily regardless of the repetition pitch of the lead frame 100 is the same for the stage frame of this configuration. is there. Therefore, in this configuration, the repeating pitch of the die stage 209 can be made dense, so that the die stage 209 can be cut from the stage frame material without waste, and the utilization efficiency of the stage frame material is high.
【0021】本発明の第五の構成では,図4を参照し
て,ステージフレーム200は,2本の平行なサイドレ
ール101の間に第一のピッチで配設されたダイステー
ジ209パターンを有する。また,リードフレーム10
0は,2本の平行なサイドレール101,201を備
え,その間に,第二のピッチで繰り返し配設されたリー
ド105パターンを有する。なお,第一のピッチは第二
のピッチより短くする。In a fifth configuration of the present invention, referring to FIG. 4, a stage frame 200 has a die stage 209 pattern disposed at a first pitch between two parallel side rails 101. . In addition, the lead frame 10
0 has two parallel side rails 101 and 201, and has a lead 105 pattern repeatedly arranged at a second pitch between them. The first pitch is shorter than the second pitch.
【0022】ステージフレームは,図1を参照して,第
一のピッチでサイドレール201を切断することによ
り,個々のダイステージ209に分離される。この分離
工程は,半導体チップをダイステージに搭載する前に行
うこともでき,また搭載した後に行うこともできる。With reference to FIG. 1, the stage frame is separated into individual die stages 209 by cutting the side rails 201 at a first pitch. This separation step can be performed before or after mounting the semiconductor chip on the die stage.
【0023】切断されたサイドレール201は,ダイス
テージ209の両側にピンチバー208により支持さ
れ,リードフレーム100にダイステージを固定するた
めの固定部210となる。この固定部210は,リード
フレーム100のサイドレール101に重ねあわされ,
固着される。この固定部210をリードフレーム100
のサイドレール101に重ね合わせるために,リードフ
レームのサイドレールとステージフレーム200のサイ
ドレールとは少なくとも一部を重ね合わせることができ
るように配置される。例えば,平行な2本のサイドレー
ル101,201の距離をリードフレーム100とステ
ージフレーム200とで同一にして互いに重畳するよう
にする。また,リードフレーム100若しくはステージ
フレーム200の一方又は双方のサイドレールの一部を
ダイステージ209方向に突出させ,その突出部を重ね
合わせることもできる。The cut side rails 201 are supported by pinch bars 208 on both sides of the die stage 209 and serve as a fixing portion 210 for fixing the die stage to the lead frame 100. The fixing portion 210 is overlapped with the side rail 101 of the lead frame 100,
It is fixed. This fixing portion 210 is connected to the lead frame 100.
The side rail of the lead frame and the side rail of the stage frame 200 are arranged so that at least a part thereof can be overlapped. For example, the distance between the two parallel side rails 101 and 201 is the same in the lead frame 100 and the stage frame 200 so that they overlap each other. Further, a part of one or both side rails of the lead frame 100 or the stage frame 200 may be protruded toward the die stage 209, and the protruding portions may be overlapped.
【0024】本構成では,ステージフレームを個々のダ
イステージに分割してからリードフレームに固定するた
め,ステージフレームのピッチをリードフレームのピッ
チより短くすることができ,ステージフレーム材料を節
減することができる。In this configuration, since the stage frame is divided into individual die stages and then fixed to the lead frame, the pitch of the stage frame can be made shorter than the pitch of the lead frame, and the material of the stage frame can be saved. it can.
【0025】本発明の第六を構成では,図6を参照し
て,チップ300上面に設けられたパッド,例えば接地
用又は電源供給用のパッド,とダイステージの固定部2
10とをワイヤ303で接続する。さらに,このワイヤ
303を掩覆する又は容器内に収納するようにパッケー
ジングする。本構成では,リードフレームに接地用又は
電源供給用のリードを設ける必要がないので,リードフ
レームの形状が単純になりかつ小型になる。In the sixth configuration of the present invention, referring to FIG. 6, pads provided on the upper surface of the chip 300, for example, pads for grounding or power supply, and the fixing portion 2 of the die stage.
10 is connected by a wire 303. Further, the wire 303 is packaged so as to cover it or store it in a container. In this configuration, since it is not necessary to provide a lead for grounding or power supply to the lead frame, the shape of the lead frame is simple and compact.
【0026】本発明の第七の構成では,図7を参照し
て,接地用のリードの一部を固定部まで延在した短絡リ
ード片を設け,この短絡リード片を用いて固定部に電気
的に接続する。リードを容器で掩覆するのは第六の構成
と同様である。本構成では,リードフレーム及びステー
ジフレームの切断面がリードフレームを含む平面内に集
中するので切断金型の設計が容易である。In the seventh configuration of the present invention, referring to FIG. 7, a short-circuit lead piece is provided in which a part of the grounding lead is extended to the fixed portion, and the short-circuit lead piece is used to electrically connect the ground lead to the fixed portion. Connection. Covering the lead with a container is similar to the sixth configuration. In this configuration, the cut surfaces of the lead frame and the stage frame are concentrated in a plane including the lead frame, so that the design of the cutting die is easy.
【0027】本発明の第八の構成では,図5(a)を参
照して,スポット溶接すべき部分の,固定部210とリ
ードフレーム100との間に高抵抗率の金属501を介
在させる。この構成では固定部210とリードフレーム
100との接触抵抗が小さい場合でも,固定部210と
リードフレーム100間の電気抵抗が大きくなるから,
局部的に高温になりやすく溶接が容易になる。なお,電
流を微小領域に集中して局部的に高温にするため,スポ
ット溶接の少なくとも一方の溶接用電極502の先端に
丸みを持たせることが望ましい。同様の理由で,金属は
小さいことが好ましい。In the eighth structure of the present invention, referring to FIG. 5A, a metal 501 having a high resistivity is interposed between the fixed portion 210 and the lead frame 100 in the portion to be spot-welded. With this configuration, even if the contact resistance between the fixed portion 210 and the lead frame 100 is small, the electrical resistance between the fixed portion 210 and the lead frame 100 is large,
It becomes easy to get high temperature locally and welding becomes easy. It is desirable that at least one of the welding electrodes 502 for spot welding has a rounded tip in order to locally concentrate the current in a minute area and raise the temperature locally. For the same reason, it is preferable that the metal be small.
【0028】本発明の第九の構成では,図5(b)を参
照して,圧着すべき部分の,固定部210とリードフレ
ーム100との間に軟質の金属504を介在させて圧着
する。この金属504は軟質なので圧着時に容易に潰れ
て展延し固定部210とリードフレーム100との隙間
を充填するから,圧着が確実にできる。In the ninth structure of the present invention, referring to FIG. 5 (b), a soft metal 504 is interposed between the fixing portion 210 and the lead frame 100 at the portion to be crimped and crimped. Since the metal 504 is soft, it is easily crushed and spread at the time of crimping and fills the gap between the fixing portion 210 and the lead frame 100, so that the crimping can be reliably performed.
【0029】[0029]
【発明の実施の形態】本発明の第一実施形態例は,ダイ
ステージの繰り返しパターンを有するステージフレーム
に半導体チップを搭載したのち,ダイステージを分割す
る工程を有する樹脂封止型半導体装置の製造方法に関す
る。DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS A first embodiment of the present invention is a method of manufacturing a resin-encapsulated semiconductor device having a step of mounting a semiconductor chip on a stage frame having a repetitive pattern of a die stage and then dividing the die stage. About the method.
【0030】第一実施形態例で用いられたステージフレ
ーム200は,図4(b)を参照して,平行な一定幅の
薄板状の2本のサイドレール201の間に,ピンチバー
208によりサイドレール201に支持されたダイステ
ージ209がピッチPで等間隔に配置されている。この
ピッチPは,一つのダイステージ209上にチップ30
0を搭載する際に,隣接するダイステージ209上に搭
載されたチップ300が障害にならない程度の間隔とす
る。Referring to FIG. 4B, the stage frame 200 used in the first embodiment is provided with a pinch bar 208 between two parallel side rails 201 of a thin plate shape. Die stages 209 supported by 201 are arranged at equal intervals at a pitch P. This pitch P corresponds to the chip 30 on one die stage 209.
When mounting 0, the interval is set such that the chips 300 mounted on the adjacent die stage 209 do not cause an obstacle.
【0031】リードフレーム100は,従来の通常使用
されているリードフレームであり,図4(a)を参照し
て,その2本のサイドレール101は,固定枠104に
よりステージフレーム200のサイドレールと同一の間
隔に支持される。この固定枠104は, ダイステージ2
09のピッチPより長いピッチP0 で繰り返し設けられ
る。固定枠104及びサイドレール101で囲まれた領
域に,リード105がダムバー102によってサイドレ
ール101に支持される。The lead frame 100 is a conventional and commonly used lead frame. Referring to FIG. 4A, the two side rails 101 are connected to the side rails of the stage frame 200 by a fixed frame 104. It is supported at the same interval. The fixed frame 104 is a die stage 2
It is repeatedly provided with a pitch P 0 longer than the pitch P of 09. The lead 105 is supported on the side rail 101 by the dam bar 102 in a region surrounded by the fixed frame 104 and the side rail 101.
【0032】ステージフレーム200のサイドレール2
01には,案内穴205が,例えばピンチバー208の
近傍に開設される。この案内穴205は,リードフレー
ム100のサイドレール101の対応する位置に開設さ
れた案内穴105とともに,後述する固定時の位置決め
手段として用いられる。また,これらの案内穴205,
105は,リードフレーム100のサイドレール101
に開設された角穴106及び丸穴とともに,ステージフ
レーム200及びリードフレーム100の送りにも利用
される。Side rail 2 of stage frame 200
At 01, a guide hole 205 is opened, for example, near the pinch bar 208. The guide hole 205, together with the guide hole 105 formed at the corresponding position of the side rail 101 of the lead frame 100, is used as positioning means at the time of fixing described later. In addition, these guide holes 205,
105 is a side rail 101 of the lead frame 100.
It is also used for feeding the stage frame 200 and the lead frame 100 together with the square hole 106 and the round hole opened in the.
【0033】上述したステージフレーム200は,図1
(a)を参照して,ダイステージ209上面がサイドレ
ール101上面よりチップ300の厚さ分だけ低くなる
ようにピンチバー208の曲げ加工を施す。この曲げ加
工は,ステージフレーム200製造時になすことも,ま
たチップを搭載する前工程としてなすこともできる。The stage frame 200 described above is shown in FIG.
Referring to (a), the pinch bar 208 is bent so that the upper surface of the die stage 209 is lower than the upper surface of the side rail 101 by the thickness of the chip 300. This bending process can be performed at the time of manufacturing the stage frame 200 or as a pre-process for mounting the chip.
【0034】次いで,図1(c)を参照して,ダイステ
ージ209上に半導体チップ300を搭載する。次い
で,ピッチPの間隔で設けられた図1(c)中の線CD
に沿って,サイドレール201を切り離し,図1(d)
を参照して,チップ300が搭載されたダイステージ2
09を個別に分離する。このとき,ダイステージ209
にピンチバー208により支持されたサイドレール20
1の切片が,固定部210として形成される。なお,こ
の固定部210には案内穴205が含まれる。Next, referring to FIG. 1C, the semiconductor chip 300 is mounted on the die stage 209. Next, the line CD in FIG. 1C provided at intervals of the pitch P.
Along the line, separate the side rails 201, as shown in FIG.
Referring to, the die stage 2 on which the chip 300 is mounted
09 are separated separately. At this time, the die stage 209
Side rail 20 supported by pinch bar 208
One piece is formed as the fixed portion 210. The fixing portion 210 includes a guide hole 205.
【0035】次いで,図2を参照して,リードフレーム
100にダイステージ209を固定する。先ず,垂直に
植設された案内用ピン401を有する位置合わせ治具上
に,固定部210の案内穴205をピン401に挿入し
て,ダイステージ209をチップ300を上方に向けて
載置する。なお,位置合わせ治具の窪み402は,ピン
チバー208の逃げを確保するため必要ならば設けられ
る。Next, referring to FIG. 2, a die stage 209 is fixed to the lead frame 100. First, the guide hole 205 of the fixing part 210 is inserted into the pin 401 on the positioning jig having the guide pin 401 implanted vertically, and the die stage 209 is placed with the chip 300 facing upward. . The recess 402 of the positioning jig is provided if necessary to secure the escape of the pinch bar 208.
【0036】次いで,リードフレーム100を送出し,
リードフレーム100のサイドレール101に設けられ
た案内穴105をピン401に挿入して,リードフレー
ム100とダイステージ209とを位置合わせをし,リ
ードフレーム100をチップ上面に載置する。Then, the lead frame 100 is sent out,
The guide hole 105 provided in the side rail 101 of the lead frame 100 is inserted into the pin 401, the lead frame 100 and the die stage 209 are aligned, and the lead frame 100 is placed on the chip upper surface.
【0037】次いで,図2(a)を参照して,固定部2
10とリードフレーム100のサイドレール101とを
所定の溶接点500でスポット溶接して,リードフレー
ム100にダイステージ209を固定する。このスポッ
ト溶接は,固定部209とリードフレーム100とを重
ね合わせてする通常のスポット溶接によることができ
る。また,リードフレーム100及びステージフレーム
200の材質が,鉄,銅,42アロイ又はコバールであ
るとき,図5(a)を参照して,溶接点500に抵抗率
の高い金属501,例えばニッケル,ステンレス鋼又は
真鍮の薄片を挟み込み,スポット溶接を行うことによ
り,溶接が容易になる。さらに,固定部210上面又は
リードフレーム100下面に抵抗率の高い金属501の
薄膜,例えばニッケル又はチタン薄膜を形成し,この金
属501薄膜を介在させてスポット溶接を行うことによ
り,容易に溶接することもできる。これらの溶接は,押
下する溶接用電極の先端に丸みを帯びさせることによ
り,効果的に電流を集中することができる。Next, referring to FIG. 2A, the fixing portion 2
10 and the side rail 101 of the lead frame 100 are spot-welded at a predetermined welding point 500 to fix the die stage 209 to the lead frame 100. This spot welding can be performed by ordinary spot welding in which the fixing portion 209 and the lead frame 100 are overlapped. Further, when the material of the lead frame 100 and the stage frame 200 is iron, copper, 42 alloy or Kovar, referring to FIG. Welding becomes easier by inserting thin pieces of steel or brass and performing spot welding. Further, a thin film of metal 501 having a high resistivity, for example, a nickel or titanium thin film is formed on the upper surface of the fixing portion 210 or the lower surface of the lead frame 100, and spot welding is performed with the metal 501 thin film interposed to facilitate welding. Can also. In these weldings, the current can be effectively concentrated by rounding the tip of the welding electrode to be pressed.
【0038】上記のスポット溶接による固定に代えて,
固定部210とリードフレーム100とを圧着により固
定することもできる。通常の圧着による他,リードフレ
ーム100及びステージフレーム200の材質が,鉄,
銅,42アロイ又はコバールであるとき,図5(b)を
参照して,固定部210上面又はリードフレーム100
下面に軟質の金属504の突起,例えば金又は銅等の突
起を形成し,この金属504を挟んで固定部209とリ
ードフレーム100とを圧着する。この突起は,例えば
金又は銅のワイヤを固定部209上面にワイヤボンデン
グし,ボンデングされた先端を残してワイヤを切断する
ことで形成される。Instead of fixing by spot welding as described above,
The fixing part 210 and the lead frame 100 can be fixed by crimping. In addition to the usual crimping, the material of the lead frame 100 and the stage frame 200 is iron,
When the material is copper, 42 alloy or Kovar, referring to FIG.
A protrusion of a soft metal 504, for example, a protrusion of gold or copper, is formed on the lower surface, and the fixing portion 209 and the lead frame 100 are press-bonded with the metal 504 interposed therebetween. This protrusion is formed by bonding a wire of, for example, gold or copper on the upper surface of the fixing portion 209 and cutting the wire while leaving the bonded tip.
【0039】その後,ワイヤボンデングにより,チップ
300上面に設けられた回路端子用パッド301とリー
ド103とをワイヤー302で接続する。図3は本発明
の第一実施形態例リードフレーム斜視図であり,リード
フレーム100にダイステージ209を固定した後に,
位置合わせ治具400から取り外した状態のリードフレ
ーム100及びダイステージ209を表している。図3
及び図8を参照して,従来例ではダイステージ209が
サイドレール201により支持されているのに対し,本
実施形態例のダイステージ209は,固定部210で直
接にリードフレームに固定されて支持され,ダイステー
ジ209をつなぐサイドレール201が無い点で相違す
る。Thereafter, the circuit terminal pads 301 provided on the upper surface of the chip 300 and the leads 103 are connected by wires 302 by wire bonding. FIG. 3 is a perspective view of a lead frame according to the first embodiment of the present invention. After the die stage 209 is fixed to the lead frame 100, FIG.
The lead frame 100 and the die stage 209 removed from the alignment jig 400 are shown. Figure 3
Referring to FIG. 8 and FIG. 8, while the die stage 209 is supported by the side rail 201 in the conventional example, the die stage 209 of the present embodiment is directly fixed to the lead frame by the fixing portion 210 and supported. The difference is that there is no side rail 201 connecting the die stage 209.
【0040】その後,通常の樹脂封止工程,リード及び
ピンチバーの切断並びにリード曲げ加工工程を経て,樹
脂封止型半導体装置が製造される。上述した第一実施形
態例では,半導体チップをダイステージ上に搭載した
後,個別のダイステージに分割したが,ダイステージを
分割した後に半導体チップを搭載してもよい。この場
合,図2を参照して,分割されたダイステージ209を
案内穴205がピン401に貫通されるように位置合わ
せ治具400上に載置して位置決めし,その後,半導体
チップ300を搭載する。これによりチップ300をダ
イステージ上に正確に位置合わせして搭載することがで
きる。その後,第一実施形態例と同様の工程により樹脂
封止型半導体装置を製造する。After that, a resin-sealed semiconductor device is manufactured through a normal resin sealing process, cutting of leads and pinch bars, and lead bending process. In the first embodiment described above, the semiconductor chip is mounted on the die stage and then divided into individual die stages. However, the semiconductor chip may be mounted after dividing the die stage. In this case, referring to FIG. 2, the divided die stage 209 is placed and positioned on the alignment jig 400 such that the guide hole 205 is penetrated by the pin 401, and then the semiconductor chip 300 is mounted. I do. Thus, the chip 300 can be mounted on the die stage with accurate positioning. Thereafter, a resin-encapsulated semiconductor device is manufactured through the same steps as in the first embodiment.
【0041】本発明の第二実施形態例は,ダイフレーム
を接地線に接続した半導体装置の製造方法に関する。図
6(a)を参照して,本実施形態例のダイステージ20
9は,ダイステージ209の両端に密接して突片状の固
定部が設けられる。かかる形状のダイステージ209
は,上述した第一実施形態例で使用されたステージフレ
ームを個別のダイステージに分割する際,ダイステージ
209をサイドレール201に接続するピンチバー20
8を切断することにより形成する。このとき,チップ3
00の搭載工程の自動化を容易にするために,チップ3
00をダイステージ209上に搭載した後にステージフ
レーム200を分割することが好ましい。The second embodiment of the present invention relates to a method for manufacturing a semiconductor device in which a die frame is connected to a ground line. With reference to FIG. 6A, the die stage 20 of the present embodiment example
Reference numeral 9 denotes a protruding piece-shaped fixing portion provided in close contact with both ends of the die stage 209. The die stage 209 having such a shape
When the stage frame used in the first embodiment described above is divided into individual die stages, the pinch bar 20 for connecting the die stage 209 to the side rail 201 is used.
8 is formed by cutting. At this time, chip 3
00 to facilitate automation of the mounting process
It is preferable that the stage frame 200 be divided after mounting the 00 on the die stage 209.
【0042】リードフレーム100は,リードフレーム
100の対向するサイドレール101の互いに対向する
側に,対向方向に突出する突片111が設けられる。チ
ップ300が搭載されたダイステージ209は,ダイス
テージ209の下面を吸着して移動する位置合わせ装置
(図外)によりリードフレーム100の下面に,固定部
210が突片111に互いの溶接点500が重なるよう
に位置合わせされる。この状態で,固定部210と突片
111とを上下からスポット溶接用電極で挟み,スポッ
ト溶接して,固定部210を突片111下面に溶接,固
定する。The lead frame 100 is provided with protruding pieces 111 protruding in the facing direction on opposite sides of the side rails 101 of the lead frame 100 facing each other. The die stage 209 on which the chip 300 is mounted is positioned on the lower surface of the lead frame 100 by a positioning device (not shown) that moves by sucking the lower surface of the die stage 209, and the fixing portion 210 is attached to the projecting piece 111 by welding points 500 to each other. Are aligned so that In this state, the fixed portion 210 and the projecting piece 111 are sandwiched by the spot welding electrodes from above and below, and spot welding is performed, so that the fixed portion 210 is welded and fixed to the lower surface of the projecting piece 111.
【0043】次いで,チップ300上面に設けられたパ
ッド301と固定部209上面とをワイヤボンデングに
よりワイヤ303で接続する。固定部210へのワイヤ
303の接続位置は,突片111とチップ300との隙
間に表出する固定部210表面になす。もちろん,可能
ならば固定部210上の突片111上面に接続すること
もできる。同時に,残りのバッド301とリード103
とをワイヤボンデングによりワイヤ303で接続する。
従って,ボンデング時間は殆ど増加しない。Next, the pad 301 provided on the upper surface of the chip 300 and the upper surface of the fixed portion 209 are connected by a wire 303 by wire bonding. The wire 303 is connected to the fixed portion 210 on the surface of the fixed portion 210 exposed in the gap between the projecting piece 111 and the chip 300. Of course, if possible, it can be connected to the upper surface of the projecting piece 111 on the fixing part 210. At the same time, the remaining pad 301 and lead 103
Are connected by wire 303 by wire bonding.
Therefore, the bonding time hardly increases.
【0044】次いで,突片111を覆うように樹脂容器
でチップ300を封止する。従って,ワイヤ303及び
その接続位置は樹脂中に封入されるから,接続位置への
外気の侵入を抑制でき耐腐食性に優れた半導体装置が製
造される。Next, the chip 300 is sealed with a resin container so as to cover the protruding piece 111. Accordingly, since the wires 303 and the connection positions thereof are sealed in the resin, the semiconductor device having excellent corrosion resistance can be manufactured by suppressing the invasion of the outside air into the connection positions.
【0045】本発明の第三実施形態例は,第二実施形態
例のワイヤに代えてリードを接地用導体とした半導体装
置の製造方法に関する。図7を参照して,ダイステージ
209の形状と製造方法及びダイステージ209へのチ
ップ300の搭載方法は第二実施形態例と同様である。
リードフレーム100には,図6に示す突片111がな
く,他方リード103の幾つかがチップ300の接地電
位又は電源電位に接続される。この接地等されるリード
103の固定部209に近い部分に,固定部209上に
延在する短絡リード片103aが形成されている。The third embodiment of the present invention relates to a method of manufacturing a semiconductor device in which a lead is used as a grounding conductor instead of the wire of the second embodiment. Referring to FIG. 7, the shape and manufacturing method of the die stage 209 and the mounting method of the chip 300 on the die stage 209 are the same as those in the second embodiment.
The lead frame 100 does not have the protruding piece 111 shown in FIG. 6, but some of the leads 103 are connected to the ground potential or the power supply potential of the chip 300. A short-circuit lead piece 103a extending on the fixed portion 209 is formed at a portion of the lead 103, which is grounded or the like, near the fixed portion 209.
【0046】固定部209上面をサイドフレーム101
下面にスポット溶接するさい,短絡リード片103aを
溶接点500に重ね,短絡リード片103a,サイドフ
レーム101及び固定部209を一緒に溶接する。この
方法では,ワイヤボンデング位置は変わらないので面倒
なワイヤボンデング装置の改造を避けることができる。
その後,溶接点500を樹脂封止することは第二実施形
態例と同様である。The upper surface of the fixed portion 209 is attached to the side frame 101.
During spot welding on the lower surface, the short-circuit lead piece 103a is placed on the welding point 500, and the short-circuit lead piece 103a, the side frame 101, and the fixing portion 209 are welded together. In this method, since the wire bonding position does not change, it is possible to avoid troublesome remodeling of the wire bonding apparatus.
Thereafter, sealing the welding point 500 with resin is the same as in the second embodiment.
【0047】[0047]
【発明の効果】上述したように本発明によれば,ステー
ジフレームのダイステージを配置する繰り返しピッチを
リードフレームの繰り返しピッチより短くすることがで
きるから,ステージフレーム材料の利用効率が高く製造
コストを低減することができる。また,かかるステージ
フレームを用いてダイステージを接地した構造の半導体
装置を容易に製造することができる。As described above, according to the present invention, the repetition pitch at which the die stage of the stage frame is arranged can be made shorter than the repetition pitch of the lead frame. Can be reduced. Moreover, a semiconductor device having a structure in which the die stage is grounded can be easily manufactured by using the stage frame.
【0048】さらにまた,リードフレームとダイフレー
ムの間の電気抵抗を高くすることができるから,スポッ
ト溶接を確実にすることができる。さらに,リードフレ
ームとダイフレーム間に圧着時に隙間を埋める軟質の金
属を介在させることで,圧着を確実にすることができ
る。従って信頼性の高い半導体装置を製造することがで
きる。Furthermore, since the electric resistance between the lead frame and the die frame can be increased, spot welding can be ensured. Further, by interposing a soft metal between the lead frame and the die frame to fill the gap during pressure bonding, pressure bonding can be ensured. Therefore, a highly reliable semiconductor device can be manufactured.
【0049】このため本発明は,半導体装置の製造コス
トの低減又は半導体装置の信頼性の向上に寄与するとこ
ろが大きい。Therefore, the present invention greatly contributes to a reduction in the manufacturing cost of the semiconductor device or an improvement in the reliability of the semiconductor device.
【図1】 本発明の第一実施形態例工程図(その1)FIG. 1 is a process diagram of the first embodiment of the present invention (No. 1)
【図2】 本発明の第一実施形態例工程図(その2)FIG. 2 is a process diagram of the first embodiment of the present invention (part 2)
【図3】 本発明の第一実施形態例リードフレーム斜視
図FIG. 3 is a perspective view of a lead frame according to a first embodiment of the present invention.
【図4】 本発明の第一実施形態例リードフレーム及び
ステージフレーム平面図FIG. 4 is a plan view of a lead frame and a stage frame according to a first embodiment of the present invention.
【図5】 本発明の第一実施形態例固定部断面図FIG. 5 is a sectional view of a fixed portion of the first embodiment of the present invention.
【図6】 本発明の第二実施形態例説明図FIG. 6 is an explanatory diagram of a second embodiment example of the present invention.
【図7】 本発明の第三実施形態例平面図FIG. 7 is a plan view of a third embodiment of the present invention.
【図8】 従来例リードフレーム斜視図FIG. 8 is a perspective view of a conventional lead frame.
【図9】 従来例リードフレーム及びステージフレーム
平面図FIG. 9 is a plan view of a conventional lead frame and a stage frame.
101,201 サイドレール 102 ダムバー 103 リード 103a 短絡リード片 104,204 固定枠 105,205 案内穴 106,206 角穴 107,207 丸穴 111 突片 208 ピンチバー 209 ダイステージ 210 固定部 300 チップ 301 パッド 302,303 ワイヤー 400 位置合わせ治具 401 ピン 402 窪み 500 溶接点 501,504 金属 502,503 溶接用電極 505 圧着治具 101, 201 side rail 102 dam bar 103 lead 103a short-circuit lead piece 104, 204 fixing frame 105, 205 guide hole 106, 206 square hole 107, 207 round hole 111 protrusion 208 pinch bar 209 die stage 210 fixing part 300 chip 301 pad 302, 303 wire 400 positioning jig 401 pin 402 recess 500 welding point 501, 504 metal 502, 503 welding electrode 505 crimping jig
Claims (9)
テージを個別に分離して製造する工程と,次いで,該ダ
イステージ上に半導体チップを搭載する工程と,次い
で,リードフレームを該ダイステージ及び該チップ上に
配置する工程と,次いで,該固定部を該リードフレーム
に固定する工程とを有することを特徴とする半導体装置
の製造方法。A step of separately manufacturing a die stage having a fixing portion projecting from the periphery; a step of mounting a semiconductor chip on the die stage; and a step of mounting a lead frame on the die stage and the die stage. A method for manufacturing a semiconductor device, comprising: a step of disposing on a chip; and a step of fixing the fixing portion to the lead frame.
おいて,該ダイステージは,周辺から突出する固定部を
有する複数のダイステージが一体として配設されたステ
ージフレームを分断して製造されることを特徴とする半
導体装置の製造方法。2. The method of manufacturing a semiconductor device according to claim 1, wherein the die stage is manufactured by dividing a stage frame in which a plurality of die stages having fixed portions protruding from the periphery are integrally arranged. A method for manufacturing a semiconductor device, comprising:
テージが複数個配設されたステージフレームの該ダイス
テージ上に,半導体チップを搭載する工程と,次いで,
該ステージフレームを分断して該ダイステージを個別に
分離する工程と,次いで,リードフレームを該ダイステ
ージ及び該チップ上に配置する工程と,次いで,該固定
部を該リードフレームに固定する工程とを有することを
特徴とする半導体装置の製造方法。3. A step of mounting a semiconductor chip on a die stage of a stage frame, in which a plurality of die stages having fixing portions protruding from the periphery are arranged,
Separating the stage frame to separate the die stages individually, then arranging a lead frame on the die stage and the chip, and then fixing the fixing portion to the lead frame. A method for manufacturing a semiconductor device, comprising:
方法において,該ステージフレームは,平行な2本のサ
イドレールと,該サイドレールの間に該サイドレールの
延在方向に等ピッチで配設されたダイステージと,該ダ
イステージを該サイドレールに支持するピンチバーとを
備え,該サイドレールを該ピッチ間隔で切断して,該ダ
イステージの両側に該ピンチバーにより支持される該サ
イドレールの切片を該固定部として有する該ダイステー
ジを製造することを特徴とする半導体装置の製造方法。4. The method for manufacturing a semiconductor device according to claim 2, wherein said stage frame is provided between two parallel side rails at a constant pitch in the direction in which said side rails extend. A side rail supported by the pinch bar on both sides of the die stage, the die stage being provided and a pinch bar for supporting the die stage on the side rail, the side rail being cut at the pitch interval. A method for manufacturing a semiconductor device, characterized in that the die stage having the section (1) as the fixing portion is manufactured.
ピンチバーにより該第一のサイドレールに支持されたダ
イステージが,該第一のサイドレールの延在方向に第一
のピッチで配設されたステージフレームを該第一のピッ
チで切断して,該ステージフレームを,該第一のサイド
レールの切片からなる固定部が該ダイステージの両側で
該ピンチバーにより支持された該ダイステージに分割す
る工程と,該ダイステージ上に半導体チップを搭載する
工程と,次いで,平行な2本の第二のサイドレールの間
にダムバーにより該第二のサイドレールに支持されたリ
ードが該第二のサイドレールの延在方向に該第一のピッ
チより長い第二のピッチで配設されたリードフレーム
を,該ダイステージ及び該チップ上に配置する工程と,
次いで,該固定部を該第二のサイドレールに固定する工
程とを有することを特徴とする半導体装置の製造方法。5. A die stage, which is supported by the first side rail by a pinch bar between two parallel first side rails, has a first pitch in the extending direction of the first side rail. The arranged stage frame is cut at the first pitch, and the stage frame is fixed to the die stage with fixed portions formed by sections of the first side rails supported by the pinch bars on both sides of the die stage. And a step of mounting a semiconductor chip on the die stage, and then a lead supported on the second side rail by a dam bar is provided between two parallel second side rails. Disposing a lead frame disposed at a second pitch longer than the first pitch in the extending direction of the two side rails on the die stage and the chip;
Next, a step of fixing the fixing portion to the second side rail, the method for manufacturing a semiconductor device.
装置の製造方法において,該チップの上面に設けられた
パッドと該固定部とをワイヤにより電気的に接続する工
程と,該ワイヤ,該チップ及び該ダイステージをパッケ
ージ内に封止する工程とを有することを特徴とする半導
体装置の製造方法。6. The method for manufacturing a semiconductor device according to claim 1, wherein a pad provided on an upper surface of said chip and said fixed portion are electrically connected by a wire, and Encapsulating the chip and the die stage in a package.
装置の製造方法において,該半導体装置の外部で接地さ
れる該リード又は電源若しくは接地電極に接続される該
リードの一部を該チップの外側に延在した短絡リード片
を該固定部に電気的に接続する工程と,該短絡リード
片,該チップ及び該ダイステージをパッケージ内に封止
する工程とを有することを特徴とする半導体装置の製造
方法。7. The method of manufacturing a semiconductor device according to claim 1, wherein the lead grounded outside the semiconductor device or a part of the lead connected to a power source or a ground electrode is And a step of electrically connecting a short-circuit lead piece extending to the outside of the chip to the fixing portion, and a step of sealing the short-circuit lead piece, the chip and the die stage in a package. A method for manufacturing a semiconductor device.
フレームに溶接して,該ダイステージを該リードフレー
ムに固定する工程を有する半導体装置の製造方法におい
て,該溶接は,該固定部と該リードフレームとの間に該
固定部及び該リードフレーム材料より抵抗率の高い金属
を介在させてスポット溶接する工程を有することを特徴
とする半導体装置の製造方法。8. A method for manufacturing a semiconductor device, comprising: a step of welding a fixing portion connected to a die stage to a lead frame and fixing the die stage to the lead frame. A method of manufacturing a semiconductor device, comprising a step of spot welding with a metal having a higher resistivity than the fixing portion and the lead frame material being interposed between the frame and the frame.
フレームに圧着して,該ダイステージを該リードフレー
ムに固定する工程を有する半導体装置の製造方法におい
て,該圧着は,該固定部と該リードフレームとの間に該
固定部及び該リードフレーム材料より軟質の金属を介在
させて圧着することを特徴とする半導体装置の製造方
法。9. A method for manufacturing a semiconductor device, comprising: a step of crimping a fixing portion connected to a die stage to a lead frame and fixing the die stage to the lead frame. A method of manufacturing a semiconductor device, characterized in that a metal softer than a material of the fixing portion and the lead frame is interposed between the frame and the frame, and pressure bonding is performed.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP9077414A JPH10270619A (en) | 1997-03-28 | 1997-03-28 | Method for manufacturing semiconductor device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP9077414A JPH10270619A (en) | 1997-03-28 | 1997-03-28 | Method for manufacturing semiconductor device |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH10270619A true JPH10270619A (en) | 1998-10-09 |
Family
ID=13633290
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP9077414A Withdrawn JPH10270619A (en) | 1997-03-28 | 1997-03-28 | Method for manufacturing semiconductor device |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH10270619A (en) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7023096B2 (en) | 2001-09-28 | 2006-04-04 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Multi-chip package having spacer that is inserted between chips and manufacturing method thereof |
-
1997
- 1997-03-28 JP JP9077414A patent/JPH10270619A/en not_active Withdrawn
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7023096B2 (en) | 2001-09-28 | 2006-04-04 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Multi-chip package having spacer that is inserted between chips and manufacturing method thereof |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US6225146B1 (en) | Lead frame, method of manufacturing lead frame, semiconductor device and method of manufacturing semiconductor device | |
US9171761B2 (en) | Resin sealing type semiconductor device and method of manufacturing the same, and lead frame | |
US7863107B2 (en) | Semiconductor device and manufacturing method of the same | |
US5724726A (en) | Method of making leadframe for lead-on-chip (LOC) semiconductor device | |
US7800206B2 (en) | Semiconductor device | |
US8502360B2 (en) | Resin sealing type semiconductor device and method of manufacturing the same, and resin sealing type electronic device | |
JP5271778B2 (en) | Manufacturing method of semiconductor device | |
JP3877409B2 (en) | Manufacturing method of semiconductor device | |
KR100721279B1 (en) | A method of forming a semiconductor chip assembly and an apparatus for forming a wire bond portion from a circuit on a substrate to a semiconductor chip | |
US5780923A (en) | Modified bus bar with Kapton™ tape or insulative material on LOC packaged part | |
JP3877410B2 (en) | Manufacturing method of semiconductor device | |
KR0175417B1 (en) | Semiconductor device and manufacture thereof | |
JP4530863B2 (en) | Resin-sealed semiconductor device | |
CN101937850B (en) | Package manufacturing method and semiconductor device | |
JP3292082B2 (en) | Terminal land frame and method of manufacturing resin-encapsulated semiconductor device using the same | |
JPH11330314A (en) | Semiconductor device structure, manufacture thereof, and lead frame used therefor | |
CN100521195C (en) | Semiconductor device | |
JPH10270619A (en) | Method for manufacturing semiconductor device | |
US20220077052A1 (en) | Qfn semiconductor package, semiconductor package and lead frame | |
JP2013102233A (en) | Semiconductor device | |
JP2013143519A (en) | Connector and resin sealed type semiconductor device | |
CN114981940A (en) | Packaged electronic device with segmented die pads in robust package substrate | |
JPH09172033A (en) | Semiconductor device and manufacturing method thereof | |
EP4376072A1 (en) | Method of manufacturing semiconductor devices, corresponding semiconductor device, assembly and support substrate | |
JPH10303350A (en) | Lead frame |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20040601 |