JPH10147626A - ポリウレタン樹脂の製造方法 - Google Patents
ポリウレタン樹脂の製造方法Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 活性エネルギー線及び/又は熱硬化性が良好
であり、付着性などの物性に優れた塗膜を形成しうる塗
料用樹脂として好適に使用することができる不飽和基含
有ポリウレタン樹脂の新規な製造方法を提供すること。 【解決手段】 (A)下記一般式(I) 【化5】 で表わされるジヒドロキシ官能基含有(メタ)アクリル
モノマーと(B)ポリイソシアネート化合物とを反応さ
せることを特徴とする不飽和基含有ポリウレタン樹脂の
製造方法。
であり、付着性などの物性に優れた塗膜を形成しうる塗
料用樹脂として好適に使用することができる不飽和基含
有ポリウレタン樹脂の新規な製造方法を提供すること。 【解決手段】 (A)下記一般式(I) 【化5】 で表わされるジヒドロキシ官能基含有(メタ)アクリル
モノマーと(B)ポリイソシアネート化合物とを反応さ
せることを特徴とする不飽和基含有ポリウレタン樹脂の
製造方法。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、不飽和基含有ポリ
ウレタン樹脂の新規な製造方法に関し、更に詳細には、
活性エネルギー線及び/又は熱硬化性が良好であり、付
着性などの物性に優れた塗膜を形成しうる塗料用樹脂と
して好適に使用することができる不飽和基含有ポリウレ
タン樹脂の新規な製造方法に関する。
ウレタン樹脂の新規な製造方法に関し、更に詳細には、
活性エネルギー線及び/又は熱硬化性が良好であり、付
着性などの物性に優れた塗膜を形成しうる塗料用樹脂と
して好適に使用することができる不飽和基含有ポリウレ
タン樹脂の新規な製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術とその課題】従来から、不飽和基含有アク
リル樹脂やポリエステル樹脂は光硬化性樹脂や熱硬化性
樹脂として広く使用されているが、昨今、物性の良さな
どから不飽和基含有ポリウレタン樹脂が研究されてい
る。不飽和基含有ポリウレタン樹脂の製造方法として
は、例えば、ジイソシアネート化合物とジヒドロキシ化
合物とヒドロキシエチル(メタ)アクリレートなどの水
酸基含有不飽和モノマーとを反応させて分子中に不飽和
基を導入する方法が一般に行なわれている。
リル樹脂やポリエステル樹脂は光硬化性樹脂や熱硬化性
樹脂として広く使用されているが、昨今、物性の良さな
どから不飽和基含有ポリウレタン樹脂が研究されてい
る。不飽和基含有ポリウレタン樹脂の製造方法として
は、例えば、ジイソシアネート化合物とジヒドロキシ化
合物とヒドロキシエチル(メタ)アクリレートなどの水
酸基含有不飽和モノマーとを反応させて分子中に不飽和
基を導入する方法が一般に行なわれている。
【0003】しかしながら、上記の方法では不飽和基を
分子の末端にしか導入することができないため、直鎖状
のポリウレタン樹脂では不飽和基を1分子中に2個しか
導入することができず、そのために該樹脂の硬化性が劣
るという問題点があった。
分子の末端にしか導入することができないため、直鎖状
のポリウレタン樹脂では不飽和基を1分子中に2個しか
導入することができず、そのために該樹脂の硬化性が劣
るという問題点があった。
【0004】上記の硬化性を改良するために、トリイソ
シアネート化合物やトリヒドロキシ化合物を用いてポリ
マー主鎖を分岐させる方法が開発されているが、ポリウ
レタン樹脂を分岐させた場合、塗膜物性が低下するとい
う問題点があった。
シアネート化合物やトリヒドロキシ化合物を用いてポリ
マー主鎖を分岐させる方法が開発されているが、ポリウ
レタン樹脂を分岐させた場合、塗膜物性が低下するとい
う問題点があった。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記欠点の
ない不飽和基含有ポリウレタン樹脂、即ち塗膜物性を低
下させることなく硬化性を向上させる不飽和基含有ポリ
ウレタン樹脂を開発することを目的としてなされたもの
である。
ない不飽和基含有ポリウレタン樹脂、即ち塗膜物性を低
下させることなく硬化性を向上させる不飽和基含有ポリ
ウレタン樹脂を開発することを目的としてなされたもの
である。
【0006】本発明者等は、前記従来技術の欠点を解消
すべく鋭意研究を重ねた。その結果、1分子中に2個の
1級水酸基を含有する(メタ)アクリルモノマーとポリ
イソシアネート化合物とを反応させることによって、上
記従来技術の諸欠点が解消され、目的が達成されること
を見出した。本発明は、かかる新たな知見に基づき完成
されたものである。
すべく鋭意研究を重ねた。その結果、1分子中に2個の
1級水酸基を含有する(メタ)アクリルモノマーとポリ
イソシアネート化合物とを反応させることによって、上
記従来技術の諸欠点が解消され、目的が達成されること
を見出した。本発明は、かかる新たな知見に基づき完成
されたものである。
【0007】しかして、本発明によると、(A)下記一
般式(I)
般式(I)
【0008】
【化2】
【0009】(式中、R1は、水素原子、炭素数1〜6
のアルキル基、フッ素原子、炭素数1〜6のフルオロア
ルキル基、アリル基、アリール基、アラルキル基、フリ
ル基又はチェニル基を示し、R2は炭素数1〜6の有機
基を示し、R3は水素原子又はメチル基を示す)で表わ
されるジヒドロキシ官能基含有(メタ)アクリルモノマ
ーと(B)ポリイソシアネート化合物とを反応させるこ
とを特徴とする不飽和基含有ポリウレタン樹脂の製造方
法が提供される。
のアルキル基、フッ素原子、炭素数1〜6のフルオロア
ルキル基、アリル基、アリール基、アラルキル基、フリ
ル基又はチェニル基を示し、R2は炭素数1〜6の有機
基を示し、R3は水素原子又はメチル基を示す)で表わ
されるジヒドロキシ官能基含有(メタ)アクリルモノマ
ーと(B)ポリイソシアネート化合物とを反応させるこ
とを特徴とする不飽和基含有ポリウレタン樹脂の製造方
法が提供される。
【0010】
【発明の実施の形態】以下に、本発明の不飽和基含有ポ
リウレタン樹脂の製造方法について詳細に説明する。
リウレタン樹脂の製造方法について詳細に説明する。
【0011】ジヒドロキシ官能基含有(メタ)アクリル
モノマー(A):本発明の方法において用いるジヒドロ
キシ官能基含有(メタ)アクリルモノマー(A)は下記
一般式(I)で表わされる化合物である。
モノマー(A):本発明の方法において用いるジヒドロ
キシ官能基含有(メタ)アクリルモノマー(A)は下記
一般式(I)で表わされる化合物である。
【0012】
【化3】
【0013】一般式(I)において、R1である「炭素
数1〜6のアルキル基」は直鎖状又は分岐状のものであ
ってもよく、例えば、メチル基、エチル基、n−プロピ
ル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、
sec−ブチル基、tert−ブチル基、n−ヘキシル
基等が挙げられる。「炭素数1〜6のフルオロアルキル
基」は上記アルキル基の水素原子少なくとも1個がフッ
素原子で置換された基であり、例えば、フルオロプロピ
ル基、フルオロブチル基、トリフルオロプロピル基等が
挙げられる。「アリール基」としては、例えば、フェニ
ル基、トルイル基、キシリル基等が挙げられる。「アラ
ルキル基」としては、例えば、ベンジル基、フェネチル
基等が挙げられる。R1の中でも特にメチル基、エチル
基等の炭素数1〜4の低級アルキル基が好ましい。
数1〜6のアルキル基」は直鎖状又は分岐状のものであ
ってもよく、例えば、メチル基、エチル基、n−プロピ
ル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、
sec−ブチル基、tert−ブチル基、n−ヘキシル
基等が挙げられる。「炭素数1〜6のフルオロアルキル
基」は上記アルキル基の水素原子少なくとも1個がフッ
素原子で置換された基であり、例えば、フルオロプロピ
ル基、フルオロブチル基、トリフルオロプロピル基等が
挙げられる。「アリール基」としては、例えば、フェニ
ル基、トルイル基、キシリル基等が挙げられる。「アラ
ルキル基」としては、例えば、ベンジル基、フェネチル
基等が挙げられる。R1の中でも特にメチル基、エチル
基等の炭素数1〜4の低級アルキル基が好ましい。
【0014】また、一般式(I)において、R2である
「炭素数1〜6の有機基」は直鎖状又は分岐状のもので
あってもよい。
「炭素数1〜6の有機基」は直鎖状又は分岐状のもので
あってもよい。
【0015】該ジヒドロキシ官能基含有(メタ)アクリ
ルモノマー(A)は、カルボキシル基含有不飽和モノマ
ーと下記一般式(II)
ルモノマー(A)は、カルボキシル基含有不飽和モノマ
ーと下記一般式(II)
【0016】
【化4】
【0017】(式中、R1は、水素原子、炭素数1〜6
のアルキル基、フッ素原子、炭素数1〜6のフルオロア
ルキル基、アリル基、アリール基、アラルキル基、フリ
ル基又はチェニル基を示し、R2は炭素数1〜6の有機
基を示す)で表わされるヒドロキシオキセタン化合物を
付加反応せしめた化合物であり、1分子中に1級水酸基
を2個有する。ヒドロキシオキセタン化合物の代わりに
ヒドロキシオキシラン基含有化合物を用いると、生成化
合物中には2級水酸基が必ず1個生成することになり、
ポリウレタン化する際にイソシアネート基との反応性の
違いから、低分子量物などが生成するという問題点を有
する。
のアルキル基、フッ素原子、炭素数1〜6のフルオロア
ルキル基、アリル基、アリール基、アラルキル基、フリ
ル基又はチェニル基を示し、R2は炭素数1〜6の有機
基を示す)で表わされるヒドロキシオキセタン化合物を
付加反応せしめた化合物であり、1分子中に1級水酸基
を2個有する。ヒドロキシオキセタン化合物の代わりに
ヒドロキシオキシラン基含有化合物を用いると、生成化
合物中には2級水酸基が必ず1個生成することになり、
ポリウレタン化する際にイソシアネート基との反応性の
違いから、低分子量物などが生成するという問題点を有
する。
【0018】上記カルボキシル基含有不飽和モノマーと
しては、例えば、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン
酸、マレイン酸、フマル酸、2−カルボキシエチル(メ
タ)アクリレート、5−カルボキシペンチル(メタ)ア
クリレート等が挙げられる。上記一般式(II)で表わ
されるヒドロキシオキセタン化合物としては、例えば、
3−ヒドロキシメチルオキセタン、3−メチル−3−ヒ
ドロキシメチルオキセタン、3−メチル−3−ヒドロキ
シエチルオキセタン、3−メチル−3−ヒドロキシプロ
ピルオキセタン、3−メチル−3−ヒドロキシブチルオ
キセタン、3−メチル−3−ヒドロキシオクチルオキセ
タン、3−エチル−3−ヒドロキシエチルオキセタン、
3−エチル−3−ヒドロキシプロピルオキセタン、3−
エチル−3−ヒドロキシブチルオキセタン、3−エチル
−3−ヒドロキシオクチルオキセタン等が挙げられる。
しては、例えば、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン
酸、マレイン酸、フマル酸、2−カルボキシエチル(メ
タ)アクリレート、5−カルボキシペンチル(メタ)ア
クリレート等が挙げられる。上記一般式(II)で表わ
されるヒドロキシオキセタン化合物としては、例えば、
3−ヒドロキシメチルオキセタン、3−メチル−3−ヒ
ドロキシメチルオキセタン、3−メチル−3−ヒドロキ
シエチルオキセタン、3−メチル−3−ヒドロキシプロ
ピルオキセタン、3−メチル−3−ヒドロキシブチルオ
キセタン、3−メチル−3−ヒドロキシオクチルオキセ
タン、3−エチル−3−ヒドロキシエチルオキセタン、
3−エチル−3−ヒドロキシプロピルオキセタン、3−
エチル−3−ヒドロキシブチルオキセタン、3−エチル
−3−ヒドロキシオクチルオキセタン等が挙げられる。
【0019】ジヒドロキシ官能基含有(メタ)アクリル
モノマー(A)は上記カルボキシル基含有不飽和モノマ
ーと上記ヒドロキシオキセタン化合物とを、バルク状態
又は有機溶媒中で、必要ならば約500〜1,000p
pmの範囲内のラジカル重合禁止剤の存在下で、約80
〜120℃の範囲内の温度で約30分〜5時間加熱して
反応させることにより得ることができる。また、反応時
間を短縮するために触媒を加えて反応させてもよい。使
用できる触媒としては公知の反応触媒を用いることがで
き、具体的には、トリエチルアミン、トリプロピルアミ
ン、トリブチルアミン等の第3級アミン類;ギ酸、酢
酸、乳酸、プロピオン酸等の有機酸のアミン塩類;水酸
化ナトリウム等のアルカリ金属水酸化物類;水酸化カル
シウム等のアルカリ土類金属水酸化物類;ギ酸、酢酸、
乳酸、プロピオン酸等の有機酸のアルカリ土類金属塩
類;テトラメチルアンモニウムクロライド、テトラエチ
ルアンモニウムクロライド、テトラプロピルアンモニウ
ムクロライド、テトラブチルアンモニウムクロライド、
ジメチルジエチルアンモニウムクロライド、テトラメチ
ルアンモニウムブロマイド、テトラエチルアンモニウム
ブロマイド、テトラプロピルアンモニウムブロマイド、
テトラブチルアンモニウムブロマイド、ジメチルジエチ
ルアンモニウムブロマイド等の第4級アンモニウム塩
類;ベンジルトリフェニルホスホニウムクロライド、テ
トラフェニルホスホニウムブロマイド、エチルトリフェ
ニルホスホニウムブロマイド、エチルトリフェニルホス
ホニウムアイオダイド、テトラブチルホスホニウムクロ
ライド、テトラブチルホスホニウムブロマイド等の第4
級ホスホニウム塩類;ベンゼンスルホン酸、ドデシルベ
ンゼンスルホン酸等のスルホン酸類とプロパノール、ブ
タノール等のアルコール類とのエステル化物;該スルホ
ン酸類とエポキシ基含有化合物とのエステル化物;りん
酸モノ又はジエステル類;りん酸とエポキシ基含有化合
物とのエステル化物等が挙げられる。
モノマー(A)は上記カルボキシル基含有不飽和モノマ
ーと上記ヒドロキシオキセタン化合物とを、バルク状態
又は有機溶媒中で、必要ならば約500〜1,000p
pmの範囲内のラジカル重合禁止剤の存在下で、約80
〜120℃の範囲内の温度で約30分〜5時間加熱して
反応させることにより得ることができる。また、反応時
間を短縮するために触媒を加えて反応させてもよい。使
用できる触媒としては公知の反応触媒を用いることがで
き、具体的には、トリエチルアミン、トリプロピルアミ
ン、トリブチルアミン等の第3級アミン類;ギ酸、酢
酸、乳酸、プロピオン酸等の有機酸のアミン塩類;水酸
化ナトリウム等のアルカリ金属水酸化物類;水酸化カル
シウム等のアルカリ土類金属水酸化物類;ギ酸、酢酸、
乳酸、プロピオン酸等の有機酸のアルカリ土類金属塩
類;テトラメチルアンモニウムクロライド、テトラエチ
ルアンモニウムクロライド、テトラプロピルアンモニウ
ムクロライド、テトラブチルアンモニウムクロライド、
ジメチルジエチルアンモニウムクロライド、テトラメチ
ルアンモニウムブロマイド、テトラエチルアンモニウム
ブロマイド、テトラプロピルアンモニウムブロマイド、
テトラブチルアンモニウムブロマイド、ジメチルジエチ
ルアンモニウムブロマイド等の第4級アンモニウム塩
類;ベンジルトリフェニルホスホニウムクロライド、テ
トラフェニルホスホニウムブロマイド、エチルトリフェ
ニルホスホニウムブロマイド、エチルトリフェニルホス
ホニウムアイオダイド、テトラブチルホスホニウムクロ
ライド、テトラブチルホスホニウムブロマイド等の第4
級ホスホニウム塩類;ベンゼンスルホン酸、ドデシルベ
ンゼンスルホン酸等のスルホン酸類とプロパノール、ブ
タノール等のアルコール類とのエステル化物;該スルホ
ン酸類とエポキシ基含有化合物とのエステル化物;りん
酸モノ又はジエステル類;りん酸とエポキシ基含有化合
物とのエステル化物等が挙げられる。
【0020】上記に述べたジヒドロキシ官能基含有(メ
タ)アクリルモノマー(A)は蒸留等により簡単に単離
する事ができる。
タ)アクリルモノマー(A)は蒸留等により簡単に単離
する事ができる。
【0021】本発明においては、上記に述べたジヒドロ
キシ官能基含有(メタ)アクリルモノマー(A)は単独
もしくは2種以上を組み合わせて用いることができる。
キシ官能基含有(メタ)アクリルモノマー(A)は単独
もしくは2種以上を組み合わせて用いることができる。
【0022】ポリイソシアネート化合物(B):本発明
の方法に用いるポリイソシアネート化合物(B)は、1
分子中にイソシアネート基を2個以上有する化合物であ
り、ポリウレタン樹脂の製造に一般に用いられるものが
同様に使用できる。そのようなポリイソシアネート化合
物としては、例えば、ヘキサメチレンジイソシアネー
ト、トリメチレンジイソシアネート、1,4−テトラメ
チレンジイソシアネート、ペンタメチレンジイソシアネ
ート、1,2−プロピレンジイソシアネート、1,2−
ブチレンジイソシアネート、トリメチルヘキサメチレン
ジイソシアネート、ダイマー酸ジイソシアネート、リジ
ンジイソシアネート等の脂肪族系ジイソシアネート化合
物;イソホロンジイソシアネート、4,4´−メチレン
ビス(シクロヘキシルイソシアネート)、メチルシクロ
ヘキサン−2,4−(又は−2,6−)ジイソシアネー
ト、1,3−(又は−1,4−)ジ(イソシアネートメ
チル)シクロヘキサン等の脂環式系ジイソシアネート化
合物;キシリレンジイソシアネート、メタキシリレンジ
イソシアネート、テトラメチルキシリレンジイソシアネ
ート、トリレンジイソシアネート、4,4´−ジフェニ
ルメタンジイソシアネート、1,5−ナフタレンジイソ
シアネート、1,4−ナフタレンジイソシアネート、
4,4´−トルイジンジイソシアネート、4,4´−ジ
フェニルエーテルジイソシアネート、(m−又はp−)
フェニレンジイソシアネート、4,4´−ビフェニレン
ジイソシアネート、3,3´−ジメチル−4,4´−ビ
フェニレンジイソシアネート、ビス(4−イソシアネー
トフェニル)スルホン、イソプロピリデンビス(4−フ
ェニルイソシアネート)等の芳香族ジイソシアネート化
合物;トリフェニルメタン4,4´,4″−トリイソシ
アネート、1,3,5−トリイソシアネートベンゼン、
2,4,6−トリイソシアネートトルエン、4,4´−
ジメチルジフェニルメタン2,2´,5,5´−テトラ
イソシアネート等の3個以上のイソシアネート基を有す
るポリイソシアネート化合物;エチレングリコール、プ
ロピレングリコール、1,4−ブチレングリコール、ポ
リアルキレングリコール、トリメチロールプロパン、ヘ
キサントリオールなどのポリオールの水酸基に対してイ
ソシアネート基が過剰量となる量のポリイソシアネート
化合物を反応させてなる付加物;ヘキサメチレンジイソ
シアネート、イソホロンジイソシアネート、トリレンジ
イソシアネート、キシリレンジイソシアネート、4,4
´−ジフェニルメタンジイソシアネート、4,4´−メ
チレンビス(シクロヘキシルイソシアネート)等のビュ
ーレットタイプ付加物、イソシアヌル環タイプ付加物等
が挙げられる。
の方法に用いるポリイソシアネート化合物(B)は、1
分子中にイソシアネート基を2個以上有する化合物であ
り、ポリウレタン樹脂の製造に一般に用いられるものが
同様に使用できる。そのようなポリイソシアネート化合
物としては、例えば、ヘキサメチレンジイソシアネー
ト、トリメチレンジイソシアネート、1,4−テトラメ
チレンジイソシアネート、ペンタメチレンジイソシアネ
ート、1,2−プロピレンジイソシアネート、1,2−
ブチレンジイソシアネート、トリメチルヘキサメチレン
ジイソシアネート、ダイマー酸ジイソシアネート、リジ
ンジイソシアネート等の脂肪族系ジイソシアネート化合
物;イソホロンジイソシアネート、4,4´−メチレン
ビス(シクロヘキシルイソシアネート)、メチルシクロ
ヘキサン−2,4−(又は−2,6−)ジイソシアネー
ト、1,3−(又は−1,4−)ジ(イソシアネートメ
チル)シクロヘキサン等の脂環式系ジイソシアネート化
合物;キシリレンジイソシアネート、メタキシリレンジ
イソシアネート、テトラメチルキシリレンジイソシアネ
ート、トリレンジイソシアネート、4,4´−ジフェニ
ルメタンジイソシアネート、1,5−ナフタレンジイソ
シアネート、1,4−ナフタレンジイソシアネート、
4,4´−トルイジンジイソシアネート、4,4´−ジ
フェニルエーテルジイソシアネート、(m−又はp−)
フェニレンジイソシアネート、4,4´−ビフェニレン
ジイソシアネート、3,3´−ジメチル−4,4´−ビ
フェニレンジイソシアネート、ビス(4−イソシアネー
トフェニル)スルホン、イソプロピリデンビス(4−フ
ェニルイソシアネート)等の芳香族ジイソシアネート化
合物;トリフェニルメタン4,4´,4″−トリイソシ
アネート、1,3,5−トリイソシアネートベンゼン、
2,4,6−トリイソシアネートトルエン、4,4´−
ジメチルジフェニルメタン2,2´,5,5´−テトラ
イソシアネート等の3個以上のイソシアネート基を有す
るポリイソシアネート化合物;エチレングリコール、プ
ロピレングリコール、1,4−ブチレングリコール、ポ
リアルキレングリコール、トリメチロールプロパン、ヘ
キサントリオールなどのポリオールの水酸基に対してイ
ソシアネート基が過剰量となる量のポリイソシアネート
化合物を反応させてなる付加物;ヘキサメチレンジイソ
シアネート、イソホロンジイソシアネート、トリレンジ
イソシアネート、キシリレンジイソシアネート、4,4
´−ジフェニルメタンジイソシアネート、4,4´−メ
チレンビス(シクロヘキシルイソシアネート)等のビュ
ーレットタイプ付加物、イソシアヌル環タイプ付加物等
が挙げられる。
【0023】本発明においては、以上に述べたジヒドロ
キシ官能基含有(メタ)アクリルモノマー(A)とポリ
イソシアネート化合物(B)との反応により不飽和基含
有ポリウレタン樹脂を得ることができる。
キシ官能基含有(メタ)アクリルモノマー(A)とポリ
イソシアネート化合物(B)との反応により不飽和基含
有ポリウレタン樹脂を得ることができる。
【0024】上記の反応には特に制約はなく、例えば、
ジヒドロキシ官能基含有(メタ)アクリルモノマー
(A)の水酸基1個当たりポリイソシアネート化合物
(B)のイソシアネート基を1当量以下の割合で、バル
ク状態又は有機溶剤中で、室温〜120℃の範囲内の温
度で加熱し、実質的に未反応のイソシアネート基が存在
しなくなるまで反応させることにより、不飽和基含有ポ
リウレタン樹脂を製造することができる。
ジヒドロキシ官能基含有(メタ)アクリルモノマー
(A)の水酸基1個当たりポリイソシアネート化合物
(B)のイソシアネート基を1当量以下の割合で、バル
ク状態又は有機溶剤中で、室温〜120℃の範囲内の温
度で加熱し、実質的に未反応のイソシアネート基が存在
しなくなるまで反応させることにより、不飽和基含有ポ
リウレタン樹脂を製造することができる。
【0025】上記の反応においては、必要に応じて、ウ
レタン合成のための既知の触媒を使用することができ、
また、ジヒドロキシ官能基含有(メタ)アクリルモノマ
ー(A)の一部を不飽和基を含有しない多官能ヒドロキ
シ化合物に置き換えることもできる。
レタン合成のための既知の触媒を使用することができ、
また、ジヒドロキシ官能基含有(メタ)アクリルモノマ
ー(A)の一部を不飽和基を含有しない多官能ヒドロキ
シ化合物に置き換えることもできる。
【0026】上記ウレタン合成のための既知の触媒とし
ては、例えば、硝酸ビスマス、2−エチルヘキサン酸
鉛、安息香酸鉛、オレイン酸鉛、ナトリウムトリクロロ
フェノレート、プロピオン酸ナトリウム、酢酸リチウ
ム、オレイン酸カリウム、テトラブチルスズ、塩化トリ
ブチルスズ、二塩化ジブチルスズ、三塩化ブチルスズ、
塩化スズ、トリブチルスズーo−フェノレート、トリブ
チルスズシアネート、オクチル酸スズ、オレイン酸ス
ズ、酒石酸スズ、ジブチルスズジ(2−エチルヘキシレ
ート)、ジベンジルスズジ(2−エチルヘキシレー
ト)、ジブチルスズジラウレート、ジブチルスズジイソ
オクチルマレエート、ジブチルスズスルフィド、ジブチ
ルスズジブトキシド、ジブチルスズビス(o−フェニル
フェノレート)、ジブチルスズビス(アセチルアセトネ
ート)、ジ(2−エチルヘキシル)スズオキシド、四塩
化チタン、二塩化ジブチルチタン、テトラブチルチタネ
ート、三塩化ブトキシチタン、三塩化鉄、2−エチルヘ
キサン酸鉄(III)、アセチルアセトン鉄(II
I)、フェロセン、三塩化アンチモン、五塩化アンチモ
ン、二塩化トリフェニルアンチモン、トルフェニルアン
チモン、硝酸ウラン、硝酸カドミウム、ジエチルジチオ
リン酸カドミウム、安息香酸コバルト、2−エチルヘキ
サン酸コバルト、硝酸トリウム、トリフェニルアルミニ
ウム、トリオクチルアルミニウム、オレイン酸アルミニ
ウム、ジフェニル水銀、2−エチルヘキサン酸亜鉛、ナ
フテン酸亜鉛、ニッケロセン、ヘキサカルボニルモリブ
デン、硝酸セリウム、三塩化バナジウム、2−エチルヘ
キサン酸銅、酢酸銅、2−エチルヘキサン酸マンガン、
2−エチルヘキサン酸ジルコニウム、ナフテン酸ジルコ
ニウム、トリフェニルヒ素、三塩化ヒ素、三フッ化ホウ
素−ジエチルエーテル錯体、ピリジンボラン、酢酸カル
シウム、酢酸バリウムなどの金属触媒;テトラ−n−ブ
チル−1,3−ジアセチルオキシジスタノキサン、テト
ラ−n−プロピル−1,3−ジアセチルオキシジスタノ
キサン、テトラ−n−プロピル−1−クロロ−3−ヒド
ロキシジスタノキサン、テトラ−n−ブチル−1−クロ
ロ−3−ヒドロキシジスタノキサン、テトラメチル−
1,3−ジアセチルオキシジスタノキサン、テトラメチ
ル−1−クロロ−3−アセチルオキシジスタノキサン、
テトラ−n−ブチル−1,3−ジホルミルオキシジスタ
ノキサン、テトラ−n−ブチル−1,3−ジアクリルオ
キシジスタノキサン、テトラ−n−ブチルー1,3−ジ
ラウリルオキシジスタノキサン、テトラ−n−ブチル−
1,3−ジオレイルオキシジスタノキサン、テトラ−n
−ブチル−1,3−ジステアリルオキシジスタノキサ
ン、テトラ−n−ブチル−1,3−ジフェニルアセチル
オキシジスタノキサン、テトラ−n−ブチル−1,3−
ジイソシアノジスタノキサン、テトラ−n−ブチル−1
−アセチルオキシー3−ヒドロキシジスタノキサン、テ
トラ−n−プロピル−1−アセチルオキシ−3−ヒドロ
キシジスタノキサン、テトラメチル−1−アセチルオキ
シ−3−ヒドロキシジスタノキサン、テトラ−n−ブチ
ル−1,3−ジクロロジスタノキサン、テトラメチル−
1,3−ジクロロジスタノキサン、テトラ−n−ブチル
−1,3−ジプロポキシジスタノキサン、テトラ−n−
プロピル−1,3−ジプロポキシジスタノキサン、テト
ラ−n−ブチル−1−プロポキシ−3−アセチルオキシ
ジスタノキサン、テトラ−n−プロピル−1−ヒドロキ
シ−3−エトキシジスタノキサン、1,1−ジブチル−
3,3−ジプロピル−1−ヒドロキシ−3−アセチルオ
キシジスタノキサン、1,3−ジプロピル−1,3−ジ
ブチル−1−クロロ−3−ヒドロキシジスタノキサン等
の有機スズ化合物等を挙げることができる。
ては、例えば、硝酸ビスマス、2−エチルヘキサン酸
鉛、安息香酸鉛、オレイン酸鉛、ナトリウムトリクロロ
フェノレート、プロピオン酸ナトリウム、酢酸リチウ
ム、オレイン酸カリウム、テトラブチルスズ、塩化トリ
ブチルスズ、二塩化ジブチルスズ、三塩化ブチルスズ、
塩化スズ、トリブチルスズーo−フェノレート、トリブ
チルスズシアネート、オクチル酸スズ、オレイン酸ス
ズ、酒石酸スズ、ジブチルスズジ(2−エチルヘキシレ
ート)、ジベンジルスズジ(2−エチルヘキシレー
ト)、ジブチルスズジラウレート、ジブチルスズジイソ
オクチルマレエート、ジブチルスズスルフィド、ジブチ
ルスズジブトキシド、ジブチルスズビス(o−フェニル
フェノレート)、ジブチルスズビス(アセチルアセトネ
ート)、ジ(2−エチルヘキシル)スズオキシド、四塩
化チタン、二塩化ジブチルチタン、テトラブチルチタネ
ート、三塩化ブトキシチタン、三塩化鉄、2−エチルヘ
キサン酸鉄(III)、アセチルアセトン鉄(II
I)、フェロセン、三塩化アンチモン、五塩化アンチモ
ン、二塩化トリフェニルアンチモン、トルフェニルアン
チモン、硝酸ウラン、硝酸カドミウム、ジエチルジチオ
リン酸カドミウム、安息香酸コバルト、2−エチルヘキ
サン酸コバルト、硝酸トリウム、トリフェニルアルミニ
ウム、トリオクチルアルミニウム、オレイン酸アルミニ
ウム、ジフェニル水銀、2−エチルヘキサン酸亜鉛、ナ
フテン酸亜鉛、ニッケロセン、ヘキサカルボニルモリブ
デン、硝酸セリウム、三塩化バナジウム、2−エチルヘ
キサン酸銅、酢酸銅、2−エチルヘキサン酸マンガン、
2−エチルヘキサン酸ジルコニウム、ナフテン酸ジルコ
ニウム、トリフェニルヒ素、三塩化ヒ素、三フッ化ホウ
素−ジエチルエーテル錯体、ピリジンボラン、酢酸カル
シウム、酢酸バリウムなどの金属触媒;テトラ−n−ブ
チル−1,3−ジアセチルオキシジスタノキサン、テト
ラ−n−プロピル−1,3−ジアセチルオキシジスタノ
キサン、テトラ−n−プロピル−1−クロロ−3−ヒド
ロキシジスタノキサン、テトラ−n−ブチル−1−クロ
ロ−3−ヒドロキシジスタノキサン、テトラメチル−
1,3−ジアセチルオキシジスタノキサン、テトラメチ
ル−1−クロロ−3−アセチルオキシジスタノキサン、
テトラ−n−ブチル−1,3−ジホルミルオキシジスタ
ノキサン、テトラ−n−ブチル−1,3−ジアクリルオ
キシジスタノキサン、テトラ−n−ブチルー1,3−ジ
ラウリルオキシジスタノキサン、テトラ−n−ブチル−
1,3−ジオレイルオキシジスタノキサン、テトラ−n
−ブチル−1,3−ジステアリルオキシジスタノキサ
ン、テトラ−n−ブチル−1,3−ジフェニルアセチル
オキシジスタノキサン、テトラ−n−ブチル−1,3−
ジイソシアノジスタノキサン、テトラ−n−ブチル−1
−アセチルオキシー3−ヒドロキシジスタノキサン、テ
トラ−n−プロピル−1−アセチルオキシ−3−ヒドロ
キシジスタノキサン、テトラメチル−1−アセチルオキ
シ−3−ヒドロキシジスタノキサン、テトラ−n−ブチ
ル−1,3−ジクロロジスタノキサン、テトラメチル−
1,3−ジクロロジスタノキサン、テトラ−n−ブチル
−1,3−ジプロポキシジスタノキサン、テトラ−n−
プロピル−1,3−ジプロポキシジスタノキサン、テト
ラ−n−ブチル−1−プロポキシ−3−アセチルオキシ
ジスタノキサン、テトラ−n−プロピル−1−ヒドロキ
シ−3−エトキシジスタノキサン、1,1−ジブチル−
3,3−ジプロピル−1−ヒドロキシ−3−アセチルオ
キシジスタノキサン、1,3−ジプロピル−1,3−ジ
ブチル−1−クロロ−3−ヒドロキシジスタノキサン等
の有機スズ化合物等を挙げることができる。
【0027】また、上記反応に用いる有機溶剤は、活性
水素を有していなければ特に制限されず、エステル系、
ケトン系、エーテル系、ハロゲン化炭化水素系溶剤等の
いずれのものも使用できる。具体例としては、例えば、
アセトン、メチルエチルケトン、2−ペンタノン、2−
ヘキサノン、メチルイソブチルケトン、イソホロン、シ
クロヘキサノン、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピ
ル、酢酸ブチル、酢酸イソブチル、酢酸ペンチル、3−
メトキシブチルアセテート、2−エチルヘキシルアセテ
ート、酢酸ベンジル、酢酸シクロヘキシル、プロピオン
酸メチル、プロピオン酸エチル、プロピオン酸ブチル、
アジピン酸ジオクチル、シュウ酸エチル、マロン酸ジエ
チル、マレイン酸エステル、酒石酸ジブチル、クエン酸
トリブチル、セバシン酸エステル、フタル酸エステル、
エチレングリコールモノアセテート、二酢酸エチレン、
酢酸セロソルブ、酢酸カルビトール、アセト酢酸エチ
ル、ジエチルエーテル、ジプロピルエーテル、ジブチル
エーテル、エチルビニルエーテル、メトキシトルエン、
ジフェニルエーテル、ジオキサン、プロピレンオキシ
ド、アセタール、グリセリンエーテル、テトラヒドロフ
ラン、1,2−ジメトキシエタン、セロソルブ、メチル
セロソルブ、ブチルセロソルブ、メチルカルビトール、
2−メトキシエタノール、2−エトキシエタノール、2
−イソプロポキシエタノール、2−ブトキシエタノー
ル、ジエチレングリコール、ジエチレングリコールモノ
エチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエー
テル、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、1
−メトキシ−2−プロパノール、ジプロピレングリコー
ルモノメチルエーテル、ジクロロメタン、クロロホル
ム、四塩化炭素、1,1−ジクロロエタン、1,2−ジ
クロロエタン、1,1,1−トリクロロエタン、ヘキサ
クロロエタン、1,1−ジクロロエチレン、1,2−ジ
クロロエチレン、塩化プロピル、クロロベンゼン、p−
クロロトルエン、1,2−ジブロモエタン、臭化プロピ
ル、ブロモベンゼン、フルオロベンゼン、トリクロロフ
ルオロメタン、トリクロロエチレン等が挙げられる。
水素を有していなければ特に制限されず、エステル系、
ケトン系、エーテル系、ハロゲン化炭化水素系溶剤等の
いずれのものも使用できる。具体例としては、例えば、
アセトン、メチルエチルケトン、2−ペンタノン、2−
ヘキサノン、メチルイソブチルケトン、イソホロン、シ
クロヘキサノン、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピ
ル、酢酸ブチル、酢酸イソブチル、酢酸ペンチル、3−
メトキシブチルアセテート、2−エチルヘキシルアセテ
ート、酢酸ベンジル、酢酸シクロヘキシル、プロピオン
酸メチル、プロピオン酸エチル、プロピオン酸ブチル、
アジピン酸ジオクチル、シュウ酸エチル、マロン酸ジエ
チル、マレイン酸エステル、酒石酸ジブチル、クエン酸
トリブチル、セバシン酸エステル、フタル酸エステル、
エチレングリコールモノアセテート、二酢酸エチレン、
酢酸セロソルブ、酢酸カルビトール、アセト酢酸エチ
ル、ジエチルエーテル、ジプロピルエーテル、ジブチル
エーテル、エチルビニルエーテル、メトキシトルエン、
ジフェニルエーテル、ジオキサン、プロピレンオキシ
ド、アセタール、グリセリンエーテル、テトラヒドロフ
ラン、1,2−ジメトキシエタン、セロソルブ、メチル
セロソルブ、ブチルセロソルブ、メチルカルビトール、
2−メトキシエタノール、2−エトキシエタノール、2
−イソプロポキシエタノール、2−ブトキシエタノー
ル、ジエチレングリコール、ジエチレングリコールモノ
エチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエー
テル、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、1
−メトキシ−2−プロパノール、ジプロピレングリコー
ルモノメチルエーテル、ジクロロメタン、クロロホル
ム、四塩化炭素、1,1−ジクロロエタン、1,2−ジ
クロロエタン、1,1,1−トリクロロエタン、ヘキサ
クロロエタン、1,1−ジクロロエチレン、1,2−ジ
クロロエチレン、塩化プロピル、クロロベンゼン、p−
クロロトルエン、1,2−ジブロモエタン、臭化プロピ
ル、ブロモベンゼン、フルオロベンゼン、トリクロロフ
ルオロメタン、トリクロロエチレン等が挙げられる。
【0028】以上に述べた如くして得られる不飽和基含
有ポリウレタン樹脂の分子量は特に制限されるものでは
ないが、一般に約300〜約200,000、好ましく
は約500〜約100,000の範囲内の数平均分子量
を有していることが好ましい。
有ポリウレタン樹脂の分子量は特に制限されるものでは
ないが、一般に約300〜約200,000、好ましく
は約500〜約100,000の範囲内の数平均分子量
を有していることが好ましい。
【0029】本発明の方法によって得られる不飽和基含
有ポリウレタン樹脂は硬化性樹脂組成物として使用する
のに好適であり、この場合必要に応じて、顔料、溶剤、
硬化触媒、流動性調整剤及びその他の添加剤などを加え
て使用することができる。
有ポリウレタン樹脂は硬化性樹脂組成物として使用する
のに好適であり、この場合必要に応じて、顔料、溶剤、
硬化触媒、流動性調整剤及びその他の添加剤などを加え
て使用することができる。
【0030】本発明の方法によって得られる不飽和基含
有ポリウレタン樹脂を含有する硬化性樹脂組成物の用途
は特に限定されず、広範囲のものから選択して、例え
ば、塗料、印刷、着色剤等の分野に適用することができ
る。
有ポリウレタン樹脂を含有する硬化性樹脂組成物の用途
は特に限定されず、広範囲のものから選択して、例え
ば、塗料、印刷、着色剤等の分野に適用することができ
る。
【0031】本発明の方法によって得られる不飽和基含
有ポリウレタン樹脂を含有する硬化性樹脂組成物は有機
溶剤に溶解もしくは分散して使用することが好ましい。
該有機溶剤としては該硬化性樹脂組成物と実質的に反応
しないものが使用され、具体的には、トルエン、キシレ
ン等の芳香族炭化水素系溶剤;アセトン、メチルエチル
ケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン系溶剤;酢
酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル等のエステル系溶
剤;ブタノール、エチレングリコールモノブチルエーテ
ル等のアルコール系溶剤等が挙げられる。これらのもの
は1種もしくは2種以上組み合わせて使用することがで
きる。
有ポリウレタン樹脂を含有する硬化性樹脂組成物は有機
溶剤に溶解もしくは分散して使用することが好ましい。
該有機溶剤としては該硬化性樹脂組成物と実質的に反応
しないものが使用され、具体的には、トルエン、キシレ
ン等の芳香族炭化水素系溶剤;アセトン、メチルエチル
ケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン系溶剤;酢
酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル等のエステル系溶
剤;ブタノール、エチレングリコールモノブチルエーテ
ル等のアルコール系溶剤等が挙げられる。これらのもの
は1種もしくは2種以上組み合わせて使用することがで
きる。
【0032】有機溶剤の配合割合は特に制限されず、必
要に応じて使用すればよいが、通常、硬化性樹脂組成物
の固形分が約1〜95重量%、好ましくは約10〜90
重量%の範囲が好適である。
要に応じて使用すればよいが、通常、硬化性樹脂組成物
の固形分が約1〜95重量%、好ましくは約10〜90
重量%の範囲が好適である。
【0033】本発明の方法によって得られる不飽和基含
有ポリウレタン樹脂を含有する硬化性樹脂組成物を熱硬
化性樹脂組成物として用いる場合には、該硬化性樹脂組
成物を有機溶剤に溶解もしくは分散させてなるものを基
材に塗布、印刷した後、約40℃〜250℃の温度で約
30秒〜120分間加熱して硬化させる。
有ポリウレタン樹脂を含有する硬化性樹脂組成物を熱硬
化性樹脂組成物として用いる場合には、該硬化性樹脂組
成物を有機溶剤に溶解もしくは分散させてなるものを基
材に塗布、印刷した後、約40℃〜250℃の温度で約
30秒〜120分間加熱して硬化させる。
【0034】該基材としては、有機溶剤によって溶解し
たり、また60℃程度の加熱によって溶解、変質しない
ものであれば、特に制限はなく、従来から使用されてい
るものを選択して使用することができる。具体的には、
処理又は未処理の金属、プラスチック、紙、繊維、これ
らのものに塗装を施した板状、型のもの等が挙げられ
る。
たり、また60℃程度の加熱によって溶解、変質しない
ものであれば、特に制限はなく、従来から使用されてい
るものを選択して使用することができる。具体的には、
処理又は未処理の金属、プラスチック、紙、繊維、これ
らのものに塗装を施した板状、型のもの等が挙げられ
る。
【0035】基材に塗布、印刷する方法としては、例え
ば、スプレー塗装、刷毛塗装、ローラー塗装、浸漬塗
装、スクリーン印刷等の通常の塗装又は印刷手段を用い
ることができる。乾燥膜厚は約1〜100ミクロンの範
囲が好ましい。
ば、スプレー塗装、刷毛塗装、ローラー塗装、浸漬塗
装、スクリーン印刷等の通常の塗装又は印刷手段を用い
ることができる。乾燥膜厚は約1〜100ミクロンの範
囲が好ましい。
【0036】本発明の方法によって得られる不飽和基含
有ポリウレタン樹脂を含有する硬化性樹脂組成物を活性
エネルギー線硬化性樹脂組成物として用いる場合には、
該硬化性樹脂組成物を基材に塗布、印刷した後、活性エ
ネルギー線を照射することによって硬化させる。乾燥膜
厚は約1〜100ミクロンの範囲が好ましい。
有ポリウレタン樹脂を含有する硬化性樹脂組成物を活性
エネルギー線硬化性樹脂組成物として用いる場合には、
該硬化性樹脂組成物を基材に塗布、印刷した後、活性エ
ネルギー線を照射することによって硬化させる。乾燥膜
厚は約1〜100ミクロンの範囲が好ましい。
【0037】活性エネルギー線としては、紫外線や電子
線が包含される。紫外線照射によって硬化させる場合に
は、該組成物に光重合開始剤をあらかじめ添加しておく
必要がある。光重合開始剤としては、紫外線の照射によ
り励起されてラジカルを発生させるタイプの通常の光重
合開始剤が用いられ、例えば、ベンゾイン、ベンゾイン
メチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾイ
ンn−プロピルエーテル、ベンゾインイソプロピルエー
テル、ベンゾインn−ブチルエーテル、α−ヒドロキシ
イソブチルフェノン、ベンゾフェノン、p−メチルベン
ゾフェノン、ミヒラーケトン、アセトフェノン、2−ク
ロロチオキサントン、アントラキノン、2−メチルアン
トラキノン、フェニルジスルフィド、2−ニトロフルオ
レン、2−メチル−1−[4−(メチルチオ)フェニ
ル]−2−モルホリノプロパン1、2−ベンジル−2−
ジメチルアミノ−1−(4−モルホリノフェニル)−ブ
タノン1、2,4,6−トリチオフォスフィルオキサイ
ド、ジエチルチオキサントン等が挙げられる。これらの
光重合開始剤は単独でもしくは2種以上を混合して使用
でき、その配合量は上記不飽和基含有ポリウレタン樹脂
量を基準にして0.1〜10重量%の範囲が好ましい。
線が包含される。紫外線照射によって硬化させる場合に
は、該組成物に光重合開始剤をあらかじめ添加しておく
必要がある。光重合開始剤としては、紫外線の照射によ
り励起されてラジカルを発生させるタイプの通常の光重
合開始剤が用いられ、例えば、ベンゾイン、ベンゾイン
メチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾイ
ンn−プロピルエーテル、ベンゾインイソプロピルエー
テル、ベンゾインn−ブチルエーテル、α−ヒドロキシ
イソブチルフェノン、ベンゾフェノン、p−メチルベン
ゾフェノン、ミヒラーケトン、アセトフェノン、2−ク
ロロチオキサントン、アントラキノン、2−メチルアン
トラキノン、フェニルジスルフィド、2−ニトロフルオ
レン、2−メチル−1−[4−(メチルチオ)フェニ
ル]−2−モルホリノプロパン1、2−ベンジル−2−
ジメチルアミノ−1−(4−モルホリノフェニル)−ブ
タノン1、2,4,6−トリチオフォスフィルオキサイ
ド、ジエチルチオキサントン等が挙げられる。これらの
光重合開始剤は単独でもしくは2種以上を混合して使用
でき、その配合量は上記不飽和基含有ポリウレタン樹脂
量を基準にして0.1〜10重量%の範囲が好ましい。
【0038】また、これらの光重合開始剤による光重合
反応を促進させるために、光増感促進剤を光重合開始剤
と併用してもよい。併用し得る光増感促進剤としては、
例えば、トリエチルアミン、トリエタノールアミン、2
−ジメチルアミノエタノール等の3級アミン系;トリフ
ェニルホスフィン等のアルキルホスフィン系;β−チオ
ジグリコール等のチオエーテル系の光増感促進剤等が挙
げられる。これらの光増感促進剤はそれぞれ単独でもし
くは2種以上を混合して使用でき、その配合量は上記不
飽和基含有ポリウレタン樹脂量を基準にして0.1〜1
0重量%の範囲が好ましい。
反応を促進させるために、光増感促進剤を光重合開始剤
と併用してもよい。併用し得る光増感促進剤としては、
例えば、トリエチルアミン、トリエタノールアミン、2
−ジメチルアミノエタノール等の3級アミン系;トリフ
ェニルホスフィン等のアルキルホスフィン系;β−チオ
ジグリコール等のチオエーテル系の光増感促進剤等が挙
げられる。これらの光増感促進剤はそれぞれ単独でもし
くは2種以上を混合して使用でき、その配合量は上記不
飽和基含有ポリウレタン樹脂量を基準にして0.1〜1
0重量%の範囲が好ましい。
【0039】一方、電子線照射を用いる場合には、本発
明の方法によって得られる不飽和基含有ポリウレタン樹
脂に上記の如き光重合開始剤や光増感促進剤を配合する
必要はない。
明の方法によって得られる不飽和基含有ポリウレタン樹
脂に上記の如き光重合開始剤や光増感促進剤を配合する
必要はない。
【0040】電子線の照射により上記不飽和基含有ポリ
ウレタン樹脂を硬化させる場合の電子線発生源として
は、コッククロフト型、コッククロフトワルトン型、バ
ン・デ・グラーフ型、共振変圧器型、変圧器型、絶縁コ
ア変圧器型、ダイナミトロン型、リニアフィラメント型
および高周波型などの電子線発生装置を用いることがで
きる。その際の電子線の照射条件は、本発明の方法によ
って得られる不飽和基含有ポリウレタン樹脂の形状、厚
さ等により異なるが、一般には1〜20メガラッドの範
囲内の線量が適している。
ウレタン樹脂を硬化させる場合の電子線発生源として
は、コッククロフト型、コッククロフトワルトン型、バ
ン・デ・グラーフ型、共振変圧器型、変圧器型、絶縁コ
ア変圧器型、ダイナミトロン型、リニアフィラメント型
および高周波型などの電子線発生装置を用いることがで
きる。その際の電子線の照射条件は、本発明の方法によ
って得られる不飽和基含有ポリウレタン樹脂の形状、厚
さ等により異なるが、一般には1〜20メガラッドの範
囲内の線量が適している。
【0041】また、紫外線照射源としては、水銀ラン
プ、キセノンランプ、カーボンアーク、メタルハイトラ
ンプ、太陽光などを用いることができる。紫外線の照射
条件は特に制限されないが、150〜450nmの範囲
内の紫外線を含む光線を空気中もしくは不活性ガス雰囲
気下で、数秒間以上照射することが好ましい。特に、空
気中で照射する場合は、高圧水銀灯を用いることが好ま
しい。
プ、キセノンランプ、カーボンアーク、メタルハイトラ
ンプ、太陽光などを用いることができる。紫外線の照射
条件は特に制限されないが、150〜450nmの範囲
内の紫外線を含む光線を空気中もしくは不活性ガス雰囲
気下で、数秒間以上照射することが好ましい。特に、空
気中で照射する場合は、高圧水銀灯を用いることが好ま
しい。
【0042】
【発明の効果】本発明の方法によって得られる不飽和基
含有ポリウレタン樹脂は、活性エネルギー線及び/又は
熱硬化性が良好であり、付着性などの物性に優れた塗膜
を形成しうる塗料用樹脂として好適に使用することがで
きる。
含有ポリウレタン樹脂は、活性エネルギー線及び/又は
熱硬化性が良好であり、付着性などの物性に優れた塗膜
を形成しうる塗料用樹脂として好適に使用することがで
きる。
【0043】
【実施例】以下、実施例を挙げて、本発明を更に具体的
に説明する。「部」及び「%」はそれぞれ重量基準であ
る。
に説明する。「部」及び「%」はそれぞれ重量基準であ
る。
【0044】製造例1 撹拌機及び冷却器を取り付けた500mL3つ口フラス
コ中に3−エチル−3−ヒドロキシメチルオキセタン1
16部、アクリル酸72部及びテトラエチルアンモニウ
ムブロマイド0.2部を加え、80℃で約5時間撹拌
し、反応させた。反応後、生成物をシリカゲルカラム
で、展開液としてクロロホルムを用いて分離精製した。
溶出液をロータリーエバポレーターで濃縮し、約150
部の1−アクリロキシ−2,2−(ジヒドロキシメチ
ル)ブタンを得た。
コ中に3−エチル−3−ヒドロキシメチルオキセタン1
16部、アクリル酸72部及びテトラエチルアンモニウ
ムブロマイド0.2部を加え、80℃で約5時間撹拌
し、反応させた。反応後、生成物をシリカゲルカラム
で、展開液としてクロロホルムを用いて分離精製した。
溶出液をロータリーエバポレーターで濃縮し、約150
部の1−アクリロキシ−2,2−(ジヒドロキシメチ
ル)ブタンを得た。
【0045】製造例2 撹拌機及び冷却器を取り付けた500mL3つ口フラス
コ中に3−オクチル−3−ヒドロキシメチルオキセタン
200部、アクリル酸72部及びテトラエチルアンモニ
ウムブロマイド0.4部を加え、80℃で約5時間撹拌
し、反応させた。反応後、生成物をシリカゲルカラム
で、展開液としてクロロホルムを用いて分離精製した。
溶出液をロータリーエバポレーターで濃縮し、約250
部の1−アクリロキシ−2,2−(ジヒドロキシメチ
ル)デカンを得た。
コ中に3−オクチル−3−ヒドロキシメチルオキセタン
200部、アクリル酸72部及びテトラエチルアンモニ
ウムブロマイド0.4部を加え、80℃で約5時間撹拌
し、反応させた。反応後、生成物をシリカゲルカラム
で、展開液としてクロロホルムを用いて分離精製した。
溶出液をロータリーエバポレーターで濃縮し、約250
部の1−アクリロキシ−2,2−(ジヒドロキシメチ
ル)デカンを得た。
【0046】製造例3 撹拌機及び冷却器を取り付けた500mL3つ口フラス
コ中に3−エチル−3−ヒドロキシメチルオキセタン1
16部、メタクリル酸86部及びテトラエチルアンモニ
ウムブロマイド0.2部を加え、80℃で約5時間撹拌
し、反応させた。反応後、生成物をシリカゲルカラム
で、展開液としてクロロホルムを用いて分離精製した。
溶出液をロータリーエバポレーターで濃縮し、約160
部の1−メタクリロキシ−2,2−(ジヒドロキシメチ
ル)ブタンを得た。
コ中に3−エチル−3−ヒドロキシメチルオキセタン1
16部、メタクリル酸86部及びテトラエチルアンモニ
ウムブロマイド0.2部を加え、80℃で約5時間撹拌
し、反応させた。反応後、生成物をシリカゲルカラム
で、展開液としてクロロホルムを用いて分離精製した。
溶出液をロータリーエバポレーターで濃縮し、約160
部の1−メタクリロキシ−2,2−(ジヒドロキシメチ
ル)ブタンを得た。
【0047】製造例4 撹拌機及び冷却器を取り付けた500mL3つ口フラス
コ中に3−オクチル−3−ヒドロキシメチルオキセタン
200部、メタクリル酸86部及びテトラエチルアンモ
ニウムブロマイド0.4部を加え、80℃で約5時間撹
拌し、反応させた。反応後、生成物をシリカゲルカラム
で、展開液としてクロロホルムを用いて分離精製した。
溶出液をロータリーエバポレーターで濃縮し、約260
部の1−メタクリロキシ−2,2−(ジヒドロキシメチ
ル)デカンを得た。
コ中に3−オクチル−3−ヒドロキシメチルオキセタン
200部、メタクリル酸86部及びテトラエチルアンモ
ニウムブロマイド0.4部を加え、80℃で約5時間撹
拌し、反応させた。反応後、生成物をシリカゲルカラム
で、展開液としてクロロホルムを用いて分離精製した。
溶出液をロータリーエバポレーターで濃縮し、約260
部の1−メタクリロキシ−2,2−(ジヒドロキシメチ
ル)デカンを得た。
【0048】実施例1 製造例1で合成した1−アクリロキシ−2,2−(ジヒ
ドロキシメチル)ブタン165.5部及びジラウリン酸
ジ−n−ブチル錫3部を酢酸エチル500mlに溶か
し、撹拌機、冷却器及び滴下漏斗を備えた1Lの三つ口
フラスコに加え、撹拌しながらオイルバスで加熱して沸
騰させた。次に、これに1,6−ヘキサンジイソシアネ
ート132.7部を350mlの酢酸エチルに溶解した
溶液を滴下漏斗より急速に加えて、酢酸エチル還流下、
約77℃近辺で約4時間反応を行なった結果、数平均分
子量約3,000の不飽和基含有ポリウレタン樹脂
(a)を得た。
ドロキシメチル)ブタン165.5部及びジラウリン酸
ジ−n−ブチル錫3部を酢酸エチル500mlに溶か
し、撹拌機、冷却器及び滴下漏斗を備えた1Lの三つ口
フラスコに加え、撹拌しながらオイルバスで加熱して沸
騰させた。次に、これに1,6−ヘキサンジイソシアネ
ート132.7部を350mlの酢酸エチルに溶解した
溶液を滴下漏斗より急速に加えて、酢酸エチル還流下、
約77℃近辺で約4時間反応を行なった結果、数平均分
子量約3,000の不飽和基含有ポリウレタン樹脂
(a)を得た。
【0049】実施例2 製造例2で合成した1−アクリロキシ−2,2−(ジヒ
ドロキシメチル)デカン194.4部及びジラウリン酸
ジ−n−ブチル錫3部を酢酸エチル500mlに溶か
し、撹拌機、冷却器及び滴下漏斗を備えた1Lの三つ口
フラスコに加え、撹拌しながらオイルバスで加熱して沸
騰させた。次に、これに1,6−ヘキサンジイソシアネ
ート104.2部を350mlの酢酸エチルに溶解した
溶液を滴下漏斗より急速に加えて、酢酸エチル還流下、
約77℃近辺で約4時間反応を行なった結果、数平均分
子量約3,000の不飽和基含有ポリウレタン樹脂
(b)を得た。
ドロキシメチル)デカン194.4部及びジラウリン酸
ジ−n−ブチル錫3部を酢酸エチル500mlに溶か
し、撹拌機、冷却器及び滴下漏斗を備えた1Lの三つ口
フラスコに加え、撹拌しながらオイルバスで加熱して沸
騰させた。次に、これに1,6−ヘキサンジイソシアネ
ート104.2部を350mlの酢酸エチルに溶解した
溶液を滴下漏斗より急速に加えて、酢酸エチル還流下、
約77℃近辺で約4時間反応を行なった結果、数平均分
子量約3,000の不飽和基含有ポリウレタン樹脂
(b)を得た。
【0050】実施例3 製造例3で合成した1−メタクリロキシ−2,2−(ジ
ヒドロキシメチル)ブタン172.0部及びジラウリン
酸ジ−n−ブチル錫3部を酢酸エチル500mlに溶か
し、撹拌機、冷却器及び滴下漏斗を備えた1Lの三つ口
フラスコに加え、撹拌しながらオイルバスで加熱して沸
騰させた。次に、これに1,6−ヘキサンジイソシアネ
ート127.7部を350mlの酢酸エチルに溶解した
溶液を滴下漏斗より急速に加えて、酢酸エチル還流下、
約77℃近辺で約4時間反応を行なった結果、数平均分
子量約3,000の不飽和基含有ポリウレタン樹脂
(c)を得た。
ヒドロキシメチル)ブタン172.0部及びジラウリン
酸ジ−n−ブチル錫3部を酢酸エチル500mlに溶か
し、撹拌機、冷却器及び滴下漏斗を備えた1Lの三つ口
フラスコに加え、撹拌しながらオイルバスで加熱して沸
騰させた。次に、これに1,6−ヘキサンジイソシアネ
ート127.7部を350mlの酢酸エチルに溶解した
溶液を滴下漏斗より急速に加えて、酢酸エチル還流下、
約77℃近辺で約4時間反応を行なった結果、数平均分
子量約3,000の不飽和基含有ポリウレタン樹脂
(c)を得た。
【0051】実施例4 製造例4で合成した1−メタクリロキシ−2,2−(ジ
ヒドロキシメチル)デカン198.8部及びジラウリン
酸ジ−n−ブチル錫3部を酢酸エチル500mlに溶か
し、撹拌機、冷却器及び滴下漏斗を備えた1Lの三つ口
フラスコに加え、撹拌しながらオイルバスで加熱して沸
騰させた。次に、これに1,6−ヘキサンジイソシアネ
ート100.8部を350mlの酢酸エチルに溶解した
溶液を滴下漏斗より急速に加えて、酢酸エチル還流下、
約77℃近辺で約4時間反応を行なった結果、数平均分
子量約3,000の不飽和基含有ポリウレタン樹脂
(d)を得た。
ヒドロキシメチル)デカン198.8部及びジラウリン
酸ジ−n−ブチル錫3部を酢酸エチル500mlに溶か
し、撹拌機、冷却器及び滴下漏斗を備えた1Lの三つ口
フラスコに加え、撹拌しながらオイルバスで加熱して沸
騰させた。次に、これに1,6−ヘキサンジイソシアネ
ート100.8部を350mlの酢酸エチルに溶解した
溶液を滴下漏斗より急速に加えて、酢酸エチル還流下、
約77℃近辺で約4時間反応を行なった結果、数平均分
子量約3,000の不飽和基含有ポリウレタン樹脂
(d)を得た。
【0052】実施例5 製造例1で合成した1−アクリロキシ−2,2−(ジヒ
ドロキシメチル)ブタン122.0部、テトラメチレン
グリコール29.5部及びジラウリン酸ジ−n−ブチル
錫3部を酢酸エチル500mlに溶かし、撹拌機、冷却
器及び滴下漏斗を備えた1Lの三つ口フラスコに加え、
撹拌しながらオイルバスで加熱して沸騰させた。次に、
これに1,6−ヘキサンジイソシアネート148.5部
を350mlの酢酸エチルに溶解した溶液を滴下漏斗よ
り急速に加えて、酢酸エチル還流下、約77℃近辺で約
4時間反応を行なった結果、数平均分子量約3,000
の不飽和基含有ポリウレタン樹脂(e)を得た。
ドロキシメチル)ブタン122.0部、テトラメチレン
グリコール29.5部及びジラウリン酸ジ−n−ブチル
錫3部を酢酸エチル500mlに溶かし、撹拌機、冷却
器及び滴下漏斗を備えた1Lの三つ口フラスコに加え、
撹拌しながらオイルバスで加熱して沸騰させた。次に、
これに1,6−ヘキサンジイソシアネート148.5部
を350mlの酢酸エチルに溶解した溶液を滴下漏斗よ
り急速に加えて、酢酸エチル還流下、約77℃近辺で約
4時間反応を行なった結果、数平均分子量約3,000
の不飽和基含有ポリウレタン樹脂(e)を得た。
【0053】実施例6 製造例1で合成した1−アクリロキシ−2,2−(ジヒ
ドロキシメチル)ブタン177.1部、トリメチロール
プロパン13.4部及びジラウリン酸ジ−n−ブチル錫
3部を酢酸エチル500mlに溶かし、撹拌機、冷却器
及び滴下漏斗を備えた1Lの三つ口フラスコに加え、撹
拌しながらオイルバスで加熱して沸騰させた。次に、こ
れに1,6−ヘキサンジイソシアネート109.5部を
350mlの酢酸エチルに溶解した溶液を滴下漏斗より
急速に加えて、酢酸エチル還流下、約77℃近辺で約4
時間反応を行なった結果、数平均分子量約3,000の
不飽和基含有ポリウレタン樹脂(f)を得た。
ドロキシメチル)ブタン177.1部、トリメチロール
プロパン13.4部及びジラウリン酸ジ−n−ブチル錫
3部を酢酸エチル500mlに溶かし、撹拌機、冷却器
及び滴下漏斗を備えた1Lの三つ口フラスコに加え、撹
拌しながらオイルバスで加熱して沸騰させた。次に、こ
れに1,6−ヘキサンジイソシアネート109.5部を
350mlの酢酸エチルに溶解した溶液を滴下漏斗より
急速に加えて、酢酸エチル還流下、約77℃近辺で約4
時間反応を行なった結果、数平均分子量約3,000の
不飽和基含有ポリウレタン樹脂(f)を得た。
【0054】比較例1 ヒドロキシエチルアクリレート23.2部、ヘキサメチ
レングリコール120.3部及びジラウリン酸ジ−n−
ブチル錫3部を酢酸エチル500mlに溶かし、撹拌
機、冷却器及び滴下漏斗を備えた1Lの三つ口フラスコ
に加え、撹拌しながらオイルバスで加熱して沸騰させ
た。次に、これにテトラメチレンジイソシアネート10
9.5部を350mlの酢酸エチルに溶解した溶液を滴
下漏斗より急速に加えて、酢酸エチル還流下、約77℃
近辺で約4時間反応を行なった結果、数平均分子量約
3,000の末端不飽和基含有ポリウレタン樹脂(g)
を得た。比較例2 ヒドロキシエチルアクリレート34.8部、ヘキサメチ
レングリコール95.6部、トリメチロールプロパン1
3.4部及びジラウリン酸ジ−n−ブチル錫3部を酢酸
エチル500mlに溶かし、撹拌機、冷却器及び滴下漏
斗を備えた1Lの三つ口フラスコに加え、撹拌しながら
オイルバスで加熱して沸騰させた。次に、これにテトラ
メチレンジイソシアネート13.4部を350mlの酢
酸エチルに溶解した溶液を滴下漏斗より急速に加えて、
酢酸エチル還流下、約77℃近辺で約4時間反応を行な
った結果、数平均分子量約3,000の分岐状末端不飽
和基含有ポリウレタン樹脂(h)を得た。
レングリコール120.3部及びジラウリン酸ジ−n−
ブチル錫3部を酢酸エチル500mlに溶かし、撹拌
機、冷却器及び滴下漏斗を備えた1Lの三つ口フラスコ
に加え、撹拌しながらオイルバスで加熱して沸騰させ
た。次に、これにテトラメチレンジイソシアネート10
9.5部を350mlの酢酸エチルに溶解した溶液を滴
下漏斗より急速に加えて、酢酸エチル還流下、約77℃
近辺で約4時間反応を行なった結果、数平均分子量約
3,000の末端不飽和基含有ポリウレタン樹脂(g)
を得た。比較例2 ヒドロキシエチルアクリレート34.8部、ヘキサメチ
レングリコール95.6部、トリメチロールプロパン1
3.4部及びジラウリン酸ジ−n−ブチル錫3部を酢酸
エチル500mlに溶かし、撹拌機、冷却器及び滴下漏
斗を備えた1Lの三つ口フラスコに加え、撹拌しながら
オイルバスで加熱して沸騰させた。次に、これにテトラ
メチレンジイソシアネート13.4部を350mlの酢
酸エチルに溶解した溶液を滴下漏斗より急速に加えて、
酢酸エチル還流下、約77℃近辺で約4時間反応を行な
った結果、数平均分子量約3,000の分岐状末端不飽
和基含有ポリウレタン樹脂(h)を得た。
【0055】実施例1〜6及び比較例1〜2で得た不飽
和基含有ポリウレタン樹脂溶液100部に「IRGAC
URE651」(商品名、チバガイギー社製、2,2−
ジメトキシ−2−フェニルアセトフェノン)1.75部
を加えたものをミガキ軟鋼板に塗布し、80℃で20分
間乾燥させて溶剤を揮発させ、その後高圧水銀灯を用い
て紫外線照射を行なった時の硬化性とその硬化塗膜の付
着性を試験した。
和基含有ポリウレタン樹脂溶液100部に「IRGAC
URE651」(商品名、チバガイギー社製、2,2−
ジメトキシ−2−フェニルアセトフェノン)1.75部
を加えたものをミガキ軟鋼板に塗布し、80℃で20分
間乾燥させて溶剤を揮発させ、その後高圧水銀灯を用い
て紫外線照射を行なった時の硬化性とその硬化塗膜の付
着性を試験した。
【0056】また、実施例1〜6及び比較例1〜2で得
た不飽和基含有ポリウレタン樹脂溶液100部に「パー
ブチルO」(商品名、日本油脂社製、t−ブチルパーオ
キシ−2−エチルヘキサノエート)3部を加えたものを
ミガキ軟鋼板に塗布した後、20分間焼き付けた時の硬
化性とその硬化塗膜の付着性を試験した。
た不飽和基含有ポリウレタン樹脂溶液100部に「パー
ブチルO」(商品名、日本油脂社製、t−ブチルパーオ
キシ−2−エチルヘキサノエート)3部を加えたものを
ミガキ軟鋼板に塗布した後、20分間焼き付けた時の硬
化性とその硬化塗膜の付着性を試験した。
【0057】結果を表1に示す。
【0058】表1における試験方法は次のとうりであ
る。
る。
【0059】傷の付かない最低紫外線照射量:硬化塗膜
面を、キシロールをしみこませたガーゼで10回払拭し
た時に、塗膜面が全く変化しなかった最低紫外線照射量
をmj/cm2で表わす。数字の小さい方が良好な硬化
性を示す。
面を、キシロールをしみこませたガーゼで10回払拭し
た時に、塗膜面が全く変化しなかった最低紫外線照射量
をmj/cm2で表わす。数字の小さい方が良好な硬化
性を示す。
【0060】傷の付かない最低焼付温度:硬化塗膜面
を、キシロールをしみこませたガーゼで10回払拭した
時に、塗膜面が全く変化しなかった最低焼付温度を表わ
す。数字の小さい方が良好な硬化性を示す。
を、キシロールをしみこませたガーゼで10回払拭した
時に、塗膜面が全く変化しなかった最低焼付温度を表わ
す。数字の小さい方が良好な硬化性を示す。
【0061】付着性:JIS K−5400 8.5.
2(1990)に準じて塗膜に1mm×1mmのゴバン
目100個を作り、その表面に粘着セロハンテープを貼
着し、急激に剥した後の塗面に残ったゴバン目塗膜の数
を記録した。
2(1990)に準じて塗膜に1mm×1mmのゴバン
目100個を作り、その表面に粘着セロハンテープを貼
着し、急激に剥した後の塗面に残ったゴバン目塗膜の数
を記録した。
【0062】
【表1】
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 磯崎 理 神奈川県平塚市東八幡4丁目17番1号 関 西ペイント株式会社内
Claims (2)
- 【請求項1】 (A)下記一般式(I) 【化1】 (式中、R1は、水素原子、炭素数1〜6のアルキル
基、フッ素原子、炭素数1〜6のフルオロアルキル基、
アリル基、アリール基、アラルキル基、フリル基又はチ
ェニル基を示し、R2は炭素数1〜6の有機基を示し、
R3は水素原子又はメチル基を示す)で表わされるジヒ
ドロキシ官能基含有(メタ)アクリルモノマーと(B)
ポリイソシアネート化合物とを反応させることを特徴と
する不飽和基含有ポリウレタン樹脂の製造方法。 - 【請求項2】 請求項1記載の方法によって得られる不
飽和基含有ポリウレタン樹脂を含有する硬化性樹脂組成
物。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP30518596A JPH10147626A (ja) | 1996-11-15 | 1996-11-15 | ポリウレタン樹脂の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP30518596A JPH10147626A (ja) | 1996-11-15 | 1996-11-15 | ポリウレタン樹脂の製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH10147626A true JPH10147626A (ja) | 1998-06-02 |
Family
ID=17942084
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP30518596A Pending JPH10147626A (ja) | 1996-11-15 | 1996-11-15 | ポリウレタン樹脂の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH10147626A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2001055084A1 (fr) * | 2000-01-27 | 2001-08-02 | Kanagawa University | Compose a base d'ester monocarboxylique insature, procede de production et composition a sechage sous l'effet de rayons actiniques |
CN108165151A (zh) * | 2017-12-25 | 2018-06-15 | 南京长江涂料有限公司 | 一种水性氟碳改性丙烯酸聚氨酯面漆及其制备方法 |
-
1996
- 1996-11-15 JP JP30518596A patent/JPH10147626A/ja active Pending
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2001055084A1 (fr) * | 2000-01-27 | 2001-08-02 | Kanagawa University | Compose a base d'ester monocarboxylique insature, procede de production et composition a sechage sous l'effet de rayons actiniques |
US7057063B2 (en) | 2000-01-27 | 2006-06-06 | Kanagawa University | Unsaturated carboxylic ester compound, process for producing the same, and composition curable with actinic energy ray |
US7238763B2 (en) | 2000-01-27 | 2007-07-03 | Kanagawa University And Taiyo Ink Manufacturing Co., Ltd. | Unsaturated monocarboxylic ester compounds |
CN108165151A (zh) * | 2017-12-25 | 2018-06-15 | 南京长江涂料有限公司 | 一种水性氟碳改性丙烯酸聚氨酯面漆及其制备方法 |
CN108165151B (zh) * | 2017-12-25 | 2020-04-14 | 南京长江涂料有限公司 | 一种水性氟碳改性丙烯酸聚氨酯面漆及其制备方法 |
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---|---|---|---|
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