JPH10182660A - アルコキシシランの製造法 - Google Patents
アルコキシシランの製造法Info
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- JPH10182660A JPH10182660A JP8355774A JP35577496A JPH10182660A JP H10182660 A JPH10182660 A JP H10182660A JP 8355774 A JP8355774 A JP 8355774A JP 35577496 A JP35577496 A JP 35577496A JP H10182660 A JPH10182660 A JP H10182660A
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Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
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- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
Landscapes
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】本発明は、金属ケイ素と1価脂肪族アルコール
とを塩化銅系触媒の存在下に低温で効率よく反応させて
アルコキシシランを製造する事を目的としている。 【構成】金属ケイ素と1価脂肪族アルコールとを塩化銅
系触媒の存在下に109〜230℃で反応させてアルコ
キシシランを製造する方法において、反応溶媒としてビ
フェニルを用いる。
とを塩化銅系触媒の存在下に低温で効率よく反応させて
アルコキシシランを製造する事を目的としている。 【構成】金属ケイ素と1価脂肪族アルコールとを塩化銅
系触媒の存在下に109〜230℃で反応させてアルコ
キシシランを製造する方法において、反応溶媒としてビ
フェニルを用いる。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は塩化銅触媒の存在下にケ
イ素とアルコールからアルコキシシラン特にトリアルコ
キシシランを製造する改良法に関する。
イ素とアルコールからアルコキシシラン特にトリアルコ
キシシランを製造する改良法に関する。
【0002】
【従来の技術】アルコキシシランの製造法としては、ク
ロロシランとアルコールとを反応させる方法と、金属ケ
イ素とアルコールを直接反応させる方法が知られてい
る。クロロシランを用いる方法は、副生物として塩酸が
生成し、反応装置を腐食させるほか、生成したアルコキ
シシランの加水分解を促進し、且つ塩酸を含む廃液の処
理にも多大の費用を要する欠点を持っている。金属ケイ
素を用いる方法は液相反応で銅系触媒を用いた場合、ア
ルコキシ基が3〜4個導入されたシランの混合物が得ら
れるが、ケイ素の転化率が低い。改良反応法として反応
溶媒としてアリールメタン化合物やイソパラフィンを溶
媒として用いる方法が知られているが高転化率で、トリ
アルコキシシランの選択率の更に高い製法の開発が望ま
れている。
ロロシランとアルコールとを反応させる方法と、金属ケ
イ素とアルコールを直接反応させる方法が知られてい
る。クロロシランを用いる方法は、副生物として塩酸が
生成し、反応装置を腐食させるほか、生成したアルコキ
シシランの加水分解を促進し、且つ塩酸を含む廃液の処
理にも多大の費用を要する欠点を持っている。金属ケイ
素を用いる方法は液相反応で銅系触媒を用いた場合、ア
ルコキシ基が3〜4個導入されたシランの混合物が得ら
れるが、ケイ素の転化率が低い。改良反応法として反応
溶媒としてアリールメタン化合物やイソパラフィンを溶
媒として用いる方法が知られているが高転化率で、トリ
アルコキシシランの選択率の更に高い製法の開発が望ま
れている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、金属ケイ素
を使用する従来の欠点を解消し、高転化率でトリアルコ
キシシランの選択率の高い製造方法を提供するものであ
る。
を使用する従来の欠点を解消し、高転化率でトリアルコ
キシシランの選択率の高い製造方法を提供するものであ
る。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明は、ケイ素と炭素
数1〜4の1価脂肪族アルコールとをハロゲン化銅系触
媒の存在下に液相反応させてアルコキシシランを製造す
る方法において、反応溶媒としてビフェニルを用いる事
を特徴とするアルコキシシランの製造法である。
数1〜4の1価脂肪族アルコールとをハロゲン化銅系触
媒の存在下に液相反応させてアルコキシシランを製造す
る方法において、反応溶媒としてビフェニルを用いる事
を特徴とするアルコキシシランの製造法である。
【0005】本発明において、原料であるケイ素として
は通常純度が90%以上の金属ケイ素を200μ以下、
好ましくは100μ以下の平均粒度に微細化したものが
用いられ、その表面が酸化されないように不活性ガスで
シールされた状態で保存されているものが好ましい。
は通常純度が90%以上の金属ケイ素を200μ以下、
好ましくは100μ以下の平均粒度に微細化したものが
用いられ、その表面が酸化されないように不活性ガスで
シールされた状態で保存されているものが好ましい。
【0006】1価脂肪族アルコールとしては、炭素数が
1〜4個のものが用いられ、具体的にはメタノール、エ
タノール、イソプロパノール、n−ブタノール等があげ
られるが特にメタノール、エタノールが好ましい。アル
コールの使用量は金属ケイ素1モルに対して2〜5倍モ
ルの範囲から選ばれ、3倍モル程度が好ましい。
1〜4個のものが用いられ、具体的にはメタノール、エ
タノール、イソプロパノール、n−ブタノール等があげ
られるが特にメタノール、エタノールが好ましい。アル
コールの使用量は金属ケイ素1モルに対して2〜5倍モ
ルの範囲から選ばれ、3倍モル程度が好ましい。
【0007】ハロゲン化銅系触媒としては、具体的に
は、塩化第1銅、塩化第2銅、臭化第1銅、臭化第2
銅、よう化第1銅、よう化第2銅等があげられる。これ
ら触媒の使用量は金属ケイに対し0.1〜50モル%、
好ましくは0.5〜10モル%が用いられる。触媒の添
加法は、予め溶媒に一括して溶解もしくはけん濁させて
おくのが良いが、時として触媒が失括する事があるので
反応の途中で間欠的に添加してもよい。
は、塩化第1銅、塩化第2銅、臭化第1銅、臭化第2
銅、よう化第1銅、よう化第2銅等があげられる。これ
ら触媒の使用量は金属ケイに対し0.1〜50モル%、
好ましくは0.5〜10モル%が用いられる。触媒の添
加法は、予め溶媒に一括して溶解もしくはけん濁させて
おくのが良いが、時として触媒が失括する事があるので
反応の途中で間欠的に添加してもよい。
【0008】本発明で溶媒として用いるビフェニルの使
用量は特に制限はないが金属ケイ素に対100〜400
重量%用いるのが好ましい。
用量は特に制限はないが金属ケイ素に対100〜400
重量%用いるのが好ましい。
【0009】反応温度は190〜230℃、特に195
〜225℃が好ましい。反応は、溶媒中に金属ケイ素と
触媒を溶解もしくはけん濁させ、攪拌下、これにメタノ
ールまたはエタノールなどのアルコールを滴下添加する
ことで好適に進行する。生成物はほとんどがトリアルコ
キシシラン及びテトラアルコキシシランであり、両者と
もに有用なものであるが、現在の経済的価値はトリアル
コキシシランが大きい。本発明の溶媒の使用によってト
リアルコキシシランの割合が80〜96%に達するほど
に選択性が良好である。一方、トリアルコキシシランは
未反応アルコールと反応してテトラアルコキシシランに
転換し易いので、アルコリシス反応の禁止剤を添加した
り、10℃以下の低温、特に5℃以下に保持する事が好
ましい。
〜225℃が好ましい。反応は、溶媒中に金属ケイ素と
触媒を溶解もしくはけん濁させ、攪拌下、これにメタノ
ールまたはエタノールなどのアルコールを滴下添加する
ことで好適に進行する。生成物はほとんどがトリアルコ
キシシラン及びテトラアルコキシシランであり、両者と
もに有用なものであるが、現在の経済的価値はトリアル
コキシシランが大きい。本発明の溶媒の使用によってト
リアルコキシシランの割合が80〜96%に達するほど
に選択性が良好である。一方、トリアルコキシシランは
未反応アルコールと反応してテトラアルコキシシランに
転換し易いので、アルコリシス反応の禁止剤を添加した
り、10℃以下の低温、特に5℃以下に保持する事が好
ましい。
【0010】
【実施例】以下、具体的に本発明を説明するが、特記し
ない限り部は重量部を示す。 実施例1 ジムロート冷却管を備えた受器と、滴下ロートをY字型
連結管接続したフラスコに金属ケイ素40.0部、塩化
第1銅2.0部、ビフェニル80部を加え、攪拌子を入
れて攪拌しながらオイルバスを用いて220℃に加熱し
た。滴下ロートにメタノールをローラーポンプで供給し
ながら、該滴下ロートからフラスコ内に274.6部の
メタノールを10.5時間かけて滴下供給した。メタノ
ールの総添加量は275部であった。生成物は速やかに
気化され、ジムロート冷却管で冷却され、受器に貯留さ
れた。
ない限り部は重量部を示す。 実施例1 ジムロート冷却管を備えた受器と、滴下ロートをY字型
連結管接続したフラスコに金属ケイ素40.0部、塩化
第1銅2.0部、ビフェニル80部を加え、攪拌子を入
れて攪拌しながらオイルバスを用いて220℃に加熱し
た。滴下ロートにメタノールをローラーポンプで供給し
ながら、該滴下ロートからフラスコ内に274.6部の
メタノールを10.5時間かけて滴下供給した。メタノ
ールの総添加量は275部であった。生成物は速やかに
気化され、ジムロート冷却管で冷却され、受器に貯留さ
れた。
【0011】受器に溜まった留分を1時間毎に取り出
し、ガスクロマトグラフィー分析を行った。反応開始か
ら7時間目までは生成物中のトリメトキシシランの割合
(選択率)は90〜96%という高率であり、8時間目
以後はやや低下し、78〜86%となった。反応終了
後、残存金属ケイ素量からケイ素の転化率を求めたとこ
ろ、85%であり、生成物中のトリメトキシシランの割
合は平均で87.8%であった。
し、ガスクロマトグラフィー分析を行った。反応開始か
ら7時間目までは生成物中のトリメトキシシランの割合
(選択率)は90〜96%という高率であり、8時間目
以後はやや低下し、78〜86%となった。反応終了
後、残存金属ケイ素量からケイ素の転化率を求めたとこ
ろ、85%であり、生成物中のトリメトキシシランの割
合は平均で87.8%であった。
【0012】実施例2 実施例1と同様にして、ただし、加えた塩化第1銅の量
を1.0部とし、反応時間は9.5時間とした。メタノ
ールの添加量は275部となった。この時のケイ素の転
化率は78%でトリメトキシシランの平均選択率は82
%であった。
を1.0部とし、反応時間は9.5時間とした。メタノ
ールの添加量は275部となった。この時のケイ素の転
化率は78%でトリメトキシシランの平均選択率は82
%であった。
【0013】実施例3 実施例1と同様にして、ただし、加えた塩化第1銅の量
を0.5部とし、反応時間は10.3時間とした。メタ
ノールの添加量は290部となった。この時の金属ケイ
素の転化率は72%でトリメトキシシランの平均選択率
は80%であった。このことから、原料である金属ケイ
素に対し1.25Wt%(0.35モル%)という少量
の触媒使用量でも効率的に反応を進行させることができ
ることがわかる。
を0.5部とし、反応時間は10.3時間とした。メタ
ノールの添加量は290部となった。この時の金属ケイ
素の転化率は72%でトリメトキシシランの平均選択率
は80%であった。このことから、原料である金属ケイ
素に対し1.25Wt%(0.35モル%)という少量
の触媒使用量でも効率的に反応を進行させることができ
ることがわかる。
【0014】実施例4 実施例1と同様にして、ただし、使用したビフェニルの
量を65部と少なくし、反応時間は10.5時間とし
た。メタノールの添加量は283部となった。この時の
金属ケイ素の転化率は67%であり、溶媒使用量を減少
すると転化率が低下する傾向がみられる。一方トリメト
キシシランの平均選択率は86%で溶媒使用量にはほと
んど影響されないことがわかった。
量を65部と少なくし、反応時間は10.5時間とし
た。メタノールの添加量は283部となった。この時の
金属ケイ素の転化率は67%であり、溶媒使用量を減少
すると転化率が低下する傾向がみられる。一方トリメト
キシシランの平均選択率は86%で溶媒使用量にはほと
んど影響されないことがわかった。
【0015】実施例5 実施例1と同様にして、ただし、反応温度のみを次のよ
うに変えて反応した。反応結果を次に示す。 反応温度 ケイ素転化率 選択率* 180℃ 38% 55% 190 62 48 200 84 71 210 82 79 220 85 88 230 63 82 240 35 89 *選択率は、生成物中のトリメトキシシランの割合(G
Cによる面積%)を示す。
うに変えて反応した。反応結果を次に示す。 反応温度 ケイ素転化率 選択率* 180℃ 38% 55% 190 62 48 200 84 71 210 82 79 220 85 88 230 63 82 240 35 89 *選択率は、生成物中のトリメトキシシランの割合(G
Cによる面積%)を示す。
【0016】実施例6 実施例1と同様にして、ただし、メタノールをエタノー
ルに変え、その合計添加量は378部となった。この時
の金属ケイ素の転化率は72%でトリメトキシシランの
平均選択率は57%であった。
ルに変え、その合計添加量は378部となった。この時
の金属ケイ素の転化率は72%でトリメトキシシランの
平均選択率は57%であった。
【0017】比較例 使用溶媒を下記に示すものに変えて、実施例1と同じに
して実験を行った。結果を以下に示す。使用した触媒は
塩化第1銅で、原料である金属ケイ素に対し、5重量%
であった。 溶媒 反応温度(℃)反応時間 ケイ素転化率 選択率* イソパラフィン 180 11時間 25% 48% 同上 220 10 73 80 ジフェニルメタン 180 11 18 44 ジベンジルトルエン 220 10 84 61 *選択率は、生成物中のトリメトキシシランの割合(GCによる面積%)を 示す。
して実験を行った。結果を以下に示す。使用した触媒は
塩化第1銅で、原料である金属ケイ素に対し、5重量%
であった。 溶媒 反応温度(℃)反応時間 ケイ素転化率 選択率* イソパラフィン 180 11時間 25% 48% 同上 220 10 73 80 ジフェニルメタン 180 11 18 44 ジベンジルトルエン 220 10 84 61 *選択率は、生成物中のトリメトキシシランの割合(GCによる面積%)を 示す。
【0018】
【発明の効果】本発明によって、金属ケイ素の転化率が
高く、かつ生成物中のトリアルコキシシランの選択率も
極めて高い反応を、従来用いられていなかった溶媒を用
いることで効率よく進行させる事が出来る。
高く、かつ生成物中のトリアルコキシシランの選択率も
極めて高い反応を、従来用いられていなかった溶媒を用
いることで効率よく進行させる事が出来る。
Claims (3)
- 【請求項1】ケイ素と炭素数1〜4の1価脂肪族アルコ
ールとをハロゲン化銅系触媒の存在下に反応させてアル
コキシシランを製造する方法において、反応溶媒として
ビフェニルを用いる事を特徴とするアルコキシシランの
製造法。 - 【請求項2】1価脂肪族アルコールがメチルアルコール
であることを特徴とする請求項1のアルコキシシランの
製造法。 - 【請求項3】反応温度が190〜230℃であることを
特徴とする請求項1のアルコキシシランの製造法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP8355774A JPH10182660A (ja) | 1996-12-25 | 1996-12-25 | アルコキシシランの製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP8355774A JPH10182660A (ja) | 1996-12-25 | 1996-12-25 | アルコキシシランの製造法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH10182660A true JPH10182660A (ja) | 1998-07-07 |
Family
ID=18445691
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP8355774A Pending JPH10182660A (ja) | 1996-12-25 | 1996-12-25 | アルコキシシランの製造法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH10182660A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2001047937A1 (de) * | 1999-12-23 | 2001-07-05 | Basf Aktiengesellschaft | Lösungsmittel für die trialkoxysilansynthese |
US7339068B2 (en) | 2001-01-31 | 2008-03-04 | Momentive Performance Materials Inc. | Nanosized copper catalyst precursors for the direct synthesis of trialkoxysilanes |
US7858818B2 (en) | 2001-01-31 | 2010-12-28 | Momentive Performance Materials Inc. | Nanosized copper catalyst precursors for the direct synthesis of trialkoxysilanes |
-
1996
- 1996-12-25 JP JP8355774A patent/JPH10182660A/ja active Pending
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2001047937A1 (de) * | 1999-12-23 | 2001-07-05 | Basf Aktiengesellschaft | Lösungsmittel für die trialkoxysilansynthese |
US7339068B2 (en) | 2001-01-31 | 2008-03-04 | Momentive Performance Materials Inc. | Nanosized copper catalyst precursors for the direct synthesis of trialkoxysilanes |
US7495120B2 (en) | 2001-01-31 | 2009-02-24 | Momentive Performance Materials Inc. | Nanosized copper catalyst precursors for the direct synthesis of trialkoxysilanes |
US7858818B2 (en) | 2001-01-31 | 2010-12-28 | Momentive Performance Materials Inc. | Nanosized copper catalyst precursors for the direct synthesis of trialkoxysilanes |
US8513449B2 (en) | 2001-01-31 | 2013-08-20 | Momentive Performance Materials, Inc. | Nanosized copper catalyst precursors for the direct synthesis of trialkoxysilanes |
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