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JPH10111564A - 画像形成材料及び画像形成方法 - Google Patents

画像形成材料及び画像形成方法

Info

Publication number
JPH10111564A
JPH10111564A JP8265796A JP26579696A JPH10111564A JP H10111564 A JPH10111564 A JP H10111564A JP 8265796 A JP8265796 A JP 8265796A JP 26579696 A JP26579696 A JP 26579696A JP H10111564 A JPH10111564 A JP H10111564A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
acid
image forming
photosensitive layer
compd
image
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP8265796A
Other languages
English (en)
Inventor
Katsura Hirai
桂 平井
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Konica Minolta Inc
Original Assignee
Konica Minolta Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Konica Minolta Inc filed Critical Konica Minolta Inc
Priority to JP8265796A priority Critical patent/JPH10111564A/ja
Publication of JPH10111564A publication Critical patent/JPH10111564A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Materials For Photolithography (AREA)
  • Paints Or Removers (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 赤外線感度が改良された赤外線で画像露光が
可能なポジ型画像形成材料及びネガ型画像形成材料並び
にそれらによる画像形成方法を提供する。 【解決手段】 支持体上に、活性光線の照射により酸
を発生し得る化合物、酸の存在下で分解又は架橋する化
合物、赤外線吸収剤及び固形微粒子を含有する感光層を
有する画像形成材料。上記の画像形成材料に赤外線
で画像露光した後、アルカリ性現像液で露光部又は非露
光部を除去する工程を含む画像形成方法。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、活性光線の照射に
より酸を発生し得る化合物、酸の存在下で分解又は架橋
する化合物及び赤外線吸収剤を含有する赤外線感光性組
成物からなる感光層を有する画像形成材料及びそれによ
る画像形成方法に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、活性光の照射によって可溶化する
ポジ型の感光層として、酸発生剤と酸分解性化合物とを
含有する感光層を有する画像形成材料が知られている。
即ち、米国特許第3,779,779号明細書には、オ
ルトカルボン酸又はカルボン酸アミドアセタール基を有
する化合物を含有する感光性組成物が、特開昭53−1
33429号公報には、主鎖にアセタール又はケタール
基を有する化合物を含有する感光性組成物が、また、特
開昭60−37549号公報には、シリルエーテル基を
有する化合物を含有する組成物が開示されている。しか
しながら、これらはいずれも紫外線に感度を有し、紫外
線による露光によってアルカリ可溶化して非画像部とな
るもので、安価でコンパクトな半導体レーザーのような
赤外線による画像露光はできない。
【0003】一方、半導体レーザのような赤外線で画像
露光が可能な技術として、米国特許第5,340,69
9号明細書には、酸発生剤、レゾール樹脂、ノボラック
樹脂及び赤外線吸収剤を含有する感光層を有し、画像露
光の後、現像処理前に加熱処理を施すことによりネガ型
の画像として使用され、上記加熱処理を施さないとポジ
型の画像形成材料として使用される技術が開示されてい
る。しかし、ネガ型及びポジ型のいずれにおいても感度
が低い難点がある。
【0004】
【本発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、赤
外線による露光で画像形成が可能であり、かつ高感度な
ポジ型の画像形成材料及びネガ型の画像形成材料並びに
これらによる画像形成方法を提供することである。
【0005】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成する本発
明は下記(1)及び(2)である。
【0006】(1) 支持体上に、活性光線の照射によ
り酸を発生し得る化合物、酸の存在下で分解又は架橋す
る化合物、赤外線吸収剤及び固形微粒子を含有する感光
層を有することを特徴とする画像形成材料。
【0007】(2) 請求項1記載の画像形成材料の感
光層上に赤外線を用いて画像を描画した後、アルカリ性
現像液で露光部を除去することを特徴とする画像形成方
法。
【0008】以下、本発明について詳述する。
【0009】本発明の画像形成材料の感光層に用いられ
る活性光線の照射により酸を発生し得る化合物(以下
「酸発生剤」という)としては、各種の公知化合物及び
混合物が挙げられる。例えばジアゾニウム、ホスホニウ
ム、スルホニウム、及びヨードニウムのBF4 -、P
6 -、SbF6 -、SiF6 2-、ClO4 -などの塩、有機
ハロゲン化合物、オルトキノン−ジアジドスルホニルク
ロリド、及び有機金属/有機ハロゲン化合物組合わせ物
も活性光線の照射の際に酸を形成又は分離する活性光線
感光性成分であり、酸発生剤として使用することができ
る。原理的には遊離基形成性の光開始剤として知られる
すべての有機ハロゲン化合物は、ハロゲン化水素酸を形
成する化合物で、酸発生剤として使用することができ
る。
【0010】前記のハロゲン化水素酸を形成する化合物
の例は米国特許明細書第3,515,552号、同第
3,536,489号及び同第3,779,778号及
び西ドイツ国特許公開公報第2,243,621号に記
載されているものが挙げられ、又、例えば西ドイツ国特
許公開公報第2,610,842号に記載の光分解によ
り酸を発生させる化合物も使用することができる。
【0011】また更に特開昭54−74728号公報、
特開昭55−24113号公報、特開昭55−7774
2号公報、特開昭60−3626号公報、特開昭60−
138539号公報に記載の2−ハロメチル−1,3,
4−オキサジアゾール系化合物など具体的には、2−ト
リクロロメチル−5−[β(2−ベンゾフリル)ビニ
ル]−1,3,4−オキサジアゾールを使用することが
できる。
【0012】酸発生剤の具体例としては、特開昭56−
17345号公報に記載のものを挙げることができる。
また、特開昭50−36209号公報に記載されている
o−ナフトキノンジアジト−4−スルホン酸ハロゲニド
を用いることができる。
【0013】本発明において、特に好ましい酸発生剤
は、感度の面から、ジアゾニウム塩及びオキサジアゾー
ル系有機ハロゲン化合物である。さらに、平版印刷版と
して使用される場合には、印刷性能の面から、ジアゾニ
ウム塩が最も好ましい。
【0014】本発明において、酸発生剤として有機ハロ
ゲン化合物が赤外線露光による画像形成における感度及
び画像形成材料の保存性の面から好ましい。該有機ハロ
ゲン化合物としては、ハロゲン置換アルキル基を有する
トリアジン類及びハロゲン置換アルキル基を有するオキ
サジアゾール類が好ましく、ハロゲン置換アルキル基を
有するs−トリアジン類が特に好ましい。
【0015】ハロゲン置換アルキル基を有するオキサジ
アゾール類の具体例としては、特開昭54−74728
号、特開昭55−24113号、特開昭55−7774
2号、特開昭60−3626号及び特開昭60−138
539号各公報に記載の2−ハロメチル−1,3,4−
オキサジアゾール系化合物が挙げられる。これらのう
ち、2−トリクロロメチル−5−{β(2−ベンゾフリ
ル)ビニル}−1,3,4−オキサジアゾール等が好ま
しい。
【0016】上記ハロゲン置換アルキル基を有するs−
トリアジン類としては、下記一般式(1)で表される化
合物が好ましい。
【0017】
【化1】
【0018】一般式(1)において、Rはアルキル基、
ハロゲン置換アルキル基又はアリール基(例えばフェニ
ル基、ナフチル基等)若しくはその置換体を表し、Xは
ハロゲン原子を表す。
【0019】一般式(1)で表されるs−トリアジン類
の具体例を次に示す。
【0020】
【化2】
【0021】
【化3】
【0022】本発明において、酸発生剤の含有量は、そ
の化学的性質及び本発明の画像形成材料の感光層の組成
あるいは物性によって広範囲に変えることができるが、
感光層の固形分の全重量に対して約0.1〜約20重量
%の範囲が適当であり、好ましくは0.2〜10重量%
の範囲である。
【0023】本発明の画像形成材料の感光層に用いられ
る酸で分解し得る結合を少なくとも1つ有する化合物
(以下「酸分解化合物」という)としては、具体的に
は、特開昭48−89003号、同51−120714
号、同53−133429号、同55−12995号、
同55−126236号、同56−17345号の明細
書中に記載されているC−O−C結合を有する化合物、
特開昭60−37549号、同60−121446号の
明細書中に記載されているSi−O−C結合を有する化
合物、特開昭60−3625号、同60−10247号
の明細書中に記載されているその他の酸分解化合物、さ
らにまた特願昭61−16687号の明細書中に記載さ
れているSi−N結合を有する化合物、特願昭61−9
4603号の明細書中に記載されている炭酸エステル、
特願昭60−251744号の明細書中に記載されてい
るオルト炭酸エステル、特願昭61−125473号の
明細書中に記載されているオルトチタン酸エステル、特
願昭61−125474号の明細書中に記載されている
オルトケイ酸エステル、特願昭61−155481号の
明細書中に記載されているアセタール及びケタール、特
願昭61−87769号の明細書中に記載されているC
−S結合を有する化合物などを用いることができる。
【0024】上記のうち、前記特開昭53−13342
9号、同56−17345号、同60−121446
号、同60−37549号の明細書及び特願昭60−2
51744号、同61−155481号の明細書に記載
されているC−O−C結合を有する化合物、Si−O−
C結合を有する化合物、オルト炭酸エステル、アセター
ル類、ケタール類及びシリルエーテル類が好ましい。
【0025】それらの中でも、特開昭53−13342
9号明細書に記載された主鎖中に繰り返しアセタール又
はケタール部分を有し、現像液中でのその溶解度が酸の
作用によって上昇する有機重合化合物、及び特開昭63
−10153号明細書に記載の下記構造単位
【0026】
【化4】
【0027】を有し、酸により分解し得る化合物が特に
好ましい。
【0028】本発明の酸分解化合物の具体的化合物とし
ては前記各明細書に記載された化合物を挙げることがで
きる。また、該化合物の合成方法は、前記各明細書中に
記載されている。
【0029】本発明において、酸分解化合物として、−
(CH2CH2O)n−基(nは2〜5の整数を表す)を
有する化合物が、感度及び現像性のバランスの点から好
ましい。該化合物のうちエチレンオキシ基の連鎖数nは
3又は4の化合物が特に好ましい。
【0030】上記化合物の具体例としては、ジメトキシ
シクロヘキサン、ベンズアルデヒド及びそれらの置換誘
導体と、ジエチレングリコール、トリエチレングリコー
ル、テトラエチレングリコール、ペンタエチレングリコ
ールのいずれかとの縮合生成物が挙げられる。
【0031】また、本発明において、酸分解化合物とし
て下記一般式(2)で表される化合物が感度及び現像性
の点から好ましい。
【0032】
【化5】
【0033】一般式(2)で表される化合物のうち、m
及びnが1又は2である化合物が特に好ましい。
【0034】本発明において、酸分解化合物の含有量
は、感光層を形成する組成物の全固形分に対し、5〜7
0重量%が好ましく、特に好ましくは10〜50重量%
である。本発明の酸分解化合物は1種を単独で用いても
よいし、2種以上を混合して用いてもよい。
【0035】本発明の画像形成材料の感光層に含有させ
る酸の存在下で架橋する化合物(以下「酸架橋化合物」
という)としては、官能基としてアルコキシメチル基、
メチロール基、アセトキシメチル基等を少なくとも2個
有するアミノ化合物、例えば、メラミン誘導体〔ヘキサ
メトキシメチル化メラミン(三井サイアナミッド(株)
製サイメル300シリーズ(1)等)〕、ベンゾグアナ
ミン誘導体〔メチル/エチル混合アルキル化ベンゾグア
ナミン樹脂(三井サイアナミッド(株)製サイメル11
00シリーズ(2))等〕、グリコールウリル誘導体
〔テトラメチロールグリコールウリル(三井サイアナミ
ッド(株)製サイメル1100シリーズ(3))等〕、
また、官能基としてアルコキシメチル基、メチロール
基、アセトキシメチル基等を有する少なくとも2置換の
芳香族化合物、例えば、1,3,5−トリアセトキシメ
チルベンゼン、1,2,4,5−テトラアセトキシメチ
ルベンゼン等が挙げられ、これらはPolym.Mas
ter.Sci.Eng.,64,241(1991)
に記載の手法により合成することができる。
【0036】酸架橋化合物として、上記に加えてレゾー
ル樹脂及びフラン樹脂も使用することができる。さら
に、以下に示す単量体を含む単量体から合成されるアク
リル樹脂を使用することができる。
【0037】N−メチロールアクリルアミド、N−メチ
ロールメタクリルアミド、N,N−ジメチロールアクリ
ルアミド、N,N−ジメチロールメタクリルアミド、N
−(2−ヒドロキシエチル)アクリルアミド、N−(2
−ヒドロキシエチル)メタクリルアミド、N,N−ジ
(2−ヒドロキシエチル)アクリルアミド、N,N−ジ
(2−ヒドロキシエチル)メタクリルアミド、N−ヒド
ロキシメチル−N−(2−ヒドロキシエチル)アクリル
アミド、N−ヒドロキシメチル−N−(2−ヒドロキシ
エチル)メタクリルアミド、ヒドロキシエチルビニルエ
ーテル、ビニルベンジルアルコール、α−メチルビニル
ベンジルアルコール、ビニルベンジルアセテート、α−
メチルビニルベンジルアセテート、ビニルフェネチルア
ルコール、α−メチルビニルフェネチルアルコール、ビ
ニルフェネチルアセテート、α−メチルビニルフェネチ
ルアセテートのいずれかを1〜50モル%、好ましくは
5〜30モル%共重合体させる態様である。
【0038】また、本発明の感光層に含有させる固形微
粒子の表面を、以上のような酸架橋化合物に含まれる架
橋基で修飾した素材を使用することができる。
【0039】本発明の酸架橋化合物の含有量は、感光層
を形成する組成物の全固形分に対し、5〜60重量%が
好ましく、特に好ましくは20〜45重量%である。酸
架橋化合物は1種を単独で用いてもよいし、2種以上を
混合して用いてもよい。
【0040】本発明の画像形成材料の感光層に用いられ
る赤外線吸収剤としては、波長700nm以上に吸収を
持つ赤外吸収色素、カーボンブラック、磁性粉等を使用
することができる。特に好ましい赤外線吸収剤は700
〜850nmに吸収ピークを有し、ピークでのモル吸光
係数εが105以上である赤外吸収色素である。
【0041】上記赤外吸収色素としては、シアニン系色
素、スクアリウム系色素、クロコニウム系色素、アズレ
ニウム系色素、フタロシアニン系色素、ナフタロシアニ
ン系色素、ポリメチン系色素、ナフトキノン系色素、チ
オピリリウム系色素、ジチオール金属錯体系色素、アン
トラキノ系色素、インドアニリン金属錯体系色素、分子
間CT色素等が挙げられる。
【0042】また、上記赤外吸収色素として、特開昭6
3−139191号、同64−33547号、特開平1
−160683号、同1−280750号、同1−29
3342号、同2−2074号、同3−26593号、
同3−30991号、同3−34891号、同3−36
093号、同3−36094号、同3−36095号、
同3−42281号、同3−103476号等に記載の
化合物が挙げられる。
【0043】本発明において、赤外線吸収剤として、下
記一般式(3)又は(4)で表されるシアニン染料が特
に好ましい。
【0044】
【化6】
【0045】上記式中、Z1及びZ2は各々硫黄原子、セ
レン原子又は酸素原子を表し、X1及びX2は各々置換基
を有していてもよいベンゾ縮合環又はナフト縮合環を形
成するのに必要な非金属原子群を表し、R1及びR2は各
々置換基を表し、R1及びR2のどちらか一方はアニオン
性解離性基を有する。R3、R4、R5及びR6は各々炭素
原子数1〜3のアルキル基、水素原子又はハロゲン原子
を表す。Lは炭素原子数5〜13の共役結合の連鎖を表
す。
【0046】一般式(3)又は(4)で表されるシアニ
ン色素は、該一般式(3)又は(4)がカチオンを形成
し、対アニオンを有するものを包含する。この場合、対
アニオンとしては、Cl-、Br-、ClO4 -、BF4 -
t−ブチルトリフェニルホウ素等のアルキルホウ素等が
挙げられる。
【0047】一般式(3)又は(4)において、Lで表
される共役結合の連鎖の炭素原子数(n)は、画像露光
の光源として赤外線を放射するレーザーが使用される場
合、該レーザーの発信波長に合わせて有効な値を選択す
ることが好ましい。例えば、発信波長1060nmのY
AGレーザーを使用する場合は、nは9〜13が好まし
い。また、この共役結合部分は任意の置換基を有するこ
とができ、また、共役結合部分は複数の置換基により環
を形成させてもよい。
【0048】一般式(3)又は(4)において、X1
表される環及びX2で表される環には任意の置換基を有
することができる。該置換基としてハロゲン原子、炭素
原子数1〜5のアルキル基、炭素原子数1〜5のアルコ
キシ基、−SO3M及び−COOM(Mは水素原子又は
アルカリ金属原子)から選ばれる基が好ましい。
【0049】R1及びR2は任意の置換基であるが、好ま
しくは、炭素原子数1〜5のアルキル基若しくはアルコ
キシ基;−(CH2n−O−)k−(CH2mOR(n
及びmは各々1〜3の整数、kは0又は1、Rは炭素原
子数1〜5のアルキル基を表す。);R1及びR2の一方
が−R−SO3Mで他方が−R−SO3 -(Rは炭素原子
数1〜5のアルキル基、Mはアルカリ金属原子を表
す。);又はR1及びR2の一方が−R−COOMで他方
が−COO-(Rは炭素原子数1〜5のアルキル基、M
はアルカリ金属原子を表す。)である。R1及びR2は、
感度及び現像性の点から、R1及びR2の一方が−R−S
3 -又は−R−COO-、他方が−R−SO3M又は−R
−COOMであることが好ましい。
【0050】一般式(3)又は(4)で表されるシアニ
ン色素は、画像露光の光源として半導体レーザーを使用
する場合は750〜900nmにおいて、YAGレーザ
ーを使用する場合は900〜1200nmにおいて吸収
ピークを示し、ε>1×105のモル吸光係数を有する
ものが好ましい。
【0051】本発明に好ましく用いられる赤外線吸収剤
の代表的具体例を以下に挙げるが、これらに限定されな
い。
【0052】
【化7】
【0053】
【化8】
【0054】
【化9】
【0055】
【化10】
【0056】
【化11】
【0057】
【化12】
【0058】
【化13】
【0059】
【化14】
【0060】
【化15】
【0061】
【化16】
【0062】
【化17】
【0063】
【化18】
【0064】これらの色素は公知の方法によって合成す
ることができるが、下記のような市販品を用いることも
できる。
【0065】日本化薬:IR750(アントラキノン
系);IR002,IR003(アルミニウム系);I
R820(ポリメチン系);IRG022,IRG03
3(ジインモニウム系);CY−2,CY−4,CY−
9,CY−20 三井東圧:KIR103,SIR103(フタロシアニ
ン系);KIR101,SIR114(アントラキノン
系);PA1001,PA1005,PA1006,S
IR128(金属錯体系) 大日本インキ化学:Fastogen blue812
0 みどり化学:MIR−101,1011,1021 その他、日本感光色素、住友化学、富士写真フイルム等
の各社からも市販されている。
【0066】本発明において、赤外線吸収剤の添加量
は、0.5〜5wt%の範囲が好ましい。該添加量が5
wt%を越えると非画像部の現像性が低下し、0.5w
t%未満では画像部の耐現像性が低下する。
【0067】本発明の画像形成材料の感光層に含有させ
る固形微粒子としては、架橋若しくは未架橋のポリメチ
ルメタクリレート、ポリスチレン、ポリエチレン、ポリ
プロピレン、エチレン−プロピレン共重合体、エチレン
−酢酸ビニル共重合体、ポリエチレンテレフタレート、架
橋されたビニル重合体等で形成された微粒子、二酸化ケ
イ素の微粒子(例えばコロイダルシリカ)、ケイソウ
土、酸化亜鉛、酸化チタン、酸化ジルコニウム、ガラ
ス、アルミナ、デキストリン、澱粉(例えばライススタ
ーチ)、ステアリン酸カルシウム、ステアリン酸亜鉛、
多糖脂肪酸エステル、ポリ酢酸ビニル、ポリビニリデン
クロライド、ポリエチレンオキシド、ポリエチレングリ
コール、ポリアクリル酸、ポリアクリルアミド、ポリア
クリル酸アルキルエステル、ポリスチレン及びポリスチ
レン誘導体並びにこれらの重合体の単量体を用いた共重
合体、ポリビニルメチルエーテル、エポキシ樹脂、可融
性フェノール樹脂、ポリアミド、ポリビニルブチラール
等で形成された微粒子が挙げられる。本発明において、
固形微粒子としては、シリカ粒子又は架橋アクリル樹脂
粒子が好ましい。
【0068】本発明において、固形微粒子の平均粒径は
0.01〜0.5μmの範囲が好ましい。固形微粒子の
平均粒径は、例えば、拡散型粒度分布計で測定すること
ができ、ピークは「粒径−重量%」のデータから読み取
った値である。
【0069】本発明において、感光層には結合剤を含有
させることができる。結合剤として例えば高分子量結合
剤を用いることができ、高分子量結合剤としては、例え
ばノボラック樹脂やヒドロキシスチレン単位を有する重
合体や後記する一般式(5)で表される構造単位を有す
る重合体、その他公知のアクリル樹脂等を挙げることが
できる。
【0070】該ノボラック樹脂としては、例えばフェノ
ール・ホルムアルデヒド樹脂、クレゾール・ホルムアル
デヒド樹脂、特開昭55−57841号公報に記載され
ているようなフェノール・クレゾール・ホルムアルデヒ
ド共重縮合体樹脂、特開昭55−127553号公報に
記載されているような、p−置換フェノールとフェノー
ルもしくは、クレゾールとホルムアルデヒドとの共重縮
合体樹脂等が挙げられる。
【0071】ヒドロキシスチレン単位を有する重合体と
しては、例えば特公昭52−41050号公報に記載さ
れているポリヒドロキシスチレンやヒドロキシスチレン
共重合体などを挙げることができる。
【0072】一般式(5)で表される構造単位を有する
重合体とは、該構造単位のみの繰り返し構造を有する単
独重合体、あるいは該構造単位と他のビニル系単量体の
不飽和二重結合を開裂せしめた構造で示される構造単位
1種以上とを組み合わせた共重合体である。
【0073】
【化19】
【0074】一般式(5)において、R1及びR2はそれ
ぞれ、水素原子、メチル基やエチル基等のアルキル基又
はカルボン酸基を表し、好ましくは水素原子である。R
3は水素原子、塩素原子や臭素原子等のハロゲン原子又
はメチル基、エチル基等のアルキル基を表し、好ましく
は水素原子又はメチル基である。R4は水素原子、メチ
ル基やエチル基等のアルキル基、フェニル基又はナフチ
ル基を表す。
【0075】Yは置換基を表すものも含むフェニレン基
又はナフチレン基を表し、置換基としてはメチル基やエ
チル基等のアルキル基、塩素原子や臭素原子等のハロゲ
ン原子、カルボン酸基、メトキシ基やエトキシ基等のア
ルコキシ基、水酸基、スルホン酸基、シアノ基、ニトロ
基、アシル基等が挙げられるが、好ましくは置換基を有
しないか、あるいはメチル基で置換されているものであ
る。
【0076】Xは窒素原子と芳香族炭素原子とを連結す
る2価の有機基で、nは0〜5の整数を表し、好ましく
はnが0のときである。
【0077】一般式(5)で表される構造単位を有する
重合体は、さらに具体的に、例えば下記(a)〜(h)
で表すことができる。
【0078】
【化20】
【0079】(a)〜(h)において、R1〜R5はそれ
ぞれ水素原子、アルキル基又はハロゲン原子を表し、X
はアルキル基又はハロゲン原子を表す。またm、n、
l、k及びsはそれぞれの構造単位のモル%を表す。
【0080】また、ノボラック樹脂、ヒドロキシスチレ
ン単位を有する重合体、一般式(4)で表される構造単
位を有する重合体及びアクリル樹脂は併用することもで
きる。
【0081】更に、本発明の感光性組成物には、該感光
性組成物の感脂性を向上するために親油性の樹脂を添加
することができる。
【0082】前記親油性の樹脂としては、例えば、特開
昭50−125806号公報に記載されているような、
炭素数3〜15のアルキル基で置換されたフェノール類
とアルデヒドの縮合物、例えばtブチルフェノールホル
ムアルデヒド樹脂などが使用可能である。
【0083】本発明の画像形成材料の感光層には必要に
応じて、更に上記以外の色素、顔料、増感剤等を含有さ
せることができる。
【0084】本発明の感性層は、前記各成分を溶解する
下記の溶媒に溶解させて、これらを適当な支持体の表面
に塗布乾燥させることにより感性層を設けて本発明の画
像形成材料とすることができる。
【0085】上記溶媒としては、プロピレングリコール
モノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチル
エーテル、メチルセロソルブ、メチルセロソルブアセテ
ート、エチルセロソルブ、エチルセロソルブアセテー
ト、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、ジ
オキサン、アセトン、シクロヘキサノン、トリクロロエ
チレン、メチルエチルケトン等が挙げられる。これら溶
媒は、単独であるいは2種以上混合して使用する。
【0086】塗布方法は、従来公知の方法、例えば、回
転塗布、ワイヤーバー塗布、ディップ塗布、エアーナイ
フ塗布、ロール塗布、ブレード塗布及びカーテン塗布等
が可能である。塗布量は用途により異なるが、例えば、
感光性平版印刷版についていえば固形分として0.5〜
5.0g/m2が好ましい。
【0087】本発明の感光層を設ける支持体は、アルミ
ニウム、亜鉛、鋼、銅等の金属板、並びにクロム、亜
鉛、銅、ニッケル、アルミニウム、鉄等がメッキ又は蒸
着された金属板、紙、プラスチックフィルム及びガラス
板、樹脂が塗布された紙、アルミニウム等の金属箔が張
られた紙、親水化処理したプラスチックフィルム等が挙
げられる。このうち好ましいのはアルミニウム板であ
る。本発明を感光性平版印刷版に適用するとき、支持体
として、砂目立て処理、陽極酸化処理及び必要に応じて
封孔処理等の表面処理等が施されているアルミニウム板
を用いることが好ましい。これらの処理には公知の方法
を適用することができる。
【0088】砂目立て処理の方法としては、例えば機械
的方法、電解によりエッチングする方法が挙げられる。
機械的方法としては、例えばボール研磨法、ブラシ研磨
法、液体ホーニングによる研磨法、バフ研磨法等が挙げ
られる。アルミニウム材の組成等に応じて上述の各種方
法を単独あるいは組合わせて用いることができる。
【0089】電解によりエッチングするには、リン酸、
硫酸、塩酸、硝酸等の無機の酸を単独ないし2種以上混
合した浴を用いて行われる。砂目立て処理の後、必要に
応じてアルカリあるいは酸の水溶液によってデスマット
処理を行い中和して水洗する。
【0090】陽極酸化処理は、電解液として、硫酸、ク
ロム酸、シュウ酸、リン酸、マロン酸等を1種又は2種
以上含む溶液を用い、アルミニウム板を陽極として電解
して行われる。形成された陽極酸化被膜量は1〜50m
g/dm2が適当であり、好ましくは10〜40mg/
dm2であり、特に好ましくは25〜40mg/dm2
ある。陽極酸化被膜量は、例えばアルミニウム板をリン
酸クロム酸浴液(リン酸85%液:35ml、酸化クロ
ム(IV):20gを1lの水に溶解して作製)に浸漬
し、酸化被膜を溶解し、板の被膜溶解前後の重量変化測
定から求められる。
【0091】封孔処理は、沸騰水処理、水蒸気処理、ケ
イ酸ソーダ処理、重クロム酸塩水溶液処理等が具体例と
して挙げられる。この他にアルミニウム板支持体に対し
て、水溶性高分子化合物や、フッ化ジルコン酸等の金属
塩の水溶液による下引き処理を施すこともできる。
【0092】本発明の画像形成材料には波長700nm
以上の光源を用い画像露光を行う。光源としては、半導
体レーザー、He−Neレーザー、YAGレーザー、炭
酸ガスレーザー等が挙げられる。出力は50mW以上が
適当であり、好ましくは100mW以上である。
【0093】本発明の画像形成材料の現像に用いられる
現像液としては、水系アルカリ現像液が好適である。水
系アルカリ現像液としては、例えば水酸化ナトリウム、
水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、メタ
ケイ酸ナトリウム、メタケイ酸カリウム、第二リン酸ナ
トリウム、第三リン酸ナトリウム等のアルカリ金属塩の
水溶液が挙げられる。前記アルカリ金属塩の濃度は0.
05〜20重量%の範囲で用いるのが好適であり、より
好ましくは、0.1〜10重量%である。
【0094】本発明の画像形成方法において、現像液に
は、必要に応じアニオン性界面活性剤、両性界面活性剤
やアルコール等の有機溶剤を加えることができる。
【0095】有機溶剤としては、プロピレングリコー
ル、エチレングリコールモノフェニルエーテル、ベンジ
ンアルコール、n−プロピルアルコール等が有用であ
る。
【0096】
【実施例】次に、本発明を実施例で更に具体的に説明す
る。
【0097】実施例1 支持体の作成 厚さ0.24mmのアルミニウム板(材質1050、調
質H16)を5%苛性ソーダ水溶液中で60℃で1分間
脱脂処理を行った後、0.5モル1lの塩酸水溶液中で
温度;25℃、電流密度;60A/dm2、処理時間;
30秒の条件で電解エッチング処理を行った。次いで、
5%苛性ソーダ水溶液中で60℃、10秒間のデスマッ
ト処理を施した後、20%硫酸溶液中で温度;20℃、
電流密度;3A/dm2、処理時間;1分間の条件で陽
極酸化処理を行った。更に又、30℃の熱水で20秒
間、熱水封孔処理を行い、平版印刷版材料用支持体のア
ルミニウム板を作製した。
【0098】酸分解化合物Aの合成 ジメトキシシクロヘキサン(0.5モル)、フェニルセ
ロソルブ(1.0モル)及びp−トルエンスルホン酸8
0mgを撹拌しながら100℃で1時間反応させ、その
後150℃まで徐々に温度を上げ、更に150℃で4時
間反応させた。反応により生成するメタノールはこの間
に留去した。冷却後、テトラヒドロフラン500ml及
び無水炭酸カリウム2.5gを加えて撹拌し濾過した。
濾液から溶媒を減圧留去し、更に150℃、高真空下で
低沸点成分を留去し、粘調な油状の下記酸分解化合物A
を得た。
【0099】
【化21】
【0100】前記支持体上に下記組成の感光層塗布液を
乾燥後の膜厚が2g/m2になるように塗布し100℃
で2分間乾燥して画像形成材料を得た。
【0101】 感光層塗布液の組成 バインダーA 60重量部
【0102】
【化22】
【0103】 酸分解化合物A 20重量部 酸発生剤A(2−トリクロロメチル−5−〔β−(2−ベンゾフリル) ビニル〕−1,3,4−オキサジアゾール) 10重量部 赤外線吸収剤 例示化合物IR18 10重量部 シリカ粒子(平均粒径0.5μm) 20重量部 プロピレングリコールモノメチルエーテル 1000重量部 上記画像形成材料を、半導体レーザー(波長830n
m、出力500mW)で画像露光を行った。レーザー光
径はピークにおける強度の1/e2で13μmであっ
た。また、解像度は走査方向、副走査方向とも2000
DPIとした。露光後、赤外線ヒーターを用い感光層を
120℃で30秒間熱処理した。さらに、ポジPS版用
現像液SDR−1(コニカ(株)製)を水で容積比6倍
に希釈した27℃の現像液に25秒間浸漬し、非画像部
(露光部)を除去した後、水洗し平版印刷版を製造し
た。感度は、露光部が現像されるに必要な露光エネルギ
ーで評価した。
【0104】実施例2 実施例1の感光層塗布液の組成中のシリカ粒子20重量
部を平均粒径0.1μmのポリメチルメタクリレート架
橋樹脂からなる粒子20重量部に変えた感光層塗布液を
用いた外は実施例1と同様の実験を行った。
【0105】比較例1 実施例1の感光層塗布液の組成からシリカ粒子を除いた
感光層塗布液を用いた外は実施例1と同様の実験を行っ
た。
【0106】実施例3 感光層塗布液の組成を下記のとおりに変えた外は実施例
1と同様の実験を行った。
【0107】 感光層塗布液の組成 赤外線吸収剤 例示化合物IR18 2重量部 酸発生剤A(2−トリクロロメチル−5−〔β−(2−ベンゾフリン) ビニル〕−1,3,4−オキサジアゾール) 3重量部 レゾール樹脂(昭和高分子製、ショーノール CKP918)45重量部 ノボラック樹脂 45重量部 平均粒径0.1μmのポリメチルメタクリレート架橋樹脂からなる粒子 20重量部 プロピレングリコールモノメチルエーテル 1000重量部 比較例2 実施例3の感光層塗布液の組成からポリメチルメタクリ
レート架橋樹脂からなる粒子を除いた感光層塗布液を用
いた外は実施例3と同様の実験を行った。
【0108】実施例4 感光層塗布液の組成を下記のとおりに変えた外は実施例
1と同様の実験を行った。
【0109】 感光層塗布液の組成 赤外線吸収剤 例示化合物IR18 2重量部 酸発生剤A(2−トリクロロメチル−5−〔β−(2−ベンゾフリン) ビニル〕−1,3,4−オキサジアゾール) 3重量部 ヘキサメチロールメラミン 25重量部 ノボラック樹脂 45重量部 平均粒径0.1μmのポリメチルメタクリレート架橋樹脂の粒子 20重量部 プロピレングリコールモノメチルエーテル 1000重量部 比較例3 実施例4の感光層塗布液の組成からポリメチルメタクリ
レート架橋樹脂の粒子を除いた感光層塗布液を用いた外
は実施例4と同様の実験を行った。
【0110】実施例5 実施例3の感光層塗布液の組成中のレゾール樹脂を下記
高分子結合剤Bに変えた外は実施例3と同様の実験を行
った。
【0111】高分子結合剤Bの合成 温度計、還流冷却管、撹拌装置、加熱装置、窒素気流導
入管を備えた500mlの四首フラスコ中に、アセトン
125mlとメタノール125mlの混合溶媒を入れ、
モノマーとしてエチルアクリレート9.0g(0.09
mol)、エチルメタクリレート34.2g(0.30
mol)、アクリロニトリル15.9g(0.30mo
l)、メタクリル酸0.86g(0.01mol)、ビ
ニルベンジルアセテート35.2g(0.2mol)、
及び4−ヒドロキシフェニルメタクリルアミド51.6
g(0.30mol)を溶解した。更に重合開始剤とし
てアゾビスイソブチロニトリル3.28g(0.02m
ol)を溶解し、窒素気流下で強撹拌しながら加熱し、
約60℃で6時間還流させた。反応終了後、反応液を室
温まで冷却させた後、水中に投じて高分子化合物を沈殿
させた。これをろ取し、50℃で24時間真空乾燥させ
たところ、アルカリ可溶アクリル共重合体が100g得
られた。モノマー合計量からの収率は90%であった。
【0112】得られたアルカリ可溶アクリル共重合体
(高分子結合剤B)の重量平均分子量は、ゲルパーミエ
ーションクロマトグラフィー(GPC)によりプルラン
標準、N,N−ジメチルホルムアミド(DMF)溶媒で
測定したところ、50000であった。
【0113】比較例4 実施例5の感光層塗布液の組成からポリメチルメタクリ
レート架橋樹脂の粒子を除いた感光層塗布液を用いた外
は実施例5と同様の実験を行った。
【0114】以上の結果を下記表1に示す。
【0115】
【表1】
【0116】
【発明の効果】本発明によれば、赤外線による露光で画
像形成が可能なポジ型又はネガ型の画像形成材料であっ
て、赤外線に対する感度が改良された画像形成材料並び
にそれを用いた画像形成方法が提供される。
【0117】また、本発明によれば、酸発生剤と酸分解
性化合物とを含有するか、酸発生剤と酸で架橋する化合
物とを含有する感光層を有する画像形成材料であって赤
外線に対する感度が改良された画像形成材料並びにそれ
を用いた画像形成方法が提供される。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 FI G03F 7/038 601 G03F 7/038 601 7/039 601 7/039 601 7/20 505 7/20 505

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 支持体上に、活性光線の照射により酸を
    発生し得る化合物、酸の存在下で分解又は架橋する化合
    物、赤外線吸収剤及び固形微粒子を含有する感光層を有
    することを特徴とする画像形成材料。
  2. 【請求項2】 請求項1記載の画像形成材料の感光層上
    に赤外線を用いて画像を描画した後、アルカリ性現像液
    で露光部を除去することを特徴とする画像形成方法。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2004117619A (ja) * 2002-09-25 2004-04-15 Matsushita Electric Ind Co Ltd パターン形成材料、水溶性材料及びパターン形成方法
JP2006309245A (ja) * 2005-05-01 2006-11-09 Rohm & Haas Electronic Materials Llc 液浸リソグラフィーのための組成物および方法
JP2008191644A (ja) * 2006-10-30 2008-08-21 Rohm & Haas Electronic Materials Llc 液浸リソグラフィーのための組成物および方法

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