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JPH1024516A - Transparent conductive laminate and transparent tablet - Google Patents

Transparent conductive laminate and transparent tablet

Info

Publication number
JPH1024516A
JPH1024516A JP18063596A JP18063596A JPH1024516A JP H1024516 A JPH1024516 A JP H1024516A JP 18063596 A JP18063596 A JP 18063596A JP 18063596 A JP18063596 A JP 18063596A JP H1024516 A JPH1024516 A JP H1024516A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
transparent conductive
layer
transparent
conductive laminate
laminated
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP18063596A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP3388099B2 (en
Inventor
Tatsuichiro Kin
辰一郎 金
Hitoshi Mikoshiba
均 御子柴
Toshiaki Yatabe
俊明 谷田部
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Teijin Ltd
Original Assignee
Teijin Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Teijin Ltd filed Critical Teijin Ltd
Priority to JP18063596A priority Critical patent/JP3388099B2/en
Publication of JPH1024516A publication Critical patent/JPH1024516A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP3388099B2 publication Critical patent/JP3388099B2/en
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Expired - Lifetime legal-status Critical Current

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To make a transparent electrode substrate having good slidability and high light transmittance by laminating a surface roughening layer on the side on which a transparent conductive layer on a substrate the surface roughness of which is specified and specifying the surface roughness. SOLUTION: As for a transparent conductive laminate, in the transparent conductive laminate which is formed by laminating a transparent conductive layer on one surface of a substrate of an organic polymer molding, with regard to the surface roughness of the substrate, the average roughness of the central surface is made to be less than 0.003μm. A surface roughening layer is laminated on the side on which the transparent conductive layer on the substrate is laminated, and as the transparent conductive laminate, with regard to the surface roughness of the surface on the side on which the transparent conductive layer is laminated, the average roughness of the central surface is made to be 0.003-0.04μm. Concerning a transparent tablet, in a transparent tablet in which two transparent electrode substrates are arranged so that the electrode surfaces faces each other, the transparent conductive laminate is to be used as one transparent electrode substrate.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、有機高分子成型物
からなる基板の一方の面上に、透明導電層が積層されて
なる透明導電性積層体、およびこの透明導電性積層体を
用いて作成される透明タブレットに関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a transparent conductive laminate in which a transparent conductive layer is laminated on one surface of a substrate made of an organic polymer molded product, and a method using the transparent conductive laminate. It is about the transparent tablet to be created.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、情報表示用の液晶ディスプレーと
情報入力用の透明タブレット(タッチスイッチ、タッチ
パネル、フラットスイッチとも称される)を搭載した携
帯型の情報機器が広く使用され始めている。透明タブレ
ットとして多く用いられている抵抗膜方式の透明タブレ
ットは、透明導電層が形成された二枚の透明電極基板が
およそ10μm前後の間隔で相対させて構成されてお
り、外力を加えた部分のみで両電極が接触してスイッチ
として動作するものであり、例えばディスプレー画面上
のメニューの選択あるいは図形や手書き文書の入力等を
行なうことができる。
2. Description of the Related Art In recent years, portable information devices equipped with a liquid crystal display for displaying information and a transparent tablet for inputting information (also referred to as touch switches, touch panels, and flat switches) have begun to be widely used. The resistive film type transparent tablet, which is often used as a transparent tablet, is composed of two transparent electrode substrates with a transparent conductive layer formed facing each other at an interval of about 10 μm. The two electrodes contact each other to operate as a switch. For example, menu selection on a display screen or input of a figure or a handwritten document can be performed.

【0003】従来、透明タブレットは、液晶ディスプレ
ー上に一定の間隔をあけて配置されていたが、最近で
は、軽量化や薄型化、透過率の向上や視差低減等の目的
で、液晶ディスプレーの上部偏光板と液晶セルとの間に
タブレットを挿入した入力表示一体のタブレットが検討
されはじめている。
Conventionally, transparent tablets have been arranged at regular intervals on a liquid crystal display. Recently, however, the upper part of the liquid crystal display has been used to reduce the weight and thickness, improve the transmittance, and reduce parallax. A tablet with an integrated input display, in which a tablet is inserted between a polarizing plate and a liquid crystal cell, is being studied.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】この入力表示一体のタ
ブレットにおいては、タブレットが二枚の偏光板に挟ま
れた構造になっているために、タブレットに用いられる
透明電極基板が光学等方性である必要性がある。すなわ
ち、透明電極基板の光学等方性が劣る場合には、リタデ
ーションの存在による着色現象や視認性の低下といった
パネル表示性能の低下が課題となる。特に、タブレット
の上部の透明電極基板には可撓性が必要である事からポ
リカーボネート、ポリアリレート等の光学等方性の有機
高分子フィルムが好ましく用いられる。また、下部の透
明電極基板には、ガラスや前記の光学等方性の有機高分
子フィルム、有機高分子シート等が用いられる。
In the tablet integrated with input display, the tablet is sandwiched between two polarizing plates, so that the transparent electrode substrate used in the tablet is optically isotropic. There is a need. That is, when the optical isotropy of the transparent electrode substrate is inferior, there is a problem of a reduction in panel display performance such as a coloring phenomenon and a decrease in visibility due to the presence of retardation. In particular, an optically isotropic organic polymer film such as polycarbonate or polyarylate is preferably used because the transparent electrode substrate on the tablet needs flexibility. For the lower transparent electrode substrate, glass, the above-mentioned optically isotropic organic polymer film, organic polymer sheet, or the like is used.

【0005】ここで、これらの透明電極基板の導電面の
平坦性が非常に高い場合には、入力時に上下の透明電極
基板が密着して離れにくくなる等の動作不良が発生する
課題がある。また、電極面とは反対側の面に関しても、
表面の平坦性が非常に高い場合には、タブレット作成時
に於けるエッチングや印刷、ヒートシール等の諸工程に
おいて、透明電極基板が搬送されるライン上に密着して
離れにくくなる等のハンドリング上の課題が発生する。
[0005] Here, if the flatness of the conductive surface of these transparent electrode substrates is extremely high, there is a problem that an operation failure occurs such that the upper and lower transparent electrode substrates are in close contact with each other and difficult to separate during input. Also, regarding the surface opposite to the electrode surface,
When the flatness of the surface is extremely high, in various processes such as etching, printing, and heat sealing at the time of tablet production, it is difficult to separate the transparent electrode substrate from the line to be conveyed. Challenges arise.

【0006】また、一般に、抵抗膜方式の透明タブレッ
トにおいては、上下の透明電極基板間の距離が小さくな
った時に、両方の電極表面からの反射光が干渉して強い
光干渉縞(ニュートンリング)を発生し、視認性が低下
する場合がある。この光干渉縞を防止するためには、電
極表面を適当な粗度に粗面化して、反射光を散乱性にす
ることが有効である。しかしながら、この方法では、電
極基板のヘイズの増加を伴い、光透過率や視認性が低下
する課題があった。
Generally, in a transparent tablet of the resistive film type, when the distance between the upper and lower transparent electrode substrates is reduced, reflected light from both electrode surfaces interferes with each other, resulting in strong light interference fringes (Newton rings). May occur and visibility may be reduced. In order to prevent the light interference fringes, it is effective to roughen the electrode surface to an appropriate roughness to make the reflected light scattered. However, this method has a problem that the light transmittance and the visibility are reduced with an increase in the haze of the electrode substrate.

【0007】本発明は、これらの課題を解決すべくため
されたものであり、滑り性に優れ、光透過率の高い透明
電極基板を得ることを目的とし、さらに、この透明電極
基板を用いて、動作不良や光干渉縞の発生の少ない、高
透過率で低ヘイズの透明タブレットを得ることを目的と
している。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve these problems, and has as its object to obtain a transparent electrode substrate having excellent slipperiness and high light transmittance. It is an object of the present invention to obtain a transparent tablet having a high transmittance and a low haze, which is less likely to cause malfunction and optical interference fringes.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】本発明の透明導電性積層
体は、有機高分子成型物からなる基板の一方の面上に、
透明導電層が積層されてなる透明導電性積層体におい
て、基板は表面粗さが中心面平均粗さ(SRa)で0.
003μm未満であり、基板上の少なくとも透明導電層
が積層された側には粗面化層が積層され、透明導電性積
層体としては少なくとも透明導電層が積層された側の表
面の表面粗さが中心面平均粗さ(SRa)で0.003
〜0.04μmであることを特徴としている。また本発
明の透明タブレットは、二枚の透明電極基板が電極面を
相対して配置される透明タブレットにおいて、少なくと
も一方の透明電極基板として、本発明の透明導電性積層
体を用いたことを特徴としている。
Means for Solving the Problems The transparent conductive laminate of the present invention is formed on one surface of a substrate made of an organic polymer molded product.
In the transparent conductive laminate in which the transparent conductive layers are laminated, the substrate has a surface roughness of 0. 0 in center plane average roughness (SRa).
003 μm or less, a surface roughening layer is laminated on at least the side on which the transparent conductive layer is laminated on the substrate, and the surface roughness of at least the surface on which the transparent conductive layer is laminated is a transparent conductive laminate. 0.003 in center plane average roughness (SRa)
0.00.04 μm. Further, the transparent tablet of the present invention is characterized in that the transparent conductive laminate of the present invention is used as at least one transparent electrode substrate in a transparent tablet in which two transparent electrode substrates are arranged with their electrode surfaces facing each other. And

【0009】すなわち本発明の透明導電性積層体は、平
滑性に優れた有機高分子成型物上の少なくとも導電面に
易滑性の層を積層することを特徴としている。易滑性は
一般に基体の表面粗さと関係していると考えられるが、
本発明者らの検討によれば良好な易滑性の発現には、積
層体としてはその表面粗さが中心面平均粗さ(SRa)
で0.003μm以上であることが好ましく、0.00
3μm未満では滑り性が低く前述の諸課題を発生する場
合が多いことがわかった。また中心面平均粗さ(SR
a)が大きくなると、ヘイズ値が増加する。このため本
発明の積層体においては中心面平均粗さ(SRa)は
0.04μm以下とすることが必要である。
That is, the transparent conductive laminate of the present invention is characterized in that a slippery layer is laminated on at least the conductive surface on an organic polymer molded product having excellent smoothness. Although slipperiness is generally considered to be related to the surface roughness of the substrate,
According to the study of the present inventors, the surface roughness of the laminate is determined by the center plane average roughness (SRa) in order to develop good lubricity.
Is preferably 0.003 μm or more,
It was found that when the thickness was less than 3 μm, the slipperiness was low and the above-mentioned problems often occurred. The center plane average roughness (SR
As a) increases, the haze value increases. For this reason, in the laminate of the present invention, the center plane average roughness (SRa) needs to be 0.04 μm or less.

【0010】なおここで中心面平均粗さ(SRa)と
は、JIS B 0601記載の中心線平均粗さ(R
a)を三次元に拡張したものであり、次のように定義す
る。まず、粗さ曲面からその中心面上に面積Smの部分
を抜き取り、この抜き取り部分の中心面上に直交座標軸
としてX軸とY軸を置く。さらに中心面に直交する軸を
Z軸とし、粗さ曲面をz=f(x,y)で表した場合、
次式(イ)にて求められる値SRa(μm)を中心面平
均粗さと呼ぶ。尚、次式(イ)内でLx・Ly=Smで
ある。
[0010] Here, the center plane average roughness (SRa) is defined as the center line average roughness (R) described in JIS B0601.
This is a three-dimensional extension of a), and is defined as follows. First, a portion having an area Sm is extracted from the roughness curved surface on the center surface thereof, and the X-axis and the Y-axis are placed on the center surface of the extracted portion as orthogonal coordinate axes. Further, when an axis perpendicular to the center plane is defined as a Z-axis and the roughness surface is represented by z = f (x, y),
The value SRa (μm) obtained by the following equation (a) is called the center plane average roughness. Note that Lx · Ly = Sm in the following equation (A).

【0011】[0011]

【数1】 (Equation 1)

【0012】このため、中心面平均粗さが0.003μ
m未満の有機高分子成型物からなる基板、例えば、内部
にフィラーが添加される事の少ない、ポリカーボネー
ト、ポリアリレート等の非晶性の有機高分子成型物等を
基板に用いた場合、基板上に粗面化層を設けることで、
積層体としての表面の中心面平均粗さ(SRa)を0.
003〜0.04μmとする。本発明においてこの粗面
化層は、前述の課題を解決するためにも、基板上の少な
くとも透明導電層が積層された側に積層されることが必
要である。さらに透明導電性積層体としての用途に応じ
ては、粗面化層は基板の両側に形成され、透明導電性積
層体としては両側の表面の表面粗さが中心面平均粗さ
(SRa)で0.003〜0.04μmであることがよ
り好ましい。
For this reason, the center plane average roughness is 0.003 μm.
m, a substrate made of an organic polymer molded product having a particle size of less than m, for example, when an amorphous organic polymer molded product such as a polycarbonate or a polyarylate is used as a substrate, in which a filler is rarely added, By providing a roughening layer on the
The center plane average roughness (SRa) of the surface of the laminate is set to 0.
003 to 0.04 μm. In the present invention, in order to solve the above-mentioned problem, it is necessary that the roughened layer is laminated on at least the side on which the transparent conductive layer is laminated on the substrate. Further, depending on the use as the transparent conductive laminate, the surface roughening layer is formed on both sides of the substrate, and the surface roughness of the surfaces on both sides of the transparent conductive laminate is the center plane average roughness (SRa). More preferably, it is 0.003 to 0.04 μm.

【0013】そして粗面化層は、易滑加工、すなわち基
板表面に適当な密度で微小な突起を形成するような加工
を行なうことにより設けることができる。具体的には、
フィラーとしての微粒子を分散した塗膜をコーティング
する方法や、基材にエンボス加工やサンドブラスト加工
等の機械的加工を加える方法等が例示されるが、工程の
簡便性の観点からは、フィラーとしての微粒子を分散し
た塗膜をコーティングする方法が好ましく用いられる。
The roughened layer can be provided by smooth processing, that is, processing for forming minute projections at an appropriate density on the substrate surface. In particular,
Examples include a method of coating a coating film in which fine particles are dispersed as a filler, and a method of applying mechanical processing such as embossing or sand blasting to a base material, but from the viewpoint of simplicity of the process, A method of coating a coating film in which fine particles are dispersed is preferably used.

【0014】ここで、フィラーとしての微粒子を分散し
た塗膜をコーティングする場合、フィラーを分散した事
による塗膜強度の低下や光散乱によるヘイズの上昇を最
小限に抑える必要があるが、本発明者らの検討によれ
ば、平均一次粒径が塗膜の膜厚対比小さいフィラーを用
いた場合、易滑性の発現のためにはフィラーを多く添加
する必要が生じ、ヘイズの増加や塗膜強度の低下等の悪
影響が観られることがわかった。これは、フィラーの一
次粒径が小さいと、塗膜内部に完全に埋もれて粗面化に
全く寄与しないフィラーの割合が非常に多くなるためで
あると考えられる。これらの事から、一次粒径が塗膜の
膜厚対比大きいフィラーを用いることが好ましいが、フ
ィラーの一次粒径が膜厚の3倍を越える場合には、フィ
ラーの固着性が低下する傾向が観られるため、フィラー
として用いる微粒子の平均一次粒径は塗膜の膜厚の約
1.1〜3倍の範囲にあることが好ましい。
Here, when coating a coating film in which fine particles as a filler are dispersed, it is necessary to minimize a decrease in coating film strength due to the dispersion of the filler and an increase in haze due to light scattering. According to the study of the present inventors, when a filler having an average primary particle size smaller than the film thickness of the coating film is used, it is necessary to add a large amount of the filler in order to develop the lubricity, which increases the haze and the coating film. It was found that adverse effects such as a decrease in strength were observed. This is considered to be because if the primary particle size of the filler is small, the proportion of the filler which is completely buried in the coating film and does not contribute to the surface roughening becomes extremely large. For these reasons, it is preferable to use a filler having a primary particle size larger than the film thickness of the coating film. However, if the primary particle size of the filler exceeds three times the film thickness, the fixability of the filler tends to decrease. For this reason, it is preferable that the average primary particle size of the fine particles used as a filler is in a range of about 1.1 to 3 times the thickness of the coating film.

【0015】塗膜へのフィラー微粒子の添加量は、重量
比率で0.05〜0.5%の範囲にあることが好まし
い。添加量が0.05%に満たない場合には充分な易滑
性が得られず、逆に0.5%を越える場合にはヘイズが
不必要に増加していくので好ましくない。そうしたフィ
ラーとして添加する微粒子としては、塗工液中で微粒子
の凝集や沈降が起こりにくいものを用いることが好まし
く、具体的には市販の有機シリコン微粒子や架橋アクリ
ル微粒子、架橋ポリスチレン微粒子等が好ましく用いら
れる。
[0015] The amount of the filler particles added to the coating film is preferably in the range of 0.05 to 0.5% by weight. If the amount is less than 0.05%, sufficient lubricity cannot be obtained, and if it exceeds 0.5%, haze unnecessarily increases, which is not preferable. As the fine particles to be added as such a filler, it is preferable to use those that hardly cause aggregation and sedimentation of the fine particles in the coating solution, and specifically, commercially available organic silicon fine particles, crosslinked acrylic fine particles, crosslinked polystyrene fine particles, and the like are preferably used. Can be

【0016】ところで、これら粗面化された塗膜(以下
粗面化層と記す)は、導電層のエッチング時に使用され
る酸性水溶液やアルカリ性水溶液等への耐溶剤性等、後
述の評価法において十分な耐溶剤性を有していることが
より好ましい。このような耐溶剤性を有する塗膜として
は、例えば、アクリル系樹脂の放射線架橋層やフェノキ
シ系樹脂の熱架橋層、エポキシ系樹脂の熱架橋層および
ケイ素アルコキシドの熱架橋層等の各種樹脂架橋層が挙
げられる。これらの中でも、アクリル系樹脂の放射線架
橋層は、放射線の照射により比較的短時間に架橋度の高
い層が得られる事から、製造プロセスへの負荷が少ない
特徴があり、最も好ましく用いられる。
By the way, the roughened coating film (hereinafter referred to as a roughened layer) is used to evaluate the solvent resistance to an acidic aqueous solution or an alkaline aqueous solution used at the time of etching the conductive layer. More preferably, it has sufficient solvent resistance. Examples of the coating film having such solvent resistance include various resin crosslinking such as a radiation crosslinking layer of an acrylic resin, a thermal crosslinking layer of a phenoxy resin, a thermal crosslinking layer of an epoxy resin, and a thermal crosslinking layer of a silicon alkoxide. Layers. Among them, the radiation-crosslinked layer of an acrylic resin is most preferably used because it has a feature that a layer having a high degree of cross-linking can be obtained in a relatively short time by irradiation with radiation, so that the load on the production process is small.

【0017】放射線架橋型樹脂は、紫外線や電子線等の
放射線を照射する事によって架橋が進行する樹脂を指
し、単位構造内に2個以上のアクリロイル基を有する多
官能アクリレート成分を樹脂組成中に含有するアクリル
系樹脂が挙げられる。例えばトリメチロールプロパント
リアクリレート、トリメチロールプロパンエチレンオキ
サイド変性トリアクリレート、トリメチロールプロパン
プロピレンオキサイド変性トリアクリレート、イソシア
ヌル酸エチレンオキサイド変性トリアクリレート、ペン
タエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリス
リトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトール
ヘキサアクリレート、ジメチロールトリシクロデカンジ
アクリレート等の各種アクリレートモノマーや、ポリエ
ステル変性もしくはウレタン変性、エポキシ変性の多官
能アクリレートオリゴマー等が本用途に好ましく用いら
れる。これらの樹脂は単独の組成で用いても、数種の混
合組成で用いても良く、また場合によっては、各種ケイ
素アルコキシドの加水分解物を組成中に適量添加するこ
とも好ましく行われる。
A radiation cross-linkable resin is a resin that undergoes cross-linking when irradiated with radiation such as ultraviolet rays or electron beams. A polyfunctional acrylate component having two or more acryloyl groups in a unit structure is contained in the resin composition. Acrylic resin contained. For example, trimethylolpropane triacrylate, trimethylolpropane ethylene oxide modified triacrylate, trimethylolpropane propylene oxide modified triacrylate, isocyanuric acid ethylene oxide modified triacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol pentaacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, Various acrylate monomers such as dimethylol tricyclodecane diacrylate, and polyester-modified, urethane-modified, and epoxy-modified polyfunctional acrylate oligomers are preferably used for this purpose. These resins may be used in a single composition or in a mixture of several kinds. In some cases, it is also preferable to add appropriate amounts of hydrolysates of various silicon alkoxides to the composition.

【0018】なお、紫外線照射によって樹脂層の架橋を
行う場合には公知の光反応開始剤が適量添加される。光
反応開始剤としては、例えばジエトキシアセトフェノ
ン、2−メチル−1−{4−(メチルチオ)フェニル}
−2−モルフォリノプロパン、2−ヒドロキシ−2−メ
チル−1−フェニルプロパン−1−オン、1−ヒドロキ
シシクロヘキシルフェニルケトン等のアセトフェノン系
化合物;ベンゾイン、ベンジルジメチルケタール等のベ
ンゾイン系化合物;ベンゾフェノン、ベンゾイル安息香
酸等のベンゾフェノン系化合物;チオキサンソン、2、
4−ジクロロチオキサンソン等のチオキサンソン系化合
物等が挙げられる。
When crosslinking the resin layer by irradiating ultraviolet rays, a known photoreaction initiator is added in an appropriate amount. Examples of the photoreaction initiator include diethoxyacetophenone and 2-methyl-1- {4- (methylthio) phenyl}.
Acetophenone compounds such as -2-morpholinopropane, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one and 1-hydroxycyclohexylphenyl ketone; benzoin compounds such as benzoin and benzyldimethylketal; benzophenone and benzoyl Benzophenone compounds such as benzoic acid; thioxanthone, 2,
And thioxanthone compounds such as 4-dichlorothioxanthone.

【0019】また、フェノキシ系樹脂の熱架橋層として
は、下記一般式(1)で示されるフェノキシ樹脂、フェ
ノキシエーテル樹脂、フェノキシエステル樹脂を多官能
イソシアネート化合物で熱的に架橋させた層が挙げられ
る。
The thermally crosslinked layer of the phenoxy resin includes a layer obtained by thermally crosslinking a phenoxy resin, a phenoxyether resin, or a phenoxyester resin represented by the following general formula (1) with a polyfunctional isocyanate compound. .

【0020】[0020]

【化1】 Embedded image

【0021】ここでR1〜R6は、同一または異なる水素
または炭素数1〜3のアルキル基、R7は炭素数2〜5
のアルキレン基、Xはエーテル基、エステル基、mは0
〜3の整数、nは20〜300の整数をそれぞれ意味す
る。そうした中でも特にR1、R2はメチル基、R3〜R6
は水素、R7はペンチレン基のものが、合成が容易で生
産性の面から好ましい。
Here, R 1 to R 6 are the same or different hydrogen or an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, and R 7 is 2 to 5 carbon atoms.
X is an ether group, an ester group, and m is 0
An integer of 3 to 3, and n means an integer of 20 to 300, respectively. Among them, particularly, R 1 and R 2 are methyl groups, R 3 to R 6
Is preferably hydrogen, and R 7 is preferably a pentylene group, from the viewpoint of easy synthesis and productivity.

【0022】また、多官能イソシアネート化合物として
は、一分子中にイソシアネート基を二つ以上含有する化
合物であれば良く、以下のものが例示される。2,6−
トリレンジイソシアネート、2,4−トリレンジイソシ
アネート、トリレンジイソシアネート−トリメチロール
プロパンアダクト体、t−シクロヘキサン−1,4−ジ
イソシアネート、m−フェニレンジイソシアネート、p
−フェニレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソ
シアネート、1,3,6−ヘキサメチレントリイソシア
ネート、イソホロンジイソシアネート、1,5−ナフタ
レンジイソシアネート、トリジンジイソシアネート、キ
シリレンジイソシアネート、水添キシリレンジイソシア
ネート、ジフェニルメタン−4,4′−ジイソシアネ−
ト、水添ジフェニルメタン−4,4′−ジイソシアネー
ト、リジンジイソシアネート、リジンエステルトリイソ
シアネート、トリフェニルメタントリイソシアネート、
トリス(イソシアネートフェニル)チオホスフェート、
m−テトラメチルキシリレンジイソシアネート、p−テ
トラメチルキシリレンジイソシアネート、1,6,11
−ウンデカントリイソシアネート、1,8−ジイソシア
ネート−4−イソシアネートメチルオクタン、ビシクロ
ヘプタントリイソシアネート、2,2,4−トリメチル
ヘキサメチレンジイソシアネート、2,4,4−トリメ
チルヘキサメチレンジイソシアネート等のポリイソシア
ネートおよびそれらの混合物あるいは多価アルコール付
加体等。この中でも特に汎用性、反応性の観点から2,
6−トリレンジイソシアネート、2,4−トリレンジイ
ソシアネート、トリレンジイソシアネート−トリメチロ
ールプロパンアダクト体、ヘキサメチレンジイソシアネ
ートが好ましい。
The polyfunctional isocyanate compound may be any compound containing two or more isocyanate groups in one molecule, and examples thereof include the following. 2,6-
Tolylene diisocyanate, 2,4-tolylene diisocyanate, tolylene diisocyanate-trimethylolpropane adduct, t-cyclohexane-1,4-diisocyanate, m-phenylene diisocyanate, p
Phenylene diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, 1,3,6-hexamethylene triisocyanate, isophorone diisocyanate, 1,5-naphthalene diisocyanate, tolidine diisocyanate, xylylene diisocyanate, hydrogenated xylylene diisocyanate, diphenylmethane-4,4'-diisocyanate −
Hydrogenated diphenylmethane-4,4'-diisocyanate, lysine diisocyanate, lysine ester triisocyanate, triphenylmethane triisocyanate,
Tris (isocyanatephenyl) thiophosphate,
m-tetramethylxylylene diisocyanate, p-tetramethyl xylylene diisocyanate, 1,6,11
Polyisocyanates such as undecane triisocyanate, 1,8-diisocyanate-4-isocyanatomethyloctane, bicycloheptane triisocyanate, 2,2,4-trimethylhexamethylene diisocyanate, 2,4,4-trimethylhexamethylene diisocyanate and the like; Mixtures or adducts of polyhydric alcohols. Among them, from the viewpoint of versatility and reactivity,
6-tolylene diisocyanate, 2,4-tolylene diisocyanate, tolylene diisocyanate-trimethylolpropane adduct, and hexamethylene diisocyanate are preferred.

【0023】この他、反応促進剤として、公知のトリエ
チレンジアミン等の第三アミン、ジブチル錫ジラウレー
ト等の有機錫化合物を適量添加する事で架橋速度を向上
することが可能である。
In addition, it is possible to improve the crosslinking speed by adding an appropriate amount of a known tertiary amine such as triethylenediamine or an organic tin compound such as dibutyltin dilaurate as a reaction accelerator.

【0024】また、エポキシ系樹脂の熱架橋層として
は、各種のものが使用できるが、その中でも、下記一般
式(2)で示されるノボラック型のエポキシ樹脂を熱的
に架橋させた層が好ましい。
As the thermally crosslinked layer of the epoxy resin, various types can be used. Among them, a layer obtained by thermally crosslinking a novolak type epoxy resin represented by the following general formula (2) is preferable. .

【0025】[0025]

【化2】 Embedded image

【0026】ここで、R8は水素またはメチル基、R9
水素またはグリシジルフェニルエーテル基を示す。ま
た、qは1〜50までの整数を示すが、実際の所、qの
値は一般的に分布を持っていて特定しにくいが、平均の
数として大きい方が好ましく、3以上さらには5以上が
好ましい。
Here, R 8 represents hydrogen or a methyl group, and R 9 represents hydrogen or a glycidyl phenyl ether group. In addition, q represents an integer from 1 to 50. In practice, the value of q generally has a distribution and is difficult to specify, but a larger average number is preferable, and a value of 3 or more, and more preferably 5 or more Is preferred.

【0027】このようなエポキシ樹脂を架橋させる硬化
剤としては、公知のものが適用される。例えば、アミン
系ポリアミノアミド系、酸および酸無水物、イミダゾー
ル、メルカプタン、フェノール樹脂等の硬化剤が用いら
れる。これらの中でも、酸無水物および脂環族アミン類
が好ましく用いられ、さらに好ましくは酸無水物であ
る。酸無水物としては、メチルヘキサヒドロ無水フタル
酸、メチルテトラヒドロ無水フタル酸などの脂環族酸無
水物、無水フタル酸等の芳香族酸無水物、ドデセニル無
水フタル酸等の脂肪族酸無水物が挙げられるが、特にメ
チルヘキサヒドロ無水フタル酸が好ましい。尚、脂環族
アミンとしては、ビス(4−アミノ−3−メチルジシク
ロヘキシル)メタン、ジアミノシクロヘキシルメタン、
イソホロンジアミン等が挙げられ、特にビス(4−アミ
ノ−3−メチルジシクロヘキシル)メタンが好ましい。
Known curing agents are used as such a curing agent for crosslinking the epoxy resin. For example, curing agents such as amine-based polyaminoamides, acids and acid anhydrides, imidazole, mercaptan, and phenol resins are used. Among these, acid anhydrides and alicyclic amines are preferably used, and more preferably acid anhydrides. Examples of the acid anhydride include alicyclic acid anhydrides such as methylhexahydrophthalic anhydride and methyltetrahydrophthalic anhydride, aromatic acid anhydrides such as phthalic anhydride, and aliphatic acid anhydrides such as dodecenyl phthalic anhydride. Among them, methylhexahydrophthalic anhydride is particularly preferred. Incidentally, as the alicyclic amine, bis (4-amino-3-methyldicyclohexyl) methane, diaminocyclohexylmethane,
Examples include isophorone diamine, and bis (4-amino-3-methyldicyclohexyl) methane is particularly preferable.

【0028】ここで、硬化剤として酸無水物を用いた場
合、エポキシと酸無水物との硬化反応を促進する反応促
進剤を添加しても良い。反応促進剤としては、ベンジメ
チルアミン、2,4,6−トリス(ジメチルアミノメチ
ル)フェノール、ピリジン、1,8−ジアザビシクロ
(5,4,0)ウンデセン−1等の公知の第二、第三ア
ミン類やイミダゾール類等の硬化触媒が挙げられる。
When an acid anhydride is used as a curing agent, a reaction accelerator for accelerating the curing reaction between the epoxy and the acid anhydride may be added. Examples of the reaction accelerator include known second and third known compounds such as bendimethylamine, 2,4,6-tris (dimethylaminomethyl) phenol, pyridine and 1,8-diazabicyclo (5,4,0) undecene-1. Curing catalysts such as amines and imidazoles are exemplified.

【0029】また、ケイ素アルコキシドの熱架橋層とし
ては、2〜4官能性、さらに好ましくは3〜4官能性の
のケイ素アルコキシドを二種以上混合して用いることが
好ましく、これらをあらかじめ溶液中で適度に加水分解
ならびに脱水縮合を行なって適度にオリゴマー化させた
ものも好ましく用いられる。
As the thermally crosslinked layer of silicon alkoxide, it is preferable to use a mixture of two or more silicon alkoxides having 2 to 4 functionalities, more preferably 3 to 4 functionalities. Those which are appropriately hydrolyzed and dehydrated and condensed to suitably oligomerize are also preferably used.

【0030】使用可能なケイ素アルコキシドの例として
は、例えばテトラメトキシシラン、テトラエトキシシラ
ン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシ
ラン、ジメチルジメトキシシラン、γ−グリシドキシプ
ロピルトリメトキシシラン、β−(3、4エポキシシク
ロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、ビニルトリメ
トキシシラン、N−β(アミノエチル)γ−アミノプロ
ピルトリメトキシシラン、N−β(アミノエチル)γ−
アミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ−アミノプ
ロピルトリエトキシシラン等が例示される。
Examples of usable silicon alkoxides include, for example, tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, methyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, dimethyldimethoxysilane, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, β- (3 4, epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, vinyltrimethoxysilane, N-β (aminoethyl) γ-aminopropyltrimethoxysilane, N-β (aminoethyl) γ-
Examples include aminopropylmethyldimethoxysilane, γ-aminopropyltriethoxysilane, and the like.

【0031】これらのケイ素アルコキシドによる層は、
熱的に架橋が進行するが、必要に応じて紫外線等の活性
光線を塗膜に照射する事によって、架橋度をより高める
ことができる。
These silicon alkoxide layers are:
Crosslinking proceeds thermally, but the degree of crosslinking can be further increased by irradiating the coating film with actinic rays such as ultraviolet rays as necessary.

【0032】また、これら樹脂架橋層のコーティングに
あたっては、前記の樹脂架橋物の前駆体組成物ならびに
フィラー等を各種有機溶剤に溶解して、濃度や粘度を調
節した塗液を用いて、被体上に塗工後、放射線の照射や
加熱処理等により層を架橋させる。塗工方式としては、
マイクログラビヤコート法、ダイコート法、リバースロ
ールコート法、カーテンコート法、スピンコート法等の
各種塗工方法が用いられる。
In coating the crosslinked resin layer, the precursor composition of the crosslinked resin and filler are dissolved in various organic solvents, and the coating solution is adjusted in concentration and viscosity. After coating on the layer, the layer is cross-linked by irradiation of radiation, heat treatment or the like. As a coating method,
Various coating methods such as a microgravure coating method, a die coating method, a reverse roll coating method, a curtain coating method, and a spin coating method are used.

【0033】本発明で用いる有機高分子成型物からなる
基板は、前述のように、表面粗さが中心面平均粗さで
0.003μm以下のものが用いられる。成型物の厚み
に関しては、本発明の透明導電性積層体を透明タブレッ
トの上部電極基板として用いる場合には、50〜400
μmの範囲にあることが、また、下部電極基板として用
いる場合には50〜1000μmの範囲にあることが、
透明タブレットの動作特性、軽薄性、軽量性の観点から
好ましく、また、さらに、成型物のリタデーションにつ
いては20nm以下であることが光学等方性の観点から
好ましい。ここでリタデーションは複屈折の屈折率の差
△nと膜厚dとの積△ndであり、ここでは日本分光株
式会社製の多波長複屈折率測定装置(商品名「M−15
0」)を用いた波長590nmでの測定値に代表させて
いる。
As described above, the substrate made of an organic polymer molded product used in the present invention has a surface roughness of not more than 0.003 μm in center plane average roughness. Regarding the thickness of the molded product, when the transparent conductive laminate of the present invention is used as an upper electrode substrate of a transparent tablet, 50 to 400
μm, and when it is used as a lower electrode substrate, it may be in a range of 50 to 1000 μm.
It is preferable from the viewpoint of the operating characteristics, lightness, and lightness of the transparent tablet. Further, the retardation of the molded product is preferably 20 nm or less from the viewpoint of optical isotropy. Here, the retardation is the product of the refractive index difference Δn of the birefringence Δn and the film thickness d, and here, a multi-wavelength birefringence measuring device manufactured by JASCO Corporation (trade name “M-15”)
0 ”) at a wavelength of 590 nm.

【0034】これら光学等方性の有機高分子成型物とし
ては、例えば、ポリカーボネートやポリアリレート、ポ
リエーテルスルフォン、トリアセチルセルロース等の成
型物が例示されるが、成形性や製造コスト、熱的安定性
等の観点から、ポリカーボネート、ポリアリレートがよ
り好ましく挙げられる。成形体の成形方法としては公知
の溶融押し出し法や溶液流延法、射出成型法等の方法が
例示されるが、優れた光学等方性を得る観点からは、特
に溶液流延法を用いて成形を行なうことが好ましい。
Examples of these optically isotropic organic polymer molded articles include molded articles such as polycarbonate, polyarylate, polyethersulfone, and triacetyl cellulose. From the viewpoint of properties and the like, polycarbonate and polyarylate are more preferred. Examples of the molding method of the molded body include known methods such as a melt extrusion method, a solution casting method, and an injection molding method.From the viewpoint of obtaining excellent optical isotropy, particularly, a solution casting method is used. Preferably, molding is performed.

【0035】また、本発明において用いる透明導電層と
しては、公知のもの、例えば錫酸化物(SnO2)およ
び/またはインジウム酸化物(In23)からなる層、
特に両者の化合物であるITOが好ましく用いられる。
また、タブレットの消費電力を低減する必要がある場合
には、比抵抗の比較的大きな透明導電層を用いることが
好ましく、ITOに、SiO2、TiO2、Al23、Z
rO2、MgO、ZnOから選ばれる金属酸化物が微量
添加された透明導電層が好ましく用いられる。
The transparent conductive layer used in the present invention may be a known one such as a layer made of tin oxide (SnO 2 ) and / or indium oxide (In 2 O 3 ),
In particular, both compounds, ITO, are preferably used.
When it is necessary to reduce the power consumption of the tablet, it is preferable to use a transparent conductive layer having a relatively large specific resistance, and it is preferable to use SiO 2 , TiO 2 , Al 2 O 3 , Z
A transparent conductive layer to which a small amount of a metal oxide selected from rO 2 , MgO, and ZnO is added is preferably used.

【0036】こうした透明導電層の膜厚は、10〜50
nmの範囲にあることが、抵抗値や抵抗値の経時安定
性、および透明性の観点から好ましい。あるいはまたこ
れら透明導電層は、スパッタリング法、イオンプレーテ
ィング法、真空蒸着法、CVD法等の公知の気相堆積法
を用いて積層することができる。中でも幅方向、長さ方
向での膜厚均一性、組成均一性の面からはスパッタリン
グ法が好ましい。
The thickness of such a transparent conductive layer is 10 to 50.
The range of nm is preferable from the viewpoint of the resistance value, the stability of the resistance value with time, and the transparency. Alternatively, these transparent conductive layers can be laminated using a known vapor deposition method such as a sputtering method, an ion plating method, a vacuum evaporation method, and a CVD method. Among them, the sputtering method is preferable from the viewpoint of the film thickness uniformity and the composition uniformity in the width direction and the length direction.

【0037】さて、本発明においては、透明導電層の下
地として光学干渉層が積層することにより、導電面の反
射を低減し、積層体の光透過率を高めることが可能であ
る。ここで光学干渉層とは、隣接する層との屈折率が異
なる薄膜を一層もしくは二層以上積層して構成された層
であり、各界面からの反射光が相互干渉した結果、透明
導電層表面の反射率、特に波長450〜600nmに於
ける反射率が効果的に低減されるように、各層の膜厚や
屈折率が設定されてなる層と定義する。
In the present invention, by laminating an optical interference layer as a base of the transparent conductive layer, it is possible to reduce the reflection on the conductive surface and increase the light transmittance of the laminate. Here, the optical interference layer is a layer formed by laminating one or two or more thin films having different refractive indexes from the adjacent layers. As a result of reflected light from each interface interfering with each other, the transparent conductive layer surface Is defined as a layer in which the film thickness and the refractive index of each layer are set so that the reflectance in particular, particularly the reflectance at a wavelength of 450 to 600 nm, is effectively reduced.

【0038】こうした光学干渉層としては、屈折率が
1.5以下の低屈折率の層を単層で設けたものや、基板
側から、屈折率が1.6以上の高屈折率の層と、屈折率
が1.5以下の低屈折率の層を積層したもの等が好まし
く用いられるが、必要に応じて三層以上の積層構成のも
のも用いる事も可能である。
As such an optical interference layer, a single layer of a low refractive index layer having a refractive index of 1.5 or less or a high refractive index layer having a refractive index of 1.6 or more from the substrate side may be used. A laminate having a low refractive index layer having a refractive index of 1.5 or less is preferably used, and a laminate having three or more layers may be used as necessary.

【0039】これらの層は、スパッタリング法、蒸着
法、イオンプレーティング法、CVD法等の各種の真空
製膜プロセスや、ロールコーティング、カーテンコー
ト、スピンコート等の湿式コーティング法、およびそれ
らの併用により作成が可能である。
These layers are formed by various vacuum film forming processes such as sputtering, vapor deposition, ion plating and CVD, wet coating such as roll coating, curtain coating and spin coating, and a combination thereof. Can be created.

【0040】具体的には、真空製膜プロセスを用いて作
成された各種無機誘電体層、例えばMgF、SiO2
CaF2、NaF、Na3AlF6、LiF、Al23
CeF3、LaF3、NdF3、TiO2、MgO、PbF
3、ThO2、ZrO2、ZnS、SnO2、In23、S
23、CeO2、Nd23、Ln23等およびそれら
の混合物からなる層が例示され、また、さらに、湿式コ
ーティング法を用いて作成された樹脂架橋層、例えば、
ケイ素、チタニウム、ジルコニウム、錫、タンタル、イ
ンジウム等の金属アルコキシドの単体あるいはそれらの
混合物を、加水分解ならびに脱水縮合してなる樹脂架橋
層や、数十nm以下の粒径の各種金属酸化物の微粒子が
分散された樹脂架橋層等が例示される。
Specifically, various inorganic dielectric layers such as MgF, SiO 2 , and the like formed by using a vacuum film forming process.
CaF 2 , NaF, Na 3 AlF 6 , LiF, Al 2 O 3 ,
CeF 3 , LaF 3 , NdF 3 , TiO 2 , MgO, PbF
3 , ThO 2 , ZrO 2 , ZnS, SnO 2 , In 2 O 3 , S
Examples include layers composed of b 2 O 3 , CeO 2 , Nd 2 O 3 , Ln 2 O 3 and the like, and a mixture thereof, and further, a resin cross-linked layer formed by using a wet coating method, for example,
Silicone, titanium, zirconium, tin, tantalum, indium and other simple metal alkoxides or a mixture thereof, a resin crosslinked layer formed by hydrolysis and dehydration condensation, and fine particles of various metal oxides having a particle size of several tens nm or less. And a resin crosslinked layer in which is dispersed.

【0041】これらの内、製造コストの観点からは、前
記の湿式コーティング法による樹脂架橋層による光学干
渉層を用いることが好ましく、さらに、湿式コーティン
グによる樹脂架橋層の中でも、層の機械的強度や密着
性、安定性の観点から、チタニウム、ジルコニウムなら
びにケイ素のアルコキシドの架橋層を用いることが最も
好ましい。ここで、チタニウムとジルコニウムのアルコ
キシドの架橋層は、光学干渉層において主に高屈折率の
層として機能するものであり、ケイ素アルコキシドの架
橋層は、光学干渉層において主に低屈折率の層として機
能するものである。
Among these, from the viewpoint of manufacturing cost, it is preferable to use an optical interference layer formed of a resin cross-linked layer formed by the above-mentioned wet coating method. From the viewpoint of adhesion and stability, it is most preferable to use a crosslinked layer of titanium, zirconium and silicon alkoxide. Here, the crosslinked layer of alkoxide of titanium and zirconium mainly functions as a layer having a high refractive index in the optical interference layer, and the crosslinked layer of silicon alkoxide is mainly a layer having a low refractive index in the optical interference layer. It works.

【0042】チタニウムアルコキシドとしては、例えば
チタニウムテトライソプロポキシド、テトラーnープロ
ピルオルトチタネート、チタニウムテトラーnーブトキ
シド、テトラキス(2ーエチルヘキシルオキシ)チタネ
ート等が例示され、また、ジルコニウムアルコキシドと
しては、例えばジルコニウムテトライソプロポキシド、
ジルコニウムテトラーnーブトキシド等が例示される。
Examples of the titanium alkoxide include titanium tetraisopropoxide, tetra-n-propyl orthotitanate, titanium tetra-n-butoxide, and tetrakis (2-ethylhexyloxy) titanate. Examples of the zirconium alkoxide include zirconium alkoxide. Tetraisopropoxide,
Zirconium tetra-n-butoxide is exemplified.

【0043】ケイ素アルコキシドとしては、例えば、テ
トラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、メチルト
リメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、ジメチ
ルジメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメ
トキシシラン、β−(3、4エポキシシクロヘキシル)
エチルトリメトキシシラン、ビニルトリメトキシシラ
ン、N−β(アミノエチル)γ−アミノプロピルトリメ
トキシシラン、N−β(アミノエチル)γ−アミノプロ
ピルメチルジメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリ
エトキシシラン等が例示される。
Examples of the silicon alkoxide include, for example, tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, methyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, dimethyldimethoxysilane, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, β- (3,4 epoxycyclohexyl )
Examples include ethyltrimethoxysilane, vinyltrimethoxysilane, N-β (aminoethyl) γ-aminopropyltrimethoxysilane, N-β (aminoethyl) γ-aminopropylmethyldimethoxysilane, and γ-aminopropyltriethoxysilane. Is done.

【0044】これらのケイ素アルコキシドは、層の機械
的強度や密着性および耐溶剤性等の観点から二種類以上
を混合して用いることが好ましく、特に、耐溶剤性の観
点から、ケイ素アルコキシドの全組成中に重量比率0.
5〜40%の範囲で、分子内にアミノ基を有するケイ素
アルコキシドが含有されていることが好ましい。
These silicon alkoxides are preferably used as a mixture of two or more kinds from the viewpoint of the mechanical strength, adhesion and solvent resistance of the layer. In particular, from the viewpoint of solvent resistance, all of the silicon alkoxides are used. The weight ratio of 0.1 in the composition.
It is preferable that the silicon alkoxide having an amino group in the molecule is contained in the range of 5 to 40%.

【0045】これらの金属アルコキシドは、モノマーで
用いても、あらかじめ加水分解と脱水縮合を行なって適
度にオリゴマー化して用いても良いが、通常、適当な有
機溶媒に溶解、希釈した塗液を基板上に塗工する。基板
上に形成された塗膜は、空気中の水分等により加水分解
が進行し、続いて、脱水縮合により架橋が進行する。
These metal alkoxides may be used as a monomer, or may be used after being subjected to hydrolysis and dehydration condensation in advance to be appropriately oligomerized. Usually, the coating solution dissolved and diluted in an appropriate organic solvent is used as a substrate. Apply on top. The coating film formed on the substrate undergoes hydrolysis due to moisture in the air and the like, and subsequently crosslinking proceeds by dehydration condensation.

【0046】一般に、架橋の促進には適当な加熱処理が
必要であり、湿式コーティングのプロセスにおいて10
0℃以上の温度で数分以上の熱処理を施すことが好まし
い。また、場合によっては、前記の熱処理と並行して、
紫外線等の活性光線を塗膜に照射する事により、架橋性
をより高めることができる。
In general, appropriate heat treatment is required to promote crosslinking, and 10 to 10 times is required in the wet coating process.
It is preferable to perform a heat treatment at a temperature of 0 ° C. or more for several minutes or more. In some cases, in parallel with the heat treatment,
By irradiating the coating film with actinic rays such as ultraviolet rays, the crosslinkability can be further improved.

【0047】希釈溶剤としては、アルコール系、炭化水
素系の溶剤、例えば、エタノール、イソプロピルアルコ
ール、ブタノール、1−メトキシ−2−プロパノール、
ヘキサン、シクロヘキサン、リグロイン等が好適である
が、この他にも、キシレン、トルエン、シクロヘキサノ
ン、メチルイソブチルケトン、酢酸イソブチル等の極性
溶媒も使用可能である。これらのものは単独あるいは二
種以上の混合溶剤として用いることができる。
Examples of the diluting solvent include alcohol and hydrocarbon solvents such as ethanol, isopropyl alcohol, butanol, 1-methoxy-2-propanol, and the like.
Hexane, cyclohexane, ligroin and the like are preferred, but other polar solvents such as xylene, toluene, cyclohexanone, methyl isobutyl ketone, and isobutyl acetate can also be used. These can be used alone or as a mixture of two or more solvents.

【0048】このように透明導電層に接して基板側に光
学干渉層を積層した場合、光学干渉層を積層しなかった
場合に比べて、透明導電性積層体の光透過率が数%以上
向上する。そして、この透明導電性積層体を透明タブレ
ットの上下の電極基板として用いた場合には、タブレッ
トの光透過率の向上すると共に、タブレットの光干渉縞
(ニュートンリング)の発生が低減されることがわかっ
た。これは、上下の電極表面の光反射率が低下した事に
よる、光干渉強度の低減効果と、本発明の粗面化層の微
細な凹凸による反射光の散乱効果との相乗によるものと
推定される。ここで、粗面化による反射光の散乱効果の
みを利用した従来の方法に比べ、本発明における電極表
面の粗面化の程度は非常に小さいため、粗面化に伴うヘ
イズの増加が抑えられ、視認性の高い透明タブレットを
得ることができる。
As described above, when the optical interference layer is laminated on the substrate side in contact with the transparent conductive layer, the light transmittance of the transparent conductive laminate is improved by several percent or more as compared with the case where the optical interference layer is not laminated. I do. When the transparent conductive laminate is used as the upper and lower electrode substrates of the transparent tablet, the light transmittance of the tablet is improved, and the occurrence of optical interference fringes (Newton rings) of the tablet is reduced. all right. This is presumed to be due to a synergistic effect between the reduction effect of the light interference intensity due to the decrease in the light reflectance of the upper and lower electrode surfaces and the scattering effect of the reflected light due to the fine unevenness of the roughened layer of the present invention. You. Here, the degree of surface roughening of the electrode surface in the present invention is very small, as compared with the conventional method using only the scattering effect of reflected light due to surface roughening, so that an increase in haze due to surface roughening is suppressed. , A highly visible transparent tablet can be obtained.

【0049】ところで本発明においては、有機高分子成
型物上に適当な粗面化層を設けた後に、粗面化層と透明
導電層の間に光学干渉層を積層した構成が一般的に用い
られるが、光学干渉層として前述の金属アルコキシドの
架橋層等を初めとした各種樹脂架橋層を用いる場合にお
いては、光学干渉層が粗面化層を兼ねる事も可能であ
る。すなわち、光学干渉層の少なくとも一層として、前
述の樹脂架橋層中に重量比率0.05〜0.5%の割合
で平均一次粒径が層膜厚の1.1〜3倍の範囲にある微
粒子を分散した粗面化層を用いた場合には、より簡略な
層構成で本発明の目的を達することができる。
In the present invention, a structure is generally used in which an appropriate roughening layer is provided on an organic polymer molded product, and then an optical interference layer is laminated between the roughening layer and the transparent conductive layer. However, when using various resin crosslinked layers such as the above-mentioned metal alkoxide crosslinked layer as the optical interference layer, the optical interference layer can also serve as the roughened layer. That is, as at least one layer of the optical interference layer, fine particles having an average primary particle size in a range of from 0.05 to 0.5% by weight in the above-mentioned resin crosslinked layer in a range of 1.1 to 3 times the layer thickness. When a roughened layer in which is dispersed is used, the object of the present invention can be achieved with a simpler layer structure.

【0050】そして以下に示す実施例と比較例において
は、各種特性の評価は次の要領にて行った。
In the following Examples and Comparative Examples, various characteristics were evaluated in the following manner.

【0051】耐有機溶剤性:タブレット作成時に透明導
電層上に印刷が行われる銀ペーストの溶剤として代表さ
れるトルエン(和光純薬工業社製、特級)をサンプル面
に数滴滴下し、25℃で3分間放置後の表面の白濁、膨
潤、溶解等の外観変化を目視にて観察し、変化が確認さ
れない場合に耐有機溶剤性を有すると判定した。
Organic solvent resistance: A few drops of toluene (special grade, manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.), which is a solvent of a silver paste used for printing on the transparent conductive layer at the time of tablet preparation, is dropped on the sample surface, and the temperature is 25 ° C. After 3 minutes, the surface was visually observed for changes in appearance such as cloudiness, swelling, and dissolution. When no change was observed, it was determined that the composition had organic solvent resistance.

【0052】耐アルカリ性水溶液性:透明導電層のパタ
ーニング時のレジスト溶解に用いる3.5wt%の水酸
化ナトリウム水溶液をサンプル面に数滴滴下し、25℃
で3分間放置後の表面の白濁、膨潤、溶解等の外観変化
を目視にて観察し、変化が確認されない場合に耐アルカ
リ性水溶液性を有すると判定した。
Alkali-resistant aqueous solution: A few drops of a 3.5 wt% aqueous solution of sodium hydroxide used for dissolving the resist during patterning of the transparent conductive layer are dropped on the sample surface,
After standing for 3 minutes, changes in appearance such as white turbidity, swelling and dissolution were visually observed, and when no change was observed, it was determined to have alkali-resistant aqueous solution resistance.

【0053】耐酸性水溶液性:透明導電層のパターニン
グに用いるエッチング液(35wt%塩化第2鉄水溶
液、35wt%塩酸、水を1:1:10の割合で混合し
たもの)をサンプル面に数滴滴下し、25℃で3分間放
置後の表面の白濁、膨潤、溶解等の外観変化を目視にて
観察し、変化が確認されない場合に耐酸性水溶液性を有
すると判定した。
Acid-resistant aqueous solution: Several drops of an etchant (a mixture of 35 wt% ferric chloride aqueous solution, 35 wt% hydrochloric acid, and water in a ratio of 1: 1: 10) used for patterning the transparent conductive layer are applied to the sample surface. After dripping and leaving at 25 ° C. for 3 minutes, changes in the appearance such as cloudiness, swelling, and dissolution of the surface were visually observed. If no change was observed, it was determined that the composition had acid-resistant aqueous solution resistance.

【0054】光線透過率およびヘイズ値:日本電色工業
社製の測定器(商品名「COH−300A」)を用いて
測定を行った。
Light transmittance and haze value: Measurement was carried out using a measuring instrument (trade name “COH-300A”) manufactured by Nippon Denshoku Industries Co., Ltd.

【0055】中心面平均粗さ(SRa):小坂研究所社
製の三次元表面粗さ測定器(商品名「サーフコーダSE
−30KS」)を用いて、測定幅200μm、測定長1
mmの条件にて測定を行った。
Center plane average roughness (SRa): A three-dimensional surface roughness measuring instrument manufactured by Kosaka Laboratory Co., Ltd. (trade name "Surfcoder SE")
−30 KS ”), measuring width 200 μm, measuring length 1
The measurement was performed under the condition of mm.

【0056】[0056]

【実施例1】ビスフェノール成分がビスフェノールAの
みからなる平均分子量37,000のポリカーボネート
樹脂を用いて、溶液流延法により厚み98μm、中心面
平均粗さ(SRa)が0.0012μm、リタデーショ
ン7±2nmのポリカーボネートフィルムを得た。
Example 1 Using a polycarbonate resin having an average molecular weight of 37,000 and comprising bisphenol A alone, a thickness of 98 μm, a center plane average roughness (SRa) of 0.0012 μm, and a retardation of 7 ± 2 nm by a solution casting method. Was obtained.

【0057】粗面化層を形成するための塗液として、ト
リメチロールプロパンエチレンオキサイド変性アクリレ
ート(東亜合成化学社製の商品名「アロニックスM−3
50」)100重量部、光開始剤1−ヒドロキシシクロ
ヘキシルフェニルケトン(チバガイギー社製の商品名
「イルガキュアー184」)7重量部、平均粒子径4.
5μmのシリコン樹脂微粒子(東芝シリコーン社製の商
品名「トスパール145」)0.1重量部、1−メトキ
シ−2−プロパノール200重量部を混合した液を用い
た。
As a coating liquid for forming a roughened layer, trimethylolpropane ethylene oxide-modified acrylate (trade name “Aronix M-3” manufactured by Toa Gosei Chemical Co., Ltd.)
50 ") 100 parts by weight, 7 parts by weight of photoinitiator 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone (trade name" Irgacure 184 "manufactured by Ciba Geigy), average particle diameter 4.
A liquid obtained by mixing 0.1 parts by weight of 5 μm silicon resin fine particles (trade name “Tospearl 145” manufactured by Toshiba Silicone Co., Ltd.) and 200 parts by weight of 1-methoxy-2-propanol was used.

【0058】この塗液を前述のポリカーボネートフィル
ム上にロールコーティング後、60℃で1分乾燥した後
に120W/cm2の高圧水銀灯を用いて積算光量約8
00mJ/cm2の条件で硬化を行い、膜厚が約3.5
μmの粗面化層を形成し、続いてフィルムの反対面にも
同様の粗面化層を形成した。
This coating solution was roll-coated on the above-mentioned polycarbonate film, dried at 60 ° C. for 1 minute, and then integrated with a high-pressure mercury lamp of 120 W / cm 2 to obtain an integrated light amount of about 8%.
Curing is performed under the conditions of 00 mJ / cm 2 and the film thickness is about 3.5.
A μm roughened layer was formed, followed by a similar roughened layer on the opposite side of the film.

【0059】この粗面化層が形成された面に対し、前記
の各種耐溶剤性試験を行った所、外観の変化は観られ
ず、耐溶剤性に優れていた。
When the above-mentioned various solvent resistance tests were performed on the surface on which the roughened layer was formed, no change in the appearance was observed, and the surface was excellent in solvent resistance.

【0060】次に、片面の粗面化層上にインジウム−錫
酸化物層をスパッタリング法により形成して透明導電性
フィルムを作製した。スパッタリングターゲットにはイ
ンジウムと錫が重量比9:1の組成で充填密度が90%
のインジウム−錫ターゲットを用いた。スパッタ装置内
にフィルムをセットした後、1.3mPaの圧力まで排
気を行い、ついでArとO2の体積比98.5:1.5
の混合ガスを導入し、雰囲気圧力を0.27Paにし
た。そしてフィルム温度を50℃、投入電力密度が1W
/cm2の条件でDCスパッタリングを行い、透明導電
層を積層した。この透明導電層の膜厚は約19nm、表
面抵抗は約280Ω/□であった。
Next, an indium-tin oxide layer was formed on one surface of the roughened layer by a sputtering method to produce a transparent conductive film. The sputtering target has a composition of indium and tin in a weight ratio of 9: 1 and a packing density of 90%.
Was used. After setting the film in the sputtering apparatus, the film was evacuated to a pressure of 1.3 mPa, and then the volume ratio of Ar to O 2 was 98.5: 1.5.
Was introduced, and the atmospheric pressure was adjusted to 0.27 Pa. Then, the film temperature is 50 ° C. and the input power density is 1 W
DC sputtering was performed under the condition of / cm 2 to laminate a transparent conductive layer. The thickness of this transparent conductive layer was about 19 nm, and the surface resistance was about 280 Ω / □.

【0061】そしてこのようにして作成した透明導電性
フィルムの導電層表面の中心面平均粗さ(SRa)は
0.0045μm、非導電面側では0.0043μm、
ヘイズは0.8%、光線透過率は87.4%であった。
また、導電層が積層された面と反対側のフィルム面(以
下非導電面と記す)を、表面が平坦なガラス板等の上に
置いた場合でも、ガラス表面に密着して離れなくなるよ
うな事もなく、滑り性に優れていた。
The center surface average roughness (SRa) of the conductive layer surface of the transparent conductive film thus produced was 0.0045 μm, and the non-conductive surface side was 0.0043 μm.
The haze was 0.8% and the light transmittance was 87.4%.
In addition, even when the film surface opposite to the surface on which the conductive layer is laminated (hereinafter referred to as a non-conductive surface) is placed on a flat glass plate or the like, the film surface may not adhere to and be separated from the glass surface. Without any trouble, it was excellent in slipperiness.

【0062】さらに、このようにして作製した透明導電
性フィルムを上部と下部の電極基板として用い、公知の
方法によりアナログ式の透明タブレットを作製した。こ
のタブレットに対し、プラスチック製の入力ペンを用い
て入力試験を行った所、上下の電極面同士が密着して離
れなくなるような動作不良は全く観られなかった。
Further, using the transparent conductive films thus produced as upper and lower electrode substrates, analog transparent tablets were produced by a known method. When an input test was performed on the tablet using a plastic input pen, no operation failure was observed in which the upper and lower electrode surfaces were in close contact with each other and did not separate.

【0063】[0063]

【実施例2】実施例1においてフィルムの両面に積層し
た粗面化層の片面上に、テトラブトキシチタネート(日
本曹達社製の商品名「B−4」)をリグロイン(和光純
薬工業社製の等級が一級品)とブタノール(和光純薬工
業社製の等級が特級品)の混合溶媒で希釈した塗液を用
いてロールコーティングし、130℃で2分間熱処理し
て、膜厚約70nm、屈折率約1.82の層を形成し
た。
EXAMPLE 2 Tetrabutoxy titanate (trade name "B-4" manufactured by Nippon Soda Co., Ltd.) was applied on one side of a roughened layer laminated on both sides of the film in Example 1 by ligroin (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.). Roll coating using a coating solution diluted with a mixed solvent of butanol (a grade of a special grade manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) and butanol (a grade of a special grade), and heat-treated at 130 ° C. for 2 minutes to obtain a film thickness of about 70 nm. A layer having a refractive index of about 1.82 was formed.

【0064】さらに、該層上に下記組成からなる塗液を
用いてロールコーティングし、130℃で2分間熱処理
して、膜厚約45nm、屈折率約1.45の層を形成し
た。すなわち、、γ−グリシドキシプロピルトリメトキ
シシラン(信越化学社製の商品名「KBM403」)と
メチルトリメトキシシラン(信越化学社製の商品名「K
BM13」)を1:1のモル比で混合し、酢酸水溶液
(PH3.0)により公知の方法で前記シランの加水分
解を行った。こうして得たシランの加水分解物に対し、
固形分の重量比率20:1の割合でN−β(アミノエチ
ル)γ−アミノプロピルトリメトキシシラン(信越化学
社製の商品名「KBM603」)を添加し、さらにイソ
プロピルアルコール(和光純薬工業社製の等級が特級
品)とn−ブタノール(和光純薬工業社製の等級が特級
品)の混合溶媒で希釈を行い、該層形成用の塗液とし
た。
Further, the layer was roll-coated with a coating liquid having the following composition and heat-treated at 130 ° C. for 2 minutes to form a layer having a thickness of about 45 nm and a refractive index of about 1.45. That is, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane (trade name “KBM403” manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) and methyltrimethoxysilane (trade name “K” manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.)
BM13 ”) was mixed at a molar ratio of 1: 1 and the silane was hydrolyzed by a known method using an aqueous acetic acid solution (pH 3.0). For the silane hydrolyzate thus obtained,
N-β (aminoethyl) γ-aminopropyltrimethoxysilane (trade name “KBM603” manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) was added at a weight ratio of the solid content of 20: 1, and isopropyl alcohol (Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) was added. Was diluted with a mixed solvent of n-butanol (special grade manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) and n-butanol (special grade manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) to obtain a coating liquid for forming the layer.

【0065】前記二層を積層した面に対し、耐溶剤性試
験を行った所、外観の変化は観られず、耐溶剤性に優れ
ていた。
When a solvent resistance test was performed on the surface on which the two layers were laminated, no change in appearance was observed, and the surface was excellent in solvent resistance.

【0066】さらに、同面上に、実施例1と全く同様に
膜厚約19nm、表面抵抗約280Ω/□のインジウム
−錫酸化物層を形成して透明導電性フィルムを作製し
た。このようにして作成した透明導電性フィルムの導電
層表面の中心面平均粗さ(SRa)は0.0041n
m、ヘイズは0.8%、光線透過率は92.4%であっ
た。
Further, an indium-tin oxide layer having a thickness of about 19 nm and a surface resistance of about 280 Ω / □ was formed on the same surface in the same manner as in Example 1 to produce a transparent conductive film. The center plane average roughness (SRa) of the conductive layer surface of the transparent conductive film thus prepared is 0.0041 n.
m, haze was 0.8%, and light transmittance was 92.4%.

【0067】次に、実施例1同様に、この透明導電性フ
ィルムを上部と下部の電極基板として用い、アナログ式
の透明タブレットを作製した。このタブレットは、入力
時に上下の電極面が密着して離れなくなるような動作不
良は観られず、さらに三波長蛍光灯下でこのタブレット
を観察した所、光干渉縞(ニュートンリング)はほとん
ど観察されなかった。
Next, in the same manner as in Example 1, the transparent conductive film was used as the upper and lower electrode substrates to produce an analog type transparent tablet. This tablet did not exhibit any malfunctions such that the upper and lower electrode surfaces were in close contact during input and did not separate. When the tablet was observed under a three-wavelength fluorescent lamp, light interference fringes (Newton rings) were almost observed. Did not.

【0068】[0068]

【実施例3】実施例1のポリカーボネートフィルム上に
テトラブトキシチタネート(日本曹達社製の商品名「B
−4」)100重量部に対して、平均一次粒径120n
mの酸化ケイ素微粒子を0.45重量部混合し、さらに
これをリグロイン(和光純薬工業社製の等級が一級品)
とブタノール(和光純薬工業社製の等級が特級品)の混
合溶媒で希釈した塗液を用いてロールコーティングし、
130℃で5分間熱処理して、膜厚約64nm、屈折率
約1.87の層を形成した。
Example 3 On the polycarbonate film of Example 1, tetrabutoxy titanate (trade name "B" manufactured by Nippon Soda Co., Ltd.)
-4 ") The average primary particle size is 120 n with respect to 100 parts by weight.
0.45 parts by weight of silicon oxide fine particles of m. and further mixed with ligroin (a grade of first grade manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.)
Roll coating with a coating solution diluted with a mixed solvent of butanol (a grade manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.)
Heat treatment was performed at 130 ° C. for 5 minutes to form a layer having a thickness of about 64 nm and a refractive index of about 1.87.

【0069】さらに、該層上に下記組成からなる塗液を
用いてロールコーティングし、130℃で7分間熱処理
して、膜厚約50nm、屈折率約1.45の層を形成し
た。すなわち、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシ
シラン(信越化学社製の商品名「KBM403」)とメ
チルトリメトキシシラン(信越化学社製の商品名「KB
M13」)を1:1のモル比で混合し、酢酸水溶液(P
H約3.0)により公知の方法で前記シランの加水分解
を行った。こうして得たシランの加水分解物に対し、固
形分の重量比率20:1の割合でN−β(アミノエチ
ル)γ−アミノプロピルトリメトキシシラン(信越化学
社製の商品名「KBM603」)を添加し、さらにイソ
プロピルアルコール(和光純薬工業社製の等級が特級
品)とn−ブタノール(和光純薬工業社製の等級が特級
品)の混合溶媒で希釈を行い、該層形成用の塗液とし
た。
Further, the layer was roll-coated with a coating solution having the following composition and heat-treated at 130 ° C. for 7 minutes to form a layer having a thickness of about 50 nm and a refractive index of about 1.45. That is, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane (trade name “KBM403” manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) and methyltrimethoxysilane (trade name “KB manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.”
M13 ") in a molar ratio of 1: 1 and an aqueous solution of acetic acid (P
H about 3.0), and the silane was hydrolyzed by a known method. To the hydrolyzate of the silane thus obtained, N-β (aminoethyl) γ-aminopropyltrimethoxysilane (trade name “KBM603” manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) was added at a weight ratio of solids of 20: 1. Further, the mixture is diluted with a mixed solvent of isopropyl alcohol (a grade manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) and n-butanol (a grade manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) to form a coating liquid for forming the layer. And

【0070】ここで、前記二層を積層した面に対し、耐
溶剤性試験を行った所、外観の変化は観られず、耐溶剤
性に優れていた。
Here, when a solvent resistance test was performed on the surface on which the two layers were laminated, no change in appearance was observed, and the surface was excellent in solvent resistance.

【0071】続いて、同面上に実施例1と全く同様に膜
厚約19nm、表面抵抗約280Ω/□のインジウム−
錫酸化物層を形成して透明導電性フィルムを作製した。
このようにして作成した透明導電性フィルムの導電層表
面の中心面平均粗さ(SRa)は0.0061nm、ヘ
イズは0.7%、光線透過率は91.4%であった。
Subsequently, an indium film having a thickness of about 19 nm and a surface resistance of about 280 Ω / □ was formed on the same surface in the same manner as in Example 1.
A tin oxide layer was formed to produce a transparent conductive film.
The center plane average roughness (SRa) of the conductive layer surface of the transparent conductive film thus prepared was 0.0061 nm, the haze was 0.7%, and the light transmittance was 91.4%.

【0072】次に、実施例1同様に、この透明導電性フ
ィルムを上部と下部の電極基板として用い、アナログ式
の透明タブレットを作製した。このタブレットは、入力
時に上下の電極面が密着して離れなくなるような動作不
良は観られず、さらに三波長蛍光灯下でこのタブレット
を観察した所、光干渉縞(ニュートンリング)はほとん
ど観察されなかった。
Next, in the same manner as in Example 1, an analog type transparent tablet was produced using the transparent conductive film as the upper and lower electrode substrates. This tablet did not exhibit any malfunctions such that the upper and lower electrode surfaces were in close contact during input and did not separate. When the tablet was observed under a three-wavelength fluorescent lamp, light interference fringes (Newton rings) were almost observed. Did not.

【0073】[0073]

【比較例1】実施例1において粗面化層の形成のために
用いた塗液中に、シリコン樹脂微粒子を混合させなかっ
た以外は、実施例1と全く同様に透明導電性フィルムを
作成した。このようにして作成した透明導電性フィルム
の導電層表面の中心面平均粗さ(SRa)は0.001
8μm、非導電面側は0.002μm、ヘイズは0.3
%、光線透過率は87.8%であった。この透明導電性
フィルムの非導電面を平坦なガラス板上に置いた所、フ
ィルムがガラス面に密着して離れなくなる現象が多発し
た。
Comparative Example 1 A transparent conductive film was prepared in exactly the same manner as in Example 1, except that the silicone resin particles were not mixed in the coating solution used for forming the roughened layer. . The center plane average roughness (SRa) of the conductive layer surface of the transparent conductive film thus prepared was 0.001.
8 μm, 0.002 μm on the non-conductive surface side, and 0.3 haze
%, And the light transmittance was 87.8%. When the non-conductive surface of this transparent conductive film was placed on a flat glass plate, a phenomenon that the film was stuck to the glass surface and did not separate frequently occurred.

【0074】また、この透明導電性フィルムを用いて、
実施例1と同様にアナログ式の透明タブレットを作製
し、入力試験を行った所、上下の電極基板が密着して離
れなくなるような動作不良が多発し、また、光干渉縞
(ニュートンリング)の発生がはっきりと観察された。
Further, using this transparent conductive film,
When an analog type transparent tablet was prepared and subjected to an input test in the same manner as in Example 1, operation failures such that the upper and lower electrode substrates were in close contact with each other and did not come apart frequently occurred, and light interference fringes (Newton rings) were generated. Occurrence was clearly observed.

【0075】[0075]

【比較例2】粗面化層を形成するための塗液として、ト
リメチロールプロパンエチレンオキサイド変性アクリレ
ート(東亜合成化学社製の商品名「アロニックスM−3
50」)100重量部、光開始剤1−ヒドロキシシクロ
ヘキシルフェニルケトン(チバガイギー社製の商品名
「イルガキュアー184」)7重量部、平均一次粒径が
約100nmのシリカ0.5重量部、1−メトキシ−2
−プロパノール130重量部を混合した塗液を用いた他
は、実施例1と全く同様にして透明導電性フィルムを作
成した。
Comparative Example 2 Trimethylolpropane ethylene oxide-modified acrylate (trade name “Aronix M-3 manufactured by Toa Gosei Chemical Co., Ltd.) was used as a coating liquid for forming a roughened layer.
50 ") 100 parts by weight, 7 parts by weight of photoinitiator 1-hydroxycyclohexylphenyl ketone (trade name" Irgacure 184 "manufactured by Ciba Geigy), 0.5 part by weight of silica having an average primary particle size of about 100 nm, 1- Methoxy-2
-A transparent conductive film was prepared in exactly the same manner as in Example 1 except that a coating solution mixed with 130 parts by weight of propanol was used.

【0076】このようにして作成した透明導電性フィル
ムの導電面ならびに非導電面の中心面平均粗さ(SR
a)は0.0023μmであり、ヘイズは0.5%、光
線透過率は87.6%であった。この透明導電性フィル
ムの非導電面を平坦なガラス板等の上に置いた場合、ガ
ラス表面に密着して離れなくなる現象が多発した。
The center plane average roughness (SR) of the conductive surface and the non-conductive surface of the transparent conductive film thus prepared was
a) was 0.0023 μm, the haze was 0.5%, and the light transmittance was 87.6%. When the non-conductive surface of the transparent conductive film was placed on a flat glass plate or the like, a phenomenon often occurred in which the transparent conductive film was stuck to the glass surface and could not be separated.

【0077】また、この透明導電性フィルムを用いて、
実施例1と同様にアナログ式の透明タブレットを作製
し、入力試験を行った所、上下の電極基板が密着して離
れなくなる動作不良が多発した。
Further, using this transparent conductive film,
An analog type transparent tablet was prepared in the same manner as in Example 1, and an input test was conducted. As a result, there were frequent operation failures in which the upper and lower electrode substrates came into close contact and did not separate.

【0078】[0078]

【比較例3】粗面化層を形成するための塗液として、ト
リメチロールプロパンエチレンオキサイド変性アクリレ
ート(東亜合成化学社製の商品名「アロニックスM−3
50」)100重量部、光開始剤1−ヒドロキシシクロ
ヘキシルフェニルケトン(チバガイギ−社製の商品名
「イルガキュアー184」)7重量部、平均一次粒径が
約100nmのシリカ3重量部、1−メトキシ−2−プ
ロパノール130重量部を混合した塗液を用いた他は、
実施例1と全く同様にして透明導電性フィルムを作成し
た。
Comparative Example 3 Trimethylolpropane ethylene oxide-modified acrylate (trade name “Aronix M-3 manufactured by Toa Gosei Chemical Co., Ltd.”) was used as a coating liquid for forming a roughened layer.
50 ") 100 parts by weight, 7 parts by weight of a photoinitiator 1-hydroxycyclohexylphenyl ketone (trade name" Irgacure 184 "manufactured by Ciba Geigy Co., Ltd.), 3 parts by weight of silica having an average primary particle size of about 100 nm, 1-methoxy Other than using a coating liquid obtained by mixing 130 parts by weight of -2-propanol,
A transparent conductive film was produced in exactly the same manner as in Example 1.

【0079】このようにして作成した透明導電性フィル
ムの導電面ならびに非導電面の中心面平均粗さ(SR
a)は0.027μmであった。この透明導電性フィル
ムの非導電面を平坦なガラス板等の上に置いた場合で
も、ガラス表面に密着して離れなくなるようなこともな
く、滑り性に優れていた。また、この透明導電性フィル
ムを用いて、実施例1と同様にアナログ式の透明タブレ
ットを作製し、入力試験を行った所、上下の電極基板が
密着して離れなくなるような動作不良は発生しなかっ
た。
The conductive surface and non-conductive surface of the transparent conductive film thus prepared have a center plane average roughness (SR
a) was 0.027 μm. Even when the non-conductive surface of this transparent conductive film was placed on a flat glass plate or the like, it did not stick to the glass surface and did not separate, and was excellent in slipperiness. Using this transparent conductive film, an analog-type transparent tablet was produced in the same manner as in Example 1, and an input test was performed. Did not.

【0080】しかしながら、この透明導電性フィルムの
ヘイズは4.1%であり、実施例1と比べてヘイズが高
く、タブレットの視認性が低下した。
However, the haze of this transparent conductive film was 4.1%, which was higher than that of Example 1, and the visibility of the tablet was lowered.

【0081】[0081]

【発明の効果】本発明の透明導電性積層体は、導電面お
よび非導電面の滑り性に優れ、かつヘイズが低い特徴を
有し、導電面の表面反射を低減する事によって、非常に
高い光透過率を得ることができる。そして、この透明導
電性積層体を透明タブレットの上下の電極基板として用
いた場合には、動作不良や光干渉縞の発生が少なく、視
認性に優れた透明タブレットを得ることができる。
The transparent conductive laminate of the present invention has excellent slipperiness on the conductive and non-conductive surfaces and low haze, and is extremely high by reducing surface reflection on the conductive surface. Light transmittance can be obtained. When this transparent conductive laminate is used as the upper and lower electrode substrates of the transparent tablet, a transparent tablet having less visibility and less occurrence of optical interference fringes and having excellent visibility can be obtained.

Claims (7)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 有機高分子成型物からなる基板の一方の
面上に、透明導電層が積層されてなる透明導電性積層体
において、基板は表面粗さが中心面平均粗さ(SRa)
で0.003μm未満であり、基板上の少なくとも透明
導電層が積層された側には粗面化層が積層され、透明導
電性積層体としては少なくとも透明導電層が積層された
側の表面の表面粗さが中心面平均粗さ(SRa)で0.
003〜0.04μmであることを特徴とする透明導電
性積層体。
1. A transparent conductive laminate having a transparent conductive layer laminated on one surface of a substrate made of an organic polymer molded product, wherein the substrate has a surface roughness having a center plane average roughness (SRa).
Is less than 0.003 μm, and a surface roughening layer is laminated on at least the side on which the transparent conductive layer is laminated on the substrate, and as a transparent conductive laminate, at least the surface of the surface on which the transparent conductive layer is laminated The roughness is 0.1 in terms of center plane average roughness (SRa).
003 to 0.04 μm.
【請求項2】 粗面化層は基板の両側に形成され、透明
導電性積層体としては両側の表面の表面粗さが中心面平
均粗さ(SRa)で0.003〜0.04μmであるこ
とを特徴とする請求項1記載の透明導電性積層体。
2. The roughening layer is formed on both sides of the substrate, and the transparent conductive laminate has a surface roughness on both sides of 0.003 to 0.04 μm in center plane average roughness (SRa). The transparent conductive laminate according to claim 1, wherein:
【請求項3】 粗面化層内には、重量比率0.05〜
0.5%の割合で、平均一次粒径が粗面化層の平均膜厚
の1.1倍〜3倍の範囲にある微粒子が分散されている
ことを特徴とする請求項1〜2のいずれかに記載の透明
導電性積層体。
3. A weight ratio of 0.05 to 0.05 in the roughened layer.
3. Fine particles having an average primary particle size in the range of 1.1 to 3 times the average thickness of the roughened layer are dispersed at a ratio of 0.5%. The transparent conductive laminate according to any one of the above.
【請求項4】 透明導電層の基板側には、透明導電層に
接して光学干渉層が積層されていることを特徴とする請
求項1〜3のいずれかに記載の透明導電性積層体。
4. The transparent conductive laminate according to claim 1, wherein an optical interference layer is laminated in contact with the transparent conductive layer on the substrate side of the transparent conductive layer.
【請求項5】 光学干渉層は樹脂架橋層を一層もしくは
二層以上積層したものであり、かつ樹脂架橋層はケイ素
アルコキシド、チタニウムアルコキシド、ジルコニウム
アルコキシドのいずれかあるいはこれらアルコキシドの
中から選ばれた混合物からなるものであることを特徴と
する請求項4記載の透明導電性積層体。
5. The optical interference layer is formed by laminating one or more resin crosslinked layers, and the resin crosslinked layer is any one of silicon alkoxide, titanium alkoxide, zirconium alkoxide or a mixture selected from these alkoxides. The transparent conductive laminate according to claim 4, wherein the transparent conductive laminate comprises:
【請求項6】 光学干渉層内の少なくとも一層が、粗面
化層を兼ねて積層されていることを特徴とする請求項5
記載の透明導電性積層体。
6. The optical interference layer according to claim 5, wherein at least one layer in the optical interference layer is laminated also as a roughening layer.
The transparent conductive laminate according to the above.
【請求項7】 二枚の透明電極基板が電極面を相対して
配置される透明タブレットにおいて、少なくとも一方の
透明電極基板として請求項1〜6のいずれかに記載の透
明導電性積層体を用いたことを特徴とする透明タブレッ
ト。
7. A transparent tablet in which two transparent electrode substrates are arranged with their electrode surfaces facing each other, wherein the transparent conductive laminate according to claim 1 is used as at least one of the transparent electrode substrates. A transparent tablet characterized by the fact that
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