JPH10242132A - Vacuum treating device - Google Patents
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- JPH10242132A JPH10242132A JP4589297A JP4589297A JPH10242132A JP H10242132 A JPH10242132 A JP H10242132A JP 4589297 A JP4589297 A JP 4589297A JP 4589297 A JP4589297 A JP 4589297A JP H10242132 A JPH10242132 A JP H10242132A
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、被処理物の真空処
理を実施するための複数の真空処理室を備えた真空処理
装置に関する。The present invention relates to a vacuum processing apparatus having a plurality of vacuum processing chambers for performing vacuum processing of an object to be processed.
【0002】[0002]
【従来の技術】半導体製造工程、液晶表示パネル製造工
程、或いは光ディスク製造工程等の各種の工程におい
て、シリコンウエハ等の被処理物の表面処理を行うため
に真空処理装置が使用されている。この真空処理装置
は、真空空間内に配置された被処理物に対してスパッタ
リング、エッチング、ベーキング、或いはアッシング等
の処理を行って、被処理物の表面に薄膜を形成したり、
被処理物表面に形成された薄膜に微細加工を施したりす
るための装置である。2. Description of the Related Art In various processes such as a semiconductor manufacturing process, a liquid crystal display panel manufacturing process, and an optical disc manufacturing process, a vacuum processing apparatus is used to perform a surface treatment of an object to be processed such as a silicon wafer. This vacuum processing apparatus performs a process such as sputtering, etching, baking, or ashing on a processing target placed in a vacuum space to form a thin film on the surface of the processing target,
This is an apparatus for performing fine processing on a thin film formed on the surface of an object to be processed.
【0003】また、真空処理装置においては、被処理物
の表面処理の面内均一性を高めるために、被処理物を回
転させながら処理を行う形式が採用されている。そし
て、この形式の真空処理装置の場合、被処理物を回転さ
せるための駆動源を大気側に設置し、エラストマーガス
ケット、磁性流体等で真空シールされた回転導入軸を介
して、駆動源の駆動力を大気側から真空槽内(真空側)
に伝達するようにしている。そして、真空側に伝達され
た駆動力によって、被処理物を保持した回転保持台を回
転させ、回転保持台と共に被処理物を回転させることに
よって処理の面内均一性を向上させる。[0003] Further, in a vacuum processing apparatus, in order to improve the in-plane uniformity of the surface treatment of the object to be processed, a type of performing the process while rotating the object to be processed is adopted. In the case of this type of vacuum processing apparatus, a driving source for rotating the object to be processed is installed on the atmosphere side, and the driving source is driven through a rotation introducing shaft vacuum-sealed with an elastomer gasket, a magnetic fluid, or the like. Force from atmosphere side to vacuum chamber (vacuum side)
To be communicated to. Then, the rotation holding table holding the object to be processed is rotated by the driving force transmitted to the vacuum side, and the object to be processed is rotated together with the rotation holding table, thereby improving the in-plane uniformity of the processing.
【0004】図12は、駆動源の駆動力を大気側から真
空側に伝達するため機構の一例を示しており、図12に
示したように、真空容器の壁70の大気側の面に磁気シ
ール71が設けられており、この磁気シール71を介し
てモータ72の駆動力が真空側の回転導入軸73に伝達
されるようになっている。FIG. 12 shows an example of a mechanism for transmitting the driving force of the driving source from the atmosphere side to the vacuum side. As shown in FIG. 12, a magnetic field is applied to the surface of the vacuum vessel wall 70 on the atmosphere side. A seal 71 is provided, and the driving force of the motor 72 is transmitted to the rotation introduction shaft 73 on the vacuum side via the magnetic seal 71.
【0005】図13は、駆動源の駆動力を大気側から真
空側に伝達するための機構の他の例を示しており、図1
3に示したように、真空容器の壁70を貫通するように
して回転導入軸74が設けられており、この回転導入軸
74の貫通部はOリング75によって気密にシールされ
ている。そして、回転導入軸74の大気側の端部はモー
タ(図示せず)に接続されており、この大気側のモータ
の駆動力が回転導入軸74を介して真空側に伝達され
る。FIG. 13 shows another example of a mechanism for transmitting the driving force of the driving source from the atmosphere side to the vacuum side.
As shown in FIG. 3, a rotation introduction shaft 74 is provided so as to penetrate the wall 70 of the vacuum vessel, and the penetration of the rotation introduction shaft 74 is hermetically sealed by an O-ring 75. The end of the rotation introduction shaft 74 on the atmosphere side is connected to a motor (not shown), and the driving force of the atmosphere side motor is transmitted to the vacuum side via the rotation introduction shaft 74.
【0006】また、真空処理装置として、真空槽内に複
数の処理室を備え、これら複数の処理室に被処理物を順
次シーケンシャルに移送して被処理物の表面処理を行う
ものが提案されている。このように被処理物を真空槽内
で自動搬送するタイプの真空処理装置の場合には、図1
3に示した伝達機構を各処理室毎に各々配置し、さら
に、図14に示した伝導継ぎ手76、77の一方の継ぎ
手77を回転導入軸74の真空側の端部に接続し、ま
た、被処理物の回転保持台には他方の継ぎ手76を接続
する。そして、被処理物を各処理室の位置に移送した
後、図14に示した伝導継ぎ手76、77を接続し、大
気側の駆動源(モータ)の駆動力を真空側に伝達する。As a vacuum processing apparatus, there has been proposed a vacuum processing apparatus having a plurality of processing chambers in a vacuum chamber, and sequentially transferring the processing objects to the plurality of processing chambers to perform surface processing of the processing objects. I have. As described above, in the case of a vacuum processing apparatus of a type in which an object to be processed is automatically conveyed in a vacuum chamber, FIG.
The transmission mechanism shown in FIG. 3 is arranged for each processing chamber, and one of the transmission joints 77 shown in FIG. 14 is connected to the end of the rotation introducing shaft 74 on the vacuum side. The other joint 76 is connected to the rotation holding table of the workpiece. Then, after transferring the workpiece to the position of each processing chamber, the transmission joints 76 and 77 shown in FIG. 14 are connected, and the driving force of the driving source (motor) on the atmosphere side is transmitted to the vacuum side.
【0007】[0007]
【発明が解決しようとする課題】ところが、上述したよ
うに従来の真空処理装置においては、大気側に駆動源を
設置し、この駆動源の駆動力を真空シールを介して真空
側に伝達するように構成されているので、真空シール部
における摩擦力等によって駆動力が減衰されてしまう。
このため、真空側において所定の駆動力を得るために
は、摩擦力等による減衰を考慮して、駆動源において大
きな駆動力を発生させる必要があり、駆動源の大型化、
消費電力の増大等の不都合を招いていた。However, as described above, in the conventional vacuum processing apparatus, a driving source is installed on the atmosphere side, and the driving force of this driving source is transmitted to the vacuum side via a vacuum seal. Therefore, the driving force is attenuated by the frictional force or the like at the vacuum seal portion.
For this reason, in order to obtain a predetermined driving force on the vacuum side, it is necessary to generate a large driving force in the driving source in consideration of attenuation due to a frictional force or the like.
Inconveniences such as an increase in power consumption have been caused.
【0008】また、従来の真空処理装置においては、回
転部材である回転導入軸を真空シールする必要があるた
めに、シール機構が複雑になり、しかも、シール部にお
いて真空漏れが発生しやすいという問題があり、さら
に、シール用のエラストマーからガスが放出されて真空
度を低下させるという問題があった。Further, in the conventional vacuum processing apparatus, it is necessary to vacuum seal the rotation introduction shaft, which is a rotating member, so that the sealing mechanism is complicated and vacuum leakage is apt to occur in the sealing portion. In addition, there is a problem that gas is released from the sealing elastomer to lower the degree of vacuum.
【0009】さらに、複数の処理室を備えた真空処理装
置の場合には、伝導継ぎ手のような複雑な機構がさらに
必要となるばかりでなく、伝導継ぎ手を円滑に接続する
ことが必ずしも容易ではなかった。Further, in the case of a vacuum processing apparatus having a plurality of processing chambers, not only a complicated mechanism such as a conductive joint is required, but also it is not always easy to smoothly connect the conductive joint. Was.
【0010】本発明は、上述した種々の問題点に鑑みて
成されたものであり、被処理物を回転駆動するための構
造を簡素化することができ、また、駆動源の消費電力の
低減を図ることができる真空処理装置を提供することを
目的とする。The present invention has been made in view of the various problems described above, and can simplify a structure for rotationally driving an object to be processed, and reduce power consumption of a driving source. It is an object of the present invention to provide a vacuum processing apparatus capable of achieving the following.
【0011】[0011]
【課題を解決するための手段】請求項1記載の発明によ
る真空処理装置は、内部を真空排気可能な真空搬送室
と、前記真空搬送室の外周に隣接して配置された複数の
真空処理室と、前記各真空処理室の前記真空搬送室に面
した側に形成された各開口部と、前記真空搬送室の内部
に設けられ、前記開口部を閉塞可能な可動蓋と、前記可
動蓋に回転可能に設けられ、被処理物を保持するための
保持手段と、前記可動蓋に設けられ、前記保持手段を回
転駆動するための駆動源と、前記可動蓋に設けられ、前
記駆動源に接続された可動蓋側電気接点と、前記真空処
理室の前記真空搬送室に面した側に設けられ、電源に接
続された処理室側電気接点と、を備え、前記可動蓋が前
記開口部を閉塞したときに、前記可動蓋側電気接点と前
記処理室側電気接点とが接触し、前記電源から前記駆動
源に給電できることを特徴とする。According to a first aspect of the present invention, there is provided a vacuum processing apparatus comprising: a vacuum transfer chamber capable of evacuating the inside; and a plurality of vacuum processing chambers disposed adjacent to the outer periphery of the vacuum transfer chamber. And each opening formed on the side of the vacuum processing chamber facing the vacuum transfer chamber, a movable lid provided inside the vacuum transfer chamber and capable of closing the opening, Holding means for rotatably provided, for holding the object to be processed, a drive source provided for the movable lid, for driving the holding means for rotation, provided for the movable lid, connected to the drive source A movable lid side electrical contact, and a processing chamber side electrical contact provided on a side of the vacuum processing chamber facing the vacuum transfer chamber and connected to a power supply, wherein the movable lid closes the opening. The movable lid side electrical contact and the processing chamber side electrical contact There contacts, characterized in that the power can be supplied from the power source to the drive source.
【0012】請求項2記載の発明による真空処理装置
は、前記可動蓋に設けられ、前記被処理物の回転状態を
検出するための回転検出器と、前記可動蓋に設けられ、
前記回転検出器に接続された可動蓋側電気接点と、前記
真空処理室の前記真空搬送室に面した側に設けられ、前
記真空処理装置の制御部に接続された処理室側電気接点
と、をさらに備え、前記可動蓋が前記開口部を閉塞した
ときに、前記可動蓋側電気接点と前記処理室側電気接点
とが接触し、前記回転検出器から前記制御部に検出信号
を伝送できることを特徴とする。A vacuum processing apparatus according to a second aspect of the present invention is provided on the movable lid, a rotation detector for detecting a rotation state of the workpiece, and provided on the movable lid.
A movable lid-side electrical contact connected to the rotation detector, a processing chamber-side electrical contact provided on a side of the vacuum processing chamber facing the vacuum transfer chamber, and connected to a control unit of the vacuum processing apparatus; Further comprising: when the movable lid closes the opening, the movable lid-side electrical contact and the processing chamber-side electrical contact are in contact with each other, and a detection signal can be transmitted from the rotation detector to the control unit. Features.
【0013】請求項3記載の発明による真空処理装置
は、前記回転検出器は、前記保持手段に対して光を発す
るように配置されたフォトインタラプタを有し、前記保
持手段の受光部分に、光の反射状態の異なる複数の箇所
を交互に形成したことを特徴とする。According to a third aspect of the present invention, in the vacuum processing apparatus, the rotation detector has a photo-interrupter arranged to emit light to the holding means, and a light-receiving portion of the holding means has A plurality of portions having different reflection states are alternately formed.
【0014】請求項4記載の発明による真空処理装置
は、前記光の反射状態の異なる複数の箇所は、前記保持
手段の受光部分に交互に形成された平坦部及び凹部であ
ることを特徴とする。According to a fourth aspect of the present invention, in the vacuum processing apparatus, the plurality of portions having different light reflection states are flat portions and concave portions alternately formed on a light receiving portion of the holding means. .
【0015】請求項5記載の発明による真空処理装置
は、前記可動蓋側電気接点は、前記処理室側電気接点に
押し付けられた際に、その押し付け方向と反対の方向に
変位し得ることを特徴とする。According to a fifth aspect of the present invention, in the vacuum processing apparatus, when the movable lid side electrical contact is pressed against the processing chamber side electrical contact, the movable lid side electrical contact can be displaced in a direction opposite to the pressing direction. And
【0016】請求項6記載の発明による真空処理装置
は、前記可動蓋側電気接点は、板バネ部材によって形成
されていることを特徴とする。A vacuum processing apparatus according to a sixth aspect of the present invention is characterized in that the movable lid side electrical contact is formed by a leaf spring member.
【0017】請求項7記載の発明による真空処理装置
は、前記可動蓋側電気接点は、スプリングによって軸方
向に付勢されたピン部材によって形成されていることを
特徴とする。According to a seventh aspect of the present invention, in the vacuum processing apparatus, the movable lid side electrical contact is formed by a pin member which is urged in an axial direction by a spring.
【0018】[0018]
【発明の実施の形態】以下、本発明の一実施形態による
真空処理装置について図1乃至図10を参照して説明す
る。DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS A vacuum processing apparatus according to one embodiment of the present invention will be described below with reference to FIGS.
【0019】図1は、本実施形態による真空処理装置の
平面図であり、平面形状がほぼ八角形のハウジング10
の内側には、内部を真空排気可能な真空搬送室3が形成
されている。この真空搬送室3の一辺には、真空搬送室
3の内部に被処理物Wを搬入し又は搬出するためのロー
ドロック室1が形成され、残りの7辺には7個の真空処
理室2A、2B…2Gが等角度間隔で配置形成されてい
る。そして、これらの真空処理室2A、2B…2Gの内
部で、被処理物Wに対してスパッタリング、エッチン
グ、ベーキング、或いはアッシング等の真空処理が実施
される。FIG. 1 is a plan view of a vacuum processing apparatus according to the present embodiment, and shows a housing 10 having a substantially octagonal planar shape.
Inside, a vacuum transfer chamber 3 capable of evacuating the inside is formed. On one side of the vacuum transfer chamber 3, a load lock chamber 1 for loading or unloading the workpiece W into or from the vacuum transfer chamber 3 is formed, and on the remaining seven sides, seven vacuum processing chambers 2A are provided. , 2B... 2G are arranged and formed at equal angular intervals. Then, a vacuum process such as sputtering, etching, baking, or ashing is performed on the workpiece W inside the vacuum processing chambers 2A, 2B,... 2G.
【0020】ロードロック室1及び真空処理室2A、2
B…2Gの真空搬送室3に面する側には、被処理物Wを
出し入れするための同形同大の開口部1a、2aがそれ
ぞれ形成されている。また、各真空処理室2には、ター
ボ分子ポンプ12(図2参照)が接続されて内部を真空
排気できると共に、所定の真空処理を行うための加工装
置14A、14B…14Gが設置されている。Load lock chamber 1 and vacuum processing chamber 2A, 2
B. On the side facing the vacuum transfer chamber 3 of 2G, openings 1a, 2a having the same shape and the same size for taking in and out the workpiece W are formed, respectively. In each vacuum processing chamber 2, a turbo molecular pump 12 (see FIG. 2) is connected, and the inside can be evacuated, and processing devices 14A, 14B... 14G for performing a predetermined vacuum processing are installed. .
【0021】真空搬送室3の底部には、環状の回転テー
ブル15が回転可能に配置され、この回転テーブル15
の外周には大歯車18が形成されている。この大歯車1
8には駆動小歯車19が噛み合っている。An annular rotary table 15 is rotatably arranged at the bottom of the vacuum transfer chamber 3.
A gear 18 is formed on the outer periphery of the gear. This large gear 1
A driving small gear 19 meshes with 8.
【0022】回転テーブル15の上面には8台のバルブ
機構25が回転テーブル15の円周方向に沿って配設さ
れており、これらのバルブ機構25はロードロック室1
と7個の真空処理室2A、2B…2Gに対応するように
配置されている。各バルブ機構25は、ロードロック室
1及び真空処理室2A、2B…2Gのそれぞれの開口部
1a、2aを閉塞可能なバルブ円板(可動蓋)26と、
このバルブ円板26を開閉駆動するバルブ開閉機構27
とを備えている。Eight valve mechanisms 25 are arranged on the upper surface of the rotary table 15 along the circumferential direction of the rotary table 15, and these valve mechanisms 25 are mounted in the load lock chamber 1.
And 7 vacuum processing chambers 2A, 2B... 2G. Each valve mechanism 25 includes a valve disk (movable lid) 26 capable of closing the respective openings 1a, 2a of the load lock chamber 1 and the vacuum processing chambers 2A, 2B,.
A valve opening / closing mechanism 27 for opening / closing the valve disk 26
And
【0023】各バルブ円板26は、ロードロック室1及
び真空処理室2A、2B…2Gの各開口部1a、2aを
閉塞したときにロードロック室1及び真空処理室2A、
2B…2Gの内部に面する内面26aを有し、この内面
26aには、被処理物Wを保持するための保持手段であ
る4個のディスクホルダ28が回転(自転)可能に設け
られている。Each of the valve discs 26 closes the opening 1a, 2a of the load lock chamber 1 and the vacuum processing chambers 2A, 2B,.
2G. An inner surface 26a facing the inside of 2B... 2G is provided on the inner surface 26a so as to be rotatable (rotated) with four disk holders 28 as holding means for holding the workpiece W. .
【0024】また、ロードロック室1の搬入側には、被
処理物Wをロードロック室1内に搬入するための搬送装
置29が設けられており、この搬送装置29によって、
ロードロック室1の内部に4枚一組で被処理物Wが搬入
され又は搬出される。On the loading side of the load lock chamber 1, a transfer device 29 for transferring the workpiece W into the load lock chamber 1 is provided.
The workpiece W is loaded or unloaded into the load lock chamber 1 in groups of four.
【0025】図2及び図3は、バルブ円板26によって
真空処理室2Aを閉塞した状態を示した側面図及び正面
図である。図2及び図3に示したように、バルブ円板2
6の内面26aの下部には可動蓋側電気接続部30が取
り付けられている。また、真空処理室2Aの真空搬送室
3に面した側には、可動蓋側電気接続部30に対向する
位置に処理室側電気接続部31が取り付けられている。FIGS. 2 and 3 are a side view and a front view showing a state where the vacuum processing chamber 2A is closed by the valve disk 26. As shown in FIGS. 2 and 3, the valve disc 2
A movable lid-side electric connection portion 30 is attached to a lower portion of the inner surface 26a of the sixth member 6. On the side of the vacuum processing chamber 2 </ b> A facing the vacuum transfer chamber 3, a processing chamber side electric connection part 31 is attached at a position facing the movable lid side electric connection part 30.
【0026】これらの可動蓋側及び処理室側電気接続部
30、31は、被処理物Wの処理中に膜付着等の汚損を
受けないようにリフレクター36によって保護されてい
る。また、処理室側電気接続部31は、電源32及び真
空処理装置の制御部33に電気的に接続されている。The movable lid side and the processing chamber side electrical connection portions 30 and 31 are protected by a reflector 36 so as not to be contaminated such as film adhesion during the processing of the workpiece W. Further, the processing chamber side electric connection unit 31 is electrically connected to a power supply 32 and a control unit 33 of the vacuum processing apparatus.
【0027】そして、図2及び図3から分かるように、
バルブ円板26が真空処理室2Aの開口部2aを閉塞し
た状態においては、可動蓋側電気接続部30と処理室側
電気接続部31とが接触して電気的に接続されている。As can be seen from FIGS. 2 and 3,
When the valve disk 26 closes the opening 2 a of the vacuum processing chamber 2 </ b> A, the movable lid side electrical connection 30 and the processing chamber side electrical connection 31 are in contact and are electrically connected.
【0028】なお、図2及び図3は、真空処理室2A及
び1つのバルブ円板26を例示して示したものであり、
他の真空処理室2B、2C…2G及び他のバルブ円板2
6、26…26についても同様に、可動蓋側電気接続部
30及び処理室側電気接続部31がそれぞれ取り付けら
れている。FIGS. 2 and 3 show the vacuum processing chamber 2A and one valve disk 26 by way of example.
Other vacuum processing chambers 2B, 2C... 2G and other valve discs 2
Similarly, the movable lid side electrical connection part 30 and the processing chamber side electrical connection part 31 are attached to 6, 26... 26, respectively.
【0029】図4及び図5は、バルブ円板26の側面図
及び正面図を示しており、図4及び図5から分かるよう
に、ディスクホルダ28は、インナーマスク40及びア
ウターマスク41を備えている。また、バルブ円板26
にはディスクホルダ28を回転駆動するための駆動源で
ある真空モータ34が設けられており、この真空モータ
34の回転軸35にディスクホルダ28が取り付けられ
ている。そして、真空モータ34を駆動してその回転軸
35を回転させることによって、ディスクホルダ28を
被処理物Wと共に回転させることができる。FIGS. 4 and 5 show a side view and a front view of the valve disk 26. As can be seen from FIGS. 4 and 5, the disk holder 28 has an inner mask 40 and an outer mask 41. I have. Also, the valve disk 26
Is provided with a vacuum motor 34 which is a driving source for rotationally driving the disk holder 28, and the disk holder 28 is attached to a rotating shaft 35 of the vacuum motor 34. Then, the disk holder 28 can be rotated together with the workpiece W by driving the vacuum motor 34 to rotate the rotation shaft 35.
【0030】また、図4に示したように、バルブ円板2
6の内面26aには、真空モータ34の回転軸35の傍
らに、反射型フォトインタラプタを極めて小さなプリン
ト板上に実装して構成された回転検出器60が設けられ
ている。図6は、図4の6−6線に沿った断面図であ
り、図6から分かるように回転軸35には複数の凹部5
3が周方向に所定間隔で形成されている。すなわち、回
転軸35の受光部分には、凹部53と平坦部54とが交
互に形成されている。Further, as shown in FIG.
On the inner surface 26a of the motor 6, a rotation detector 60 is provided which is formed by mounting a reflection type photo interrupter on an extremely small printed board beside the rotation shaft 35 of the vacuum motor 34. FIG. 6 is a cross-sectional view taken along line 6-6 in FIG. 4, and as can be seen from FIG.
3 are formed at predetermined intervals in the circumferential direction. That is, the concave portions 53 and the flat portions 54 are alternately formed in the light receiving portion of the rotating shaft 35.
【0031】図7は、回転検出器60の具体的構成を示
しており、図7に示したように、回転検出器60は、プ
リント板61に反射型フォトインタラプタ62を実装し
て構成されている。また、図8はフォトインタラプタ6
2の回路図を示している。図8から分かるようにこのフ
ォトインタラプタ62は、発光ダイオード65及び受光
素子(フォトトランジスタ)66を備えており、発光ダ
イオード65からの光を物体(回転軸35)に反射さ
せ、この反射した光を受光素子66で受けるようにした
ものである。FIG. 7 shows a specific configuration of the rotation detector 60. As shown in FIG. 7, the rotation detector 60 is configured by mounting a reflection type photo interrupter 62 on a printed board 61. I have. FIG. 8 shows the photo interrupter 6.
2 shows a circuit diagram of FIG. As can be seen from FIG. 8, the photo-interrupter 62 includes a light-emitting diode 65 and a light-receiving element (phototransistor) 66, reflects light from the light-emitting diode 65 to an object (the rotation axis 35), and transmits the reflected light. The light is received by the light receiving element 66.
【0032】図5に示したように可動蓋側電気接続部3
0は3つの可動蓋側電気接点30a、30b、30cを
備えており、これらの可動蓋側電気接点30a、30
b、30cは真空モータ34、回転検出器60に電線を
介して接続されている。なお、接続用の電線と可動蓋側
電気接点30a、30b、30cとの間は、圧着端子を
ねじ止めして接続されている。なお、圧着端子に代えて
コネクタで連結することもできる。As shown in FIG. 5, the movable lid side electric connection portion 3
0 has three movable lid side electrical contacts 30a, 30b, 30c, and these movable lid side electrical contacts 30a, 30c.
b and 30c are connected to the vacuum motor 34 and the rotation detector 60 via electric wires. In addition, the crimp terminal is screwed and connected between the connection electric wire and the movable lid-side electric contact 30a, 30b, 30c. In addition, it can also connect with a connector instead of a crimp terminal.
【0033】図9は、接触状態にある可動蓋側電気接続
部30及び処理室側電気接続部31を示しており、図9
から分かるように、可動蓋側電気接続部30の可動蓋側
電気接点30a(30b、30c)は板バネ部材で形成
されている。この板バネ部材は、その全体を金属材料で
形成することもできるし、或いは、表面に導電性材料を
コーティングした弾性材料で形成することもできる。FIG. 9 shows the movable lid side electric connection portion 30 and the processing chamber side electric connection portion 31 in a contact state.
As can be seen from the figure, the movable lid-side electrical contacts 30a (30b, 30c) of the movable lid-side electrical connection portion 30 are formed of leaf spring members. The leaf spring member may be entirely formed of a metal material, or may be formed of an elastic material having a surface coated with a conductive material.
【0034】各可動蓋側電気接点30a(30b、30
c)には各電線38a(38b、38c)がそれぞれ接
続されており、これらの電線38a(38b、38c)
は真空モータ34及び回転検出器60(図4参照)に接
続されている。Each movable lid side electric contact 30a (30b, 30
c) is connected to each of the electric wires 38a (38b, 38c), and these electric wires 38a (38b, 38c) are connected.
Is connected to the vacuum motor 34 and the rotation detector 60 (see FIG. 4).
【0035】図10は処理室側電気接続部31の正面図
であり、図10に示したように処理室側電気接続部31
は、プリント板(絶縁板)37の表面に金メッキを施し
て3つの処理室側電気接点(平板電極)31a、31
b、31cを形成することによって構成されている。そ
して、図9に示した接触状態においては、可動蓋側電気
接続部30の3つの可動蓋側電気接点30a、30b、
30cと処理室側電気接続部31の3つの処理室側電気
接点31a、31b、31cとがそれぞれ接触状態とな
る。FIG. 10 is a front view of the processing chamber side electrical connection section 31. As shown in FIG.
The three processing chamber-side electrical contacts (plate electrodes) 31a, 31
b, 31c. In the contact state shown in FIG. 9, the three movable lid-side electrical contacts 30a, 30b,
30c and the three processing chamber side electrical contacts 31a, 31b, 31c of the processing chamber side electrical connection part 31 are in contact with each other.
【0036】図9に示したように、各処理室側電気接点
31a(31b、31c)には各電線39a(39b、
39c)がそれぞれ接続されており、これらの電線39
a(39b、39c)は電源32及び制御部33(図2
参照)に接続されている。As shown in FIG. 9, each electric wire 39a (39b, 39b) is connected to each processing chamber side electric contact 31a (31b, 31c).
39c) are connected to each other.
a (39b, 39c) are a power supply 32 and a control unit 33 (FIG. 2).
See).
【0037】次に、本実施形態による真空処理装置の作
用について説明する。Next, the operation of the vacuum processing apparatus according to the present embodiment will be described.
【0038】まず、搬送装置29によってロードロック
室1内に4枚一組で被処理物Wを搬入し、ロードロック
室1の内部を真空排気した後、ロードロック室1の開口
部1aを閉塞しているバルブ円板26の各ディスクホル
ダ28に各被処理物Wを受け渡す。First, four workpieces W are loaded into the load lock chamber 1 by the transfer device 29 and the inside of the load lock chamber 1 is evacuated, and then the opening 1a of the load lock chamber 1 is closed. Each workpiece W is delivered to each disk holder 28 of the valve disc 26 that is being processed.
【0039】次に、バルブ円板26をバルブ開閉機構2
7によって開方向に駆動し、しかる後、駆動小歯車19
を駆動して回転テーブル15を所定量だけ回転させ、4
枚の被処理物Wを保持したバルブ円板26を例えば真空
処理室2Aの位置まで移送する。Next, the valve disk 26 is connected to the valve opening / closing mechanism 2.
7 to drive in the opening direction, after which the drive pinion 19
To rotate the rotary table 15 by a predetermined amount,
The valve disk 26 holding the workpieces W is transferred to, for example, the position of the vacuum processing chamber 2A.
【0040】次に、バルブ円板26をバルブ開閉機構2
7によって閉方向に駆動し、真空処理室2Aの開口部2
aをバルブ円板26によって閉塞する。すると、図9及
び図10に示したように、可動蓋側電気接点30a、3
0b、30cと処理室側電気接点31a、31b、31
cとが接触して電気的に接続される。このとき、可動蓋
側電気接点30a、30b、30cはバネ部材で形成さ
れているので、処理室側電気接続部31に押し付けられ
た際に、その押し付け方向と反対の方向に変位すること
ができ、これによって無理なく確実に良好な接触状態が
達成される。Next, the valve disk 26 is connected to the valve opening / closing mechanism 2.
7 to the opening direction of the vacuum processing chamber 2A.
a is closed by the valve disk 26. Then, as shown in FIGS. 9 and 10, the movable lid-side electrical contacts 30a, 3a
0b, 30c and processing chamber side electrical contacts 31a, 31b, 31
c and is electrically connected. At this time, since the movable lid-side electrical contacts 30a, 30b, and 30c are formed of a spring member, when the movable lid-side electrical contacts 30a, 30b, and 30c are pressed against the processing chamber-side electrical connection portion 31, they can be displaced in a direction opposite to the pressing direction. This ensures that a good contact is achieved without any difficulty.
【0041】上記の如く、被処理物Wが真空処理室2A
内に搬入されると同時に、可動蓋側電気接続部30と処
理室側電気接続部31とが接続され、両電気接点30、
31を介して電源32(図2参照)から真空モータ34
に電力が供給される。すると、真空モータ34が駆動さ
れて回転軸35が回転し、ディスクホルダ28と共に被
処理物Wが回転する。As described above, the workpiece W is placed in the vacuum processing chamber 2A.
At the same time, the movable lid side electrical connection portion 30 and the processing chamber side electrical connection portion 31 are connected to each other, and both electrical contacts 30,
A vacuum motor 34 from a power source 32 (see FIG. 2)
Is supplied with power. Then, the vacuum motor 34 is driven to rotate the rotating shaft 35, and the workpiece W is rotated together with the disk holder 28.
【0042】ここで、処理室側電気接続部31に対する
電源32からの電力の供給は、可動蓋側電気接続部30
と処理室側電気接続部31との接続が行われた後に制御
部33から信号を出して給電を開始することもできる
し、或いは、処理室側電気接続部31に常時給電してお
いて、両電気接点30、31の接続と同時に真空モータ
34に電力が供給されるようにすることもできる。Here, the supply of electric power from the power supply 32 to the processing chamber side electric connection portion 31 is performed by the movable lid side electric connection portion 30.
After the connection with the processing chamber side electric connection unit 31 is performed, a signal can be output from the control unit 33 to start power supply, or the power supply to the processing room side electric connection unit 31 is always performed. The electric power can be supplied to the vacuum motor 34 at the same time when the two electric contacts 30 and 31 are connected.
【0043】被処理物Wの回転状態は回転検出器60
(図4参照)によって検出され、その検出信号は両電気
接点30、31を介して制御部33(図2参照)に伝送
される。制御部33は、被処理物Wの回転状態が所望の
値で安定したことを確認した後、加工装置14Aに起動
信号を送って所定の真空処理を開始させる。The rotation state of the workpiece W is determined by a rotation detector 60.
(See FIG. 4), and the detection signal is transmitted to the control unit 33 (see FIG. 2) via both the electric contacts 30 and 31. After confirming that the rotation state of the workpiece W is stabilized at a desired value, the control unit 33 sends a start signal to the processing apparatus 14A to start a predetermined vacuum processing.
【0044】ここで、回転検出器60による回転状態の
検出は以下のようにして行われる。すなわち、図6に示
したように真空モータ34の回転軸35には複数の凹部
53が周方向に所定間隔で形成されているので、回転検
出器60の反射型フォトインタラプタ62(図8参照)
によって検出される信号は回転軸35の回転に応じて変
化する。具体的には、凹部53と回転検出器60との相
対的な位置関係が図6に示した(a)の位置にある場合
と(b)の位置にある場合とで回転検出器60の検出信
号が変化する。したがって、回転検出器60によって連
続的に電気信号を取り出すことによって、この回転検出
器60の検出信号の変化から被処理物Wの回転状態を検
出することができる。Here, the detection of the rotation state by the rotation detector 60 is performed as follows. That is, as shown in FIG. 6, since the plurality of concave portions 53 are formed at predetermined intervals in the circumferential direction on the rotating shaft 35 of the vacuum motor 34, the reflection type photo interrupter 62 of the rotation detector 60 (see FIG. 8).
Is changed in accordance with the rotation of the rotating shaft 35. Specifically, when the relative positional relationship between the concave portion 53 and the rotation detector 60 is at the position (a) and the position (b) shown in FIG. The signal changes. Therefore, by continuously extracting the electric signal by the rotation detector 60, the rotation state of the workpiece W can be detected from a change in the detection signal of the rotation detector 60.
【0045】また、被処理物Wの処理中において回転検
出器60からの信号が回転異常を示した場合には、制御
部33は回転異常を起こした被処理物Wを特定して記憶
する。そして、回転異常を起こした不良の被処理物W
は、真空処理装置での処理を終えてロードロック室1か
ら搬出された後に取り除かれる。このようにすれば、不
良の被処理物Wに対して、真空処理装置での処理の後に
行われる一連の処理を実施せずに済むので、最終製品に
おける歩留まりを向上させることができるばかりでな
く、無駄な処理を省略して全体の処理効率を向上させる
ことができる。If the signal from the rotation detector 60 indicates abnormal rotation during the processing of the workpiece W, the control unit 33 specifies and stores the workpiece W having the abnormal rotation. Then, the defective workpiece W having the rotation abnormality has occurred.
Is removed from the load lock chamber 1 after the processing in the vacuum processing apparatus is completed. By doing so, it is not necessary to perform a series of processes performed after the process in the vacuum processing apparatus on the defective workpiece W, so that not only the yield in the final product can be improved, but also the yield can be improved. In addition, unnecessary processing can be omitted, and the overall processing efficiency can be improved.
【0046】上記の如く、最初の真空処理室2Aにおい
て所定の真空処理を実施した後、バルブ開閉機構27を
駆動してバルブ円板26を開放する。このバルブ円板2
6の開放と同時に、可動蓋側電気接続部30と処理室側
電気接続部31との接触状態が解除される。As described above, after performing a predetermined vacuum processing in the first vacuum processing chamber 2A, the valve opening / closing mechanism 27 is driven to open the valve disk 26. This valve disk 2
Simultaneously with the opening of 6, the contact state between the movable lid side electrical connection portion 30 and the processing chamber side electrical connection portion 31 is released.
【0047】ここで、処理室側電気接続部31に対する
電源32からの電力の供給は、バルブ円板26が開放さ
れる前に制御部33から信号を出して給電を停止するこ
ともできるし、或いは、処理室側電気接続部31に常時
給電しておいて、両電気接点30、31の開放と同時に
真空モータ34への給電を遮断するようにすることもで
きる。Here, the supply of power from the power supply 32 to the processing chamber side electric connection portion 31 can be performed by outputting a signal from the control portion 33 before the valve disk 26 is opened, and the power supply can be stopped. Alternatively, the power supply to the vacuum chamber 34 may be cut off simultaneously with the opening of the electric contacts 30 and 31 by always supplying power to the processing chamber side electric connection unit 31.
【0048】バルブ円板26を開放したら、回転テーブ
ル15を回転させて次の真空処理室2Bに被処理物Wを
移送して、上記と同様の手順によって所定の処理を行
い、以後、同様にして他の真空処理室2C、2D…2G
において順次所定の処理を実施する。なお、被処理物W
は、必ずしも真空処理室2Aから2Gまで順次搬送して
処理を行う必要はなく、また、必ずしも複数の真空処理
室2A、2B…2Gの全てにおいて処理を行う必要もな
い。要するに、所望の処理を実施できるような処理シー
ケンスを選択して所定の処理を実施すればよい。After the valve disk 26 is opened, the rotary table 15 is rotated to transfer the workpiece W to the next vacuum processing chamber 2B, and a predetermined process is performed in the same procedure as described above. And other vacuum processing chambers 2C, 2D ... 2G
, Predetermined processes are sequentially performed. In addition, the workpiece W
It is not always necessary to sequentially carry the processing from the vacuum processing chambers 2A to 2G to perform the processing, and it is not necessary to necessarily perform the processing in all of the plurality of vacuum processing chambers 2A, 2B... 2G. In short, it is only necessary to select a processing sequence that can execute a desired process and execute the predetermined process.
【0049】上述したように、複数の真空処理室2A、
2B…2G間での被処理物Wの移送は、被処理物Wをバ
ルブ円板26に保持させた状態で回転テーブル15を回
転させることによって行うことができるので、真空処理
室2A、2B…2G内、或いは真空搬送室3内において
被処理物Wの受け渡し動作を行う必要がない。したがっ
て、被処理物Wの受け渡しの失敗が無くなると共に、被
処理物Wの移送に要する時間が大幅に短縮される。As described above, the plurality of vacuum processing chambers 2A,
The transfer of the workpiece W between 2B... 2G can be performed by rotating the rotary table 15 in a state where the workpiece W is held on the valve disk 26, and thus the vacuum processing chambers 2A, 2B. There is no need to perform the transfer operation of the workpiece W in the 2G or the vacuum transfer chamber 3. Therefore, the failure of the delivery of the workpiece W is eliminated, and the time required for transferring the workpiece W is greatly reduced.
【0050】上記の手順によって被処理物Wに一連の真
空処理を実施した後、回転テーブル15を駆動して、処
理済の被処理物Wを保持したバルブ円板26をロードロ
ック室1の前まで移動させる。次に、バルブ開閉機構2
7によってバルブ円板26を閉方向に駆動し、被処理物
Wをロードロック室1内に搬入し、搬送装置29を駆動
して被処理物Wをロードロック室1から搬出する。After a series of vacuum processes are performed on the workpiece W according to the above procedure, the rotary table 15 is driven to move the valve disk 26 holding the processed workpiece W in front of the load lock chamber 1. Move up to Next, the valve opening / closing mechanism 2
7, the valve disk 26 is driven in the closing direction, the workpiece W is carried into the load lock chamber 1, and the transport device 29 is driven to carry the workpiece W out of the load lock chamber 1.
【0051】以上述べたように本実施形態による真空処
理装置によれば、被処理物Wの搬送機構を兼ねているバ
ルブ円板(可動蓋)26に真空モータ(駆動源)34を
設け、可動蓋側電気接続部30と処理室側電気接続部3
1とを真空領域中で接続することによって真空モータ3
4に給電するようにしたので、従来の真空処理装置のよ
うに駆動力を伝達するための複雑な機構を設ける必要が
なく、構造の簡素化を図ることができ、また、駆動源
(真空モータ)の小型化、消費電力の低減を図ることが
でき、さらに、駆動力を伝達するためのシール部がない
ので真空漏れを起こすこともない。As described above, according to the vacuum processing apparatus of the present embodiment, the vacuum motor (drive source) 34 is provided on the valve disc (movable lid) 26 also serving as a transfer mechanism of the workpiece W, Lid side electrical connection 30 and processing chamber side electrical connection 3
1 in a vacuum region to connect the vacuum motor 3
4, a complicated mechanism for transmitting the driving force, unlike a conventional vacuum processing apparatus, is not required, and the structure can be simplified. ) Can be reduced in size and power consumption can be reduced. Further, since there is no seal portion for transmitting the driving force, vacuum leakage does not occur.
【0052】なお、上記の如く駆動源の消費電力を低減
させることによって駆動源からの発熱量が小さくなるの
で、本実施形態のように駆動源を真空中に配置した場合
であっても駆動源の過熱の問題は生じない。また、消費
電力が小さいので可動蓋側電気接点30a、30b、3
0c及び処理室側電気接点31a、31b、31cとし
て小容量且つ小型のものを使用することができる。Since the amount of heat generated from the driving source is reduced by reducing the power consumption of the driving source as described above, even when the driving source is disposed in a vacuum as in the present embodiment, The problem of overheating does not occur. Also, since the power consumption is small, the movable lid side electrical contacts 30a, 30b, 3
As 0c and the processing chamber side electrical contacts 31a, 31b, 31c, those having a small capacity and a small size can be used.
【0053】また、本実施形態による真空処理装置によ
れば、バルブ円板26に回転検出器60を設けて処理中
の被処理物Wの回転状態を検出し、その検出信号を可動
蓋側電気接続部30及び処理室側電気接続部31を介し
て制御部33に伝送するようにしたので、回転異常によ
る不良の被処理物Wを特定して取り除くことができ、こ
れによって歩留まり及び処理効率を向上させることがで
きる。Further, according to the vacuum processing apparatus of the present embodiment, the rotation detector 60 is provided on the valve disk 26 to detect the rotation state of the workpiece W being processed, and the detection signal is transmitted to the movable lid side electric device. Since the processing object W is transmitted to the control unit 33 via the connection unit 30 and the processing chamber side electric connection unit 31, a defective workpiece W due to abnormal rotation can be specified and removed, thereby reducing the yield and the processing efficiency. Can be improved.
【0054】また、可動蓋側電気接点30a、30b、
30cは板バネ部材で形成されているので、可動蓋側電
気接続部30と処理室側電気接続部31とを接続する際
には、無理なく確実に良好な接触状態が達成される。Also, the movable lid side electrical contacts 30a, 30b,
Since 30c is formed of a leaf spring member, when the movable lid side electrical connection portion 30 and the processing chamber side electrical connection portion 31 are connected, a good contact state is achieved without difficulty.
【0055】なお、本実施形態においては、可動蓋側電
気接続部30及び処理室側電気接続部31には各3つの
電気接点が設けられているが、この設置数は4個以上と
することもできるし、3個未満とすることもできる。In the present embodiment, each of the movable lid-side electrical connection portion 30 and the processing chamber-side electrical connection portion 31 is provided with three electrical contacts, but the number of these electrical contacts should be four or more. Or less than three.
【0056】変形例 次に、本実施形態の一変形例について図11を参照して
説明する。本変形例は、可動蓋側電気接続部30の3つ
の可動蓋側電気接点30a、30b、30cの構造を変
更したものである。 Modification Next, a modification of this embodiment will be described with reference to FIG. In this modification, the structure of the three movable lid-side electrical contacts 30a, 30b, and 30c of the movable lid-side electrical connection unit 30 is changed.
【0057】図11に示したように本変形例において
は、可動蓋側電気接続部30の可動蓋側電気接点30a
(30b、30c)は、板バネ部材に代えて、スプリン
グ42によって軸方向に付勢されたピン部材41によっ
て構成されている。このピン部材41は、その全体を金
属材料で形成することもできるし、或いは、表面に導電
性材料をコーティングした各種部材で形成することもで
きる。As shown in FIG. 11, in the present modification, the movable lid-side electrical contact 30a of the movable lid-side electrical connection portion 30 is provided.
(30b, 30c) is constituted by a pin member 41 urged in the axial direction by a spring 42 instead of the leaf spring member. The entirety of the pin member 41 can be formed of a metal material, or can be formed of various members having a surface coated with a conductive material.
【0058】このように、可動蓋側電気接点30a、3
0b、30cを、スプリング42で付勢されたピン部材
41によって形成すれば、可動蓋側電気接続部30と処
理室側電気接続部31とを接続する際に無理なく確実に
良好な接触状態が達成されるばかりでなく、可動蓋側電
気接点30a、30b、30cによって占有される面積
が小さくなるので、可動蓋側電気接続部30を小さくす
ることができ、さらに、可動蓋側電気接点30a、30
b、30cの設置数を容易に増やすことができる。As described above, the movable lid-side electrical contacts 30a, 3
If the pins 0b and 30c are formed by the pin members 41 urged by the springs 42, when the movable lid side electric connection portion 30 and the processing chamber side electric connection portion 31 are connected, a good contact state is ensured without difficulty. Not only is achieved, but the area occupied by the movable lid-side electrical contacts 30a, 30b, and 30c is reduced, so that the movable lid-side electrical connection portion 30 can be reduced. 30
The number of installations of b and 30c can be easily increased.
【0059】[0059]
【発明の効果】以上述べたように本発明による真空処理
装置によれば、被処理物の保持手段とこの保持手段を回
転させる駆動源とを可動蓋に設け、可動蓋側電気接点と
処理室側電気接点とを接続することによって駆動源に給
電できるようにしたので、従来の真空処理装置のように
駆動力を伝達するための複雑な機構を設ける必要がな
く、構造の簡素化を図ることができ、また、駆動源の小
型化及び消費電力の低減を図ることができ、さらに、駆
動力を伝達するためのシール部がないので真空漏れの問
題を解消することができる。As described above, according to the vacuum processing apparatus of the present invention, the holding means for holding the object to be processed and the drive source for rotating the holding means are provided on the movable lid, and the movable lid side electric contact and the processing chamber are provided. Since the power source can be supplied with power by connecting to the side electrical contacts, there is no need to provide a complicated mechanism for transmitting the driving force as in a conventional vacuum processing device, and the structure can be simplified. In addition, the size of the driving source can be reduced and the power consumption can be reduced. Further, since there is no seal for transmitting the driving force, the problem of vacuum leakage can be solved.
【図1】本発明の一実施形態による真空処理装置の概略
構成を示した平面図。FIG. 1 is a plan view showing a schematic configuration of a vacuum processing apparatus according to an embodiment of the present invention.
【図2】バルブ円板によって真空処理室を閉塞した状態
を示した側面図。FIG. 2 is a side view showing a state where the vacuum processing chamber is closed by a valve disk.
【図3】バルブ円板によって真空処理室を閉塞した状態
を示した正面図。FIG. 3 is a front view showing a state in which the vacuum processing chamber is closed by a valve disk;
【図4】バルブ円板の側面図。FIG. 4 is a side view of a valve disk.
【図5】バルブ円板の正面図。FIG. 5 is a front view of a valve disk.
【図6】図4の6−6線に沿った断面図。FIG. 6 is a sectional view taken along the line 6-6 in FIG. 4;
【図7】回転検出器の平面図。FIG. 7 is a plan view of a rotation detector.
【図8】フォトインタラプタの回路図。FIG. 8 is a circuit diagram of a photo interrupter.
【図9】接触状態にある可動蓋側電気接続部及び処理室
側電気接続部を示した側面図。FIG. 9 is a side view showing the movable lid side electrical connection portion and the processing chamber side electrical connection portion in a contact state.
【図10】処理室側電気接続部31の正面図。FIG. 10 is a front view of a processing chamber side electric connection unit 31;
【図11】本発明の実施形態の一変形例の主要部を示し
た側面図。FIG. 11 is a side view showing a main part of a modification of the embodiment of the present invention.
【図12】従来の真空処理装置における駆動力伝達機構
の一例を示した図。FIG. 12 is a diagram showing an example of a driving force transmission mechanism in a conventional vacuum processing apparatus.
【図13】従来の真空処理装置における駆動力伝達機構
の他の例を示した図。FIG. 13 is a diagram showing another example of a driving force transmission mechanism in a conventional vacuum processing apparatus.
【図14】従来の真空処理装置における駆動力伝達機構
の伝導継ぎ手の一例を示した図。FIG. 14 is a view showing an example of a transmission joint of a driving force transmission mechanism in a conventional vacuum processing apparatus.
1 ロードロック室 1a ロードロック室の開口部 2A、2B…2G 真空処理室 2a 真空処理室の開口部 3 真空搬送室 14 加工装置 26 バルブ円板(可動蓋) 27 バルブ開閉機構 28 ディスクホルダ(保持手段) 30 可動蓋側電気接続部 30a、30b、30c 可動蓋側電気接点 31 処理室側電気接続部 31a、31b、31c 処理室側電気接点 32 電源 33 制御部 34 真空モータ(駆動源) 60 回転検出器 62 反射型フォトインタラプタ W 被処理物 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Load lock chamber 1a Load lock chamber opening 2A, 2B ... 2G Vacuum processing chamber 2a Vacuum processing chamber opening 3 Vacuum transfer chamber 14 Processing device 26 Valve disk (movable lid) 27 Valve opening / closing mechanism 28 Disk holder (holding) Means) 30 Movable lid side electrical connection section 30a, 30b, 30c Movable lid side electrical contact 31 Processing chamber side electrical connection section 31a, 31b, 31c Processing chamber side electrical contact 32 Power supply 33 Control section 34 Vacuum motor (drive source) 60 rotation Detector 62 Reflection type photo interrupter W Workpiece
フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 FI // H01L 21/205 H01L 21/205 21/3065 21/302 B Continued on the front page (51) Int.Cl. 6 Identification code FI // H01L 21/205 H01L 21/205 21/3065 21/302 B
Claims (7)
処理室と、 前記各真空処理室の前記真空搬送室に面した側に形成さ
れた各開口部と、 前記真空搬送室の内部に設けられ、前記開口部を閉塞可
能な可動蓋と、 前記可動蓋に回転可能に設けられ、被処理物を保持する
ための保持手段と、 前記可動蓋に設けられ、前記保持手段を回転駆動するた
めの駆動源と、 前記可動蓋に設けられ、前記駆動源に接続された可動蓋
側電気接点と、 前記真空処理室の前記真空搬送室に面した側に設けら
れ、電源に接続された処理室側電気接点と、を備え、 前記可動蓋が前記開口部を閉塞したときに、前記可動蓋
側電気接点と前記処理室側電気接点とが接触し、前記電
源から前記駆動源に給電できることを特徴とする真空処
理装置。A vacuum transfer chamber capable of evacuating the inside, a plurality of vacuum processing chambers disposed adjacent to an outer periphery of the vacuum transfer chamber, and a side of each of the vacuum processing chambers facing the vacuum transfer chamber. Openings provided in the vacuum transfer chamber, a movable lid capable of closing the openings, and a holding means rotatably provided in the movable lid for holding an object to be processed. A drive source provided on the movable lid to rotationally drive the holding unit; a movable lid-side electrical contact provided on the movable lid and connected to the drive source; and the vacuum of the vacuum processing chamber. A processing chamber side electrical contact provided on a side facing the transfer chamber and connected to a power supply, wherein when the movable lid closes the opening, the movable lid side electrical contact and the processing chamber side electrical contact are provided. The power supply can supply power to the drive source from the power supply by contact with a contact The vacuum processing apparatus according to claim.
転状態を検出するための回転検出器と、 前記可動蓋に設けられ、前記回転検出器に接続された可
動蓋側電気接点と、 前記真空処理室の前記真空搬送室に面した側に設けら
れ、前記真空処理装置の制御部に接続された処理室側電
気接点と、をさらに備え、 前記可動蓋が前記開口部を閉塞したときに、前記可動蓋
側電気接点と前記処理室側電気接点とが接触し、前記回
転検出器から前記制御部に検出信号を伝送できることを
特徴とする請求項1記載の真空処理装置。2. A rotation detector provided on the movable lid for detecting a rotation state of the workpiece, a movable lid-side electrical contact provided on the movable lid and connected to the rotation detector. A processing chamber-side electrical contact provided on a side of the vacuum processing chamber facing the vacuum transfer chamber and connected to a control unit of the vacuum processing apparatus, wherein the movable lid closes the opening. 2. The vacuum processing apparatus according to claim 1, wherein the movable lid-side electrical contact and the processing chamber-side electrical contact come into contact with each other, and a detection signal can be transmitted from the rotation detector to the control unit.
光を発するように配置されたフォトインタラプタを有
し、 前記保持手段の受光部分に、光の反射状態の異なる複数
の箇所を交互に形成したことを特徴とする請求項2記載
の真空処理装置。3. The rotation detector has a photo-interrupter arranged to emit light to the holding means, and a plurality of locations having different light reflection states are alternately arranged on a light receiving portion of the holding means. 3. The vacuum processing apparatus according to claim 2, wherein the vacuum processing apparatus is formed.
前記保持手段の受光部分に交互に形成された平坦部及び
凹部であることを特徴とする請求項3記載の真空処理装
置。4. The method according to claim 1, wherein the plurality of portions having different light reflection states include:
4. The vacuum processing apparatus according to claim 3, wherein the holding unit includes a flat portion and a concave portion formed alternately on a light receiving portion.
気接点に押し付けられた際に、その押し付け方向と反対
の方向に変位し得ることを特徴とする請求項1乃至請求
項4のいずれか一項に記載の真空処理装置。5. The movable cover-side electrical contact can be displaced in a direction opposite to the pressing direction when pressed against the processing chamber-side electrical contact. The vacuum processing apparatus according to claim 1.
って形成されていることを特徴とする請求項5記載の真
空処理装置。6. The vacuum processing apparatus according to claim 5, wherein said movable lid side electrical contact is formed by a leaf spring member.
って軸方向に付勢されたピン部材によって形成されてい
ることを特徴とする請求項5記載の真空処理装置。7. The vacuum processing apparatus according to claim 5, wherein said movable lid side electrical contact is formed by a pin member which is urged in an axial direction by a spring.
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Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2002079080A1 (en) * | 2001-03-29 | 2002-10-10 | Kabushiki Kaisha Toyota Chuo Kenkyusho | Production device and production method for silicon-based structure |
DE102011106859A1 (en) * | 2011-07-07 | 2013-01-10 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | Method and device for the continuous coating of substrates |
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WO2002079080A1 (en) * | 2001-03-29 | 2002-10-10 | Kabushiki Kaisha Toyota Chuo Kenkyusho | Production device and production method for silicon-based structure |
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