JPH10246950A - マルチビーム記録装置の開口板製作方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 精密な露光パターンを形成するために投影レ
ンズが有する収差や各光学部材の組み付け、加工の誤差
を最小限に抑えようとすると、レンズ枚数の増加、加工
コストの増加を招く。 【解決手段】 基準開口板を配置してＬＥＤ４２を点灯
させ、感光体フィルム３上に基準開口の像を露光し(Ｓ.
１)、基準開口の像の実位置座標(Ym1(n), Zm1(n))を測
定する(Ｓ.２)。この実位置座標と基準開口の像の理想
位置座標(Y0(n),Z0(n))とをコンピュータに読み込ませ
(Ｓ.３)、座標軸の相対位置関係を調整する(Ｓ.４)。補
正された実位置座標(Y1(n), Z1(n))と、基準開口の位置
座標(HY1(n), HZ1(n))とを入力し(Ｓ.５)、像の実位置
座標から基準開口の位置座標へ射像する座標変換の変換
係数f(i, j), g(i, j)を求める(Ｓ.６)。基準開口の像
の理想位置座標と座標変換の変換係数とを入力し(Ｓ.
７)、理想位置座標を投影光学系で開口板に逆投影した
場合の補正開口の位置座標(HY2(n), HZ2(n))を求め(Ｓ.
８)、これに基づいて開口板を製作する(Ｓ.９)。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】この発明は、多数の発光素子
が配列して構成される光源部からの光を縮小投影して感
光材料面上に所定のパターンを露光するマルチビーム記
録装置における開口板制作方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】この種のマルチビーム記録装置は、例え
ばプリント基板を作成するための露光焼き付け用のマス
クに回路パターンを形成するために使用される。マルチ
ビーム記録装置の光学系は、二次元的に配列した多数の
発光素子を有する光源部と、光源部の各発光素子から発
する光束の範囲を制限する開口が形成された開口板と、
開口板を透過した光束を縮小投影する投影レンズとから
構成される。縮小投影レンズの投影位置には、感光材料
が配置される。光源部を所定のパターンにしたがって発
光させると、発光素子からの光束により感光材料上に開
口の像による露光パターンが形成されて感光物質を感光
させる。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】上述したマルチビーム
記録装置により精密な露光パターンを形成するために
は、各開口を透過した光束が感光材料上でそれぞれ所定
の設計位置に正確に結像する必要があり、そのためには
縮小投影レンズが有する収差や各光学部材の組み付け、
加工の誤差を最小限に抑える必要がある。しかしなが
ら、収差や組み付け、加工誤差を抑えるためにはレンズ
枚数の増加、加工コストの増加を招くという問題があ
る。

【０００４】この発明は、上述した従来技術の課題に鑑
み、レンズ枚数や加工コストの増加を伴わずに精密なパ
ターンを感光材料上に投影できるマルチビーム記録装置
を提供するためになされたものであり、装置毎の特性に
応じて開口像を所定の設計位置に結像させることができ
る開口板を製作する方法を提供することを目的とする。

【課題を解決するための手段】この発明にかかるマルチ
ビーム記録装置の開口板製作方法は、上記の目的を達成
させるため、所定の基準パターンで基準開口が配列した
基準開口板を開口板の位置に配置して光源を点灯させ、
投影光学系を介して被露光面上に基準開口の像を記録す
るテスト露光段階と、テスト露光段階で得られた基準開
口の像の実位置を測定する測定段階と、基準開口の位置
と基準開口の像の実位置とに基づいて投影光学系の作用
を座標変換として求める座標変換算出段階と、基準開口
の像の理想位置を投影光学系で前記開口板に投影した場
合の補正開口の位置を座標変換を用いて求める補正開口
位置算出段階とを有することを特徴とする。

【０００５】このようにして求めた補正開口の位置座標
に開口を形成して開口板を製作することにより、投影光
学系が誤差や収差を有する場合にも、理想位置に近い位
置に開口の像を形成することができる。

【０００６】

【発明の実施の形態】以下、この発明にかかるマルチビ
ーム記録装置の開口板作成方法の実施形態を説明する。
まず、図１に基づいてマルチビーム記録装置の概要につ
いて説明する。マルチビーム記録装置１００は、装置本
体ベース１と、回路パターンが作画される被走査面とし
ての感光フィルム３を載置し、装置本体ベース１に対し
てＹ方向にスライド可能な感光材搭載テーブル２と、感
光フィルム３上に投影パターンを形成する光照射ユニッ
ト４と、この光照射ユニット４を本体ベース１に対して
Ｙ方向に垂直なＺ方向にスライド可能に支持する光学ベ
ース５とから概略構成されている。

【０００７】テーブル２は、その下面がＹ方向に延びる
一対のレール２Ｒに沿ってガイドされた状態で、ボール
ねじ２Ｂを図示しないテーブル駆動モータにより回転さ
せることによって、光照射ユニット４により形成される
光源像に対して感光フィルム３をＹ方向に走査させる。
このＹ方向の走査により、感光フィルム３は帯状に露光
される。

【０００８】光学ベース５は、Ｚ方向に延びる一対のガ
イドレール５ＲにガイドされてＺ方向に移動可能となっ
ており、光学系駆動モータ５Ｍによってボールねじ５Ｂ
を回転させることにより、光照射ユニット４をＺ方向に
移動させる。このＺ方向の直線移動により、帯状の走査
領域が切り換えられる。

【０００９】光照射ユニット４には、装置本体ベース１
に設けられた位置検出用リニアスケール５Ｋを検出する
スケール検出ヘッド５Ｄが設けられており、光学系駆動
モータ５Ｍはスケール検出ヘッド５Ｄの検出信号に基づ
いてフィードバック制御される。なお、図示していない
が、感光材搭載テーブル２も同様の検出機構を備え、テ
ーブル駆動モータは検出結果に基づいてフィードバック
制御される。

【００１０】光照射ユニット４は、有効な面積を持つ複
数の光源が離散的に２次元配列された光源部と、光源の
像を被走査面上に形成する投影光学系とを備えている。
光源部は、図２に示されるようにプリント基板４１に取
り付けられた発光素子であるＬＥＤ(発光ダイオード)４
２と、各ＬＥＤ４２に対応してその前面に位置する開口
ＡＰが形成された開口板４３とから構成される。投影光
学系は、開口板４３側から順に配列した第１レンズ群４
４、および第２レンズ群４５からなる縮小光学系であ
り、開口板４３を透過したビームにより開口ＡＰの像を
光源像として感光フィルム３の表面に形成する。

【００１１】ＬＥＤ４２、およびＬＥＤ４２に対応して
開口パネル４３に形成された開口ＡＰは、Ｙ方向に沿う
配列を「列」、Ｚ方向に沿う配列を「行」とする二次元
行列として形成されており、走査方向であるＹ方向につ
いては、各列のＬＥＤ４２がＹ方向に対して角度を持つ
直線上に配置され、Ｚ方向については、各行のＬＥＤ４
２がＺ方向と平行な直線上に配置されている。

【００１２】感光フィルム３と光源像である開口ＡＰの
像とを相対的に走査させつつＬＥＤ４２を制御して、Ｚ
方向に離散的に配列した各行の開口像を所定ピッチづつ
ずらしながら複数行分重ねることにより、描画面上に隙
間なく二次元の画像を形成することができる。

【００１３】次に、上記のマルチビーム記録装置で使用
される開口板４３の製作方法について説明する。図３に
示されるように、投影光学系の光軸をＸ軸とし、Ｘ軸に
直交する開口板４３上の座標系で図１で示した走査方向
Ｙと平行な軸をＨＹ軸、Ｚ方向と平行な軸をＨＺ軸とす
る。また、Ｘ軸に直交する感光体フィルム３上の座標系
は、図１で示されるＹ方向と平行なＹ軸、Ｚ方向と平行
なＺ軸により規定される。いずれの座標系も、Ｘ軸との
交点が原点となる。

【００１４】開口板の製作工程は、図４に示されるよう
にＳ.１〜Ｓ.９の９段階から構成される。以下、各段階
について説明する。こられの段階のうち、Ｓ.３〜Ｓ.８
がコンピュータ上での演算により実行されるステップで
あり、これらについては後に詳細に説明する。

【００１５】Ｓ.１のテスト露光段階では、所定の基準
パターンで基準開口が配列した基準開口板を開口板４３
の位置に配置してＬＥＤ４２を点灯させ、感光体フィル
ム３上に基準開口の像を露光する。基準開口板は、基準
開口の位置座標データに基づいてフォトプロッター等の
描画装置により作成される。なお、テスト露光段階で
は、全てのＬＥＤを点灯させてもよいが、開口の像が一
回の露光でカバーされる範囲を含むエリア内で偏りなく
配分されている限り、部分的に複数のＬＥＤ４２を選択
して点灯させてもよい。

【００１６】Ｓ.２の測定段階では、テスト露光段階で
感光体フィルム３上に形成された基準開口の像の実位置
を感光体フィルム３上での二次元座標として測定する。
測定は、テスト露光で得られた感光体フィルムを座標測
定器のステージ上にセットして行われる。各像の中心位
置は、Ｙ-Ｚ座標系上での座標(Ym1(n), Zm1(n))で表わ
される。ここで、ｎはテスト露光により形成される開口
像のそれぞれに付された番号であり、例えば１００個の
像を形成する場合には１〜１００の値をとる。なお、テ
スト露光段階で全てのＬＥＤを発光させた場合には、形
成された開口の像の全点を測定する必要はなく、それら
を含むエリアに対して偏りがないような点を適当に選ん
で測定すればよい。露光段階で発光させるＬＥＤを選択
した場合には、形成された像の全点を測定すればよい。

【００１７】Ｓ.３のデータ読み込み段階では、上記の
測定段階で得られた基準開口の像の実位置座標(Ym1(n),
Zm1(n))と、基準開口の像の理想位置座標(Y0(n), Z0
(n))とがコンピュータに読み込まれる。理想位置座標
は、投影光学系が誤差を持たない場合の基準開口の像の
理想的な位置を示す。

【００１８】Ｓ.４の演算１は、Ｓ.３で読み込まれた基
準開口の像の実位置座標(Ym1(n), Zm1(n))と、基準開口
の像の理想位置座標(Y0(n), Z0(n))との座標軸の相対位
置関係を調整する座標軸調整段階に相当する演算であ
る。各像の位置についての実位置と理想位置との差の総
和が最小となるように一群の基準開口の像の実位置を像
相互の位置関係を保ちつつ、全体的に回転、移動させ
る。この演算１の操作により、後述する演算３で求めら
れる補正開口位置の基準開口位置からのずれを最小にす
ることができる。演算１により求められた補正された実
位置座標は、(Y1(n), Z1(n))で表される。

【００１９】Ｓ.５のデータ読み込み段階では、演算１
で補正された実位置座標(Y1(n), Z1(n))と、基準開口の
ＨＹ−ＨＺ座標系上での位置座標(HY1(n), HZ1(n))とが
入力される。Ｓ.６の演算２は、投影光学系の作用を、
実位置座標(Y1(n), Z1(n))から基準開口の位置座標(HY1
(n), HZ1(n))へ射像する逆投影の座標変換として捉え、
この座標変換の変換係数f(i, j), g(i, j)を求める座標
変換算出段階に相当する演算である。

【００２０】Ｓ.７のデータ読み込み段階では、基準開
口の像の理想位置座標(Y0(n), Z0(n))と、演算２で求め
られた座標変換の変換係数f(i, j), g(i, j)とが読み込
まれる。Ｓ.８の演算３は、Ｓ.７で読み込まれた基準開
口の像の理想位置座標(Y0(n), Z0(n))を投影光学系で開
口板に逆投影した場合の補正開口の位置座標(HY2(n),HZ
2(n))をＳ.６で求めた座標変換を用いて求める補正開口
位置算出段階に相当する演算である。

【００２１】最後に、Ｓ.９で、演算３により求められ
た補正開口位置に基づいて開口板を製作する。開口板
は、補正開口の位置座標データに基づき、描画装置によ
り作成される。このような方法により製作された開口板
を用いることにより、投影光学系に含まれる収差やレン
ズの偏心に基づく像の位置誤差を相殺することができ、
光学系の精度を変えることなく、感光体フィルム上に形
成されるパターンの精度を向上させることができる。

【００２２】続いて、上記のＳ.４、Ｓ.６、Ｓ.７の段
階で実行される演算１、演算２、演算３の内容について
詳細に説明する。Ｓ.４の演算１(座標軸調整)では、各
基準開口の像毎に対応する実位置と理想位置との距離の
２乗を求め、その総和が最小となるような座標変換を行
う。このとき、全ての開口に関して同等の重み付けをし
てもよいが、重要な開口、例えば隣接する帯状の走査範
囲との境となる両端の開口、に他の開口より大きな重み
付けをすることもできる。具体的には、第ｎ番目の開口
について、基準開口の像の実位置座標を(Yml(n), Zml
(n))として、調整後の実位置座標(Y1(n), Z1(n))を以下
の(1),(2)の変換式で表す。 Y1(n) = cosα・Ym1(n) − sinα・Zm1(n) + dY …(1) Z1(n) = sinα・Ym1(n) ＋ cosα・Zm1(n) + dZ …(2)

【００２３】(1),(2)式中、αは像の全体的な回転要
素、dY,dZはそれぞれＹ方向、Ｚ方向の平行移動要素を
示す係数である。そして、この変換式(1),(2)と、理想
位置座標(Y0(n)，Z0(n))、相対的重要度を示す荷重wa
(n)とに基づき、以下の(3)式で示される実位置と理想位
置との距離の２乗の総和Ｑａが最小となるように係数
α、dY、dZを求める。求められた係数にしたがい、(1),
(2)式により基準開口の像の実位置座標(Yml(n), Zml
(n))を座標軸調整による補正された実位置の座標(Y1
(n),Z1(n))に変換する。(3)式の符号nsは、演算の対象
となる開口の総数である。

【００２４】

【数１】

【００２５】なお、演算１の処理により、最終的に求め
られる補正開口の位置と基準開口の位置との差、すなわ
ち補正量を小さくすることができる。開口板の製作にと
って重要なのは、相互の開口の位置関係であり、この位
置関係が保たれている限り、全部の開口が一体に回転、
シフトしていたとしても、開口板の取り付け位置を調整
することにより補正が可能である。このため、演算１に
より回転、シフトによる要素を除外しても開口板の精度
には影響がない。

【００２６】Ｓ.６の演算２(座標変換算出)では、前述
のように投影光学系の作用を像の実位置座標(Y1(n), Z1
(n))から基準開口の位置座標(HY1(n), HZ1(n))へ射像す
る逆投影の座標変換として捉えて変換式を算出する。こ
れは像点を物点に移すレンズの逆投影の座標変換である
が、これとは逆に物点を像点に移すレンズの正投影の座
標変換も同様に考えることができる。座標変換はいろい
ろな形で表現されるが、ここではY、Zについての近似多
項式で表現する。具体的には、第ｎ番目の開口につい
て、基準開口の像の補正された実位置座標(Y1(n), Z1
(n))を逆投影したときの開口位置の座標(HYb(n), HZb
(n))を以下の(4),(5)に示す逆投影の変換式で表す。

【００２７】

【数２】

【００２８】(4),(5)式中、f(i,j)，g(i,j)は逆投影の
変換係数である。そして、この変換式(4),(5)と、基準
開口の位置座標を(HY1(n), HZ1(n))、相対的重要度を示
す荷重wb(n)とに基づき、以下の式(6)で示される逆投影
された開口の位置と基準開口の位置との距離の２乗の総
和Ｑｂが最小となるように変換係数f(i,j)，g(i,j)を最
小二乗法で求める。

【００２９】

【数３】

【００３０】Ｓ.８の演算３(補正開口位置算出)では、
上記の演算２で求められた変換係数f(i,j)，g(i,j)を
(4),(5)式に代入して逆投影の変換式を作り、基準開口
の像の理想位置座標(Y0(n)，Z0(n))を入力して逆投影さ
れた像が開口板上でいずれの位置に形成されるかを求め
る。求められた逆投影像の位置が、補正開口の位置座標
(HY2(n), HZ2(n))となる。すなわち、変換式(4),(5)の
像の実位置座標(Y1(n), Z1(n))を理想位置座標(Y0(n)，
Z0(n))に入れ替えることにより、式(7),(8)に示される
ように補正開口位置座標が求められる。なお、演算３に
ついては、全開口について逆投影の演算を実行して全て
の補正開口の位置を求める。 HY2(n)＝F(Y0(n), Z0(n)) …(7) HZ2(n)＝G(Y0(n), Z0(n)) …(8)

【００３１】次に、上述した実施形態の開口板製作方法
の実効性を確認するため、各段階を順に実行することに
よりどのようなデータが得られるかをコンピュータ上で
シミュレーションした結果を以下に説明する。この例で
は、投影光学系の一部のレンズが偏心した際に開口板の
位置をどのように補正すべきかを１０行１０列の１００
個の開口について求めている(ｎｓ＝100)。また、ここ
では、テスト露光をする代わりにレンズデータに基づい
て計算により光線追跡を行って開口像の実位置を求めて
いる。

【００３２】最初に与えられているデータは、標準的な
設計値通りの開口板の開口の座標(HY0(n), HZ0(n))、こ
の開口板を誤差のない投影光学系で投影した際に形成さ
れるべき開口の像の理想位置座標(Y0(n)，Z0(n))、そし
て投影光学系のレンズデータ(偏心要素なしのレンズデ
ータ１と偏心要素ありのレンズデータ２)である。ま
ず、理想位置座標(Y0(n)，Z0(n))を起点にレンズデータ
１を用いて光線追跡して、基準開口板の基準開口の位置
座標(HY1(n), HZ1(n))を求める。このようにして基準開
口の位置座標を定めることにより、偏心以外の誤差の影
響を除外することができる。これらのデータの具体的な
数値は、以下の表１、表２に示されている。

【００３３】

【表１】

【００３４】

【表２】

【００３５】次に、基準開口の座標(HY1(n), HZ1(n))を
起点にレンズデータ２を用いて光線追跡し、基準開口の
像の実位置を求めると共に、これら一群の像を全体的に
回転、シフトさせ、これを基準開口の像の実位置座標(Y
m1(n)，Zm1(n))とする。これらの計算がテスト露光段階
に相当する。基準開口の像の実位置に回転、シフトを故
意に与えることにより、演算１(座標軸調整)の有効性を
確認することができる。

【００３６】続いて、基準開口の像の実位置座標(Ym1
(n)，Zm1(n))に基づいて演算１を実行し、補正された像
の実位置座標(Y1(n)，Z1(n))を求める。ここで評価のた
め、基準開口の像の理想位置座標(Y0(n)，Z0(n))と補正
された像の実位置座標(Y1(n)，Z1(n))との差を各点毎に
求める。差は、各像点をY軸に投影した距離dY10(n)、Z
軸に投影した距離dZ10(n)、そして像点間の直線距離dR1
0(n)により表される。これらのデータの具体的な数値
は、以下の表３、表４に示されている。

【００３７】

【表３】

【００３８】

【表４】

【００３９】次に、補正された像の実位置座標(Y1(n)，
Z1(n))と基準開口の座標(HY1(n), HZ1(n))とに基づいて
演算２(座標変換算出)を実行して偏心を含む投影光学系
の作用を表す逆投影の座標変換の係数f(i, j), g(i, j)
を求める。係数f(i, j)のデータの具体的な数値は以下
の表５、表６に示されており、係数g(i, j)のデータの
具体的な数値は表７、表８に示されている。

【００４０】

【表５】

【００４１】

【表６】

【００４２】

【表７】

【００４３】

【表８】

【００４４】上記の演算２で求められた逆投影の座標変
換の式に開口の像の理想位置座標(Y0(n)，Z0(n))を代入
して、演算３(補正開口位置算出)を実行し、補正開口の
位置座標(HY2(n), HZ2(n))を求める。演算３により、こ
の例で用いられている偏心を含むレンズデータ２で表さ
れる投影光学系に適した開口板の開口位置座標を求める
ことができる。

【００４５】なお、ここでは、評価のために補正された
開口板を用いて投影した場合の各像点の位置を求めて基
準開口板を用いた場合の像点位置と比較する。そこで、
補正開口の位置座標(HY2(n), HZ2(n))を起点にレンズデ
ータ２を用いて光線追跡することにより、補正開口の像
の位置座標を計算すると共に、求められた座標に演算１
と同様に開口の像の理想位置座標(Y0(n)，Z0(n))との誤
差が小さくなるよう座標調整の補正をかけ、補正された
座標を補正開口の像の位置座標(Y2(n)，Z2(n))とする。

【００４６】続いて、基準開口の像の理想位置座標(Y0
(n)，Z0(n))と補正された補正開口の像の位置座標(Y2
(n)，Z2(n))との差を各点毎に求める。差は、各像点をY
軸に投影した距離dY20(n)、Z軸に投影した距離dZ20
(n)、そして像点間の直線距離dR20(n)により表される。
補正開口の位置座標(HY2(n), HZ2(n))、補正開口の像の
位置座標(Y2(n)，Z2(n))、および各距離のデータの具体
的な数値は、以下の表９、表１０に示されている。

【００４７】

【表９】

【００４８】

【表１０】

【００４９】この発明の開口板製作方法の効果は、開口
の像の理想位置と補正前の開口板を用いて投影される像
の位置との差dR10(n)と、開口の像の理想位置と補正後
の開口板を用いて投影される像の位置との差dR20(n)と
を比較することにより評価することができる。この例で
は、表３、４の最も右側の列の数値dR10(n)と比較し
て、表９、１０の最も右側の列の数値dR20(n)が顕著に
小さくなっていることから理解できるように、補正開口
板を用いることにより開口の像の位置を理想位置に近づ
けることができ、描画されるパターンの精度を高めるこ
とができる。

【００５０】図５は、開口板上での開口の配列を示すグ
ラフであり、基準開口の位置座標(HY1(n), HZ1(n))を記
号「□」で、補正開口の位置座標(HY2(n), HZ2(n))を記
号「・」で表示している。このグラフでは、基準開口の
位置座標がHY-HZ座標上のスケールで表されており、補
正開口の位置座標は、各像点毎に基準開口からの偏差と
して表されている。座標系のスケールは、１００個の開
口全体をカバーするよう定められており、これと同一の
スケールで偏差を示すと基準開口と補正開口とが殆ど重
なってしまうため、偏差のスケールは図中右上に示され
るように座標軸とは異なるドット間スケールで表されて
いる。すなわち、補正開口は、座標系上の正確な位置に
プロットされているのではなく、対応する基準開口から
いずれの方向にどれだけ偏差を持つのかが表されてい
る。

【００５１】図６は、像面上での像点の配列を示すグラ
フであり、基準開口の像の理想位置座標(Y0(n)，Z0(n))
を記号「□」で、補正前の基準開口板を用いて投影され
る像の補正された実位置座標(Y1(n)，Z1(n))を記号
「・」で表示している。このグラフでも、図５と同様に
理想位置座標がY-Z座標系のスケールで表されており、
実位置座標は対応する像点の理想位置からの偏差として
図中右上のドット間スケールで表されている。対応する
記号「□」と「・」との直線距離が前述の距離dR10(n)
を表している。

【００５２】図７は、図６と同様像面上での像点の配列
を示すグラフであり、基準開口の像の理想位置座標(Y0
(n)，Z0(n))を記号「□」で、補正開口板を用いて投影
される像の補正された実位置座標(Y2(n)，Z2(n))を記号
「・」で表示している。このグラフでも、図６と同様に
理想位置座標がY-Z座標系のスケールで表されており、
実位置座標は対応する像点の理想位置からの偏差として
図中右上のドット間スケールで表されている。対応する
記号「□」と「・」との直線距離が前述の距離dR20(n)
を表している。ただし、図６と図７とではドット間スケ
ールが10：1で異なり、図６における偏差は、図７にお
ける偏差の１／１０のスケールで表されている。すなわ
ち、図６を図７のドット間スケールで表現すると、図中
における偏差を表す線の長さが１０倍になる。

【００５３】図６と図７とを比較することにより、補正
開口板を用いることにより開口の像の位置が理想位置に
近づくことが理解できる。なお、上記のシミュレーショ
ンでは、レンズの偏心による影響を補正するよう開口位
置を求めたが、他の誤差、収差による開口像の位置ずれ
も同様に補正することが可能である。

【００５４】

【発明の効果】以上説明したように、この発明の開口板
製作方法によれば、投影光学系が開口の像位置を所定の
設計位置からずらすような誤差、収差を有する場合に
も、個々の投影光学系の誤差に応じて開口の位置を補正
することにより、投影光学系の加工、組立精度を上げる
ことなく、開口の像の位置を設計値に近づけることがで
きる。開口の位置は、投影光学系の作用を座標変換とし
て捉えることによりコンピュータ上で演算により求める
ことができ、光学系の精度を向上させる場合と比較する
と、低コストで同等の効果を得ることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】 実施形態の開口板製作方法が適用されるマル
チビーム記録装置の全体構成を示す斜視図である。

【図２】 図１の装置の光照射ユニットの光学系を示す
説明図である。

【図３】 演算のための座標系の設定を示す説明図であ
る。

【図４】 実施形態の開口板製作方法の行程を示すフロ
ーチャートである。

【図５】 開口板上での開口の配列を示すグラフであ
り、基準開口の位置座標と補正開口の位置の基準開口か
らの偏差を示す。

【図６】 像面上での像点の配列を示すグラフであり、
基準開口の像の理想位置座標と基準開口板を用いて投影
される像の補正された実位置の理想位置からの偏差を示
す。

【図７】 像面上での像点の配列を示すグラフであり、
基準開口の像の理想位置座標と補正開口板を用いて投影
される像の補正された実位置の理想位置からの偏差を示
す。

【符号の説明】

３ 感光体フィルム ４ 光照射ユニット ４１ プリント基板 ４２ ＬＥＤ ４３ 開口板 ４４ 第１レンズ群 ４５ 第２レンズ群

Claims (9)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 二次元に配列した複数の光源からの光束
   を該光源に対応して形成された開口板の開口を通して投
   影光学系に入射させ、該投影光学系を介して前記開口の
   像を被露光面上に投影してパターンを記録するマルチビ
   ーム記録装置の開口板製作方法において、 所定の基準パターンで基準開口が配列した基準開口板を
   前記開口板の位置に配置して前記光源を点灯させ、前記
   投影光学系を介して前記被露光面上に前記基準開口の像
   を記録するテスト露光段階と、 前記テスト露光段階で得られた前記基準開口の像の実位
   置を測定する測定段階と、 前記基準開口の位置と前記基準開口の像の実位置とに基
   づいて前記投影光学系の作用を座標変換として求める座
   標変換算出段階と、 前記基準開口の像の理想位置を前記投影光学系で前記開
   口板に投影した場合の補正開口の位置を前記座標変換を
   用いて求める補正開口位置算出段階とを有することを特
   徴とするマルチビーム記録装置の開口板製作方法。
2. 【請求項２】 前記補正開口位置算出段階で求められた
   前記補正開口位置に基づいて開口を形成する開口板作成
   段階をさらに有することを特徴とする請求項１に記載の
   マルチビーム記録装置の開口板製作方法。
3. 【請求項３】 前記測定段階で得られた前記基準開口の
   像の実位置の座標軸と、前記基準開口の像の理想位置と
   の相対位置関係を調整する座標軸調整段階をさらに備
   え、前記座標変換算出段階は、前記座標軸調整段階によ
   り調整された像の位置に基づいて実行されることを特徴
   とする請求項１に記載のマルチビーム記録装置の開口板
   製作方法。
4. 【請求項４】 前記座標軸調整段階では、前記基準開口
   の像の実位置と理想位置との差が小さくなるように座標
   軸の相対位置関係が調整されることを特徴とする請求項
   ３に記載のマルチビーム記録装置の開口板製作方法。
5. 【請求項５】 前記実位置と理想位置との差は、対象と
   なる基準開口の像の実位置の座標と対応する理想位置の
   座標とのずれの総和として計算されることを特徴とする
   請求項４に記載のマルチビーム記録装置の開口板製作方
   法。
6. 【請求項６】 前記総和の計算において、対象となる基
   準開口毎に重要度に応じて個別の重み付けをすることを
   特徴とする請求項５に記載のマルチビーム記録装置の開
   口板製作方法。
7. 【請求項７】 前記座標変換算出段階では、前記基準開
   口の像の実位置の座標に基づいて逆変換された開口板上
   での開口の座標と前記基準開口の座標との誤差が小さく
   なるように前記座標変換の係数が求められることを特徴
   とする請求項１に記載のマルチビーム記録装置の開口板
   製作方法。
8. 【請求項８】 前記逆変換された開口と前記基準開口と
   の差は、対象となる逆変換された開口の座標と対応する
   基準開口の座標とのずれの総和として計算されることを
   特徴とする請求項７に記載のマルチビーム記録装置の開
   口板製作方法。
9. 【請求項９】 前記総和の計算において、対象となる基
   準開口毎に重要度に応じて個別の重み付けをすることを
   特徴とする請求項８に記載のマルチビーム記録装置の開
   口板製作方法。