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JPH10269519A - 磁気ヘッド及びその製造方法 - Google Patents

磁気ヘッド及びその製造方法

Info

Publication number
JPH10269519A
JPH10269519A JP9074187A JP7418797A JPH10269519A JP H10269519 A JPH10269519 A JP H10269519A JP 9074187 A JP9074187 A JP 9074187A JP 7418797 A JP7418797 A JP 7418797A JP H10269519 A JPH10269519 A JP H10269519A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
magnetic
substrate
metal
film
parallel
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
JP9074187A
Other languages
English (en)
Inventor
Teruyuki Inaguma
輝往 稲熊
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sony Corp
Original Assignee
Sony Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sony Corp filed Critical Sony Corp
Priority to JP9074187A priority Critical patent/JPH10269519A/ja
Publication of JPH10269519A publication Critical patent/JPH10269519A/ja
Withdrawn legal-status Critical Current

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Abstract

(57)【要約】 【課題】 磁気コアを形成する金属磁性膜の磁気特性を
向上させ。良好な記録再生特性を有する磁気ヘッド及び
その製造方法を提供する。 【解決手段】 磁気ヘッド1は、基板4が基板面と平行
な平行面4Bとこの平行面4Bから所定の角度をもって
傾斜された傾斜面4Cとを有するとともに、磁性層6が
この平行面4B及び傾斜面4Cの上面に形成されるとと
もに、一対の磁気コア半体2,3が傾斜面4Cに形成さ
れた磁性層6の端面同士が接合されることにより磁気ギ
ャップを形成するものである。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、金属磁性膜により
磁路を形成してなる磁気ヘッド及びその製造方法に関す
る。
【0002】
【従来の技術】例えば、ビデオテープレコーダ等の磁気
記録再生装置においては、画質を向上させるために信号
をデジタル化して記録するデジタル記録が進められてお
り、これに対応して記録の高密度化、記録周波数の高周
波数化がなされている。
【0003】ところで、磁気記録の高密度化、記録周波
数の高周波数化が進むにつれ、磁気記録再生装置に搭載
される磁気ヘッドには、高周波領域で出力が高く、ノイ
ズが少ないことが要求される。例えば、従来VTR用磁
気ヘッドとして多用されているフェライト材に金属磁性
膜を成膜して、捲線を施したいわゆる複合型メタル・イ
ン・ギャップタイプの磁気ヘッドでは、インダクタンス
が大きく、インダクタンス当たりの出力低下のため、高
周波領域で出力が低く、高周波、高密度が必要とされる
デジタル画像記録に充分対応することが難しい。
【0004】このような状況から、薄膜形成工程で作製
したいわゆる薄膜型の磁気ヘッドが、高周波対応の磁気
ヘッドとして検討されている。
【0005】この薄膜型の磁気ヘッドは、図15に示す
ように、金属磁性膜100を有する一対の磁気コア半体
101,102を備え、非磁性金属材料103を介して
これら一対の磁気コア半体101,102を接合するこ
とにより形成される。この磁気コア半体101,102
は、非磁性基板104と、この非磁性基板104上に形
成された金属磁性膜100とを備える。この磁気ヘッド
では、一対の磁気コア半体101,102の接合面にガ
ラス105等が充填されている。なお、この磁気ヘッド
には、図示しないが、接合面に薄膜コイルが形成されて
いる。
【0006】また、この磁気ヘッドにおいて、金属磁性
膜100は、非磁性基板104の一部が切り欠かれてな
る傾斜面104A上に形成されており、接合面に対して
所定の角度をもって斜めに形成されている。
【0007】このように構成された磁気ヘッドでは、一
対の金属磁性膜100が非磁性金属材料103を介して
突き合わされることにより磁気ギャップを形成する。こ
のとき、この磁気ヘッドでは、突き合わされた金属磁性
膜100間の幅がトラック幅となる。この磁気ヘッドで
は、一対の金属磁性膜100が磁気コアとなり、磁気記
録媒体に対して記録再生を行うとき、この磁気コアが磁
化される。
【0008】ところで、この磁気ヘッドにおいて、磁気
コア半体101,102は、それぞれトラック幅方向に
一列に並んで複数個同時に形成される。磁気コア半体1
01,102は、略平板状の基板に所定の溝加工を施し
た後に金属磁性膜100を形成し、その後、ガラス10
5やコイル等を形成することにより製造される。
【0009】そして、磁気ヘッドは、トラック幅方向に
一列に並んで形成された複数個の磁気コア半体101,
102を接合し、その後、個々の磁気ヘッドに切り離す
ことにより形成される。
【0010】このような磁気ヘッドの製造方法におい
て、金属磁性膜100を形成する際には、図16に示す
ように、スパッタリング法等の薄膜形成法が用いられ
る。このスパッタリング法では、金属磁性膜100を構
成する金属磁性材料をターゲット106として、このタ
ーゲット106に対して平行に基板107を配置する。
【0011】このターゲット106からは、いわゆるス
パッタリングされることによって、金属磁性粒子が飛散
する。このとき、金属磁性粒子は、ターゲット106の
平面に対して略垂直方向(図16中矢印で示す。)に飛
散する。
【0012】また、この基板107は、複数個の磁気コ
ア半体101,102における非磁性基板104となる
ものであり、傾斜面104Aに対応する複数個の凸部1
07Aを有する。
【0013】金属磁性膜100を形成する際には、ター
ゲット106と基板107とを略平行となるように配置
してスパッタリングしている。上述したように、ターゲ
ット106からは、金属磁性粒子が飛散して基板107
上に堆積する。その後、所定の膜厚となるまで金属磁性
粒子を堆積させ、金属磁性膜100を形成する。
【0014】
【発明が解決しようとする課題】ところで、この磁気ヘ
ッドにおいて、磁気コアを構成する金属磁性膜100と
しては、その磁気特性、特に、透磁率が良好であること
が好ましい。スパッタリング法を用いて形成された磁性
層において、透磁率は、飛散する金属磁性粒子の堆積方
向に依存している。そこで、金属磁性粒子の堆積方向と
透磁率との関係を、図17に模式的に示すような実験装
置を用いて測定した。
【0015】この実験装置では、実験用ターゲット11
0に対する実験用基板111の角度(図17中θで示
す。)を様々な値に変化させ、実験用基板111に金属
磁性膜を形成した。このとき、実験用ターゲット110
としては、センダスト材料を用い、金属磁性膜としてセ
ンダスト膜を形成した。そして、このように様々な角度
θで形成されたセンダスト膜の透磁率を測定した。この
ように測定された角度θと透磁率との関係を図18に示
す。
【0016】この図18から明らかなように、θ=0゜
のとき、最も高い透磁率を示めす。しかし、θ=20゜
のとき、透磁率はθ=0゜のときよりも半減してしま
う。また、θ=40゜のときには、透磁率はさらに低減
してしまう。このように、金属磁性粒子の堆積方向と透
磁率とには、密接な関係があり、実験用基板111に対
して垂直方向に堆積することが高い透磁率を得ることに
なる。
【0017】上述した磁気ヘッドにおいて、上述したよ
うなスパッタリング法では、ターゲット106に対して
基板107を略平行に配置していた。この場合には、傾
斜面104Aに対応する凸部107Aの斜面にスパッタ
リングされてなる部分が磁気ヘッドにおける金属磁性膜
100となる。すなわち、金属磁性膜100は、ターゲ
ット106に対して斜めに対向することとなり、金属磁
性粒子が斜め方向に堆積して形成されることとなる。し
たがって、従来の磁気ヘッドでは、金属磁性膜100の
透磁率が良好なものとはいえず、電磁変換特性が悪いと
いった問題点があった。
【0018】これを解決するために、図19に示すよう
に、基板107をターゲット106に対して斜めに配置
することが考えられれる。具体的には、磁気ヘッドにお
ける傾斜面104Aに対応する凸部107Aの斜面を、
ターゲット106に対して平行となるように配置するの
である。これによって、磁気コアを形成する金属磁性膜
100は、金属磁性粒子が垂直方向に堆積したものとな
り、透磁率が向上したものとなる。
【0019】しかしながら、図19に示すように基板1
07を配置した場合、複数個の凸部107Aのそれぞれ
がターゲット106に対して異なる距離で対向すること
となる。ターゲットからの距離が異なるいうことは、形
成される金属磁性膜100の厚みが凸部107Aによっ
て異なることになる。金属磁性膜100の厚みは、磁気
ヘッドにおけるトラック幅寸法になるために、厳密に制
御される必要があるとともに全て等しくする必要があ
る。
【0020】しかしながら、図19に示したような場
合、ターゲット106に対して基板107が斜めに配置
されているために、全ての金属磁性膜100を均一な膜
厚とすることは不可能であった。また、大量生産を目的
として、特に、基板107の大きさを大きくした場合、
基板107の両端部において、ターゲット106との距
離の差がより大きくなってしまう。このため、この手法
では、比較的大きな基板107を用いることはできず、
生産性が悪くなってしまう。
【0021】そこで、本発明は、上述した従来の磁気ヘ
ッド及びその製造方法の問題点を解決して、磁気コアを
形成する金属磁性膜の磁気特性を向上させ。良好な記録
再生特性を有する磁気ヘッド及びその製造方法を提供す
ることを目的とする。
【0022】
【課題を解決するための手段】上述した目的を達成した
本発明に係る磁気ヘッドは、基板と、この基板上に形成
された磁性層とを有する一対の磁気コア半体が、非磁性
体を介して該磁性層同士が対向するように突き合わされ
て磁気ギャップを形成する磁気ヘッドにおいて、上記基
板が基板面と平行な平行面とこの平行面から所定の角度
をもって傾斜された傾斜面とを有するとともに、上記磁
性層がこの平行面及び傾斜面の上面に形成されるととも
に、一対の磁気コア半体が上記傾斜面に形成された磁性
層の端面同士が接合されることにより磁気ギャップを形
成するものである。
【0023】以上のように構成された本発明に係る磁気
ヘッドでは、基板に対して平行に形成された平行面に形
成された磁性層が良好な磁気特性を有する。この磁気ヘ
ッドでは、良好な磁気特性を有する磁性層により磁気コ
アが形成される。このため、磁気ヘッドは、磁気コアの
電磁変換特性が向上したものとなるために、良好な記録
再生特性を示すものとなる。
【0024】一方、上述した問題点を解決した本発明に
係る磁気ヘッドの製造方法は、基板と、この基板上に形
成された磁性層とを有する一対の磁気コア半体が、非磁
性体を介して該磁性層同士が対向するように突き合わさ
れて磁気ギャップを形成する磁気ヘッドの製造方法であ
って、上記基板を、基板面と平行な平行面とこの平行面
からから所定の角度をもって傾斜された傾斜面と有する
ように形成し、上記磁性層を成膜する際の成膜方向が上
記平行面に対して直交する方向となるように上記磁性層
を形成し、上記傾斜面に形成された上記磁性層の端面同
士を突き合わせることにより磁気ギャップを形成するも
のである。
【0025】以上のような本発明に係る磁気ヘッドの製
造方法によれば、平行面が成膜方向に対して直行してい
るため、平行面には良好な磁気特性を有する磁性膜を形
成することができる。そして、製造される磁気ヘッドで
は、この磁性層が磁気コアを形成している。したがっ
て、この手法は、良好な電磁変換特性を有する磁気コア
を備えた磁気ヘッドを製造することができる。
【0026】
【発明の実施の形態】以下、本発明に係る磁気ヘッド及
びその製造方法の実施の形態を図面を参照にしながら詳
細に説明する。
【0027】本発明に係る磁気ヘッド1は、図1及び図
2に示すように、一対の磁気コア半体2,3が非磁性材
料からなるギャップ材Gを介して接合されて構成されて
いる。一対の磁気コア半体2,3は、非磁性基板4と、
この非磁性基板4上に形成された金属磁性膜6とからそ
れぞれ構成されている。また、一対の磁気コア半体2、
3は、少なくとも一方に励磁用又は誘導起電圧検出用の
コイル7が形成されてなる。この磁気ヘッド1におい
て、金属磁性膜6は、一対の磁気コア半体2,3がギャ
ップ材Gを介して接合面2A,3Aで接合された状態で
磁気コアを形成する。この磁気ヘッド1は、磁気コア半
体2,3が接合した状態で図1中矢印Aで示した方向に
磁気記録媒体が摺動することによって、磁気記録媒体に
記録された信号磁界を再生又は信号磁界を磁気記録媒体
に記録する。
【0028】また、この磁気ヘッド1は、磁気記録媒体
との接触面積を調節するために、当たり幅規制溝8が形
成されている。この当たり幅規制溝8は、磁気記録媒体
の摺動方向Aと平行に、磁気ヘッド1の両側面に形成さ
れている。また、この磁気ヘッドでは、磁気記録媒体と
の当たり状態を調節するため、磁気記録媒体の摺動面が
円弧状とされる。
【0029】この磁気ヘッド1において、金属磁性膜6
は、非磁性基板4の凸部4A上に薄膜形成されている。
この非磁性基板4の凸部4Aは、接合面2A,3Aと平
行となるように形成された平行面4Bと、この平行面4
Bの一方の端部に形成された傾斜面4Cとを有する。
【0030】そして、この磁気ヘッド1は、この凸部4
Aの平行面4B及び傾斜面4C上に金属磁性膜6を有し
ている。したがって、この金属磁性膜6は、平行面4B
上に形成された平行部6Aと傾斜面4Cに形成された傾
斜部6Bとから構成されることになる。また、この金属
磁性膜6は、傾斜部6Bの高さの略中心に、コイル7が
形成されたコイル形成溝6Cを有している。このため、
金属磁性膜6は、磁気コア半体2,3の接合面2A,3
Aに前後方向に分断されて露出する前部突合せ面10及
び後部突合せ面11を有することとなる。
【0031】そして、この磁気ヘッド1では、一方の磁
気コア半体2と他方の磁気コア半体3とを傾斜部6Bの
端面同士が対向するように接合している。これにより、
一対の前部突合せ面10が磁気ギャップを構成し、後部
突合せ面11がバックギャップを構成する。
【0032】また、この磁気ヘッド1において、金属磁
性膜6は、非磁性層を介して3層の金属磁性層が積層さ
れるように構成されている。なお、本発明に係る磁気ヘ
ッドは、本実施の形態に示すような3層の金属磁性層が
積層されるような構成に限定されない。すなわち、本発
明に係る磁気ヘッドは、例えば、単層の金属磁性薄膜を
有するものであっても良く、また、数十層の金属磁性薄
膜を有するものであっても良い。
【0033】この磁気コア半体2,3において、非磁性
基板4は、例えば、MnO−NiO系の非磁性材料から
なるが、これに限定されず、チタン酸カルシウム、チタ
ン酸バリウム、酸化ジルコニウム(ジルコニア)、アル
ミナ、アルミナチタンカーバイド、SiO2 、Znフェ
ライト、結晶化ガラス、高硬度ガラス等からなるもので
あればよい。また、金属磁性膜6は、例えば、Fe−A
l−Si合金(センダスト)等の金属磁性材料からなる
が、これに限定されず、Fe−Al合金、Fe−Si−
Co合金、Fe−Ga−Si合金、Fe−Ga−Si−
Ru合金、Fe−Al−Ge合金、Fe−Ga−Ge合
金、Fe−Si−Ge合金、Fe−Co−Si−Al合
金、Fe−Ni合金等の結晶質合金からなるものであれ
ばよい。あるいは、金属磁性膜6は、Fe,Co,Ni
のうちの1以上の元素とP,C,B,Siのうちの1以
上の元素とからなる合金、またはこれを主成分としA
l,Ge,Be,Sn,In,Mo,W,Ti,Mn,
Cr,Zr,Hf,Nb等を含んだ合金等に代表される
メタル−メタロイド系アモルファス合金や、Co,H
f,Zr等の遷移金属と希土類元素を主成分とするメタ
ル−メタル系アモルファス合金等の非晶質合金からなる
ようなものであってもよい。
【0034】さらに、この磁気ヘッド1では、一対の磁
気コア半体2,3にコイル7がそれぞれ形成されてい
る。このコイル7は、一対の磁気コア半体2,3の接合
面2A,3Aにコイル形成用凹部12が形成されてお
り、そのコイル形成用凹部12内に薄膜形成される。こ
のコイル7は、その中心側の一方端部7Aがコイル接続
用端子13と接続されている。そして、コイル7は、コ
イル接続用端子13を基端部として、後部突合せ面11
を略中心として円を描くように形成される。
【0035】この一対の磁気コア半体2,3に形成され
るコイル接続用端子13は、コイル形成用凹部12内に
形成されており、コイル7の略中心部とされ、後部突合
せ面11の近傍に形成されている。また、このコイル接
続用端子13は、一対の磁気コア半体2,3の接合面2
A,3Aと面一となるようにそれぞれ高さ調節されて形
成されている。そして、この磁気ヘッド1において、一
対の磁気コア半体2,3が接合されると、一対のコイル
接続用端子13も接合されることとなる。これにより、
この磁気ヘッド1では、一対の磁気コア半体2,3が接
合されると、一対のコイル7が電気的に接続されること
となる。
【0036】なお、この磁気ヘッド1では、一対の磁気
コア半体2,3を接合する際、詳細を後述する金属拡散
接合が用いられる。この場合、接合面2A,3Aは、金
等の非磁性導電材料がそれぞれ成膜され、突き合わされ
る。これにより、一対の前部突合せ面10は、この非磁
性導電材料を介して突き合わされて磁気ギャップを形成
する。すなわち、この磁気ヘッド1では、上述したギャ
ップ材Gとして、金属拡散接合の際に用いられる非磁性
導電材料が使用される。
【0037】また、コイル7の反対側の他方端部は、磁
気ギャップとは反対側へ引き出されている。そして、こ
のコイル7の他方端部は、外部接続用端子14と接続さ
れている。この外部接続用端子14は、一対の磁気コア
半体2,3の幅方向に所定の深さ寸法で穿設された端子
溝15内に、銅等の導電材料が埋設されて構成されてい
る。そして、これら外部接続用端子14は、磁気ヘッド
1の側面に露出することにより外部とコイル7とを電気
的に接続することができる。これら一対の外部接続用端
子14は、一対の磁気コア半体2,3を接合した際に短
絡を発生させないように、一対の磁気コア半体2,3に
おける高さが異なる位置にそれぞれ形成されている。
【0038】以上のように構成された本実施の形態に係
る磁気ヘッド1では、磁気記録媒体に対して信号を記録
する又は信号磁界を再生する際、上述した一対の金属磁
性膜6が接合されてなる磁気コアに磁束が流れる。
【0039】具体的には、この磁気ヘッド1を用いて磁
気記録媒体に記録された磁気信号を再生する際には、磁
気記録媒体からの信号磁界が磁気ギャップ周辺に印加さ
れる。そして、印加される信号磁界の方向が変化するこ
とによって、磁気コアに流れる磁束の方向が変化する。
その結果、磁気ヘッド1では、電磁誘導が起こり、コイ
ル7に所定の電流が流れる。
【0040】また、この磁気ヘッド1を用いて磁気記録
媒体に磁気信号を記録する際には、コイル7に対して所
定の電流が供給される。そして、この磁気ヘッド1で
は、コイル7から発生する磁界により磁気コアに所定の
磁束が流れる。これにより、この磁気ヘッド1では、磁
気ギャップを挟んで漏れ磁界を発生する。磁気ヘッド1
は、この漏れ磁界を磁気記録媒体に印加することにより
磁気信号を記録する。
【0041】上述したように、この磁気ヘッド1では、
磁気信号を記録再生する際、磁気コアに所定の磁束が流
れる。そして、磁気ヘッド1では、記録再生時における
電磁変換特性を向上させることが記録再生特性を向上さ
せることとなる。
【0042】ところで、この磁気ヘッド1は、金属磁性
膜6が平行部6Aを有し、この一対の金属磁性膜6をギ
ャップ材を介して突き合わせることにより磁気コアを形
成している。この金属磁性膜6は、詳細を後述するが、
スパッタリング法等の薄膜形成法を用いて形成されてい
る。このとき、金属磁性膜6は、平行面4Bに対して垂
直な方向から薄膜形成される。このため、金属磁性膜6
の平行部6Aは、良好な磁気特性、特に、高い透磁率を
有するものとなる。
【0043】これによって、この磁気ヘッド1では、磁
気コアの電磁変換特性が向上したものとなる。これに対
して、従来の技術の欄に述べたような磁気ヘッドの場
合、磁気コアを形成する金属磁性膜が平行部6Aを有さ
ないような構成となっているため、磁気コア全体の透磁
率が比較的低い。このため、従来の磁気ヘッドでは、磁
気コアの電磁変換特性が良好でなく、記録再生特性が良
好なものとはならない。
【0044】そこで、図3に示すように、上述した本実
施の形態に示した磁気ヘッド1と従来の磁気ヘッドとの
出力を測定して比較した。この図3から明らかなよう
に、本実施の形態に示した磁気ヘッドは、信号の周波数
に依存することなく、いかなる周波数においても従来の
磁気ヘッドよりも良好な記録再生特性を示した。
【0045】次に、本発明に係る磁気ヘッドの製造方法
を図面を参照にして詳細に説明する。ここでは、上述し
た磁気ヘッド1を製造する際の製造方法を説明する。
【0046】本実施の形態に係る磁気ヘッド1は、複数
個の磁気コア半体2,3が同一基板上に形成される。そ
して、磁気ヘッド1は、この基板を一対貼り合わせ、個
々の磁気ヘッド1に切り離すことにより形成される。
【0047】先ず、この磁気ヘッド1を製造するには、
図4に示すように、略平板状の基板21を用意する。こ
の基板21は、磁気ヘッド1の非磁性基板4となるもの
であり、例えば、MnO−NiO等の非磁性材料からな
る。この基板21は、例えば、厚み寸法が約2mmとさ
れ、長さ寸法及び幅寸法が約30mmとされてなる。
【0048】次に、図5に示すように、上述した基板2
1の一方側面21Aに対して第1の溝加工を施す。この
第1の溝加工では、その一方側面21Aに対して、砥石
等により、第1の磁気コア形成溝23と第2の磁気コア
形成溝24とを互い違いに平行に形成する。この第1の
磁気コア形成溝23は、基板21の一方側面21Aに凸
条部23Aを形成するためのものである。また、第2の
磁気コア形成溝24は、凸条部23A上に形成され、傾
斜面24A及び平行面24Bを形成するためのものであ
る。
【0049】ここで、第1の磁気コア形成溝23は、そ
の溝形状に限定されず、凸条部23Aを形成できる溝形
状であれば良い。そして、このとき、第1の磁気コア形
成溝23は、その深さ寸法が30μmであり、幅寸法が
300μmであることが好ましい。
【0050】また、第2の磁気コア形成溝24は、傾斜
面24Aの傾斜角が、例えば45゜となるように、傾斜
面24A及び平行面24Bを形成する。ここで形成され
る傾斜面24Aは、基板平面に対して25〜60゜程度
の傾斜角が好ましいが、疑似ギャップやトラック幅精度
を考慮すると35〜50゜程度の傾斜角がより好まし
い。また、ここで、この第2の磁気コア形成溝24は、
その深さ寸法が10μmであり、幅寸法が150μmで
あることが好ましい。
【0051】次に、図6に示すように、基板21の平行
面24Bが形成された面に対して、上述したような材料
からなる金属磁性膜6が成膜される。この成膜工程で
は、例えば、スパッタリング法が用いられる。このスパ
ッタリング法では、上述したような金属磁性膜6を構成
する金属磁性材料をターゲットとして、金属磁性粒子を
飛散させて基板21の一方側面21A上に成膜する。
【0052】このとき、金属磁性粒子の飛散方向は、平
行面24Bに対して略垂直方向となっている。すなわ
ち、平行面24Bには、略垂直方向から飛散してきた金
属磁性粒子が堆積することにより金属磁性膜6の平行部
6Aが形成されることになる。そして、傾斜面24Aに
は、斜め方向から飛散してきた金属磁性粒子が堆積する
ことにより金属磁性膜6の傾斜部6Bが形成されること
になる。
【0053】また、このスパッタリングでは、平行面2
4Bに対して略垂直な方向に金属磁性粒子を飛散させて
いるため、基板21の一方側面21Aとターゲットとが
略平行となるように設置されている。これにより、この
手法では、複数条に形成された平行面24Bがターゲッ
トに対してそれぞれ略々同一の距離を有している。した
がって、この手法によれば、複数条に形成された平行面
24B上には、スパッタリングにより略々均一な膜厚の
金属磁性膜6が形成されることとなる。このとき、金属
磁性膜6は、非磁性層を介して3層の金属磁性材料が積
層されてなるように成膜される。この成膜工程は、例え
ばマグネトロンスパッタリング法等のPVD法又はCV
D法等により行われてもよい。
【0054】また、金属磁性膜6は、複数層の金属磁性
層を有するものに限定されず、単数層の金属磁性層から
なるような構成であってもよい。
【0055】本実施の形態において、金属磁性膜6は、
複数層からなるような場合、例えば、Fe−Al−Si
合金(センダスト)5μm上にアルミナ0.15μmが
交互に積層され、3層のFe−Al−Si合金層を有す
るような構成とした。また、金属磁性膜6が複数層から
なる場合、非磁性層としては、アルミナ、SiO2及び
SiO等の材料が単独又は混合して用いられる。この非
磁性層の膜厚は、隣接して配される金属磁性層間の絶縁
を取れる程度が必要である。
【0056】次に、図7に示すように、金属磁性膜6が
形成された面に対して第1の磁気コア形成溝23と略直
交する方向に第2の溝加工を施す。この第2の溝加工で
は、所望の大きさの磁気コアに分離するために形成され
る分離溝26と、この分離溝26により分離された各磁
気コアにコイル形成用凹部を形成するための巻線溝27
とが形成される。
【0057】ここで、分離溝26は、磁気コアを基板2
1上で前後方向に磁気的に分離して各磁気コアを形成
し、各磁気コアに閉磁路を構成するための溝である。こ
の分離溝26は、図7の例示では2本形成されている
が、形成される磁気コア半体2,3の列の数だけ設ける
必要がある。また、この分離溝26は、前後方向に並ん
で配される各磁気コアを磁気的に分離するため、金属磁
性膜6が完全に切断される程度の深さ寸法を有するよう
に形成される必要がある。具体的には、分離溝26は、
平行面24Bより20μm深く、すなわち、30μmの
深さ寸法とされる。このように、この手法では、金属磁
性膜6を完全に切断するための分離溝26が、従来の磁
気ヘッドを製造するときと比較すると浅く形成されてい
る。このため、この手法では、分離溝26を形成するた
めに要する時間を短縮することができるとともに、分離
溝26を形成するために使用する砥石の寿命を延ばすこ
とができる。
【0058】一方、巻線溝27は、前部突合せ面10と
後部突合せ面11とを有する磁気コアを形成し、コイル
形成用凹部12を形成するために、金属磁性膜6を切断
しない程度の深さ寸法で形成される必要がある。巻線溝
27は、その形状が前部突合せ面10及びバックギャッ
プ11の長さ寸法に応じて決定されるが、ここでは、幅
寸法が約140μm程度とされ、前部突合せ面10の長
さ寸法が約300μmとなり、後部突合せ面11の長さ
寸法が約85μmとなるように形成される。なお、この
巻線溝27は、金属磁性膜6を切断することのない程度
の深さ寸法でよいが、深すぎると磁路長が大きくなって
磁束伝達の効率が低下する虞れがある。また、巻線溝2
7は、その深さ寸法が後述する工程で形成されるコイル
7の厚み寸法に依存するが、ここでは、例えば約7μm
とした。さらに、この巻線溝27は、その形状が限定さ
れるものではないが、ここでは、例えば前部突合せ面9
側の側面を約45゜の傾斜面27Aとする。これによ
り、この金属磁性膜6は、前部突合せ面9側に磁束が集
中する構造となることによって、感度が向上したものと
なる。
【0059】次に、図8に示すように、上述したように
第1の磁気コア形成溝23、第2の磁気コア形成溝2
4、分離溝26及び巻線溝27が形成された基板21の
一主面に対して溶融した低融点ガラス29を充填させ
る。そして、低融点ガラス29が充填された一主面に対
して表面平坦化処理を施す。この手法では、上述したよ
うに、分離溝26等の深さ寸法が比較的浅いため、この
低融点ガラス29の量が少なくて済む。したがって、こ
の手法は、低融点ガラス29を削減することができるた
めに生産性が向上したものといえる。また、これら溝に
対して充填する低融点ガラス29の量を削減するという
ことは、低融点ガラス29内に発生する泡の発生を抑え
ることとなり、耐食性を向上させることもできる。
【0060】次に、図9に示すように、砥石等を用いて
研削加工することにより端子溝30を形成する。この端
子溝30は、上述した分離溝26の直上に位置するよう
に形成され、その幅寸法が約200μmとされ、深さ寸
法が約100μmとされてなる。そして、この端子溝3
0内にCu等の良導体をメッキ法等により充填する。そ
の後、平坦化処理を行う。この端子溝30に充填された
Cu等の良導体は、上述した磁気ヘッド1における外部
接続用端子14となるものである。
【0061】次に、図10に示すように、コイル7が薄
膜形成されるコイル形成用凹部12を形成する。このコ
イル形成用凹部12は、後部突合せ面11を略中心とす
る略矩形状として、後部突合せ面11を除く部分をエッ
チングすることにより形成される。また、このコイル形
成用凹部12は、その一端から端子溝30に達する溝1
2Aを有している。
【0062】次に、図11に示すように、コイル形成用
凹部12内にコイル7を薄膜形成する。このコイル7
は、後部突合せ面11の近傍を一方端部7Aとした円を
描くように、多数回巻回された形状を有する。また、こ
のコイル7は、コイル形成用凹部12の一端に形成され
た溝12A内に引き出され、他方端部7Bが端子溝30
に充填された良導体からなる外部接続用端子14と電気
的に接続される。
【0063】このコイル7を形成する際には、先ず、フ
ォトレジストにより上述したようなコイル形状をパター
ニングする。次に、コイル形成用凹部12にCu等の良
導体を鍍金等の手法によって、約3μm程度の厚みとな
るように薄膜形成する。そして、フォトレジストを除去
することによって、パターニングされたコイル形状とさ
れるコイル7を形成することができる。なお、このコイ
ル7を形成するに際して、上述した鍍金法だけでなく、
スパッタリング法や蒸着法等を用いることができる。
【0064】次に、図12に示すように、コイル7の一
方端部7Aにコイル接続用端子13を形成する。このコ
イル接続用端子13は、後部突合せ面11の近傍にある
コイル7の一方端部7A上に形成される。コイル接続用
端子13は、良導体材料からなり、一対の磁気コア半体
2,3の接合面2A,3Aと略々等しい高さ寸法を有し
ている。
【0065】次に、コイル7を外気との接触から保護す
るための保護層(図示せず。)を形成する。この保護層
は、上述したコイル7を形成したコイル形成用凹部12
を埋め込むように形成される。その後、保護層が形成さ
れた表面に対して平坦化処理を行う。この平坦化処理で
は、前部突合せ面10、後部突合せ面11及びコイル接
続用端子13が外方へ露出するまで行われる。
【0066】次に、図13に示すように、磁気コア半体
2,3が平行に複数列形成された基板を、一方の磁気コ
ア半体2と他方の磁気コア半体3とがそれぞれ一列毎と
なるように切断し、コイル7が形成された面が対向する
ように金属拡散接合により接合する。この金属拡散接合
には、非磁性金属材料、例えば、金が用いられる。した
がって、この金を前部突合せ面10間に成膜して金属拡
散接合を行うことによって、磁気ギャップを形成する。
【0067】次に、図14に示すように、磁気ヘッドブ
ロック32を個々の磁気ヘッド1に分離する。このと
き、磁気ヘッドブロック32は、図14中B−B線で示
す部分で切断される。
【0068】これにより、前部突合せ面10間に磁気ギ
ャップを有する磁気ヘッド1が形成される。そして、図
示しないが、この磁気ヘッド1の媒体摺動面に対して表
面が円筒形を呈するように研磨加工が施される。また、
磁気記録媒体との当たり特性が良好なものとなるため
に、媒体摺動面に対して当たり規制溝8を形成する。こ
の当たり規制溝8は、磁気記録媒体の摺動方向に対して
略平行となるように形成され、磁気記録媒体との摩擦を
規制している。
【0069】以上のような本発明に係る磁気ヘッドの製
造方法では、平行部6Aを、金属磁性粒子が平行面23
B上に垂直方向に堆積することで形成している。このた
め、この平行部6Aは、の透磁率が高い値をしめす。し
たがって、この手法によれば、金属磁性膜6全体として
も透磁率が向上したものとなり、電磁変換特性に優れた
磁気コアを形成することができる。言い換えると、この
手法によれば、優れた記録再生特性を有する磁気ヘッド
を製造することができる。
【0070】
【発明の効果】以上、詳細に説明したように本発明に係
る磁気ヘッドでは、磁性層が基板に対して平行になるよ
うに形成された部分を有するために、磁気特性に優れた
磁気コアを有することとなる。したがって、この磁気ヘ
ッドは、記録再生特性に優れたものとなる。
【0071】また、本発明に係る磁気ヘッドの製造方法
によれば、基板に対して平行な磁性層を形成することが
できる。このため、この手法によれば、優れた電磁変換
特性を有する磁気コアを備える磁気ヘッドを製造するこ
とができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係る磁気ヘッドの分解斜視図である。
【図2】同磁気ヘッドの媒体摺動面の要部斜視図であ
る。
【図3】同時機ヘッドと従来の磁気ヘッドとの出力を比
較した特性図である。
【図4】本発明に係る磁気ヘッドの製造方法を説明する
ための図であり、基板を示す斜視図である。
【図5】本発明に係る磁気ヘッドの製造方法を説明する
ための図であり、第1の溝加工を施した基板の斜視図で
ある。
【図6】本発明に係る磁気ヘッドの製造方法を説明する
ための図であり、金属磁性膜を成膜した基板の斜視図で
ある。
【図7】本発明に係る磁気ヘッドの製造方法を説明する
ための図であり、第2の溝加工を施した基板の斜視図で
ある。
【図8】本発明に係る磁気ヘッドの製造方法を説明する
ための図であり、各溝に低融点ガラスを充填した状態の
基板の斜視図である。
【図9】本発明に係る磁気ヘッドの製造方法を説明する
ための図であり、低融点ガラスに端子溝を形成した基板
の斜視図である。
【図10】本発明に係る磁気ヘッドの製造方法を説明す
るための図であり、コイル形成用凹部を形成した基板の
要部斜視図である。
【図11】本発明に係る磁気ヘッドの製造方法を説明す
るための図であり、コイルを形成した基板の要部斜視図
である。
【図12】本発明に係る磁気ヘッドの製造方法を説明す
るための図であり、コイル接続用端子を形成した基板の
要部斜視図である。
【図13】本発明に係る磁気ヘッドの製造方法を説明す
るための図であり、磁気コア半体が形成されたブロック
を突き合わせた状態を示す斜視図である。
【図14】本発明に係る磁気ヘッドの製造方法を説明す
るための図であり、磁気ヘッドブロックの斜視図であ
る。
【図15】従来の磁気ヘッドの斜視図である。
【図16】従来の磁気ヘッドの製造方法におけるスパッ
タリング法を模式的に示す概略構成図である。
【図17】金属磁性粒子の飛散方向と透磁率との関係を
測定するための測定装置の概略構成図である。
【図18】金属磁性粒子の飛散方向と透磁率との関係を
示す特性図である。
【図19】従来の磁気ヘッドの製造方法における他のス
パッタリング法を模式的に示す概略構成図である。
【符号の説明】
1 磁気ヘッド、2,3 磁気コア半体、4 非磁性基
板、6 金属磁性膜、7コイル、8 当たり幅規制溝、
10 前部突合せ面、11 後部突合せ面、12 コイ
ル形成用凹部、13 コイル接続用端子

Claims (9)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 基板と、この基板上に形成された磁性層
    とを有する一対の磁気コア半体が、非磁性体を介して該
    磁性層同士が対向するように突き合わされて磁気ギャッ
    プを形成する磁気ヘッドにおいて、 上記基板は、基板面と平行な平行面とこの平行面から所
    定の角度をもって傾斜された傾斜面とを有するととも
    に、上記磁性層は、この平行面及び傾斜面の上面に形成
    されるとともに、一対の磁気コア半体は、上記傾斜面に
    形成された磁性層の端面同士が接合されることにより磁
    気ギャップを形成することを特徴とする磁気ヘッド。
  2. 【請求項2】 上記一対の磁気コア半体の少なくとも一
    方には、上記磁性層を巻回する薄膜コイルが形成されて
    いることを特徴とする請求項1記載の磁気ヘッド。
  3. 【請求項3】 上記磁性層は、金属磁性薄膜からなるこ
    とを特徴とする請求項1記載の磁気ヘッド。
  4. 【請求項4】 上記金属磁性薄膜は、非磁性層を介して
    複数の金属磁性層が積層されてなることを特徴とする請
    求項3記載の磁気ヘッド。
  5. 【請求項5】 基板と、この基板上に形成された磁性層
    とを有する一対の磁気コア半体が、非磁性体を介して該
    磁性層同士が対向するように突き合わされて磁気ギャッ
    プを形成する磁気ヘッドの製造方法において、 上記基板を、基板面と平行な平行面とこの平行面からか
    ら所定の角度をもって傾斜された傾斜面と有するように
    形成し、 上記磁性層を成膜する際の成膜方向が上記平行面に対し
    て直交する方向となるように上記磁性層を形成し、 上記傾斜面に形成された上記磁性層の端面同士を突き合
    わせることにより磁気ギャップを形成することを特徴と
    する磁気ヘッドの製造方法。
  6. 【請求項6】 上記一対の磁気コア半体の少なくとも一
    方に、上記磁性層を巻回する薄膜コイルを形成すること
    を特徴とする請求項5記載の磁気ヘッドの製造方法。
  7. 【請求項7】 上記磁性層は、スパッタリング法により
    形成されることを特徴とする請求項5記載の磁気ヘッド
    の製造方法。
  8. 【請求項8】 上記磁性層は、金属磁性薄膜からなるこ
    とを特徴とする請求項5記載の磁気ヘッドの製造方法。
  9. 【請求項9】 上記金属磁性薄膜は、非磁性層を介して
    複数の金属磁性層が積層されてなることを特徴とする請
    求項8記載の磁気ヘッドの製造方法。
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