JPH10227828A - Ic試験装置 - Google Patents
Ic試験装置Info
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- JPH10227828A JPH10227828A JP9028843A JP2884397A JPH10227828A JP H10227828 A JPH10227828 A JP H10227828A JP 9028843 A JP9028843 A JP 9028843A JP 2884397 A JP2884397 A JP 2884397A JP H10227828 A JPH10227828 A JP H10227828A
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- plate
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- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
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- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01R—MEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
- G01R31/00—Arrangements for testing electric properties; Arrangements for locating electric faults; Arrangements for electrical testing characterised by what is being tested not provided for elsewhere
- G01R31/28—Testing of electronic circuits, e.g. by signal tracer
- G01R31/2851—Testing of integrated circuits [IC]
- G01R31/2855—Environmental, reliability or burn-in testing
- G01R31/2872—Environmental, reliability or burn-in testing related to electrical or environmental aspects, e.g. temperature, humidity, vibration, nuclear radiation
- G01R31/2874—Environmental, reliability or burn-in testing related to electrical or environmental aspects, e.g. temperature, humidity, vibration, nuclear radiation related to temperature
- G01R31/2877—Environmental, reliability or burn-in testing related to electrical or environmental aspects, e.g. temperature, humidity, vibration, nuclear radiation related to temperature related to cooling
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01R—MEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
- G01R31/00—Arrangements for testing electric properties; Arrangements for locating electric faults; Arrangements for electrical testing characterised by what is being tested not provided for elsewhere
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- Testing Of Individual Semiconductor Devices (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 ヒートプレートによって被試験ICを加熱
し、ICを試験する構造のIC試験装置において、IC
の端子構造によりICとヒートプレートとの接触面積を
大きく採れないICでもICの温度をヒートプレートの
温度に近づけることができる構造を提供する。 【解決手段】 ヒートプレートの上面にシャッタ板を被
せ、ヒートプレートに形成したIC収納用凹部の上面を
開閉できる構造とし、IC搬送装置がヒートプレートに
アクセスしない状態ではシャッタ板によりIC収納用凹
部を閉塞状態に維持させ、ICを閉塞空間内にとじ込め
ることにより、ICに充分な熱エネルギーを与える。
し、ICを試験する構造のIC試験装置において、IC
の端子構造によりICとヒートプレートとの接触面積を
大きく採れないICでもICの温度をヒートプレートの
温度に近づけることができる構造を提供する。 【解決手段】 ヒートプレートの上面にシャッタ板を被
せ、ヒートプレートに形成したIC収納用凹部の上面を
開閉できる構造とし、IC搬送装置がヒートプレートに
アクセスしない状態ではシャッタ板によりIC収納用凹
部を閉塞状態に維持させ、ICを閉塞空間内にとじ込め
ることにより、ICに充分な熱エネルギーを与える。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】この発明は各種の半導体集積
回路素子(以下ICと称す)を試験するIC試験装置
の、特に被試験ICを順次テスト部に搬送し、テスト済
のICを順次テスト部から排除して所定の収納部に搬送
するハンドラと呼ばれる分野の発明である。
回路素子(以下ICと称す)を試験するIC試験装置
の、特に被試験ICを順次テスト部に搬送し、テスト済
のICを順次テスト部から排除して所定の収納部に搬送
するハンドラと呼ばれる分野の発明である。
【0002】
【従来の技術】図2及び図3にこの発明で対象としてい
る型式のIC試験装置の概略の構成を示す。この例では
基盤10上に2組のX−Y搬送アーム20と30が設け
られ、一方のX−Y搬送アーム20により、これから試
験を行うIC及び試験済のICを搬送する作業を行い、
他方のX−Y搬送アーム30はバッファBU1に供給さ
れたICをテスト部TSに搬送し、テスト部TSから試
験済のICを他方のバッファBU2に運ぶ作業を行う型
式のIC試験装置の場合を例示して示す。
る型式のIC試験装置の概略の構成を示す。この例では
基盤10上に2組のX−Y搬送アーム20と30が設け
られ、一方のX−Y搬送アーム20により、これから試
験を行うIC及び試験済のICを搬送する作業を行い、
他方のX−Y搬送アーム30はバッファBU1に供給さ
れたICをテスト部TSに搬送し、テスト部TSから試
験済のICを他方のバッファBU2に運ぶ作業を行う型
式のIC試験装置の場合を例示して示す。
【0003】つまり、X−Y搬送アーム20は第1Xレ
ール21によってX方向に移動自在に支持され、基盤1
0上の領域Aを搬送可能領域とする。他方のX−Y搬送
アーム30は第2Xレール31によってX方向に移動自
在に支持され、基盤10上の領域Bを搬送可能領域とす
る。搬送可能領域Aにはこれから試験を行う被試験IC
を格納した供給トレー41と、試験済のICを試験結果
に対応して仕分けして格納する分類トレー42,43,
44,45と、空のトレーを積み重ねた部分46とが配
置されると共に、バッファBU1に近接してヒートプレ
ート50が配置される。
ール21によってX方向に移動自在に支持され、基盤1
0上の領域Aを搬送可能領域とする。他方のX−Y搬送
アーム30は第2Xレール31によってX方向に移動自
在に支持され、基盤10上の領域Bを搬送可能領域とす
る。搬送可能領域Aにはこれから試験を行う被試験IC
を格納した供給トレー41と、試験済のICを試験結果
に対応して仕分けして格納する分類トレー42,43,
44,45と、空のトレーを積み重ねた部分46とが配
置されると共に、バッファBU1に近接してヒートプレ
ート50が配置される。
【0004】ヒートプレート50は例えば金属材料で形
成され、被試験ICを格納するIC収納用凹部51を複
数具備し、このIC収納用凹部51に供給トレー41か
ら被試験ICがX−Y搬送アーム20によって搬送され
る。ヒートプレート50は被試験ICに与える温度に加
熱されて配置されており、被試験ICはこのヒートプレ
ート50上で所望の温度に加熱され、バッファBU1を
通じてテスト部TSに搬送される。
成され、被試験ICを格納するIC収納用凹部51を複
数具備し、このIC収納用凹部51に供給トレー41か
ら被試験ICがX−Y搬送アーム20によって搬送され
る。ヒートプレート50は被試験ICに与える温度に加
熱されて配置されており、被試験ICはこのヒートプレ
ート50上で所望の温度に加熱され、バッファBU1を
通じてテスト部TSに搬送される。
【0005】バッファBU1とBU2はX−Y搬送アー
ム20と30の動作領域AとBの間を往復し、バッファ
BU1は被試験ICを領域Aから領域Bに移動させる作
業を行い、バッファBU2は領域Bから領域Aに試験済
のICを運び出す作業を行う。このバッファBU1とB
U2の存在によってX−Y搬送アーム20と30が相互
に干渉することなく動作できる構造とされている。
ム20と30の動作領域AとBの間を往復し、バッファ
BU1は被試験ICを領域Aから領域Bに移動させる作
業を行い、バッファBU2は領域Bから領域Aに試験済
のICを運び出す作業を行う。このバッファBU1とB
U2の存在によってX−Y搬送アーム20と30が相互
に干渉することなく動作できる構造とされている。
【0006】X−Y搬送アーム20と30にはそれぞれ
にZ軸駆動手段が装着され、このZ軸駆動手段によって
トレー或いはヒートプレート50,或いはテスト部TS
からICを拾い上げる動作及びトレー及びヒートプレー
ト50或いはテスト部TSにICを降ろす作業を行う。
図3にZ軸駆動手段の概略の構成を示す。この例ではX
−Y搬送アーム20に装着したZ軸駆動手段60を例示
して説明する。X−Y搬送アーム20の中空部分にはス
クリューシャフト22とガイドシャフト23とが格納さ
れており、このスクリューシャフト22とガイドシャフ
ト23にX−Y移動ヘッド24が螺合し、スクリューシ
ャフト22が回転駆動されることより、X−Y移動ヘッ
ド24がX−Y搬送アーム20に沿って移動する。
にZ軸駆動手段が装着され、このZ軸駆動手段によって
トレー或いはヒートプレート50,或いはテスト部TS
からICを拾い上げる動作及びトレー及びヒートプレー
ト50或いはテスト部TSにICを降ろす作業を行う。
図3にZ軸駆動手段の概略の構成を示す。この例ではX
−Y搬送アーム20に装着したZ軸駆動手段60を例示
して説明する。X−Y搬送アーム20の中空部分にはス
クリューシャフト22とガイドシャフト23とが格納さ
れており、このスクリューシャフト22とガイドシャフ
ト23にX−Y移動ヘッド24が螺合し、スクリューシ
ャフト22が回転駆動されることより、X−Y移動ヘッ
ド24がX−Y搬送アーム20に沿って移動する。
【0007】X−Y搬送アーム20に装着されるZ軸駆
動手段60は、この例では図2に示すように4本のエア
シリンダS1,S2,S3,S4を垂直下向に装着して
構成した場合を示す。エアシリンダS1,S2とS3,
S4をペアで動作させ、一度に2個のICを吸着して搬
送する。エアシリンダS1とS2に装着した真空吸着ヘ
ッド61(図3参照)にはヒータ(特に図示しない)を
装備して、ヒートプレート50で加熱したICをバッフ
ァBU1に搬送する場合に用いる。他方の組のエアシリ
ンダS3とS4に装着された真空吸着ヘッド62はヒー
タを具備せず常温の状態でICを搬送する部分で用い
る。つまり、供給トレー41からヒートプレート50に
ICを搬送する場合、及びバッファBU2から各分類ト
レー42,43,44,45に試験済のICを分類して
格納する場合等に用いる。
動手段60は、この例では図2に示すように4本のエア
シリンダS1,S2,S3,S4を垂直下向に装着して
構成した場合を示す。エアシリンダS1,S2とS3,
S4をペアで動作させ、一度に2個のICを吸着して搬
送する。エアシリンダS1とS2に装着した真空吸着ヘ
ッド61(図3参照)にはヒータ(特に図示しない)を
装備して、ヒートプレート50で加熱したICをバッフ
ァBU1に搬送する場合に用いる。他方の組のエアシリ
ンダS3とS4に装着された真空吸着ヘッド62はヒー
タを具備せず常温の状態でICを搬送する部分で用い
る。つまり、供給トレー41からヒートプレート50に
ICを搬送する場合、及びバッファBU2から各分類ト
レー42,43,44,45に試験済のICを分類して
格納する場合等に用いる。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】上述したように、この
種のIC試験装置ではヒートプレート50で被試験IC
を加熱し、所定の温度に維持した状態でICを試験して
いる。端子形状が図4に示すように、パッケージの四周
に突出したQFP或いはSOP等と呼ばれる構造のIC
の場合は、ヒートプレート50に形成するIC収納用凹
部51は凹部51の底面52とICのパッケージPKと
が面接触する構造とすることができる。この構造によれ
ば、ICとヒートプレート50との接触面積が充分に採
れるため、ICをヒートプレート50の温度と同等の温
度まで加熱することができる。
種のIC試験装置ではヒートプレート50で被試験IC
を加熱し、所定の温度に維持した状態でICを試験して
いる。端子形状が図4に示すように、パッケージの四周
に突出したQFP或いはSOP等と呼ばれる構造のIC
の場合は、ヒートプレート50に形成するIC収納用凹
部51は凹部51の底面52とICのパッケージPKと
が面接触する構造とすることができる。この構造によれ
ば、ICとヒートプレート50との接触面積が充分に採
れるため、ICをヒートプレート50の温度と同等の温
度まで加熱することができる。
【0009】これに対し、ICの端子がBGA等と呼ば
れる構造の場合は図5に示すようにICのパッケージP
Kの下面に端子Tが配列形成されるため、この端子Tが
形成される部分をヒートプレート50に直接接触させる
ことはできない。このために端子Tが形成された部分の
外側の部分でICを支持する段部53をヒートプレート
50の凹部51に設けた構造とされる。
れる構造の場合は図5に示すようにICのパッケージP
Kの下面に端子Tが配列形成されるため、この端子Tが
形成される部分をヒートプレート50に直接接触させる
ことはできない。このために端子Tが形成された部分の
外側の部分でICを支持する段部53をヒートプレート
50の凹部51に設けた構造とされる。
【0010】この構造の場合は、パッケージPKとヒー
トプレート50の接触面積が小さいため、ICを充分に
加熱することができない不都合が生じる。つまり、この
種のIC試験装置では被試験ICを例えば125℃以上
に加熱して試験を行うことが一般化されているが、図5
に示した構造の場合は最終到達温度は115℃程度であ
り、被試験ICの温度を125℃まで上昇させることは
難しい。このため、ヒートプレート50の表面温度を高
めに設定することが考えられるが、このためにはヒート
プレート50に接する各部の耐熱性等も考慮し、またヒ
ートプレート50の温度制御用プログラム等も手直しす
る必要があるため面倒である。
トプレート50の接触面積が小さいため、ICを充分に
加熱することができない不都合が生じる。つまり、この
種のIC試験装置では被試験ICを例えば125℃以上
に加熱して試験を行うことが一般化されているが、図5
に示した構造の場合は最終到達温度は115℃程度であ
り、被試験ICの温度を125℃まで上昇させることは
難しい。このため、ヒートプレート50の表面温度を高
めに設定することが考えられるが、このためにはヒート
プレート50に接する各部の耐熱性等も考慮し、またヒ
ートプレート50の温度制御用プログラム等も手直しす
る必要があるため面倒である。
【0011】この発明の目的は、ICの温度をヒートプ
レートの温度に近づくまで加熱することができるIC試
験装置を提供しようとするものである。
レートの温度に近づくまで加熱することができるIC試
験装置を提供しようとするものである。
【0012】
【課題を解決するための手段】この発明ではヒートプレ
ートの上面にシャッタ板を設け、このシャッタ板によっ
て平素はヒートプレートに形成したIC収納用凹部の開
口部分を塞いでおき、ヒートプレートに対してICを供
給する場合及びヒートプレートからICを取り出す場合
だけシャッタ板を開放状態に制御する構造としたもので
ある。
ートの上面にシャッタ板を設け、このシャッタ板によっ
て平素はヒートプレートに形成したIC収納用凹部の開
口部分を塞いでおき、ヒートプレートに対してICを供
給する場合及びヒートプレートからICを取り出す場合
だけシャッタ板を開放状態に制御する構造としたもので
ある。
【0013】この発明の構造によれば、平素はシャッタ
板によってヒートプレートに形成したIC収納用凹部の
開口部分が閉塞された状態に維持される。よってIC収
納用凹部の内部は恒温槽と同等な状態となり、ICとヒ
ートプレートとの間の接触面積を充分に採ることができ
ない端子構造のICでも、ICの温度をヒートプレート
の温度近くまで上昇させることができる。
板によってヒートプレートに形成したIC収納用凹部の
開口部分が閉塞された状態に維持される。よってIC収
納用凹部の内部は恒温槽と同等な状態となり、ICとヒ
ートプレートとの間の接触面積を充分に採ることができ
ない端子構造のICでも、ICの温度をヒートプレート
の温度近くまで上昇させることができる。
【0014】
【発明の実施の形態】図1にこの発明の要部の実施構造
の一例を示す。図中50はヒートプレートを示す。この
発明ではヒートプレート50の上面に、例えば0.5〜1.
0mm厚程度のステンレス板またはその他の断熱性を持つ
材質の板によって形成したシャッタ板70を被せる。シ
ャッタ板70にはシャッタ板70の移動方向Cに関して
ヒートプレート50に形成したIC収納用凹部51の配
列ピッチPにほぼ等しいピッチで開口部71を形成し、
この開口部71の形成によって開口部71の相互の間に
IC収納用凹部51を塞ぐ閉塞部72を形成する。
の一例を示す。図中50はヒートプレートを示す。この
発明ではヒートプレート50の上面に、例えば0.5〜1.
0mm厚程度のステンレス板またはその他の断熱性を持つ
材質の板によって形成したシャッタ板70を被せる。シ
ャッタ板70にはシャッタ板70の移動方向Cに関して
ヒートプレート50に形成したIC収納用凹部51の配
列ピッチPにほぼ等しいピッチで開口部71を形成し、
この開口部71の形成によって開口部71の相互の間に
IC収納用凹部51を塞ぐ閉塞部72を形成する。
【0015】シャッタ板70の移動方向Cと平行する辺
をガイド73に係合させ、シャッタ板70をヒートプレ
ート50と平行な姿勢を保って移動するように支持す
る。74は例えばエアシリンダのような直線駆動源を示
し、この直線駆動源74によって押す方向及び引く方向
の双方向にシャッタ板70を移動させる。つまり、この
例では直線駆動源74を引く方向に駆動することによ
り、開口部71がヒートプレート50のIC収納用凹部
51と対向し、IC収納用凹部51の上部を開放した状
態とし、直線駆動源74を押す方向に駆動すると、閉塞
部72がヒートプレート50に形成したIC収納用凹部
51と対向した状態にシャッタ板70が移動し、IC収
納用凹部51を閉塞した状態とする。
をガイド73に係合させ、シャッタ板70をヒートプレ
ート50と平行な姿勢を保って移動するように支持す
る。74は例えばエアシリンダのような直線駆動源を示
し、この直線駆動源74によって押す方向及び引く方向
の双方向にシャッタ板70を移動させる。つまり、この
例では直線駆動源74を引く方向に駆動することによ
り、開口部71がヒートプレート50のIC収納用凹部
51と対向し、IC収納用凹部51の上部を開放した状
態とし、直線駆動源74を押す方向に駆動すると、閉塞
部72がヒートプレート50に形成したIC収納用凹部
51と対向した状態にシャッタ板70が移動し、IC収
納用凹部51を閉塞した状態とする。
【0016】直線駆動源74は平素は閉塞部72がIC
収納用凹部51と対向した状態を維持させるが、図3で
説明したX−Y搬送アーム20に搭載したZ軸駆動手段
60がヒートプレート50の上部に運ばれ、ヒートプレ
ート50にICを降ろす状態になるか、或いはヒートプ
レート50からICを取り出す状態では直線駆動源74
はシャッタ板70を引く方向に移動させ、シャッタ板7
0の開口部71をヒートプレート50のIC収納用凹部
51の上部に移動させ、IC収納用凹部51の上部を開
放させる。
収納用凹部51と対向した状態を維持させるが、図3で
説明したX−Y搬送アーム20に搭載したZ軸駆動手段
60がヒートプレート50の上部に運ばれ、ヒートプレ
ート50にICを降ろす状態になるか、或いはヒートプ
レート50からICを取り出す状態では直線駆動源74
はシャッタ板70を引く方向に移動させ、シャッタ板7
0の開口部71をヒートプレート50のIC収納用凹部
51の上部に移動させ、IC収納用凹部51の上部を開
放させる。
【0017】従って、Z軸駆動手段60はシャッタ板7
0に形成した開口部71を通じてヒートプレート50に
ICを降ろすか、またはヒートプレート50からICを
取り上げることができる。図1に示す80は直線駆動源
74を制御する制御器を示す。この制御器80はこの例
ではマイクロコンピュータによって構成した場合を示
す。つまり、中央演算処理装置81と、プログラム等を
格納したROM82と、入力データ等を一時記憶するR
AM83と、入力ポート84,出力ポート85等によっ
て構成することかできる。
0に形成した開口部71を通じてヒートプレート50に
ICを降ろすか、またはヒートプレート50からICを
取り上げることができる。図1に示す80は直線駆動源
74を制御する制御器を示す。この制御器80はこの例
ではマイクロコンピュータによって構成した場合を示
す。つまり、中央演算処理装置81と、プログラム等を
格納したROM82と、入力データ等を一時記憶するR
AM83と、入力ポート84,出力ポート85等によっ
て構成することかできる。
【0018】入力ポート84を通じてZ軸駆動手段60
(図3参照)がヒートプレート50の上部に到来し、I
Cを降ろすことを表す信号DWまたはヒートプレート5
0からICを取り上げる信号UPが入力されると、中央
演算処理装置81はその信号DWまたはUPを解読して
出力ポート85から直線駆動源74にシャッタ板70を
引き込む方向に動作させる制御信号を与え、シャッタ板
70を移動させ、開口部71をIC収納用凹部51に対
向させた状態に駆動させる。
(図3参照)がヒートプレート50の上部に到来し、I
Cを降ろすことを表す信号DWまたはヒートプレート5
0からICを取り上げる信号UPが入力されると、中央
演算処理装置81はその信号DWまたはUPを解読して
出力ポート85から直線駆動源74にシャッタ板70を
引き込む方向に動作させる制御信号を与え、シャッタ板
70を移動させ、開口部71をIC収納用凹部51に対
向させた状態に駆動させる。
【0019】Z軸駆動手段60がICをIC収納用凹部
51に降ろすか、またはIC収納用凹部51からICを
取り上げ上昇位置に戻ったことを表す信号RSが入力さ
れると、中央演算処理装置81は直線駆動源74に押し
出す方向の制御信号を出力ポート85から出力させ、直
線駆動源74を駆動させ、IC収納用凹部51の上部を
閉塞させる。
51に降ろすか、またはIC収納用凹部51からICを
取り上げ上昇位置に戻ったことを表す信号RSが入力さ
れると、中央演算処理装置81は直線駆動源74に押し
出す方向の制御信号を出力ポート85から出力させ、直
線駆動源74を駆動させ、IC収納用凹部51の上部を
閉塞させる。
【0020】
【発明の効果】以上説明したように、この発明によれば
平素はヒートプレート50に形成されるIC収納用凹部
51の上部がシャッタ板70によって閉塞されるから、
IC収納用凹部51の内部に格納したICは恒温槽の内
部に格納されているのと同等な状態におかれ、ICは充
分に加熱される雰囲気にさらされる。よって、ヒートプ
レート50と接触面積が大きく採れない構造のICで
も、ICの温度をヒートプレート50の温度に近づくま
でに加熱することができる利点が得られる。
平素はヒートプレート50に形成されるIC収納用凹部
51の上部がシャッタ板70によって閉塞されるから、
IC収納用凹部51の内部に格納したICは恒温槽の内
部に格納されているのと同等な状態におかれ、ICは充
分に加熱される雰囲気にさらされる。よって、ヒートプ
レート50と接触面積が大きく採れない構造のICで
も、ICの温度をヒートプレート50の温度に近づくま
でに加熱することができる利点が得られる。
【0021】因みに、ヒートプレート50の表面温度が
130℃の場合、シャッタ板70を設けたことによりI
Cの温度を129℃まで上昇させることができた。
130℃の場合、シャッタ板70を設けたことによりI
Cの温度を129℃まで上昇させることができた。
【図1】この発明の要部の構造を説明するための平面
図。
図。
【図2】従来の技術を説明するための平面図。
【図3】図2の一部を詳細に説明するための断面図。
【図4】この発明で解決しようとする課題を説明するた
めの拡大断面図。
めの拡大断面図。
【図5】図4と同様の拡大断面図。
10 基盤 20,30 X−Y搬送アーム 41 供給トレー 42,43,44,45 分類トレー 50 ヒートプレート 51 IC収納用凹部 60 Z軸駆動手段 70 シャッタ板 71 開口部 72 閉塞部 74 直線駆動源 80 制御器
Claims (1)
- 【請求項1】 A.被試験ICを収納する複数のIC収
納用凹部を有し、被試験ICに印加すべき温度に加熱さ
れるヒートプレートと、 このヒートプレートに収納された被試験ICを順次テス
ト部に搬送するX−Y−Z搬送手段と、 上記X−Y−Z搬送手段によって搬送される試験済IC
を受け取る分類トレーと、を具備して構成されるIC試
験装置において、 B.上記ヒートプレートの上面に可動自在に配置され、
上記IC収納用凹部の配列に従って形成された開口部
と、この開口部に隣接して上記IC収納用凹部を塞ぐ閉
塞部とを形成して構成したシャッタ板と、 C.このシャッタ板を移動させ、上記IC収納用凹部を
開放した状態と閉じた状態とに切替える駆動源と、 D.上記X−Y−Z搬送手段が上記ヒートプレートに近
づき被試験ICを上記ヒートプレートに降ろす動作及び
上記ヒートプレートからICを取り上げる動作に入るご
とに上記駆動源を駆動させて上記IC収納部を開放させ
る制御器と、 を付加したことを特徴とするIC試験装置。
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