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JPH10134575A - Semiconductor memory device - Google Patents

Semiconductor memory device

Info

Publication number
JPH10134575A
JPH10134575A JP9232758A JP23275897A JPH10134575A JP H10134575 A JPH10134575 A JP H10134575A JP 9232758 A JP9232758 A JP 9232758A JP 23275897 A JP23275897 A JP 23275897A JP H10134575 A JPH10134575 A JP H10134575A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
signal
input
data
output
level
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
JP9232758A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Ryuji Omachi
隆二 大町
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Electric Engineering Co Ltd
Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Engineering Co Ltd
Mitsubishi Electric Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Electric Engineering Co Ltd, Mitsubishi Electric Corp filed Critical Mitsubishi Electric Engineering Co Ltd
Priority to JP9232758A priority Critical patent/JPH10134575A/en
Publication of JPH10134575A publication Critical patent/JPH10134575A/en
Withdrawn legal-status Critical Current

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  • Memory System (AREA)
  • Dram (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a semiconductor memory device capable of suppressing the increase of a chip area owing to the increase of the number of memory blocks. SOLUTION: An internal control signal generating circuit 10 generates a 1st control signal A and a 2nd control signal B in accordance with input signals received from a /RAS pin, a /CAS1 pin and a /CAS2 pin. At the time of a reading operation, the read-out datum of a memory block #1 or #2 is outputted from an outer terminal DQ1 and the read-out datum of a memory block #3 or #4 is outputted from an outer terminal DQ2 in accordance with the 1st control signal A and the 2nd control signal B. On the other hand, at the time of a writing operation, the input datum from the outer terminal DQ1 is the written datum of the memory block #1 or #2 and the input datum from the outer terminal DQ2 is the written datum of the memory block #3 or #4 in accordance with the 1st control signal A and the 2nd control signal B.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体記憶装置に
関し、特に、共通のアドレス信号により同時に特定のメ
モリセルが選択され、かつ書込動作もしくは読出動作が
可能な複数のメモリブロックを有する半導体記憶装置に
関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor memory device, and more particularly to a semiconductor memory device having a plurality of memory blocks in which a specific memory cell is simultaneously selected by a common address signal and which can perform a write operation or a read operation. It concerns the device.

【0002】[0002]

【従来の技術】半導体記憶装置、特にダイナミック型ラ
ンダムアクセスメモリ(以下、DRAMと記す)におい
ては、その大容量化に伴い、消費電力が増大し、特定の
メモリセルへのアクセスが遅くなるといった問題が生じ
ている。
2. Description of the Related Art In a semiconductor memory device, in particular, a dynamic random access memory (hereinafter referred to as DRAM), the power consumption increases and the access to a specific memory cell becomes slow with the increase in capacity. Has occurred.

【0003】この問題を解決する手段として、複数の独
立したメモリブロックからなるメモリセルアレイを有す
るDRAMが開発され、既に製造されている。
As a means for solving this problem, a DRAM having a memory cell array composed of a plurality of independent memory blocks has been developed and already manufactured.

【0004】図17は、複数のメモリブロックからなる
従来のDRAM500の構成を示す概略ブロック図であ
る。
FIG. 17 is a schematic block diagram showing a configuration of a conventional DRAM 500 comprising a plurality of memory blocks.

【0005】図17において、DRAM500は、メモ
リセルアレイ50を備え、かつ、メモリセルアレイ50
は、4つのメモリブロック♯1〜♯4を含む。
Referring to FIG. 17, a DRAM 500 has a memory cell array 50 and a memory cell array 50.
Includes four memory blocks # 1 to # 4.

【0006】図18は、従来のDRAM500における
メモリブロックの構成を概略的に示す回路図である。
FIG. 18 is a circuit diagram schematically showing a configuration of a memory block in a conventional DRAM 500.

【0007】メモリブロック♯1は、複数の行および複
数の列からなるマトリクス状に配列された複数のメモリ
セルMCを含む。メモリセルMCは、行方向にワード線
で接続され、かつ列方向には、ビット線対BL、/BL
で接続される。それぞれのビット線対BL、/BLは、
それぞれに対応するセンスアンプ56と接続される。ま
た、ビット線対BL、/BLは、I/Oゲート57を介
して、データバスDB1と接続される。I/Oゲート5
7の制御は、コラム選択線CSLによって行なわれる。
Memory block # 1 includes a plurality of memory cells MC arranged in a matrix consisting of a plurality of rows and a plurality of columns. Memory cells MC are connected by word lines in the row direction and bit line pairs BL, / BL in the column direction.
Connected by Each bit line pair BL, / BL is
Each is connected to a corresponding sense amplifier 56. The bit line pair BL, / BL is connected to a data bus DB1 via an I / O gate 57. I / O gate 5
7 is controlled by the column selection line CSL.

【0008】メモリブロック♯2〜♯4は、図21にお
けるメモリブロック♯1の構成と同じであり、メモリブ
ロック♯2はデータバスDB2を介して、メモリブロッ
ク♯3はデータバスDB3を介して、メモリブロック♯
4はデータバスDB4を介して、外部とデータのやり取
りを行なう。
Memory blocks # 2 to # 4 have the same structure as memory block # 1 in FIG. 21, memory block # 2 is connected via data bus DB2, and memory block # 3 is connected via data bus DB3. Memory block♯
4 exchanges data with the outside via a data bus DB4.

【0009】図17を参照すると、DRAM500はさ
らに、内部制御信号発生回路51を含む。内部制御信号
発生回路51は、/RASピンから入力した*RAS信
号(ロウアドレスストローブ信号)を/RAS信号(内
部ロウアドレスストローブ信号)に変換し、/CASピ
ンから入力した*CAS信号(コラムアドレスストロー
ブ信号)を/CAS信号(内部コラムアドレスストロー
ブ信号)に変換し、/WEピンから入力した*WE信号
(ライトイネーブル信号)を/WE信号(内部ライトイ
ネーブル信号)に変換し、/OEピンから入力した*O
E信号(アウトプットイネーブル信号)を/OE信号
(内部アウトプットイネーブル信号)に変換する。そし
てさらに、これらの内部制御信号から後述するDRAM
500に含まれる内部回路を制御する内部制御信号/X
Eを発生する。
Referring to FIG. 17, DRAM 500 further includes an internal control signal generating circuit 51. The internal control signal generation circuit 51 converts the * RAS signal (row address strobe signal) input from the / RAS pin into a / RAS signal (internal row address strobe signal), and converts the * CAS signal (column address) input from the / CAS pin. The strobe signal is converted to a / CAS signal (internal column address strobe signal), the * WE signal (write enable signal) input from the / WE pin is converted to a / WE signal (internal write enable signal), and * O entered
The E signal (output enable signal) is converted into a / OE signal (internal output enable signal). Further, from these internal control signals, a DRAM described later is used.
Internal control signal / X for controlling an internal circuit included in H.500
E is generated.

【0010】DRAM500はさらに、アドレスバッフ
ァ52と、行デコーダ53と、列デコーダ54とを含
む。
The DRAM 500 further includes an address buffer 52, a row decoder 53, and a column decoder 54.

【0011】アドレスバッファ52は、/RAS信号に
基づき、アドレス端子a0 、…、a N から入力したアド
レス信号(A0 、…、AN )を 取込んで、内部行アド
レス信号(X0 、…、XN )を生成する。
The address buffer 52 receives the / RAS signal.
Address terminal a0, ..., a NAds entered from
Signal (A0, ..., AN) And internal line ad
Signal (X0, ..., XN).

【0012】行デコーダ53は、内部行アドレス信号
(X0 、…、XN )をデコードして、メモリブロック♯
1〜♯4のそれぞれのメモリブロックにおける対応する
ワード線WLを選択する。選択されたワード線WLの電
位が立上がると、各ワード線WLに接続されたメモリセ
ルMCに対応するセンスアンプ56が動作して、ビット
線BLおよび/BLに生じていた微小な電位差が増幅さ
れる。
A row decoder 53 decodes an internal row address signal (X 0 ,..., X N ) to generate a memory block #
The corresponding word line WL in each of the memory blocks 1 to # 4 is selected. When the potential of the selected word line WL rises, the sense amplifier 56 corresponding to the memory cell MC connected to each word line WL operates to amplify the minute potential difference generated on the bit lines BL and / BL. Is done.

【0013】さらにアドレスバッファ52は、/CAS
信号に基づき、アドレス端子a0 、…、aN から入力し
たアドレス信号(A0 、…、AN )を取込んで、内部列
アドレス信号(Y0 、…、YN )を生成する。
Further, the address buffer 52 has a / CAS
Based on the signal, address terminals a 0, ..., the address signal input from a N (A 0, ..., A N) is captures and internal column address signals (Y 0, ..., Y N ) for generating a.

【0014】列デコーダ54は、内部列アドレス信号
(Y0 、…、YN )をデコードして、メモリブロック♯
1〜♯4のそれぞれのメモリブロックにおける対応する
コラム選択線CSLを選択する。選択されたコラム選択
線CSLの電位が立上がると、ビット線対BL、/BL
がI/Oゲート57を介して、データバスDB1〜DB
4と接続される。
The column decoder 54 decodes the internal column address signals (Y 0 ,..., Y N ) and outputs
The corresponding column selection line CSL in each of the memory blocks 1 to # 4 is selected. When the potential of the selected column select line CSL rises, the bit line pair BL, / BL
Are connected to the data buses DB1 to DB via the I / O gate 57.
4 is connected.

【0015】この結果、書込動作時には、外部端子から
入力したデータが後述する入出力回路を介してデータバ
スDB1〜DB4へ伝達され、次いで対応のビット線B
Lおよび/BLへ伝達され、特定のメモリセルMCに書
込まれる。
As a result, during a write operation, data input from an external terminal is transmitted to data buses DB1 to DB4 via an input / output circuit described later, and then the corresponding bit line B
L and / BL and written to a specific memory cell MC.

【0016】読出動作時においては、ビット線BL、/
BLの電位がデータバスDB1〜DB4へ伝達され、次
いで後述する入出力回路へ伝達され、結果、外部端子に
出力される。
In a read operation, bit lines BL, /
The potential of BL is transmitted to data buses DB1 to DB4, and then to an input / output circuit described later, and as a result, is output to an external terminal.

【0017】DRAM500はさらに、メインアンプ6
0〜63と、データ出力バッファ回路70〜73と、デ
ータ入力バッファ回路80〜83とを含む。
The DRAM 500 further includes a main amplifier 6
0 to 63, data output buffer circuits 70 to 73, and data input buffer circuits 80 to 83.

【0018】メインアンプ60は、メモリブロック♯1
のデータバスDB1上の信号を増幅して出力する。メイ
ンアンプ61は、メモリブロック♯2のデータバスDB
2上の信号を増幅して出力する。メインアンプ62は、
メモリブロック♯3のデータバスDB3上の信号を増幅
して出力する。メインアンプ63は、メモリブロック♯
4のデータバスDB4上の信号を増幅して出力する。
The main amplifier 60 has a memory block # 1
The signal on the data bus DB1 is amplified and output. Main amplifier 61 is connected to data bus DB of memory block # 2.
2 is amplified and output. The main amplifier 62
The signal on data bus DB3 of memory block # 3 is amplified and output. The main amplifier 63 is a memory block
4 on the data bus DB4.

【0019】データ出力バッファ回路70は、/OE信
号(アウトプットイネーブル信号)に基づき、入力した
メインアンプ60の出力信号から外部読出データを生成
して、外部端子DQ1に出力する。データ出力バッファ
回路71は、/OE信号に基づき、入力したメインアン
プ61の出力信号から外部読出データを生成して、外部
端子DQ2に出力する。データ出力バッファ回路72
は、/OE信号に基づき、入力したメインアンプ62の
出力信号から外部読出データを生成して、外部端子DQ
3に出力する。データ出力バッファ回路73は、/OE
信号に基づき、入力したメインアンプ63の出力信号か
ら外部読出データを生成して、外部端子DQ4に出力す
る。
The data output buffer circuit 70 generates external read data from the input output signal of the main amplifier 60 based on the / OE signal (output enable signal) and outputs it to the external terminal DQ1. Data output buffer circuit 71 generates external read data from the input output signal of main amplifier 61 based on the / OE signal, and outputs it to external terminal DQ2. Data output buffer circuit 72
Generates external read data from the input output signal of the main amplifier 62 based on the / OE signal, and outputs the external terminal DQ
Output to 3. The data output buffer circuit 73 has a / OE
Based on the signal, external read data is generated from the input output signal of the main amplifier 63 and output to the external terminal DQ4.

【0020】データ入力バッファ回路80は、/WE信
号(ライトイネーブル信号)に基づき、外部端子DQ1
から入力した外部書込データを受けて、メモリブロック
♯1の特定のメモリセルMCに書込む内部書込データを
生成し、データバスDB1に伝達する。データ入力バッ
ファ回路81は、/WE信号に基づき、外部端子DQ2
から入力した外部書込データを受けて、メモリブロック
♯2の特定のメモリセルMCに書込む内部書込データを
生成し、データバスDB2に伝達する。データ入力バッ
ファ回路82は、/WE信号に基づき、外部端子DQ3
から入力した外部書込データを受けて、メモリブロック
♯3の特定のメモリセルMCに書込む内部書込データを
生成し、データバスDB3に伝達する。データ入力バッ
ファ回路83は、/WE信号に基づき、外部端子DQ4
から入力した外部書込データを受けて、メモリブロック
♯4の特定のメモリセルMCに書込む内部書込データを
生成し、データバスDB4に伝達する。
The data input buffer circuit 80 has an external terminal DQ1 based on a / WE signal (write enable signal).
, Generates internal write data to be written to a specific memory cell MC of memory block # 1, and transmits the data to data bus DB1. The data input buffer circuit 81 is connected to an external terminal DQ2 based on the / WE signal.
, Generates internal write data to be written into a specific memory cell MC of memory block # 2, and transmits the generated data to data bus DB2. The data input buffer circuit 82 controls the external terminal DQ3 based on the / WE signal.
, Generates internal write data to be written into a specific memory cell MC of memory block # 3, and transmits the data to data bus DB3. The data input buffer circuit 83 is connected to an external terminal DQ4 based on the / WE signal.
, Generates internal write data to be written into a specific memory cell MC of memory block # 4, and transmits the data to data bus DB4.

【0021】以下、DRAM500における読出動作お
よび書込動作のタイミングについて説明する。図19
は、4つのメモリブロックを有する従来のDRAM50
0における読出動作および書込動作のタイミングチャー
ト図である。図19において、RAは、内部行アドレス
信号を示し、CAは内部列アドレス信号を示す。
The timing of the read operation and write operation in DRAM 500 will be described below. FIG.
Is a conventional DRAM 50 having four memory blocks.
FIG. 11 is a timing chart of a read operation and a write operation at 0. In FIG. 19, RA indicates an internal row address signal, and CA indicates an internal column address signal.

【0022】時刻t0において、/RAS信号がLレベ
ルに立下がると、アドレスバッファ52は外部からアド
レス信号(A0 、…、AN )を取込んで、内部行アドレ
ス信号(X0 、…、XN )を生成する。これを受ける行
デコーダ53によって、メモリブロック♯1〜♯4のそ
れぞれのメモリブロックにおける対応するワード線WL
が活性化される。
At time t0, when the / RAS signal falls to the L level, address buffer 52 takes in address signals (A 0 ,..., A N ) from the outside, and outputs internal row address signals (X 0 ,. X N ). The corresponding word line WL in each of memory blocks # 1 to # 4 is received by row decoder 53 receiving the signal.
Is activated.

【0023】時刻t1において、/CAS信号がLレベ
ルに立下がると、アドレスバッファ52は外部からアド
レス信号(A0 、…、AN )を取込んで、内部列アドレ
ス信号(Y0 、…、YN )を生成する。これを受ける列
デコーダ54によつて、メモリブロック♯1〜♯4のそ
れぞれのメモリブロックにおける対応するコラム選択線
CSLが活性化され、データバスDB1〜DB4とビッ
ト線対BL、/BLが接続される。
At time t1, when the / CAS signal falls to the L level, address buffer 52 takes in address signals (A 0 ,..., A N ) from the outside, and outputs internal column address signals (Y 0 ,. Y N ). Column decoder 54 receiving this activates the corresponding column select line CSL in each of memory blocks # 1 to # 4, and connects data buses DB1 to DB4 to bit line pair BL and / BL. You.

【0024】同じく時刻t0において、/OE信号がL
レベルに立下がると、読出動作が開始される。
Similarly, at time t0, the / OE signal becomes L
When the level falls, the read operation starts.

【0025】この結果、データバスDB1〜DB4上の
それぞれの信号がメインアンプ60〜63で増幅された
後に、データ出力バッファ回路70〜73で外部読出デ
ータO1、O2、O3、O4に変換されて、外部端子D
Q1〜DQ4から出力される。
As a result, after the signals on the data buses DB1 to DB4 are amplified by the main amplifiers 60 to 63, they are converted into external read data O1, O2, O3 and O4 by the data output buffer circuits 70 to 73. , External terminal D
Output from Q1 to DQ4.

【0026】時刻t2において、/OE信号がHレベル
に立上がると、読出動作は終了する。また、時刻t2に
おいて、/RAS信号および/CAS信号がHレベルに
立上がると、メモリブロック♯1〜♯4は非動作状態と
なる。
At time t2, when the / OE signal rises to the H level, the read operation ends. At time t2, when the / RAS signal and / CAS signal rise to H level, memory blocks # 1 to # 4 enter a non-operating state.

【0027】時刻t3〜t4の期間においては、時刻t
0〜t1の期間と同じく、/RAS信号および/CAS
信号がLレベルに立下がることにより、メモリブロック
♯1〜♯4のそれぞれのメモリブロックにおける特定の
ワード線WLが活性化されるとともにデータバスDB1
〜DB4とメモリブロック♯1〜♯4のそれぞれのメモ
リブロックにおける特定のビット線対BL、/BLが接
続される。
During the period from time t3 to t4, time t
As in the period from 0 to t1, the / RAS signal and / CAS
When the signal falls to L level, a specific word line WL in each of memory blocks # 1 to # 4 is activated and data bus DB1 is activated.
To DB4 and a specific bit line pair BL, / BL in each of memory blocks # 1 to # 4.

【0028】時刻t4において、/WE信号がLレベル
に立下がると書込動作が開始される。
At time t4, when the / WE signal falls to L level, the writing operation is started.

【0029】この結果、外部端子DQ1〜DQ4のそれ
ぞれの端子から入力された外部書込データW1、W2、
W3、W4が、データ入力バッファ回路80〜83で内
部書込データに変換された後に、データバスDB1〜D
B4へ伝達され、メモリブロック♯1〜♯4の特定のメ
モリセルMCに書込まれる。
As a result, the external write data W1, W2, inputted from the respective terminals of the external terminals DQ1 to DQ4,
After W3 and W4 are converted into internal write data by data input buffer circuits 80 to 83, data buses DB1 to DB
B4 to be written to specific memory cells MC of memory blocks # 1 to # 4.

【0030】[0030]

【発明が解決しようとする課題】前記に示したように、
従来の半導体記憶装置は、記憶容量の増大に伴う前記問
題の解決策として、メモリセルアレイを複数のブロック
に分割して動作させる構成をとる。
SUMMARY OF THE INVENTION As indicated above,
A conventional semiconductor memory device has a configuration in which a memory cell array is divided into a plurality of blocks and operated as a solution to the above-mentioned problem accompanying an increase in storage capacity.

【0031】しかし、以上のような構成では、分割した
メモリブロックの数だけ入出力ピンを用意して、さらに
各入出力ピンに対応する入出力にかかわる内部回路(た
とえば、メインアンプ、データ入力バッファ回路、デー
タ入力バッファ回路)をチップ内部に設置しなければな
らない。この結果、メモリブロックの数に応じた回路設
計が必要となり、メモリブロックの増加に伴い、チップ
面積が増大してしまうという問題が生じる。
However, in the above configuration, input / output pins are prepared by the number of divided memory blocks, and internal circuits (for example, a main amplifier and a data input buffer) related to input / output corresponding to each input / output pin are provided. Circuit, data input buffer circuit) must be installed inside the chip. As a result, a circuit design corresponding to the number of memory blocks is required, and there is a problem that the chip area increases as the number of memory blocks increases.

【0032】また、将来技術の動向として、さらにメモ
リセルアレイの大容量化が進み、1チップに含まれるメ
モリブロック数が増加する傾向にある。したがって、チ
ップの面積の増大は避けられない問題となっている。
Further, as a future technology trend, the capacity of the memory cell array is further increased, and the number of memory blocks included in one chip tends to increase. Therefore, an increase in chip area is an unavoidable problem.

【0033】それゆえ、本発明の目的は、上記に示す問
題を解決するためになされたものであり、メモリブロッ
ク数の増加によるチップ面積の増大を伴うことなく、複
数のメモリブロックを動作することができる半導体記憶
装置を提供することである。
SUMMARY OF THE INVENTION Therefore, an object of the present invention is to solve the above-mentioned problem, and it is an object of the present invention to operate a plurality of memory blocks without increasing a chip area due to an increase in the number of memory blocks. It is to provide a semiconductor memory device that can be used.

【0034】[0034]

【課題を解決するための手段】請求項1に係る半導体記
憶装置は、共通のアドレス信号により、同時に特定のメ
モリセルが選択される複数のメモリブロックからなる半
導体記憶装置であって、第1の外部端子からの第1の入
力信号と、第2の外部端子からの第2の入力信号と、第
3の外部端子からの第3の入力信号とを受けて、制御信
号を生成する信号発生手段と、2つのメモリブロックご
とにグループを構成するように複数のメモリブロックを
分割し、制御信号に従って、選択的にそれぞれのグルー
プに属するいずれかのメモリブロックからの読出データ
を外部に出力する、複数のグループ単位の出力制御手段
と、外部からの入力データを制御信号に従って、選択的
にそれぞれのグループに属するいずれかのメモリブロッ
クの書込データとする、複数のグループ単位の入力制御
手段とを備え、出力制御手段の外部へのデータの出力
と、入力制御手段の外部からのデータの入力とをグルー
プ単位で共通する1つのデータ入出力端子で行なう。
According to a first aspect of the present invention, there is provided a semiconductor memory device including a plurality of memory blocks in which specific memory cells are simultaneously selected by a common address signal. Signal generation means for receiving a first input signal from an external terminal, a second input signal from a second external terminal, and a third input signal from a third external terminal to generate a control signal A plurality of memory blocks divided into a group for each two memory blocks, and selectively outputting read data from one of the memory blocks belonging to each group to the outside in accordance with a control signal; Output control means for each group, and write data of one of the memory blocks belonging to each group selectively according to a control signal. A plurality of group-based input control means, and one data input / output terminal common to the group of output of data to the outside of the output control means and input of data from the outside of the input control means. Do.

【0035】請求項2に係る半導体記憶装置は、請求項
1に係る半導体記憶装置であって、制御信号が、第1の
制御信号と第2の制御信号とであり、出力制御手段の各
々が、第1の制御信号に応じて、グループに属する第1
のメモリブロックからの読出データをデータ入出力外部
端子から出力する手段と、第2の制御信号に応じて、グ
ループに属する第2のメモリブロックからの読出データ
をデータ入出力外部端子から出力する手段とを備え、入
力制御手段の各々が、データ入出力外部端子から入力し
たデータを、第1の制御信号に応じて第1のメモリブロ
ックに伝達する手段と、データ入出力外部端子から入力
したデータを、第2の制御信号に応じて、第2のメモリ
ブロックに伝達する手段とを備える。
A semiconductor memory device according to a second aspect is the semiconductor memory device according to the first aspect, wherein the control signals are a first control signal and a second control signal, and each of the output control means is , The first group belonging to the group according to the first control signal.
Means for outputting read data from a memory block of the group from a data input / output external terminal, and means for outputting data read from a second memory block belonging to a group from a data input / output external terminal in response to a second control signal Wherein each of the input control means transmits data input from the data input / output external terminal to the first memory block in accordance with a first control signal; and data input from the data input / output external terminal. To the second memory block in response to a second control signal.

【0036】請求項3に係る半導体記憶装置は、請求項
1に係る半導体記憶装置であって、第1の入力信号が/
RAS信号であり、第2の入力信号が第1の/CAS信
号であり、第3の入力信号が第2の/CAS信号であ
る。
According to a third aspect of the present invention, there is provided the semiconductor memory device according to the first aspect, wherein the first input signal is /
RAS signal, the second input signal is the first / CAS signal, and the third input signal is the second / CAS signal.

【0037】請求項4に係る半導体記憶装置は、共通の
アドレス信号により、同時に特定のメモリセルが選択さ
れる複数のメモリブロックからなる半導体記憶装置であ
って、第1の外部端子からの第1の入力信号と、第2の
外部端子からの第2の入力信号とを受けて、制御信号を
生成する信号生成手段と、2つのメモリブロックごとに
グループを構成するように複数のメモリブロックを分割
し、制御信号に基づき、第3の外部端子からの第3の入
力信号と第4の外部端子からの第4の入力信号とに応じ
て、選択的にそれぞれのグループに属するいずれかのメ
モリブロックからの読出データを外部に出力する、複数
のグループ単位の出力制御手段と、外部からの入力デー
タを制御信号と第4の入力信号とに応じて、選択的にそ
れぞれのグループに属するいずれかのメモリブロックの
書込データとする、複数のグループ単位の入力制御手段
とを備え、出力制御手段の外部へのデータの出力と、入
力制御手段の外部からのデータの入力とをグループ単位
で共通する1つのデータ入出力端子で行なう。
A semiconductor memory device according to a fourth aspect is a semiconductor memory device comprising a plurality of memory blocks in which a specific memory cell is selected at the same time by a common address signal, wherein a first external terminal receives a first external terminal. Signal generating means for generating a control signal in response to an input signal from the second external terminal and a second input signal from a second external terminal, and dividing the plurality of memory blocks into groups for each of the two memory blocks Then, based on the control signal, one of the memory blocks belonging to each of the groups selectively according to the third input signal from the third external terminal and the fourth input signal from the fourth external terminal. A plurality of group-based output control means for outputting readout data from the external device to the outside, and selectively inputting externally input data to each group according to a control signal and a fourth input signal A plurality of group-based input control means for writing data of any of the memory blocks to which the data control unit belongs, wherein data output to the outside of the output control means and data input to the outside of the input control means are grouped; This is performed by one data input / output terminal common to the units.

【0038】請求項5に係る半導体記憶装置は、請求項
4に係る半導体記憶装置であって、出力制御手段の各々
が、制御信号と第3の入力信号に応じて、グループに属
する第1のメモリブロックからの読出データをデータ入
出力外部端子から出力する手段と、制御信号と第4の入
力信号に応じて、グループに属する第2のメモリブロッ
クからの読出データをデータ入出力外部端子から出力す
る手段とを備え、入力制御手段の各々が、制御信号に応
じて、第4の入力信号が第1の論理レベルであれば、デ
ータ入出力外部端子から入力したデータを第1のメモリ
ブロックに伝達する手段と、制御信号に応じて、第4の
入力信号が第1の論理レベルと異なる第2の論理レベル
であれば、データ入出力外部端子から入力したデータを
第2のメモリブロックに伝達する手段とを備える。
According to a fifth aspect of the present invention, there is provided the semiconductor memory device according to the fourth aspect, wherein each of the output control means responds to the control signal and the third input signal so that each of the first and second input signals belongs to the first group. Means for outputting read data from a memory block from a data input / output external terminal; output of read data from a second memory block belonging to a group from a data input / output external terminal in response to a control signal and a fourth input signal Each of the input control means, when the fourth input signal is at the first logic level, in response to the control signal, stores the data input from the data input / output external terminal into the first memory block. Transmitting the data input from the data input / output external terminal to the second memory block if the fourth input signal is a second logical level different from the first logical level in accordance with the transmitting means and the control signal; And means for transmitting the click.

【0039】請求項6に係る半導体記憶装置は、請求項
4に係る半導体記憶装置であって、第1の入力信号が/
RAS信号であり、第2の入力信号が/CAS信号であ
り、第3の入力信号が第1の/OE信号であり、第4の
入力信号が第2の/OE信号である。
According to a sixth aspect of the present invention, there is provided the semiconductor memory device according to the fourth aspect, wherein the first input signal is /
The RAS signal, the second input signal is a / CAS signal, the third input signal is a first / OE signal, and the fourth input signal is a second / OE signal.

【0040】[0040]

【発明の実施の形態】BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION

[実施の形態1]図1は、本発明の実施の形態1におけ
る半導体記憶装置100の全体構成を示す概略ブロック
図であり、図17に示す従来例と共通する構成要素に
は、同一の参照番号および参照符号を付し、その説明を
省略する。
[First Embodiment] FIG. 1 is a schematic block diagram showing an entire configuration of a semiconductor memory device 100 according to a first embodiment of the present invention. Components in common with the conventional example shown in FIG. Numbers and reference numerals are assigned, and description thereof is omitted.

【0041】本発明の実施の形態1における半導体記憶
装置100が図17の従来例と異なる点は、以下のとお
りである。
The difference between the semiconductor memory device 100 according to the first embodiment of the present invention and the conventional example shown in FIG. 17 is as follows.

【0042】すなわち、*CAS信号を入力する端子が
1つであったのに対して、*CAS1信号および*CA
S2信号を入力する2つの端子を備えること、内部制御
信号発生回路51に代わって、*RAS信号および*C
AS1信号と*CAS2信号と*WE信号と*OE信号
とを入力に受ける内部制御信号発生回路10を備えるこ
と、データ出力バッファ回路70〜73に代わって、メ
モリブロック♯1および♯2に共通するデータ出力バッ
ファ回路20とメモリブロック♯3および♯4に共通す
るデータ出力バッファ回路21とを備えること、データ
入力バッファ回路80〜83に代わって、メモリブロッ
ク♯1および♯2に共通するデータ入力バッファ回路3
0とメモリブロック♯3および♯4に共通するデータ入
力バッファ回路31とを備えること、メインアンプ60
〜63に代わって、データバスDB1上の信号とデータ
バスDB2上の信号とを増幅するメインアンプ64とデ
ータバスDB3上の信号とデータバスDB4上の信号と
を増幅するメインアンプ65とを備えることにある。
That is, while there is one terminal for inputting the * CAS signal, the * CAS1 signal and the * CA
It has two terminals for inputting the S2 signal. Instead of the internal control signal generation circuit 51, the * RAS signal and the * C
An internal control signal generating circuit 10 receiving the AS1 signal, the * CAS2 signal, the * WE signal, and the * OE signal at its input is provided in common to the memory blocks # 1 and # 2 instead of the data output buffer circuits 70 to 73. Data output buffer circuit 20 and data output buffer circuit 21 common to memory blocks # 3 and # 4, and data input buffer circuit common to memory blocks # 1 and # 2 instead of data input buffer circuits 80-83 Circuit 3
0 and a data input buffer circuit 31 common to the memory blocks # 3 and # 4.
63, a main amplifier 64 for amplifying the signal on the data bus DB1 and the signal on the data bus DB2, and a main amplifier 65 for amplifying the signal on the data bus DB3 and the signal on the data bus DB4. It is in.

【0043】/CAS1ピンから入力する*CAS1信
号および/CAS2ピンから入力する*CAS2信号
は、内部制御信号発生回路10において、/CAS1信
号および/CAS2信号となる。この/CAS1信号お
よび/CAS2信号はともに従来の/CAS信号と同じ
機能を有する。したがって、/RAS信号がLレベルに
ある状態で、/CAS1信号もしくは/CAS2信号が
Lレベルに立下がると、アドレスバッファ52は、/C
AS1信号もしくは/CAS2信号のLレベルへの立下
がり時点で外部から受取ったアドレス信号に対して、内
部列アドレス信号を生成する。
The * CAS1 signal input from the / CAS1 pin and the * CAS2 signal input from the / CAS2 pin become the / CAS1 signal and the / CAS2 signal in the internal control signal generation circuit 10. Both the / CAS1 signal and the / CAS2 signal have the same function as the conventional / CAS signal. Therefore, when the / CAS1 signal or the / CAS2 signal falls to the L level while the / RAS signal is at the L level, the address buffer 52 stores the / C signal.
An internal column address signal is generated for an address signal received from the outside when the AS1 signal or the / CAS2 signal falls to the L level.

【0044】すなわち、/CAS1信号のLレベルの立
下がり時点で、メモリブロック♯1〜♯4のそれぞれの
メモリブロックに属する1つのメモリセルMCが選択さ
れるとともに、/CAS2信号のLレベルの立下がり時
点でも、メモリブロック♯1〜♯4のそれぞれのメモリ
ブロックに属する1つのメモリブロックMCが選択され
る。
That is, at the time when the / CAS1 signal falls to the L level, one memory cell MC belonging to each of memory blocks # 1 to # 4 is selected and the / CAS2 signal goes to the L level. Even at the time of falling, one memory block MC belonging to each of memory blocks # 1 to # 4 is selected.

【0045】図2は、本発明の実施の形態1における半
導体記憶装置100の読出動作および書込動作の関係を
示すタイミングチャート図である。図2において、RA
は内部行アドレス信号を示し、CA1,CA2,CA
3,CA4は内部列アドレス信号を示す。
FIG. 2 is a timing chart showing a relationship between a read operation and a write operation of semiconductor memory device 100 according to the first embodiment of the present invention. In FIG. 2, RA
Indicates an internal row address signal, CA1, CA2, CA
3, CA4 indicates an internal column address signal.

【0046】半導体記憶装置100は、メモリブロック
♯1〜♯4をメモリブロック♯1および♯2からなるグ
ループとメモリブロック♯3および♯4からなるグルー
プに分割し、各グループごとに共通した入力、出力回路
を設け、かつ、各グループの入力回路と出力回路とは共
通の外部端子を使用して、データの入出力を行なう。そ
して、各グループごとの書込動作および読出動作の制御
は、後述する/RAS信号および/CAS1信号および
/CAS2信号に基づく制御信号(第1の制御信号Aお
よび第2の制御信号B)が行なう。すなわち、半導体記
憶装置100は、制御信号に応じて、各グループ内にお
ける2つのメモリブロックのうちのいずれか1つのメモ
リブロックを選択して、書込動作もしくは読出動作を行
なう。
Semiconductor memory device 100 divides memory blocks # 1 to # 4 into a group including memory blocks # 1 and # 2 and a group including memory blocks # 3 and # 4. An output circuit is provided, and the input and output circuits of each group use a common external terminal to input and output data. The control of the write operation and the read operation for each group is performed by control signals (first control signal A and second control signal B) based on the / RAS signal, / CAS1 signal, and / CAS2 signal described later. . That is, semiconductor memory device 100 performs a write operation or a read operation by selecting one of two memory blocks in each group according to a control signal.

【0047】より具体的には、半導体記憶装置100
は、読出動作時(/OEがLレベルにある)において
は、以下の動作を行なう。Lレベルの/CAS1信号を
受けると、Hレベルの第1の制御信号Aを生成する。こ
の結果、外部端子DQ1から、メモリブロック♯1のア
ドレスZ1に位置するメモリセルMCの書込信号に相当
する電気信号O1を出力し、外部端子DQ2から、メモ
リブロック♯3のアドレスZ1に位置するメモリセルM
Cの書込信号に相当する電気信号O3を出力する。
More specifically, the semiconductor memory device 100
Performs the following operation during a read operation (/ OE is at L level). When receiving the / CAS1 signal at the L level, it generates the first control signal A at the H level. As a result, electric signal O1 corresponding to the write signal of memory cell MC located at address Z1 of memory block # 1 is output from external terminal DQ1, and external signal DQ2 is located at address Z1 of memory block # 3. Memory cell M
An electric signal O3 corresponding to the write signal of C is output.

【0048】一方、Lレベルの/CAS2信号を受ける
と、Hレベルの第2の制御信号Bを生成する。この結
果、外部端子DQ2から、メモリブロック♯2のアドレ
スZ2に位置するメモリセルMCの書込信号に相当する
電気信号O2を出力し、外部端子DQ2から、メモリブ
ロック♯4のアドレスZ2に位置するのメモリセルMC
の書込信号に相当する電気信号O4を出力する。
On the other hand, when receiving the / CAS2 signal at the L level, it generates the second control signal B at the H level. As a result, electric signal O2 corresponding to the write signal of memory cell MC located at address Z2 of memory block # 2 is output from external terminal DQ2, and external signal DQ2 is located at address Z2 of memory block # 4. Memory cell MC
And outputs an electric signal O4 corresponding to the write signal of.

【0049】また、半導体記憶装置100は、書込動作
時(/WE信号がLレベル)においては、以下の動作を
行なう。Lレベルの/CAS1信号を受けると、Hレベ
ルの第1の制御信号Aを生成する。この結果、外部端子
DQ1から受ける入力信号W1をメモリブロック♯1の
アドレスZ3に位置するメモリセルMCに書込み、外部
端子DQ2から受ける入力信号W3をメモリブロック♯
3のアドレスZ3に位置するメモリセルMCに書込む。
Semiconductor memory device 100 performs the following operation during a write operation (/ WE signal at L level). When receiving the / CAS1 signal at the L level, it generates the first control signal A at the H level. As a result, input signal W1 received from external terminal DQ1 is written to memory cell MC located at address Z3 of memory block # 1, and input signal W3 received from external terminal DQ2 is input to memory block # 1.
No. 3 is written to the memory cell MC located at the address Z3.

【0050】一方、Lレベルの/CAS2信号を受ける
と、Hレベルの第2の制御信号Bを生成する。この結
果、外部端子DQ1から受ける入力信号W2をメモリブ
ロック♯2のアドレスZ4に位置するメモリセルMCに
書込み、外部端子DQ2から受ける入力信号W4をメモ
リブロック♯4のアドレスZ4に位置するメモリセルM
Cに書込む。
On the other hand, when receiving the / CAS2 signal at the L level, it generates the second control signal B at the H level. As a result, input signal W2 received from external terminal DQ1 is written to memory cell MC located at address Z4 of memory block # 2, and input signal W4 received from external terminal DQ2 is written to memory cell M located at address Z4 of memory block # 4.
Write to C.

【0051】以下、半導体記憶装置100の構成および
動作を説明する。図3は、本発明の実施の形態1におけ
る内部制御信号発生回路10の要部の構成を概略的に示
す回路図である。
The configuration and operation of semiconductor memory device 100 will be described below. FIG. 3 is a circuit diagram schematically showing a configuration of a main part of internal control signal generation circuit 10 in the first embodiment of the present invention.

【0052】内部制御信号発生回路10は、NOR回路
NOR1とNOR2とを含む。NOR回路NOR1は、
内部制御信号発生回路10で発生する/RAS信号と/
CAS1信号とNOR回路NOR2の出力信号とを入力
に受けて、出力ノード1から第1の制御信号Aを出力す
る。NOR回路NOR2は、内部制御信号発生回路10
で発生する/RAS信号と/CAS2信号とNOR回路
NOR1の出力信号とを入力に受けて、出力ノード2か
ら第2の制御信号Bを出力する。
Internal control signal generating circuit 10 includes NOR circuits NOR1 and NOR2. The NOR circuit NOR1 is
/ RAS signal generated by internal control signal generation circuit 10 and /
A CAS1 signal and an output signal of the NOR circuit NOR2 are received at an input, and a first control signal A is output from an output node 1. The NOR circuit NOR2 includes an internal control signal generation circuit 10
Receives the / RAS signal, the / CAS2 signal, and the output signal of the NOR circuit NOR1, and outputs the second control signal B from the output node 2.

【0053】続いて、内部制御信号発生回路10の動作
について説明する。図4は、本発明の実施の形態1にお
ける内部制御信号発生回路10の入力、出力信号の関係
を示すタイミングチャート図である。
Next, the operation of the internal control signal generation circuit 10 will be described. FIG. 4 is a timing chart showing the relationship between input and output signals of internal control signal generation circuit 10 according to the first embodiment of the present invention.

【0054】時刻t0〜t1の期間、Hレベルの/CA
S1信号をその入力に受けるNOR回路NOR1は、出
力ノード2の信号の論理レベルにかかわらず、出力ノー
ド1にLレベルの信号を出力する。一方、Hレベルの/
CAS2信号をその入力に受けるNOR回路NOR2
は、出力ノード1の信号の論理レベルにかかわらず、出
力ノード2にLレベルの信号を出力する。
During the period from time t0 to t1, / CA of H level
NOR circuit NOR1 receiving the S1 signal at its input outputs an L-level signal to output node 1 regardless of the logic level of the signal at output node 2. On the other hand, H level /
NOR circuit NOR2 receiving CAS2 signal at its input
Outputs an L-level signal to output node 2 regardless of the logic level of the signal at output node 1.

【0055】時刻t1〜t2の期間、Hレベルの/CA
S2信号をその入力に受けるNOR回路NOR2は、出
力ノード2にLレベルの信号を出力する。一方、Lレベ
ルの/RAS信号とLレベルの/CAS1信号と出力ノ
ード2のLレベルの信号とをその入力に受けるNOR回
路NOR1は、出力ノード1にHレベルの信号を出力す
る。
During the period from time t1 to t2, / CA of H level
NOR circuit NOR2 receiving the S2 signal at its input outputs an L level signal to output node 2. On the other hand, NOR circuit NOR1 receiving L-level / RAS signal, L-level / CAS1 signal, and L-level signal at output node 2 at its inputs outputs an H-level signal to output node 1.

【0056】時刻t2〜t3の期間、Hレベルの/CA
S1信号をその入力に受けるNOR回路NOR1は、出
力ノード1にLレベルの信号を出力する。一方、Lレベ
ルの/RAS信号とLレベルの/CAS2信号と出力ノ
ード1のLレベルの信号とをその入力に受けるNOR回
路NOR2は、出力ノード2にHレベルの信号を出力す
る。
During the period from time t2 to time t3, / CA of H level
NOR circuit NOR1 receiving the S1 signal at its input outputs an L-level signal to output node 1. On the other hand, NOR circuit NOR2 which receives L-level / RAS signal, L-level / CAS2 signal, and L-level signal of output node 1 at its inputs outputs an H-level signal to output node 2.

【0057】なお、/RAS信号および/CAS1信号
および/CAS2信号のいずれもがHレベルである期間
(図3における時刻t0以前と時刻t3以降)では、出
力ノード1の信号および出力ノード2の信号はともにL
レベルとなる。
During the period in which all of the / RAS, / CAS1 and / CAS2 signals are at the H level (before time t0 and after time t3 in FIG. 3), the signal at output node 1 and the signal at output node 2 are output. Are both L
Level.

【0058】したがって、出力ノード1の信号、すなわ
ち第1の制御信号Aは、/RAS信号および/CAS1
信号がともにLレベルである場合には、Hレベルとな
り、/CAS1信号がHレベルである場合にはLレベル
となる。一方、出力ノード2の信号、すなわち第2の制
御信号Bは、/RAS信号および/CAS2信号がとも
にLレベルである場合にはHレベルとなり、/CAS2
信号がHレベルである場合にはLレベルとなる。
Therefore, the signal of output node 1, that is, first control signal A is applied to the / RAS signal and / CAS1
When both signals are at the L level, the signal goes to the H level. When the / CAS1 signal is at the H level, the signal goes to the L level. On the other hand, the signal at output node 2, that is, second control signal B, goes high when both the / RAS signal and the / CAS2 signal are at the L level, and / CAS2
When the signal is at H level, it becomes L level.

【0059】すなわち、半導体記憶装置100のメモリ
動作時において、/CAS1信号および/CAS2信号
の論理レベルの組合せにより、内部制御信号発生回路1
0は、2つの信号(第1の制御信号Aおよび第2の制御
信号B)を生成する。
That is, during the memory operation of semiconductor memory device 100, internal control signal generating circuit 1 is controlled by the combination of the logic levels of / CAS1 signal and / CAS2 signal.
0 generates two signals (a first control signal A and a second control signal B).

【0060】図5は、本発明の実施の形態1におけるデ
ータ出力バッファ回路20の構成を概略的に示す回路図
である。
FIG. 5 is a circuit diagram schematically showing a configuration of data output buffer circuit 20 according to the first embodiment of the present invention.

【0061】データ出力バッファ回路20は、インバー
タ回路IV1〜IV5と、NAND回路NA1,NA2
と、トランスファゲートT1,T2とを含む。
The data output buffer circuit 20 includes inverter circuits IV1 to IV5 and NAND circuits NA1 and NA2.
And transfer gates T1 and T2.

【0062】インバータ回路IV1は、/OE信号を入
力に受けて、これを反転した信号S1を出力する。
The inverter circuit IV1 receives the / OE signal at its input and outputs a signal S1 obtained by inverting the / OE signal.

【0063】NAND回路NA1は、信号S1と内部制
御信号発生回路10が出力する第1の制御信号Aとをそ
の入力に受けて、演算結果をノード3に出力する。
NAND circuit NA 1 receives signal S 1 and first control signal A output from internal control signal generation circuit 10 at its inputs, and outputs the operation result to node 3.

【0064】NAND回路NA2は、信号S1と内部制
御信号発生回路10が出力する第2の制御信号Bとをそ
の入力に受けて、演算結果をノード4に出力する。
NAND circuit NA2 receives signal S1 and second control signal B output from internal control signal generation circuit 10 at its inputs, and outputs the operation result to node 4.

【0065】インバータ回路IV2は、ノード3上の信
号を反転する。インバータ回路IV3は、ノード4上の
信号を反転する。
Inverter circuit IV2 inverts the signal on node 3. Inverter circuit IV3 inverts the signal on node 4.

【0066】トランスファゲートT1は、Pチャネル型
MOSトランジスタ(以下、PMOSと記す)PT1と
Nチャネル型MOSトランジスタ(以下、NMOSと記
す)NT1とを含む。
The transfer gate T1 includes a P-channel MOS transistor (hereinafter, referred to as PMOS) PT1 and an N-channel MOS transistor (hereinafter, referred to as NMOS) NT1.

【0067】PMOS PT1およびNMOS NT1
のそれぞれの一方の導通端子は、ノード5で接続され、
それぞれの他方の導通端子は、メモリブロック♯1のデ
ータバスDB1と接続される。そして、PMOS PT
1は、そのゲートにノード3上の信号を受け、NMOS
NT1は、そのゲートにインバータ回路IV2の出力
信号(ノード3上の信号を反転したもの)を受ける。
PMOS PT1 and NMOS NT1
Are connected at a node 5;
Each other conduction terminal is connected to data bus DB1 of memory block # 1. And PMOS PT
1 receives the signal on node 3 at its gate,
NT1 receives at its gate the output signal of inverter circuit IV2 (inverted signal on node 3).

【0068】トランスファゲートT2は、PMOS P
T2とNMOS NT2とを含む。PMOS PT2お
よびNMOS NT2のそれぞれの一方の導通端子は、
ノード5と接続され、それぞれの他方の導通端子は、メ
モリブロック♯2のデータバスDB2と接続される。そ
して、PMOS PT2は、そのゲートにノード4上の
信号を受け、NMOS NT2は、そのゲートにインバ
ータ回路IV3の出力信号(ノード4上の信号を反転し
たもの)を受ける。
The transfer gate T2 is a PMOS P
T2 and NMOS NT2. One conduction terminal of each of the PMOS PT2 and the NMOS NT2 is
Node 5 is connected to the other conductive terminal, and is connected to data bus DB2 of memory block # 2. The gate of the PMOS PT2 receives the signal on the node 4 and the gate of the NMOS NT2 receives the output signal of the inverter circuit IV3 (the inverted signal on the node 4) at its gate.

【0069】インバータ回路IV4は、ノード5と接続
され、トランスファゲートT1およびT2の出力を受け
て、これを反転増幅する。一方、インバータ回路IV5
は、インバータ回路IV4の出力を反転増幅して、外部
端子DQ1に出力する。
Inverter circuit IV4 is connected to node 5, receives the outputs of transfer gates T1 and T2, and inverts and amplifies them. On the other hand, the inverter circuit IV5
Inverts and amplifies the output of the inverter circuit IV4 and outputs the result to the external terminal DQ1.

【0070】データ出力バッファ回路21は、データ出
力バッファ回路20と構成は同じであり、データバスD
B1に代わってデータバスDB3を入力線とし、データ
バスDB2に代わってデータバスDB4を入力線とし、
外部端子DQ1に代わって外部端子DQ2を出力端子と
する。
Data output buffer circuit 21 has the same structure as data output buffer circuit 20 and has a data bus D
A data bus DB3 is used as an input line instead of B1, and a data bus DB4 is used as an input line instead of the data bus DB2,
The external terminal DQ2 is used as an output terminal instead of the external terminal DQ1.

【0071】図6は、本発明の実施の形態1におけるデ
ータ出力バッファ回路20における入力および出力信号
の関係を示すタイミングチャート図である。
FIG. 6 is a timing chart showing the relationship between input and output signals in data output buffer circuit 20 according to the first embodiment of the present invention.

【0072】図3で既に説明したように、内部制御信号
発生回路10は、*RAS信号と*CAS1信号と*C
AS2信号とを受けて、図6に示す第1の制御信号Aお
よび第2の制御信号Bを生成する。
As already described with reference to FIG. 3, internal control signal generating circuit 10 includes * RAS signal, * CAS1 signal, and * C signal.
In response to the AS2 signal, a first control signal A and a second control signal B shown in FIG. 6 are generated.

【0073】時刻t0において、/RAS信号がLレベ
ルに立下がり、続く時刻t1において、/CAS1信号
がLレベルに立下がると、メモリブロック♯1〜♯4の
それぞれのメモリブロックにおける特定のメモリセルM
Cが選択される。そして、時刻t1において、/OE信
号がLレベルに立下がるので、この特定のメモリセルM
CからデータバスDB1〜DB4を介して、データの読
出動作が行なわれる。
At time t0, the / RAS signal falls to the L level, and at the next time t1, when the / CAS1 signal falls to the L level, a specific memory cell in each of memory blocks # 1 to # 4 M
C is selected. At time t1, the / OE signal falls to L level, so that this particular memory cell M
A data read operation is performed from C through data buses DB1 to DB4.

【0074】時刻t2において、/CAS1信号がHレ
ベルに立上がると、これらの特定のメモリセルMCが非
選択の状態となる。そして、新たに/CAS2信号がL
レベルに立下がると、メモリブロック♯1〜♯4のそれ
ぞれのメモリブロックの特定のメモリセルMCが選択さ
れ、データバスDB1〜DB4を介して、データの読出
動作が行なわれる。
At time t2, when the / CAS1 signal rises to H level, these specific memory cells MC are in a non-selected state. Then, a new / CAS2 signal becomes L
When the level falls, a specific memory cell MC in each of memory blocks # 1 to # 4 is selected, and a data read operation is performed via data buses DB1 to DB4.

【0075】なお、/OE信号がLレベルである期間
(図6における時刻t1〜t3)、図5におけるインバ
ータ回路IV1の出力する信号S1はHレベルである。
During the period when the / OE signal is at L level (time t1 to t3 in FIG. 6), signal S1 output from inverter circuit IV1 in FIG. 5 is at H level.

【0076】時刻t1〜t2の期間においては、Hレベ
ルの信号S1とHレベルの第1の制御信号Aとをその入
力に受けるNAND回路NA1は、ノード3上にLレベ
ルの信号を出力する。トランスファゲートT1はPMO
S PT1のゲートにノード3上のLレベルの信号を受
け、かつNMOS NT1のゲートにノード3上の信号
をインバータ回路IV2で反転したHレベルの信号を受
ける。この結果、トランスファゲートT1は、導通状態
となる。
In the period between times t1 and t2, NAND circuit NA1 receiving H-level signal S1 and H-level first control signal A at its inputs outputs an L-level signal on node 3. Transfer gate T1 is PMO
The gate of SPT1 receives the L-level signal on node 3, and the gate of NMOS NT1 receives the H-level signal obtained by inverting the signal on node 3 by inverter circuit IV2. As a result, the transfer gate T1 becomes conductive.

【0077】一方、Hレベルの信号S1とLレベルの第
2の制御信号Bとをその入力に受けるNAND回路NA
2は、ノード4にHレベルの信号を出力する。トランス
ファゲートT2は、PMOS PT2のゲートにノード
4上のHレベルの信号を受け、かつNMOS NT2の
ゲートにノード4上の信号をインバータ回路IV3で反
転したLレベルの信号を受ける。この結果、トランスフ
ァゲートT2は、非導通状態となる。
On the other hand, NAND circuit NA receiving H-level signal S1 and L-level second control signal B at its inputs
2 outputs an H level signal to the node 4. The transfer gate T2 receives the H-level signal on the node 4 at the gate of the PMOS PT2, and receives the L-level signal obtained by inverting the signal on the node 4 by the inverter circuit IV3 at the gate of the NMOS NT2. As a result, the transfer gate T2 is turned off.

【0078】したがって、第1の制御信号AがHレベル
であるならトランスファゲートT1を介して、メモリブ
ロック♯1のデータバスDB1上の信号に対応する電気
信号が、外部端子DQ1から出力される。
Therefore, if first control signal A is at the H level, an electric signal corresponding to the signal on data bus DB1 of memory block # 1 is output from external terminal DQ1 via transfer gate T1.

【0079】時刻t2〜t3の期間においては、Hレベ
ルの信号S1とHレベルの第2の制御信号Bとをその入
力に受けるNAND回路NA2は、ノード4にLレベル
の信号を出力する。トランスファゲートT2は、PMO
S PT2のゲートにノード4上のLレベルの信号受
け、かつNMOS NT2のゲートにノード4上の信号
をインバータ回路IV3で反転したHレベルの信号を受
ける。この結果、トランスファゲートT2は、導通状態
となる。
In the period from time t2 to time t3, NAND circuit NA2 receiving H-level signal S1 and H-level second control signal B at its inputs outputs an L-level signal to node 4. The transfer gate T2 is a PMO
The gate of SPT2 receives the L-level signal on node 4 and the gate of NMOS NT2 receives the H-level signal obtained by inverting the signal on node 4 by inverter circuit IV3. As a result, the transfer gate T2 becomes conductive.

【0080】一方、Hレベルの信号S1と、Lレベルの
第1の制御信号Aとをその入力に受けるNAND回路N
A1は、ノード3にHレベルの信号を出力する。トラン
スファゲートT1は、PMOS PT1のゲートにノー
ド3上のHレベルの信号を受け、かつNMOS NT1
のゲートにノード3上の信号をインバータ回路IV2で
反転したLレベルの信号を受ける。この結果、トランス
ファゲートT1は、非導通状態となる。
On the other hand, NAND circuit N receiving at its inputs H-level signal S1 and L-level first control signal A
A1 outputs an H-level signal to the node 3. The transfer gate T1 receives the signal of the H level on the node 3 at the gate of the PMOS PT1, and the NMOS NT1.
Receives an L-level signal obtained by inverting the signal on node 3 by inverter circuit IV2. As a result, the transfer gate T1 is turned off.

【0081】したがって、第2の制御信号がHレベルで
あるならトランスファゲートT2を介して、メモリブロ
ック♯2のデータバスDB2上の信号に対応する電気信
号が、外部端子DQ1から出力される。
Therefore, if the second control signal is at the H level, an electric signal corresponding to the signal on data bus DB2 of memory block # 2 is output from external terminal DQ1 via transfer gate T2.

【0082】なお、/OE信号がHレベルの期間、すな
わち非読出動作時(図6における時刻t1以前および時
刻t3以降)には、インバータ回路IV1の出力する信
号S1はLレベルであるから、これを受けるNAND回
路NA1は、ノード3にHレベルの信号を出力し、かつ
NAND回路NA2はノード4にHレベルの信号を出力
する。この結果、トランスファゲートT1およびT2
は、ともに非導通状態となる。したがって、データバス
DB1およびデータバスDB2は、外部端子DQ1と電
気的に非接続状態となる。
Since the signal S1 output from inverter circuit IV1 is at the L level during the period when the / OE signal is at the H level, that is, during the non-read operation (before time t1 and after time t3 in FIG. 6), Receiving NAND circuit NA1 outputs an H-level signal to node 3, and NAND circuit NA2 outputs an H-level signal to node 4. As a result, transfer gates T1 and T2
Become non-conductive. Therefore, data bus DB1 and data bus DB2 are electrically disconnected from external terminal DQ1.

【0083】ところで、メモリブロック♯3のデータバ
スDB3とメモリブロック♯4のデータバスDB4とを
入力線とし、外部端子DQ2を出力端子とするデータ出
力バッファ回路21は、データ出力バッファ回路20と
基本的に同じ動作を行なう。
The data output buffer circuit 21 having the data bus DB3 of the memory block # 3 and the data bus DB4 of the memory block # 4 as input lines and having the external terminal DQ2 as an output terminal is composed of the data output buffer circuit 20 and the basic circuit. The same operation is performed.

【0084】すなわち、半導体記憶装置100は、/O
E信号がLレベルとなり、読出動作になると、/RAS
信号と/CAS1信号と/CAS2信号とに基づく第1
の制御信号Aおよび第2の制御信号Bの制御を受けて、
外部端子DQ1からは、選択的にメモリブロック♯1も
しくはメモリブロック♯2の特定のメモリセルMCのデ
ータを出力し、外部端子DQ2からは、選択的にメモリ
ブロック♯3もしくはメモリブロック♯4の特定のメモ
リセルMCのデータを出力する。
That is, the semiconductor memory device 100 has the / O
When the E signal becomes L level and a read operation is performed, / RAS
The first signal based on the / CAS1 signal and the / CAS2 signal
Under the control of the control signal A and the second control signal B,
Data of a specific memory cell MC of memory block # 1 or memory block # 2 is selectively output from external terminal DQ1, and memory block # 3 or memory block # 4 is selectively selected from external terminal DQ2. Of the memory cell MC is output.

【0085】図7は、本発明の実施の形態1におけるデ
ータ入力バッファ回路30の構成を概略的に示す回路図
である。
FIG. 7 is a circuit diagram schematically showing a configuration of data input buffer circuit 30 according to the first embodiment of the present invention.

【0086】データ入力バッファ回路30は、インバー
タ回路IV6〜IV10と、NAND回路NA3,NA
4と、トランスファゲートT3,T4とを含む。
The data input buffer circuit 30 includes inverter circuits IV6 to IV10 and NAND circuits NA3 and NA3.
4 and transfer gates T3 and T4.

【0087】インバータ回路IV6は、クロックバッフ
ァ11から出力される/WE信号を入力に受けて、これ
を反転した信号S2を出力する。
The inverter circuit IV6 receives the / WE signal output from the clock buffer 11 at its input, and outputs a signal S2 obtained by inverting the / WE signal.

【0088】NAND回路NA3は、信号S2と内部制
御信号発生回路10が出力する第1の制御信号Aとをそ
の入力に受けて、演算結果をノード6に出力する。
NAND circuit NA 3 receives signal S 2 and first control signal A output from internal control signal generation circuit 10 at its inputs, and outputs the operation result to node 6.

【0089】NAND回路NA4は、信号S2と内部制
御信号発生回路10が出力する第2の制御信号Bとをそ
の入力に受けて、演算結果をノード7に出力する。
NAND circuit NA 4 receives signal S 2 and second control signal B output from internal control signal generation circuit 10 at its inputs, and outputs the operation result to node 7.

【0090】インバータ回路IV7は、外部端子DQ1
から受けた信号を反転増幅する。一方、インバータ回路
IV8は、この信号をさらに反転増幅して、ノード8に
出力する。
The inverter circuit IV7 has an external terminal DQ1
And inverts and amplifies the signal received from. On the other hand, inverter circuit IV8 further inverts and amplifies this signal and outputs it to node 8.

【0091】トランスファゲートT3は、PMOS P
T3とNMOS NT3とを含む。PMOS PT3お
よびNMOS NT3のそれぞれの一方の導通端子は、
メモリブロック♯1のデータバスDB1と接続され、そ
れぞれの他方の導通端子は、ノード8と接続される。そ
して、PMOS PT3は、そのゲートにノード6上の
信号を受け、NMOS NT3は、そのゲートにインバ
ータ回路IV9の出力信号(ノード6上の信号を反転し
たもの)を受ける。
The transfer gate T3 is a PMOS P
T3 and NMOS NT3. One conduction terminal of each of the PMOS PT3 and the NMOS NT3 is
Connected to data bus DB1 of memory block # 1, and the other conduction terminal of each is connected to node 8. PMOS PT3 receives the signal on node 6 at its gate, and NMOS NT3 receives the output signal of inverter circuit IV9 (inverted signal on node 6) at its gate.

【0092】トランスファゲートT4は、PMOS P
T4とNMOS NT4とを含む。PMOS PT4お
よびNMOS NT4のそれぞれの一方の導通端子は、
メモリブロック♯2のデータバスDB2と接続され、そ
れぞれの他方の導通端子は、ノード8と接続される。そ
して、PMOS PT4は、そのゲートにノード7上の
信号を受け、NMOS NT4は、そのゲートにインバ
ータ回路IV10の出力信号(ノード7上の信号を反転
したもの)を受ける。
The transfer gate T4 is a PMOS P
T4 and NMOS NT4. One conduction terminal of each of the PMOS PT4 and the NMOS NT4 is
Memory block # 2 is connected to data bus DB2, and the other conductive terminal is connected to node 8. PMOS PT4 receives at its gate the signal on node 7, and NMOS NT4 receives at its gate the output signal of inverter circuit IV10 (inverted signal on node 7).

【0093】データ入力バッファ回路31は、データ入
力バッファ回路30と構成は同じであり、外部端子DQ
1に代わって、外部端子DQ2を入力端子とし、データ
バスDB1に代わってデータバスはDB3を出力線と
し、データバスDB2に代わってデータバスDB4を出
力線とする。
Data input buffer circuit 31 has the same structure as data input buffer circuit 30 and has an external terminal DQ.
1, the external terminal DQ2 is used as an input terminal, the data bus DB1 is used as an output line instead of the data bus DB1, and the data bus DB4 is used as an output line instead of the data bus DB2.

【0094】図8は、本の実施の形態1におけるデータ
入力バッファ回路30における信号の入出力の関係を示
すタイミングチャート図である。
FIG. 8 is a timing chart showing a relationship between input and output of signals in data input buffer circuit 30 in the first embodiment.

【0095】図3で既に示したように、内部制御信号発
生回路10は、図8に示す第1の制御信号Aと第2の制
御信号Bとを生成する。
As already shown in FIG. 3, internal control signal generating circuit 10 generates first control signal A and second control signal B shown in FIG.

【0096】時刻t0において、/RAS信号がLレベ
ルに立下がり、続く時刻t1において、/CAS1信号
がLレベルに立下がると、メモリブロック♯1〜♯4の
特定のメモリセルMCが選択される。そして、時刻t1
において、/WE信号がLレベルに立下がると、この特
定のメモリセルMCへデータバスDB1〜DB4を介し
てデータの書込動作が行なわれる。
At time t0, / RAS signal falls to L level, and at subsequent time t1, / CAS1 signal falls to L level, specific memory cells MC of memory blocks # 1 to # 4 are selected. . And at time t1
In this case, when the / WE signal falls to the L level, a data write operation is performed on this specific memory cell MC via data buses DB1 to DB4.

【0097】時刻t2において、/CAS1信号がHレ
ベルに立上がると、これらの特定のメモリセルMCが非
選択状態となる。そして、新たに/CAS2信号がLレ
ベルに立下がると、メモリブロック♯1〜♯4のそれぞ
れのメモリブロックの特定のメモリセルMCが選択さ
れ、データバスDB1〜DB4を介してデータの書込動
作が行なわれる。
At time t2, when the / CAS1 signal rises to the H level, these specific memory cells MC are deselected. Then, when the / CAS2 signal newly falls to L level, a specific memory cell MC of each of memory blocks # 1 to # 4 is selected, and a data write operation is performed via data buses DB1 to DB4. Is performed.

【0098】なお、/WE信号がLレベルである期間
(図8における時刻t1〜t3)、図7におけるインバ
ータ回路IV6の出力する信号S2はHレベルである。
Note that during the period when the / WE signal is at the L level (time t1 to t3 in FIG. 8), the signal S2 output from the inverter circuit IV6 in FIG. 7 is at the H level.

【0099】時刻t1〜t2の期間において、Hレベル
の信号S2とHレベルの第1の制御信号Aとをその入力
におけるNAND回路NA3は、ノード6にLレベルの
信号を出力する。トランスファゲートT3は、PMOS
PT3のゲートにノード6上のLレベルの信号を受
け、かつNMOS NT3のゲートにノード6上の信号
をインバータ回路IV9て反転したHレベルの信号を受
ける。この結果、トランスファゲートT3は、導通状態
となる。一方、Hレベルの信号S2とLレベルの第2の
制御信号Bとをその入力に受けるNAND回路NA4
は、ノード7にHレベルの信号を出力する。トランスフ
ァゲートT4は、PMOS PT4のゲートにノード7
上のHレベルの信号を受け、かつNMOS NT4のゲ
ートにノード7上の信号をインバータ回路IV10で反
転したLレベルの信号を受ける。この結果、トランスフ
ァゲートT4は、非導通状態となる。
In the period from time t1 to time t2, NAND circuit NA3 which receives H-level signal S2 and H-level first control signal A at its input outputs an L-level signal to node 6. The transfer gate T3 is a PMOS
The gate of PT3 receives the L-level signal on node 6, and the gate of NMOS NT3 receives the H-level signal obtained by inverting the signal on node 6 by inverter circuit IV9. As a result, the transfer gate T3 becomes conductive. On the other hand, NAND circuit NA4 receiving at its inputs H-level signal S2 and L-level second control signal B
Outputs an H level signal to the node 7. Transfer gate T4 is connected to the gate of PMOS PT4 at node 7
The upper H level signal is received, and the L level signal obtained by inverting the signal on the node 7 by the inverter circuit IV10 is received at the gate of the NMOS NT4. As a result, the transfer gate T4 is turned off.

【0100】したがって、第1の制御信号Aに基づき、
トランスファゲートT3を介して、外部端子DQ1から
入力した信号に対応する電気信号がメモリブロック♯1
のデータバスDB1上に伝達される。
Therefore, based on the first control signal A,
An electric signal corresponding to a signal input from external terminal DQ1 via transfer gate T3 is applied to memory block # 1.
On the data bus DB1.

【0101】時刻t2〜t3の期間においては、Hレベ
ルの信号S2とHレベルの第2の制御信号Bとをその入
力に受けるNAND回路NA4は、ノード7にLレベル
の信号を出力する。トランスファゲートT4は、PMO
S PT4のゲートにノード7上のLレベルの信号を受
け、かつNMOS NT4のゲートにノード7上の信号
をインバータ回路IV10で反転したHレベルの信号を
受ける。この結果、トランスファゲートT4は、導通状
態となる。
In the period between times t2 and t3, NAND circuit NA4 receiving H-level signal S2 and H-level second control signal B at its inputs outputs an L-level signal to node 7. Transfer gate T4 is a PMO
The gate of SPT4 receives the L-level signal on node 7, and the gate of NMOS NT4 receives the H-level signal obtained by inverting the signal on node 7 by inverter circuit IV10. As a result, the transfer gate T4 becomes conductive.

【0102】一方、Hレベルの信号S2とLレベルの第
1の制御信号Aとをその入力に受けるNAND回路NA
3は、ノード6にHレベルの信号を出力する。トランス
ファゲートT3は、PMOS PT3のゲートにノード
6上のHレベルの信号を受け、かつNMOS NT3の
ゲートにノード6上の信号をインバータ回路IV9で反
転したLレベルの信号を受ける。この結果、トランスフ
ァゲートT3は、非導通状態となる。
On the other hand, NAND circuit NA receiving signal S2 at H level and first control signal A at L level at its inputs is provided.
3 outputs an H level signal to the node 6. The transfer gate T3 receives the H-level signal on the node 6 at the gate of the PMOS PT3, and receives the L-level signal obtained by inverting the signal on the node 6 by the inverter circuit IV9 at the gate of the NMOS NT3. As a result, the transfer gate T3 is turned off.

【0103】したがって、第2の制御信号Bに基づき、
トランスファゲートT4を介して、外部端子DQ1から
入力した信号に対応する電気信号がメモリブロック♯2
のデータバスDB2上に伝達される。
Therefore, based on the second control signal B,
The electric signal corresponding to the signal input from the external terminal DQ1 via the transfer gate T4 is stored in the memory block # 2.
On the data bus DB2.

【0104】なお、/WE信号がHレベルの期間、すな
わち非書込動作時(図8における時刻t1以前および時
刻t3以降)は、インバータ回路IV6が出力する信号
S2は、Lレベルであるから、これを受けるNAND回
路NA3はノード6にHレベルの信号を出力し、かつN
AND回路NA4は、ノード7にHレベルの信号を出力
する。この結果、トランスファゲートT3およびT4
は、ともに非導通状態となる。したがって、データバス
DB1とデータバスDB2とはともに外部端子TQ1と
電気的に非接続状態となる。
Since the signal S2 output from the inverter circuit IV6 is at the L level during the period when the / WE signal is at the H level, that is, during the non-write operation (before time t1 and after time t3 in FIG. 8), NAND circuit NA3 receiving this outputs an H level signal to node 6,
AND circuit NA4 outputs an H-level signal to node 7. As a result, transfer gates T3 and T4
Become non-conductive. Therefore, both data bus DB1 and data bus DB2 are electrically disconnected from external terminal TQ1.

【0105】ところで、メモリブロック♯3のデータバ
スDB3とメモリブロック♯4のデータバスDB4とを
出力線とし、外部端子DQ2を入力端子とするデータ入
力バッファ回路31は、データ入力バッファ回路30と
基本的に同じ動作を行なう。
Incidentally, the data input buffer circuit 31 having the data bus DB3 of the memory block # 3 and the data bus DB4 of the memory block # 4 as output lines and the external terminal DQ2 as an input terminal is the same as the data input buffer circuit 30 and the data input buffer circuit 30. The same operation is performed.

【0106】すなわち、半導体記憶装置100は、/W
E信号がLレベルとなり書込動作となると、/RAS信
号と/CAS1信号と/CAS2信号とに基づく第1の
制御信号Aおよび第2の制御信号Bの制御を受けて、外
部端子DQ1から受けたデータを、選択的に、メモリブ
ロック♯1もしくはメモリブロック♯2の特定のメモリ
セルMCに書込み、外部端子DQ2から受けたデータ
を、選択的に、メモリブロック♯3もしくはメモリブロ
ック♯4の特定のメモリセルMCに書込む。
That is, the semiconductor memory device 100 has the / W
When the E signal becomes L level and a write operation is performed, the first control signal A and the second control signal B are controlled based on the / RAS signal, the / CAS1 signal, and the / CAS2 signal, and are received from the external terminal DQ1. The selected data is selectively written to a specific memory cell MC of memory block # 1 or memory block # 2, and the data received from external terminal DQ2 is selectively specified for memory block # 3 or memory block # 4. Is written to the memory cell MC.

【0107】以上に示しように、半導体記憶装置100
は、メモリブロック♯1〜♯4を2つのグループに分割
し、グループ単位で入力回路および出力回路を共通化す
るとともに、各グループごとの入力回路と出力回路とが
1つの外部端子を共通して使用する。そして、外部から
入力した/RAS信号および/CAS1信号および/C
AS2信号に基づく制御信号によって、各グループ内の
2つのメモリブロックのうちのいずれか1つのメモリブ
ロックを選択して、書込動作もしくは読出動作を行なう
ことができる。
As described above, semiconductor memory device 100
Divides the memory blocks # 1 to # 4 into two groups, shares an input circuit and an output circuit in a group unit, and the input circuit and the output circuit of each group share one external terminal. use. The / RAS signal and / CAS1 signal and / C
With a control signal based on the AS2 signal, any one of the two memory blocks in each group can be selected to perform a write operation or a read operation.

【0108】なお、本発明の実施の形態1では、4つの
メモリブロックについて説明を行なったが、K個の入力
回路とK個の出力回路とK個の外部端子とを設けること
で、2K個のメモリブロックを有する半導体記憶装置に
おいても実現可能である。
In the first embodiment of the present invention, four memory blocks have been described. However, by providing K input circuits, K output circuits, and K external terminals, 2K blocks are provided. It can also be realized in a semiconductor memory device having the above memory block.

【0109】一方、/CAS信号を入力する外部端子を
増やし、4つの/CAS信号を使用することにより、制
御信号を4つ生成することで、4つのメモリブロックを
1つのグループとして1つの外部端子から4つのメモリ
ブロックの読出データのうちのいずれかの1つを選択的
に出力し、かつ1つの外部端子からの入力データを選択
的に4つのメモリブロックのうちのいずれかの1つに書
込むことも可能である。
On the other hand, the number of external terminals for inputting the / CAS signal is increased, and four control signals are generated by using four / CAS signals, thereby forming four memory blocks as one group and one external terminal. To selectively output any one of the read data of the four memory blocks, and selectively write the input data from one external terminal to any one of the four memory blocks. It is also possible to insert.

【0110】[実施の形態2]図9は、本発明の実施の
形態2における半導体記憶装置200の全体構成を示す
概略ブロック図であり、図17に示す従来例と共通する
構成要素には、同一の参照番号および参照符号を付し、
その説明を省略する。
[Second Embodiment] FIG. 9 is a schematic block diagram showing an overall configuration of a semiconductor memory device 200 according to a second embodiment of the present invention. Components in common with the conventional example shown in FIG. With the same reference numbers and reference signs,
The description is omitted.

【0111】本発明の実施の形態2における半導体記憶
装置200が、図17の従来例と異なる点は、以下のと
おりである。すなわち、*OE信号を入力する端子が1
つであったのに対して、*OE1信号および*OE2信
号を入力する2つの端子を備えること、内部制御信号発
生回路51に代わって、内部制御信号発生回路11を備
えること、データ出力バッファ回路70〜73に代わっ
て、データ出力バッファ回路22、23を備えること、
データ入力バッファ回路80〜83に代わって、データ
入力バッファ回路32、33を備えること、メインアン
プ60〜63に代わって、メインアンプ64,65を備
えることにある。
The difference between the semiconductor memory device 200 according to the second embodiment of the present invention and the conventional example shown in FIG. 17 is as follows. That is, the terminal for inputting the * OE signal is 1
However, two terminals for inputting the * OE1 signal and the * OE2 signal are provided, the internal control signal generation circuit 11 is provided instead of the internal control signal generation circuit 51, and the data output buffer circuit is provided. Including data output buffer circuits 22 and 23 instead of 70 to 73;
Data input buffer circuits 32 and 33 are provided in place of data input buffer circuits 80 to 83, and main amplifiers 64 and 65 are provided in place of main amplifiers 60 to 63.

【0112】/OE1ピンから入力する*OE1信号お
よび/OE2ピンから入力する*OE2信号は、内部制
御信号発生回路11において、/OE1信号および/O
E2信号となる。この/OE1信号および/OE2信号
はともに従来の/OE信号と同じ機能を有する。
The * OE1 signal input from the / OE1 pin and the * OE2 signal input from the / OE2 pin are supplied to the internal control signal generation circuit 11 by the / OE1 signal and the / OE signal.
It becomes the E2 signal. Both the / OE1 signal and the / OE2 signal have the same function as the conventional / OE signal.

【0113】図10は、本発明の実施の形態2における
半導体記憶装置200の書込動作および読出動作の関係
を示すタイミングチャート図である。図10において、
RAは内部行アドレス信号を示し、CAは内部列アドレ
ス信号を示す。
FIG. 10 is a timing chart showing a relationship between a write operation and a read operation of semiconductor memory device 200 according to the second embodiment of the present invention. In FIG.
RA indicates an internal row address signal, and CA indicates an internal column address signal.

【0114】半導体記憶装置200は、メモリブロック
♯1〜♯4をメモリブロック♯1および♯2のグループ
とメモリブロック♯3および♯4のグループとに分割
し、各グループごとに共通した入力回路および出力回路
を設け、かつ各グループの入力回路と出力回路とは共通
の外部端子を使用して、データの入出力を行なう。各グ
ループの入力,出力動作の制御は、後述する/RAS信
号および/CAS信号に基づく第3の制御信号Cが行な
う。すなわち、読出動作時には、この第3の制御信号C
に基づき、/OE1信号および/OE2信号に応じて、
各グループ内における2つのメモリブロックのうちのい
ずれか1つのメモリブロックを選択して読出動作を行な
い、書込動作時には、/OE2信号に応じて、各グルー
プ内における2つのメモリブロックのうちのいずれか1
つのメモリブロックを選択して書込動作を行なう。
Semiconductor memory device 200 divides memory blocks # 1 to # 4 into a group of memory blocks # 1 and # 2 and a group of memory blocks # 3 and # 4. An output circuit is provided, and the input and output circuits of each group use a common external terminal to input and output data. The input and output operations of each group are controlled by a third control signal C based on a / RAS signal and a / CAS signal described later. That is, during the read operation, the third control signal C
And according to the / OE1 and / OE2 signals,
Any one of the two memory blocks in each group is selected to perform a read operation, and at the time of a write operation, any one of the two memory blocks in each group is selected according to the / OE2 signal. Or 1
Write operation is performed by selecting one memory block.

【0115】より具体的には、半導体記憶装置200
は、読出動作時(/OE1もしくは/OE2がLレベル
にある)においては、以下の動作を行なう。/RAS信
号と/CAS信号とから生成される第3の制御信号Cを
用いて、Lレベルの/OE1信号を受けると、外部端子
DQ1からメモリブロック♯1のアドレスZ1に位置す
るメモリセルMCの書込信号に相当する電気信号O1を
出力し、外部端子DQ2から、メモリブロック♯3のア
ドレスZ1に位置するメモリセルMCの書込信号に相当
する電気信号O3を出力する。
More specifically, semiconductor memory device 200
Performs the following operation during a read operation (/ OE1 or / OE2 is at L level). When L level / OE1 signal is received using third control signal C generated from / RAS and / CAS signals, memory cell MC located at address Z1 of memory block # 1 is received from external terminal DQ1. An electric signal O1 corresponding to a write signal is output, and an electric signal O3 corresponding to a write signal of a memory cell MC located at address Z1 of memory block # 3 is output from external terminal DQ2.

【0116】一方、Lレベルの/OE2信号を受ける
と、外部端子DQ1から、メモリブロック♯2のアドレ
スZ1に位置するメモリセルMCの書込信号に相当する
電気信号O2を出力し、外部端子DQ2から、メモリブ
ロック♯4のアドレスZ1に位置するメモリセルMCの
書込信号に相当する電気信号O4を出力する。
On receiving L level / OE2 signal, external terminal DQ1 outputs electric signal O2 corresponding to the write signal of memory cell MC located at address Z1 of memory block # 2, and outputs external terminal DQ2 Outputs an electrical signal O4 corresponding to the write signal of the memory cell MC located at the address Z1 of the memory block # 4.

【0117】また、半導体記憶装置200は、書込動作
時(/WE信号がLレベルにある)においては、以下の
動作を行なう。/RAS信号と/CAS信号とから生成
される第3の制御信号Cを用いて、Hレベルの/OE2
信号を受けると、外部端子DQ1から受ける入力信号W
1をメモリブロック♯1のアドレスZ2に位置するメモ
リセルMCに書込み、外部端子DQ2から受ける入力信
号W3をメモリブロック♯3のアドレスZ2に位置する
メモリセルMCに書込む。
Semiconductor memory device 200 performs the following operation during a write operation (/ WE signal is at L level). Using a third control signal C generated from the / RAS signal and the / CAS signal, / OE2
When a signal is received, input signal W received from external terminal DQ1 is input.
1 is written to the memory cell MC located at the address Z2 of the memory block # 1, and the input signal W3 received from the external terminal DQ2 is written to the memory cell MC located at the address Z2 of the memory block # 3.

【0118】一方、Lレベルの/OE2信号を受ける
と、外部端子DQ1から受ける入力信号W2をメモリブ
ロック♯2のアドレスZ2に位置するメモリセルMCに
書込み、外部端子DQ2から受ける入力信号W4をメモ
リブロック♯4のアドレスZ2に位置するメモリセルM
Cに書込む。
On the other hand, when receiving the / OE2 signal at L level, input signal W2 received from external terminal DQ1 is written to memory cell MC located at address Z2 of memory block # 2, and input signal W4 received from external terminal DQ2 is stored in the memory. Memory cell M located at address Z2 of block # 4
Write to C.

【0119】以下、半導体記憶装置200の構成および
動作を説明する。図11は、本発明の実施の形態2にお
ける内部制御信号発生回路11の要部の構成を示す回路
図である。内部制御信号発生回路11は、NOR回路N
OR3を含む。NOR回路NOR3は、内部制御信号発
生回路11で発生する/RAS信号と/CAS信号とを
入力に受けて、第3の制御信号Cを出力する。続いて、
内部制御信号発生回路11の動作について説明する。
The configuration and operation of semiconductor memory device 200 will be described below. FIG. 11 is a circuit diagram showing a configuration of a main part of internal control signal generation circuit 11 according to the second embodiment of the present invention. The internal control signal generation circuit 11 includes a NOR circuit N
OR3. NOR circuit NOR3 receives a / RAS signal and a / CAS signal generated by internal control signal generation circuit 11 at its input, and outputs a third control signal C. continue,
The operation of the internal control signal generation circuit 11 will be described.

【0120】図12は、本発明の実施の形態1における
内部制御信号発生回路11における入出力信号の関係を
示すタイミングチャート図である。タイミングチャート
図である。時刻t1以前においては、Hレベルの/CA
S信号を入力に受けるNOR回路NOR3は、Lレベル
の信号を出力する。
FIG. 12 is a timing chart showing the relationship between input and output signals in internal control signal generation circuit 11 according to the first embodiment of the present invention. It is a timing chart figure. Before time t1, / CA at H level
NOR circuit NOR3 receiving the S signal at its input outputs an L level signal.

【0121】時刻t1〜t2の期間においては、Lレベ
ルの/RAS信号とLレベルの/CAS信号とを入力に
受けるNOR回路NOR3は、Hレベルの信号を出力す
る。
In a period from time t1 to time t2, NOR circuit NOR3 receiving L level / RAS signal and L level / CAS signal at its input outputs an H level signal.

【0122】時刻t2以降においては、Hレベルの/C
AS信号を入力に受けるNOR回路NOR3は、Lレベ
ルの信号を出力する。
After time t2, H level / C
NOR circuit NOR3 receiving the AS signal at its input outputs an L-level signal.

【0123】したがって、NOR回路NOR3の出力、
すなわち第3の制御信号Cは、/RAS信号および/C
AS信号がともにLレベルである場合にHレベルとな
り、/RAS信号もしくは/CAS信号がHレベルにな
るとLレベルとなる。
Therefore, the output of the NOR circuit NOR3,
That is, the third control signal C includes the / RAS signal and / C
When both AS signals are at L level, the signal goes high, and when the / RAS signal or / CAS signal goes high, the signal goes low.

【0124】すなわち、半導体記憶装置200のメモリ
動作時において、内部制御信号発生回路11は、Hレベ
ルの第3の制御信号Cを生成する。
That is, during the memory operation of semiconductor memory device 200, internal control signal generation circuit 11 generates third control signal C at H level.

【0125】図13は、本発明の実施の形態2における
データ出力バッファ回路22の構成を概略的に示す回路
図である。
FIG. 13 is a circuit diagram schematically showing a configuration of data output buffer circuit 22 according to the second embodiment of the present invention.

【0126】データ出力バッファ回路22は、AND回
路AN1と、インバータ回路IV11〜IV16と、N
AND回路NA5,NA6と、トランスファゲートT
5,T6とを含む。
The data output buffer circuit 22 includes an AND circuit AN1, inverter circuits IV11 to IV16, N
AND circuits NA5 and NA6 and transfer gate T
5, T6.

【0127】AND回路AN1は、/WE信号と内部制
御信号発生回路11で生成される第3の制御信号Cとを
入力に受けて、信号S3を出力する。
The AND circuit AN1 receives the / WE signal and the third control signal C generated by the internal control signal generating circuit 11, and outputs a signal S3.

【0128】NAND回路NA5は、信号S3と/OE
1信号をインバータ回路IV11で反転した信号と/O
E2信号とを入力に受け、演算結果をノード12に出力
する。
NAND circuit NA5 outputs signals S3 and / OE.
1 signal and the signal / O
The E2 signal is received at the input, and the operation result is output to the node 12.

【0129】NAND回路NA6は、信号S3と、/O
E1信号と、/OE2信号をインバータ回路IV12で
反転した信号とを入力に受け、演算結果をノード13に
出力する。
NAND circuit NA6 outputs signal S3 and / O
An input receives an E1 signal and a signal obtained by inverting a / OE2 signal by an inverter circuit IV12, and outputs an operation result to a node 13.

【0130】トランスファゲートT5は、PMOS P
T5とNMOS NT5とを含む。PMOS PT5お
よびNMOS NT5のそれぞれの一方の導通端子は、
ノード14で接続され、それぞれの他方の導通端子は、
メモリブロック♯1のデータバスDB1と接続される。
そして、PMOS PT5は、そのゲートにノード12
上の信号を受け、NMOS NT5は、そのゲートにイ
ンバータ回路IV13の出力信号(ノード12上の信号
を反転したもの)を受ける。
The transfer gate T5 is a PMOS P
T5 and NMOS NT5. One conduction terminal of each of the PMOS PT5 and the NMOS NT5 is
Connected at node 14, each other conducting terminal
Connected to data bus DB1 of memory block # 1.
The PMOS PT5 has a node 12 at its gate.
Upon receiving the above signal, the NMOS NT5 receives at its gate the output signal of the inverter circuit IV13 (the inverted signal of the signal on the node 12).

【0131】トランスファゲートT6は、PMOS P
T6とNMOS NT6とを含む。PMOS PT6お
よびNMOS NT6のそれぞれの一方の導通端子は、
ノード14で接続され、それぞれの他方の導通端子は、
メモリブロック♯2のデータバスDB2と接続される。
そして、PMOS PT6は、そのゲートにノード13
上の信号を受け、NMOS NT6は、そのゲートにイ
ンバータ回路IV14の出力信号(ノード13上の信号
を反転したもの)を受ける。
The transfer gate T6 is a PMOS P
T6 and NMOS NT6. One conduction terminal of each of the PMOS PT6 and the NMOS NT6 is
Connected at node 14, each other conducting terminal
Connected to data bus DB2 of memory block # 2.
Then, the PMOS PT6 has a node 13 at its gate.
In response to the above signal, NMOS NT6 receives at its gate the output signal of inverter circuit IV14 (inverted signal on node 13).

【0132】インバータ回路IV15は、ノード14と
接続され、トランスファゲートT5およびT6の出力を
受けて、これを反転増幅する。一方、インバータ回路I
V16は、インバータ回路IV15の出力を反転増幅し
て、外部端子DQ1に出力する。
Inverter circuit IV15 is connected to node 14, receives the outputs of transfer gates T5 and T6, and inverts and amplifies them. On the other hand, the inverter circuit I
V16 inverts and amplifies the output of the inverter circuit IV15 and outputs it to the external terminal DQ1.

【0133】データ出力バッファ回路23は、データ出
力バッファ回路22と構成は同じであり、データバスD
B1に代わってデータバスDB3を入力線とし、データ
バスDB2に代わってデータバスDB4を入力線とし、
外部端子DQ1に代わって外部端子DQ2を出力端子と
する。
Data output buffer circuit 23 has the same configuration as data output buffer circuit 22, and has a data bus D
A data bus DB3 is used as an input line instead of B1, and a data bus DB4 is used as an input line instead of the data bus DB2,
The external terminal DQ2 is used as an output terminal instead of the external terminal DQ1.

【0134】図14は、本発明の実施の形態2における
データ出力バッファ回路22における入力および出力信
号の関係を示すタイミングチャート図である。
FIG. 14 is a timing chart showing the relationship between input and output signals in data output buffer circuit 22 according to the second embodiment of the present invention.

【0135】以下、/RAS信号がLレベルに立下が
り、続いて/CAS信号がLレベルに立下がることによ
って、メモリブロック♯1〜♯4のそれぞれのメモリブ
ロックの特定のメモリセルMCが選択され、かつ/WE
信号はHレベルであるとして説明を行なう。
Thereafter, the / RAS signal falls to the L level and the / CAS signal subsequently falls to the L level, thereby selecting a specific memory cell MC of each of memory blocks # 1 to # 4. , And / WE
The description will be made assuming that the signal is at the H level.

【0136】さらに、図12で説明したように、内部制
御信号発生回路11は、/RAS信号と/CAS信号と
に基づき、図14に示す第3の制御信号Cを生成したも
のとする。
Further, as described with reference to FIG. 12, it is assumed that internal control signal generating circuit 11 has generated third control signal C shown in FIG. 14 based on the / RAS signal and the / CAS signal.

【0137】なお、時刻t0〜t2の期間においては、
/WE信号がHレベルであり、かつ第3の制御信号Cが
Hレベルであるため、図13におけるAND回路AN1
の出力する信号S3はHレベルである。
In the period from time t0 to t2,
Since the / WE signal is at the H level and the third control signal C is at the H level, the AND circuit AN1 in FIG.
Is at the H level.

【0138】時刻t0〜t1の期間において、Hレベル
の信号S3と、Lレベルの/OE1信号をインバータ回
路IV11で反転したHレベルの信号と、Hレベルの/
OE2信号とをその入力に受けるNAND回路NA5
は、Lレベルの信号をノード12に出力する。トランス
ファゲートT5は、PMOS PT5のゲートにノード
12上のLレベルの信号を受け、かつNMOS NT5
のゲートにノード12上の信号をインバータ回路IV1
3で反転したHレベルの信号を受ける。この結果、トラ
ンスファゲートT5は、導通状態となる。
During the period from time t0 to time t1, the H level signal S3, the H level signal obtained by inverting the L level / OE1 signal by the inverter circuit IV11, and the H level signal / OE1 are output.
NAND circuit NA5 receiving OE2 signal at its input
Outputs an L-level signal to the node 12. The transfer gate T5 receives the L-level signal on the node 12 at the gate of the PMOS PT5, and outputs the NMOS NT5
The signal on node 12 to the inverter circuit IV1
3 receives the inverted H-level signal. As a result, the transfer gate T5 becomes conductive.

【0139】一方、Hレベルの信号S3と、Lレベルの
/OE1信号と、Hレベルの/OE2信号をインバータ
回路IV12で反転したLレベルの信号とをその入力に
受けるNAND回路NA6は、Hレベルの信号をノード
13に出力する。トランスファゲートT6は、PMOS
PT6のゲートにノード13上のHレベルの信号を受
け、かつNMOS NT6のゲートにノード13上の信
号をインバータ回路IV14で反転したLレベルの信号
を受ける。この結果、トランスファゲートT6は、非導
通状態となる。
On the other hand, NAND circuit NA6 receiving at its inputs H-level signal S3, L-level / OE1 signal, and L-level signal obtained by inverting H-level / OE2 signal at inverter circuit IV12 receives H-level signal S3. Is output to the node 13. The transfer gate T6 is a PMOS
The gate of PT6 receives the H-level signal on node 13, and the gate of NMOS NT6 receives the L-level signal obtained by inverting the signal on node 13 by inverter circuit IV14. As a result, the transfer gate T6 is turned off.

【0140】したがって、/OE1信号がLレベルであ
るならトランスファゲートT5を介して、メモリブロッ
ク♯1のデータバスDB1上の信号に対応する電気信号
が外部端子DQ1から出力される。
Therefore, if the / OE1 signal is at the L level, an electric signal corresponding to the signal on data bus DB1 of memory block # 1 is output from external terminal DQ1 via transfer gate T5.

【0141】時刻t1〜t2の期間においては、Hレベ
ルの信号3Sと、Hレベルの/OE1信号と、Lレベル
の/OE2信号をインバータ回路IV12で反転したH
レベルの信号とをその入力に受けるNAND回路NA6
は、Lレベルの信号をノード13に出力する。トランス
ファゲートT6は、PMOS PT6のゲートにノード
13上のLレベルの信号を受け、かつNMOS NT6
のゲートにノード13上の信号をインバータ回路IV1
4で反転したHレベルの信号を受ける。この結果、トラ
ンスファゲートT6は、導通状態となる。
In the period from time t1 to t2, H level signal 3S, H level / OE1 signal, and L level / OE2 signal are inverted by inverter circuit IV12 to H level.
Level signal and NAND circuit NA6 receiving at its input
Outputs an L-level signal to the node 13. The transfer gate T6 receives the L-level signal on the node 13 at the gate of the PMOS PT6, and
The signal on node 13 to the inverter circuit IV1
4 receives the inverted H-level signal. As a result, the transfer gate T6 becomes conductive.

【0142】一方、Hレベルの信号S3と、Hレベルの
/OE1信号をインバータ回路IV11で反転したLレ
ベルの信号と、Lレベルの/OE2信号とをその入力に
受けるNAND回路NA5は、Hレベルの信号をノード
12に出力する。トランスファゲートT5は、PMOS
PT5のゲートにノード12上のHレベルの信号を受
け、かつNMOS NT5のゲートにノード12上の信
号をインバータ回路IV13で反転したLレベルの信号
を受ける。この結果、トランスファゲートT5は、非導
通状態となる。
On the other hand, NAND circuit NA5 receiving at its inputs H-level signal S3, L-level signal obtained by inverting H-level / OE1 signal at inverter circuit IV11, and L-level / OE2 signal is at H-level. Is output to the node 12. The transfer gate T5 is a PMOS
The gate of PT5 receives the H-level signal on node 12, and the gate of NMOS NT5 receives the L-level signal obtained by inverting the signal on node 12 by inverter circuit IV13. As a result, the transfer gate T5 is turned off.

【0143】したがって、/OE2信号がLレベルであ
るならば、トランスファゲートT6を介して、メモリブ
ロック♯2のデータバスDB2上の信号に対応する電気
信号が外部端子DQ1から出力される。
Therefore, if the / OE2 signal is at L level, an electric signal corresponding to the signal on data bus DB2 of memory block # 2 is output from external terminal DQ1 via transfer gate T6.

【0144】なお、/OE1信号および/OE2信号が
ともにHレベルの期間、すなわち非読出動作時(図14
において時刻t0以前および時刻t2以降)には、イン
バータ回路IV11の出力する信号とインバータ回路I
V12の出力する信号とは、ともにLレベルであるの
で、NAND回路NA5は、ノード12にHレベルの信
号を出力し、かつNAND回路NA6は、ノード13に
Hレベルの信号を出力する。この結果、トランスファゲ
ートT5およびT6は、ともに非導通状態となる。した
がって、データバスDB1およびデータバスDB2は、
ともに外部端子DQ1と電気的に非接続状態となる。
Note that the / OE1 signal and / OE2 signal are both at the H level, that is, at the time of non-read operation (FIG. 14).
Before time t0 and after time t2), the signal output from inverter circuit IV11 and inverter circuit I
Since both signals output from V12 are at L level, NAND circuit NA5 outputs an H level signal to node 12, and NAND circuit NA6 outputs an H level signal to node 13. As a result, transfer gates T5 and T6 are both turned off. Therefore, the data bus DB1 and the data bus DB2 are
Both are electrically disconnected from the external terminal DQ1.

【0145】ところで、メモリブロック♯3のデータバ
スDB3とメモリブロック♯4のデータバスDB4とを
入力線とし、外部端子DQ2を出力端子とするデータ出
力バッファ回路23は、データ出力バッファ回路22と
基本的に同じ動作を行なう。
The data output buffer circuit 23 having the data bus DB3 of the memory block # 3 and the data bus DB4 of the memory block # 4 as input lines, and having the external terminal DQ2 as an output terminal, is basically the same as the data output buffer circuit 22. The same operation is performed.

【0146】すなわち、半導体記憶装置200は、/O
E1信号もしくは/OE2信号がLレベルとなり、読出
動作になると、/RAS信号および/CAS信号に基づ
く第3の制御信号Cの制御を受けて、/OE1信号およ
び/OE2信号に応じて、外部端子DQ1からは、選択
的にメモリブロック♯1もしくはメモリブロック♯2の
特定のメモリセルMCのデータを出力し、外部端子DQ
2からは、選択的にメモリブロック♯3もしくはメモリ
ブロック♯4の特定のメモリセルMCのデータを出力す
る。
That is, the semiconductor memory device 200 has the / O
When the E1 signal or the / OE2 signal becomes L level and the read operation starts, the external terminal receives the control of the third control signal C based on the / RAS signal and the / CAS signal and responds to the / OE1 signal and / OE2 signal. DQ1 selectively outputs data of a specific memory cell MC in memory block # 1 or memory block # 2, and outputs an external terminal DQ1.
2 selectively outputs data of a specific memory cell MC in memory block # 3 or memory block # 4.

【0147】図15は、本発明の実施の形態2における
データ入力バッファ回路32の構成を概略的に示す回路
図である。
FIG. 15 is a circuit diagram schematically showing a configuration of data input buffer circuit 32 according to the second embodiment of the present invention.

【0148】データ入力バッファ回路32は、インバー
タ回路IV17〜IV22と、NAND回路NA7,N
A8と、トランスファゲートT7,T8とを含む。
The data input buffer circuit 32 includes inverter circuits IV17 to IV22 and NAND circuits NA7, N
A8, and transfer gates T7 and T8.

【0149】インバータ回路IV17は、/WE信号を
入力に受けて、これを反転した信号S4を出力する。
Inverter circuit IV17 receives the / WE signal at its input, and outputs a signal S4 obtained by inverting this signal.

【0150】NAND回路NA7は、信号S4と、/O
E2信号と、内部制御信号発生回路11の出力する第3
の制御信号Cとをその入力に受けて、演算結果をノード
14に出力する。
The NAND circuit NA7 outputs the signal S4 and / O
E2 signal and the third signal output from the internal control signal generation circuit 11.
And outputs the operation result to the node 14.

【0151】NAND回路NA8は、信号S4と、/O
E2信号をインバータ回路IV8で反転した信号と、第
3の制御信号Cとをその入力に受けて、演算結果をノー
ド15に出力する。
The NAND circuit NA8 outputs the signal S4 and / O
A signal obtained by inverting the signal E2 by the inverter circuit IV8 and the third control signal C are received at its inputs, and the operation result is output to the node 15.

【0152】インバータ回路IV21は、外部端子DQ
1から受けた信号を反転増幅する。一方、インバータ回
路IV22は、この信号をさらに反転増幅して、ノード
16に出力する。
The inverter circuit IV21 has an external terminal DQ
The signal received from 1 is inverted and amplified. On the other hand, inverter circuit IV22 further inverts and amplifies this signal and outputs it to node 16.

【0153】トランスファゲートT7は、PMOS P
T7とNMOS NT7とを含む。PMOS PT7お
よびNMOS NT7のそれぞれの一方の導通端子は、
メモリブロック♯1のデータバスDB1と接続され、そ
れぞれの他方の導通端子は、ノード16と接続される。
そして、PMOS PT7は、そのゲートにノード14
上の信号を受け、NMOS NT7は、そのゲートにイ
ンバータ回路IV19の出力信号(ノード14上の信号
を反転したもの)を受ける。
The transfer gate T7 is a PMOS P
T7 and NMOS NT7. One conduction terminal of each of the PMOS PT7 and the NMOS NT7 is
Connected to data bus DB1 of memory block # 1, and the other conductive terminal of each is connected to node 16.
Then, the PMOS PT7 has a node 14 connected to its gate.
Receiving the above signal, NMOS NT7 receives at its gate the output signal of inverter circuit IV19 (inverted signal on node 14).

【0154】トランスファゲートT8は、PMOS P
T8とNMOS NT8とを含む。PMOS PT8お
よびNMOS NT8のそれぞれの一方の導通端子は、
メモリブロック♯2のデータバスDB2と接続され、そ
れぞれの他方の導通端子は、ノード16と接続される。
そして、PMOS PT8は、そのゲートにノード15
上の信号を受け、NMOS NT8は、そのゲートにイ
ンバータ回路IV20の出力信号(ノード15上の信号
を反転したもの)を受ける。
The transfer gate T8 is a PMOS P
T8 and NMOS NT8. One conduction terminal of each of the PMOS PT8 and the NMOS NT8 is
Memory block # 2 is connected to data bus DB2, and the other conductive terminal is connected to node 16.
Then, the PMOS PT8 has a node 15 at its gate.
Receiving the above signal, NMOS NT8 receives at its gate the output signal of inverter circuit IV20 (inverted signal on node 15).

【0155】なお、データ入力バッファ回路33は、デ
ータ入力バッファ回路32と構成は同じであり、外部端
子DQ1に代わって外部端子DQ2を入力端子とし、デ
ータバスDB1に代わってデータバスDB3を出力線と
し、データバスDB2に代わってデータバスDB4を出
力線とする。
The data input buffer circuit 33 has the same configuration as the data input buffer circuit 32. The external terminal DQ2 is used as an input terminal instead of the external terminal DQ1, and the data bus DB3 is used as an output line instead of the data bus DB1. And the data bus DB4 is used as an output line instead of the data bus DB2.

【0156】図16は、本発明の実施の形態2における
データ入力バッファ回路32の信号の入出力関係を示す
タイミングチャート図である。
FIG. 16 is a timing chart showing an input / output relationship of signals of data input buffer circuit 32 according to the second embodiment of the present invention.

【0157】以下、/RAS信号がLレベルに立下が
り、続いて/CAS信号がLレベルに立下がることによ
ってメモリブロック♯1〜♯4のそれぞれのメモリブロ
ックの特定のメモリセルMCが選択されたとして説明を
行なう。また、図12で既に説明したように、内部制御
信号発生回路11は、図14に示す第3の制御信号Cを
生成したものとする。
Thereafter, the / RAS signal falls to the L level and the / CAS signal subsequently falls to the L level, whereby a specific memory cell MC of each of memory blocks # 1 to # 4 is selected. The description is made as follows. Further, as already described with reference to FIG. 12, it is assumed that the internal control signal generation circuit 11 has generated the third control signal C shown in FIG.

【0158】なお、時刻t0〜t2の期間、/WE信号
がLレベルにあるので、図14におけるインバータ回路
IV17の出力する信号S4はHレベルである。
Since signal / WE is at L level during time t0 to t2, signal S4 output from inverter circuit IV17 in FIG. 14 is at H level.

【0159】時刻t0〜時刻t1の期間においては、H
レベルの信号S4と、Hレベルの第2の制御信号Cと、
Hレベルの/OE2信号とを受けるNAND回路NA7
は、ノード14にLレベルの信号を出力する。トランス
ファゲートT7は、PMOSPT7のゲートにノード1
4上のLレベルの信号を受け、かつNMOS NT7の
ゲートにノード14上の信号をインバータ回路IV19
で反転したHレベルの信号を受ける。この結果、トラン
スファゲートT7は、導通状態となる。
In the period from time t0 to time t1, H
Level signal S4, H level second control signal C,
NAND circuit NA7 receiving / OE signal at H level
Outputs an L-level signal to the node 14. The transfer gate T7 has a node 1 connected to the gate of the PMOS PT7.
4 and the gate of NMOS NT7 applies the signal on node 14 to inverter circuit IV19.
Receives the inverted H level signal. As a result, the transfer gate T7 becomes conductive.

【0160】一方、Hレベルの信号S4と、Hレベルの
第3の制御信号Cと、Hレベルの/OE2信号をインバ
ータ回路IV18で反転したLレベルの信号とを受ける
NAND回路NA8は、ノード15にHレベルの信号を
出力する。トランスファゲートT8は、PMOS PT
8のゲートにノード15上のHレベルの信号を受け、か
つNMOS NT8のゲートにノード15上の信号をイ
ンバータ回路IV20で反転したLレベルの信号を受け
る。この結果、トランスファゲートT8は、非導通状態
となる。
On the other hand, NAND circuit NA8 receiving H-level signal S4, H-level third control signal C, and L-level signal obtained by inverting H-level / OE2 signal by inverter circuit IV18 is connected to node 15 at node 15. To output an H-level signal. The transfer gate T8 is a PMOS PT
The gate of No. 8 receives the H-level signal on node 15 and the gate of NMOS NT8 receives the L-level signal obtained by inverting the signal on node 15 by inverter circuit IV20. As a result, the transfer gate T8 is turned off.

【0161】したがって、/OE2信号がHレベルであ
るならば外部端子DQ1から入力した信号に対応する電
気信号が、トランスファゲートT8を介して、メモリブ
ロック♯1のデータバスDB1上に伝達される。
Therefore, if the / OE2 signal is at the H level, an electric signal corresponding to the signal input from external terminal DQ1 is transmitted onto data bus DB1 of memory block # 1 via transfer gate T8.

【0162】時刻t1〜t2の期間においては、Hレベ
ルの信号S4と、Hレベルの第3の制御信号Cと、Lレ
ベルの/OE2信号をインバータ回路IV18で反転し
たHレベルの信号とをその入力に受けるNAND回路N
A8は、ノード15にLレベルの信号を出力する。トラ
ンスファゲートT8は、PMOS PT8のゲートにノ
ード15上のLレベルの信号を受け、NMOS NT8
のゲートにノード15上の信号をインバータ回路IV2
0で反転したHレベルの信号を受ける。この結果、トラ
ンスファゲートT8は、導通状態となる。
In the period from time t1 to time t2, the H level signal S4, the H level third control signal C, and the H level signal obtained by inverting the L level / OE2 signal by the inverter circuit IV18 are output. NAND circuit N received at input
A8 outputs an L-level signal to node 15. The transfer gate T8 receives the L-level signal on the node 15 at the gate of the PMOS PT8, and
The signal on node 15 to inverter circuit IV2
It receives an H-level signal inverted at 0. As a result, the transfer gate T8 becomes conductive.

【0163】一方、Hレベルの信号S4と、Hレベルの
第3の制御信号Cと、Lレベルの/OE2信号とをその
入力に受けるNAND回路NA7は、ノード14にHレ
ベルの信号を出力する。トランスファゲートT7は、P
MOS PT7のゲートにノード14上のHレベルの信
号を受け、NMOS NT7のゲートにノード14上の
信号をインバータ回路IV19で反転したLレベルの信
号を受ける。この結果、トランスファゲートT7は、非
導通状態となる。
On the other hand, NAND circuit NA7 receiving H-level signal S4, H-level third control signal C, and L-level / OE2 signal at its inputs outputs an H-level signal to node 14. . Transfer gate T7 is P
The gate of the MOS PT7 receives the H-level signal on the node 14, and the gate of the NMOS NT7 receives the L-level signal obtained by inverting the signal on the node 14 by the inverter circuit IV19. As a result, the transfer gate T7 is turned off.

【0164】したがって、/OE2信号がLレベルであ
るならば外部端子DQ1から入力した信号に対応する電
気信号が、トランスファゲートT8を介して、メモリブ
ロック♯2のデータバスDB2上に伝達される。
Therefore, if the / OE2 signal is at the L level, an electric signal corresponding to the signal input from external terminal DQ1 is transmitted to data bus DB2 of memory block # 2 via transfer gate T8.

【0165】なお、/WE信号がLレベルである期間、
すなわち非書込動作時(図16において、時刻t0以前
および時刻t2以降)は、インバータ回路IV17の出
力する信号S4がLレベルであるから、これを受けるN
AND回路NA7はノード14にHレベルの信号を出力
し、かつNAND回路NA8は、ノード15にHレベル
の信号を出力する。この結果、トランスファゲートT7
およびT8は、ともに非導通状態となる。したがって、
データバスDB1とデータバスDB2とは、ともに外部
端子DQ1と電気的に非接続状態となる。
Note that while the / WE signal is at the L level,
That is, during the non-write operation (in FIG. 16, before time t0 and after time t2), signal S4 output from inverter circuit IV17 is at L level, and therefore N is received.
AND circuit NA7 outputs an H-level signal to node 14, and NAND circuit NA8 outputs an H-level signal to node 15. As a result, the transfer gate T7
And T8 are both turned off. Therefore,
Data bus DB1 and data bus DB2 are both electrically disconnected from external terminal DQ1.

【0166】ところで、メモリブロック♯3のデータバ
スDB3とメモリブロック♯4のデータバスDB4とを
出力線とし、外部端子DQ2を入力端子とするデータ入
力バッファ回路33は、データ入力バッファ回路32と
基本的に同じ動作を行なう。
Incidentally, the data input buffer circuit 33 having the data bus DB3 of the memory block # 3 and the data bus DB4 of the memory block # 4 as output lines and the external terminal DQ2 as an input terminal is the same as the data input buffer circuit 32 and the data input buffer circuit 32. The same operation is performed.

【0167】すなわち、半導体記憶装置200は、/W
E信号がLレベルとなり書込動作になると、/RAS信
号と/CAS信号とに基づく第3の制御信号Cの制御を
受けて、/OE2信号に基づき、外部端子DQ1から受
けたデータを選択的にメモリブロック♯1もしくはメモ
リブロック♯2の特定のメモリセルMCに書込み、外部
端子DQ2から受けたデータを選択的にメモリブロック
♯3もしくはメモリブロック♯4の特定のメモリセルM
Cに書込む。
That is, the semiconductor memory device 200 has the / W
When the E signal becomes L level and the writing operation is performed, the data received from the external terminal DQ1 is selectively controlled based on the / OE2 signal under the control of the third control signal C based on the / RAS signal and the / CAS signal. Is written to a specific memory cell MC of memory block # 1 or memory block # 2, and data received from external terminal DQ2 is selectively written to specific memory cell M of memory block # 3 or memory block # 4.
Write to C.

【0168】以上に示したように、半導体記憶装置20
0は、メモリブロック♯1〜♯4を2つのグループに分
割し、グループ単位で入力回路および出力回路を共通化
するとともに、各グループごとの入力回路と出力回路と
が1つの外部端子を共通して使用する。そして、外部か
ら入力した/RAS信号および/CAS信号に基づく制
御信号によって、入力回路および出力回路の動作を制御
するとともに、外部から入力した/OE1信号および/
OE2信号に応じて、グループ内の2つのメモリブロッ
クのうちのいずれか1つのメモリブロックを選択して読
出データを外部に出力するとともに、/OE2信号に応
じて、グループ内の2つのメモリブロックのうちのいず
れか1つのメモリブロックを選択して、データの書込を
行なうことができる。
As described above, the semiconductor memory device 20
0 indicates that the memory blocks # 1 to # 4 are divided into two groups, the input circuit and the output circuit are shared in group units, and the input circuit and the output circuit of each group share one external terminal. To use. The operation of the input circuit and the output circuit is controlled by a control signal based on the / RAS signal and the / CAS signal input from the outside, and the / OE1 signal and /
In response to the OE2 signal, one of the two memory blocks in the group is selected to output read data to the outside, and in response to the / OE2 signal, one of the two memory blocks in the group is output. Data can be written by selecting any one of the memory blocks.

【0169】なお、本発明の実施の形態1では、4つの
メモリブロックについて説明を行なったが、K個の入力
回路とK個の出力回路とK個の外部端子とを設けること
で、2K個のメモリブロックを有する半導体記憶装置に
おいても実現可能である。
In the first embodiment of the present invention, four memory blocks have been described. However, by providing K input circuits, K output circuits, and K external terminals, 2K blocks are provided. It can also be realized in a semiconductor memory device having the above memory block.

【0170】一方、/OE信号を入力するピンをさらに
増やして、2以上のメモリブロックを1つのグループと
して、1つの外部端子からM個のメモリブロックの読出
データのうち1つを選択的に出力し、かつ1つの外部端
子からの入力データを選択的にM個のメモリブロックの
うちのいずれか1つのメモリブロックに書込むことも可
能である。
On the other hand, the number of pins for inputting the / OE signal is further increased, and two or more memory blocks are grouped into one group to selectively output one of the read data of the M memory blocks from one external terminal. Alternatively, input data from one external terminal can be selectively written to any one of the M memory blocks.

【0171】[0171]

【発明の効果】以上に説明したとおり、本発明の半導体
記憶装置によれば、メモリセルアレイの大容量化が進
み、1チップに含まれるメモリブロック数が増加した場
合であっても、チップ面積の増大を伴うことなく、複数
のメモリブロックを動作することが可能である。
As described above, according to the semiconductor memory device of the present invention, the capacity of the memory cell array is increased and the chip area is reduced even if the number of memory blocks included in one chip increases. It is possible to operate a plurality of memory blocks without increasing.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】 本発明の実施の形態1における半導体記憶装
置の構成を示す概略ブロック図である。
FIG. 1 is a schematic block diagram illustrating a configuration of a semiconductor memory device according to a first embodiment of the present invention.

【図2】 本発明の実施の形態1における半導体記憶装
置の読出動作および書込動作の関係を示すタイミングチ
ャート図である。
FIG. 2 is a timing chart illustrating a relationship between a read operation and a write operation of the semiconductor memory device according to the first embodiment of the present invention;

【図3】 本発明の実施の形態1における内部制御信号
発生回路の要部の構成を概略的に示す回路図である。
FIG. 3 is a circuit diagram schematically showing a configuration of a main part of an internal control signal generation circuit according to the first embodiment of the present invention.

【図4】 本発明の実施の形態1における内部制御信号
発生回路の入力および出力信号の関係を示すタイミング
チャート図である。
FIG. 4 is a timing chart showing a relationship between input and output signals of an internal control signal generation circuit according to the first embodiment of the present invention.

【図5】 本発明の実施の形態1におけるデータ出力バ
ッファ回路の構成を概略的に示す回路図である。
FIG. 5 is a circuit diagram schematically showing a configuration of a data output buffer circuit according to the first embodiment of the present invention.

【図6】 本発明の実施の形態1におけるデータ出力バ
ッファ回路の入力および出力信号の関係を示すタイミン
グチャート図である。
FIG. 6 is a timing chart illustrating a relationship between input and output signals of the data output buffer circuit according to the first embodiment of the present invention.

【図7】 本発明の実施の形態1におけるデータ入力バ
ッファ回路の構成を概略的に示す回路図である。
FIG. 7 is a circuit diagram schematically showing a configuration of a data input buffer circuit according to the first embodiment of the present invention.

【図8】 本発明の実施の形態1におけるデータ入力バ
ッファ回路の入力および出力信号の関係を示すタイミン
グチャート図である。
FIG. 8 is a timing chart illustrating a relationship between input and output signals of the data input buffer circuit according to the first embodiment of the present invention.

【図9】 本発明の実施の形態2における半導体記憶装
置の構成を示す概略ブロック図である。
FIG. 9 is a schematic block diagram showing a configuration of a semiconductor memory device according to a second embodiment of the present invention.

【図10】 本発明の実施の形態2における半導体記憶
装置の入力および出力信号の関係を示すタイミングチャ
ート図である。
FIG. 10 is a timing chart showing a relationship between input and output signals of a semiconductor memory device according to a second embodiment of the present invention.

【図11】 本発明の実施の形態2における内部制御信
号発生回路の要部の構成を概略的に示す回路図である。
FIG. 11 is a circuit diagram schematically showing a configuration of a main part of an internal control signal generation circuit according to a second embodiment of the present invention.

【図12】 本発明の実施の形態2における内部制御信
号発生回路の入力および出力信号の関係を示すタイミン
グチャート図である。
FIG. 12 is a timing chart illustrating a relationship between input and output signals of an internal control signal generation circuit according to a second embodiment of the present invention.

【図13】 本発明の実施の形態2におけるデータ出力
バッファ回路の構成を概略的に示す回路図である。
FIG. 13 is a circuit diagram schematically showing a configuration of a data output buffer circuit according to a second embodiment of the present invention.

【図14】 本発明の実施の形態2におけるデータ出力
バッファ回路の入力および出力信号の関係を示すタイミ
ングチャート図である。
FIG. 14 is a timing chart showing a relationship between input and output signals of a data output buffer circuit according to a second embodiment of the present invention.

【図15】 本発明の実施の形態2におけるデータ入力
バッファ回路の構成を概略的に示す回路図である。
FIG. 15 is a circuit diagram schematically showing a configuration of a data input buffer circuit according to a second embodiment of the present invention.

【図16】 本発明の実施の形態2におけるデータ入力
バッファ回路の入力および出力信号の関係を示すタイミ
ングチャート図である。
FIG. 16 is a timing chart showing a relationship between input and output signals of the data input buffer circuit according to the second embodiment of the present invention.

【図17】 複数のメモリブロックからなる従来の半導
体記憶装置の構成を示す概略ブロック図である。
FIG. 17 is a schematic block diagram showing a configuration of a conventional semiconductor memory device including a plurality of memory blocks.

【図18】 従来の半導体記憶装置におけるメモリブロ
ックの構成を概略的に示す回路図である。
FIG. 18 is a circuit diagram schematically showing a configuration of a memory block in a conventional semiconductor memory device.

【図19】 4つのメモリブロックを有する従来の半導
体記憶装置における読出動作および書込動作のタイミン
グチャート図である。
FIG. 19 is a timing chart of a read operation and a write operation in a conventional semiconductor memory device having four memory blocks.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

50 メモリセルアレイ、♯1〜♯4 メモリブロッ
ク、51,10,11内部制御信号発生回路、70〜7
3,20〜23 データ出力バッファ回路、80〜8
3,30〜33 データ入力バッファ回路、52 アド
レスバッファ、53 行デコーダ、54 列デコーダ、
60〜65 メインアンプ、DB1〜DB4 データバ
ス、56 センスアンプ、57 I/Oゲート、IV1
〜IV22インバータ回路、NA1〜NA8 NAND
回路、AN1 AND回路、NOR1〜NOR2 NO
R回路、T1〜T8 トランスファゲート、NT1〜N
T8 NMOS、PT1〜PT8 PMOS。
50 memory cell array, # 1 to # 4 memory blocks, 51, 10, 11 internal control signal generation circuits, 70 to 7
3, 20 to 23 data output buffer circuits, 80 to 8
3, 30 to 33 data input buffer circuits, 52 address buffers, 53 row decoders, 54 column decoders,
60 to 65 main amplifier, DB1 to DB4 data bus, 56 sense amplifier, 57 I / O gate, IV1
To IV22 inverter circuit, NA1 to NA8 NAND
Circuit, AN1 AND circuit, NOR1 and NOR2 NO
R circuit, T1-T8 transfer gate, NT1-N
T8 NMOS, PT1 to PT8 PMOS.

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 共通のアドレス信号により、同時に特定
のメモリセルが選択される複数のメモリブロックからな
る半導体記憶装置であって、 第1の外部端子からの第1の入力信号と、第2の外部端
子からの第2の入力信号と、第3の外部端子からの第3
の入力信号とを受けて、制御信号を生成する信号発生手
段と、 2つの前記メモリブロックごとにグループを構成するよ
うに前記複数のメモリブロックを分割し、前記制御信号
に従って、選択的に前記それぞれのグループに属するい
ずれかの前記メモリブロックからの読出データを外部に
出力する、複数の前記グループ単位の出力制御手段と、 外部からの入力データを前記制御信号に従って、選択的
に前記それぞれのグループに属するいずれかの前記メモ
リブロックの書込データとする、複数の前記グループ単
位の入力制御手段とを備え、 前記出力制御手段の外部へのデータの出力と、前記入力
制御手段の外部からのデータの入力とを前記グループ単
位で共通する1つのデータ入出力端子で行なう、半導体
記憶装置。
1. A semiconductor memory device comprising a plurality of memory blocks in which specific memory cells are simultaneously selected by a common address signal, wherein a first input signal from a first external terminal and a second A second input signal from an external terminal and a third input signal from a third external terminal.
Signal generating means for generating a control signal in response to the input signal of the plurality of memory blocks; and dividing the plurality of memory blocks so as to form a group for each of the two memory blocks; A plurality of group-based output control means for outputting read data from any of the memory blocks belonging to the group to the outside, and selectively inputting external input data to each of the groups according to the control signal. A plurality of group-based input control means for writing data to any one of the memory blocks belonging thereto; outputting data to the outside of the output control means, and outputting data from outside the input control means. A semiconductor memory device in which input is performed by one common data input / output terminal in the group unit.
【請求項2】 前記制御信号は、第1の制御信号と第2
の制御信号とであり、 前記出力制御手段の各々は、 第1の制御信号に応じて、前記グループに属する第1の
メモリブロックからの読出データを前記データ入出力外
部端子から出力する手段と、 第2の制御信号に応じて、前記グループに属する第2の
メモリブロックからの読出データを前記データ入出力外
部端子から出力する手段とを備え、 前記入力制御手段の各々は、 前記データ入出力外部端子から入力したデータを、第1
の制御信号に応じて前記第1のメモリブロックに伝達す
る手段と、 前記データ入出力外部端子から入力したデータを、第2
の制御信号に応じて前記第2のメモリブロックに伝達す
る手段とを備える、請求項1記載の半導体記憶装置。
2. The method according to claim 1, wherein the control signal includes a first control signal and a second control signal.
A control signal, wherein each of the output control means outputs read data from a first memory block belonging to the group from the data input / output external terminal according to a first control signal; Means for outputting read data from a second memory block belonging to the group from the data input / output external terminal in response to a second control signal, wherein each of the input control means comprises: The data input from the terminal
Means for transmitting the data to the first memory block in response to the control signal of
Means for transmitting to the second memory block in response to the control signal of (i).
【請求項3】 前記第1の入力信号は、/RAS信号で
あり、前記第2の入力信号は、第1の/CAS信号であ
り、前記第3の入力信号は、第2の/CAS信号であ
る、請求項1記載の半導体記憶装置。
3. The signal according to claim 1, wherein the first input signal is a / RAS signal, the second input signal is a first / CAS signal, and the third input signal is a second / CAS signal. 2. The semiconductor memory device according to claim 1, wherein
【請求項4】 共通のアドレス信号により、同時に特定
のメモリセルが選択される複数のメモリブロックからな
る半導体記憶装置であって、 第1の外部端子からの第1の入力信号と、第2の外部端
子からの第2の入力信号とを受けて制御信号を生成する
信号生成手段と、 2つの前記メモリブロックごとにグループを構成するよ
うに前記複数のメモリブロックを分割し、前記制御信号
に基づき、第3の外部端子からの第3の入力信号と第4
の外部端子からの第4の入力信号とに応じて、選択的に
前記それぞれのグループに属するいずれかの前記メモリ
ブロックからの読出データを外部に出力する、複数の前
記グループ単位の出力制御手段と、 外部からの入力データを前記制御信号と前記第4の入力
信号とに応じて、選択的に前記それぞれのグループに属
するいずれかの前記メモリブロックの書込データとす
る、複数の前記グループ単位の入力制御手段とを備え、 前記出力制御手段の外部へのデータの出力と、前記入力
制御手段の外部からのデータの入力とを前記グループ単
位で共通する1つのデータ入出力端子で行なう、半導体
記憶装置。
4. A semiconductor memory device comprising a plurality of memory blocks in which specific memory cells are simultaneously selected by a common address signal, wherein a first input signal from a first external terminal and a second Signal generation means for generating a control signal in response to a second input signal from an external terminal; dividing the plurality of memory blocks so as to form a group for each of the two memory blocks; , The third input signal from the third external terminal and the fourth
A plurality of group-based output control means for selectively outputting read data from any of the memory blocks belonging to the respective groups to the outside in response to a fourth input signal from an external terminal of A plurality of the group units, wherein input data from the outside is selectively used as write data of one of the memory blocks belonging to the respective groups in accordance with the control signal and the fourth input signal. A semiconductor memory, comprising: input control means; and outputting data to the outside of the output control means and inputting data from the outside of the input control means to one common data input / output terminal in the group unit. apparatus.
【請求項5】 前記出力制御手段の各々は、 前記制御信号と前記第3の入力信号に応じて、前記グル
ープに属する第1のメモリブロックからの読出データを
前記データ入出力外部端子から出力する手段と、 前記制御信号と前記第4の入力信号に応じて、前記グル
ープに属する第2のメモリブロックからの読出データを
前記データ入出力外部端子から出力する手段とを備え、 前記入力制御手段の各々は、 前記制御信号に応じて、前記第4の入力信号が第1の論
理レベルであれば前記データ入出力外部端子から入力し
たデータを前記第1のメモリブロックに伝達する手段
と、 前記制御信号に応じて、前記第4の入力信号が第1の論
理レベルと異なる第2の論理レベルであれば、前記デー
タ入出力外部端子から入力したデータを前記第2のメモ
リブロックに伝達する手段とを備える、請求項4記載の
半導体記憶装置。
5. The output control means outputs read data from a first memory block belonging to the group from the data input / output external terminal according to the control signal and the third input signal. Means for outputting read data from a second memory block belonging to the group from the data input / output external terminal in response to the control signal and the fourth input signal; A means for transmitting, to the first memory block, data input from the data input / output external terminal if the fourth input signal is at a first logical level, in response to the control signal; If the fourth input signal is a second logic level different from the first logic level in accordance with the signal, the data input from the data input / output external terminal is transferred to the second memory. And means for transmitting to the lock, the semiconductor memory device according to claim 4, wherein.
【請求項6】 前記第1の入力信号は、/RAS信号で
あり、前記第2の入力信号は、/CAS信号であり、前
記第3の入力信号は、第1の/OE信号であり、前記第
4の入力信号は、第2の/OE信号である、請求項4記
載の半導体記憶装置。
6. The signal according to claim 1, wherein the first input signal is a / RAS signal, the second input signal is a / CAS signal, the third input signal is a first / OE signal, 5. The semiconductor memory device according to claim 4, wherein said fourth input signal is a second / OE signal.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008186524A (en) * 2007-01-30 2008-08-14 System Fabrication Technologies Inc Semiconductor memory device

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