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JPH10177845A - Ac type plasma display panel and manufacture thereof - Google Patents

Ac type plasma display panel and manufacture thereof

Info

Publication number
JPH10177845A
JPH10177845A JP8339687A JP33968796A JPH10177845A JP H10177845 A JPH10177845 A JP H10177845A JP 8339687 A JP8339687 A JP 8339687A JP 33968796 A JP33968796 A JP 33968796A JP H10177845 A JPH10177845 A JP H10177845A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
protective film
display
glass substrate
plasma display
panel
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP8339687A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Katsumi Ohira
克己 大平
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toppan Inc
Original Assignee
Toppan Printing Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toppan Printing Co Ltd filed Critical Toppan Printing Co Ltd
Priority to JP8339687A priority Critical patent/JPH10177845A/en
Publication of JPH10177845A publication Critical patent/JPH10177845A/en
Pending legal-status Critical Current

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  • Gas-Filled Discharge Tubes (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To enable a beautiful and defect-free screen image owing to extremely stabilized gas electric discharge by using a glass thin plate on which a protective film is formed as dielectric having a protective film. SOLUTION: Address electrodes 12, ribs 13, phosphors 14 (red color 14R, blue color 14B, green color 14G) are formed respectively on a back surface glass substrate 10 of 3mm thickness. Then, on a glass thin plate 20 of 30μm thickness, a MgO protective film 21 is formed and the protective film 21 is formed on the glass this plate 20 by means of an electron beam vapor deposition method with an area for covering the total screen image area. Subsequently, on a front surface glass substrate 40 of 30mm thickness, a transparent conductive film 41 for the purpose of display and the bus electrode 42 are formed. The transparent dielectric film 41 for the purpose of display and the bus electrode 42 are assigned to a displaying electrode pair 70, subjected to AC electric discharge to force the phosphors 14 to illuminate. Meanwhile, in the case of screen image display, a plastic stripe 43 for the purpose of nicely displaying contrast is formed in the border of a display electrode part 70, namely in the border of a pixel. A screen surface becomes sharp in this way.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、ガス放電を利用し
た映像表示装置であるAC方式プラズマディスプレイパ
ネルとその製造方法に関する。
[0001] 1. Field of the Invention [0002] The present invention relates to an AC type plasma display panel which is an image display device utilizing gas discharge and a method of manufacturing the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、映像表示装置として大型ディスプ
レイが世の中に広まりつつあるが、従来からのCRTデ
ィスプレイはブラウン管の大型化に伴い重厚なものにな
っている。これに対して、電気メーカー数社より薄型で
且つ大画面のディスプレイとしてカラープラズマディス
プレイが発表され市販されてきている。(篠田傳、“A
C方式プラズマディスプレイパネル<シンプルな構造で
低コスト・大型化に期待>”、電子技術、vol.7
(1996)pp.63〜67)等。現状のカラープラ
ズマディスプレイには、DC方式カラープラズマディス
プレイとAC方式カラープラズマディスプレイの2方式
が実用化されている。しかしながら、DC方式カラープ
ラズマディスプレイは放電セルの構造が複雑で生産時の
パネルの歩留りが悪く、大量生産には結びついていな
い。一方、AC方式プラズマディスプレイは放電セルの
構造がシンプルで量産が可能となっている。
2. Description of the Related Art In recent years, large displays have become widespread as image display devices, but conventional CRT displays have become heavy with the increase in size of cathode ray tubes. On the other hand, a color plasma display has been announced and marketed as a thin and large-screen display by several electric manufacturers. (Den Shinoda, “A
C-type plasma display panel <Expectation for low cost and large size with simple structure>", Electronics Technology, Vol.
(1996) pp. 63-67) and the like. At present, two types of color plasma displays, a DC type color plasma display and an AC type color plasma display, have been put into practical use. However, the DC type color plasma display has a complicated structure of the discharge cell, and the yield of the panel at the time of production is poor, which is not linked to mass production. On the other hand, the AC-type plasma display has a simple structure of the discharge cells and can be mass-produced.

【0003】AC方式カラープラズマディスプレイに
は、大きく分けて表示放電を背面ガラス基板と前面ガラ
ス基板の電極間で対向して行う対向放電型パネルと表示
放電を前面ガラス基板40の表示用電極対70で行う3
電極面放電型パネル(図6にパネル構造の概念図を示し
た)の2種類の構造がある。カラー表示に欠かせない蛍
光体14を放電セル51になるべく大きな面積で塗布す
ることが高輝度化と高効率化につながり、また蛍光体を
AC方式表示放電の際のイオン衝撃から保護し劣化を防
ぐことがパネルの長寿命化につながる。3電極面放電型
パネルではAC方式表示放電の際のイオン衝撃を受けな
いように、蛍光体14は前面ガラス基板40には形成さ
れていないが、リブ13と背面ガラス基板10(アドレ
ス電極12上も含む)上に広く塗布されており、蛍光体
劣化のために電極上に塗布できない対向放電型のパネル
に比べて、蛍光体14の表面積が多くなり発光効率の点
で非常に有利になっている(T.Shinodaet.
al.,“Development of Techn
ologiesin Large−Area Colo
r ac Plasma Displays,”SID
1993 pp.161〜164(1993).)。
また、蛍光体14の塗布もリブ13を深い土手として利
用することによりRGBを塗り分けるため混色もなく塗
布できる。対向型のように電極の蛍光体を除く工程も不
要である。さらに、対向型の場合、この蛍光体の残渣が
表示放電の安定性を劣化させてしまう。以上の理由によ
り、現在のところ薄型大画面プラズマディスプレイのう
ちAC方式3電極面放電型カラープラズマディスプレイ
が圧倒的なシェアを誇っている。
The AC type color plasma display is roughly divided into a counter discharge type panel in which display discharge is performed between electrodes of a rear glass substrate and a front glass substrate and a display electrode pair 70 of a front glass substrate 40 which performs display discharge. Do with 3
There are two types of structures: an electrode surface discharge type panel (a conceptual diagram of the panel structure is shown in FIG. 6). Applying the phosphor 14 which is indispensable for color display with a large area as much as possible in the discharge cell 51 leads to higher brightness and higher efficiency, and protects the phosphor from ion bombardment during AC display discharge and prevents deterioration. Prevention leads to a longer panel life. In the three-electrode surface-discharge type panel, the phosphor 14 is not formed on the front glass substrate 40 so as not to receive ion bombardment at the time of the AC display discharge, but the rib 13 and the rear glass substrate 10 (on the address electrode 12). The surface area of the phosphor 14 is larger than that of a counter-discharge type panel which cannot be applied on the electrode due to the deterioration of the phosphor, which is very advantageous in terms of luminous efficiency. (T. Shinodat.
al. , “Development of Techn.
logosin Large-Area Colo
rac Plasma Displays, "SID
1993 pp. 161-164 (1993). ).
Also, the phosphor 14 can be applied without color mixing by using the rib 13 as a deep bank to separately apply RGB. There is no need for a step of removing the phosphor of the electrode as in the case of the opposed type. Further, in the case of the opposed type, the phosphor residue degrades the stability of display discharge. For the above reasons, the AC three-electrode surface-discharge color plasma display currently boasts an overwhelming share among thin large-screen plasma displays.

【0004】ここで、AC方式3電極面放電型カラープ
ラズマディスプレイの構造と製造方法について、さらに
詳しく図2、図3、図6を参考にしながら説明する。図
2は、従来のAC方式カラープラズマディスプレイのパ
ネル部品製造工程図、図3は、従来のAC方式カラープ
ラズマディスプレイの組立製造工程図、図6は、従来の
AC方式カラープラズマディスプレイのパネル構造を説
明するための概念図である。
Here, the structure and manufacturing method of the AC type three-electrode surface discharge type color plasma display will be described in more detail with reference to FIGS. 2, 3 and 6. FIG. FIG. 2 is a diagram showing a process for manufacturing a panel component of a conventional AC color plasma display, FIG. 3 is a diagram showing a process for assembling and manufacturing a conventional AC color plasma display, and FIG. It is a conceptual diagram for explaining.

【0005】上記3電極面放電型パネルにおいて、高精
細大画面のパネルが長時間にわたり映像をきれいに映し
出すためには、先ず長時間にわたり全セルで安定してア
ドレス用放電ならびに表示用放電を起こさなければなら
ないが、この最大のポイントは、前面ガラス基板40に
形成される誘電体層44と、この誘電体層の上に形成さ
れるMgO保護膜21の膜質とその均一性である。通
常、前面ガラス基板40の上には、まず表示用電極対7
0として透明導電膜ITO41が薄膜技術または厚膜技
術により形成される。つぎに、電圧降下を防ぐためのバ
ス電極42としてCr/Cu/Cr層が薄膜技術により
形成されるか、Agペーストにより厚膜技術により形成
される。さらにこの上に低融点のPbO系ガラス層が厚
膜技術によって透明誘電体層44として塗布焼成され、
この上にMgO保護膜21が薄膜技術によって形成され
る。
In the three-electrode surface-discharge type panel, in order for a high-definition large-screen panel to clearly display an image over a long period of time, first, address discharge and display discharge must be stably generated in all cells for a long period of time. The most important point is the quality of the dielectric layer 44 formed on the front glass substrate 40 and the quality and uniformity of the MgO protective film 21 formed on the dielectric layer. Normally, first, the display electrode pair 7 is placed on the front glass substrate 40.
As 0, the transparent conductive film ITO41 is formed by a thin film technique or a thick film technique. Next, a Cr / Cu / Cr layer is formed as a bus electrode 42 for preventing a voltage drop by using a thin film technique or a thick film technique using an Ag paste. Further, a PbO-based glass layer having a low melting point is applied thereon as a transparent dielectric layer 44 by a thick film technique and fired.
An MgO protective film 21 is formed thereon by a thin film technique.

【0006】透明誘電体層44の必要特性としては、表
示面側に形成されるので可視光に対する透過率が80%
以上で表面が平滑で且つ内部に気泡がないこと。ピンホ
ールや気泡が無く且つ耐電圧が1KV以上になるように
約30μmの厚さが全面にわたって均一であること。ま
たパネル完成までの熱処理工程において他の部材と反応
せず、ひび割れや変質を起こさないこと、などがあげら
れる。現状では、透明誘電体層44を形成する際に、ス
クリーン印刷により低融点のPbO系ガラスペーストを
塗布し焼成して作成しているが、透明誘電体層44の気
泡およびピンホールをなくすために図2(b)に示すよ
うにスクリーン印刷と530°Cでの焼成を3回繰り返
し透明誘電体層44の厚さを30μmとする方法が知ら
れている(川津喜帆、The 10th intern
ationalMicroelectronics C
onference,Ohmiya(1996).)。
A necessary characteristic of the transparent dielectric layer 44 is that the transparent dielectric layer 44 is formed on the display surface side, so that the transmittance for visible light is 80%.
Above, the surface is smooth and there are no bubbles inside. There must be no pinholes or bubbles, and the thickness of about 30 μm must be uniform over the entire surface so that the withstand voltage is 1 KV or more. Another problem is that it does not react with other members in the heat treatment process until panel completion and does not cause cracking or deterioration. At present, when the transparent dielectric layer 44 is formed, a low-melting PbO-based glass paste is applied by screen printing and baked, but in order to eliminate bubbles and pinholes in the transparent dielectric layer 44, As shown in FIG. 2B, a method is known in which screen printing and firing at 530 ° C. are repeated three times to make the thickness of the transparent dielectric layer 44 30 μm (Kiho Kawazu, The 10th intern).
nationalmicroelectronics C
onference, Ohmiya (1996). ).

【0007】しかしながら、上記の方法には透明誘電体
層44を形成する工程において3回も530°Cでの焼
成を繰り返しているが、これに伴って前面ガラス基板4
0の熱収縮の問題や表示用透明導電膜41やバス電極4
2の劣化、各部材間(前面ガラス基板40、表示用透明
導電膜41、バス電極42、透明誘電体層44)での熱
拡散による原子の移動に伴って生じる問題などがあっ
た。また、透明誘電体層44を画面全体にわたってピン
ホールや気泡を完全になくし、且つ膜厚を一定にするこ
とは極めて難しく、これによってパネル化した際に場所
によって放電現象にムラが発生するという問題もあっ
た。前記PbO系ガラスペーストの焼成温度特性を、ガ
ラスシール時の温度(450°C)に合わせてあまり低
い温度に設定できないので、530°Cで焼成した際に
粘性が高く、透明誘電体層44表面が十分に平滑になら
ないという問題もあった。焼成温度のムラにより透明誘
電体層44の可視光透過率が場所により変化してしまう
などの問題もあった。勿論、製造工程での手間と焼成に
おける熱エネルギーコストも大きな問題である。
However, in the above method, firing at 530 ° C. is repeated three times in the step of forming the transparent dielectric layer 44.
0 thermal shrinkage problem, display transparent conductive film 41 and bus electrode 4
2 and the problems caused by the movement of atoms due to thermal diffusion between the members (front glass substrate 40, transparent conductive film 41 for display, bus electrode 42, transparent dielectric layer 44). In addition, it is extremely difficult to completely eliminate pinholes and bubbles over the entire screen of the transparent dielectric layer 44 and to keep the film thickness constant, which causes a problem in that a discharge phenomenon becomes uneven depending on the location when the panel is formed. There was also. Since the firing temperature characteristic of the PbO-based glass paste cannot be set to a very low temperature in accordance with the temperature (450 ° C.) at the time of glass sealing, when firing at 530 ° C., the viscosity is high and the surface of the transparent dielectric layer 44 However, there is also a problem that is not sufficiently smooth. There is also a problem that the visible light transmittance of the transparent dielectric layer 44 varies depending on the location due to unevenness in the firing temperature. Of course, the labor in the manufacturing process and the heat energy cost in firing are also serious problems.

【0008】MgO保護膜21の主な役割は2つある。
1つは、表示放電の際に起こるイオン衝撃による透明誘
電体層44の低融点ガラスに用いられているPbOの分
解によるパネル内部の汚染をなくすために、透明誘電体
層44をイオン衝撃から保護するための耐スパッター性
である。もう1つは、AC方式放電をさせる際の放電開
始電圧の低減のための2次電子放出効率の高さと長時間
点灯後に変質がないこと、放電維持電圧と放電開始電圧
のマージンが適度にとれること、また壁電荷を適切に保
持できること、など放電現象に関する安定性である。こ
のMgO保護膜21に要求される必要特性としては、上
記の役割を担った膜を如何に全体に均一に一様な膜面を
もって透明誘電体層44に形成させるかということであ
る。MgO保護膜21の形成法としてはゾルゲル法やス
クリーン印刷法なども研究されているが、実用化に達し
ているのは電子ビーム(EB)蒸着法である。また、M
gO保護膜の代替としてLa2 3 またはCeO2 など
の薄膜を用いることが検討されているが現状では実用化
されていない。
The main role of the MgO protective film 21 is twofold.
One is to protect the transparent dielectric layer 44 from ion bombardment in order to eliminate the contamination of the inside of the panel due to the decomposition of PbO used for the low melting point glass of the transparent dielectric layer 44 due to ion bombardment occurring at the time of display discharge. Spatter resistance. The other is that the secondary electron emission efficiency for reducing the discharge starting voltage at the time of AC discharge is high, there is no deterioration after long-time lighting, and the margin between the discharge sustaining voltage and the discharge starting voltage can be appropriately set. And the stability with respect to discharge phenomena, such as the ability to properly retain wall charges. A necessary characteristic required for the MgO protective film 21 is how to form the film having the above role on the transparent dielectric layer 44 with a uniform and uniform film surface as a whole. As a method of forming the MgO protective film 21, a sol-gel method, a screen printing method, and the like have been studied, but an electron beam (EB) evaporation method has reached practical use. Also, M
The use of a thin film such as La 2 O 3 or CeO 2 as a substitute for the gO protective film has been studied, but has not been put to practical use at present.

【0009】しかしながら、現状のEB蒸着法でMgO
保護膜を500nm程度、画面全体に均一でかつ一様に
成膜しようと如何に努力しても、蒸着されるべき基板と
なる透明誘電体層が画面全体に均一でかつ一様に安定し
て平滑でなければ、透明誘電体層の表面に形成されたM
gO保護膜自体にピンホールや亀裂を生じてしまい、耐
スパッター性が損なわれる個所が発生してパネルが汚染
されたり放電現象が安定しない箇所が生じるという問題
点があった。
However, in the current EB evaporation method, MgO
No matter how much effort is made to form a protective film about 500 nm uniformly and uniformly over the entire screen, the transparent dielectric layer to be deposited on the entire screen is uniformly and uniformly stable. If not smooth, M formed on the surface of the transparent dielectric layer
The gO protective film itself has a problem that a pinhole or a crack is generated in the gO protective film, a part where spatter resistance is impaired is generated, and a panel is contaminated or a part where a discharge phenomenon is not stable occurs.

【0010】[0010]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、以上のよう
な問題点に着目してなされたものであり、誘電体層とし
て可視光に対する透過率が高く、表面が平滑でピンホー
ルがなく、内部に気泡がなく、かつ、耐電圧が1KV以
上になるような厚さが全面にわたって均一でありMgO
保護膜形成時に問題とならず、さらにエネルギーコスト
を低減するように焼成工程をなくしたプラズマディスプ
レイパネル、特にはAC方式プラズマディスプレイパネ
ルとその製造方法を提供することを課題としている。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above-mentioned problems, and has a high transmittance to visible light as a dielectric layer, a smooth surface, no pinholes, MgO with no bubbles inside and a uniform thickness over the entire surface so that the withstand voltage becomes 1 KV or more
It is an object of the present invention to provide a plasma display panel which does not cause a problem when forming a protective film and which eliminates a baking step so as to further reduce energy costs, in particular, an AC type plasma display panel and a method of manufacturing the same.

【0011】[0011]

【課題を解決するための手段】本発明の第1の発明は、
背面ガラス基板上にアドレス電極、リブ、蛍光体を設
け、これと対向させて保護膜を有する誘電体を介して表
示用電極対を配置したAC方式プラズマディスプレイパ
ネルにおいて、保護膜を有する誘電体として保護膜を形
成したガラス薄板を用いることを特徴とするAC方式プ
ラズマディスプレイパネルである。
Means for Solving the Problems A first invention of the present invention is:
In an AC type plasma display panel in which an address electrode, a rib, and a phosphor are provided on a rear glass substrate, and a display electrode pair is disposed opposite to the address electrode, a rib, and a phosphor having a protective film, An AC-type plasma display panel using a thin glass plate on which a protective film is formed.

【0012】また、第2の発明は、第1の発明におい
て、前記ガラス薄板として、着色ガラスを用いることを
特徴とするAC方式プラズマディスプレイパネルであ
る。
According to a second aspect of the present invention, there is provided the AC type plasma display panel according to the first aspect, wherein a colored glass is used as the glass thin plate.

【0013】さらにまた、第3の発明は、第1の発明に
おいて、前記ガラス薄板として、複数枚のガラスを用い
ることを特徴とするAC方式プラズマディスプレイパネ
ルである。
Further, a third invention is the AC type plasma display panel according to the first invention, wherein a plurality of glasses are used as the glass thin plate.

【0014】さらにまた、第1、第2、または第3の発
明のAC方式プラズマディスプレイパネルにおいて、保
護膜を形成した誘電体のガラス薄板を、アドレス電極、
リブ、蛍光体を形成した背面ガラス基板上のリブと、表
示用電極対を形成した前面ガラス基板、との間に挟み込
んで、全体を低融点ガラスにてシールし、放電ガスを満
たしてパネル化することを特徴とするAC方式プラズマ
ディスプレイパネルの製造方法である。
Further, in the AC type plasma display panel according to the first, second, or third aspect of the present invention, the dielectric glass thin plate on which the protective film is formed is formed by using an address electrode,
Rib, sandwiched between the rib on the back glass substrate on which the phosphor was formed, and the front glass substrate on which the display electrode pair was formed, sealed the whole with low melting point glass, filled with discharge gas, and formed a panel And a method of manufacturing an AC type plasma display panel.

【0015】さらにまた、第1、第2、または第3の発
明のAC方式プラズマディスプレイパネルにおいて、保
護膜を形成した誘電体のガラス薄板を、アドレス電極、
リブ、蛍光体を形成した背面ガラス基板上のリブと密着
させて低融点ガラスにてシールし、放電ガスを満たした
後に、前記ガラス薄板と表示用電極対を形成した前面ガ
ラス基板とを接着剤により貼り合わせてパネル化するこ
とを特徴とするAC方式プラズマディスプレイの製造方
法である。
Further, in the AC-type plasma display panel according to the first, second or third aspect of the present invention, the dielectric thin glass plate on which the protective film is formed is formed by using an address electrode,
After the ribs and the ribs on the rear glass substrate on which the phosphor is formed are in close contact with each other and sealed with a low-melting glass, and filled with a discharge gas, the glass thin plate and the front glass substrate on which the display electrode pair is formed are bonded with an adhesive. A method for manufacturing an AC type plasma display, characterized in that a panel is formed by bonding together.

【0016】上記のように本発明によれば、保護膜を有
する誘電体として保護膜を形成したガラス薄膜を用いる
ので、画面全体にわたってピンホールや気泡を完全に除
去しかつ膜厚を一定にすることが可能となる。
As described above, according to the present invention, since a glass thin film on which a protective film is formed is used as a dielectric having a protective film, pinholes and bubbles are completely removed over the entire screen and the film thickness is kept constant. It becomes possible.

【0017】また、保護膜を形成した誘電体のガラス薄
板を、アドレス電極、リブ、蛍光体を形成した背面ガラ
ス基板上のリブと、表示用電極対を形成した前面ガラス
基板との間に挟み込んで、全体を低融点ガラスにてシー
ルし、放電ガスを満たしてパネル化するので、誘電体層
を形成する工程での熱処理工程が不要になる。
Further, a thin dielectric glass plate on which a protective film is formed is sandwiched between a rib on a rear glass substrate on which address electrodes, ribs and phosphors are formed, and a front glass substrate on which a display electrode pair is formed. Then, the whole is sealed with low-melting glass and filled with a discharge gas to form a panel, so that a heat treatment step in the step of forming a dielectric layer is not required.

【0018】これに伴って従来の工程で問題となった前
面ガラス基板の熱収縮の問題や表示用透明導電膜、バス
電極等の各種電極の劣化や前面ガラス基板、表示用透明
導電膜、バス電極、透明誘電体層等の各部材間での熱拡
散による原子の移動に伴って生じる問題が解消する。さ
らに焼成温度のムラにより誘電体層の可視光透過率が場
所により変化してしまうという問題もなくなり、勿論、
製造工程上の手間と焼成における熱エネルギーコストも
不要となる。
Along with this, the problem of heat shrinkage of the front glass substrate, deterioration of various electrodes such as the transparent conductive film for display and bus electrode, and the problem of the front glass substrate, the transparent conductive film for display, The problem caused by the movement of atoms due to thermal diffusion between members such as an electrode and a transparent dielectric layer is eliminated. Further, the problem that the visible light transmittance of the dielectric layer changes depending on the place due to the unevenness of the firing temperature is eliminated.
The labor in the manufacturing process and the heat energy cost in firing are also unnecessary.

【0019】さらに、現状のEB蒸着法でMgO保護膜
を500nm程度、画面全体に均一でかつ一様に成膜し
ようと如何に努力しても、蒸着さるべき基板となる誘電
体層をガラス基板に代替したので、画面全体に均一でか
つ一様に安定して平滑であるため、ガラス基板の表面に
形成されたMgO保護膜にもピンホールや亀裂を生じる
ことなく、耐スパッター性が損なわれる個所がほとんど
皆無となりパネルが汚染されたり、放電現象が安定しな
い個所が生じることもほとんどなくなる。
Further, no matter how much effort is made to form an MgO protective film uniformly and uniformly over the entire screen with a thickness of about 500 nm by the current EB vapor deposition method, the dielectric layer to be vapor-deposited is a glass substrate. The sputter resistance is spoiled without causing pinholes or cracks in the MgO protective film formed on the surface of the glass substrate, since the entire screen is uniform and uniformly stable and smooth. Since there are almost no places, the panel is not contaminated, and there are almost no places where the discharge phenomenon is unstable.

【0020】さらに、保護膜を形成した誘電体のガラス
薄板を、アドレス電極、リブ、蛍光体を形成した背面ガ
ラス基板上のリブと密着させて低融点ガラスにてシール
し、放電ガスを満たしてチップオフするため、この段階
でガス放電パネルとしての機密性が達成される。
Further, the dielectric thin glass plate on which the protective film is formed is brought into close contact with the address electrode, the ribs, and the ribs on the rear glass substrate on which the fluorescent material is formed, sealed with a low melting point glass, and filled with a discharge gas. Because of the chip-off, confidentiality as a gas discharge panel is achieved at this stage.

【0021】これに伴い、これ以後の工程では低融点シ
ールガラスなどを使用して放電ガスの安定化のための気
密性とは関係なくパネルを作製できることになる。背面
ガラス基板10にアドレス電極12、リブ13、蛍光体
14をそれぞれ形成させた部品Aと、ガラス薄板の上に
MgO保護膜21を形成させた部品Cとの封着体と、表
示用電極対70を形成させた前面ガラス基板40の部品
Dは常温で接着剤により貼り合わせてパネル化する。従
って、例えば電磁波シールド用透明導電膜71や反射防
止膜72を予め前面ガラス基板40の部品Dに形成して
おくことも容易である。また、真空封止の必要も無くな
るので表示用透明導電膜41やバス電極42の材料の選
定の幅が拡がる。さらに、有機顔料のカラーフィルター
も使用することが可能となる(図8参照)。
Accordingly, in the subsequent steps, a panel can be manufactured using low-melting-point sealing glass or the like irrespective of airtightness for stabilizing the discharge gas. A sealing member comprising a component A in which an address electrode 12, a rib 13, and a phosphor 14 are respectively formed on a rear glass substrate 10, a component C in which an MgO protective film 21 is formed on a thin glass plate, and a display electrode pair The component D of the front glass substrate 40 on which the 70 is formed is bonded at normal temperature with an adhesive to form a panel. Therefore, for example, it is easy to form the transparent conductive film 71 for electromagnetic wave shielding and the antireflection film 72 on the component D of the front glass substrate 40 in advance. In addition, since the need for vacuum sealing is eliminated, the range of selection of materials for the display transparent conductive film 41 and the bus electrode 42 is expanded. Furthermore, it becomes possible to use a color filter of an organic pigment (see FIG. 8).

【0022】[0022]

【発明の実施の形態】以下実施例により本発明を詳細に
説明する。AC方式プラズマディスプレイパネルにおい
て、誘電体層をガラスペーストの印刷焼成により形成せ
ず、ガラスの薄板とし、この薄板のMgO保護膜を成膜
する。このガラス薄板は、パネル化した際の可視光の透
過率が良く、平滑であり、厚さが一定であこと、および
後工程での熱サイクルでの損傷がないようにMgO保護
膜の膨張率を合わせておくことが肝要である。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The present invention will be described in detail below with reference to embodiments. In the AC type plasma display panel, the dielectric layer is not formed by printing and firing glass paste, but is made of a thin glass plate, and an MgO protective film of this thin plate is formed. This thin glass plate has good transmittance of visible light when formed into a panel, is smooth, has a constant thickness, and has a coefficient of expansion of the MgO protective film so as not to be damaged by a heat cycle in a later process. It is important to match

【0023】〈実施例1〉保護膜を形成した誘電体のガ
ラス薄板を、アドレス電極、リブ、蛍光体を形成した背
面ガラス基板上のリブと表示用電極対を形成した前面ガ
ラス基板との間に挟み込んで、全体を低融点ガラスにて
シールし、放電ガスを満たしてパネル化する製造方法に
より、21インチAC方式3電極面放電型カラープラズ
マディスプレイパネルを作製した。
<Example 1> A dielectric thin glass plate having a protective film formed thereon was placed between a rib on a rear glass substrate on which address electrodes, ribs, and phosphors were formed, and a front glass substrate on which a display electrode pair was formed. Then, a 21-inch AC type three-electrode surface discharge type color plasma display panel was manufactured by a manufacturing method in which the whole was sealed with a low-melting glass and filled with a discharge gas to form a panel.

【0024】このパネルの概略の構造は図7に示す通り
である。先ず、図1(a)に示す工程にしたがい、厚さ
3mmの背面ガラス基板10にアドレス電極12、リブ
13、蛍光体14(3色‥赤色発光蛍光体 14R、青
色発光蛍光体 14B、緑色発光蛍光体 14G)を、
それぞれスクリーン印刷法により形成させた(部品Aと
する)。この部品Aの一部を図9に示す。アドレス電極
12とリブ13のピッチはいずれも0.22mmであ
り、蛍光体14R、14B、14Gのピッチはいずれも
0.66mmである。
The schematic structure of this panel is as shown in FIG. First, according to the process shown in FIG. 1A, an address electrode 12, a rib 13, and a phosphor 14 (three-color red light-emitting phosphor 14R, blue light-emitting phosphor 14B, green light-emitting) are formed on a back glass substrate 10 having a thickness of 3 mm. Phosphor 14G)
Each was formed by the screen printing method (part A). FIG. 9 shows a part of the part A. The pitch between the address electrodes 12 and the ribs 13 is 0.22 mm, and the pitch between the phosphors 14R, 14B, and 14G is 0.66 mm.

【0025】つぎに、図1(c)に示す工程にしたが
い、厚さ30μmのガラス薄板20の上にMgO保護膜
21を形成させた(部品Cとする)。この部品Cの一部
を図10に示す。MgO保護膜21は画面全体を覆う面
積で電子線蒸着法によりガラス薄板20上に形成され
る。
Next, according to the process shown in FIG. 1C, an MgO protective film 21 was formed on a glass thin plate 20 having a thickness of 30 μm (referred to as part C). FIG. 10 shows a part of the part C. The MgO protective film 21 has an area covering the entire screen and is formed on the glass thin plate 20 by an electron beam evaporation method.

【0026】つぎに、図1(d)に示す工程にしたが
い、厚さ3mmの前面ガラス基板40上に表示用電極対
を形成させた(部品Dとする)。なお、41は表示用透
明導電膜、透明導電膜ITOを示し、42はバス電極、
Cr/Cu/Cr層を示す。この部品Dの一部を図11
に示す。なお、ここでの工程は真空蒸着法とフォトリソ
法によるエッチングでのパターン形成法を使用した。ま
た、表示用透明導電膜41とバス電極42はXnとYn
の表示用電極対70となっており、表示放電の際にこの
一対のXnとYnにAC放電がなされて蛍光体14が発
光する。この表示用電極対70のピッチは0.66mm
である。また映像表示の際に画像をコントラスト良く見
せるためのブラックストライプ43を表示用電極対70
の境目、すなわち画素の境目に形成した。このピッチも
0.66mmである。
Next, according to the process shown in FIG. 1D, a pair of display electrodes was formed on a front glass substrate 40 having a thickness of 3 mm (part D). 41 indicates a transparent conductive film for display and a transparent conductive film ITO, 42 indicates a bus electrode,
3 shows a Cr / Cu / Cr layer. A part of this part D is shown in FIG.
Shown in Note that, in this step, a pattern formation method by etching using a vacuum evaporation method and a photolithography method was used. The display transparent conductive film 41 and the bus electrode 42 are Xn and Yn.
The pair of Xn and Yn are subjected to an AC discharge during display discharge, and the phosphor 14 emits light. The pitch of the display electrode pair 70 is 0.66 mm.
It is. In addition, a black stripe 43 for displaying an image with good contrast when displaying an image is formed by a display electrode pair 70.
, That is, at the boundary between pixels. This pitch is also 0.66 mm.

【0027】最後に図4に示す工程にしたがい、各部品
を位置合わせしてパネル化した。すなわち、MgO保護
膜21を形成したガラス薄板20を、アドレス電極1
2、リブ13、蛍光体14を形成した背面ガラス基板1
0上のリブ13′と表示用電極対70を形成した前面ガ
ラス基板40との間に挟み込んで全体を低融点ガラス3
2にてシールし、放電ガス50を満たしてパネル化す
る。図13から分かるように、部品A、C、D間の位置
精度は必要なく、各シール工程での位置合わせが楽であ
ることから、ブラックストライプ43を前面ガラス基板
40に形成して背面ガラス基板10の黒色リブ頂上部1
3′といわゆるブラックマトリックスを形成することが
でき、画面がシャープになった。
Finally, according to the process shown in FIG. 4, the components were aligned to form a panel. That is, the glass thin plate 20 on which the MgO protective film 21 is formed is
Back glass substrate 1 on which 2, rib 13 and phosphor 14 are formed
The low melting point glass 3 is sandwiched between the ribs 13 ′ on the front side and the front glass substrate 40 on which the display electrode pairs 70 are formed.
The panel is sealed with 2 and filled with the discharge gas 50 to form a panel. As can be seen from FIG. 13, since the positional accuracy between the parts A, C, and D is not required and the alignment in each sealing step is easy, the black stripe 43 is formed on the front glass substrate 40 and the rear glass substrate is formed. 10 black rib tops 1
3 'and a so-called black matrix could be formed, and the screen became sharp.

【0028】〈実施例2〉保護膜を形成した誘電体のガ
ラス薄板を、アドレス電極、リブ、蛍光体を形成した背
面ガラス基板上のリブと密着させて低融点ガラスにてシ
ールし、放電ガスを満たした後に、前記ガラス薄板と表
示用電極対を形成した前面ガラス基板とを接着剤により
貼り合わせてパネル化するという製造方法により、21
インチAC方式3電極面放電型カラープラズマディスプ
レイパネルを作製した。
<Embodiment 2> A dielectric thin glass plate on which a protective film was formed was brought into close contact with ribs on a rear glass substrate on which address electrodes, ribs, and phosphors were formed and sealed with low-melting glass. Is satisfied, and the glass thin plate and the front glass substrate on which the display electrode pair is formed are bonded with an adhesive to form a panel, thereby forming a panel.
An inch AC three-electrode surface discharge type color plasma display panel was manufactured.

【0029】このパネルの概略の構造は図8に示す通り
である。先ず、実施例1と同様に図1(a)に示す工程
にしたがい、厚さ3mmの背面ガラス基板10にアドレ
ス電極12、リブ13、蛍光体14(3色‥14R、1
4B、14G)を、それぞれスクリーン印刷法により形
成させ、部品Aとした。この部品Aの一部を図9に示
す。アドレス電極12とリブ13のピッチはいずれも
0.22mmであり、蛍光体14R、14B、14Gの
ピッチはいずれも0.66mmである。
The schematic structure of this panel is as shown in FIG. First, in the same manner as in Example 1, according to the process shown in FIG. 1A, an address electrode 12, a rib 13, and a phosphor 14 (three-color # 14R,
4B, 14G) were formed by a screen printing method to obtain parts A. FIG. 9 shows a part of the part A. The pitch between the address electrodes 12 and the ribs 13 is 0.22 mm, and the pitch between the phosphors 14R, 14B, and 14G is 0.66 mm.

【0030】つぎに、実施例1と同様に図1(c)に示
す工程にしたがい、厚さ30μmのガラス薄板20の上
にMgO保護膜21を形成させ、部品Cとした。この部
品Cの一部を図10に示す。MgO保護膜21は画面全
体を覆う面積で電子線蒸着法によりガラス薄板20上に
形成される。
Next, an MgO protective film 21 was formed on a thin glass plate 20 having a thickness of 30 μm according to the process shown in FIG. FIG. 10 shows a part of the part C. The MgO protective film 21 has an area covering the entire screen and is formed on the glass thin plate 20 by an electron beam evaporation method.

【0031】つぎに、実施例1と同様に図1(d)に示
す工程にしたがい、厚さ3mmの前面ガラス基板40上
に表示用電極対を形成させ、部品Dとした。この部品D
の一部を図12に示す。なお、ここでの工程は真空蒸着
法とフォトリソ法によるエッチングでのパターン形成法
を使用した。また、表示用透明導電膜41とバス電極4
2はXnとYnの表示用電極対70となっており、表示
放電の際にこの一対のXnとYnにAC放電がなされて
蛍光体14が発光する。この表示用電極対70のピッチ
は0.66mmである。また映像表示の際に画像をコン
トラスト良く見せるためのブラックストライプ43を表
示用電極対70の境目、すなわち画素の境目に形成し
た。このピッチも0.66mmである。
Next, a display electrode pair was formed on a front glass substrate 40 having a thickness of 3 mm according to the process shown in FIG. This part D
Are shown in FIG. Note that, in this step, a pattern formation method by etching using a vacuum evaporation method and a photolithography method was used. The display transparent conductive film 41 and the bus electrode 4
Reference numeral 2 denotes a display electrode pair 70 of Xn and Yn. When a display discharge occurs, an AC discharge is applied to the pair of Xn and Yn, and the phosphor 14 emits light. The pitch of the display electrode pair 70 is 0.66 mm. In addition, a black stripe 43 for showing an image with good contrast at the time of image display was formed at the boundary between the display electrode pairs 70, that is, at the boundary between pixels. This pitch is also 0.66 mm.

【0032】ここでは後工程が常温なので、前面ガラス
基板40の表示用透明導電膜41やバス電極42を形成
させてない方の面に、電磁波シールド用透明導電膜71
や反射防止膜72を予め形成し、電磁波による障害を抑
える対策や外光の画面への映り込み対策の工夫を施し
た。
Here, since the post-process is at room temperature, the transparent conductive film 71 for shielding electromagnetic waves is provided on the surface of the front glass substrate 40 on which the display transparent conductive film 41 and the bus electrode 42 are not formed.
The anti-reflection film 72 is formed in advance, and measures are taken for measures to suppress disturbance due to electromagnetic waves and measures for reflection of external light on the screen.

【0033】最後に、図5に示す工程にしたがい、各部
品を位置合わせしパネル化した。すなわち、MgO保護
膜21を形成したガラス薄板20を、アドレス電極1
2、リブ13、蛍光体14を形成した背面ガラス基板1
0上のリブ13′と密着させて低融点ガラス32にてシ
ールし、放電ガス50を満たしてチップオフした。この
段階でガス放電パネルとしての気密性が達成された。
Finally, according to the process shown in FIG. 5, each component was aligned and formed into a panel. That is, the glass thin plate 20 on which the MgO protective film 21 is formed is
Back glass substrate 1 on which 2, rib 13 and phosphor 14 are formed
The chip was sealed with a low-melting glass 32 in close contact with the rib 13 'on the top of the chip 0, filled with a discharge gas 50, and chipped off. At this stage, airtightness as a gas discharge panel was achieved.

【0034】部品Aと部品Cの封着体と、表示用電極対
70を形成させた前面ガラス基板40の部品Dは常温で
接着剤を用いて貼り合わせてパネル化する。図13から
分かるように、部品A、C、D間の位置精度は必要な
く、各シール工程での位置合わせが楽であることから、
ブラックストライプ43を前面ガラス基板40に形成し
て背面ガラス基板10の黒色リブ頂上部13′といわゆ
るブラックマトリックスを形成することができ、画面が
シャープになった。
The sealed body of the parts A and C and the part D of the front glass substrate 40 on which the display electrode pair 70 is formed are bonded at room temperature using an adhesive to form a panel. As can be seen from FIG. 13, there is no need for positional accuracy between the parts A, C, and D, and the alignment in each sealing step is easy, so that
The black stripes 43 were formed on the front glass substrate 40 to form a so-called black matrix with the black rib tops 13 'of the rear glass substrate 10, and the screen became sharp.

【0035】このようにして作製した2種類のカラープ
ラズマディスプレイパネルを、従来のAC方式3電極面
放電型カラープラズマディスプレイパネルの点灯方式に
より映像表示点灯させて放電現象の安定性を評価した。
The two types of color plasma display panels produced in this manner were turned on for image display by the lighting method of the conventional AC type three-electrode surface discharge type color plasma display panel, and the stability of the discharge phenomenon was evaluated.

【0036】〈実施例1の評価結果〉作製したパネルを
点灯したところ21インチの画面全体にわたり、画像の
ちらつきがなくなった。市販のパネルでは平均10個程
度の誤放電表示があったが、このパネルでは3個に減少
した。
<Evaluation Results of Example 1> When the panel thus manufactured was turned on, the image flicker disappeared over the entire 21-inch screen. On average, about 10 erroneous discharge displays were found on the commercially available panel, but this number was reduced to three on this panel.

【0037】〈実施例2の評価結果〉作製したパネルを
点灯したところ21インチの画面全体にわたり、画面の
ちらつきがなくなった。市販のパネルでは平均10個程
度の誤放電表示があったが、このパネルでは5個に減少
した。また、反射防止膜により画面への外光の映り込み
が減った。
<Evaluation Results of Example 2> When the panel thus manufactured was lit, the screen flicker disappeared over the entire 21-inch screen. On average, about 10 erroneous discharge displays were found on the commercially available panel, but this number was reduced to five on this panel. In addition, reflection of external light on the screen was reduced by the antireflection film.

【0038】[0038]

【発明の効果】上記のように本発明によれば、AC方式
カラープラズマディスプレイパネルの前面基板側の最大
のポイントとなるMgO保護膜が大画面にわたって均一
に形成できるようになったので、パネルの映像表示の際
に極めて安定したガス放電による綺麗で欠陥のない映像
を得ることができるようになった。
As described above, according to the present invention, the MgO protective film, which is the largest point on the front substrate side of the AC type color plasma display panel, can be formed uniformly over a large screen. When displaying an image, it is possible to obtain a clear and defect-free image due to extremely stable gas discharge.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明のAC方式カラープラズマディスプレイ
の部品製造工程の一例を示す工程図で、(a)は背面ガ
ラス基板の工程図、(c)は本発明のガラス薄板の工程
図、(d)は前面ガラス基板の工程図である。
FIG. 1 is a process diagram showing an example of a component manufacturing process of an AC type color plasma display of the present invention, wherein (a) is a process diagram of a rear glass substrate, (c) is a process diagram of a thin glass plate of the present invention, and (d). () Is a process drawing of the front glass substrate.

【図2】従来のAC方式カラープラズマディスプレイの
部品製造工程の一例を示す工程図で、(a)は背面ガラ
ス基板の工程図、(b)は従来法による前面ガラス基板
の工程図である。
FIGS. 2A and 2B are process diagrams showing an example of a component manufacturing process of a conventional AC type color plasma display. FIG. 2A is a process diagram of a rear glass substrate, and FIG. 2B is a process diagram of a front glass substrate according to a conventional method.

【図3】従来のAC方式カラープラズマディスプレイの
パネル組立製造工程の一例を示す工程図である。
FIG. 3 is a process diagram showing an example of a panel assembling and manufacturing process of a conventional AC type color plasma display.

【図4】本発明のAC方式カラープラズマディスプレイ
のパネル組立製造工程の一例(実施例1)を示す工程図
である。
FIG. 4 is a process diagram showing an example (Example 1) of a panel assembly manufacturing process of the AC type color plasma display of the present invention.

【図5】本発明のAC方式カラープラズマディスプレイ
のパネル組立製造工程の別の一例(実施例2)を示す工
程図である。
FIG. 5 is a process chart showing another example (Example 2) of the panel assembly manufacturing process of the AC type color plasma display of the present invention.

【図6】従来の3電極面放電型AC方式カラープラズマ
ディスプレイのパネル構造を説明するための概念図で1
画素分のみ示す。(a)はパネルの断面図であり、
(b)は画面の正面図である。
FIG. 6 is a conceptual diagram for explaining a panel structure of a conventional three-electrode surface discharge type AC color plasma display.
Only pixels are shown. (A) is sectional drawing of a panel,
(B) is a front view of the screen.

【図7】本発明の3電極面放電型AC方式カラープラズ
マディスプレイのパネル構造(実施例1)を説明するた
めの概念図で1画素分のみ示す。(a)はパネルの断面
図であり、(b)は画面の正面図である。
FIG. 7 is a conceptual diagram for explaining a panel structure (Example 1) of a three-electrode surface discharge type AC color plasma display of the present invention, showing only one pixel. (A) is sectional drawing of a panel, (b) is a front view of a screen.

【図8】本発明の別の3電極面放電型AC方式カラープ
ラズマディスプレイのパネル構造(実施例2)を説明す
るための概念図で1画素分のみ示す。(a)はパネルの
断面図であり、(b)は画面の正面図である。
FIG. 8 is a conceptual diagram for explaining a panel structure (Example 2) of another three-electrode surface discharge type AC color plasma display of the present invention, showing only one pixel. (A) is sectional drawing of a panel, (b) is a front view of a screen.

【図9】本発明の部品Aの一部を示す説明図で、(a)
は部品Aの正面図であり、(b)は線分X−X′におけ
る断面図である。
FIG. 9 is an explanatory view showing a part of a part A of the present invention, and (a).
Is a front view of the component A, and (b) is a cross-sectional view taken along line XX '.

【図10】本発明の部品Cの一部を示す説明図で、
(a)は部品Cの正面図であり、(b)は線分X−X′
における断面図である。
FIG. 10 is an explanatory view showing a part of a part C of the present invention;
(A) is a front view of part C, (b) is a line segment XX '
FIG.

【図11】本発明の部品D(実施例1)の一部を示す説
明図で、(a)は部品Dの正面図であり、(b)は線分
X−X′における断面図である。
11A and 11B are explanatory views showing a part of a part D (Example 1) of the present invention, wherein FIG. 11A is a front view of the part D, and FIG. 11B is a cross-sectional view taken along a line XX ′. .

【図12】本発明の別の部品D(実施例2)の一部を示
す説明図で、(a)は別の部品Dの正面図であり、
(b)は線分X−X′における断面図である。
FIG. 12 is an explanatory view showing a part of another component D (Example 2) of the present invention, wherein (a) is a front view of another component D;
(B) is a sectional view taken along line XX '.

【図13】本発明のパネル完成後の説明図で、(a)は
正面図、(b)はパネルの単セルを示し、(c)は単位
画素を示す。
13A and 13B are explanatory views of a panel according to the present invention after completion of the panel, in which FIG. 13A is a front view, FIG. 13B shows a single cell of the panel, and FIG. 13C shows a unit pixel.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10‥‥背面ガラス基板 12‥‥アドレス電極 13‥‥リブ、リブ頂上部 13′‥リブ、黒色リブ頂上部 14‥‥蛍光体 14R‥赤色発光蛍光体 14B‥青色発光蛍光体 14G‥緑色発光蛍光体 20‥‥ガラス薄板 21‥‥保護膜、MgO保護膜 32‥‥低融点ガラス 40‥‥前面ガラス基板 41‥‥表示用透明導電膜、透明導電膜ITO 42‥‥バス電極、Cr/Cu/Cr層 43‥‥ブラックストライプ 44‥‥透明誘電体層、低融点のPbO系ガラス層 50‥‥放電ガス 51‥‥放電セル 70‥‥表示用電極対 71‥‥電磁波シールド用透明導電膜 72‥‥反射防止膜 10 ‥‥ back glass substrate 12 ‥‥ address electrode 13 ‥‥ rib, rib top 13 '‥ rib, black rib top 14 ‥‥ phosphor 14R ‥ red light emitting phosphor 14B ‥ blue light emitting phosphor 14G ‥ green light emitting fluorescent Body 20 glass thin plate 21 protective film, MgO protective film 32 low melting glass 40 front glass substrate 41 transparent conductive film for display, transparent conductive film ITO 42 bus electrode, Cr / Cu / Cr layer 43 Black stripe 44 Transparent dielectric layer, low melting point PbO-based glass layer 50 Discharge gas 51 Discharge cell 70 Display electrode pair 71 Transparent conductive film for electromagnetic wave shielding 72防止 Anti-reflective coating

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】背面ガラス基板上にアドレス電極、リブ、
蛍光体を設け、これと対向させて保護膜を有する誘電体
を介して表示用電極対を配置したAC方式プラズマディ
スプレイパネルにおいて、保護膜を有する誘電体として
保護膜を形成したガラス薄板を用いることを特徴とする
AC方式プラズマディスプレイパネル。
1. An address electrode, a rib,
In an AC plasma display panel in which a phosphor is provided, and a display electrode pair is arranged via a dielectric having a protective film in opposition to the phosphor, a thin glass plate having a protective film formed thereon is used as the dielectric having the protective film. An AC type plasma display panel characterized by the above-mentioned.
【請求項2】前記ガラス薄板として、着色ガラスを用い
ることを特徴とする請求項1記載のAC方式プラズマデ
ィスプレイパネル。
2. The AC type plasma display panel according to claim 1, wherein a colored glass is used as the glass thin plate.
【請求項3】前記ガラス薄板として、複数枚のガラスを
用いることを特徴とする請求項1または2記載のAC方
式プラズマディスプレイパネル。
3. The AC type plasma display panel according to claim 1, wherein a plurality of glasses are used as said glass thin plate.
【請求項4】請求項1、2または3記載のAC方式プラ
ズマディスプレイパネルにおいて、保護膜を形成した誘
電体のガラス薄板を、アドレス電極、リブ、蛍光体を形
成した背面ガラス基板上のリブと、表示用電極対を形成
した前面ガラス基板、との間に挟み込んで、全体を低融
点ガラスにてシールし、放電ガスを満たしてパネル化す
ることを特徴とするAC方式プラズマディスプレイパネ
ルの製造方法。
4. The AC plasma display panel according to claim 1, wherein the dielectric thin glass plate on which the protective film is formed is combined with the ribs on the rear glass substrate on which the address electrodes, the ribs, and the phosphors are formed. And a front glass substrate on which a pair of display electrodes are formed, sealing the whole with low-melting glass, and filling the panel with a discharge gas to form a panel. .
【請求項5】請求項1、2または3記載のAC方式プラ
ズマディスプレイパネルにおいて、保護膜を形成した誘
電体のガラス薄板を、アドレス電極、リブ、蛍光体を形
成した背面ガラス基板上のリブと密着させて低融点ガラ
スにてシールし、放電ガスを満たした後に、前記ガラス
薄板と表示用電極対を形成した前面ガラス基板とを接着
剤により貼り合わせてパネル化することを特徴とするA
C方式プラズマディスプレイの製造方法。
5. The AC plasma display panel according to claim 1, wherein the dielectric thin glass plate on which the protective film is formed is combined with the ribs on the rear glass substrate on which the address electrodes, the ribs, and the phosphors are formed. A panel is formed by adhering and sealing with a low-melting glass, filling with a discharge gas, and bonding the thin glass plate and a front glass substrate on which a display electrode pair is formed with an adhesive.
A method for manufacturing a C-type plasma display.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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US6538381B1 (en) * 1999-03-30 2003-03-25 Nec Corporation Plasma display panel and method for manufacturing the same
JP2012074184A (en) * 2010-09-28 2012-04-12 Panasonic Corp Plasma display panel and its manufacturing method

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