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JPH10106258A - Semiconductor memory device - Google Patents

Semiconductor memory device

Info

Publication number
JPH10106258A
JPH10106258A JP8251423A JP25142396A JPH10106258A JP H10106258 A JPH10106258 A JP H10106258A JP 8251423 A JP8251423 A JP 8251423A JP 25142396 A JP25142396 A JP 25142396A JP H10106258 A JPH10106258 A JP H10106258A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
line
write
bit
word line
memory cell
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP8251423A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Hideo Nagano
英生 長野
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Electric Corp filed Critical Mitsubishi Electric Corp
Priority to JP8251423A priority Critical patent/JPH10106258A/en
Publication of JPH10106258A publication Critical patent/JPH10106258A/en
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain simplification and a large capacity of the circuit of a semiconductor memory device by providing the device with a discharging element for discharging electric charges of a write word line corresponding to one off operations of first and second control elements which are controlled by a bit selection line and a word selection line. SOLUTION: When both bit selection lien 54 and word selection lien 55 are selected for writing data, N-ch type transistors 51, 52 are turned on, and a write word line or a write word line 56 is charged to be at an H level. When the transistors 51, 52 have the same charge speed to the write word line 56 for the N-ch type transistor as in the prior art, it can be realized with a smaller area than in the prior art. When a write address is non-selected, any one of the bit selection line 54 and the word selection line 55 is non-selected, the N-ch type transistor 51 or 52 is turned off, and electric charges of the write word line are set at an L level by a transistor 53 which is always turned on.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】この発明は、複数のダイナミ
ック型メモリセルからなるメモリセル群を備えた半導体
記憶装置に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor memory device having a memory cell group including a plurality of dynamic memory cells.

【0002】[0002]

【従来の技術】図1に、メモリセル周辺回路を示す。図
1において、300はダイナミック型のメモリセル10
0からなるメモリセル群であり、図1に300で示す部
分は、nビット幅構成の1番地分のメモリセルを示すも
のである。1はビット選択線、2はワード選択線、20
0はビット選択線1とワード選択線2の信号を制御する
NOR回路、3はNOR回路の出力で書き込み動作を行
う書き込みワード線すなわちライトワード線、4・6は
書き込みビット線すなわちライトビット線、5・7は読
み出しビット線すなわちリードビット線、8は読み出し
ワード線すなわちリードワード線である。
2. Description of the Related Art FIG. 1 shows a peripheral circuit of a memory cell. In FIG. 1, reference numeral 300 denotes a dynamic memory cell 10.
A memory cell group consisting of 0s, and a portion indicated by 300 in FIG. 1 indicates a memory cell for one address having an n-bit width configuration. 1 is a bit select line, 2 is a word select line, 20
0 is a NOR circuit for controlling signals on the bit select line 1 and the word select line 2, 3 is a write word line for performing a write operation at the output of the NOR circuit, that is, a write word line, 4.6 is a write bit line, that is, a write bit line, Reference numerals 5 and 7 are read bit lines, that is, read bit lines, and 8 is a read word line, that is, read word lines.

【0003】図2に、ダイナミック型のメモリセル10
0の回路図を示す。図2において、21は書き込みアク
セス用トランジスタ、22は電荷蓄積用のキャパシタン
ス、23は読み出しビット線すなわちリードビット線ド
ライブ用トランジスタ、24は読み出しアクセス用トラ
ンジスタ、25は書き込みビット線すなわちライトビッ
ト線、26は書き込みワード線すなわちライトワード
線、27は読み出しワード線すなわちリードワード線、
28は読み出しビット線すなわちリードビット線であ
る。
FIG. 2 shows a dynamic memory cell 10.
0 shows a circuit diagram. In FIG. 2, 21 is a write access transistor, 22 is a charge storage capacitance, 23 is a read bit line or read bit line drive transistor, 24 is a read access transistor, 25 is a write bit line or write bit line, 26 Is a write word line or write word line, 27 is a read word line or read word line,
28 is a read bit line, that is, a read bit line.

【0004】図8に、従来の技術におけるNOR回路2
00の回路図を示す。31・32はPチャネル型トラン
ジスタ(以下、Pch型トランジスタという)、33・
34はNチャネル型トランジスタ(以下、Nch型トラ
ンジスタという)、35はビット選択線、36はワード
選択線、37は書き込みワード線すなわちライトワード
線である。
FIG. 8 shows a conventional NOR circuit 2.
FIG. 31 and 32 are P-channel transistors (hereinafter referred to as Pch transistors),
34 is an N-channel transistor (hereinafter, referred to as an Nch transistor), 35 is a bit selection line, 36 is a word selection line, and 37 is a write word line, that is, a write word line.

【0005】以上のように構成された従来の半導体記憶
装置の動作について説明する。まず、書き込み番地を選
択する場合、図3に示すようにビットデコーダとワード
デコーダによって交差した番地にのみ書き込みを行うた
めに、図1のNOR回路200によって制御をしてい
る。つまり、ビット選択線とワード選択線がともにLの
とき、Pch型トランジスタ31あるいは32がオンす
ることで、図8に示すNOR回路200の出力がHレベ
ルに充電され、図2に示す書き込みアクセス用トランジ
スタ21がオンし、データが書き込みビット線すなわち
ライトワード線37から電荷蓄積用のキャパシタンスに
書き込まれる。
The operation of the conventional semiconductor memory device configured as described above will be described. First, when a write address is selected, as shown in FIG. 3, control is performed by the NOR circuit 200 of FIG. 1 in order to write data only at an address crossed by a bit decoder and a word decoder. That is, when both the bit select line and the word select line are at L level, the output of the NOR circuit 200 shown in FIG. 8 is charged to the H level by turning on the Pch transistor 31 or 32, and the write access signal shown in FIG. The transistor 21 is turned on, and data is written from the write bit line, that is, the write word line 37, to the charge storage capacitance.

【0006】次に、書き込み番地を非選択にする場合、
前記ビット選択線あるいはワード選択線のどちらかが非
選択線となり、Pch型トランジスタ31あるいは32
がオフし、反対にNch型トランジスタ33あるいは3
4がオンするため、書き込みワード線すなわちライトワ
ード線37の電荷をこのNch型トランジスタでLレベ
ルに引き抜き、メモリの書き込み用トランジスタをオフ
させることによって行う。
Next, when the write address is not selected,
Either the bit selection line or the word selection line becomes a non-selection line, and the Pch type transistor 31 or 32
Is turned off, and conversely, the Nch type transistor 33 or 3
4 is turned on, the charge of the write word line, that is, the write word line 37 is pulled down to L level by the Nch type transistor, and the write transistor of the memory is turned off.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】ここで、上記NOR回
路は1番地に1個必要であり、メモリ容量が増加するに
つれ、それに比例してNOR回路の数も増加する。この
NOR回路は図8に示すように4個のトランジスタで構
成されており大きな面積を占めていた。このためメモリ
の大容量化を困難にしていた。
Here, one NOR circuit is required at one address, and as the memory capacity increases, the number of NOR circuits increases in proportion thereto. This NOR circuit is composed of four transistors as shown in FIG. 8 and occupies a large area. This makes it difficult to increase the capacity of the memory.

【0008】この発明は、このような課題を解決するた
めになされたものでありNOR回路の簡略化を図ること
で、今まで困難であった大容量化を可能にする手段を提
供するものである。
The present invention has been made to solve such a problem, and provides means for increasing the capacity, which has been difficult until now, by simplifying the NOR circuit. is there.

【0009】第1の発明は、ライトワード線と接地部と
の間に接続されて電源入力印加時に常時導通状態とさ
れ、ビット選択線およびワード選択線により制御される
第1および第2の制御素子の一方のオフ動作に応じライ
トワード線の電荷を放電する放電用素子を設けて、第1
および第2の制御素子ならびに放電用素子からなるNO
R回路を簡略化でき、大容量化を可能とする半導体記憶
装置を得ようとするものである。
According to a first aspect of the present invention, first and second control units are connected between a write word line and a ground unit, are always in a conductive state when a power supply is applied, and are controlled by a bit select line and a word select line. A discharge element for discharging the electric charge of the write word line in response to one of the off-operations of the element;
And NO composed of the second control element and the discharging element
An object of the present invention is to provide a semiconductor memory device that can simplify the R circuit and increase the capacity.

【0010】第2の発明は、第1および第2の制御素子
ならびに放電用素子をトランジスタにより構成して、第
1および第2の制御素子ならびに放電用素子からなるN
OR回路を簡略化でき、大容量化を可能とする半導体記
憶装置を得ようとするものである。
According to a second aspect of the present invention, the first and second control elements and the discharging element are constituted by transistors, and the first and second control elements and the discharging element are formed of N.
An object of the present invention is to provide a semiconductor memory device which can simplify an OR circuit and can increase the capacity.

【0011】第3の発明は、放電用素子を構成するトラ
ンジスタのゲートを電源に接続し、ソースを接地部に接
続し、ドレインをライトワード線に接続して、第1およ
び第2の制御素子ならびに放電用素子からなるNOR回
路を簡略化でき、大容量化を可能とする半導体記憶装置
を得ようとするものである。
According to a third aspect of the present invention, the first and second control elements are connected by connecting a gate of a transistor constituting a discharging element to a power supply, connecting a source to a ground portion, and connecting a drain to a write word line. Another object of the present invention is to provide a semiconductor memory device that can simplify a NOR circuit including a discharge element and can increase the capacity.

【0012】第4の発明は、放電用素子を構成するトラ
ンジスタを、Nチャネル型トランジスタとして、第1お
よび第2の制御素子ならびに放電用素子からなるNOR
回路を簡略化でき、大容量化を可能とする半導体記憶装
置を得ようとするものである。
According to a fourth aspect of the present invention, a transistor constituting a discharging element is an N-channel transistor, and a NOR comprising first and second control elements and a discharging element is provided.
It is an object of the present invention to obtain a semiconductor memory device whose circuit can be simplified and whose capacity can be increased.

【0013】第5の発明は、第1および第2の制御素子
をトランジスタにより構成するとともに、放電用素子を
抵抗により構成して、第1および第2の制御素子ならび
に放電用素子からなるNOR回路を簡略化でき、大容量
化を可能とする半導体記憶装置を得ようとするものであ
る。
According to a fifth aspect of the present invention, the first and second control elements are constituted by transistors, and the discharge element is constituted by resistors, so that a NOR circuit comprising the first and second control elements and the discharge element is provided. Is intended to obtain a semiconductor memory device capable of simplifying the process and increasing the capacity.

【0014】第6の発明は、放電用素子を構成する抵抗
の一端を接地部に接続し、他端をライトワード線に接続
して、第1および第2の制御素子ならびに放電用素子か
らなるNOR回路を簡略化でき、大容量化を可能とする
半導体記憶装置を得ようとするものである。
According to a sixth aspect of the present invention, one end of a resistor constituting a discharging element is connected to a ground portion, and the other end is connected to a write word line, and comprises a first and a second control element and a discharging element. It is an object of the present invention to obtain a semiconductor memory device in which a NOR circuit can be simplified and a capacity can be increased.

【0015】第7の発明は、第1および第2の制御素子
をNチャネル型トランジスタにより構成して、第1およ
び第2の制御素子ならびに放電用素子からなるNOR回
路を簡略化でき、大容量化を可能とする半導体記憶装置
を得ようとするものである。
According to a seventh aspect of the present invention, the first and second control elements are constituted by N-channel transistors, so that the NOR circuit comprising the first and second control elements and the discharging element can be simplified, and a large capacity can be obtained. It is an object of the present invention to obtain a semiconductor memory device that can be integrated.

【0016】[0016]

【課題を解決するための手段】第1の発明の半導体記憶
装置においては、複数のダイナミック型メモリセルから
なるメモリセル群と、このメモリセル群から読み出され
た信号を出力に伝えるためのリードビット線と、入力デ
ータを前記メモリセル群へ書き込むためのライトビット
線と、前記メモリセルへの書き込みを制御するライトワ
ード線と、前記メモリセルからの読み出しを制御するリ
ードワード線と、前記ライトビット線を選択するための
ビット選択線と、前記ライトワード線を選択するための
ワード選択線と、前記ビット選択線およびワード選択線
を入力とし、ライトワード線を出力とする書き込み制御
回路とを備えたラインメモリからなる半導体記憶装置に
おいて、前記書き込み制御回路は、前記ビット選択線に
より制御される第1の制御素子と、前記ワード選択線に
より制御され、前記第1の制御素子と直列に前記ライト
ワード線と電源との間に接続される第2の制御素子と、
前記ライトワード線と接地部との間に接続されて電源入
力印加時に常時導通状態とされ、前記ビット選択線およ
びワード選択線により制御される第1および第2の制御
素子の一方のオフ動作に応じライトワード線の電荷を放
電する放電用素子とを有することを特徴とする。
According to a first aspect of the present invention, there is provided a semiconductor memory device including a memory cell group including a plurality of dynamic memory cells and a read for transmitting a signal read from the memory cell group to an output. A bit line, a write bit line for writing input data to the memory cell group, a write word line for controlling writing to the memory cell, a read word line for controlling reading from the memory cell, A bit selection line for selecting a bit line, a word selection line for selecting the write word line, and a write control circuit that receives the bit selection line and the word selection line as inputs and outputs a write word line. A semiconductor memory device comprising a line memory provided with a write control circuit, wherein the write control circuit is controlled by a bit select line. A control element is controlled by said word select line, and a second control element connected between the write word line and a power source in series with the first control element,
It is connected between the write word line and the ground portion and is always in a conductive state when a power supply is applied, and is used for turning off one of the first and second control elements controlled by the bit select line and the word select line. And a discharge element for discharging the charge of the write word line accordingly.

【0017】第2の発明の半導体記憶装置においては、
第1および第2の制御素子並びに放電用素子をトランジ
スタにより構成したことを特徴とする。
In the semiconductor memory device of the second invention,
The first and second control elements and the discharging element are constituted by transistors.

【0018】第3の発明の半導体記憶装置においては、
複数のダイナミック型メモリセルからなるメモリセル群
と、このメモリセル群から読み出された信号を出力に伝
えるためのリードビット線と、入力データを前記メモリ
セル群へ書き込むためのライトビット線と、前記メモリ
セルへの書き込みを制御するライトワード線と、前記メ
モリセルからの読み出しを制御するリードワード線と、
前記ライトビット線を選択するためのビット選択線と、
前記ライトワード線を選択するためのワード選択線と、
前記ビット選択線およびワード選択線を入力とし、ライ
トワード線を出力とする書き込み制御回路とを備えたラ
インメモリからなる半導体記憶装置において、前記書き
込み制御回路は、前記ビット選択線により制御される第
1の制御素子と、前記ワード選択線により制御され、前
記第1の制御素子と直列に前記ライトワード線と電源と
の間に接続される第2の制御素子と、前記ライトワード
線と接地部との間に接続され放電用素子とを有するとと
もに、前記書き込み制御回路の放電用素子を構成するト
ランジスタは、ゲートが電源に接続され、ソースが接地
部に接続され、ドレインがライトワード線に接続されて
いることを特徴とする。
In the semiconductor memory device of the third invention,
A memory cell group including a plurality of dynamic memory cells, a read bit line for transmitting a signal read from the memory cell group to an output, and a write bit line for writing input data to the memory cell group; A write word line for controlling writing to the memory cell, a read word line for controlling reading from the memory cell,
A bit selection line for selecting the write bit line;
A word selection line for selecting the write word line;
In a semiconductor memory device including a line memory including a write control circuit that inputs the bit select line and the word select line and outputs a write word line, the write control circuit is controlled by the bit select line. 1 control element, a second control element controlled by the word select line, connected in series with the first control element between the write word line and a power supply, and the write word line and a grounding unit. And a transistor that constitutes a discharge element of the write control circuit, wherein a gate is connected to a power supply, a source is connected to a ground, and a drain is connected to a write word line. It is characterized by having been done.

【0019】第4の発明の半導体記憶装置においては、
放電用素子を構成するトランジスタを、Nch型トラン
ジスタとしたことを特徴とする。
In the semiconductor memory device of the fourth invention,
The transistor constituting the discharging element is an Nch transistor.

【0020】第5の発明の半導体記憶装置においては、
第1および第2の制御素子をトランジスタにより構成す
るとともに、放電用素子を抵抗により構成したことを特
徴とする。
In the semiconductor memory device of the fifth invention,
The first and second control elements are constituted by transistors, and the discharge elements are constituted by resistors.

【0021】第6の発明の半導体記憶装置においては、
複数のダイナミック型メモリセルからなるメモリセル群
と、このメモリセル群から読み出された信号を出力に伝
えるためのリードビット線と、入力データを前記メモリ
セル群へ書き込むためのライトビット線と、前記メモリ
セルへの書き込みを制御するライトワード線と、前記メ
モリセルからの読み出しを制御するリードワード線と、
前記ライトビット線を選択するためのビット選択線と、
前記ライトワード線を選択するためのワード選択線と、
前記ビット選択線およびワード選択線を入力とし、ライ
トワード線を出力とする書き込み制御回路とを備えたラ
インメモリからなる半導体記憶装置において、前記書き
込み制御回路は、前記ビット選択線により制御される第
1の制御素子と、前記ワード選択線により制御され、前
記第1の制御素子と直列に前記ライトワード線と電源と
の間に接続される第2の制御素子と、前記ライトワード
線と接地部との間に接続され放電用素子とを有するとと
もに、前記書き込み制御回路の放電用素子を構成する抵
抗は、一端が接地部に接続され、他端がライトワード線
に接続されることを特徴とする。
In the semiconductor memory device of the sixth invention,
A memory cell group including a plurality of dynamic memory cells, a read bit line for transmitting a signal read from the memory cell group to an output, and a write bit line for writing input data to the memory cell group; A write word line for controlling writing to the memory cell, a read word line for controlling reading from the memory cell,
A bit selection line for selecting the write bit line;
A word selection line for selecting the write word line;
In a semiconductor memory device including a line memory including a write control circuit that inputs the bit select line and the word select line and outputs a write word line, the write control circuit is controlled by the bit select line. 1 control element, a second control element controlled by the word select line, connected in series with the first control element between the write word line and a power supply, and the write word line and a grounding unit. And a discharge element connected between the write control circuit and the resistor constituting the discharge element of the write control circuit, wherein one end is connected to a ground portion, and the other end is connected to a write word line. I do.

【0022】第7の発明の半導体記憶装置においては、
第1および第2の制御素子をNch型トランジスタによ
り構成したことを特徴とする。
In the semiconductor memory device of the seventh invention,
It is characterized in that the first and second control elements are constituted by Nch transistors.

【0023】この発明の実施の形態においては、次のよ
うな課題解決手段を有する。実施の形態1においては、
ダイナミック型のメモリセルからなるメモリセル群、ビ
ットデコーダから出力される書き込みビット選択線、ワ
ードデコーダから出力される書き込みワード選択線、ビ
ット選択線とワード選択線を制御するNOR回路、NO
R回路の出力で、かつメモリの書き込み用アクセストラ
ンジスタに接続される書き込みワード線すなわちライト
ワード線、入力データをメモリセルに伝達する書き込み
ビット線すなわちライトビット線、メモリセルからのデ
ータを出力に伝える読みだしビット線、ワードデコーダ
から出力される読み出しワード線すなわちリードワード
線・電源・接地を備え、上記NOR回路は図5に示すよ
うに、3個のNchトランジスタにて構成されることを
特徴とするものである。
The embodiment of the present invention has the following means for solving the problem. In the first embodiment,
A memory cell group composed of dynamic memory cells, a write bit select line output from a bit decoder, a write word select line output from a word decoder, a NOR circuit controlling the bit select line and the word select line, NO
A write word line, ie, a write word line, which is an output of the R circuit and is connected to a write access transistor of the memory; a write bit line, ie, a write bit line for transmitting input data to the memory cell; and data from the memory cell, which is transmitted to the output. A read bit line, a read word line output from a word decoder, that is, a read word line, power supply, and ground are provided, and the NOR circuit is constituted by three Nch transistors as shown in FIG. Is what you do.

【0024】実施の形態2においては、ダイナミック型
メモリセルからなるメモリセル群、ビットデコーダから
出力される書き込みビット選択線、ワードデコーダから
出力される書き込みワード選択線、ビット選択線とワー
ド選択線を制御するNOR回路、NOR回路の出力で、
かつメモリの書き込み用アクセストランジスタに接続さ
れる書き込みワード線すなわちライトワード線、入力デ
ータをメモリセルに伝達する書き込みビット線すなわち
ライトビット線、メモリセルからのデータを出力に伝え
る読み出しビット線すなわちリードビット線、ワードデ
コーダから出力される読み出しワード線すなわちリード
ワード線・電源・接地を備え、上記NOR回路は図6に
示すように、2個のNchトランジスタと1個の抵抗に
て構成されることを特徴とするものである。
In the second embodiment, a memory cell group composed of dynamic memory cells, a write bit select line output from a bit decoder, a write word select line output from a word decoder, a bit select line and a word select line The NOR circuit to control, the output of the NOR circuit,
And a write word line connected to a write access transistor of the memory, that is, a write word line, a write bit line that transmits input data to a memory cell, a read bit line that transmits data from the memory cell to an output. And a read word line output from a word decoder, that is, a read word line, power supply, and ground. As shown in FIG. 6, the NOR circuit includes two Nch transistors and one resistor. It is a feature.

【0025】[0025]

【発明の実施の形態】BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION

実施の形態1.図1は、この発明に係る半導体記憶装置
のメモリセル周辺回路である。図1において、300は
ダイナミック型のメモリセル100からなるメモリセル
群、1はビット選択線、2はワード選択線、200はビ
ット選択線1とワード選択線2の信号を制御するNOR
回路、3はNOR回路の出力で書き込み動作を行う書き
込みワード線すなわちライトワード線、4・6は書き込
みビット線すなわちライトビット線、5・7は読み出し
ビット線すなわちリードビット線、8は読み出しワード
線すなわちリードワード線である。
Embodiment 1 FIG. FIG. 1 shows a peripheral circuit of a memory cell of a semiconductor memory device according to the present invention. In FIG. 1, reference numeral 300 denotes a memory cell group including dynamic memory cells 100, 1 denotes a bit selection line, 2 denotes a word selection line, and 200 denotes a NOR which controls signals on the bit selection line 1 and the word selection line 2.
Circuit 3, a write word line for performing a write operation with the output of the NOR circuit, that is, a write word line, 4.6, a write bit line, that is, a write bit line, 5.7, a read bit line, that is, a read bit line, That is, it is a read word line.

【0026】図2にダイナミック型のメモリセル100
の回路図を示す。図2において、21は書き込みアクセ
ス用トランジスタ、22は電荷蓄積用のキャパシタン
ス、23は読み出しビット線ドライブ用トランジスタ、
24は読み出しアクセス用トランジスタ、25は書き込
みビット線すなわちライトビット線、26は書き込みワ
ード線すなわちライトワード線、27は読み出しワード
線すなわちリードワード線、28は読み出しビット線す
なわちリードビット線である。
FIG. 2 shows a dynamic memory cell 100.
FIG. In FIG. 2, 21 is a write access transistor, 22 is a charge storage capacitance, 23 is a read bit line drive transistor,
24 is a read access transistor, 25 is a write bit line or write bit line, 26 is a write word line or write word line, 27 is a read word line or read word line, and 28 is a read bit line or read bit line.

【0027】図3は、ビットデコーダとワードデコーダ
による選択動作を示すものであり、書き込み番地を選択
する場合、図3に示すように、ビットデコーダとワード
デコーダによって交叉した番地にのみ書き込みを行うた
めに、NOR回路200によって制御される。
FIG. 3 shows a selection operation by the bit decoder and the word decoder. When a write address is selected, as shown in FIG. 3, writing is performed only at an address crossed by the bit decoder and the word decoder. Is controlled by the NOR circuit 200.

【0028】図4に、NOR回路の回路図を示す。51
・52・53はNch型トランジスタ、54はビット選
択線、55はワード選択線、56は書き込みワード線す
なわちライトワード線である。
FIG. 4 is a circuit diagram of the NOR circuit. 51
52 and 53 are Nch transistors, 54 is a bit select line, 55 is a word select line, and 56 is a write word line, that is, a write word line.

【0029】以上のように構成されたこの実施の形態に
おける半導体記憶装置の動作について説明する。まず、
データの書き込みは、前記ビット選択線54・ワード選
択線55とも選択されたとき、Nch型トランジスタ5
1・52がオンし、書き込みワード線すなわちライトワ
ード線56をHレベルに充電して、メモリの書き込み用
アクセストランジスタ21(図2)を開くことによって
行う。
The operation of the semiconductor memory device thus configured according to the present embodiment will be described. First,
Data writing is performed when the bit selection line 54 and the word selection line 55 are both selected.
1 and 52 are turned on, the write word line, that is, the write word line 56 is charged to H level, and the write access transistor 21 (FIG. 2) of the memory is opened.

【0030】ここで、トランジスタ51・52はNch
型トランジスタにて構成されているため、書き込みワー
ド線すなわちライトワード線56への充電速度を従来と
同等にする場合、従来より小さい面積で実現することが
可能である。
Here, transistors 51 and 52 are Nch
Since it is constituted by a type transistor, it is possible to realize a smaller area than before in the case where the charging speed to the write word line, that is, the write word line 56 is made equal to that in the conventional case.

【0031】次に、書き込み番地を非選択にする場合、
前記ビット選択線54あるいはワード選択線55のどち
らかが非選択となり、Nch型トランジスタ51あるい
は52がオフし、書き込みワード線すなわちライトワー
ド線56の電荷を常時オンのNch型トランジスタ53
でLレベルに引き抜き、メモリの書き込み用トランジス
タ21(図2)をオフさせることによって行う。
Next, when the write address is not selected,
Either the bit selection line 54 or the word selection line 55 is deselected, the Nch type transistors 51 or 52 are turned off, and the charge of the write word line, that is, the write word line 56, is constantly turned on.
And the write transistor 21 (FIG. 2) of the memory is turned off.

【0032】ここで、書き込みワード線すなわちライト
ワード線56の放電速度を従来と同等にするためには、
Nch型トランジスタ53のチャネル幅を、図3のNc
h型トランジスタ33・34の2個分と同一にする必要
があるが、従来2個で構成されていたNch型トランジ
スタを1個にしたことによって、従来より小さい面積で
実現することが可能である。
Here, in order to make the discharge speed of the write word line, that is, the write word line 56 equal to that in the related art,
The channel width of the Nch transistor 53 is set to Nc in FIG.
It is necessary to be the same as two of the h-type transistors 33 and 34, but by using only one Nch-type transistor, which has conventionally been constituted by two, it is possible to realize a smaller area. .

【0033】図6に、この実施の形態におけるNOR回
路のレイアウト図を示し、図9に、従来例のNOR回路
のレイアウト図を示す。このように、従来例に比べ大幅
に面積が縮小され、大容量メモリの場合チップ面積縮小
効果がさらに大きくなる。
FIG. 6 is a layout diagram of a NOR circuit according to this embodiment, and FIG. 9 is a layout diagram of a conventional NOR circuit. As described above, the area is significantly reduced as compared with the conventional example, and the effect of reducing the chip area is further increased in the case of a large-capacity memory.

【0034】実施の形態2.図1は、この発明に係る半
導体記憶装置のメモリセル周辺回路である。図1におい
て、300はダイナミック型のメモリセル100からな
るメモリセル群、1はビット選択線、2はワード選択
線、200はビット選択線1とワード選択線2の信号を
制御するNOR回路、3はNOR回路の出力で書き込み
動作を行う書き込みワード線すなわちライトワード線、
4・6は書き込みビット線すなわちライトビット線、5
・7は読み出しビット線すなわちリードビット線、8は
読み出しワード線すなわちリードワード線である。
Embodiment 2 FIG. 1 shows a peripheral circuit of a memory cell of a semiconductor memory device according to the present invention. In FIG. 1, reference numeral 300 denotes a memory cell group composed of dynamic memory cells 100, 1 denotes a bit select line, 2 denotes a word select line, 200 denotes a NOR circuit controlling signals on the bit select line 1 and the word select line 2, 3 Is a write word line that performs a write operation at the output of the NOR circuit, that is, a write word line;
4 and 6 are write bit lines, that is, write bit lines;
7 is a read bit line or read bit line, and 8 is a read word line or read word line.

【0035】図2にダイナミック型のメモリセル100
の回路図を示す。図2において、21は書き込みアクセ
ス用トランジスタ、22は電荷蓄積用のキャパシタン
ス、23は読み出しビット線ドライブ用トランジスタ、
24は読み出しアクセス用トランジスタ、25は書き込
みビット線すなわちライトビット線、26は書き込みワ
ード線すなわちライトワード線、27は読み出しワード
線すなわちリードワード線、28は読み出しビット線す
なわちリードビット線である。
FIG. 2 shows a dynamic memory cell 100.
FIG. In FIG. 2, 21 is a write access transistor, 22 is a charge storage capacitance, 23 is a read bit line drive transistor,
24 is a read access transistor, 25 is a write bit line or write bit line, 26 is a write word line or write word line, 27 is a read word line or read word line, and 28 is a read bit line or read bit line.

【0036】図5に、NOR回路の回路図を示す。61
・62はNch型トランジスタ、63はポリシリコン等
で構成された抵抗、64はビット選択線、65はワード
選択線、66は書き込みワード線すなわちライトワード
線である。
FIG. 5 is a circuit diagram of the NOR circuit. 61
62 is an Nch transistor, 63 is a resistor made of polysilicon or the like, 64 is a bit select line, 65 is a word select line, and 66 is a write word line, that is, a write word line.

【0037】以上のように構成されたこの実施の形態に
おける半導体記憶装置の動作について説明する。まず、
データの書き込みは、前記ビット選択線64・ワード選
択線65とも選択されたとき、61・62のNch型ト
ランジスタがオンし、書き込みワード線すなわちライト
ワード線66をHレベルに充電し、メモリの書き込み用
アクセストランジスタ21(図2)を開くことによって
行う。ここで、61・62はNch型トランジスタにて
構成されているため、書き込みワード線すなわちライト
ワード線66への充電速度を従来と同等にする場合、従
来より小さい面積で実現することが可能である。
The operation of the semiconductor memory device thus configured according to the present embodiment will be described. First,
When writing data, when both the bit selection line 64 and the word selection line 65 are selected, the Nch transistors 61 and 62 are turned on, and the write word line, that is, the write word line 66 is charged to the H level, and the memory write operation is performed. By opening the access transistor 21 (FIG. 2). Here, since the transistors 61 and 62 are constituted by N-channel transistors, it is possible to reduce the area required for charging the write word line, that is, the write word line 66, to be equal to that of the related art with a smaller area. .

【0038】次に、書き込み番地を非選択にする場合、
前記ビット選択線64あるいはワード選択線65のどち
らかが非選択となり、Nch型トランジスタ61あるい
は62がオフし、書き込みワード線すなわちライトワー
ド線66の電荷を抵抗を介してLレベルに引き抜き、メ
モリの書き込み用トランジスタ21(図2)をオフさせ
ることによって行う。ここで、書き込み用ワード線すな
わちライトワード線66の放電速度を従来と同等にして
も従来より小さい面積で実現することが可能である。
Next, when the write address is not selected,
Either the bit select line 64 or the word select line 65 becomes unselected, the Nch-type transistor 61 or 62 is turned off, and the charge of the write word line, that is, the write word line 66 is pulled down to the L level through a resistor, and This is performed by turning off the writing transistor 21 (FIG. 2). Here, even if the discharge speed of the write word line, that is, the write word line 66 is made equal to that of the related art, it is possible to realize a smaller area than the related art.

【0039】ここにおいて、図7に、この実施の形態に
おけるNOR回路のレイアウト図を示す。このように、
図9にそのNOR回路のレイアウト図を示す従来例に比
べ、大幅に面積が縮小され、大容量メモリの場合、チッ
プ面積縮小効果がさらに大きくなる。
FIG. 7 shows a layout diagram of the NOR circuit in this embodiment. in this way,
The area is greatly reduced as compared with the conventional example in which the layout diagram of the NOR circuit is shown in FIG. 9, and in the case of a large capacity memory, the effect of reducing the chip area is further increased.

【0040】[0040]

【発明の効果】第1の発明によれば、ライトワード線と
接地部との間に接続されて電源入力印加時に常時導通状
態とされ、ビット選択線およびワード選択線により制御
される第1および第2の制御素子の一方のオフ動作に応
じライトワード線の電荷を放電する放電用素子を設け
て、第1および第2の制御素子ならびに放電用素子から
なるNOR回路を簡略化でき、大容量化を可能とする半
導体記憶装置を得ることができる。
According to the first aspect of the present invention, the first and second memory cells, which are connected between the write word line and the ground portion and are always in a conductive state when a power supply is applied, are controlled by the bit select line and the word select line. By providing a discharging element for discharging the charge of the write word line in response to one off operation of the second control element, the NOR circuit including the first and second control elements and the discharging element can be simplified, and a large capacity can be obtained. Thus, a semiconductor memory device which can be implemented can be obtained.

【0041】第2の発明によれば、第1および第2の制
御素子ならびに放電用素子をトランジスタにより構成し
て、第1および第2の制御素子ならびに放電用素子から
なるNOR回路を簡略化でき、大容量化を可能とする半
導体記憶装置を得ることができる。
According to the second aspect, the first and second control elements and the discharging element are constituted by transistors, and the NOR circuit comprising the first and second control elements and the discharging element can be simplified. As a result, a semiconductor memory device capable of increasing the capacity can be obtained.

【0042】第3の発明によれば、放電用素子を構成す
るトランジスタのゲートを電源に接続し、ソースを接地
部に接続し、ドレインをライトワード線に接続して、第
1および第2の制御素子ならびに放電用素子からなるN
OR回路を簡略化でき、大容量化を可能とする半導体記
憶装置を得ることができる。
According to the third aspect, the gate of the transistor constituting the discharging element is connected to the power supply, the source is connected to the ground, and the drain is connected to the write word line. N consisting of control element and discharge element
A semiconductor memory device in which the OR circuit can be simplified and the capacity can be increased can be obtained.

【0043】第4の発明によれば、放電用素子を構成す
るトランジスタを、Nチャネル型トランジスタとして、
第1および第2の制御素子ならびに放電用素子からなる
NOR回路を簡略化でき、大容量化を可能とする半導体
記憶装置を得ることができる。
According to the fourth aspect, the transistor constituting the discharge element is an N-channel transistor.
A NOR circuit including the first and second control elements and the discharging element can be simplified, and a semiconductor memory device capable of increasing the capacity can be obtained.

【0044】第5の発明によれば、第1および第2の制
御素子をトランジスタにより構成するとともに、放電用
素子を抵抗により構成して、第1および第2の制御素子
ならびに放電用素子からなるNOR回路を簡略化でき、
大容量化を可能とする半導体記憶装置を得ることができ
る。
According to the fifth aspect, the first and second control elements are constituted by transistors, and the discharge element is constituted by resistors, and are constituted by the first and second control elements and the discharge element. The NOR circuit can be simplified,
It is possible to obtain a semiconductor memory device capable of increasing the capacity.

【0045】第6の発明によれば、放電用素子を構成す
る抵抗の一端を接地部に接続し、他端をライトワード線
に接続して、第1および第2の制御素子ならびに放電用
素子からなるNOR回路を簡略化でき、大容量化を可能
とする半導体記憶装置を得ることができる。
According to the sixth aspect, one end of the resistor constituting the discharge element is connected to the ground, and the other end is connected to the write word line, so that the first and second control elements and the discharge element are connected. , And a semiconductor memory device capable of increasing the capacity can be obtained.

【0046】第7の発明によれば、第1および第2の制
御素子をNチャネル型トランジスタにより構成し、第1
および第2の制御素子ならびに放電用素子からなるNO
R回路を簡略化でき、大容量化を可能とする半導体記憶
装置を得ることができる。
According to the seventh aspect, the first and second control elements are constituted by N-channel transistors,
And NO composed of the second control element and the discharging element
A semiconductor memory device in which the R circuit can be simplified and the capacity can be increased can be obtained.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】 この発明に係る半導体記憶装置のメモリセル
周辺回路を示す構成図である。
FIG. 1 is a configuration diagram showing a memory cell peripheral circuit of a semiconductor memory device according to the present invention.

【図2】 この発明に係る半導体記憶装置のメモリセル
を示す回路図である。
FIG. 2 is a circuit diagram showing a memory cell of the semiconductor memory device according to the present invention.

【図3】 この発明に係るビットデコーダとワードデコ
ーダによる書き込み番地の選択動作を示す説明図であ
る。
FIG. 3 is an explanatory diagram showing an operation of selecting a write address by a bit decoder and a word decoder according to the present invention.

【図4】 この発明の実施の一形態におけるNOR回路
を示す回路図である。
FIG. 4 is a circuit diagram showing a NOR circuit according to one embodiment of the present invention.

【図5】 この発明の他の実施の形態におけるNOR回
路を示す回路図である。
FIG. 5 is a circuit diagram showing a NOR circuit according to another embodiment of the present invention.

【図6】 この発明の実施の一形態におけるNOR回路
のレイアウト図である。
FIG. 6 is a layout diagram of a NOR circuit according to one embodiment of the present invention;

【図7】 この発明の他の実施の形態におけるNOR回
路のレイアウト図である。
FIG. 7 is a layout diagram of a NOR circuit according to another embodiment of the present invention.

【図8】 従来例におけるNOR回路を示す回路図であ
る。
FIG. 8 is a circuit diagram showing a NOR circuit in a conventional example.

【図9】 従来例におけるNOR回路のレイアウト図で
ある。
FIG. 9 is a layout diagram of a NOR circuit in a conventional example.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

100 メモリセル、300 メモリセル群、1 ビッ
ト選択線、2 ワード選択線、200 NOR回路、3
書き込みワード線すなわちライトワード線、4・6
書き込みビット線すなわちライトビット線、5・7 読
み出しビット線すなわちリードビット線、8 読み出し
ワード線すなわちリードワード線、21書き込みアクセ
ス用トランジスタ、22 電荷蓄積用のキャパシタン
ス、23読み出しビット線ドライブ用トランジスタ、2
4 読み出しアクセス用トランジスタ、25 書き込み
ビット線すなわちライトビット線、26 書き込みワー
ド線すなわちライトワード線、27 読み出しワード線
すなわちリードワード線、28 読み出しビット線すな
わちリードビット線、31・32 Pchトランジス
タ、33・34 Nch型トランジスタ、35 ビット
選択線、36 ワード選択線、37 書き込みワード線
すなわちライトワード線、51・52・53Nch型ト
ランジスタ、54 ビット選択線、55 ワード選択
線、56 書き込みワード線すなわちライトワード線、
61・62 Nch型トランジスタ、63 抵抗、64
ビット選択線、65 ワード選択線、66 書き込み
ワード線すなわちライトワード線。
100 memory cells, 300 memory cell group, 1 bit select line, 2 word select line, 200 NOR circuit, 3
Write word line, that is, write word line, 4.6
Write bit line or write bit line, 5.7 read bit line or read bit line, 8 read word line or read word line, 21 write access transistor, 22 charge storage capacitance, 23 read bit line drive transistor, 2
4 read access transistor, 25 write bit line or write bit line, 26 write word line or write word line, 27 read word line or read word line, 28 read bit line or read bit line, 31 • 32 Pch transistor, 33 • 34 Nch type transistor, 35 bit select line, 36 word select line, 37 write word line or write word line, 51, 52, 53 Nch type transistor, 54 bit select line, 55 word select line, 56 write word line or write word line ,
61/62 Nch type transistor, 63 resistor, 64
Bit select line, 65 word select line, 66 write word line, that is, write word line.

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────────────────────────────────────────────────── ───

【手続補正書】[Procedure amendment]

【提出日】平成8年11月19日[Submission date] November 19, 1996

【手続補正1】[Procedure amendment 1]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】請求項1[Correction target item name] Claim 1

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction contents]

【手続補正2】[Procedure amendment 2]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】請求項3[Correction target item name] Claim 3

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction contents]

【手続補正3】[Procedure amendment 3]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】請求項6[Correction target item name] Claim 6

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction contents]

【手続補正4】[Procedure amendment 4]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】0011[Correction target item name] 0011

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction contents]

【0011】第3の発明は、放電用素子を構成するトラ
ンジスタのゲートを電源に接続し、ソースを接地部に接
続し、ドレインをライトワード線に接続して、第1およ
び第2の制御素子ならびに放電用素子によって構成する
ことでNOR回路を簡略化、大容量化を可能とする半
導体記憶装置を得ようとするものである。
According to a third aspect of the present invention, the first and second control elements are connected by connecting a gate of a transistor constituting a discharging element to a power supply, connecting a source to a ground portion, and connecting a drain to a write word line. and constituting the discharge element
Simplify the NOR circuit by, it is intended to obtain a semiconductor memory device capable of high capacity.

【手続補正5】[Procedure amendment 5]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】0016[Correction target item name] 0016

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction contents]

【0016】[0016]

【課題を解決するための手段】第1の発明の半導体記憶
装置においては、複数のダイナミック型メモリセルから
なるメモリセル群と、このメモリセル群から読み出され
た信号を出力に伝えるためのリードビット線と、入力デ
ータを前記メモリセル群へ書き込むためのライトビット
線と、前記メモリセルへの書き込みを制御するライトワ
ード線と、前記メモリセルからの読み出しを制御するリ
ードワード線と、前記ライトビット線を選択するための
ビット選択線と、前記ライトワード線を選択するための
ワード選択線と、前記ビット選択線およびワード選択線
を入力とし、ライトワード線を出力とする書き込み制御
回路とを備えたラインメモリからなる半導体記憶装置に
おいて、前記書き込み制御回路は、前記ビット選択線に
より制御される第1の制御素子と、前記ワード選択線に
より制御され、前記第1の制御素子と直列に前記ライト
ワード線と第1の制御素子との間に接続される第2の制
御素子と、前記ライトワード線と接地部との間に接続さ
れて電源入力印加時に常時導通状態とされ、前記ビット
選択線およびワード選択線により制御される第1および
第2の制御素子の一方のオフ動作に応じライトワード線
の電荷を放電する放電用素子とを有することを特徴とす
る。
According to a first aspect of the present invention, there is provided a semiconductor memory device including a memory cell group including a plurality of dynamic memory cells and a read for transmitting a signal read from the memory cell group to an output. A bit line, a write bit line for writing input data to the memory cell group, a write word line for controlling writing to the memory cell, a read word line for controlling reading from the memory cell, A bit selection line for selecting a bit line, a word selection line for selecting the write word line, and a write control circuit that receives the bit selection line and the word selection line as inputs and outputs a write word line. A semiconductor memory device comprising a line memory provided with a write control circuit, wherein the write control circuit is controlled by a bit select line. A control element is controlled by said word select line, and a second control element connected between the write word line and a first control element in series with the first control element, said write word line Between the first and second control elements controlled by the bit select line and the word select line, and the write word line is connected between the first and second control elements. And a discharge element for discharging the electric charge of

【手続補正6】[Procedure amendment 6]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】0018[Correction target item name] 0018

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction contents]

【0018】第3の発明の半導体記憶装置においては、
複数のダイナミック型メモリセルからなるメモリセル群
と、このメモリセル群から読み出された信号を出力に伝
えるためのリードビット線と、入力データを前記メモリ
セル群へ書き込むためのライトビット線と、前記メモリ
セルへの書き込みを制御するライトワード線と、前記メ
モリセルからの読み出しを制御するリードワード線と、
前記ライトビット線を選択するためのビット選択線と、
前記ライトワード線を選択するためのワード選択線と、
前記ビット選択線およびワード選択線を入力とし、ライ
トワード線を出力とする書き込み制御回路とを備えたラ
インメモリからなる半導体記憶装置において、前記書き
込み制御回路は、前記ビット選択線により制御される第
1の制御素子と、前記ワード選択線により制御され、前
記第1の制御素子と直列に前記ライトワード線と第1の
制御素子との間に接続される第2の制御素子と、前記ラ
イトワード線と接地部との間に接続され放電用素子とを
有するとともに、前記書き込み制御回路の放電用素子を
構成するトランジスタは、ゲートが電源に接続され、ソ
ースが接地部に接続され、ドレインがライトワード線に
接続されていることを特徴とする。
In the semiconductor memory device of the third invention,
A memory cell group including a plurality of dynamic memory cells, a read bit line for transmitting a signal read from the memory cell group to an output, and a write bit line for writing input data to the memory cell group; A write word line for controlling writing to the memory cell, a read word line for controlling reading from the memory cell,
A bit selection line for selecting the write bit line;
A word selection line for selecting the write word line;
In a semiconductor memory device including a line memory including a write control circuit that inputs the bit select line and the word select line and outputs a write word line, the write control circuit is controlled by the bit select line. 1 control element and the word select line, and the write word line and the first control element are connected in series with the first control element .
A second control element connected between the control element and a discharge element connected between the write word line and a ground, and a transistor constituting the discharge element of the write control circuit is , The gate is connected to the power supply, the source is connected to the ground, and the drain is connected to the write word line.

【手続補正7】[Procedure amendment 7]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】0021[Correction target item name] 0021

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction contents]

【0021】第6の発明の半導体記憶装置においては、
複数のダイナミック型メモリセルからなるメモリセル群
と、このメモリセル群から読み出された信号を出力に伝
えるためのリードビット線と、入力データを前記メモリ
セル群へ書き込むためのライトビット線と、前記メモリ
セルへの書き込みを制御するライトワード線と、前記メ
モリセルからの読み出しを制御するリードワード線と、
前記ライトビット線を選択するためのビット選択線と、
前記ライトワード線を選択するためのワード選択線と、
前記ビット選択線およびワード選択線を入力とし、ライ
トワード線を出力とする書き込み制御回路とを備えたラ
インメモリからなる半導体記憶装置において、前記書き
込み制御回路は、前記ビット選択線により制御される第
1の制御素子と、前記ワード選択線により制御され、前
記第1の制御素子と直列に前記ライトワード線と第1の
制御素子との間に接続される第2の制御素子と、前記ラ
イトワード線と接地部との間に接続され放電用素子とを
有するとともに、前記書き込み制御回路の放電用素子を
構成する抵抗は、一端が接地部に接続され、他端がライ
トワード線に接続されることを特徴とする。
In the semiconductor memory device of the sixth invention,
A memory cell group including a plurality of dynamic memory cells, a read bit line for transmitting a signal read from the memory cell group to an output, and a write bit line for writing input data to the memory cell group; A write word line for controlling writing to the memory cell, a read word line for controlling reading from the memory cell,
A bit selection line for selecting the write bit line;
A word selection line for selecting the write word line;
In a semiconductor memory device including a line memory including a write control circuit that inputs the bit select line and the word select line and outputs a write word line, the write control circuit is controlled by the bit select line. 1 control element and the word select line, and the write word line and the first control element are connected in series with the first control element .
A second control element connected between the write element and a ground element, and a second control element connected between the write word line and the grounding part; , One end of which is connected to the ground portion, and the other end of which is connected to the write word line.

Claims (7)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 複数のダイナミック型メモリセルからな
るメモリセル群と、このメモリセル群から読み出された
信号を出力に伝えるためのリードビット線と、入力デー
タを前記メモリセル群へ書き込むためのライトビット線
と、前記メモリセルへの書き込みを制御するライトワー
ド線と、前記メモリセルからの読み出しを制御するリー
ドワード線と、前記ライトビット線を選択するためのビ
ット選択線と、前記ライトワード線を選択するためのワ
ード選択線と、前記ビット選択線およびワード選択線を
入力とし、ライトワード線を出力とする書き込み制御回
路とを備えたラインメモリからなる半導体記憶装置にお
いて、前記書き込み制御回路は、前記ビット選択線によ
り制御される第1の制御素子と、前記ワード選択線によ
り制御され、前記第1の制御素子と直列に前記ライトワ
ード線と電源との間に接続される第2の制御素子と、前
記ライトワード線と接地部との間に接続されて電源入力
印加時に常時導通状態とされ、前記ビット選択線および
ワード選択線により制御される第1および第2の制御素
子の一方のオフ動作に応じライトワード線の電荷を放電
する放電用素子とを有することを特徴とする半導体記憶
装置。
A memory cell group including a plurality of dynamic memory cells; a read bit line for transmitting a signal read from the memory cell group to an output; and a read bit line for writing input data to the memory cell group. A write bit line, a write word line for controlling writing to the memory cell, a read word line for controlling reading from the memory cell, a bit selection line for selecting the write bit line, and the write word line. A semiconductor memory device comprising a line memory including a word select line for selecting a line, and a write control circuit that receives the bit select line and the word select line as inputs and outputs a write word line; A first control element controlled by the bit select line and a first control element controlled by the word select line. A second control element connected in series with the first control element between the write word line and the power supply; and a second control element connected between the write word line and the ground portion, and is always in a conductive state when a power supply is applied. A discharge element for discharging a charge on a write word line in response to an off operation of one of first and second control elements controlled by the bit select line and the word select line. .
【請求項2】 第1および第2の制御素子並びに放電用
素子をトランジスタにより構成したことを特徴とする請
求項1に記載の半導体記憶装置。
2. The semiconductor memory device according to claim 1, wherein the first and second control elements and the discharging element are constituted by transistors.
【請求項3】 複数のダイナミック型メモリセルからな
るメモリセル群と、このメモリセル群から読み出された
信号を出力に伝えるためのリードビット線と、入力デー
タを前記メモリセル群へ書き込むためのライトビット線
と、前記メモリセルへの書き込みを制御するライトワー
ド線と、前記メモリセルからの読み出しを制御するリー
ドワード線と、前記ライトビット線を選択するためのビ
ット選択線と、前記ライトワード線を選択するためのワ
ード選択線と、前記ビット選択線およびワード選択線を
入力とし、ライトワード線を出力とする書き込み制御回
路とを備えたラインメモリからなる半導体記憶装置にお
いて、前記書き込み制御回路は、前記ビット選択線によ
り制御される第1の制御素子と、前記ワード選択線によ
り制御され、前記第1の制御素子と直列に前記ライトワ
ード線と電源との間に接続される第2の制御素子と、前
記ライトワード線と接地部との間に接続され放電用素子
とを有するとともに、前記書き込み制御回路の放電用素
子を構成するトランジスタは、ゲートが電源に接続さ
れ、ソースが接地部に接続され、ドレインがライトワー
ド線に接続されていることを特徴とする半導体記憶装
置。
3. A memory cell group including a plurality of dynamic memory cells, a read bit line for transmitting a signal read from the memory cell group to an output, and a read bit line for writing input data to the memory cell group. A write bit line, a write word line for controlling writing to the memory cell, a read word line for controlling reading from the memory cell, a bit selection line for selecting the write bit line, and the write word line. A semiconductor memory device comprising a line memory including a word select line for selecting a line, and a write control circuit that receives the bit select line and the word select line as inputs and outputs a write word line; A first control element controlled by the bit select line and a first control element controlled by the word select line. A second control element connected in series with the first control element between the write word line and a power supply; and a discharge element connected between the write word line and a ground portion. A semiconductor memory device, wherein a transistor constituting a discharge element of a control circuit has a gate connected to a power supply, a source connected to a ground portion, and a drain connected to a write word line.
【請求項4】 放電用素子を構成するトランジスタを、
Nチャネル型トランジスタとしたことを特徴とする請求
項2または請求項3に記載の半導体記憶装置。
4. A transistor constituting a discharging element,
4. The semiconductor memory device according to claim 2, wherein the transistor is an N-channel transistor.
【請求項5】 第1および第2の制御素子をトランジス
タにより構成するとともに、放電用素子を抵抗により構
成したことを特徴とする請求項1に記載の半導体記憶装
置。
5. The semiconductor memory device according to claim 1, wherein the first and second control elements are constituted by transistors, and the discharging elements are constituted by resistors.
【請求項6】 複数のダイナミック型メモリセルからな
るメモリセル群と、このメモリセル群から読み出された
信号を出力に伝えるためのリードビット線と、入力デー
タを前記メモリセル群へ書き込むためのライトビット線
と、前記メモリセルへの書き込みを制御するライトワー
ド線と、前記メモリセルからの読み出しを制御するリー
ドワード線と、前記ライトビット線を選択するためのビ
ット選択線と、前記ライトワード線を選択するためのワ
ード選択線と、前記ビット選択線およびワード選択線を
入力とし、ライトワード線を出力とする書き込み制御回
路とを備えたラインメモリからなる半導体記憶装置にお
いて、前記書き込み制御回路は、前記ビット選択線によ
り制御される第1の制御素子と、前記ワード選択線によ
り制御され、前記第1の制御素子と直列に前記ライトワ
ード線と電源との間に接続される第2の制御素子と、前
記ライトワード線と接地部との間に接続され放電用素子
とを有するとともに、前記書き込み制御回路の放電用素
子を構成する抵抗は、一端が接地部に接続され、他端が
ライトワード線に接続されることを特徴とする半導体記
憶装置。
6. A memory cell group comprising a plurality of dynamic memory cells, a read bit line for transmitting a signal read from the memory cell group to an output, and a memory for writing input data to the memory cell group. A write bit line, a write word line for controlling writing to the memory cell, a read word line for controlling reading from the memory cell, a bit selection line for selecting the write bit line, and the write word line. A semiconductor memory device comprising a line memory including a word select line for selecting a line, and a write control circuit that receives the bit select line and the word select line as inputs and outputs a write word line; A first control element controlled by the bit select line and a first control element controlled by the word select line. A second control element connected in series with the first control element between the write word line and a power supply; and a discharge element connected between the write word line and a ground portion. A semiconductor memory device characterized in that one end of a resistor constituting a discharge element of a control circuit is connected to a ground portion, and the other end is connected to a write word line.
【請求項7】 第1および第2の制御素子をNチャネル
型トランジスタにより構成したことを特徴とする請求項
2ないし請求項6のいずれかに記載の半導体記憶装置。
7. The semiconductor memory device according to claim 2, wherein said first and second control elements are constituted by N-channel transistors.
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