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JPH10149694A - Semiconductor memory and data rewriting circuit - Google Patents

Semiconductor memory and data rewriting circuit

Info

Publication number
JPH10149694A
JPH10149694A JP30809496A JP30809496A JPH10149694A JP H10149694 A JPH10149694 A JP H10149694A JP 30809496 A JP30809496 A JP 30809496A JP 30809496 A JP30809496 A JP 30809496A JP H10149694 A JPH10149694 A JP H10149694A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
address
mode
control signal
input
circuit
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP30809496A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Eiji Kozuka
英二 狐塚
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Corp
Toshiba Electronic Device Solutions Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
Toshiba Microelectronics Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toshiba Corp, Toshiba Microelectronics Corp filed Critical Toshiba Corp
Priority to JP30809496A priority Critical patent/JPH10149694A/en
Publication of JPH10149694A publication Critical patent/JPH10149694A/en
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To relieve faulty cells even when faulty cells are detected in a packaged state by providing a faulty address writing mode capable of writing faulty addresses to EEPROM elements for storing faulty addresses of a memory redundancy circuit from the outside. SOLUTION: This semiconductor memory is provided with plural EEPROM elements 10 for storing faulty addresses, plural address input pads 11 to which an address signal is inputted from the outside and a faulty address writing circuit 12 controlling the writing of the faulty signal to be inputted from the outside via an address input pad 25 when an faulty address writing mode with respect to the EEPROM elements 10 is specified from the outside.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体メモリおよ
びデータ書換回路に係り、特に不良アドレス記憶素子と
してEEPROM素子を用いたメモリ冗長回路およびE
EPROM素子を用いたデータ書換回路に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor memory and a data rewriting circuit, and more particularly, to a memory redundancy circuit using an EEPROM element as a defective address storage element and an E-memory.
The present invention relates to a data rewriting circuit using an EPROM element.

【0002】[0002]

【従来の技術】半導体メモリのメモリ冗長回路は、メモ
リセルアレイの不良セルが存在する不良行あるいは不良
列に対応するアドレス(不良アドレス)が指定されたこ
とを検出した時に、前記不良行あるいは不良列を予備行
あるいは予備列に置換するように構成されている。上記
不良アドレスの記憶素子として、ポリシリコンヒュー
ズ、マスクパターン選択により接続変更可能なアルミニ
ウム配線が用いられている。
2. Description of the Related Art A memory redundant circuit of a semiconductor memory detects a defective row or a defective column when it detects that an address (defective address) corresponding to a defective row or a column in which a defective cell of a memory cell array exists is specified. Is replaced with a spare row or spare column. A polysilicon fuse and an aluminum wiring whose connection can be changed by selecting a mask pattern are used as the storage element of the defective address.

【0003】図4は、不良アドレスの記憶素子としてポ
リシリコンヒューズが用いられた従来の半導体メモリの
製造に際してのロット上がりから最終試験までの流れの
一例を示すフローチャートである。
FIG. 4 is a flowchart showing an example of a flow from a lot rise to a final test in manufacturing a conventional semiconductor memory using a polysilicon fuse as a storage element of a defective address.

【0004】ロット上がり後、まず、ファースト・ダイ
ソート試験を行う。不良のうちで良品になる可能性があ
るチップの置換すべきアドレスデータを得る。そして、
上記アドレスデータに基づいてヒューズを溶断し、セカ
ンド・ダイソート試験を行い、良品、不良品の確認を行
う。ここで、冗長回路を使用したチップが全て良品なら
ば問題はないが、不良品が多いと原因を解析する必要が
でてくる。解析の結果、良品になる可能性があるチップ
の置換すべきアドレスデータを得る。そして、上記アド
レスデータに基づいてヒューズを溶断し、サード・ダイ
ソート試験を行う。以下、上記したような解析、ヒュー
ズ溶断、ダイソート試験を若干数繰り返す。原因が分か
らない場合にはダイソート試験が停止する場合もある。
[0004] After the lot is lifted, a first die sort test is first performed. The address data to be replaced is obtained for a chip which may become a good product among the defective ones. And
The fuse is blown based on the address data, a second die sort test is performed, and a good product and a defective product are confirmed. Here, there is no problem if all the chips using the redundant circuit are good products, but if there are many defective products, it is necessary to analyze the cause. As a result of the analysis, address data to be replaced for a chip that may become a non-defective product is obtained. Then, the fuse is blown based on the address data, and a third die sort test is performed. Hereinafter, the above-described analysis, fuse blowing, and die sort test are slightly repeated. If the cause is unknown, the die sort test may be stopped.

【0005】一方、不良アドレスの記憶素子として、ポ
リシリコンヒューズやアルミニウム配線に代えて不揮発
性のメモリ素子であるEEPROM(電気的消去可能な
プログラマブル・リード・オンリー・メモリ)素子を用
いる技術がある。
On the other hand, there is a technique in which an EEPROM (electrically erasable programmable read only memory) element, which is a non-volatile memory element, is used as a defective address storage element instead of a polysilicon fuse or aluminum wiring.

【0006】しかし、不良アドレスの記憶素子としてE
EPROM素子が用いられた従来のメモリ冗長回路は、
半導体メモリのアセンブリ後のパッケージ(例えば樹脂
封止)状態で不良セルが検出された場合には不良救済が
できないので、歩留りの向上が困難であった。
However, E is used as a storage element for a defective address.
A conventional memory redundancy circuit using an EPROM element is:
If a defective cell is detected in a package (for example, resin-sealed) state after the assembly of the semiconductor memory, the defect cannot be remedied, so that it has been difficult to improve the yield.

【0007】そこで、半導体メモリのパッケージ状態で
の信頼性試験の歩留りを上げるため、ウエハー状態での
ダイソート試験を厳しくする方向にあるが、これはテス
ト時間の増加につながる。
Therefore, in order to increase the yield of the reliability test in the package state of the semiconductor memory, the die sort test in the wafer state is strictly required, but this leads to an increase in test time.

【0008】最近では、メモリ冗長回路を採用すること
による歩留りの向上と、メモリ冗長回路を採用すること
によるチップサイズの増加、テストコストの上昇とが、
コスト的に同等に接近しており、1GビットクラスのD
RAMではメモリ冗長回路のメリットが薄らいでいる。
Recently, improvement in yield by adopting a memory redundant circuit, increase in chip size and increase in test cost due to adoption of a memory redundant circuit have been considered.
Cost-equivalent, 1Gbit class D
In a RAM, the advantage of the memory redundancy circuit is diminished.

【0009】[0009]

【発明が解決しようとする課題】上記したように従来の
半導体メモリのメモリ冗長回路は、パッケージ状態で不
良セルが検出された場合には救済することができないと
いう問題があった。本発明は上記の問題点を解決すべく
なされたもので、メモリ冗長回路の不良アドレス記憶用
のEEPROM素子に不良アドレスを外部から書込みし
得る不良アドレス書込みモードを備え、パッケージ状態
で不良セルが検出された場合にも救済が可能となり、工
程の短縮、チップサイズの縮小、歩留りの向上などによ
るコストダウンが可能になる半導体メモリを提供するこ
とを目的とする。また、本発明は、EEPROM素子の
記憶データを外部からの制御により簡単に書き換え可能
なデータ書換回路を提供することを目的とする。
As described above, the conventional memory redundancy circuit of a semiconductor memory has a problem that it cannot be remedied when a defective cell is detected in a package state. SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above problems, and has a defective address write mode in which a defective address can be externally written to an EEPROM element for storing a defective address of a memory redundant circuit, and a defective cell is detected in a package state. It is an object of the present invention to provide a semiconductor memory which can be relieved even in the case where it is performed, and which can reduce costs by shortening the process, reducing the chip size, improving the yield, and the like. It is another object of the present invention to provide a data rewriting circuit that can easily rewrite data stored in an EEPROM element by external control.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】本発明の半導体メモリ
は、不良アドレス記憶用の複数のEEPROM素子と、
外部からアドレス信号が入力する複数のアドレス入力パ
ッドと、前記EEPROM素子に対する不良アドレス書
込みモードが外部から指定された時に外部から前記アド
レス入力パッドを介して入力する不良アドレス信号を前
記EEPROM素子に書込み制御する不良アドレス書込
み回路とを具備することを特徴とする。
SUMMARY OF THE INVENTION A semiconductor memory according to the present invention comprises a plurality of EEPROM elements for storing a defective address;
A plurality of address input pads to which an address signal is input from the outside, and write control of a defective address signal input from the outside via the address input pad to the EEPROM element when a defective address write mode for the EEPROM element is designated from the outside. And a defective address writing circuit.

【0011】本発明のデータ書換回路は、データ記憶用
のスタックゲート型トランジスタと、前記スタックゲー
ト型MOSトランジスタの制御ゲートに接続され、所定
の書込み制御信号に応じて導通/非導通状態が制御され
る書込みスイッチ用のMOSトランジスタと、前記スタ
ックゲート型トランジスタのドレイン・ソースに対応し
てドレイン・ソースが接続され、外部から供給されるモ
ード制御信号に応じて導通/非導通状態が制御される電
位伝達用のMOSトランジスタと、前記スタックゲート
型トランジスタのソースと第2の電源電位との間にドレ
イン・ソーン間が接続され、ゲートに所定の読み出し制
御信号が印加される読み出し用のMOSトランジスタ
と、前記スタックゲート型トランジスタのドレインノー
ドをプリチャージ期間に第1の電源電位にプリチャージ
するプリチャージ回路と、書込み用の高電圧を含む複数
の電源電圧が切換供給される電源切換ノードと前記スタ
ックゲート型トランジスタのドレインノードとの間に接
続され、前記モード制御信号に応じて動作の可否が制御
される書込み電圧供給回路とを具備することを特徴とす
る。
A data rewriting circuit according to the present invention is connected to a stack gate type transistor for storing data and a control gate of the stack gate type MOS transistor, and a conduction / non-conduction state is controlled according to a predetermined write control signal. A write switch MOS transistor, and a drain / source connected to the drain / source of the stack gate type transistor, the conduction / non-conduction state of which is controlled according to a mode control signal supplied from outside. A transfer MOS transistor, a read MOS transistor having a drain and a source connected between the source of the stack gate type transistor and a second power supply potential, and a predetermined read control signal applied to the gate; The drain node of the stacked gate transistor is charged in a precharge period. A precharge circuit for precharging to a first power supply potential, a power supply switching node to which a plurality of power supply voltages including a high voltage for writing are switched and supplied, and a drain node of the stack gate type transistor; A write voltage supply circuit whose operation is controlled according to the mode control signal.

【0012】[0012]

【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の実
施の形態を詳細に説明する。図1は、本発明の半導体メ
モリの第1の実施の形態に係るメモリチップ上に形成さ
れたメモリ冗長回路の一部を示している。
Embodiments of the present invention will be described below in detail with reference to the drawings. FIG. 1 shows a part of a memory redundant circuit formed on a memory chip according to a first embodiment of the semiconductor memory of the present invention.

【0013】図1において、10は不良アドレス記憶用
の複数のEEPROM素子、11は外部からアドレス信
号が入力する複数のアドレス入力パッド、12は前記E
EPROM素子に対する不良アドレス書込みモードが外
部から指定された時に外部から前記アドレス入力パッド
11を介して入力する不良アドレス信号を前記EEPR
OM素子10に書込み制御する不良アドレス書込み回路
である。
In FIG. 1, reference numeral 10 denotes a plurality of EEPROM elements for storing a defective address, 11 denotes a plurality of address input pads to which an address signal is inputted from the outside, and 12 denotes the EEPROM.
When a defective address writing mode for an EPROM element is designated externally, a defective address signal input from the outside via the address input pad 11 is transmitted to the EEPROM.
This is a defective address writing circuit that controls writing to the OM element 10.

【0014】前記不良アドレス書込みモードを外部から
指定する手段としては、(1)モード制御入力専用の外
部端子25を設けておき、この外部端子25から通常読
み出しモード/不良アドレス書込みモードに応じて論理
レベルが異なるモード制御信号を入力する方式、(2)
既存の1個あるいは複数個の外部端子(例えばデータ出
力端子)をモード制御入力端子と兼用し、上記外部端子
から通常使用時とは異なる制御電圧あるいは制御信号が
入力した(不良アドレス書込みモード)か否かを判別
し、判別結果に応じて論理レベルが異なるモード制御信
号を生成するモード判別回路(図示せず)を設ける方式
がある。
As means for externally designating the defective address write mode, (1) an external terminal 25 dedicated to mode control input is provided, and a logic is provided from this external terminal 25 in accordance with the normal read mode / defective address write mode. A method of inputting mode control signals having different levels, (2)
One or more existing external terminals (eg, data output terminals) are also used as mode control input terminals, and a control voltage or control signal different from that in normal use is input from the external terminals (defective address write mode). There is a method in which a mode discriminating circuit (not shown) is provided for discriminating whether or not the mode is determined, and generating a mode control signal having a different logic level according to the discrimination result.

【0015】上記したような図1のメモリ冗長回路を有
するEEPROMによれば、不良アドレス記憶用のEE
PROM素子10に不良アドレスを外部から書込みし得
る不良アドレス書込みモードを備えるので、チップサイ
ズの縮小を図ることができ、ウエハー状態におけるダイ
ソート試験時に冗長回路を使用してEEPROMチップ
の良否判別が可能になる。
According to the EEPROM having the memory redundancy circuit of FIG. 1 as described above, the EEPROM for storing the defective address is used.
Since the PROM element 10 is provided with a defective address writing mode in which a defective address can be written from the outside, the chip size can be reduced, and the quality of the EEPROM chip can be determined by using a redundant circuit during a die sort test in a wafer state. Become.

【0016】また、ダイソート試験時だけでなく、アセ
ンブリ後のパッケージ状態での試験時にも、不良セルが
検出された場合とか不良アドレス記憶素子の記憶データ
の間違いが判明した場合に、不良アドレス記憶素子の記
憶データを消去して不良アドレスデータを外部から再書
込みすることが可能であるので、正しいデータに書き直
すことが可能になり、工程の短縮、歩留りの向上などに
よるコストダウンが可能になる。
In addition, not only at the time of the die sort test but also at the time of the test in the package state after the assembly, when a defective cell is detected or when an error in data stored in the defective address storage element is found, Since the stored data can be erased and the defective address data can be rewritten from the outside, it is possible to rewrite the data with correct data, and the cost can be reduced by shortening the process and improving the yield.

【0017】図2は、本発明の半導体メモリの第2の実
施の形態に係るEEPROMのチップ上に形成されたメ
モリ冗長回路の不良アドレス記憶回路および不良アドレ
ス書込み回路の一例を示している。
FIG. 2 shows an example of a defective address storage circuit and a defective address writing circuit of a memory redundant circuit formed on an EEPROM chip according to a second embodiment of the semiconductor memory of the present invention.

【0018】図2において、101〜108は不良アド
レス記憶用の複数(本例では8個)のEEPROM素子
であり、それぞれ浮遊ゲートおよび制御ゲートの二層ゲ
ート構造を有するスタックドゲート型のMOSトランジ
スタからなる。
In FIG. 2, reference numerals 101 to 108 denote a plurality (eight in this example) of EEPROM elements for storing defective addresses, each of which is a stacked gate type MOS transistor having a double-layered structure of a floating gate and a control gate. Consists of

【0019】このスタックドゲート型のMOSトランジ
スタのデータ書込み動作/データ消去動作を行う方式に
は種々のものがあるが、以下では、浮遊ゲートに対する
トンネル電流による電荷の注入/蓄積電荷の放出を行う
方式を例として説明する。
There are various methods for performing a data write operation / data erase operation of the stacked gate type MOS transistor. In the following, charge injection / accumulation charge discharge to a floating gate by a tunnel current is performed. The method will be described as an example.

【0020】111〜118はアドレス入力パッドであ
り、対応してパッケージの外部端子に接続されており、
外部からアドレス信号Add1〜Add8が入力する。13は前
記複数のスタックゲート型トランジスタ101〜108
の各ドレイン共通接続ノードAをプリチャージ期間に電
源電位Vccにプリチャージするプリチャージ回路であ
る。このプリチャージ回路13は、通常の電源電圧Vcc
が与えられるVcc電源ノードと前記スタックドゲート型
のMOSトランジスタ101〜108の各ドレインの共
通接続ノードAとの間にソース・ドレイン間が接続さ
れ、ゲートにプリチャージ信号PRCHが与えられるプ
リチャージ用のPMOSトランジスタ131からなる。
Address input pads 111 to 118 are connected to external terminals of the package correspondingly.
Address signals Add1 to Add8 are input from outside. 13 denotes a plurality of the stacked gate type transistors 101 to 108
Is a precharge circuit that precharges each drain common connection node A to the power supply potential Vcc during the precharge period. The precharge circuit 13 has a normal power supply voltage Vcc.
Between the source and the drain between the Vcc power supply node supplied with the common gate and the common connection node A of the drains of the stacked gate type MOS transistors 101 to 108, and the precharge signal PRCH is supplied to the gate. Of PMOS transistors 131.

【0021】211〜218は書込みスイッチ用のNM
OSトランジスタであり、対応して前記アドレス入力パ
ッド111〜118と前記スタックドゲート型のMOS
トランジスタ101〜108の各制御ゲートとの間に接
続されている。
Reference numerals 211 to 218 denote NMs for a write switch.
OS transistors, corresponding to the address input pads 111 to 118 and the stacked gate type MOS.
It is connected between the control gates of the transistors 101 to 108.

【0022】221〜228は電位伝達用のNMOSト
ランジスタであり、対応して前記スタックドゲート型の
MOSトランジスタ101〜108とドレイン同士・ソ
ース同士が接続されている。
Reference numerals 221 to 228 denote NMOS transistors for transmitting potential. The stacked gate type MOS transistors 101 to 108 are connected to the drains and the sources.

【0023】231〜238はアドレス入力用のNMO
Sトランジスタであり、対応して前記スタックドゲート
型のMOSトランジスタ101〜108のソースと第2
の電源電位(本例では接地電位Vss)ノードとの間に接
続されている。
Reference numerals 231 to 238 denote NMOs for inputting addresses.
S transistor, corresponding to the source of the stacked gate type MOS transistor 101-108 and the second
Power supply potential (ground potential Vss in this example).

【0024】241〜248はアドレス入力バッファで
あり、対応して前記アドレス入力パッド111〜118
からアドレス信号Add1〜Add8が入力し、その各出力は対
応して前記アドレス入力用のNMOSトランジスタ23
1〜238の各ゲートに接続されている。
Address input buffers 241 to 248 correspond to the address input pads 111 to 118, respectively.
Address signals Add1 to Add8 are input from the NMOS transistor 23 corresponding to the address input.
1 to 238.

【0025】25はモード制御入力パッドであり、通常
読み出しモード/不良アドレス書込みモードに応じて論
理レベルが異なるモード制御信号MODEが与えられ
る。なお、モード制御信号MODEの与え方は例えば次
に述べるような様々な方式が可能である。
Reference numeral 25 denotes a mode control input pad to which a mode control signal MODE having a different logic level according to the normal read mode / defective address write mode is applied. The mode control signal MODE can be applied in various ways, for example, as described below.

【0026】(1)パッケージにモード制御入力専用の
外部端子を設けて前記モード制御入力パッド25に接続
しておき、通常読み出しモード/不良アドレス書込みモ
ードに応じて論理レベルが異なるモード制御信号を外部
から前記外部端子を介してモード制御入力パッド25に
与える。
(1) An external terminal dedicated to mode control input is provided in the package and connected to the mode control input pad 25, and a mode control signal having a different logic level depending on the normal read mode / defective address write mode is supplied to the external. To the mode control input pad 25 via the external terminal.

【0027】(2)パッケージの既存の1個あるいは複
数個の外部端子(例えばデータ出力端子)をモード制御
入力端子と兼用し、上記外部端子から通常使用時とは異
なる制御電圧あるいは制御信号が入力した(不良アドレ
ス書込みモード時)か否かを判別し、判別結果に応じて
論理レベルが異なるモード制御信号を生成するモード判
別回路(図示せず)を設け、このモード制御信号を例え
ば前記モード制御入力パッド25に供給する。
(2) One or more existing external terminals (eg, data output terminals) of the package are also used as a mode control input terminal, and a control voltage or control signal different from that in normal use is input from the external terminal. (In a defective address writing mode), and a mode discriminating circuit (not shown) for generating a mode control signal having a different logic level according to the discrimination result is provided. It is supplied to the input pad 25.

【0028】前記モード制御入力パッド25は、前記書
込みスイッチ用のNMOSトランジスタ211〜218
の各ゲート、電位伝達用のNMOSトランジスタ221
〜228の各ゲートおよび前記アドレス入力バッファ2
41〜248の各制御入力ノードに接続されている。
The mode control input pad 25 is connected to the NMOS transistors 211 to 218 for the write switch.
Of each gate, NMOS transistor 221 for transmitting potential
To 228 and the address input buffer 2
41 to 248 are connected to the respective control input nodes.

【0029】26は前記スタックドゲート型のMOSト
ランジスタ111〜118に対するデータ書込み用の高
電圧Vppを含む複数の電源電圧が切換供給される電源切
換ノードと前記複数のスタックゲート型トランジスタの
各ドレイン共通接続ノードAとの間に接続され、前記モ
ード制御信号に応じて動作の可否が制御される書込み電
圧供給回路である。
Reference numeral 26 denotes a power supply switching node to which a plurality of power supply voltages including a high voltage Vpp for writing data to the stacked gate type MOS transistors 111 to 118 are switched and supplied, and a common drain for each of the plurality of stacked gate type transistors. The write voltage supply circuit is connected between the connection node A and controls whether or not operation is possible in accordance with the mode control signal.

【0030】この書込み電圧供給回路26は、前記電源
切換ノードと前記共通接続ノードAとの間にソース・ド
レイン間が接続されたPMOSトランジスタ261と、
前記モード制御入力パッド25と前記PMOSトランジ
スタ261のゲートとの間に挿入された第1のインバー
タ回路262とからなる。
The write voltage supply circuit 26 includes a PMOS transistor 261 having a source and a drain connected between the power supply switching node and the common connection node A;
It comprises a first inverter circuit 262 inserted between the mode control input pad 25 and the gate of the PMOS transistor 261.

【0031】27はラッチ回路であり、前記Vcc電源ノ
ードと前記共通接続ノードAとの間にソース・ドレイン
間が接続されたプルアップ用のPMOSトランジスタ2
71と、前記ノードAと前記PMOSトランジスタ27
1のゲートとの間に挿入された第2のインバータ回路2
72とを有する。
Reference numeral 27 denotes a latch circuit, which is a PMOS transistor 2 for pull-up whose source and drain are connected between the Vcc power supply node and the common connection node A.
71, the node A and the PMOS transistor 27
2nd inverter circuit 2 inserted between the first and second gates
72.

【0032】28および29は前記ラッチ回路27の出
力側に二段接続された第3のインバータ回路および第4
のインバータ回路である。なお、前記書込みスイッチ用
のNMOSトランジスタ211〜218、電位伝達用の
NMOSトランジスタ221〜228および書込み電圧
供給回路26は、前記スタックドゲート型のMOSトラ
ンジスタ101〜108に対する不良アドレス書込みモ
ードが外部から指定された時に外部からアドレス入力パ
ッド111〜118を介して入力する不良アドレス信号
を前記スタックドゲート型のMOSトランジスタ101
〜108に書き込む機能を有する不良アドレス書込み回
路の一部を構成している。
Reference numerals 28 and 29 denote a third inverter circuit connected in two stages to the output side of the latch circuit 27 and a fourth inverter circuit.
Of the inverter circuit. The write switch NMOS transistors 211 to 218, the potential transfer NMOS transistors 221 to 228, and the write voltage supply circuit 26 are configured such that the defective address write mode for the stacked gate type MOS transistors 101 to 108 is externally designated. The defective address signal input from the outside via the address input pads 111 to 118 when the
.. Constitutes a part of a defective address writing circuit having a function of writing to.

【0033】次に、図2の回路の動作を説明する。不良
アドレス書込みモードにおいては、モード制御入力パッ
ド25に“H”レベルが印加される。このモード制御入
力“H”により、アドレス入力バッファ241〜248
はディセーブル状態になってそれぞれ“L”レベルを出
力し、アドレス入力用のNMOSトランジスタ231〜
238はオフになる。
Next, the operation of the circuit of FIG. 2 will be described. In the defective address write mode, an “H” level is applied to the mode control input pad 25. By the mode control input "H", the address input buffers 241 to 248
Are disabled and output “L” level respectively, and the NMOS transistors 231 to 231 for address input are output.
238 turns off.

【0034】この時、前記モード制御入力“H”によ
り、書込み電圧供給回路26の第1のインバータ回路2
62の出力は“L”、PMOSトランジスタ261はオ
ンになり、ノードAの電位は電源切換ノードの電位にな
る。
At this time, the first inverter circuit 2 of the write voltage supply circuit 26 is controlled by the mode control input "H".
The output of 62 is "L", the PMOS transistor 261 is turned on, and the potential of the node A becomes the potential of the power supply switching node.

【0035】また、この時、前記モード制御入力“H”
により、電位伝達用のNMOSトランジスタ221〜2
28は導通可能な状態になり、対応するスタックドゲー
ト型のMOSトランジスタ101〜108のソースにノ
ードAの電位を伝達する。
At this time, the mode control input "H"
As a result, the NMOS transistors 221 and 2 for transmitting the potential
Reference numeral 28 indicates a conductive state, and transmits the potential of the node A to the sources of the corresponding stacked gate type MOS transistors 101 to 108.

【0036】また、この時、前記モード制御入力“H”
により、書込みスイッチ用のNMOSトランジスタ21
1〜218は導通可能な状態になり、対応するアドレス
入力パッド111〜118の電位を対応するスタックド
ゲート型のMOSトランジスタ101〜108の各制御
ゲートに伝達する。
At this time, the mode control input "H"
As a result, the NMOS transistor 21 for the write switch
1 to 218 become conductive and transmit the potentials of the corresponding address input pads 111 to 118 to the respective control gates of the corresponding stacked gate type MOS transistors 101 to 108.

【0037】ここで、所望のEEPROM素子に“1”
データを書込みたい場合について説明する。この場合に
は、電源切換ノードには書込み用の高電圧Vppが印加さ
れ、ノードAの電位は“H”レベルになる。
Here, "1" is assigned to a desired EEPROM element.
A case where data is to be written will be described. In this case, high voltage Vpp for writing is applied to the power supply switching node, and the potential of node A attains the "H" level.

【0038】例えばスタックドゲート型のMOSトラン
ジスタ101に“1”データを書込みたい場合には、上
記MOSトランジスタ101に対応するアドレス入力パ
ッド111には“L”レベル、その他のスタックドゲー
ト型のMOSトランジスタ102〜108に対応するア
ドレス入力パッドには“H”レベルを印加する。
For example, when it is desired to write "1" data into the stacked gate type MOS transistor 101, an "L" level is applied to the address input pad 111 corresponding to the MOS transistor 101, and other stacked gate type MOS transistors 101 “H” level is applied to the address input pads corresponding to the transistors 102 to 108.

【0039】これにより、“1”データを書込みたいス
タックドゲート型のMOSトランジスタ101の制御ゲ
ートは“L”レベルになり、また、上記MOSトランジ
スタ101の基板に“H”レベルを印加することによ
り、そのソース・基板間に所定の電位差が発生し、トン
ネル効果により浮遊ゲートに電子が注入され、“1”書
込み状態になる。
As a result, the control gate of the stacked gate type MOS transistor 101 to which "1" data is to be written becomes "L" level, and the "H" level is applied to the substrate of the MOS transistor 101. Then, a predetermined potential difference is generated between the source and the substrate, electrons are injected into the floating gate by a tunnel effect, and a "1" write state is set.

【0040】この時、その他のスタックドゲート型のM
OSトランジスタ102〜108の制御ゲートは“H”
レベルであり、そのソースは“H”レベルであるので、
その浮遊ゲートには“1”が書き込まれない。
At this time, other stacked gate type M
The control gates of the OS transistors 102 to 108 are “H”
Level and its source is “H” level,
"1" is not written to the floating gate.

【0041】これに対して、所望のEEPROM素子に
“0”データを書込みたい場合について説明する。この
場合、電源切換ノードには例えば電源電位Vccが印加さ
れ、ノードAの電位は“L”レベルになる。
On the other hand, a case where "0" data is to be written in a desired EEPROM element will be described. In this case, for example, the power supply potential Vcc is applied to the power supply switching node, and the potential of the node A becomes "L" level.

【0042】例えばスタックドゲート型のMOSトラン
ジスタ102に“0”データを書込みたい場合には、上
記MOSトランジスタ102に対応するアドレス入力パ
ッド112には“L”レベル、その他のスタックドゲー
ト型のMOSトランジスタ101、103〜108に対
応するアドレス入力パッドには“H”レベルを印加す
る。
For example, when writing "0" data to the stacked gate type MOS transistor 102, the address input pad 112 corresponding to the MOS transistor 102 is set to "L" level, and other stacked gate type MOS transistors are used. “H” level is applied to the address input pads corresponding to the transistors 101 and 103 to 108.

【0043】これにより、“0”データを書込みたいス
タックドゲート型のMOSトランジスタ102の制御ゲ
ートは“H”レベルになり、また、上記MOSトランジ
スタ102の基板に“L”レベルを印加することによ
り、そのソース・基板間に前記“1”書込み時とは逆向
きの電位差が発生し、浮遊ゲートの電子が放出され、
“0”書込み状態(消去状態)になる。
As a result, the control gate of the stacked gate type MOS transistor 102 to which "0" data is to be written becomes "H" level, and the "L" level is applied to the MOS transistor 102 substrate. Then, a potential difference occurs between the source and the substrate in the direction opposite to that at the time of writing "1", and electrons of the floating gate are emitted.
The state becomes "0" write state (erase state).

【0044】この時、その他のスタックドゲート型のM
OSトランジスタ101、103〜108の制御ゲート
は“L”レベルであり、そのソースは“L”レベルであ
るので、その浮遊ゲートには“0”が書き込まれない。
At this time, other stacked gate type M
Since the control gates of the OS transistors 101 and 103 to 108 are at "L" level and their sources are at "L" level, "0" is not written to the floating gate.

【0045】即ち、前記スタックドゲート型のMOSト
ランジスタ101〜108に対するアドレス書込みモー
ドにおいては、上記したような動作原理を用いて所望の
データを記憶させることが可能である。
That is, in the address write mode for the stacked gate type MOS transistors 101 to 108, desired data can be stored by using the above-described operation principle.

【0046】そして、メモリ冗長回路を使用しない場合
には、スタックドゲート型のMOSトランジスタ101
〜108をそれぞれ“1”書込み状態に設定しておく。
この“1”書込み状態のスタックドゲート型のMOSト
ランジスタは、制御ゲートが0Vの状態でもドレイン電
流が流れるので、オン状態である。
When the memory redundancy circuit is not used, the stacked gate type MOS transistor 101
To 108 are set to the "1" write state.
The stacked gate type MOS transistor in the "1" write state is in the ON state because the drain current flows even when the control gate is at 0V.

【0047】これに対して、メモリ冗長回路を使用する
場合には、スタックドゲート型のMOSトランジスタ1
01〜108に不良アドレスの各ビットデータ“1”あ
るいは“0”に対応して“0”書込み状態あるいは
“1”書込み状態に設定しておく。上記“0”書込み状
態(消去状態)のスタックドゲート型のMOSトランジ
スタは、制御ゲートが0Vの時にはドレイン電流が流れ
ないので、オフ状態である。
On the other hand, when the memory redundancy circuit is used, the stacked gate type MOS transistor 1
01 to 108 are set to "0" write state or "1" write state corresponding to each bit data "1" or "0" of the defective address. The stacked gate type MOS transistor in the "0" write state (erase state) is in the off state because no drain current flows when the control gate is at 0V.

【0048】一方、前記スタックドゲート型のMOSト
ランジスタ101〜108に対する通常読み出しモード
においては、プリチャージ期間にプリチャージ制御信号
PRCHが“L”レベルになり、PMOSトランジスタ
271がオンになり、ノードAがVccレベルにプリチャ
ージされる。
On the other hand, in the normal read mode for the stacked gate type MOS transistors 101 to 108, the precharge control signal PRCH goes low during the precharge period, the PMOS transistor 271 turns on, and the node A Are precharged to the Vcc level.

【0049】また、モード制御入力パッド25に“L”
レベルが印加され、このモード制御入力“L”により、
書込み電圧供給回路26の第1のインバータ回路262
の出力は“H”、PMOSトランジスタ261はオフに
なり、また、書込みスイッチ用のNMOSトランジスタ
211〜218および電位伝達用のNMOSトランジス
タ221〜228はそれぞれ非導通状態になり、スタッ
クドゲート型のMOSトランジスタ101〜108の各
制御ゲートは電気的に浮遊状態になる。
The mode control input pad 25 has "L"
Level is applied, and the mode control input “L”
First inverter circuit 262 of write voltage supply circuit 26
Is "H", the PMOS transistor 261 is turned off, and the NMOS transistors 211 to 218 for writing switches and the NMOS transistors 221 to 228 for transmitting potential are turned off, and the stacked gate type MOS transistor is turned off. Each control gate of the transistors 101 to 108 is electrically floating.

【0050】また、前記モード制御入力“L”により、
アドレス入力バッファ241〜248はイネーブル状態
になり、アドレス入力パッド111〜118から入力す
るアドレス信号Add1 〜Add8 がアドレス入力バッファ
241〜248を介してアドレス入力用のNMOSトラ
ンジスタ231〜238のゲートに入力する。
Also, the mode control input "L"
The address input buffers 241 to 248 are enabled, and address signals Add1 to Add8 input from the address input pads 111 to 118 are input to the gates of the address input NMOS transistors 231 to 238 via the address input buffers 241 to 248. .

【0051】そして、“1”データが入力するアドレス
入力パッドに対応するアドレス入力用のNMOSトラン
ジスタはオンになり、対応するスタックドゲート型のM
OSトランジスタのソースは接地電位(“L”レベル)
になる。また、“0”データが入力するアドレス入力パ
ッドに対応するアドレス入力用のNMOSトランジスタ
はオフになる。
Then, the NMOS transistor for address input corresponding to the address input pad to which "1" data is input is turned on, and the corresponding stacked gate type M transistor is turned on.
The source of the OS transistor is at ground potential (“L” level)
become. Also, the address input NMOS transistor corresponding to the address input pad to which "0" data is input is turned off.

【0052】いま、メモリ冗長回路を使用しない場合
(スタックドゲート型のMOSトランジスタ101〜1
08をそれぞれ“1”書込み状態に設定しておく場合)
には、上記スタックドゲート型のMOSトランジスタ1
01〜108は各制御ゲートの電位によらずにそれぞれ
オン状態であるので、アドレス入力用のNMOSトラン
ジスタ231〜238のうちのどれか1つでもオンにな
ると、ノードAの電位は放電され、ラッチ回路27の出
力は“H”、第3のインバータ回路28の出力は
“L”、第4のインバータ回路29の出力は“H”にな
る。これによ、通常のアドレスデコーダ(図示せず)が
活性化されて通常のメモリセルが選択され、予備のアド
レスデコーダ(図示せず)は非活性状態になる。
When the memory redundancy circuit is not used (stacked gate type MOS transistors 101 to 1)
08 is set to "1" write state)
The stacked gate type MOS transistor 1
01 to 108 are on independently of the potentials of the control gates. Therefore, when any one of the address input NMOS transistors 231 to 238 is turned on, the potential of the node A is discharged and the The output of the circuit 27 is “H”, the output of the third inverter circuit 28 is “L”, and the output of the fourth inverter circuit 29 is “H”. Thereby, a normal address decoder (not shown) is activated to select a normal memory cell, and the spare address decoder (not shown) is deactivated.

【0053】これに対して、メモリ冗長回路を使用する
場合(スタックドゲート型のMOSトランジスタ101
〜108に不良アドレスの各ビットデータ“1”あるい
は“0”に対応して“0”書込み状態あるいは“1”書
込み状態に設定しておく場合)には、上記スタックドゲ
ート型のMOSトランジスタ101〜108に予め記憶
されているビットデータと上記スタックドゲート型のM
OSトランジスタ101〜108に直列接続されている
アドレス入力用のNMOSトランジスタ231〜238
の各ゲートに入力するアドレス信号のビットデータとが
一致した時には、ノードAの電位は放電されない。
On the other hand, when a memory redundancy circuit is used (a stacked gate type MOS transistor 101).
In the case where the "0" write state or the "1" write state is set corresponding to each bit data "1" or "0" of the defective address in .about.108, the stacked gate type MOS transistor 101 is used. -108 and bit data previously stored in the stacked gate type M
NMOS transistors 231 to 238 for address input connected in series to OS transistors 101 to 108
When the bit data of the address signal input to each of the gates matches, the potential of the node A is not discharged.

【0054】即ち、スタックドゲート型のMOSトラン
ジスタが“0”書込み状態(オフ状態)であって、上記
スタックドゲート型のMOSトランジスタに直列接続さ
れているアドレス入力用のNMOSトランジスタのゲー
トに“1”が印加された時(ビット一致時)に上記アド
レス入力用のNMOSトランジスタがオンになってもノ
ードAの電位は放電されない。
That is, the stacked gate type MOS transistor is in the "0" write state (off state), and "" is added to the gate of the address input NMOS transistor connected in series to the stacked gate type MOS transistor. Even if the address input NMOS transistor is turned on when "1" is applied (bit coincidence), the potential of the node A is not discharged.

【0055】これに対して、スタックドゲート型のMO
Sトランジスタが“0”書込み状態(オフ状態)であっ
て、これに直列接続されているアドレス入力用のNMO
Sトランジスタのゲートに“0”が印加された時(ビッ
ト不一致時)には、上記アドレス入力用のNMOSトラ
ンジスタはオフになるので、ノードAの電位は放電され
ない。
On the other hand, a stacked gate type MO
The S transistor is in a "0" write state (off state), and an NMO for address input connected in series to this is
When "0" is applied to the gate of the S transistor (bit mismatch), the NMOS transistor for address input is turned off, so that the potential of the node A is not discharged.

【0056】また、スタックドゲート型のMOSトラン
ジスタが“1”書込み状態(オン状態)であって、上記
スタックドゲート型のMOSトランジスタに直列接続さ
れているアドレス入力用のNMOSトランジスタのゲー
トに“0”が印加された時(ビット一致時)には、上記
アドレス入力用のNMOSトランジスタはオフになるの
で、ノードAの電位は放電されない。
When the stacked gate type MOS transistor is in the "1" write state (ON state), the gate of the address input NMOS transistor connected in series to the stacked gate type MOS transistor is connected to "1". When "0" is applied (at the time of bit matching), the NMOS transistor for address input is turned off, so that the potential of the node A is not discharged.

【0057】これに対して、スタックドゲート型のMO
Sトランジスタが“1”書込み状態(オン状態)であっ
て、これに直列接続されているアドレス入力用のNMO
Sトランジスタのゲートに“1”が印加された時(ビッ
ト不一致時)には上記アドレス入力用のNMOSトラン
ジスタがオンになってノードAの電位は放電される。
On the other hand, a stacked gate type MO
The S transistor is in a "1" write state (ON state), and an NMO for address input connected in series to this is
When "1" is applied to the gate of the S transistor (bit mismatch), the NMOS transistor for address input is turned on, and the potential of the node A is discharged.

【0058】上記したようにノードAの電位が放電され
ない時(ビット一致時)、前記第3のインバータ回路2
8の出力信号RSPおよび第4のインバータ回路29の
出力信号BRSPが対応して“H”/“L”状態(活性
状態)になる。
As described above, when the potential of the node A is not discharged (bit coincidence), the third inverter circuit 2
The output signal RSP of No. 8 and the output signal BRSP of the fourth inverter circuit 29 correspond to “H” / “L” state (active state).

【0059】この状態の相補信号RSP、BRSPは、
通常の行アドレスデコーダあるいは列アドレスデコーダ
(図示せず)を非活性状態にし、予備の行アドレスデコ
ーダあるいは列アドレスデコーダ(図示せず)を活性化
して通常のメモリセルを選択させる、つまり、不良セル
の選択に代えて予備行あるいは予備列を選択(置換)す
るための制御信号として用いられる。
The complementary signals RSP and BRSP in this state are:
A normal row address decoder or a column address decoder (not shown) is deactivated, and a spare row address decoder or a column address decoder (not shown) is activated to select a normal memory cell. Is used as a control signal for selecting (replacing) a spare row or spare column in place of the selection.

【0060】図3は、図1あるいは図2に示したメモリ
冗長回路を備えたEEPROMの製造に際してのロット
上がりから最終試験までの流れの一例を示すフローチャ
ートである。
FIG. 3 is a flow chart showing an example of the flow from a lot up to the final test when manufacturing the EEPROM provided with the memory redundancy circuit shown in FIG. 1 or FIG.

【0061】ロット上がりのウエハー状態において、ま
ず、ダイソート試験(例えば850℃、印加電源電圧5
Vでのバーンイン試験を含む)を行う。この時、不良の
メモリセルを検出すると、それに対応する不良アドレス
を不良アドレス記憶回路に書込み、予備のメモリセルに
置換した後、アセンブリ工程に進む。
In the wafer state after the lot, first, a die sort test (for example, 850 ° C., an applied power supply voltage of 5
V including a burn-in test). At this time, when a defective memory cell is detected, the corresponding defective address is written to the defective address storage circuit, and the defective memory cell is replaced with a spare memory cell.

【0062】次に、アセンブリ後のパッケージ状態で信
頼性試験を行う。この結果、不良のメモリセルを検出す
ると、それに対応する不良アドレスを不良アドレス記憶
回路に再書込みして予備のメモリセルに置換し、良品に
することが可能になる。
Next, a reliability test is performed on the package after assembly. As a result, when a defective memory cell is detected, a defective address corresponding to the defective memory cell is rewritten into the defective address storage circuit and replaced with a spare memory cell, thereby enabling a non-defective product.

【0063】なお、上記フローチャートには示していな
いが、隣接しない1ビットづづの2ビットの不良セルを
不良行救済用の1つの冗長回路、不良列救済用の1つの
冗長回路で救済したサンプルについて、パッケージ状態
での信頼性試験で救済された不良行の不良が加速されて
不良列が発生し、これを検出した場合、従来は不良品に
なってしまうが、本発明によれば、この不良列に対応す
る不良アドレスを再書込みして救済し、良品にすること
が可能になる。
Although not shown in the above flow chart, a sample in which a 2-bit defective cell that is not adjacent to each other is repaired by one redundant circuit for repairing a defective row and one redundant circuit for repairing a defective column is described. According to the present invention, according to the present invention, if a defective row is relieved in a reliability test in a package state and a defective column is accelerated and a defective column is generated and the defective column is detected, a defective product is conventionally obtained. The defective address corresponding to the column can be rewritten and remedied, and a good product can be obtained.

【0064】即ち、本発明のメモリ冗長回路を有するE
EPROMによれば、ウエハー状態におけるダイソート
試験時に冗長回路を使用してEEPROMチップの良否
判別が可能になる。
That is, E having the memory redundancy circuit of the present invention
According to the EPROM, the quality of the EEPROM chip can be determined by using a redundant circuit during a die sort test in a wafer state.

【0065】また、ダイソート試験時だけでなく、アセ
ンブリ後のパッケージ状態での試験時にも、不良アドレ
ス記憶回路の記憶データを消去して不良アドレスデータ
を外部から再書込みすることが可能であるので、不良ア
ドレス記憶回路の記憶データの間違いが判明した場合に
正しいデータに書き直すことが可能になる。
In addition to the die sort test, the data stored in the defective address storage circuit can be erased and the defective address data can be rewritten from outside not only at the time of testing in a package state after assembly but also at the time of external testing. If an error is found in the data stored in the defective address storage circuit, the data can be rewritten to correct data.

【0066】また、任意のメモリ領域に対応する予備回
路として複数の予備回路を配置しておくことにより、仮
に置換した1つの予備回路が不良であることが判明した
場合に、それを非活性状態にし、別の正常な予備回路に
置換することが可能になり、不良品の救済率が著しく向
上する。
By arranging a plurality of spare circuits as spare circuits corresponding to an arbitrary memory area, if one of the temporarily replaced spare circuits is found to be defective, the spare circuit is placed in an inactive state. Then, it is possible to replace the spare circuit with another normal spare circuit, and the remedy rate of defective products is remarkably improved.

【0067】ところで、図2の不良アドレス記憶・書換
回路中には、基本的な構成として、EEPROM素子の
記憶データを外部からの制御により簡単に書き換え可能
なデータ書換回路を含んでいる。
Incidentally, the defective address storage / rewrite circuit of FIG. 2 includes, as a basic configuration, a data rewrite circuit capable of easily rewriting the storage data of the EEPROM element by external control.

【0068】即ち、このデータ書換回路は、データ記憶
用のスタックゲート型トランジスタ(例えば101)
と、前記スタックゲート型MOSトランジスタの制御ゲ
ートに接続され、所定の書込み制御信号に応じて導通/
非導通状態が制御される書込みスイッチ用のMOSトラ
ンジスタ(例えば211)と、前記スタックゲート型ト
ランジスタのドレイン・ソースに対応してドレイン・ソ
ースが接続され、外部から供給されるモード制御信号M
ODEに応じて導通/非導通状態が制御される電位伝達
用のMOSトランジスタ(例えば221)と、前記スタ
ックゲート型トランジスタのソースと第2の電源電位と
の間にドレイン・ソーン間が接続され、ゲートに所定の
読み出し制御信号が印加される読み出し用のMOSトラ
ンジスタ(例えば231)と、前記スタックゲート型ト
ランジスタのドレインノードをプリチャージ期間に第1
の電源電位にプリチャージするプリチャージ回路13
と、書込み用の高電圧を含む複数の電源電圧が切換供給
される電源切換ノードと前記スタックゲート型トランジ
スタのドレインノードとの間に接続され、前記モード制
御信号に応じて動作の可否が制御される書込み電圧供給
回路26とを具備する。
That is, this data rewriting circuit is a stack gate type transistor (eg, 101) for storing data.
Connected to the control gate of the stack gate type MOS transistor, and turned on / off in response to a predetermined write control signal.
A write switch MOS transistor (for example, 211) whose non-conduction state is controlled, and a drain / source connected to the drain / source of the stack gate type transistor, and a mode control signal M supplied from the outside.
A potential transmitting MOS transistor (for example, 221) whose conduction / non-conduction state is controlled in accordance with the ODE, and a drain and a source connected between a source of the stack gate type transistor and a second power supply potential; A read MOS transistor (for example, 231) to which a predetermined read control signal is applied to the gate, and a drain node of the stack gate type transistor are firstly charged during a precharge period.
Circuit 13 for precharging to the power supply potential of
Is connected between a power supply switching node to which a plurality of power supply voltages including a high voltage for writing are switched and supplied and a drain node of the stack gate type transistor, and the availability of operation is controlled according to the mode control signal. And a write voltage supply circuit 26.

【0069】[0069]

【発明の効果】上述したように本発明の半導体メモリに
よれば、メモリ冗長回路の不良アドレス記憶用のEEP
ROM素子に不良アドレスを外部から書込みし得る不良
アドレス書込みモードを備え、パッケージ状態で不良セ
ルが検出された場合にも救済が可能となり、工程の短
縮、チップサイズの縮小、歩留りの向上などによるコス
トダウンを図ることができる。
As described above, according to the semiconductor memory of the present invention, the EEP memory for storing the defective address of the memory redundant circuit is provided.
A defective address write mode that can write a defective address to a ROM element from the outside is provided, so that even if a defective cell is detected in a package state, it can be relieved, and the cost can be reduced by shortening the process, reducing the chip size, and improving the yield. Down can be planned.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の第1の実施の形態に係る半導体メモリ
の冗長回路の一部を示すブロック図。
FIG. 1 is a block diagram showing a part of a redundant circuit of a semiconductor memory according to a first embodiment of the present invention.

【図2】本発明の第2の実施の形態に係るEEPROM
のチップ上に形成された冗長回路の不良アドレス記憶回
路および不良アドレス再書込み回路の一例を示す回路
図。
FIG. 2 shows an EEPROM according to a second embodiment of the present invention.
FIG. 2 is a circuit diagram showing an example of a defective address storage circuit and a defective address rewriting circuit of a redundant circuit formed on the chip of FIG.

【図3】図1あるいは図2に示した冗長回路を備えた半
導体メモリの製造に際してのロット上がりから最終試験
までの流れの一例のフローチャートを示す図。
FIG. 3 is a flowchart showing an example of a flow from a lot rise to a final test when manufacturing the semiconductor memory provided with the redundant circuit shown in FIG. 1 or FIG. 2;

【図4】従来の半導体メモリの製造に際してのロット上
がりから最終試験までの流れの一例のフローチャートを
示す図。
FIG. 4 is a flowchart showing an example of a flow from a lot rise to a final test in manufacturing a conventional semiconductor memory.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10…EEPROM素子、 11…アドレス入力パッド、 12…不良アドレス書込み回路、 25…モード制御入力パッド。 10: EEPROM element, 11: address input pad, 12: defective address writing circuit, 25: mode control input pad.

Claims (7)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 不良アドレス記憶用の複数のEEPRO
M素子と、 外部からアドレス信号が入力する複数のアドレス入力パ
ッドと、 前記EEPROM素子に対する不良アドレス書込みモー
ドが外部から指定された時に外部から前記アドレス入力
パッドを介して入力する不良アドレス信号を前記EEP
ROM素子に書込み制御する不良アドレス書込み回路と
を具備することを特徴とする半導体メモリ。
A plurality of EEPROMs for storing a defective address.
An M element, a plurality of address input pads to which an address signal is externally input, and a defective address signal externally input via the address input pad when a defective address writing mode for the EEPROM element is designated from the outside.
A semiconductor memory, comprising: a defective address writing circuit that controls writing to a ROM element.
【請求項2】 請求項1記載の半導体メモリにおいて、 前記不良アドレス書込みモードを外部から指定する手段
は、通常読み出しモード/不良アドレス書込みモードに
応じて論理レベルが異なるモード制御信号を入力するた
めのモード制御入力専用の外部端子を有することを特徴
とする半導体メモリ。
2. The semiconductor memory according to claim 1, wherein said means for externally specifying said defective address write mode is for inputting a mode control signal having a different logic level according to a normal read mode / defective address write mode. A semiconductor memory having an external terminal dedicated to mode control input.
【請求項3】 請求項1記載の半導体メモリにおいて、 前記不良アドレス書込みモードを外部から指定する手段
は、既存の1個あるいは複数個の外部端子から通常使用
時とは異なる制御電圧あるいは制御信号が入力したか否
かを判別し、判別結果に応じて論理レベルが異なるモー
ド制御信号を生成するモード判別回路を有することを特
徴とする半導体メモリ。
3. The semiconductor memory according to claim 1, wherein said means for designating said defective address write mode from outside is provided with a control voltage or control signal different from that in normal use from one or more existing external terminals. A semiconductor memory, comprising: a mode discriminating circuit for discriminating whether or not an input has been made, and generating a mode control signal having a different logic level according to the discrimination result.
【請求項4】 外部からアドレス信号が入力する複数の
アドレス入力パッドと、 不良アドレス記憶用の複数のスタックゲート型トランジ
スタと、 前記複数のアドレス入力パッドからのアドレス信号が対
応して入力し、前記スタックゲート型トランジスタに対
する通常の読み出し動作モード/不良アドレス書込み動
作モードに応じて論理レベルが異なるモード制御信号に
応じて動作の可否が制御される複数のアドレスバッファ
回路と、 前記複数のアドレス入力パッドと前記複数のスタックゲ
ート型MOSトランジスタの各制御ゲートとの間に対応
して挿入接続され、前記モード制御信号に応じて導通/
非導通状態が制御される複数の書込みスイッチ用のMO
Sトランジスタと、 前記複数のスタックゲート型トランジスタの各ドレイン
共通接続ノードをプリチャージ期間に第1の電源電位に
プリチャージするプリチャージ回路と、 書込み用の高電圧を含む複数の電源電圧が切換供給され
る電源切換ノードと前記複数のスタックゲート型トラン
ジスタの各ドレイン共通接続ノードとの間に接続され、
前記モード制御信号に応じて動作の可否が制御される書
込み電圧供給回路と、 前記複数のスタックゲート型トランジスタの各ドレイン
・各ソースに対応して各ドレイン・各ソースが接続さ
れ、前記モード制御信号に応じて導通/非導通状態が制
御される複数の電位伝達用のMOSトランジスタと、 前記複数のスタックゲート型トランジスタの各ソースと
第2の電源電位との間にドレイン・ソーン間が接続さ
れ、各ゲートに対応して前記複数のアドレスバッファ回
路からの各出力信号が印加される複数のアドレス入力用
のMOSトランジスタとを具備することを特徴とする半
導体メモリ。
4. A plurality of address input pads to which an address signal is input from outside, a plurality of stack gate type transistors for storing a defective address, and address signals from the plurality of address input pads correspondingly input; A plurality of address buffer circuits whose operation is controlled depending on a mode control signal having a different logic level depending on a normal read operation mode / defective address write operation mode for the stack gate type transistor; Each of the plurality of stacked gate type MOS transistors is inserted and connected correspondingly to each control gate, and is turned on / off in response to the mode control signal.
MO for multiple write switches whose non-conducting state is controlled
An S transistor; a precharge circuit for precharging each drain common connection node of the plurality of stacked gate transistors to a first power supply potential during a precharge period; and a plurality of power supply voltages including a high voltage for writing are switched and supplied. Connected between the power supply switching node to be connected and each drain common connection node of the plurality of stacked gate transistors,
A write voltage supply circuit whose operation is controlled in accordance with the mode control signal; and a drain / source corresponding to each drain / source of the plurality of stacked gate transistors, wherein the mode control signal A plurality of potential transmitting MOS transistors whose conduction / non-conduction state is controlled in accordance with the following; and a drain-thorn connection between each source of the plurality of stacked gate transistors and a second power supply potential; And a plurality of address input MOS transistors to which respective output signals from the plurality of address buffer circuits are applied corresponding to the respective gates.
【請求項5】 請求項4記載の半導体メモリにおいて、
さらに、 前記モード制御信号が外部端子から入力するモード制御
入力パッドを有することを特徴とする半導体メモリ。
5. The semiconductor memory according to claim 4, wherein
The semiconductor memory further includes a mode control input pad for receiving the mode control signal from an external terminal.
【請求項6】 請求項4記載の半導体メモリにおいて、
さらに、 既存の1個あるいは複数個の外部端子から通常使用時と
は異なる制御電圧あるいは制御信号が入力したか否かを
判別し、前記モード制御信号を生成するモード判別回路
を有することを特徴とする半導体メモリ。
6. The semiconductor memory according to claim 4, wherein
Further, a mode discriminating circuit for discriminating whether or not a control voltage or a control signal different from that in normal use has been input from one or more existing external terminals and generating the mode control signal is provided. Semiconductor memory.
【請求項7】 データ記憶用のスタックゲート型トラン
ジスタと、 前記スタックゲート型MOSトランジスタの制御ゲート
に接続され、所定の書込み制御信号に応じて導通/非導
通状態が制御される書込みスイッチ用のMOSトランジ
スタと、 前記スタックゲート型トランジスタのドレイン・ソース
に対応してドレイン・ソースが接続され、外部から供給
されるモード制御信号に応じて導通/非導通状態が制御
される電位伝達用のMOSトランジスタと、 前記スタックゲート型トランジスタのソースと第2の電
源電位との間にドレイン・ソーン間が接続され、ゲート
に所定の読み出し制御信号が印加される読み出し用のM
OSトランジスタと、 前記スタックゲート型トランジスタのドレインノードを
プリチャージ期間に第1の電源電位にプリチャージする
プリチャージ回路と、 書込み用の高電圧を含む複数の電源電圧が切換供給され
る電源切換ノードと前記スタックゲート型トランジスタ
のドレインノードとの間に接続され、前記モード制御信
号に応じて動作の可否が制御される書込み電圧供給回路
とを具備することを特徴とするデータ書換回路。
7. A stack gate type transistor for data storage, and a write switch MOS connected to a control gate of the stack gate type MOS transistor, the ON / OFF state of which is controlled according to a predetermined write control signal. A potential transmission MOS transistor having a drain and a source connected corresponding to a drain and a source of the stack gate type transistor, and having a conduction / non-conduction state controlled according to a mode control signal supplied from outside; A drain M is connected between the source and the second power supply potential of the stacked gate transistor, and a predetermined read control signal is applied to the gate of the read gate M.
An OS transistor; a precharge circuit for precharging a drain node of the stack gate transistor to a first power supply potential during a precharge period; and a power supply switching node for switching and supplying a plurality of power supply voltages including a high voltage for writing. And a write voltage supply circuit connected between the stack gate type transistor and a drain node of the stack gate type transistor, the operation of which is controlled in accordance with the mode control signal.
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2002025289A (en) * 2000-07-13 2002-01-25 Hitachi Ltd Semiconductor device
US6611458B2 (en) 2000-02-10 2003-08-26 Hitachi, Ltd. Semiconductor integrated circuit device
KR100641081B1 (en) * 1998-10-29 2007-12-04 주식회사 하이닉스반도체 Flash memory repair circuit

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100641081B1 (en) * 1998-10-29 2007-12-04 주식회사 하이닉스반도체 Flash memory repair circuit
US6611458B2 (en) 2000-02-10 2003-08-26 Hitachi, Ltd. Semiconductor integrated circuit device
US6894944B2 (en) 2000-02-10 2005-05-17 Renesas Technology Corp. Semiconductor integrated circuit device
US7149113B2 (en) 2000-02-10 2006-12-12 Renesas Technology Corp. Semiconductor integrated circuit device
KR100817343B1 (en) * 2000-02-10 2008-03-27 가부시키가이샤 히타치세이사쿠쇼 Semiconductor integrated circuit device
CN100590739C (en) 2000-02-10 2010-02-17 株式会社日立制作所 Semiconductor integrated circuit device
JP2002025289A (en) * 2000-07-13 2002-01-25 Hitachi Ltd Semiconductor device

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