JPH10251226A - Benzophenone skeleton-containing peroxide, its production and use - Google Patents
Benzophenone skeleton-containing peroxide, its production and useInfo
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Landscapes
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】この発明は、ラジカル発生
剤、重合開始剤、特に光重合開始剤又は光硬化剤として
使用される新規なベンゾフェノン骨格含有ペルオキシ
ド、その製造方法及び用途に関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a novel benzophenone skeleton-containing peroxide which is used as a radical generator, a polymerization initiator, particularly a photopolymerization initiator or a photocuring agent, and a method for producing the peroxide.
【0002】[0002]
【従来の技術】光重合(光硬化)性モノマー、光重合
(光硬化)性樹脂組成物を光重合又は光硬化させる重合
硬化法は、熱重合、熱硬化法及び酸化硬化法に比べ、低
温、迅速に硬化でき、生産性向上、省エネルギー、無公
害などの多くの長所がある。また、選択的硬化も可能で
あることから、印刷インキ、塗料、接着剤、樹脂凸版、
プリント配線基板の加工などに広く使われている。2. Description of the Related Art Polymerization and curing methods for photopolymerizing or photocuring a photopolymerizable (photocurable) monomer and a photopolymerizable (photocurable) resin composition are lower in temperature than thermal polymerization, thermosetting and oxidative curing methods. It has many advantages such as quick curing, improved productivity, energy saving and no pollution. In addition, since selective curing is also possible, printing inks, paints, adhesives, resin letterpress,
Widely used for processing printed wiring boards.
【0003】この場合、過酸化ベンゾイル、ジ-t- ブチ
ルペルオキシドなどの有機過酸化物が光重合開始剤とし
て使用できることが知られている。しかし、これらの有
機過酸化物は、一般に320nm 以下の光しか吸収しない
〔Chem. Rev., 68, 125-151(1965) 〕。増感剤を併用す
る事が試みられたが、増感剤から有機過酸化物への分子
間での光エネルギーの伝達効率が低く、有機過酸化物の
光分解効率は低い〔J. Am. Chem. Soc.,87, 3413-3417
(1965) 〕。In this case, it is known that organic peroxides such as benzoyl peroxide and di-t-butyl peroxide can be used as a photopolymerization initiator. However, these organic peroxides generally only absorb light of 320 nm or less [Chem. Rev., 68 , 125-151 (1965)]. Attempts have been made to use a sensitizer in combination, but the transfer efficiency of light energy between molecules from the sensitizer to the organic peroxide is low, and the photodecomposition efficiency of the organic peroxide is low (J. Am. Chem. Soc., 87 , 3413-3417
(1965)].
【0004】この問題を解決するために、分子内に光吸
収基としてベンゾフェノン骨格を含有するエステル型有
機過酸化物が開発されている(米国特許第441682
6号公報、特開昭59−197401号公報)。In order to solve this problem, an ester type organic peroxide containing a benzophenone skeleton as a light absorbing group in the molecule has been developed (US Pat. No. 4,416,682).
No. 6, JP-A-59-197401).
【0005】[0005]
【発明が解決しようとする課題】ところが、この分子内
に光吸収基としてベンゾフェノン骨格を含有するエステ
ル型有機過酸化物は熱的な安定性が良くないことから、
暗所保存安定性が悪く、しかも硬化した樹脂が黄変する
という問題があった。However, ester-type organic peroxides containing a benzophenone skeleton as a light absorbing group in the molecule have poor thermal stability.
There was a problem that the storage stability in a dark place was poor and the cured resin turned yellow.
【0006】一方、ペルオキシカーボネート類は熱的に
比較的安定であるが、増感剤から有機過酸化物への分子
間での光エネルギーの伝達効率が低いことから、増感剤
と併用した場合の光分解効率が低いという問題があっ
た。[0006] On the other hand, peroxycarbonates are relatively thermally stable, but have a low efficiency in transferring light energy between molecules from the sensitizer to the organic peroxide. However, there is a problem that the photolysis efficiency is low.
【0007】この発明は、上記のような従来技術に存在
する問題点に鑑みてなされたものである。その目的とす
るところは、保存安定性に優れ、硬化した樹脂に黄変が
発生するのを抑制でき、しかも重合開始剤効率すなわち
光重合又は光硬化の効率の良い、新規なベンゾフェノン
骨格含有ペルオキシド、その製造方法及び用途を提供す
ることにある。[0007] The present invention has been made in view of the problems existing in the prior art as described above. The object is to provide a novel benzophenone skeleton-containing peroxide that has excellent storage stability, can suppress yellowing of the cured resin, and has high polymerization initiator efficiency, that is, high photopolymerization or photocuring efficiency, An object of the present invention is to provide a manufacturing method and a use thereof.
【0008】[0008]
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めに、第1の発明のベンゾフェノン骨格含有ペルオキシ
ドは、下記一般式(1)で表されるものである。Means for Solving the Problems In order to achieve the above object, a benzophenone skeleton-containing peroxide of the first invention is represented by the following general formula (1).
【0009】[0009]
【化5】 Embedded image
【0010】(式中、R1 は炭素数4〜8の第3級アル
キル基又は炭素数9〜12の芳香族置換第3級アルキル
基、R2 は炭素数1〜4のアルキレン基を表す。) 第2の発明のベンゾフェノン骨格含有ペルオキシドの製
造方法は、下記一般式(2)で表されるベンゾフェノン
骨格含有クロロホルメートと第3級ヒドロペルオキシド
とを反応させるものである。Wherein R 1 is a tertiary alkyl group having 4 to 8 carbon atoms or an aromatic substituted tertiary alkyl group having 9 to 12 carbon atoms, and R 2 is an alkylene group having 1 to 4 carbon atoms. The method for producing a benzophenone skeleton-containing peroxide according to the second invention comprises reacting a benzophenone skeleton-containing chloroformate represented by the following general formula (2) with a tertiary hydroperoxide.
【0011】[0011]
【化6】 Embedded image
【0012】(式中、R2 は炭素数1〜4のアルキレン
基を表す。) 第3の発明のベンゾフェノン骨格含有ペルオキシドの製
造方法は、下記一般式(3)で表されるペルオキシイミ
ダゾールと一般式(4)で表されるヒドロキシアルキル
ベンゾフェノン誘導体とを反応させるものである。(In the formula, R 2 represents an alkylene group having 1 to 4 carbon atoms.) A method for producing a benzophenone skeleton-containing peroxide according to a third aspect of the present invention is a method for preparing a peroxyimidazole represented by the following general formula (3): It reacts with the hydroxyalkylbenzophenone derivative represented by the formula (4).
【0013】[0013]
【化7】 Embedded image
【0014】(式中、R1 は炭素数4〜8の第3級アル
キル基又は炭素数9〜12の芳香族置換第3級アルキル
基を、R3 は水素原子又はメチル基を表す。)(In the formula, R 1 represents a tertiary alkyl group having 4 to 8 carbon atoms or an aromatic substituted tertiary alkyl group having 9 to 12 carbon atoms, and R 3 represents a hydrogen atom or a methyl group.)
【0015】[0015]
【化8】 Embedded image
【0016】(式中、R2 は炭素数1〜4のアルキレン
基を表す。) 第4の発明のラジカル発生剤は、第1の発明のベンゾフ
ェノン骨格含有ペルオキシドを有効成分とするものであ
る。(In the formula, R 2 represents an alkylene group having 1 to 4 carbon atoms.) A radical generator according to a fourth aspect of the present invention contains the benzophenone skeleton-containing peroxide of the first aspect as an active ingredient.
【0017】[0017]
【発明の実施の形態】以下、この発明の実施形態につい
て詳細に説明する。新規なベンゾフェノン骨格含有ペル
オキシドは、下記一般式(1)で表される。DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail. The novel benzophenone skeleton-containing peroxide is represented by the following general formula (1).
【0018】[0018]
【化9】 Embedded image
【0019】(式中、R1 は炭素数4〜8の第3級アル
キル基又は炭素数9〜12の芳香族置換第3級アルキル
基、R2 は炭素数1〜4のアルキレン基を表す。) 前記一般式(1)で表されるベンゾフェノン骨格含有ペ
ルオキシドにおいて、R1 で表される炭素数4〜8の第
3級アルキル基は、例えばt-ブチル基、t-アミル基、t-
ヘキシル基、1,1,3,3-テトラメチルブチル基などであ
り、炭素数9〜12の芳香族置換第3級アルキル基は、
例えば、α−クミル基、2-(イソプロピルフェニル)プ
ロピル基などである。Wherein R 1 is a tertiary alkyl group having 4 to 8 carbon atoms or an aromatic substituted tertiary alkyl group having 9 to 12 carbon atoms, and R 2 is an alkylene group having 1 to 4 carbon atoms. In the benzophenone skeleton-containing peroxide represented by the general formula (1), the tertiary alkyl group having 4 to 8 carbon atoms represented by R 1 is, for example, a t-butyl group, a t-amyl group, a t-amyl group.
Hexyl group, 1,1,3,3-tetramethylbutyl group and the like, and an aromatic substituted tertiary alkyl group having 9 to 12 carbon atoms is
For example, α-cumyl group, 2- (isopropylphenyl) propyl group and the like.
【0020】また、R2 で表される炭素数1〜4のアル
キレン基は、例えばメチレン基、メチルメチレン基、ジ
メチルメチレン基、エチレン基、トリメチレン基、テト
ラメチレン基などである。The alkylene group having 1 to 4 carbon atoms represented by R 2 is, for example, a methylene group, a methylmethylene group, a dimethylmethylene group, an ethylene group, a trimethylene group, a tetramethylene group and the like.
【0021】一般式(1)で表されるベンゾフェノン骨
格含有ペルオキシドとしては、例えば、 4-(t-ブチルペ
ルオキシカルボニルオキシメチル)ベンゾフェノン、 4
-(t-アミルペルオキシカルボニルオキシメチル)ベンゾ
フェノン、 4-(t-ヘキシルペルオキシカルボニルオキシ
メチル)ベンゾフェノン、 4-(1,1,3,3-テトラメチルブ
チルペルオキシカルボニルオキシメチル)ベンゾフェノ
ン、 4-(クミルペルオキシカルボニルオキシメチル)ベ
ンゾフェノン、4-(1-(イソプロピルフェニル)-1- メチ
ルエチルペルオキシカルボニルオキシメチル)ベンゾフ
ェノン、 4-(1-( t-ブチルペルオキシカルボニルオキ
シ) エチル)ベンゾフェノン、 4-(1-( t-ブチルペルオ
キシカルボニルオキシ)-1-メチルエチル)ベンゾフェノ
ン、 4-(2-(t- ブチルペルオキシカルボニルオキシ) エ
チル)ベンゾフェノン、 4-(3-( t-ブチルペルオキシカ
ルボニルオキシ) プロピル)ベンゾフェノン、 3-(t-ブ
チルペルオキシカルボニルオキシメチル)ベンゾフェノ
ン、 2-(t-ブチルペルオキシカルボニルオキシメチル)
ベンゾフェノン、 4-(1-(メチルフェニル)-1- メチル
エチルペルオキシカルボニルオキシメチル)ベンゾフェ
ノン、 4-(1-(エチルフェニル)-1- メチルエチルペル
オキシカルボニルオキシメチル)ベンゾフェノン、 4-
(1-( t-ブチルペルオキシカルボニルオキシ) ブチル)
ベンゾフェノン、4-(1-( t-ブチルペルオキシカルボニ
ルオキシ)-1-メチルプロピル)ベンゾフェノンなどが挙
げられる。Examples of the peroxide having a benzophenone skeleton represented by the general formula (1) include 4- (t-butylperoxycarbonyloxymethyl) benzophenone,
-(t-amylperoxycarbonyloxymethyl) benzophenone, 4- (t-hexylperoxycarbonyloxymethyl) benzophenone, 4- (1,1,3,3-tetramethylbutylperoxycarbonyloxymethyl) benzophenone, 4- (c Milperoxycarbonyloxymethyl) benzophenone, 4- (1- (isopropylphenyl) -1-methylethylperoxycarbonyloxymethyl) benzophenone, 4- (1- (t-butylperoxycarbonyloxy) ethyl) benzophenone, 4- (1 -(t-butylperoxycarbonyloxy) -1-methylethyl) benzophenone, 4- (2- (t-butylperoxycarbonyloxy) ethyl) benzophenone, 4- (3- (t-butylperoxycarbonyloxy) propyl) benzophenone , 3- (t-butylperoxycarbonyloxymethyl) benzophen Down, 2-(t-butylperoxy carbonyloxy-methyl)
Benzophenone, 4- (1- (methylphenyl) -1-methylethylperoxycarbonyloxymethyl) benzophenone, 4- (1- (ethylphenyl) -1-methylethylperoxycarbonyloxymethyl) benzophenone, 4-
(1- (t-butylperoxycarbonyloxy) butyl)
Benzophenone, 4- (1- (t-butylperoxycarbonyloxy) -1-methylpropyl) benzophenone and the like.
【0022】次に、一般式(1)で表されるベンゾフェ
ノン骨格含有ペルオキシドの第1の製造方法は、下記一
般式(2)で表されるベンゾフェノン骨格含有クロロホ
ルメートと第3級ヒドロペルオキシドとを反応させる製
造方法である。Next, a first method for producing a benzophenone skeleton-containing peroxide represented by the general formula (1) is a benzophenone skeleton-containing chloroformate represented by the following general formula (2) and a tertiary hydroperoxide. Is a production method.
【0023】[0023]
【化10】 Embedded image
【0024】(式中、R2 は炭素数1〜4のアルキレン
基を表す。) 一般式(2)で表されるベンゾフェノン骨格含有クロロ
ホルメートにおいて、R2 で表される炭素数1〜4のア
ルキレン基は、一般式(1)におけるR2 に同じであ
る。(In the formula, R 2 represents an alkylene group having 1 to 4 carbon atoms.) In the chloroformate having a benzophenone skeleton represented by the general formula (2), 1 to 4 carbon atoms represented by R 2 Is the same as R 2 in formula (1).
【0025】一般式(2)で表されるベンゾフェノン骨
格含有クロロホルメートとしては、例えば 4-(クロロホ
ルミルメチル)ベンゾフェノン、 4-(1-クロロホルミル
エチル)ベンゾフェノン、 4-(1-クロロホルミル-1- メ
チルエチル)ベンゾフェノン、 4-(2-クロロホルミルエ
チル)ベンゾフェノン、 4-(3-クロロホルミルプロピ
ル)ベンゾフェノン、 3-(クロロホルミルメチル)ベン
ゾフェノン、 2-(クロロホルミルメチル)ベンゾフェノ
ンなどが挙げられる。Examples of the chloroformate having a benzophenone skeleton represented by the general formula (2) include 4- (chloroformylmethyl) benzophenone, 4- (1-chloroformylethyl) benzophenone, and 4- (1-chloroformyl-). 1-methylethyl) benzophenone, 4- (2-chloroformylethyl) benzophenone, 4- (3-chloroformylpropyl) benzophenone, 3- (chloroformylmethyl) benzophenone, 2- (chloroformylmethyl) benzophenone, etc. .
【0026】一般式(2)で表されるベンゾフェノン骨
格含有クロロホルメートは、例えば対応するヒドロキシ
アルキルベンゾフェノンをクロロホルミル化剤を用い、
常法によりクロロホルミル化することで得ることができ
る。クロロホルミル化剤は、例えばホスゲン、ジホスゲ
ン又はトリホスゲンなどである。The chloroformate having a benzophenone skeleton represented by the general formula (2) can be obtained, for example, by converting the corresponding hydroxyalkylbenzophenone using a chloroformate,
It can be obtained by subjecting it to chloroformylation by a conventional method. The chloroformylating agent is, for example, phosgene, diphosgene or triphosgene.
【0027】この第1の製造方法に用いられる第3級ヒ
ドロペルオキシドとしては、例えばt-ブチルヒドロペル
オキシド、t-アミルヒドロペルオキシド、t-ヘキシルヒ
ドロペルオキシド、1,1,3,3-テトラメチルブチルヒドロ
ペルオキシド、α−クミルヒドロペルオキシド、ジイソ
プロピルベンゼンヒドロペルオキシドなどが挙げられ
る。第3級ヒドロペルオキシドの使用量は、一般式
(2)のクロロホルメート1モルに対して、0.5 〜3.0
モル、好ましくは0.8 〜1.2 モルである。The tertiary hydroperoxide used in the first production method includes, for example, t-butyl hydroperoxide, t-amyl hydroperoxide, t-hexyl hydroperoxide, 1,1,3,3-tetramethylbutyl Hydroperoxide, α-cumyl hydroperoxide, diisopropylbenzene hydroperoxide and the like. The amount of the tertiary hydroperoxide used is 0.5 to 3.0 with respect to 1 mol of the chloroformate of the general formula (2).
Mole, preferably 0.8 to 1.2 mole.
【0028】第1の製造方法においては、有機溶媒中、
塩基の存在下に反応させることが、反応を円滑に進め、
生成物の収率を向上させるために好ましい。この場合、
有機溶媒としては、例えばベンゼン、トルエン、ジオキ
サン、テトラヒドロフランなどを用いられる。塩基とし
ては、例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、ピリ
ジンなどが用いられ、その使用量はクロロホルメート1
モルに対して、0.5 〜5モル、好ましくは0.8 〜1.5 モ
ルである。反応温度は、-10 〜60℃、好ましくは5 〜40
℃である。In the first production method, in an organic solvent,
Reaction in the presence of a base facilitates the reaction,
It is preferable to improve the yield of the product. in this case,
As the organic solvent, for example, benzene, toluene, dioxane, tetrahydrofuran and the like are used. As the base, for example, sodium hydroxide, potassium hydroxide, pyridine and the like are used.
It is 0.5 to 5 mol, preferably 0.8 to 1.5 mol, per mol. The reaction temperature is -10 to 60 ° C, preferably 5 to 40.
° C.
【0029】次に、一般式(1)で表されるベンゾフェ
ノン骨格含有ペルオキシドの第2の製造方法は、下記一
般式(3)で表されるペルオキシイミダゾールと一般式
(4)で表されるヒドロキシアルキルベンゾフェノン誘
導体とを反応させるものである。Next, a second method for producing a benzophenone skeleton-containing peroxide represented by the general formula (1) is a method for preparing a peroxyimidazole represented by the following general formula (3) and a hydroxy compound represented by the general formula (4). It reacts with an alkylbenzophenone derivative.
【0030】[0030]
【化11】 Embedded image
【0031】(式中、R1 は炭素数4〜8の第3級アル
キル基又は炭素数9〜12の芳香族置換第3級アルキル
基を、R3 は水素原子又はメチル基を表す。)(In the formula, R 1 represents a tertiary alkyl group having 4 to 8 carbon atoms or an aromatic substituted tertiary alkyl group having 9 to 12 carbon atoms, and R 3 represents a hydrogen atom or a methyl group.)
【0032】[0032]
【化12】 Embedded image
【0033】(式中、R2 は炭素数1〜4のアルキレン
基を表す。) 一般式(3)のペルオキシイミダゾールにおいて、R1
で表される炭素数4〜8の第3級アルキル基又は炭素数
9〜12の芳香族置換第3級アルキル基は一般式(1)
おけるR1 に同じであり、R3 は水素原子又はメチル基
である。(Wherein R 2 represents an alkylene group having 1 to 4 carbon atoms.) In the peroxyimidazole represented by the general formula (3), R 1
A tertiary alkyl group having 4 to 8 carbon atoms or an aromatic substituted tertiary alkyl group having 9 to 12 carbon atoms represented by the general formula (1)
Are the same to definitive R 1, R 3 is a hydrogen atom or a methyl group.
【0034】一般式(3)のペルオキシイミダゾールと
しては、例えばt-ブチルペルオキシカルボニルイミダゾ
ール、t-アミルペルオキシカルボニルイミダゾール、t-
ヘキシルペルオキシカルボニルイミダゾール、1,1,3,3-
テトラメチルブチルペルオキシカルボニルイミダゾー
ル、クミルペルオキシカルボニルイミダゾール、1-(イ
ソプロピルフェニル)-1- メチルエチルペルオキシカル
ボニルイミダゾール、t-ブチルペルオキシカルボニル
(2-メチルイミダゾール)などが挙げられる。The peroxyimidazoles of the general formula (3) include, for example, t-butylperoxycarbonylimidazole, t-amylperoxycarbonylimidazole, t-amylperoxycarbonylimidazole
Hexylperoxycarbonylimidazole, 1,1,3,3-
Tetramethylbutylperoxycarbonylimidazole, cumylperoxycarbonylimidazole, 1- (isopropylphenyl) -1-methylethylperoxycarbonylimidazole, t-butylperoxycarbonyl (2-methylimidazole) and the like.
【0035】一般式(3)のペルオキシイミダゾール
は、カルボニルジイミダゾール又はカルボニルビス(2
−メチルイミダゾール)とヒドロペルオキシドとを反応
させることにより容易に得られる(Eur. Poly. J.,15(1
1), 987-992 (1979))。The peroxyimidazole of the general formula (3) is carbonyldiimidazole or carbonylbis (2
-Methylimidazole) and hydroperoxide (Eur. Poly. J., 15 (1
1), 987-992 (1979)).
【0036】一般式(4)のヒドロキシアルキルベンゾ
フェノン誘導体において、R2 は前記一般式(1)にお
けるR2 に同じである。一般式(4)のヒドロキシアル
キルベンゾフェノン誘導体としては、例えば 4-(ヒドロ
キシメチル)ベンゾフェノン、 4-(1-ヒドロキシエチ
ル)ベンゾフェノン、 4-(2-ヒドロキシ-1- メチルエチ
ル)ベンゾフェノン、 4-(2-ヒドロキシエチル)ベンゾ
フェノン、 4-(3-ヒドロキシプロピル)ベンゾフェノ
ン、 3-(ヒドロキシメチル)ベンゾフェノン、 2-(ヒド
ロキシメチル)ベンゾフェノンなどが挙げられる。In the hydroxyalkylbenzophenone derivative of the formula (4), R 2 is the same as R 2 in the formula (1). Examples of the hydroxyalkylbenzophenone derivative of the general formula (4) include 4- (hydroxymethyl) benzophenone, 4- (1-hydroxyethyl) benzophenone, 4- (2-hydroxy-1-methylethyl) benzophenone, and 4- (2 -Hydroxyethyl) benzophenone, 4- (3-hydroxypropyl) benzophenone, 3- (hydroxymethyl) benzophenone, 2- (hydroxymethyl) benzophenone and the like.
【0037】一般式(4)のヒドロキシアルキルベンゾ
フェノン誘導体は、(a)ハロゲン化アルキルベンゾフ
ェノン誘導体をアルキル加水分解する方法、(b)ハロ
ゲン化アルキルベンゾフェノン誘導体をギ酸ナトリウ
ム、酢酸ナトリウムなどと反応させた後、加水分解する
方法などによって容易に得られる。The hydroxyalkylbenzophenone derivative represented by the general formula (4) can be obtained by (a) a method of alkyl-hydrolyzing a halogenated alkylbenzophenone derivative, and (b) after reacting the halogenated alkylbenzophenone derivative with sodium formate, sodium acetate, or the like. , And by a hydrolysis method.
【0038】この第2の製造方法において、ペルオキシ
イミダゾールの使用量は、ヒドロキシアルキルベンゾフ
ェノン1モルに対して、0.5 〜5 モル、好ましくは0.8
〜1.5 モルである。反応溶媒は、例えば、ジオキサン、
テトラヒドロフランなどを用いることができる。反応温
度は、-10 〜60℃、好ましくは5 〜40℃である。In the second production method, the amount of peroxyimidazole used is 0.5 to 5 mol, preferably 0.8 mol, per 1 mol of hydroxyalkylbenzophenone.
~ 1.5 moles. The reaction solvent is, for example, dioxane,
Tetrahydrofuran or the like can be used. The reaction temperature is from -10 to 60C, preferably from 5 to 40C.
【0039】次に、一般式(1)のベンゾフェノン骨格
含有ペルオキシドを有効成分とするラジカル発生剤は、
単独で又は他の成分と混合して、光重合開始剤としてラ
ジカル重合性不飽和化合物の光重合又は光硬化に使用さ
れる。この際、1種又は2種以上のラジカル重合性不飽
和化合物と、前記光重合開始剤との混合物中に、通常用
いられている顔料、フィラー、色素、熱重合禁止剤、可
塑剤、溶媒、増感剤、また、他の既知の光重合開始剤な
どの添加剤を適宜配合することもできる。このような感
光性組成物が塗料、接着剤、印刷インキ、印刷凸版、プ
リント配線基盤、フォトレジストなどに使用される。Next, a radical generator containing, as an active ingredient, a peroxide having a benzophenone skeleton represented by the general formula (1):
Used alone or as a mixture with other components, it is used as a photopolymerization initiator for photopolymerization or photocuring of radically polymerizable unsaturated compounds. At this time, in a mixture of one or more radically polymerizable unsaturated compounds and the photopolymerization initiator, a pigment, a filler, a coloring matter, a thermal polymerization inhibitor, a plasticizer, a solvent, which are generally used, Additives such as sensitizers and other known photopolymerization initiators can also be appropriately compounded. Such photosensitive compositions are used for paints, adhesives, printing inks, printing reliefs, printed wiring boards, photoresists, and the like.
【0040】一般式(1)のベンゾフェノン骨格含有ペ
ルオキシドを光分解型ラジカル発生剤とする場合、例え
ば光重合開始剤、光硬化剤として、ラジカル重合性不飽
和化合物とともに用いることができる。When the benzophenone skeleton-containing peroxide of the general formula (1) is used as a photolytic radical generator, it can be used together with a radical polymerizable unsaturated compound, for example, as a photopolymerization initiator and a photocuring agent.
【0041】光分解は、公知の方法により、例えば、25
0 〜500nm 、好ましくは300 〜400nm の波長の光の照射
により行われる。光源は、日光、水銀ランプ、水銀放電
管、キセノンアークランプ、閃光放電管、タングステン
ランプ、ハロゲンランプ、色素レーザー、エキシマレー
ザーなどである。The photolysis is carried out by a known method, for example, 25
Irradiation with light having a wavelength of 0 to 500 nm, preferably 300 to 400 nm is performed. Light sources include sunlight, mercury lamps, mercury discharge tubes, xenon arc lamps, flash discharge tubes, tungsten lamps, halogen lamps, dye lasers, excimer lasers, and the like.
【0042】一般式(1)のベンゾフェノン骨格含有ペ
ルオキシドを熱分解型ラジカル発生剤とする場合は、ラ
ジカル重合性不飽和化合物とともに用いることができ、
熱分解温度は、30〜220 ℃、好ましくは、50〜100 ℃で
ある。When the benzophenone skeleton-containing peroxide of the general formula (1) is used as a pyrolytic radical generator, it can be used together with a radically polymerizable unsaturated compound.
The pyrolysis temperature is 30-220 ° C, preferably 50-100 ° C.
【0043】前記ラジカル発生剤と共に用いることがで
きるラジカル重合性不飽和化合物としては、重合性単量
体、重合性オリゴマー及び重合性不飽和重合体などが挙
げられる。Examples of the radical polymerizable unsaturated compound that can be used together with the radical generator include a polymerizable monomer, a polymerizable oligomer and a polymerizable unsaturated polymer.
【0044】重合性単量体は、一つ以上の重合性二重結
合を有する化合物であり、例えばアクリル酸、メタクリ
ル酸、マレイン酸、フマル酸、クロトン酸、イタコン酸
などの不飽和カルボン酸、及び、これらの不飽和カルボ
ン酸の誘導体、例えばメチル(メタ)アクリレート、ブ
チル(メタ)アクリレート、2-エチルヘキシル(メタ)
アクリレート、フェニル(メタ)アクリレート、ベンジ
ル(メタ)アクリレートなどのモノエステル類、2-ヒド
ロキシエチル(メタ)アクリレート、2-ヒドロキシプロ
ピル(メタ)アクリレートなどのヒドロキシエステル
類、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリ
エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ネオペン
チルグリコールジ(メタ)アクリレート、トリメチロー
ルプロパントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリ
トールテトラ(メタ)アクリレートなどの多価エステル
類、(メタ)アクリロニトリル、(メタ)アクリルアミ
ド、及び、N-置換(メタ)アクリルアミド等、ビニルア
セテート、ビニルプロピオネート、及び、ビニルスクシ
ネート等のビニルエステル類、ビニルエーテル類、スチ
レン、アルキルスチレン、ハロゲン化スチレン、ジビニ
ルベンゼン、ビニルナフタレン、N-ビニルピロリドン、
ジアリルフタレート、ジアリルマレート、トリアリルイ
ソシアネート、及び、トリアリルホスフェート等のビニ
ル化合物等が挙げられる。The polymerizable monomer is a compound having one or more polymerizable double bonds, for example, an unsaturated carboxylic acid such as acrylic acid, methacrylic acid, maleic acid, fumaric acid, crotonic acid, and itaconic acid; And derivatives of these unsaturated carboxylic acids, for example, methyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth)
Monoesters such as acrylate, phenyl (meth) acrylate, and benzyl (meth) acrylate; hydroxyesters such as 2-hydroxyethyl (meth) acrylate and 2-hydroxypropyl (meth) acrylate; ethylene glycol di (meth) acrylate; Polyhydric esters such as polyethylene glycol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, (meth) acrylonitrile, (meth) acrylamide, And vinyl esters such as vinyl acetate, vinyl propionate, and vinyl succinate, vinyl ethers, styrene, alkylstyrene, and N-substituted (meth) acrylamide. , Halogenated styrene, divinylbenzene, vinyl naphthalene, N- vinylpyrrolidone,
Examples include vinyl compounds such as diallyl phthalate, diallyl maleate, triallyl isocyanate, and triallyl phosphate.
【0045】重合性オリゴマーとしては、イソシアネー
ト改質オリゴマー、ポリエステルアクリルオリゴマー及
びポリエーテルアクリルオリゴマーなどが使用される。
重合性不飽和重合体としては、アリル基、(メタ)アク
リル基、マレート基、フマレート基を有する硬化性樹
脂、不飽和ポリエステル及び不飽和アクリル樹脂などが
用いられる。As the polymerizable oligomer, an isocyanate-modified oligomer, a polyester acrylic oligomer, a polyether acrylic oligomer and the like are used.
As the polymerizable unsaturated polymer, a curable resin having an allyl group, a (meth) acryl group, a malate group, a fumarate group, an unsaturated polyester, an unsaturated acrylic resin, and the like are used.
【0046】このラジカル発生剤は、ラジカル重合性不
飽和化合物の種類により異なるが、ラジカル重合性不飽
和化合物に対して、0.001 〜5重量%、好ましくは、0.
01〜0.5 重量%である。The radical generator varies depending on the type of the radically polymerizable unsaturated compound, but is preferably 0.001 to 5% by weight, preferably 0.1% by weight, based on the radically polymerizable unsaturated compound.
01 to 0.5% by weight.
【0047】以上のような実施形態によれば、次のよう
な効果を発揮することができる。 ・ 実施形態の一般式(1)で表されるベンゾフェノン
骨格含有ペルオキシドは、従来知られていない新規なペ
ルオキシドである。 ・ 実施形態のベンゾフェノン骨格含有ペルオキシド
は、従来のペルオキシドとは異なる化学構造に基づいて
保存安定性に優れている。 ・ 実施形態のベンゾフェノン骨格含有ペルオキシド
は、硬化した樹脂に黄変が発生するのを抑制することが
できる。 ・ 分子内に増感剤としての光吸収基(ベンゾフェノ
ン)を有しているので、分子内での光エネルギーの伝達
効率が高く、光分解効率が高い。従って、重合開始剤効
率すなわち光重合又は光硬化の効率が優れている。 ・ 第1又は第2のベンゾフェノン骨格含有ペルオキシ
ドの製造方法によれば、目的とする新規なベンゾフェノ
ン骨格含有ペルオキシドを容易に、しかも高収率で製造
することができる。 ・ 実施形態の新規なベンゾフェノン骨格含有ペルオキ
シドを有効成分とするラジカル発生剤によれば、光又は
熱により容易にラジカルを発生させることができ、ラジ
カル重合性不飽和化合物とともに用いて所望の重合物や
硬化物を容易に得ることができる。According to the above embodiment, the following effects can be obtained. -The benzophenone skeleton-containing peroxide represented by the general formula (1) in the embodiment is a novel peroxide that has not been known before. -The benzophenone skeleton-containing peroxide of the embodiment has excellent storage stability based on a chemical structure different from the conventional peroxide. -The benzophenone skeleton-containing peroxide of the embodiment can suppress yellowing of the cured resin. -Since it has a light absorbing group (benzophenone) as a sensitizer in the molecule, it has high light energy transfer efficiency and high photolysis efficiency in the molecule. Therefore, the polymerization initiator efficiency, that is, the efficiency of photopolymerization or photocuring is excellent. -According to the first or second method for producing a benzophenone skeleton-containing peroxide, a desired novel benzophenone skeleton-containing peroxide can be easily produced at a high yield. According to the radical generator containing the novel benzophenone skeleton-containing peroxide of the embodiment as an active ingredient, a radical can be easily generated by light or heat, and a desired polymer or a polymer can be used together with a radical polymerizable unsaturated compound. A cured product can be easily obtained.
【0048】[0048]
【実施例】次に、この発明を参考例、実施例及び比較例
を挙げて具体的に説明する。 〔参考例1、4-( ヒドロキシメチル) ベンゾフェノンの
製造〕攪拌装置、温度計及びジムロート冷却管を備えた
1000mlの四つ口フラスコに4-(ブロモメチル)ベンゾフ
ェノン 82.9g (0.301mol) を入れ、ジオキサン 300mlに
溶解させた。反応槽にギ酸ナトリウム 61.5g (0.904mo
l) の水溶液と臭化テトラ-n- ブチルアンモニウム 4.85
g (1.51×10-2mol)とを順に加え、3時間還流させた。Next, the present invention will be specifically described with reference to Reference Examples, Examples and Comparative Examples. Reference Example 1, Production of 4- (hydroxymethyl) benzophenone A stirrer, a thermometer, and a Dimroth condenser were provided.
82.9 g (0.301 mol) of 4- (bromomethyl) benzophenone was placed in a 1000 ml four-necked flask, and dissolved in 300 ml of dioxane. Sodium formate 61.5g (0.904mo
l) aqueous solution of tetra-n-butylammonium bromide 4.85
g (1.51 × 10 −2 mol) were added in order, and the mixture was refluxed for 3 hours.
【0049】室温まで冷却の後、20% NaOH水溶液 90.4g
(0.456 mol)を少しずつ滴下し、室温のまま1時間攪拌
を続けた。その後、有機層を分取し、更に水層をジエチ
ルエーテル(100mlx2) で抽出した。合わせた有機層を飽
和NaCl水で洗浄した。無水硫酸ナトリウムで乾燥し、溶
媒留去後、トルエン−n-ヘキサン混合溶媒で再結晶する
ことにより白色結晶の4-( ヒドロキシメチル) ベンゾフ
ェノンを54.7g (0.258mol)得た(収率 85.5%)。 (参考例2、t-ブチルペルオキシカルボニルイミダゾー
ルの製造)攪拌装置及び温度計を備えた200ml の四つ口
フラスコにN,N'- カルボニルジイミダゾール 20.0g (0.
123mol) と無水テトラヒドロフラン 70ml を入れ懸濁さ
せた。氷冷して5℃以下に保ちながら、t-ブチルヒドロ
ペルオキシド 12.2g (0.129mol) を少しずつ滴下した。
その後氷浴を外し、室温で1時間反応を継続することに
より、t-ブチルペルオキシカルボニルイミダゾールのテ
トラヒドロフラン溶液を得た。 (実施例1)攪拌装置及び温度計を備えた200ml 四つ口
フラスコに4-( クロロホルミルメチル) ベンゾフェノン
27.5g (0.100mol) を加え、トルエン 90ml に溶解させ
た。さらに、70% t-ブチルヒドロペルオキシド水溶液 1
6.1g (0.125mol) を加え、氷冷した。20% KOH 水溶液 2
8.1g (0.100mol) を10℃以下に保ちながら滴下し、10-1
5 ℃で90min 攪拌を続けた。有機層を水で洗浄後、無水
硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を留去した。次いで、メ
タノール中、再結晶により白色結晶の4-(t- ブチルペル
オキシカルボニルオキシメチル) ベンゾフェノン 27.9g
(0.0850mol)を得た(収率 85.0%)。得られたペルオキ
シドについて核磁気共鳴スペクトル分析(NMR)、赤
外線吸収スペクトル分析(IR)、質量分析(MS)及
び紫外線吸収スペクトル分析(UV)を行った。その結
果を次に示す。1 H-NMR(CDCl3/TMS, δ(ppm)): 1.34(9H,s), 5.31(2H,
s), 7.4-7.9(9H,m) IR (cm-1): 880(O-O), 1660(C=O), 1780(C=O) MS: 328(M+) UV(ジオキサン, λmax(nm)): .343( ε=151), 261( ε
=14900) (実施例2)t-ブチルヒドロペルオキシドの代わりに、
85% t-アミルヒドロペルオキシド 15.3g (0.125mol) を
用い、その他は実施例1に準じて製造し、白色結晶の4-
(t-アミルペルオキシカルボニルオキシメチル) ベンゾ
フェノン 28.1g (0.0821mol)を得た(収率 82.1%)。得
られたペルオキシドについての同定データを以下に示
す。1 H-NMR(CDCl3/TMS, δ(ppm)): 0.98(3H,t), 1.30(6H,
s), 1.56(2H, q),5.32(2H,s), 7.4-7.9(9H,m) IR (cm-1): 880(O-O), 1660(C=O), 1780(C=O) MS: 342(M+) UV(ジオキサン, λmax(nm)): .343( ε=149), 261( ε
=15100) (実施例3)t-ブチルヒドロペルオキシドの代わりに、
90% t-ヘキシルヒドロペルオキシド16.4g (0.125mol)
を用いた他は、実施例1に準じて製造し、白色結晶の4-
(t-ヘキシルペルオキシカルボニルオキシメチル) ベン
ゾフェノン 28.8g (0.0807mol)を得た(収率 80.7%)。
得られたペルオキシドについての同定データを以下に示
す。1 H-NMR(CDCl3/TMS, δ(ppm)): 0.93(3H, t), 1.29(6H,
s), 1.41(2H, m), 1.59(2H, t),5.32(2H, s), 7.4-7.9
(9H,m) IR (cm-1): 880(O-O), 1660(C=O), 1780(C=O) MS: 356(M+) UV(ジオキサン, λmax(nm)): .343( ε=147), 261( ε
=14700) (実施例4)t-ブチルヒドロペルオキシドの代わりに、
90% 1,1,3,3-テトラメチルブチルヒドロペルオキシド 2
0.3g (0.125mol) を用いた他は、実施例1に準じて製造
し、白色結晶の4-(1,1,3,3- テトラメチルブチルペルオ
キシカルボニルオキシメチル) ベンゾフェノン 29.3g
(0.0763mol)を得た(収率 76.3%)。得られたペルオキ
シドについての同定データを以下に示す。1 H-NMR(CDCl3/TMS, δ(ppm)): 1.03(9H,s), 1.38(6H,
s), 1.65(2H, s),5.32(2H,s), 7.4−7.9(9
H,m) IR (cm-1): 880(O-O), 1660(C=O), 1780(C=O) MS: 384(M+) UV(ジオキサン, λmax(nm)): .343( ε=151), 261( ε
=15000) (実施例5)t-ブチルヒドロペルオキシドの代わりに、
80% クメンヒドロペルオキシド 23.8g (0.125mol) を用
いた他は、実施例1に準じて製造し、白色結晶の4-( ク
ミルペルオキシカルボニルオキシメチル) ベンゾフェノ
ン 30.2g (0.0774mol)を得た(収率 77.4%)。得られた
ペルオキシドについての同定データを以下に示す。1 H-NMR(CDCl3/TMS, δ(ppm)): 1.65(6H,s), 5.33(2H,
s), 7.3-8.0(14H,m) IR (cm-1): 880(O-O), 1660(C=O), 1780(C=O) MS: 390(M+) UV(ジオキサン, λmax(nm)): .343( ε=165), 261( ε
=17800) (実施例6)4-( クロロホルミルメチル) ベンゾフェノ
ンの代わりに、4-(1-クロロホルミル-1- メチルエチ
ル)ベンゾフェノン 30.3g (0.100mol) を用いた他は、
実施例1に準じて製造し、白色結晶の4-(1-( t-ブチル
ペルオキシカルボニルオキシ)-1-メチルエチル)ベンゾ
フェノン 25.8g (0.0723mol)を得た(収率 72.3%) 。得
られたペルオキシドについての同定データを以下に示
す。1 H-NMR(CDCl3/TMS, δ(ppm)): 1.33(9H,s), 1.65(6H,
s), 7.4-8.1(9H,m) IR (cm-1): 880(O-O), 1660(C=O), 1780(C=O) MS: 356(M+) UV(ジオキサン, λmax(nm)): .345( ε=181), 266( ε
=16100) (実施例7)4-( クロロホルミルメチル) ベンゾフェノ
ンの代わりに、3-(1-クロロホルミル-1- メチルエチ
ル)ベンゾフェノン 27.5g (0.100mol) を用いた他は、
実施例1に準じて製造し、白色結晶の3-(1-( t-ブチル
ペルオキシカルボニルオキシ)-1-メチルエチル)ベンゾ
フェノン 22.9g (0.0698mol)を得た(収率 69.8%)。得
られたペルオキシドについての同定データを以下に示
す。1 H-NMR(CDCl3/TMS, δ(ppm)): 1.33(9H,s), 5.30(2H,
s), 7.1-8.1(9H,m) IR (cm-1): 880(O-O), 1660(C=O), 1780(C=O) MS: 328(M+) UV(ジオキサン, λmax(nm)): .343(ε=147), 263(ε
=14100) (実施例8)参考例2で得たt-ブチルペルオキシカルボ
ニルイミダゾールのテトラヒドロフラン溶液に室温、攪
拌下で4-( ヒドロキシメチル) ベンゾフェノン 23.8g
(0.112mol) のテトラヒドロフラン(40ml)溶液を20℃以
下に保ちながら少しずつ滴下した。40℃に昇温後6時間
攪拌を続けた。冷却後、テトラヒドロフランを留去し、
ジエチルエーテルに溶解させ、飽和NH4Cl 水、次いで飽
和NaCl水で洗浄した。無水硫酸ナトリウムで乾燥、溶媒
留去後、メタノール中、再結晶により白色結晶の4-(t-
ブチルペルオキシカルボニルオキシメチル) ベンゾフェ
ノン 21.2g (0.0641mol)を得た(収率 57.3%)。 (実施例9〜13、光重合)石英製光重合管に、重合禁
止剤を含まないメタクリル酸メチルに実施例1〜5で得
られたラジカル発生剤をそれぞれ 0.01mol/l添加し、凍
結融解法で窒素置換した後、20℃の恒温槽でメリーゴー
ランド型光照射装置(大科工業社製、商品名MGR-P 型)
を用い、400W高圧水銀灯(UVT 36Aフィルター使用)で36
5nm の紫外線を8cm の距離から30分照射した後、メタノ
ール沈降法による重量法で重合転化率及び重合速度(Rp)
を測定した。得られた結果を表1に示す。 (比較例1)実施例9〜13のラジカル発生剤に代え、
2-(t- ブチルペルオキシカルボニルオキシ) プロパン及
びベンゾフェノンを 0.01mol/lずつ使用した以外は、実
施例9〜13に記載した方法に準じてメタクリル酸メチ
ルを重合し、重合転化率及び重合速度を測定した。その
結果を表1に示す。After cooling to room temperature, 90.4 g of a 20% aqueous NaOH solution
(0.456 mol) was added dropwise little by little, and stirring was continued for 1 hour at room temperature. Thereafter, the organic layer was separated, and the aqueous layer was further extracted with diethyl ether (100 ml × 2). The combined organic layers were washed with saturated aqueous NaCl. After drying over anhydrous sodium sulfate and evaporating the solvent, the residue was recrystallized from a mixed solvent of toluene and n-hexane to obtain 54.7 g (0.258 mol) of 4- (hydroxymethyl) benzophenone as white crystals (yield: 85.5%). . (Reference Example 2, Production of t-butylperoxycarbonylimidazole) In a 200 ml four-necked flask equipped with a stirrer and a thermometer, 20.0 g of N, N'-carbonyldiimidazole (0.
123 mol) and 70 ml of anhydrous tetrahydrofuran. 12.2 g (0.129 mol) of t-butyl hydroperoxide was added dropwise little by little while cooling on ice and keeping the temperature at 5 ° C. or lower.
Thereafter, the ice bath was removed, and the reaction was continued at room temperature for 1 hour to obtain a solution of t-butylperoxycarbonylimidazole in tetrahydrofuran. (Example 1) 4- (chloroformylmethyl) benzophenone was placed in a 200 ml four-necked flask equipped with a stirrer and a thermometer.
27.5 g (0.100 mol) was added and dissolved in 90 ml of toluene. In addition, 70% t-butyl hydroperoxide aqueous solution 1
6.1 g (0.125 mol) was added, followed by ice cooling. 20% KOH aqueous solution 2
8.1 g (0.100 mol) was added dropwise while maintaining the temperature at 10 ° C or less.
Stirring was continued at 5 ° C for 90 minutes. The organic layer was washed with water, dried over anhydrous sodium sulfate, and the solvent was distilled off. Then, in methanol, recrystallized white crystals of 4- (t-butylperoxycarbonyloxymethyl) benzophenone 27.9 g
(0.0850 mol) was obtained (yield 85.0%). The obtained peroxide was subjected to nuclear magnetic resonance spectroscopy (NMR), infrared absorption spectroscopy (IR), mass spectroscopy (MS) and ultraviolet absorption spectroscopy (UV). The results are shown below. 1 H-NMR (CDCl 3 / TMS, δ (ppm)): 1.34 (9H, s), 5.31 (2H,
s), 7.4-7.9 (9H, m) IR (cm -1 ): 880 (OO), 1660 (C = O), 1780 (C = O) MS: 328 (M +) UV (dioxane, λmax (nm) ): .343 (ε = 151), 261 (ε
(Example 2) Instead of t-butyl hydroperoxide,
Using 15.3 g (0.125 mol) of 85% t-amyl hydroperoxide, the others were prepared according to Example 1, and white crystals of 4-
28.1 g (0.0821 mol) of (t-amyl peroxycarbonyloxymethyl) benzophenone was obtained (yield: 82.1%). The identification data of the obtained peroxide is shown below. 1 H-NMR (CDCl 3 / TMS, δ (ppm)): 0.98 (3H, t), 1.30 (6H,
s), 1.56 (2H, q), 5.32 (2H, s), 7.4-7.9 (9H, m) IR (cm -1 ): 880 (OO), 1660 (C = O), 1780 (C = O) MS: 342 (M +) UV (dioxane, λmax (nm)): .343 (ε = 149), 261 (ε
Example 15 Instead of t-butyl hydroperoxide,
16.4g (0.125mol) of 90% t-hexyl hydroperoxide
Was prepared according to Example 1 except that
28.8 g (0.0807 mol) of (t-hexylperoxycarbonyloxymethyl) benzophenone was obtained (80.7% yield).
The identification data of the obtained peroxide is shown below. 1 H-NMR (CDCl 3 / TMS, δ (ppm)): 0.93 (3H, t), 1.29 (6H,
s), 1.41 (2H, m), 1.59 (2H, t), 5.32 (2H, s), 7.4-7.9
(9H, m) IR (cm -1 ): 880 (OO), 1660 (C = O), 1780 (C = O) MS: 356 (M +) UV (dioxane, λmax (nm)): .343 (ε = 147), 261 (ε
(Example 4) Instead of t-butyl hydroperoxide,
90% 1,1,3,3-tetramethylbutyl hydroperoxide 2
Except that 0.3 g (0.125 mol) was used, it was produced according to Example 1, and white crystals of 4- (1,1,3,3-tetramethylbutylperoxycarbonyloxymethyl) benzophenone 29.3 g
(0.0763 mol) was obtained (yield 76.3%). The identification data of the obtained peroxide is shown below. 1 H-NMR (CDCl 3 / TMS, δ (ppm)): 1.03 (9H, s), 1.38 (6H,
s), 1.65 (2H, s), 5.32 (2H, s), 7.4-7.9 (9
H, m) IR (cm -1 ): 880 (OO), 1660 (C = O), 1780 (C = O) MS: 384 (M +) UV (dioxane, λmax (nm)): .343 (ε = 151), 261 (ε
= 15000) (Example 5) Instead of t-butyl hydroperoxide,
Except that 23.8 g (0.125 mol) of 80% cumene hydroperoxide was used, the production was carried out according to Example 1, to obtain 30.2 g (0.0774 mol) of 4- (cumylperoxycarbonyloxymethyl) benzophenone as white crystals ( Yield 77.4%). The identification data of the obtained peroxide is shown below. 1 H-NMR (CDCl 3 / TMS, δ (ppm)): 1.65 (6H, s), 5.33 (2H,
s), 7.3-8.0 (14H, m) IR (cm -1 ): 880 (OO), 1660 (C = O), 1780 (C = O) MS: 390 (M +) UV (dioxane, λmax (nm) ): .343 (ε = 165), 261 (ε
(Example 17) Except that 30.3 g (0.100 mol) of 4- (1-chloroformyl-1-methylethyl) benzophenone was used instead of 4- (chloroformylmethyl) benzophenone,
It was manufactured according to Example 1 to obtain 25.8 g (0.0723 mol) of 4- (1- (t-butylperoxycarbonyloxy) -1-methylethyl) benzophenone as white crystals (yield: 72.3%). The identification data of the obtained peroxide is shown below. 1 H-NMR (CDCl 3 / TMS, δ (ppm)): 1.33 (9H, s), 1.65 (6H,
s), 7.4-8.1 (9H, m) IR (cm -1 ): 880 (OO), 1660 (C = O), 1780 (C = O) MS: 356 (M +) UV (dioxane, λmax (nm) ): .345 (ε = 181), 266 (ε
(Example 7) In place of 4- (chloroformylmethyl) benzophenone, 27.5 g (0.100 mol) of 3- (1-chloroformyl-1-methylethyl) benzophenone was used.
It was produced according to Example 1 to obtain 22.9 g (0.0698 mol) of 3- (1- (t-butylperoxycarbonyloxy) -1-methylethyl) benzophenone as white crystals (yield 69.8%). The identification data of the obtained peroxide is shown below. 1 H-NMR (CDCl 3 / TMS, δ (ppm)): 1.33 (9H, s), 5.30 (2H,
s), 7.1-8.1 (9H, m) IR (cm -1 ): 880 (OO), 1660 (C = O), 1780 (C = O) MS: 328 (M +) UV (dioxane, λmax (nm) ): .343 (ε = 147), 263 (ε
(Example 8) 23.8 g of 4- (hydroxymethyl) benzophenone in a tetrahydrofuran solution of t-butylperoxycarbonylimidazole obtained in Reference Example 2 at room temperature under stirring.
(0.112 mol) in tetrahydrofuran (40 ml) was added dropwise while keeping the temperature at 20 ° C. or lower. After the temperature was raised to 40 ° C., stirring was continued for 6 hours. After cooling, tetrahydrofuran is distilled off,
Dissolved in diethyl ether and washed with saturated aqueous NH 4 Cl, then saturated aqueous NaCl. After drying over anhydrous sodium sulfate and evaporating the solvent, 4- (t-
Butylperoxycarbonyloxymethyl) benzophenone was obtained in an amount of 21.2 g (0.0641 mol) (yield: 57.3%). (Examples 9 to 13, photopolymerization) Into a photopolymerization tube made of quartz, 0.01 mol / l of each of the radical generators obtained in Examples 1 to 5 was added to methyl methacrylate containing no polymerization inhibitor, followed by freeze-thawing. Merry-go-round type light irradiator (manufactured by Daika Kogyo Co., Ltd., trade name: MGR-P)
With a 400W high-pressure mercury lamp (using a UVT 36A filter)
After irradiating with ultraviolet rays of 5 nm from a distance of 8 cm for 30 minutes, the polymerization conversion rate and the polymerization rate (Rp) were determined by the gravimetric method by the methanol precipitation method.
Was measured. Table 1 shows the obtained results. (Comparative Example 1) Instead of the radical generators of Examples 9 to 13,
Except that 2- (t-butylperoxycarbonyloxy) propane and benzophenone were used in an amount of 0.01 mol / l each, methyl methacrylate was polymerized according to the method described in Examples 9 to 13, and the polymerization conversion rate and polymerization rate were changed. It was measured. Table 1 shows the results.
【0050】[0050]
【表1】 [Table 1]
【0051】表1に示したように、実施例9〜13にお
いては、重合転化率及び初期の重合速度に優れ、有効な
光重合性能を有することがわかる。これに対して、従来
のペルオキシドを用いた比較例1では重合転化率及び初
期の重合速度が低く、光重合性能が悪いことがわかる。 (実施例14〜18、光硬化)ガラスプレート上に、実
施例1〜5で得られたラジカル発生剤をそれぞれ2重量
部添加したエステルアクリレート樹脂(組成は「アロニ
ックスM-8060」(東亜合成社製品名)/「アロニックス
M-5700」(東亜合成社製品名)=4/6)を、100 μm
の膜厚に塗布し、コンベア式紫外線硬化装置(集光型)
を用い、高圧水銀灯の下を塗膜表面が鉛筆硬度4Hに硬
化するまで繰り返し通過させた。硬化するまでの通過回
数を表2に示す。なお、1回の通過で照射される光のエ
ネルギーは約80mJ/cm2であった。結果を表2に示す。ま
た、この樹脂の、目視での黄変はなかった。 (比較例2〜3)実施例14〜18のラジカル発生剤に
代え、2-(t- ブチルペルオキシカルボニルオキシ) プロ
パン及びベンゾフェノンを 0.01mol/lずつ使用、また4-
(t- ブチルペルオキシカルボニル) ベンゾフェノンを使
用した以外は、実施例14〜18に記載した方法に準じ
てエステルアクリレート樹脂を硬化させた。その結果を
表2に示す。As shown in Table 1, in Examples 9 to 13, it was found that the polymerization conversion rate and the initial polymerization rate were excellent, and that they had effective photopolymerization performance. On the other hand, in Comparative Example 1 using the conventional peroxide, the polymerization conversion rate and the initial polymerization rate were low, and the photopolymerization performance was poor. (Examples 14 to 18, photocuring) Ester acrylate resin (composition is "Aronix M-8060" (Toa Gosei Co., Ltd.)) on a glass plate to which 2 parts by weight of each of the radical generators obtained in Examples 1 to 5 was added. Product name) / "Aronix
M-5700 ”(product name of Toa Gosei Co., Ltd. = 4/6)
Conveyor type UV curing device (light collecting type)
The coating was repeatedly passed under a high-pressure mercury lamp until the surface of the coating film hardened to a pencil hardness of 4H. Table 2 shows the number of passages until curing. The energy of light irradiated in one pass was about 80 mJ / cm 2 . Table 2 shows the results. Further, there was no visual yellowing of this resin. (Comparative Examples 2-3) Instead of the radical generators of Examples 14-18, 2- (t-butylperoxycarbonyloxy) propane and benzophenone were used in an amount of 0.01 mol / l,
(t-butylperoxycarbonyl) The ester acrylate resin was cured according to the method described in Examples 14 to 18 except that benzophenone was used. Table 2 shows the results.
【0052】[0052]
【表2】 [Table 2]
【0053】表2に示したように、実施例14〜18に
おいては、少ない通過回数で所定の硬度が得られ、樹脂
の黄変もなく、有効な光硬化性能を有することがわか
る。一方、従来のペルオキシドを用いた比較例2,3で
は通過回数が多いか、又は樹脂の黄変を招いた。 (実施例19〜23、保存安定性)ガラスびん中に、実
施例1〜5で得られたラジカル発生剤をそれぞれ2重量
部添加したエステルアクリレート樹脂(組成は「アロニ
ックスM-8060」(東亜合成社製品名)/「アロニックス
M-5700」(東亜合成社製品名)=4/6)を入れ、イン
キュベーター内、60℃で暗所保存安定性を調べた。結果
は、目視でゲル化の生じた日数で表した。得られた、暗
所保存安定性を表3に示す。 (比較例4,5)光重合開始剤として、表3に示される
従来の光重合開始剤をそれぞれ2重量部ずつ使用する以
外は、実施例19〜23に記載した方法に準じて保存安
定性を調べた。結果を表3に示す。また、実施例9〜1
3及び比較例1、3、5で用いたペルオキシド又は光重
合開始剤の化学構造式を下記に示す。As shown in Table 2, in Examples 14 to 18, it was found that a predetermined hardness was obtained with a small number of passages, the resin did not turn yellow, and had an effective photocuring performance. On the other hand, in Comparative Examples 2 and 3 using the conventional peroxide, the number of passages was large or the resin was yellowed. (Examples 19 to 23, storage stability) An ester acrylate resin (composition: "Aronix M-8060" (Toa Gosei) in which 2 parts by weight of each of the radical generators obtained in Examples 1 to 5 was added to a glass bottle Company name) / "Aronix
M-5700 ”(product name of Toa Gosei Co., Ltd.) = 4/6), and the storage stability in a dark place at 60 ° C. in an incubator was examined. The results were visually expressed as the number of days when gelation occurred. Table 3 shows the obtained storage stability in a dark place. (Comparative Examples 4 and 5) Storage stability according to the methods described in Examples 19 to 23, except that 2 parts by weight of each of the conventional photopolymerization initiators shown in Table 3 was used as the photopolymerization initiator. Was examined. Table 3 shows the results. Examples 9-1
The chemical structural formulas of the peroxides or photopolymerization initiators used in No. 3 and Comparative Examples 1, 3, and 5 are shown below.
【0054】[0054]
【表3】 [Table 3]
【0055】実施例9のペルオキシドは化学構造式(1
3)に示す構造を有する。The peroxide of Example 9 has the chemical structural formula (1)
It has the structure shown in 3).
【0056】[0056]
【化13】 Embedded image
【0057】実施例10のペルオキシドは化学構造式
(14)に示す構造を有する。The peroxide of Example 10 has the structure shown in chemical structural formula (14).
【0058】[0058]
【化14】 Embedded image
【0059】実施例11のペルオキシドは化学構造式
(15)に示す構造を有する。The peroxide of Example 11 has the structure shown in chemical structural formula (15).
【0060】[0060]
【化15】 Embedded image
【0061】実施例12のペルオキシドは化学構造式
(16)に示す構造を有する。The peroxide of Example 12 has the structure shown in chemical structural formula (16).
【0062】[0062]
【化16】 Embedded image
【0063】実施例13のペルオキシドは化学構造式
(17)に示す構造を有する。The peroxide of Example 13 has the structure shown in chemical structural formula (17).
【0064】[0064]
【化17】 Embedded image
【0065】比較例1のペルオキシドは化学構造式(1
8)に示す構造を有する。The peroxide of Comparative Example 1 has the chemical structural formula (1)
It has the structure shown in 8).
【0066】[0066]
【化18】 Embedded image
【0067】ベンゾフェノンは化学構造式(19)に示
す構造を有する。Benzophenone has the structure shown in chemical structural formula (19).
【0068】[0068]
【化19】 Embedded image
【0069】比較例3のペルオキシドは化学構造式(2
0)に示す構造を有する。The peroxide of Comparative Example 3 has the chemical structural formula (2)
0).
【0070】[0070]
【化20】 Embedded image
【0071】比較例5の光重合開始剤は化学構造式(2
1)に示す構造を有する。The photopolymerization initiator of Comparative Example 5 has the chemical structural formula (2)
It has the structure shown in 1).
【0072】[0072]
【化21】 Embedded image
【0073】表3に示したように、実施例19〜23に
おいては、30日以上の暗所保存安定性が得られ、暗所
保存安定性に優れていることが明らかになった。これに
対し、従来のペルオキシドを用いた比較例4,5では、
暗所保存安定性は5日又は6日であった。As shown in Table 3, in Examples 19 to 23, storage stability in a dark place for 30 days or more was obtained, and it was revealed that the storage stability in a dark place was excellent. On the other hand, in Comparative Examples 4 and 5 using the conventional peroxide,
The dark storage stability was 5 or 6 days.
【0074】なお、前記実施形態より把握される技術的
思想について以下に記載する。 ・ 一般式(2)で表されるベンゾフェノン骨格含有ク
ロロホルメートと第3級ヒドロペルオキシドとを、有機
溶媒中で塩基の存在下に反応させる請求項2に記載のベ
ンゾフェノン骨格含有ペルオキシドの製造方法。The technical ideas grasped from the above embodiment will be described below. The method for producing a benzophenone skeleton-containing peroxide according to claim 2, wherein the benzophenone skeleton-containing chloroformate represented by the general formula (2) is reacted with a tertiary hydroperoxide in an organic solvent in the presence of a base.
【0075】このように構成した場合、反応を円滑に行
うことができるとともに、ベンゾフェノン骨格含有ペル
オキシドの収率を向上させることができる。With such a constitution, the reaction can be carried out smoothly and the yield of the peroxide having a benzophenone skeleton can be improved.
【0076】[0076]
【発明の効果】以上詳述したように、この発明によれ
ば、次のような優れた効果を奏する。第1の発明のベン
ゾフェノン骨格含有ペルオキシドは新規化合物であり、
保存安定性に優れ、硬化した樹脂に黄変が発生するのを
抑制でき、しかも重合開始剤効率すなわち光重合又は光
硬化の効率に優れている。As described above in detail, according to the present invention, the following excellent effects can be obtained. The benzophenone skeleton-containing peroxide of the first invention is a novel compound,
It is excellent in storage stability, can suppress yellowing of the cured resin, and is excellent in polymerization initiator efficiency, that is, photopolymerization or photocuring efficiency.
【0077】第2の発明及び第3の発明のベンゾフェノ
ン骨格含有ペルオキシドの製造方法によれば、目的とす
る新規なベンゾフェノン骨格含有ペルオキシドを容易
に、しかも高収率で製造することができる。According to the method for producing a benzophenone skeleton-containing peroxide according to the second and third aspects of the present invention, the desired novel benzophenone skeleton-containing peroxide can be easily produced in high yield.
【0078】第4の発明のラジカル発生剤によれば、光
又は熱により容易にラジカルを発生させることができ、
ラジカル重合性不飽和化合物とともに用いて様々な重合
物や硬化物を得ることができる。According to the radical generator of the fourth invention, radicals can be easily generated by light or heat.
Various polymers and cured products can be obtained by using together with the radical polymerizable unsaturated compound.
Claims (4)
ノン骨格含有ペルオキシド。 【化1】 (式中、R1 は炭素数4〜8の第3級アルキル基又は炭
素数9〜12の芳香族置換第3級アルキル基、R2 は炭
素数1〜4のアルキレン基を表す。)1. A peroxide having a benzophenone skeleton represented by the following general formula (1). Embedded image (In the formula, R 1 represents a tertiary alkyl group having 4 to 8 carbon atoms or an aromatic substituted tertiary alkyl group having 9 to 12 carbon atoms, and R 2 represents an alkylene group having 1 to 4 carbon atoms.)
ノン骨格含有クロロホルメートと第3級ヒドロペルオキ
シドとを反応させる請求項1に記載のベンゾフェノン骨
格含有ペルオキシドの製造方法。 【化2】 (式中、R2 は炭素数1〜4のアルキレン基を表す。)2. The process for producing a benzophenone skeleton-containing peroxide according to claim 1, wherein the benzophenone skeleton-containing chloroformate represented by the following general formula (2) is reacted with a tertiary hydroperoxide. Embedded image (In the formula, R 2 represents an alkylene group having 1 to 4 carbon atoms.)
イミダゾールと一般式(4)で表されるヒドロキシアル
キルベンゾフェノン誘導体とを反応させる請求項1に記
載のベンゾフェノン骨格含有ペルオキシドの製造方法。 【化3】 (式中、R1 は炭素数4〜8の第3級アルキル基又は炭
素数9〜12の芳香族置換第3級アルキル基を、R3 は
水素原子又はメチル基を表す。) 【化4】 (式中、R2 は炭素数1〜4のアルキレン基を表す。)3. The method for producing a benzophenone skeleton-containing peroxide according to claim 1, wherein a peroxyimidazole represented by the following general formula (3) is reacted with a hydroxyalkylbenzophenone derivative represented by the following general formula (4). Embedded image (In the formula, R 1 represents a tertiary alkyl group having 4 to 8 carbon atoms or an aromatic substituted tertiary alkyl group having 9 to 12 carbon atoms, and R 3 represents a hydrogen atom or a methyl group.) ] (In the formula, R 2 represents an alkylene group having 1 to 4 carbon atoms.)
有ペルオキシドを有効成分とするラジカル発生剤。4. A radical generator comprising the benzophenone skeleton-containing peroxide according to claim 1 as an active ingredient.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5530797A JPH10251226A (en) | 1997-03-10 | 1997-03-10 | Benzophenone skeleton-containing peroxide, its production and use |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5530797A JPH10251226A (en) | 1997-03-10 | 1997-03-10 | Benzophenone skeleton-containing peroxide, its production and use |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH10251226A true JPH10251226A (en) | 1998-09-22 |
Family
ID=12994922
Family Applications (1)
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---|---|---|---|
JP5530797A Pending JPH10251226A (en) | 1997-03-10 | 1997-03-10 | Benzophenone skeleton-containing peroxide, its production and use |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH10251226A (en) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2018110179A1 (en) * | 2016-12-13 | 2018-06-21 | 日油株式会社 | Peroxycinnamate derivative and polymerizable composition containing said compound |
JP2019043864A (en) * | 2017-08-31 | 2019-03-22 | 学校法人東京理科大学 | Benzophenone derivative having a peroxyester group, polymerizable composition containing the compound and cured product thereof, method for producing the cured product |
-
1997
- 1997-03-10 JP JP5530797A patent/JPH10251226A/en active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2018110179A1 (en) * | 2016-12-13 | 2018-06-21 | 日油株式会社 | Peroxycinnamate derivative and polymerizable composition containing said compound |
JP2019043864A (en) * | 2017-08-31 | 2019-03-22 | 学校法人東京理科大学 | Benzophenone derivative having a peroxyester group, polymerizable composition containing the compound and cured product thereof, method for producing the cured product |
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