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JPH10204188A - Heat-resistant synthetic resin film having improved slipperiness and its production - Google Patents

Heat-resistant synthetic resin film having improved slipperiness and its production

Info

Publication number
JPH10204188A
JPH10204188A JP2573297A JP2573297A JPH10204188A JP H10204188 A JPH10204188 A JP H10204188A JP 2573297 A JP2573297 A JP 2573297A JP 2573297 A JP2573297 A JP 2573297A JP H10204188 A JPH10204188 A JP H10204188A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
film
undulation
fine particles
heat
average
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2573297A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Hirosaku Nagasawa
啓作 長沢
Hideo Kasatani
秀雄 笠谷
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Asahi Chemical Industry Co Ltd
Original Assignee
Asahi Chemical Industry Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Asahi Chemical Industry Co Ltd filed Critical Asahi Chemical Industry Co Ltd
Priority to JP2573297A priority Critical patent/JPH10204188A/en
Publication of JPH10204188A publication Critical patent/JPH10204188A/en
Pending legal-status Critical Current

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  • Manufacture Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
  • Moulding By Coating Moulds (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a heat-resistant synthetic film exhibiting desirable mechanical properties, being capable of being used as a base film reduced in thickness and having very smooth surface roughness required in various uses without detriment to the slipperiness in handling during the production process or in service as a product. SOLUTION: This film is one made from a heat-resistant resin, having an average thickness of 2-8μm, containing 0.005-1.0wt.% inert microparticles having a mean particle diameter of 5-150nm and an average degree of agglomeration of 1-100 and satisfying the requirements: at least either of the surfaces has a center average surface roughness (SRa) of 0.1-10nm when observed from the resolving power of an optical surface roughness meter, the maximum protrusion height (Zmax) is 5-100nm when measured with an interatomic power microscope, at least either of the surfaces has a gentle undulation approximate to a two-dimensional sinusoid in the direction of surface, the center line depth of this undulation is 0.1-1.5μm, the wavelength of the undulation is 0.05-5mm, and the coefficient of dynamic friction is 0.5 or below.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、機械的特性に優れ
た薄手の耐熱性ベースフィルムに関するものであり、更
に詳しくは、印刷用インクリボンや磁気テープなどのベ
ースフィルムとして要求されるきわめて平滑な表面と製
造工程や商品として使用されるに当たり必要な優れた滑
り性を兼ね備えた耐熱性ベースフィルムに関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a thin heat-resistant base film having excellent mechanical properties, and more particularly, to an extremely smooth base film required for a printing ink ribbon or a magnetic tape. The present invention relates to a heat-resistant base film having both a surface and an excellent slip property required for use as a production process or a product.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来からフィルムの表面が平滑すぎると
フィルムの滑り性がなくなり、製造や使用に当たってし
わが発生するなど取り扱い性が悪くなることが知られて
おり、それを防止するために、いわゆる滑剤として無機
粒子などの微粒子を添加してフィルムを製造することが
知られている。
2. Description of the Related Art Conventionally, it has been known that if the surface of a film is too smooth, the film loses its slipperiness and its handleability deteriorates, such as generation of wrinkles during production and use. It is known to produce a film by adding fine particles such as inorganic particles as a lubricant.

【0003】一方、例えば、磁気テープにおいてはベー
スフィルムの表面性が磁気テープ特性上重要であること
が指摘されていた。特に、磁気テープのカセット当りの
高容量化のために、ベースフィルムとしてアラミドなど
の高い弾性率の薄手フィルムを用いてテープ厚みを薄く
してカセット当りのテープ長さを高めること、信号波長
を短くすること、塗布タイプの磁気テープでも磁性粉の
微細化や塗布厚みを薄くすることや金属を蒸着やスパッ
タした金属薄膜タイプの磁気テープを用いることなどが
実施されるにいたり、更にベースフィルムの表面の平滑
さが要求されている。
On the other hand, for example, it has been pointed out that the surface property of a base film of a magnetic tape is important for the properties of the magnetic tape. In particular, in order to increase the capacity of the magnetic tape per cassette, use a thin film of high elastic modulus such as aramid as the base film to reduce the tape thickness and increase the tape length per cassette, and shorten the signal wavelength. In addition, the use of thinner magnetic powder, thinner coating of magnetic powder, and the use of metal thin film type magnetic tape on which metal has been deposited or sputtered have been implemented, and the base film surface Is required to be smooth.

【0004】従来から、これらの要求に応えるため、例
えば、特開昭60−127523号公報では、正確な個
々の微細突起の高さではないが、触針式の表面粗さ計で
測定した高さとして3〜50nmである微細な突起が1
4 〜108 個/mm2 のアラミドフィルムを提案して
おり、また特開平4−1493452号公報では、表面
の微細突起を調整するために添加した滑剤粒子を特定の
凝集状態としたアラミドフィルムを提案している。特開
平8−55328号公報では、電子顕微鏡で測定した高
さが50nm以上の微細突起が2×103 〜2×107
個/mm2 のアラミドフィルムを用いた磁気テープを提
案している。特開昭60−127523号公報の発明
は、磁気層を塗布するタイプに比べて、ベースフィルム
の表面形状がそのまま磁気層表面に反映される金属薄膜
をベースフィルム上に形成するタイプの磁気テープに用
いることを目的としたものである。
Conventionally, in order to meet these demands, for example, in Japanese Patent Application Laid-Open No. 60-127523, the height of individual fine projections is not accurate, but the height measured by a stylus type surface roughness meter. Fine protrusions of 3 to 50 nm are 1
An aramid film of 0 4 to 10 8 particles / mm 2 has been proposed, and Japanese Patent Application Laid-Open No. 4-149452 discloses an aramid film in which lubricant particles added for adjusting fine projections on the surface are made into a specific aggregated state. Has been proposed. In JP-A-8-55328, fine protrusions having a height of 50 nm or more measured by an electron microscope are 2 × 10 3 to 2 × 10 7.
A magnetic tape using an aramid film of pieces / mm 2 has been proposed. The invention of Japanese Patent Application Laid-Open No. 60-127523 discloses a magnetic tape of a type in which a metal thin film whose surface shape is directly reflected on the surface of the magnetic layer is formed on the base film, as compared with a type in which a magnetic layer is coated. It is intended for use.

【0005】これらの提案はいずれも、当時のビデオ録
画程度の記録密度では、上記の高さの微細突起でも十分
であったが、最近のデータ記録用途では、デジタル信号
を記録し、また記録波長も短くなっているため、上記の
突起の高さでは、ヘッドが磁気テープ面よりその分浮上
がり、いわゆるスペーシングロスが大きくなり、信号の
書込み、読取りのエラーとなることが問題となってき
た。
[0005] In any of these proposals, at the recording density of video recording at that time, the fine projections having the above height were sufficient, but in recent data recording applications, digital signals are recorded and the recording wavelength is reduced. At the height of the protrusions, the head is lifted from the surface of the magnetic tape by that much, so-called spacing loss is increased, and there has been a problem that a signal writing / reading error occurs. .

【0006】フィルムの片面を極めて平滑にし、他方の
面を粗くして平滑性と滑り性を同時に実現せんとする発
想も当然考えられるところであり、特開公5−6459
4号公報、特開平3−119512号公報などの提案が
ある。また特開平8−235568号公報では、裏面に
700nm以上の高さの粗大突起を特定量存在させて滑
りを確保することを提案している。しかし、これらの裏
面に設けられた粗い表面は磁気テープを巻き取ったとき
に重なった表面に転写され、磁気特性を損なうことが指
摘されている。
It is natural to think that one side of the film is made extremely smooth and the other side is made rough to achieve smoothness and slipperiness at the same time.
No. 4, JP-A-3-119512 and the like. Japanese Patent Application Laid-Open No. Hei 8-235568 proposes that a certain amount of coarse protrusions having a height of 700 nm or more be present on the back surface to secure slip. However, it has been pointed out that the rough surface provided on these back surfaces is transferred to the overlapping surface when the magnetic tape is wound up, and impairs the magnetic properties.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、好ましい機
械的特性を示し各種ベースフィルムとして厚みを薄くで
きる耐熱性合成樹脂のフィルムにおいて、製造工程や商
品として使用するに当たっての滑り性を損ねることな
く、各種の用途で求められるきわめて平滑な表面粗さを
持ったフィルムを提供することを目的とするものであ
る。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention relates to a heat-resistant synthetic resin film which exhibits favorable mechanical properties and can be reduced in thickness as various base films, without deteriorating the slipperiness in the production process or as a product. It is an object of the present invention to provide a film having a very smooth surface roughness required for various uses.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】本発明者らは、微細な表
面は平滑であっても、実用に当たって問題ない表面構造
が存在することを発見し、本発明を完成するに至った。
即ち、本発明の課題は、耐熱性樹脂よりなる平均厚みが
2〜8μmであり、平均粒径が5〜150nmの不活性
な微粒子を0.005〜1.0重量%、平均凝集度が1
〜100の範囲に分散されて含有するフィルムであっ
て、その表面の少なくとも片面が、光学的表面粗さ計の
分解能で見た中心面平均粗さ(SRa)が0.1〜10
nmであり、原子間力顕微鏡により測定した最大突起高
さ(Zmax)が5〜100nmであり、かつフィルム
の表面の少なくとも片面に、面方向に二次元的にサイン
曲線近似のなだらかな起伏(以下「表面起伏」と称す
る)を持ち、その起伏の中心線深さが0.1〜1.5μ
mであり、起伏の波長が0.05〜5mmであり、動摩
擦係数が0.5以下であることを特徴とする耐熱性合成
樹脂フィルムにより解決できる。
Means for Solving the Problems The present inventors have found that even if the fine surface is smooth, there is a surface structure having no problem in practical use, and have completed the present invention.
That is, an object of the present invention is to provide an inactive fine particle having an average thickness of 2 to 8 μm made of a heat-resistant resin and having an average particle diameter of 5 to 150 nm in an amount of 0.005 to 1.0% by weight and an average agglomeration degree of 1
A film containing at least one surface of which is dispersed and has a center plane average roughness (SRa) of 0.1 to 10 as viewed at the resolution of an optical surface roughness meter.
nm, the maximum protrusion height (Zmax) measured by an atomic force microscope is 5 to 100 nm, and at least one surface of the film has a two-dimensional smooth sine curve approximation (hereinafter, referred to as a sine curve) in the surface direction. "Surface undulation"), and the center line depth of the undulation is 0.1 to 1.5 .mu.m.
m, the wavelength of the undulation is 0.05 to 5 mm, and the dynamic friction coefficient is 0.5 or less.

【0009】本発明のフィルムの耐熱性は、例えば、熱
収縮率で定義され、200℃での熱収縮率が2%以下の
もので代表される。本発明のフィルムの厚みは2〜8μ
mであり、それ以下の厚みでは本発明の表面起伏を設け
にくくなり、また厚いフィルムではフィルム自体の剛性
が高くなり、本発明の課題である滑り性不良による問題
が発生しないことが多い。
The heat resistance of the film of the present invention is defined, for example, by the heat shrinkage, and is represented by those having a heat shrinkage at 200 ° C. of 2% or less. The thickness of the film of the present invention is 2 to 8 μm.
When the thickness is less than m, it is difficult to provide the surface undulations of the present invention, and in the case of a thick film, the rigidity of the film itself is increased, and the problem of poor slipperiness, which is an object of the present invention, often does not occur.

【0010】本発明のフィルムの用途は各種のベースフ
ィルムであり、強度および弾性率が高いことが好まし
い。例えば、フィルムのいずれの方向においても、強度
は20kg/mm2 以上、更に好ましくは30kg/m
2 以上であることが好適である。本発明を実施する上
で強度の上限は特に限定する理由はないが、機械的特性
に優れるアラミドフィルムでも、通常実現可能な強度と
しては60kg/mm2程度である。また、同様に弾性
率は1000kg/mm2 以上、更に好ましくは130
0kg/mm2 以上であることが好適である。弾性率の
上限も特に制限されるものではないが、機械的特性に優
れるアラミドフィルムにおける実現可能な弾性率として
は2500kg/mm2 程度である。
The film of the present invention is used for various base films, and preferably has high strength and elastic modulus. For example, in any direction of the film, the strength is not less than 20 kg / mm 2, more preferably 30 kg / m 2.
It is preferably at least m 2 . Although there is no particular limitation on the upper limit of the strength for carrying out the present invention, even an aramid film having excellent mechanical properties is usually about 60 kg / mm 2 in strength that can be realized. Similarly, the elastic modulus is 1000 kg / mm 2 or more, more preferably 130 kg / mm 2 or more.
It is preferable that it is 0 kg / mm 2 or more. The upper limit of the elastic modulus is not particularly limited, but the achievable elastic modulus of the aramid film having excellent mechanical properties is about 2500 kg / mm 2 .

【0011】これらのフィルムの特性は、長尺方向、幅
方向のいずれにおいても満足されるべきであるが、それ
らが必ずしも同じである必要はなく、目的に応じていず
れかの特性を高めることも行われてよく、いわゆる長尺
方向、幅方向の特性がほぼ等しいバランスタイプ、いず
れかの方向により緊張処理された一軸緊張タイプのいず
れであってもよい。本発明のフィルムの表面の少なくと
もその片面が干渉位相差顕微鏡視野を水平解像度1μ以
下で光電変換し、データ処理して表面粗度を測定する方
法にて、カットオフなしで測定したSRaが0.1〜1
0nm、好ましくは0.5〜10nm、さらに好ましく
は0.8〜6nmであり、SRaが10nmを超える表
面粗さでは本発明の目的は達成できない。
The properties of these films should be satisfied in both the longitudinal direction and the width direction, but they do not necessarily have to be the same, and it is possible to enhance either property according to the purpose. This may be performed by any of a so-called balance type in which the characteristics in the longitudinal direction and the width direction are almost equal, and a uniaxial tension type in which the tension is applied in either direction. At least one side of the surface of the film of the present invention is subjected to photoelectric conversion in a field of view of an interference phase contrast microscope with a horizontal resolution of 1 μ or less, data processing is performed, and the surface roughness is measured. 1 to 1
It is 0 nm, preferably 0.5 to 10 nm, and more preferably 0.8 to 6 nm. The object of the present invention cannot be achieved with a surface roughness of SRa exceeding 10 nm.

【0012】本発明のフィルムは、光学的分解能の単位
で観察される粗さに加えて、フィルム面の実体的粗さも
重要である。フィルム表面の実体的粗さは、原子間力顕
微鏡(AFM)により正確に測定できる。本発明の目的
を達成するためには、AFMにより測定した最大突起高
さ(Zmax)が5〜100nm、好ましくは10〜7
0nm、更に金属薄膜タイプの磁気テープに用いるにお
いては10〜30nmであることが望ましく、100n
mを超えるような微細突起の表面粗さでは本発明のベー
スフィルムとしての要求を達成できない。
In the film of the present invention, the substantial roughness of the film surface is important in addition to the roughness observed in units of optical resolution. The substantial roughness of the film surface can be accurately measured by an atomic force microscope (AFM). In order to achieve the object of the present invention, the maximum projection height (Zmax) measured by AFM is 5 to 100 nm, preferably 10 to 7 nm.
0 nm, more preferably 10 to 30 nm when used for a metal thin film type magnetic tape.
If the surface roughness of the fine projections exceeds m, the requirements as the base film of the present invention cannot be achieved.

【0013】本発明のフィルムには、これらの表面粗さ
などを制御するために、いわゆる滑材として微粒子がフ
ィルムに対し0.005〜1.0重量%、好ましくは
0.01〜0.5重量%含まれる必要がある。微粒子の
量が0.005重量%未満ではフィルム製造工程または
磁気テープ製造工程でのフィルムの滑りが悪く、安定な
走行が損われたり、皺が発生するなどの問題が発生する
おそれがあり避けられるべきである。
The film of the present invention contains fine particles as a so-called lubricant in an amount of 0.005 to 1.0% by weight, preferably 0.01 to 0.5% by weight, in order to control the surface roughness and the like. % By weight. When the amount of the fine particles is less than 0.005% by weight, problems such as poor slippage of the film in the film production step or the magnetic tape production step, impairment of stable running, and generation of wrinkles may be avoided, and thus are avoided. Should.

【0014】微粒子は、フィルム全体に均一に含まれて
いてもよく、またフィルムの表層のみ、または厚み方向
に濃度が異なって含まれていてよい。微粒子は、本来独
立して存在すべきであるが、極微細な粒子は会合して凝
集しやすいことが知られており、本発明の目的とするフ
ィルム表面状態を実現する上で、その微粒子の平均凝集
度としては1〜100、好ましくは1〜20、さらに好
ましくは1〜10の凝集状態であることが必要である。
平均凝集度が100を超える場合は、本発明の目的とす
る平滑な表面が実現できない。
The fine particles may be contained uniformly in the whole film, or may be contained only in the surface layer of the film or in a concentration different in the thickness direction. Fine particles should originally exist independently, but it is known that ultrafine particles are easily aggregated and aggregated. It is necessary that the state of aggregation is 1 to 100, preferably 1 to 20, more preferably 1 to 10 as an average degree of aggregation.
If the average cohesion exceeds 100, the smooth surface aimed at by the present invention cannot be realized.

【0015】微粒子としては、フィルム製造に当たって
用いられる溶剤やフィルムの仕上げ処理剤、フィルムに
磁性層などを塗工する際に用いられる溶剤などで変成し
ない不活性なものである必要がある。そのような微粒子
としては、有機化合物、無機化合物の微粒子があるが、
通常は、例えばSiO2 、TiO2 、ZnO、Al2
3 、CaSO4 、BaSO4 、CaCO3 、カーボンブ
ラック、ゼオライト、その他金属粉末などの無機化合
物、カーボン、ふっ化カーボン、フッ素樹脂などの有機
化合物の微粒子が用いられる。
It is necessary that the fine particles be inert particles which are not denatured by a solvent used in the production of the film, a finishing agent for the film, or a solvent used in coating the film with a magnetic layer. Examples of such fine particles include organic compound and inorganic compound fine particles.
Usually, for example, SiO 2 , TiO 2 , ZnO, Al 2 O
3 , fine particles of inorganic compounds such as CaSO 4 , BaSO 4 , CaCO 3 , carbon black, zeolite, and other metal powders, and organic compounds such as carbon, carbon fluoride, and fluororesin.

【0016】滑剤粒子の粒径としては、平均粒径が5〜
150nm、好ましくは20nm〜110nmであり、
あまりに粒径が小さいと返って凝集しやすく、また粒径
が大きくても形成される微細突起の高さが本発明の目的
とする範囲を外れてしまうのみならず、凝集した微粒子
による粗大突起、即ち273nm以上の高さの粗大突起
が多くなり、磁気テープとして用いるにおいてはヘッド
の浮き上がりが発生して記録、再生上のエラーが増加す
るために望ましくない。本発明のフィルムとして好まし
くは273〜546nmの高さの粗大突起の数が100
cm2 当たり300個以下、546nm以上の粗大突起
は同じく100個以下、さらに好ましくはそれぞれ10
0個以下、20個以下である。
The average particle diameter of the lubricant particles is 5 to 5.
150 nm, preferably 20 nm to 110 nm,
If the particle size is too small, the particles are likely to be aggregated, and even if the particle size is large, the height of the fine projections formed is not only out of the range intended by the present invention, but also coarse projections due to the aggregated fine particles, That is, the number of coarse protrusions having a height of 273 nm or more increases, and when used as a magnetic tape, the head is lifted up, which increases recording and reproduction errors, which is not desirable. The film of the present invention preferably has a number of coarse projections having a height of 273 to 546 nm of 100.
The number of coarse projections having a size of 300 or less and 546 nm or more per cm 2 is also 100 or less, more preferably 10 or less, respectively.
0 or less, 20 or less.

【0017】本発明のフィルムの最も特徴とするところ
は、その表面の少なくとも片面に、表面起伏として面方
向に二次元的にサイン曲線近似のなだらかな起伏を持
ち、その起伏の中心線深さが0.1〜1.5μmであ
り、起伏の波長が0.05〜5mmであるようななだら
かな起伏構造を持つことである。このような構造をフィ
ルムに設けることについてはこれまで全く提案されたこ
とのない特異なものであり、この構造により、上記のよ
うな平滑な表面のフィルムであっても、動摩擦係数が
0.5以下、好適には0.45以下、さらに好適には
0.4以下という取り扱い性のよいフィルムが提供でき
る。表面起伏がこれ以上なだらかである、即ち起伏の波
長が5mmを超えるか、起伏の深さが0.1μm未満で
ある場合には本発明の滑り効果が得られず、またこれ以
上の起伏である、即ち起伏の波長が0.05mm未満で
あるか、深さが1.5μmを超える場合には、ベースフ
ィルムとしての性能を損なうことがあり、避けられるべ
きである。
The most characteristic feature of the film of the present invention is that at least one surface of the film has a gentle undulation similar to a sine curve in a two-dimensional plane in the surface direction as surface undulation, and the center line depth of the undulation is small. 0.1 to 1.5 μm, and has a gentle undulating structure such that the undulation wavelength is 0.05 to 5 mm. The provision of such a structure on a film is a unique one that has never been proposed before. With this structure, even if the film has a smooth surface as described above, the coefficient of dynamic friction is 0.5%. Hereinafter, a film with good handleability of preferably 0.45 or less, more preferably 0.4 or less can be provided. If the surface undulation is gentler, that is, if the wavelength of the undulation exceeds 5 mm or if the depth of the undulation is less than 0.1 μm, the sliding effect of the present invention cannot be obtained, and the undulation is further. In other words, if the undulation wavelength is less than 0.05 mm or the depth exceeds 1.5 μm, the performance as a base film may be impaired and should be avoided.

【0018】本発明のフィルムの表面の平滑さを表すS
Raの測定値は表面起伏を含めた値で定義しており、表
面起伏の影響で起伏に沿った平面のSRaよりは大きく
表示されている。表面起伏を差し引いた起伏に沿ったS
Raはカットオフ波長25μmのハイパスフィルター処
理することで測定でき、本発明のフィルムにおいては大
略0.01〜6nm程度であり、高い平滑性を持つこと
が理解されよう。同様に、ごく微視的な粗さの分布も、
AFMにより測定した中心面自乗平均粗さ(RMS)が
0.1〜5nmである。本発明を実施する上で、フィル
ムの表面の少なくとも片面が上記の範囲を満たしていれ
ばよいことが多いが、望ましくは両面ともに上記の要件
を満たしていることが推奨される。この場合、フィルム
の両面の平滑性、表面起伏は本発明の範囲で同じであっ
ても、異なっていてもよい。
S representing the smoothness of the surface of the film of the present invention
The measured value of Ra is defined as a value including the surface undulation, and is displayed larger than SRa of a plane along the undulation due to the influence of the surface undulation. S along the undulations minus surface undulations
Ra can be measured by performing a high-pass filter treatment with a cutoff wavelength of 25 μm, and it is understood that the film of the present invention has a high smoothness of about 0.01 to 6 nm. Similarly, the microscopic roughness distribution is
The center plane root mean square roughness (RMS) measured by AFM is 0.1 to 5 nm. In carrying out the present invention, it is often sufficient that at least one surface of the film satisfies the above range, but it is recommended that both surfaces satisfy the above requirements. In this case, the smoothness and surface undulations on both sides of the film may be the same or different within the scope of the present invention.

【0019】前記した本発明のフィルムは、例えば、平
均粒径5〜150nmの不活性な微粒子を0.005〜
1.0重量%含有する液晶形成性アラミドの液晶ドープ
を製膜するに際して、その液晶ドープを調整するに先立
って、用いる溶剤中に上記微粒子を平均凝集度が100
以下まで分散させ、次いで5μ以上の粒子を98重量%
以上濾別できる精密フィルターにて濾別した後、再度微
粒子が凝集を開始するまでにドープを調整し、ドープの
ダイからの計算吐出線速度に対するベルトの引き取り速
度の比(ドラフト率と称する。)1.5以上でキャスト
し、次いで等方相に相転換した後固化して製造する方法
により実現される。
The above-mentioned film of the present invention comprises, for example, 0.005 to 150 nm of inert fine particles having an average particle size of 5 to 150 nm.
In forming a liquid crystal dope of a liquid crystal-forming aramid containing 1.0% by weight, prior to adjusting the liquid crystal dope, the fine particles having an average agglomeration degree of 100 in a solvent to be used.
And then 98% by weight of 5μ or more particles
After filtering through a precision filter that can be filtered as described above, the dope is adjusted until the fine particles start to aggregate again, and the ratio of the belt take-up speed to the calculated linear discharge speed of the dope from the die (referred to as draft ratio). It is realized by a method of casting at 1.5 or more, then converting to an isotropic phase, and then solidifying.

【0020】また前記した本発明のフィルムは、平均粒
径が5〜150nmの不活性な微粒子を0.005〜
1.0重量%含有する液晶形成性アラミドの液晶ドープ
を用いて製膜する方法において、該液晶ドープは粘性挙
動の異なる2相以上より調整され、少なくともその1相
は島状に分散した微粒子と、海成分を形成する溶液が実
質的に耐熱性合成樹脂とその溶媒からなる海島ドープで
あり、その液晶ドープを調整するに先立って、用いる溶
剤中に上記微粒子を平均凝集度が100以下まで分散さ
せ、次いで5μ以上の粒子を98重量%以上濾別できる
精密フィルターにて濾別した後、再度微粒子が凝集を開
始するまでにドープを調整し、ドラフト率1.5以上で
キャストする方法によって実現できる。これらの方法に
用い得る耐熱性樹脂としては、アラミド樹脂やポリイミ
ド樹脂の一部の物が使用可能である。
The above-mentioned film of the present invention is characterized in that inert fine particles having an average particle size of
In a method of forming a film using a liquid crystal dope of a liquid crystal-forming aramid containing 1.0% by weight, the liquid crystal dope is adjusted to two or more phases having different viscous behaviors, and at least one phase is composed of fine particles dispersed in an island shape. The solution forming the sea component is substantially a sea-island dope composed of a heat-resistant synthetic resin and its solvent. Prior to adjusting the liquid crystal dope, the fine particles are dispersed in the solvent used until the average agglomeration degree is 100 or less. Then, after filtering the particles of 5μ or more with a precision filter capable of filtering 98% by weight or more of the particles, the dope is adjusted until the fine particles start to aggregate again, and the method is cast at a draft rate of 1.5 or more. it can. As the heat-resistant resin that can be used in these methods, a part of an aramid resin or a polyimide resin can be used.

【0021】本発明に用いられるアラミド樹脂として
は、次の構成単位からなる群より選択された単位より実
質的に構成される樹脂である。 −NH−Ar1 −NH− (1) −CO−Ar2 −CO− (2) −NH−Ar3 −CO− (3) ここでAr1 、Ar2 、Ar3 は少なくとも1個の芳香
環を含み、同一でも異なっていてもよく、これらの代表
例としては次のものが挙げられる。
The aramid resin used in the present invention is a resin substantially composed of a unit selected from the group consisting of the following structural units. —NH—Ar 1 —NH— (1) —CO—Ar 2 —CO— (2) —NH—Ar 3 —CO— (3) where Ar 1 , Ar 2 and Ar 3 are at least one aromatic ring And may be the same or different. Representative examples of these include the following.

【0022】[0022]

【化1】 Embedded image

【0023】また、これらの芳香環の環上の水素の一部
が、ハロゲン基、ニトロ基、アルキル基、アルコキシ基
などで置換されているものも含む。また、Xは−O−、
−CH2 −、−SO2 −、−S−、−CO−などの基で
ある。特に、全ての芳香環の80モル%以上がパラ位に
て結合されているアラミド樹脂は、臨界濃度以上で液晶
ドープを形成でき、本発明のフィルムを製造する上で好
ましい。本発明に用いられるポリイミド樹脂としては、
ポリマーの繰り返し単位の中に芳香環とイミド基をそれ
ぞれ1個以上含むものであり、次の化2または化3の一
般式で表されるものである。
Further, those in which a part of hydrogen on the ring of these aromatic rings is substituted with a halogen group, a nitro group, an alkyl group, an alkoxy group or the like are also included. X is -O-,
-CH 2 -, - SO 2 - , - S -, - CO- is a group such as. In particular, an aramid resin in which 80 mol% or more of all the aromatic rings are bonded at the para position can form a liquid crystal dope at a critical concentration or more, and is preferable in producing the film of the present invention. As the polyimide resin used in the present invention,
The polymer has at least one aromatic ring and at least one imide group in the repeating unit of the polymer, and is represented by the following general formula (2) or (3).

【0024】[0024]

【化2】 Embedded image

【0025】[0025]

【化3】 ここで、Ar4 及びAr6 は少なくとも1個の芳香環を
含み、イミド環を形成する2個のカルボニル基は芳香環
上の隣接する炭素原子に結合している。このAr4 は、
芳香族テトラカルボン酸またはその無水物に由来する。
代表例としては次のものがある。
Embedded image Here, Ar 4 and Ar 6 each include at least one aromatic ring, and two carbonyl groups forming an imide ring are bonded to adjacent carbon atoms on the aromatic ring. This Ar 4 is
Derived from aromatic tetracarboxylic acid or its anhydride.
The following are typical examples.

【0026】[0026]

【化4】 ここで、Yは−O−、−CO−、−CH2 −、−S−、
−SO2 −などの基である。また、Ar6 は無水トリカ
ルボン酸、あるいはそのハライドに由来する。代表例と
しては次のものがある。
Embedded image Here, Y is -O -, - CO -, - CH 2 -, - S-,
—SO 2 — and the like. Ar 6 is derived from tricarboxylic anhydride or its halide. The following are typical examples.

【0027】[0027]

【化5】 ここで、Ar5 、Ar7 は少なくとも1個の芳香環を含
み、芳香族ジアミン、芳香族イソシアネートに由来す
る。Ar5 またはAr7 の代表例としては次のものがあ
る。
Embedded image Here, Ar 5 and Ar 7 contain at least one aromatic ring and are derived from aromatic diamines and aromatic isocyanates. The following are typical examples of Ar 5 or Ar 7 .

【0028】[0028]

【化6】 Embedded image

【0029】ここで、これらの芳香環の環上の水素の一
部が、ハロゲン基、ニトロ基、アルキル基、アルコキシ
基などで置換されているものも含む。Zは、−O−、−
CH2 −、−S−、−SO2 −、−CO−などの基であ
る。特に、Ar5 、Ar7 の80%以上がパラ位に結合
された芳香環であるポリイミド樹脂が、本発明に用いら
れるフィルムを製造する上で好ましい。また、本発明を
実施する上で、フィルムを製造するに用いられるアラミ
ド樹脂またはポリイミド樹脂には、フィルムの物性を損
ねたり、本発明の目的に反しない限り、前述の滑剤の他
に、酸化防止剤、その他の添加剤などや、他のポリマー
が含まれていてもよい。
Here, those in which some of the hydrogen atoms on the rings of these aromatic rings are substituted with halogen groups, nitro groups, alkyl groups, alkoxy groups, etc. Z is -O-,-
CH 2 —, —S—, —SO 2 —, and —CO—. In particular, a polyimide resin in which 80% or more of Ar 5 and Ar 7 are aromatic rings bonded to the para position is preferable for producing a film used in the present invention. Further, in carrying out the present invention, the aramid resin or the polyimide resin used for producing the film includes, in addition to the above-mentioned lubricant, antioxidant, unless the properties of the film are impaired or contradicted the purpose of the present invention. Agents, other additives, and other polymers may be included.

【0030】また、フィルムには染料や顔料などの着色
剤や、難燃剤、帯電防止剤、酸化防止剤、その他の改質
剤についても、それが本発明の目的に反しない限り含ま
れていてもよい。本発明のフィルムの製造法について
は、特に限定されるものではなく、それぞれの樹脂に適
した製造法が取られてよい。まずアラミド樹脂について
は、有機溶剤可溶のものでは、直接溶剤中で重合する
か、一旦ポリマーを単離した後再溶解するなどして溶液
とし、ついで乾式法または湿式法にて製膜され、また、
ポリパラフェニレンテレフタルアミド(PPTA)等の
有機溶剤に難溶のものについては、濃硫酸などに溶解し
て溶液とし、ついで乾式法または湿式法にて製膜され
る。
The film also contains coloring agents such as dyes and pigments, flame retardants, antistatic agents, antioxidants, and other modifiers, as long as they do not contradict the object of the present invention. Is also good. The method for producing the film of the present invention is not particularly limited, and a production method suitable for each resin may be employed. First, as for the aramid resin, in the case of those soluble in an organic solvent, it is polymerized directly in a solvent, or once isolated and redissolved to form a solution, and then formed into a film by a dry method or a wet method, Also,
Those hardly soluble in organic solvents such as polyparaphenylene terephthalamide (PPTA) are dissolved in concentrated sulfuric acid or the like to form a solution, and then formed into a film by a dry method or a wet method.

【0031】一方、ポリイミド樹脂については、有機溶
剤中にてテトラカルボン酸無水物と芳香族ジアミンを反
応させて、ポリアミド酸とし、この溶液をそのまま、ま
たは一旦閉環処理してポリイミドとし、再度溶剤に溶解
して溶液を得、それらを乾式法または湿式法にて製膜さ
れる。乾式法では、溶液はダイから押し出され、金属ド
ラムやエンドレスベルトなどの支持体上にキャストさ
れ、キャストされた溶液が自己支持性あるフィルムを形
成するまで乾燥またはイミド化反応が進められる。
On the other hand, with respect to the polyimide resin, a tetracarboxylic anhydride is reacted with an aromatic diamine in an organic solvent to obtain a polyamic acid. The solution is obtained by dissolving, and they are formed into a film by a dry method or a wet method. In the dry method, the solution is extruded from a die, cast on a support such as a metal drum or an endless belt, and the drying or imidization reaction proceeds until the cast solution forms a self-supporting film.

【0032】湿式法では、溶液はダイから直接凝固液中
に押し出されるか、乾式と同様に金属ドラムまたはエン
ドレスベルト上にキャストされた後、凝固液中に導か
れ、凝固される。本発明の表面平滑性のフィルムは、ア
ラミド樹脂またはポリイミドもしくはポリイミドの前駆
体であるポリアミド酸の溶液中に、前述の微粒子を所定
量混入し、この溶液を製膜することにより製造される。
In the wet method, the solution is extruded directly from a die into a coagulating liquid, or cast on a metal drum or an endless belt in the same manner as in the dry method, and then guided into the coagulating liquid and coagulated. The film having a smooth surface of the present invention is produced by mixing a predetermined amount of the above-mentioned fine particles into an aramid resin or a solution of polyimide or a polyamic acid which is a precursor of polyimide, and forming a film of this solution.

【0033】本発明の表面粗さのフィルムを得る上で、
微粒子の分散が重要である。微粒子は、樹脂溶液に微粒
子のみを直接添加するのでは十分な分散状態が達成でき
ず、避けられるべきである。微粒子は、上記樹脂の重合
に用いる溶剤に予め分散するか、樹脂を再溶解する場合
においては、溶解に用いる溶剤に予め分散するか、また
は、溶剤の一部を取り出して微粒子を分散させた後樹脂
溶液に添加し混合するなどの方法により、樹脂溶液に分
散される。
In obtaining the film having the surface roughness of the present invention,
The dispersion of the fine particles is important. Fine particles cannot be achieved in a sufficiently dispersed state by directly adding only fine particles to the resin solution, and should be avoided. The fine particles are pre-dispersed in the solvent used for the polymerization of the resin, or in the case of re-dissolving the resin, are pre-dispersed in the solvent used for dissolution or It is dispersed in the resin solution by a method such as adding to the resin solution and mixing.

【0034】微粒子の分散状態としては、完全に各微粒
子が単独で分散していることが望ましいが、現実には完
全分散の達成は困難であり、微粒子の平均凝集度が1〜
100、好ましくは1〜20、さらに好ましくは1〜1
0であれば本発面の目的は達成できる。微粒子を分散す
る方法としては、各種のホモジナイザが用いられるが、
特に超音波ホモジナイザは分散力が優れていて推奨され
る。
As for the dispersion state of the fine particles, it is desirable that each fine particle is completely dispersed alone. However, it is actually difficult to achieve complete dispersion, and the average degree of aggregation of the fine particles is 1 to 1.
100, preferably 1 to 20, more preferably 1 to 1
If 0, the purpose of the present invention can be achieved. As a method of dispersing the fine particles, various homogenizers are used,
In particular, an ultrasonic homogenizer is recommended because of its excellent dispersing power.

【0035】微粒子の分散状態を改良する方法として、
コロイド状に微粒子を単分散したものが市販されてお
り、それを希釈して用いることは平均凝集度が10以下
の分散状態を実現する上で好ましいが、用いる溶剤や希
釈条件によっては微粒子の凝集が生じやすく、所期の効
果が得られ難いことがあるため、注意すべきである。特
に無機塩を溶解助剤として溶解したアミド系溶剤や、濃
硫酸を溶剤とする場合には、コロイド状の微粒子の凝集
が起こりやすいため、コロイド状分散液を一旦分散液と
同じ溶剤で希釈した後十分なかき混ぜ下に樹脂を溶解す
る溶剤に混合するなどの配慮が大切である。
As a method for improving the dispersion state of the fine particles,
Monodispersed particles of colloidal particles are commercially available, and it is preferable to dilute and use them in order to achieve a dispersed state with an average cohesion of 10 or less. Care should be taken because the expected effect may be difficult to achieve and the desired effect may not be obtained. In particular, when an amide-based solvent in which an inorganic salt is dissolved as a solubilizing agent or concentrated sulfuric acid is used as a solvent, the colloidal fine particles are easily diluted with the same solvent as the dispersion because the aggregation of the colloidal fine particles easily occurs. After that, it is important to consider that the resin is mixed with a solvent that dissolves the resin under sufficient stirring.

【0036】溶剤中に分散された微粒子分散液は、重合
や樹脂の溶解などに用いられるに先立って、未分散また
は凝集した微粒子を5μm以上の粒子を98重量%以上
ろ別できるフィルターにて濾過することが肝要である。
また、一旦微分散した微粒子も、経時的に凝集すること
が多く、分散後速やかに用いることが好ましい。ここで
用いられるフィルターの形式としては特に限定するもの
ではなく、各種の金属または炭素の粒子を焼結したも
の、金属繊維の織布または不織布を焼結したもの、微細
孔が設けられたプラスティックフィルム、などが例示さ
れる。
Prior to being used for polymerization or dissolution of the resin, the fine particle dispersion liquid dispersed in the solvent is filtered with a filter capable of filtering undispersed or agglomerated fine particles of 5 μm or more to 98% by weight or more. It is important to do it.
Further, the fine particles once finely dispersed often aggregate with time, and it is preferable to use the fine particles immediately after the dispersion. The type of filter used here is not particularly limited, and various types of metal or carbon particles are sintered, metal fiber woven or non-woven fabric is sintered, and a plastic film provided with micropores is provided. , Etc. are exemplified.

【0037】本発明の特徴とする表面起伏を持つフィル
ムは、例えば、PPTAまたは他のアラミドの液晶状ド
ープを、ダイから押し出し、エンドレスベルト上にキャ
ストする際に一定の延伸を加えて、液晶ドメインを起伏
としてフィルム面に浮き出させたり、本発明に用いられ
る樹脂のドープに他の樹脂のドープを海島状に分散する
ように混合分散し、それを同様にキャスト時に延伸する
ことで島部分の樹脂により起伏を形成する方法などによ
り製造できる。液晶ドープを用いるに際しては、アラミ
ド樹脂のηinhは高いほど表面起伏は大きくなりやす
く、通常5.0〜7.5、好ましくは5.5〜6.5の
範囲のものが用いられる。
The film having a surface unevenness which is a feature of the present invention is obtained by extruding a liquid crystalline dope of PPTA or other aramid from a die and applying a certain stretching when casting it on an endless belt to give a liquid crystal domain. By embossing the film surface, or by mixing and dispersing another resin dope in the resin dope used in the present invention so as to disperse it into a sea-island shape, and stretching it at the time of casting in the same manner, the island portion resin is stretched. It can be manufactured by a method of forming undulations. When using a liquid crystal dope, the higher the ηinh of the aramid resin, the more easily the surface undulations are increased, and those having a range of usually 5.0 to 7.5, preferably 5.5 to 6.5 are used.

【0038】海島ドープを用いるに当たっては、フィル
ムを形成する耐熱性樹脂と同じ溶剤に溶解し、互いに相
分離する第2の樹脂を必要量添加してドープを調整する
が、第2の樹脂は耐熱性樹脂の種類によって適宜選択さ
れるが、アラミド樹脂やポリイミド樹脂の他に、脂肪族
ナイロン類やポリケトン類、ポリエーテルケトン類、ポ
リスルホン類などが用いられる。本発明の実施に好まし
い起伏を発生する上で、ドープの延伸は、ドープの性状
によっても異なるが、大略ドラフト率が1.5、好まし
くは2以上に選ばれるべきである。ドラフト率の上限は
ドープの粘性挙動によっても異なるが、大略7以下に選
ばれる。
When using the sea-island dope, the dope is adjusted by dissolving in the same solvent as the heat-resistant resin forming the film and adding a required amount of a second resin which is phase-separated from each other. Although it is appropriately selected depending on the type of the conductive resin, aliphatic nylons, polyketones, polyetherketones, polysulfones, and the like are used in addition to the aramid resin and the polyimide resin. In order to generate the undulations preferable in the practice of the present invention, the dope elongation should be generally selected to be 1.5, preferably 2 or more, although it depends on the properties of the dope. The upper limit of the draft ratio varies depending on the viscosity behavior of the dope, but is generally selected to be 7 or less.

【0039】ついでこれらのフィルムは、フィルム中の
溶剤や無機塩などを洗浄され除去さされ、延伸、乾燥、
熱処理などの処理を受けた後、巻き取られる。洗浄、乾
燥、熱処理の条件については、それぞれの樹脂フィルム
に用いられる方法、条件を用いればよい。また、これら
の工程の任意の工程で、各種の仕上げ処理、例えば、染
色、コロナ処理、加湿処理などを施すことも、それが本
発明の効果を損なわない限り行われてよい。
Next, these films are washed and removed of solvents and inorganic salts in the films, and are stretched, dried and dried.
After undergoing heat treatment and the like, it is wound up. As for the conditions of washing, drying, and heat treatment, methods and conditions used for each resin film may be used. In any of these steps, various finishing treatments such as dyeing, corona treatment, and humidification treatment may be performed as long as the effects of the present invention are not impaired.

【0040】[0040]

【発明の実施の形態】以下に実施例により本発明を具体
的に説明するが、本発明をこれらの実施例とうにより何
等限定されるものではない。また、例中特に表示のない
%は重量%である。 〔特性の測定法〕本発明の特性値の測定法は次の通りで
ある。 (1)フィルムの厚み、強度、伸度、弾性率の測定法 フィルムの厚みは、直径2mmの測定面を持つダイヤル
ゲージで測定する。強度、伸度、弾性率は、定速伸長型
強伸度測定機を用い、測定長100mm、引っ張り速度
50mm/分で測定したものである。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The present invention will be described below in detail with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples. In the examples,% not particularly indicated is% by weight. [Method of measuring characteristics] The method of measuring characteristic values according to the present invention is as follows. (1) Method of measuring film thickness, strength, elongation, and elastic modulus The film thickness is measured with a dial gauge having a measurement surface having a diameter of 2 mm. The strength, elongation, and elastic modulus were measured using a constant-speed elongation-type high-elongation measuring instrument at a measurement length of 100 mm and a pulling speed of 50 mm / min.

【0041】(2)熱収縮率の測定法 フィルムから2cm×5cmの試料片を切り出し、4c
mの間隔に刃物で傷をつけて標識とし、予め23℃、5
5%RHの雰囲気下に72時間放置した後、標識間の距
離を読み取り顕微鏡にて測定し、次いで200℃の熱風
式オーブンに2時間拘束することなく放置した後、再度
23℃、55%RHの雰囲気下に72時間放置した後、
標識間の距離を読み取り顕微鏡にて測定して求めた。
(2) Method of Measuring Heat Shrinkage A 2 cm × 5 cm sample piece was cut out from the film, and 4 c
The mark is made by making a mark with a knife at intervals of m.
After leaving for 72 hours in an atmosphere of 5% RH, the distance between the labels was read and measured with a microscope, and then left in a hot air oven at 200 ° C. for 2 hours without restraining, then again at 23 ° C. and 55% RH. After leaving for 72 hours in the atmosphere of
The distance between the labels was read and measured with a microscope.

【0042】(3)光学顕微鏡法による中心面平均粗さ
(SRa)測定法 SRaの定義は、例えば奈良治郎著「表面粗さの測定、
評価法」(総合技術センター、1983)に示されてい
るものであり、干渉位相差顕微鏡の干渉像を計算処理し
て得る方法を用いた。即ち、ZYGO社のNew Vi
ew 100型表面粗さ測定装置を用い、対物レンズ倍
率40倍、カメラ分解能550nm、にてフィルムの任
意の3点につきSRaを測定しその平均で表した。な
お、表面起伏の効果も含めて表面平滑性を評価するた
め、ハイパスフィルターはかけなかった。
(3) Measurement method of center plane average roughness (SRa) by optical microscopy The definition of SRa is described in, for example, "Measurement of surface roughness,
Evaluation method ”(Sogo Gijutsu Center, 1983), and a method of calculating and processing an interference image of an interference phase contrast microscope was used. That is, ZYGO's New Vi
Using an ew 100 type surface roughness measuring device, SRa was measured at any three points of the film with an objective lens magnification of 40 times and a camera resolution of 550 nm, and expressed as an average. A high-pass filter was not applied to evaluate the surface smoothness including the effect of surface undulation.

【0043】(4)原子間力顕微鏡(AFM)による最
大突起高さ(Zmax)および中心面自乗平均粗さ(R
MS)測定法 フィルムをシリコンウエハ上にカーボンペーストにて固
定し、Topometorix社製のTMX2010
Discoverer型AFMを用いて、ノンコンタク
トモードにて5μm×5μmの範囲を走査速度2Hzに
て観測した。画像処理に当っては、三次元のレベリング
処理を施した。なお、Zmax、RMSいずれも、10
視野の測定値の平均値をもって表す。
(4) The maximum protrusion height (Zmax) and the center plane root mean square (R) measured by an atomic force microscope (AFM)
MS) Measurement Method A film was fixed on a silicon wafer with a carbon paste, and TMX2010 manufactured by Topometrix was used.
Using a Discoverer-type AFM, a range of 5 μm × 5 μm was observed at a scanning speed of 2 Hz in a non-contact mode. In the image processing, a three-dimensional leveling process was performed. In addition, both Zmax and RMS are 10
Expressed as the average of the measured values of the visual field.

【0044】(5)表面起伏深さ及び起伏波長の測定法 ZYGO社のNew View 100型表面粗さ測定
装置を用い、対物レンズ倍率2.5倍、カメラ分解能
8.8μm、カットオフ5mmにてフィルムの任意の3
点につき測定したP−V値で深さを、中心線のうねりの
FFT解析による主波長で波長を表す。
(5) Method of measuring surface undulation depth and undulation wavelength Using a ZYGO New View 100 type surface roughness measuring device, objective lens magnification 2.5 times, camera resolution 8.8 μm, cutoff 5 mm. Optional 3 of film
The depth is represented by the PV value measured for each point, and the wavelength is represented by the dominant wavelength obtained by FFT analysis of the undulation of the center line.

【0045】(6)微粒子の平均凝集度測定法 フィルムから常法により厚み約100nmの薄片試料を
切出し、JEOL社製JEM200FX型透過型顕微鏡
により、50000倍で観察し、必要あれば複数の視野
から微粒子凝集物(単独で存在するものも含む)の50
個以上につき、各単独または凝集して分散している各々
について、それらを構成している微粒子の数を数え、そ
の平均値で表す。
(6) Method of Measuring Average Aggregation Degree of Fine Particles A thin sample having a thickness of about 100 nm was cut out from a film by a conventional method, observed with a JEOL JEM200FX transmission type microscope at a magnification of 50,000, and if necessary, from a plurality of visual fields. 50 of fine particle aggregates (including those that exist alone)
The number of the fine particles constituting each of them or each of them which are aggregated and dispersed is counted and expressed as an average value.

【0046】(7)粗大突起 フィルムの表面に20nmの厚みにAlを均一に真空蒸
着し、波長0.546μmのハロゲン単色光を用いて、
光多重干渉顕微鏡を用い、200倍の倍率で任意の3c
m四方のフィルム面を観察し、突起物の突起に対して生
じる干渉縞が1個のものを0.273から0.546μ
mの高さ(以下H1と略記する。)の粗大突起として、
干渉縞が2個以上のものを0.546μm以上の高さ
(以下H2と略記する。)の粗大突起として数え、視野
の突起の数を100cm2 あたりに換算したものを、1
0回の観察の平均として表す。
(7) Coarse projections Al is uniformly vacuum-deposited to a thickness of 20 nm on the surface of the film, and halogen monochromatic light having a wavelength of 0.546 μm is used.
Any 3c at 200x magnification using optical multiplex interference microscope
By observing the film surface of m squares, one interference fringe generated with respect to the protrusion of the protrusion was determined to be 0.273 to 0.546 μm.
As a coarse projection having a height of m (hereinafter abbreviated as H1),
Those having two or more interference fringes are counted as coarse projections having a height of 0.546 μm or more (hereinafter abbreviated as H2), and the number of projections in the visual field converted to 100 cm 2 is 1
Expressed as the average of zero observations.

【0047】(8)動摩擦係数 8mm幅にスリットしたフィルムを、測定に先立って清
浄に汚れを拭き取られたステンレス鋼製の直径20mm
の固定ガイドポールに、フィルムがπラジアンで接触す
るようにして、50gの張力(T1 )を加えつつ毎秒
3.3cmの速度で走行させ、固定ガイドポールからフ
ィルムを引き出すに必要な張力T2 を測定する。T
2 は、張力が安定してから1mのフィルムにつき記録し
た平均値を用いた。動摩擦係数μkは次の式で求められ
る。
(8) Coefficient of dynamic friction The film slit to a width of 8 mm was made of stainless steel having a diameter of 20 mm which had been cleanly wiped off prior to measurement.
The film is run at a speed of 3.3 cm per second while applying a tension (T 1 ) of 50 g so that the film comes into contact with the fixed guide pole at π radian, and the tension T 2 required to pull out the film from the fixed guide pole is applied. Is measured. T
For 2 , the average value recorded per 1 m of the film after the tension was stabilized was used. The dynamic friction coefficient μk is obtained by the following equation.

【数1】μk=1/π・ln(T2 /T1 Μk = 1 / π · ln (T 2 / T 1 )

【0048】(9)ηinhの測定法 98%硫酸を溶剤とし、ポリマー濃度0.5g/100
mlの希薄溶液を、35℃にてオストワルド粘度管を用
いて常法により測定した。
(9) Method for measuring ηinh Using 98% sulfuric acid as a solvent, polymer concentration 0.5 g / 100
The ml of the diluted solution was measured in a conventional manner at 35 ° C. using an Ostwald viscometer.

【0049】[0049]

【実施例1】80nmのコロイド状シリカ粒子を40%
含有する分散液を蒸留水に混合して5%のシリカ濃度の
希釈液を準備し、100.6%の濃硫酸が100m/分
の速度で循環されているパイプの枝管から、全濃硫酸に
対し0.06容量%/分の比率でシリカ希釈液を送り混
合し、次いで、5μmカットのステンレス鋼製焼結不織
布フィルターにてろ過した。
Example 1 40% colloidal silica particles of 80 nm
The resulting dispersion was mixed with distilled water to prepare a diluent having a silica concentration of 5%, and 100.6% of concentrated sulfuric acid was passed through a branch pipe through which 100% of sulfuric acid was circulated at a speed of 100 m / min. , A silica diluent was fed and mixed at a ratio of 0.06% by volume / minute, and then filtered with a 5 μm cut stainless steel sintered nonwoven fabric filter.

【0050】このようにして調整されたシリカを0.0
35%含有する濃硫酸を用いてηinhが6.01のP
PTAをポリマー濃度が12.5%になるように溶解
し、PPTAのドープを調整した。ドープは撹拌時に光
を乱反射し、また、光学顕微鏡下の観察で、偏光顕微鏡
のクロスニコルの暗視野を明視野にする光学的異方性を
示すなど、液晶状態にあることが分かった。
The silica prepared in this manner is used in an amount of 0.0
Using concentrated sulfuric acid containing 35%, P of ηinh of 6.01
PTA was dissolved so that the polymer concentration became 12.5%, and the dope of PPTA was adjusted. The dope irregularly reflected light during stirring, and was observed under an optical microscope, and was found to be in a liquid crystal state, such as exhibiting optical anisotropy that makes the dark field of a crossed Nicol of a polarizing microscope a bright field.

【0051】このPPTAドープを5μmカットのステ
ンレス鋼の焼結不織布製のフィルターでろ過した後、ダ
イからエンドレスベルト上にドラフト率が2.1となる
ようにキャストした。次いで、ベルト上で加熱と同時に
吸湿処理して、ドープを液晶相から等方相に相転換した
後、10℃の30%硫酸中にて凝固させ、中和、水洗
し、縦方向に1.1倍に延伸した後、クリップテンター
により横方向に1.1倍の延伸を施し、定長状態を保ち
つつ熱風乾燥し、次いでテンターでフィルムを保持した
まま450℃で熱処理した後巻き取った。
The PPTA dope was filtered through a 5 μm-cut filter made of sintered stainless steel non-woven fabric, and then cast from a die onto an endless belt at a draft rate of 2.1. Next, the dope is heated and absorbed simultaneously with moisture to convert the dope from a liquid crystal phase to an isotropic phase. The dope is coagulated in 30% sulfuric acid at 10 ° C., neutralized and washed with water. After being stretched by a factor of 1, the film was stretched by a factor of 1.1 in the transverse direction with a clip tenter, dried with hot air while maintaining a fixed length, and then heat-treated at 450 ° C. while holding the film with a tenter, followed by winding.

【0052】得られたフィルムは、厚みが5.2μmで
あり、フィルムの物性は長尺方向、幅方向にそれぞれ、
強度が42、43kg/mm2 、伸度が18、20%、
弾性率が1500、1510kg/mm2 、200℃熱
収縮率が0.2、0.2%であり、表面起伏深さが0.
42μm、起伏波長が0.7mm、シリカの平均凝集度
が3.5、SRaが4.5nm、Zmaxが70.5n
m、RMSが3.3であり、粗大突起のH1が41個、
H2が11個であった。フィルムの動摩擦係数は0.2
2であった。
The obtained film had a thickness of 5.2 μm, and the physical properties of the film were as follows:
Strength is 42, 43 kg / mm 2 , elongation is 18, 20%,
The elastic modulus is 1500, 1510 kg / mm 2 , the heat shrinkage at 200 ° C. is 0.2 and 0.2%, and the surface undulation depth is 0.2.
42 μm, undulation wavelength 0.7 mm, average cohesion of silica 3.5, SRa 4.5 nm, Zmax 70.5 n
m, RMS is 3.3, H1 of the coarse projection is 41,
H2 was 11 pieces. The coefficient of kinetic friction of the film is 0.2
It was 2.

【0053】[0053]

【比較例1】比較のため、ηinhが4.96のPPT
Aを用い、またドラフト率を1.2としたほかは実施例
1と全く同様にしてPPTAフィルムを製造した。得ら
れたフィルムは、厚みが5.5μmであり、フィルムの
物性は長尺方向、幅方向にそれぞれ、強度が43、41
kg/mm2 、伸度が21、20%、弾性率が150
5、1520kg/mm2 、200℃熱収縮率が0.
2、0.2%であり、表面起伏深さが0.06μm、起
伏波長が0.7mm、シリカの平均凝集度が3.3、S
Raが2.0nm、Zmaxが70nm、RMSが3.
2であり、粗大突起のH1が38個、H2が8個であっ
た。フィルムの動摩擦係数は0.55であった。
Comparative Example 1 For comparison, PPT with ηinh of 4.96
A PPTA film was produced in exactly the same manner as in Example 1 except that A was used and the draft ratio was 1.2. The obtained film has a thickness of 5.5 μm, and the physical properties of the film are 43 and 41, respectively, in the longitudinal direction and the width direction.
kg / mm 2 , elongation 21, 21%, elastic modulus 150
5, 1520 kg / mm 2 , 200 ° C. heat shrinkage of 0.
2, 0.2%, surface undulation depth 0.06 μm, undulation wavelength 0.7 mm, average cohesion of silica 3.3, S
Ra is 2.0 nm, Zmax is 70 nm, and RMS is 3.
The number of coarse projections was 38 for H1, and 8 for H2. The coefficient of dynamic friction of the film was 0.55.

【0054】[0054]

【実施例2】比較例1のPPTAの液晶ドープに、PP
TAに対し5%のポリメタフェニレンイソフタルアミド
(PMIA)を添加して、PPTAの液晶相を海としP
MIAを等方相としたほかは全く同様にしてフィルムを
製造した。得られたフィルムは、厚みが5.3μmであ
り、フィルムの物性は長尺方向、幅方向にそれぞれ、強
度が35、34kg/mm2 、伸度が18、17%、弾
性率が1350、1300kg/mm2 、200℃熱収
縮率が0.5、0.5%であり、表面起伏深さが0.5
μm、起伏波長が1.0mm、シリカの平均凝集度が
3.2、SRaが5.5nm、Zmaxが70nm、R
MSが3.5であり、粗大突起のH1が50個、H2が
15個であった。フィルムの動摩擦係数は0.20であ
った。
Example 2 A liquid crystal dope of PPTA of Comparative Example 1
5% polymetaphenylene isophthalamide (PMIA) is added to TA to make the liquid crystal phase of PPTA
A film was produced in exactly the same manner except that MIA was used as an isotropic phase. The obtained film had a thickness of 5.3 μm, and the physical properties of the film were 35 and 34 kg / mm 2 , the elongation was 18 and 17%, and the elastic modulus was 1350 and 1300 kg in the longitudinal direction and the width direction, respectively. / Mm 2 , heat shrinkage at 200 ° C. is 0.5 and 0.5%, and surface undulation depth is 0.5
μm, undulation wavelength 1.0 mm, average agglomeration degree of silica 3.2, SRa 5.5 nm, Zmax 70 nm, R
MS was 3.5, and H1 and H2 of the coarse projections were 50 and 15, respectively. The coefficient of dynamic friction of the film was 0.20.

【0055】[0055]

【実施例3】水中に平均粒径約45nmの球状シリカを
40%含有するコロイド状シリカ分散液を、かき混ぜつ
つ蒸留水にシリカ濃度が10%になるように希釈し、次
いで、希釈液を連続式超音波ホモジナイザに100.5
%硫酸と共に送り込んで、シリカ濃度が0.004%の
濃硫酸を調整し、得られた濃硫酸を用いて実施例1同様
にしてPPTAフィルムを試作した。
Example 3 A colloidal silica dispersion containing 40% of spherical silica having an average particle size of about 45 nm in water was diluted with distilled water to a silica concentration of 10% while stirring, and then the diluent was continuously added. 100.5 for ultrasonic ultrasonic homogenizer
% Sulfuric acid, and concentrated sulfuric acid having a silica concentration of 0.004% was adjusted. Using the obtained concentrated sulfuric acid, a PPTA film was prototyped in the same manner as in Example 1.

【0056】得られたフィルムは、厚みが5.1μmで
あり、フィルムの物性は長尺方向、幅方向にそれぞれ、
強度が42、44kg/mm2 、伸度が19、20%、
弾性率が1520、1550kg/mm2 、200℃熱
収縮率が0.2、0.2%であり、表面起伏深さが0.
44μm、起伏波長が0.7mm、シリカの平均凝集度
が2.1、SRaが2.4nm、Zmaxが40.2n
m、RMSが2.0であり、粗大突起のH1が23個、
H2が0個であった。またフィルムの動摩擦係数は0.
35であった。
The obtained film has a thickness of 5.1 μm, and the physical properties of the film are as follows:
Strength is 42,44 kg / mm 2 , elongation is 19,20%,
The elastic modulus is 1520, 1550 kg / mm 2 , the heat shrinkage at 200 ° C. is 0.2 and 0.2%, and the surface undulation depth is 0.2.
44 μm, undulation wavelength 0.7 mm, average cohesion of silica 2.1, SRa 2.4 nm, Zmax 40.2 n
m, RMS is 2.0, and H1 of coarse projections is 23,
H2 was 0. The coefficient of dynamic friction of the film is 0.1.
35.

【0057】[0057]

【比較例2】比較のため、ηinhが4.75のPPT
Aを用い、またドラフト率を1.2としたほかは全く実
施例3と同様にしてPPTAフィルムを製造した。得ら
れたフィルムは、厚みが5.2μmであり、フィルムの
物性は長尺方向、幅方向にそれぞれ、強度が43、43
kg/mm2 、伸度が20、19%、弾性率が151
5、1500kg/mm2 、200℃熱収縮率が0.
2、0.2%であり、シリカの平均凝集度は2.3、表
面起伏深さが0.07μm、起伏波長が0.7mm、S
Raが1.0nm、Zmaxが40.4nm、RMSが
1.9であり、粗大突起のH1が19個、H2が0個で
あった。フィルムの動摩擦係数はフィルムの滑りが悪く
て安定して走行せず、測定できなかった。
Comparative Example 2 For comparison, PPT with ηinh of 4.75
A PPTA film was produced in the same manner as in Example 3 except that A was used and the draft rate was 1.2. The obtained film had a thickness of 5.2 μm, and the physical properties of the film were 43 and 43, respectively, in the longitudinal direction and the width direction.
kg / mm 2 , elongation 20 , 19%, elastic modulus 151
5, 1500 kg / mm 2 , 200 ° C. heat shrinkage of 0.
2, 0.2%, average cohesion of silica is 2.3, surface undulation depth is 0.07 μm, undulation wavelength is 0.7 mm, S
Ra was 1.0 nm, Zmax was 40.4 nm, and RMS was 1.9. The number of coarse projections H1 was 19 and the number of H2 was 0. The dynamic friction coefficient of the film could not be measured because the film did not slide smoothly and did not run stably.

【0058】[0058]

【発明の効果】本発明のフィルムは、極めて平滑な表面
性と優れた取り扱い性を合わせ持つ耐熱性の薄手フィル
ムであり、磁気テープ用ベースフィルム、昇華型インク
リボン、耐熱性保護材などのベースフィルムとして有用
である。本発明のフィルムは、例えば磁気テープのベー
スフィルムとして用いられる場合には、磁気ヘッドの磁
性体面への追従性は損なわれず、一方フィルムまたは磁
性体面は、シリンダーやロール、ピン、ガイドなどの面
とは、表面起伏の効果により面との密着性が少なく、滑
り性は損なわれない。他の用途においても同様の効果が
もたらされる。
The film of the present invention is a heat-resistant thin film having extremely smooth surface properties and excellent handleability, and is used as a base film for a magnetic tape, a sublimation type ink ribbon, a heat-resistant protective material and the like. Useful as a film. When the film of the present invention is used as a base film of a magnetic tape, for example, the followability of the magnetic head to the magnetic material surface is not impaired, while the film or the magnetic material surface is made of a surface such as a cylinder, a roll, a pin, and a guide. Has low adhesion to the surface due to the effect of surface undulation, and does not impair the slipperiness. Similar effects can be obtained in other applications.

【0059】本発明のフィルムを用いた磁気テープによ
れば、今後ますます要求が高まる短波長信号による高記
録容量の磁気記録が可能となり、マルチメディアなどの
情報記録用途、デジタルハイビジョンなどの高品位テレ
ビ映像の録画、高度情報化社会におけるコンピュータ情
報記録のバックアップなどに有用な磁気テープが提供で
きる。また、昇華型インクリボンにおいても、高画質が
要求されるプルーファー用途などに適した高分解能のテ
ープが提供できる。
According to the magnetic tape using the film of the present invention, it is possible to perform magnetic recording with a high recording capacity using a short wavelength signal, which is increasingly demanded in the future, and it is possible to use it for information recording such as multimedia and high quality such as digital high vision. It is possible to provide a magnetic tape useful for recording television images, backing up computer information records in an advanced information society, and the like. In addition, it is possible to provide a high-resolution tape suitable for a proofer application requiring high image quality even in a sublimation type ink ribbon.

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 耐熱性樹脂よりなる平均厚みが2〜8μ
mであり、平均粒径が5〜150nmの不活性な微粒子
を0.005〜1.0重量%、平均凝集度が1〜100
の範囲に分散されて含有するフィルムであって、その表
面の少なくとも片面が光学的表面粗さ計の分解能で見た
中心面平均粗さ(SRa)が0.1〜10nmであり、
原子間力顕微鏡により測定した最大突起高さ(Zma
x)が5〜100nmであり、かつフィルムの表面の少
なくとも片面に、面方向に二次元的にサイン曲線近似の
なだらかな起伏を持ち、その起伏の中心線深さが0.1
〜1.5μmであり、起伏の波長が0.05〜5mmで
あり、動摩擦係数が0.5以下であることを特徴とする
耐熱性合成樹脂フィルム。
An average thickness of a heat-resistant resin is 2 to 8 μm.
m, 0.005 to 1.0% by weight of inert fine particles having an average particle size of 5 to 150 nm, and an average cohesion of 1 to 100.
Wherein at least one surface of the film has a center plane average roughness (SRa) of 0.1 to 10 nm as viewed at the resolution of an optical surface roughness meter,
Maximum protrusion height (Zma) measured by atomic force microscope
x) is 5 to 100 nm, and at least one surface of the film has a gentle undulation approximated by a two-dimensional sine curve in the surface direction, and the center line depth of the undulation is 0.1.
A heat-resistant synthetic resin film having a wavelength of 0.05 to 5 mm and a coefficient of kinetic friction of 0.5 or less.
【請求項2】 フィルムのいずれの方向においても、強
度が20〜60kg/mm2 、弾性率が1000〜25
00kg/mm2 、200℃における熱収縮率が2%以
下である請求項1記載の耐熱性合成樹脂フィルム。
2. A film having a strength of 20 to 60 kg / mm 2 and an elastic modulus of 1000 to 25 in any direction of the film.
2. The heat-resistant synthetic resin film according to claim 1, which has a heat shrinkage of 2% or less at 00 kg / mm 2 and 200 ° C.
【請求項3】 平均粒径が5〜150nmの不活性な微
粒子を0.005〜1.0重量%含有する液晶形成性ア
ラミドの液晶ドープを用いて製膜する方法において、そ
の液晶ドープを調整するに先立って、用いる溶剤中に上
記微粒子を平均凝集度が100以下まで分散させ、次い
で5μ以上の粒子を98重量%以上濾別できる精密フィ
ルターにて濾別した後、再度微粒子が凝集を開始するま
でにドープを調整し、ドラフト率1.5以上でキャスト
し、次いで等方相に相転換した後固化して製造すること
を特徴とする、フィルムの表面の少なくとも片面が、面
方向に二次元的にサイン曲線近似のなだらかな起伏を持
ち、その起伏の中心線深さが0.1〜1.5μmであ
り、起伏の波長が0.05〜5mmであり、かつ光学的
表面粗さ計の分解能で見た中心面平均粗さ(SRa)が
0.1〜10nmであり、原子間力顕微鏡により測定し
た最大突起高さ(Zmax)が5〜100nmであり、
動摩擦係数が0.5以下である耐熱性合成樹脂フィルム
の製造方法。
3. A method for forming a film using a liquid crystal dope of a liquid crystal-forming aramid containing 0.005 to 1.0% by weight of inactive fine particles having an average particle diameter of 5 to 150 nm, wherein the liquid crystal dope is adjusted. Prior to this, the fine particles are dispersed in the solvent used until the average degree of aggregation is 100 or less, and then the particles having a particle size of 5 μ or more are separated by a precision filter capable of filtering 98% by weight or more. At least one surface of the film is characterized by being prepared by adjusting the dope before casting, casting at a draft ratio of 1.5 or more, and then converting to an isotropic phase and then solidifying. It has a gentle undulation approximating a sine curve in a dimension, the center line depth of the undulation is 0.1 to 1.5 μm, the wavelength of the undulation is 0.05 to 5 mm, and an optical surface roughness meter. With a resolution of Center plane average roughness (SRa) is 0.1 to 10 nm, the maximum protrusion height was measured with an atomic force microscope (Zmax) is 5 to 100 nm,
A method for producing a heat-resistant synthetic resin film having a dynamic friction coefficient of 0.5 or less.
【請求項4】 平均粒径が5〜150nmの不活性な微
粒子を0.005〜1.0重量%含有する液晶形成性ア
ラミドの液晶ドープを用いて製膜する方法において、該
液晶ドープは粘性挙動の異なる2相以上より調整され、
少なくともその1相は島状に分散した微粒子と、海成分
を形成する溶液が実質的に耐熱性合成樹脂とその溶媒か
らなる海島ドープであり、その液晶ドープを調整するに
先立って、用いる溶剤中に上記微粒子を平均凝集度が1
00以下まで分散させ、次いで5μ以上の粒子を98重
量%以上濾別できる精密フィルターにて濾別した後、再
度微粒子が凝集を開始するまでにドープを調整し、ドラ
フト率1.5以上でキャストすることを特徴とする、フ
ィルムの表面の少なくとも片面が、面方向に二次元的に
サイン曲線近似のなだらかな起伏を持ち、その起伏の中
心線深さが0.1〜1.5μmであり、起伏の波長が
0.05〜5mmであり、かつ光学的表面粗さ計の分解
能で見た中心面平均粗さ(SRa)が0.1〜10nm
であり、原子間力顕微鏡により測定した最大突起高さ
(Zmax)が5〜100nmであり、動摩擦係数が
0.5以下である耐熱性合成樹脂フィルムの製造方法。
4. A method for forming a film using a liquid crystal dope of a liquid crystal-forming aramid containing 0.005 to 1.0% by weight of inert fine particles having an average particle size of 5 to 150 nm, wherein said liquid crystal dope is viscous. Adjusted from two or more phases with different behaviors,
At least one phase is fine particles dispersed in the form of islands, and a sea-island dope in which the solution forming the sea component is substantially composed of a heat-resistant synthetic resin and a solvent thereof. The above fine particles have an average cohesion of 1
And then filtered with a precision filter capable of filtering 98% by weight or more of particles of 5μ or more, then adjusting the dope until the fine particles start to aggregate again, and casting at a draft rate of 1.5 or more. Characterized in that at least one side of the surface of the film has a gentle undulation of a sine curve approximation two-dimensionally in the plane direction, the centerline depth of the undulation is 0.1 to 1.5 μm, The undulation wavelength is 0.05 to 5 mm, and the center plane average roughness (SRa) viewed at the resolution of the optical surface roughness meter is 0.1 to 10 nm.
Wherein the maximum protrusion height (Zmax) measured by an atomic force microscope is 5 to 100 nm and the dynamic friction coefficient is 0.5 or less.
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH1120019A (en) * 1997-07-02 1999-01-26 Asahi Chem Ind Co Ltd Heat-resistant film
WO2001068340A1 (en) * 2000-03-13 2001-09-20 Teijin Limited Aromatic polyamide film
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JP2015166189A (en) * 2015-06-08 2015-09-24 王子ホールディングス株式会社 Biaxially stretched polypropylene film

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