JPH0961854A - カラー液晶表示素子 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 明るいフルカラー画像を表示できる液晶表示
素子を提供することである。 【解決手段】 ＴＦＴ基板１上にＴＦＴ４が配置され、
各ＴＦＴ４の上に反射板の機能を兼ねた絶縁層１１が配
置され、絶縁層１１の上にＴＦＴ４のソース電極８と接
続された画素電極３と蛍光体層１２とが積層されて配置
されている。蛍光体層１２は、入射光を吸収し、このエ
ネルギーで所定波長の蛍光を発生し、光を着色する。一
方、対向基板２側には対向基板２上の全面に対向電極１
３が配置されている。ＴＦＴ基板１と対向基板２との間
には、二色性染料を含んだ液晶２０がツイスト状態で封
止されている。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】この発明は、明るいカラー表
示画像を表示できる液晶表示素子に関する。

【０００２】

【従来の技術】ＴＮ型の液晶表示素子では、外部からの
入射光が一方の偏光板により直線偏光とされて液晶層に
入射し、液晶層を通過した光のうち、他方の偏光板の透
過軸と平行な偏光成分のみが出射する。このため、偏光
板での光吸収による光量ロスが大きく、表示が暗いとい
う問題をもっている。

【０００３】この問題は、特に、液晶表示素子の裏面側
に反射板を配置した反射型液晶表示素子において顕著で
ある。より詳細に説明すると、反射型液晶表示素子は、
自然光または室内照明光を利用して表示するものであ
り、利用できる光自体が弱い。また、液晶表示素子の表
面側から入射した光が反射板で反射されて表面側に出射
するまでに、一対の偏光板を２度づつ通る。このため、
光の損失が大きく、表示が極端に暗くなる。

【０００４】裏面側にバックライトを配置して使用され
る透過型液晶表示素子では、裏面側から入射して表面側
に出射する光が一対の偏光板を１度づつ通る。このた
め、反射型液晶表示素子に比べれば偏光板での光の損失
は小さい。しかし、表示の明るさはバックライトからの
照明光の明るさの１／２以下になる。

【０００５】また、従来のカラー液晶表示素子は、カラ
ーフィルタを用いて、透過光の所定波長域の光を吸収す
ることにより透過光を着色して、カラー画像を表示して
いる。しかし、カラーフィルタの光吸収量は大きく、特
に、反射型のカラー液晶表示素子では、光が２回カラー
フィルタを通るため、表示がかなり暗くなる。このた
め、カラーフィルタを用いたＴＮ型のカラー液晶表示素
子は、特にその表示が暗いという問題がある。

【０００６】明るいカラー画像を表示する液晶表示素子
として、液晶の複屈折性を利用した複屈折制御方式のカ
ラー液晶表示素子が知られている。複屈折制御方式のカ
ラー液晶表示素子は、液晶に電界を印加することにより
液晶分子の配列を変化させ、その際の液晶セルの複屈折
の変化を利用してカラー表示を行う。しかし、複屈折制
御方式のカラー液晶表示素子は、印加電圧の変化に応じ
て表示色と階調が共に変化するため、フルカラー化が難
しいという問題がある。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】これらの問題を解決す
るため、ＴＦＴ素子を用いたゲストホスト型の反射型液
晶表示素子が提案されている。この種の液晶表示素子
は、印加電圧に応じてネマティック相とコレステリック
相の間で相転移を起こす液晶に二色性染料を添加し、シ
アン及びレッドの２色からなる補色カラーフィルタを用
いることで４色マルチカラー表示を実現している。しか
し、カラーフィルタを用いるため、依然として表示は暗
い。また、フルカラー化するためには、ＲＧＢ３原色の
カラーフィルタが必要になり、さらに、暗い表示になっ
てしまう。

【０００８】この発明は上記実状に鑑みてなされたもの
で、明るいカラー画像を表示できるカラー液晶表示素子
を提供することを目的とする。

【０００９】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、この発明の第１の観点にかかるカラー液晶表示素子
は、第１の基板と、前記第１の基板の上にマトリクス状
に形成されたアクティブ素子と、前記アクティブ素子を
覆って前記第１の基板上に形成された絶縁膜と、対応す
るアクティブ素子に接続され、前記絶縁膜上にマトリク
ス状に形成された画素電極と、前記第１の基板に対向し
て配置された第２の基板と、前記第２の基板の前記第１
の基板に対向する面に形成された対向電極と、前記第１
と第２の基板の間に、ツイスト配向状態で封止され、二
色性染料が添加された液晶と、前記画素電極又は前記対
向電極に積層して形成された蛍光体層と、を備えること
を特徴とする。

【００１０】また、この発明の第２の観点にかかるカラ
ー液晶表示素子は、第１の基板と、前記第１の基板上の
各画素領域にマトリクス状に形成された光反射性膜と、
前記光反射性膜を覆って形成された絶縁膜と、前記絶縁
膜上の各画素領域にマトリクス状に形成された画素電極
と、前記光反射性膜又は前記画素電極に積層されて形成
された蛍光体層と、前記第１の基板上にマトリクス状に
形成され、対応する前記画素電極に接続されたアクティ
ブ素子と、前記第１の基板に対向して配置された第２の
基板と、前記第２の基板の前記第１の基板に対向する面
に形成された対向電極と、前記第１と第２の基板の間
に、ツイスト配向状態で封止され、二色性染料が添加さ
れた液晶と、を備えることを特徴とする。

【００１１】また、この発明の第３の観点にかかるカラ
ー液晶表示素子は、光透過性の画素電極と該画素電極に
接続されたアクティブ素子とがマトリクス状に形成され
た第１の基板と、光反射性の対向電極が形成された対向
基板と、前記第１と第２の基板の間に、ツイスト配向状
態で封止され、二色性染料が添加された液晶と、前記第
１の基板と前記対向電極との間に配置された蛍光体層
と、を備えることを特徴とする。

【００１２】上記構成のカラー液晶表示素子は、偏光板
を使用せず、表示に寄与する光の量が多く、明るい画像
を表示することができる。また、視野角を広くすること
ができる。さらに、蛍光体層は吸収した光のエネルギー
を所定の波長の光（蛍光）に変換するので、明るい画像
を表示できる。

【００１３】

【発明の実施の形態】

（第１の実施形態）以下、この発明の実施の形態にかか
るカラー液晶表示素子を図面を参照して説明する。図１
は第１の実施形態にかかるカラー液晶表示素子の断面構
造を示す。

【００１４】このカラー液晶表示素子は一対の基板１、
２と、一対の基板１、２間に封止された液晶２０とより
構成される。液晶２０は、コレステリック液晶又はカイ
ラルドーパントが添加されたネマティック液晶から構成
され、例えば、吸収率異方性が正の黒色系の二色性染料
を、例えば、０．５〜１０重量％程度含んでいる。

【００１５】基板１、２のうち、光入射側の基板２はガ
ラス、透明樹脂等から構成される。一方、対向する基板
１は、特に、透明である必要はない。下側の基板（以
下、ＴＦＴ基板）１には、図１に示すように、アクティ
ブ素子としてのＴＦＴ（薄膜トランジスタ）４がマトリ
クス状に配置されている。

【００１６】ＴＦＴ４は、ＴＦＴ基板１上に形成された
ゲート電極５と、ゲート電極５を覆うゲート絶縁膜６
と、ゲート絶縁膜６上にゲート電極５と対向させて形成
されたａ−Ｓｉ（アモルファスシリコン）等からなる真
性半導体層７と、真性半導体層７の両端部に接続された
ソース電極８及びドレイン電極９とから構成されてい
る。

【００１７】各ＴＦＴ４の上には、絶縁層１１が全面に
配置されている。絶縁層１１は、光を効率的に反射する
白等の色の合成樹脂等から構成されている。絶縁層１１
の上には、コンタクトホールを介してソース電極８に接
続された透明電極（画素電極）３が、各画素領域にマト
リクス状に配置されている。各画素電極３は、ＩＴＯ
（インジウムとスズの酸化物）等からなる透明導電膜か
ら形成され、ＴＦＴ４を介して信号電圧（書き込み電
圧）が印加される。

【００１８】各画素電極３の上には、蛍光体層１２が配
置されている。蛍光体層１２は、赤色の蛍光を発する蛍
光体層と、緑の蛍光を発する蛍光体層と、青の蛍光を発
する蛍光体層とを含み、フルカラー表示が可能となるよ
うに、所定順序で配置されている。

【００１９】蛍光体層１２は、透明な樹脂基材と樹脂基
材に混入された粒状の蛍光物質とから構成される。樹脂
基材は、アクリル樹脂、塩化ビニル樹脂、アルキド樹
脂、芳香族スルホンアミド樹脂、ユリア樹脂、メラミン
樹脂、ベンゾクアミナン樹脂、及びそれらの共縮重合体
等からなる透明樹脂等から構成される。

【００２０】蛍光物質は、樹脂基材と同一の樹脂又は他
の透明樹脂を蛍光染料で染めた蛍光材を微細な粒状に粉
砕したものである。蛍光物質は、特定の波長域（蛍光物
質が発する蛍光の波長域）以外の光を吸収し、吸収した
光のエネルギーにより前記特定の波長域の光を発する波
長変換機能を有する。従って、蛍光体層１２から出射す
る光は、蛍光物質が発する蛍光の色に着色された光とな
る。

【００２１】蛍光体層１２の上には、全面にポリイミド
等からなる配向膜２１が配置されている。配向膜２１に
は、所定方向にラビング等の配向処理が施されている。

【００２２】一方、上側の基板（以下、対向基板）２上
には、対向電極１３が形成されている。対向電極１３
は、ＩＴＯ等からなる透明導電膜から形成され、所定の
基準電圧（コモン電圧）が印加される。対向電極１３上
には、ポリイミド等からなる配向膜２２が形成されてい
る。上側の基板２の配向膜２２には、下側の基板１の配
向膜２１に施された配向処理方向を基準として、所定方
向にラビング等の配向処理が施されている。

【００２３】二色性染料を含む液晶２０は、配向膜２
１、２２に施された配向処理に従って９０゜〜３６０
゜、望ましくは、１８０゜〜３６０゜ツイストして配向
している。

【００２４】蛍光体層１２を通る光の一部は蛍光物質に
当たる。蛍光物質は、特定波長域の光を透過または反射
させ、他の波長域の光（紫外線等を含む）を吸収し、吸
収した光のエネルギーにより前記特定波長域の光（蛍
光）を発する。従って、蛍光体層１２から出射する光
は、蛍光物質が発する蛍光の色に着色される。出射光の
色の濃度は、蛍光体層１２中の蛍光物質の割合により定
まり、割合が高いほど色度が高くなる。

【００２５】蛍光物質から発生して蛍光体層１２の液晶
２０側の表面に向かう蛍光は、蛍光体層１２からの反射
光となり、絶縁膜１１に向かう蛍光は、画素電極３を通
過し、光を効率良く反射する白色の絶縁膜１１で反射さ
れる。蛍光体層１２を透過した光も絶縁膜１１により反
射される。絶縁膜１１で反射された光は、蛍光体層１２
を通過する際に、再び着色される。

【００２６】画素電極３と対向電極１３の間に電圧が印
加されていない状態、即ち、電界無印加状態では、液晶
分子は基板にほぼ平行に、且つ、ツイストして配向して
いる。液晶２０に添加された二色性染料の分子も液晶分
子に沿ってツイストして配向している。このため、カラ
ー液晶表示素子の表面側（対向基板２側）から入射した
光は、その光の振動面のいずれもがツイスト配向してい
る二色性染料の分子のいずれかの長軸方向と一致し、そ
の分子により吸収される。このため、無電界状態では、
液晶２０を通って蛍光体層１２に達する光量は僅かであ
る。従って、蛍光体層１２が発する蛍光の量は少ない。

【００２７】蛍光体層１２及び絶縁膜１１で反射された
光は、液晶２０を通る過程で二色性染料により再び吸収
される。従って、カラー液晶表示素子の表面側に出射す
る光は僅かである。従って、表示はほぼ黒の暗状態にな
る。

【００２８】これに対し、画素電極３と対向電極１３と
の間に大きな電圧を印加すると、液晶分子は電界に沿っ
て対向基板２及びＴＦＴ基板１に対してほぼ垂直になる
ように一様に配向する。二色性染料の分子も液晶分子の
配向に伴って基板面に垂直に配向する。従って、二色性
染料分子による通過光の吸収はほとんど無い。

【００２９】このため、入射光は液晶２０を通過して蛍
光体層１２に到達し、蛍光体層１２及び絶縁膜１１で反
射される。この反射光が再び液晶２０を通って出射す
る。

【００３０】中間電圧が印加された場合には、液晶分子
は印加された電圧に応じたチルト角で配向し、印加電圧
が高くなるに従ってそのチルト角は大きくなる。二色性
染料の分子は液晶分子の配向に従って配向する。このた
め、液晶２０を通過する光の量は電界無印加時の通過量
と大きい電圧を印加した時の通過量との間で連続的に変
化する。従って、印加電圧を制御することにより、中間
調を表示することができる。

【００３１】ＴＦＴ液晶表示素子では、各行の選択期間
に、ゲートラインにパルス電圧を印加して各行のＴＦＴ
４をオンし、そのタイミングでドレインラインに表示階
調に対応する階調電圧を印加する。これにより、次の選
択期間まで、画素電極３と対向電極１３間に階調電圧に
対応する電圧が保持される。従って、この実施例のカラ
ー液晶表示素子は、各選択期間にドレインラインに印加
する電圧を制御することにより、液晶分子及び二色性染
料分子の配向状態を制御して、光の透過・吸収を制御し
て任意の画像を表示することができる。

【００３２】また、赤の蛍光体層１２と緑の蛍光体層１
２と青の蛍光体層１２が順番に絶縁膜１１上に配置され
ているので、赤と緑と青を１つの画素として各色の蛍光
体層１２に対応する領域の光透過強度を制御することに
より、フルカラーの画像の表示が可能となる。

【００３３】このような構成のカラー液晶表示素子にお
いては、二色性染料を用いて透過率の制御を行う。従っ
て、偏光板は使用する場合に比較して、表示に寄与する
光の強度が高く、表示画像は明るくなる。また、視野角
は広くなる。また、蛍光体層１２は吸収した光のエネル
ギーを用いて蛍光を発する。従って、カラーフィルタに
より、特定波長光以外の光を吸収して光を着色する場合
よりも、表示に寄与する光の強度が高い。このため、表
示画像は明るい。また、蛍光体層１２及び画素電極３の
下には光を効率良く反射する白色の絶縁層１１が配置さ
れているので、反射光の強度が強くなり、表示が明るく
なる。また、各画素電極３はＴＦＴ４上の各画素領域全
面に配置されるため、開口率が大きい。従って、表示が
明るい。

【００３４】図１においては、画素電極３を透明電極と
し、その下に白色の絶縁膜１１を配置したが、画素電極
３を金属等の光反射性の導電膜から形成してもよい。ま
た、図１においては、画素電極３の上に蛍光体層１２を
配置したが、図２に示すように、絶縁膜１１の上に蛍光
体層１２を形成し、この上に画素電極３を配置してもよ
い。また、反射効率を高めるため、図２に示すように、
蛍光体層１２の下に光反射性の金属等から構成される反
射膜１０を配置してもよい。この場合、反射膜１０に、
例えば、対向電極１３と同一の共通電圧を印加すること
により、画素電極３と反射膜１０とその間の蛍光体層１
２とで補償容量（画素電極３と対向電極１３とその間の
液晶２０により形成される容量に並列に接続された容
量）が構成できる。このような構成によっても、明るい
画像を表示するカラー液晶表示素子が得られる。また、
補償容量電極を新たに配置する必要がなく、表示に寄与
する領域を有効に活用することができる。

【００３５】（第２の実施の形態）図１及び図２におい
ては、ＴＦＴ４の上に絶縁膜１１を形成し、その上に画
素電極３及び蛍光体層１２を構成したが、画素電極３及
び蛍光体層１２の配置は任意である。例えば、図３に示
すように、基板上に反射膜１０を配置し、その上に蛍光
体層１２を配置してもよい。

【００３６】図３においては、ＴＦＴ基板１上にゲート
電極５と反射膜１０がそれぞれ配置される。ゲート電極
５と反射膜１０は、Ｃｒ等の金属膜をパターニングして
同時に形成される。また、反射膜１０には、対向電極１
３の電圧と同一の電圧が印加されており、画素電極３と
の間で補償容量を形成する。

【００３７】ゲート電極５と反射膜１０の上には、光透
過性のゲート絶縁膜６が配置される。ゲート絶縁膜６の
上には、ゲート電極５と対向して形成された真性半導体
層７と、真性半導体層７の両端部に接続されたソース電
極８及びドレイン電極９が配置される。また、ゲート絶
縁膜６上の各画素領域には、ソース電極８と接続された
画素電極３が配置される。画素電極３及びソース電極
８、ドレイン電極９等の上には、配向膜２１が全面に配
置される。対向基板２側及び液晶２０の構成は、図１の
構成と同一である。

【００３８】このような構成の第２の実施形態のカラー
液晶表示素子においても、偏光板を使用せず、蛍光体層
１２を用いて光を着色するので、明るい画像を表示する
ことができる。また、ゲート電極５を形成する過程で、
補償容量電極として機能する反射膜１０を形成すること
ができ、その製造が容易である。

【００３９】なお、図４に示すように、図３における蛍
光体膜１２を画素電極３の上に配置してもよい。また、
図４では、画素電極３の上に蛍光体層１２を配置してい
るが、蛍光体層１２の上に画素電極３を配置してもよ
い。

【００４０】図１〜図４においては、ＴＦＴ基板１側に
蛍光体層１２を形成したが、図５に示すように、対向基
板２の上に対向電極１３を形成し、対向電極１３上の各
画素領域に蛍光体層１２を形成し、これらの上に配向膜
２２を配置してもよい。また、図５では、対向電極１３
の上に蛍光体膜１２を配置しているが、対向基板２の上
に蛍光体層１２を配置し、この上に対向電極１３を配置
してもよい。

【００４１】（第３の実施の形態）図１〜図５の構成に
おいては、対向基板２側から入射した光をＴＦＴ基板１
側で反射する構成としたが、ＴＦＴ基板１側から入射し
た光を対向基板２側で反射する構成としてもよい。この
場合、ＴＦＴ基板１は透明基板から構成され、対向基板
２は透明基板から構成される必要はない。例えば、図６
においては、対向基板２上に光反射性の金属膜等からな
り、反射膜として機能する対向電極１３を形成し、対向
電極１３上の各画素領域に蛍光体層１２を配置し、これ
らの上に配向膜２２が配置されている。これに対し、Ｔ
ＦＴ基板１上には、ＴＦＴ４と透明導電膜からなる画素
電極３とが配置されている。

【００４２】このような構成においては、製造工程が複
雑なＴＦＴ基板１側の構成を簡単にすることができる。
しかも、上述の例と同様に、明るい画像を表示するカラ
ー液晶表示素子が得られる。

【００４３】なお、図６では、対向電極１３上に蛍光体
層１２を配置したが、対向基板２上に蛍光体層１２を配
置し、その上に対向電極１３を配置してもよい。また、
図６では、対向電極１３上に蛍光体層１２を配置した
が、図７に示すように、ＴＦＴ基板１側の画素電極３の
上に蛍光体層１２を配置してもよい。また、ＴＦＴ基板
１の上に蛍光体層１２を配置し、蛍光体層１２の上に画
素電極３を配置してもよい。

【００４４】この発明は上記実施形態に限定されず、種
々の変形及び応用が可能である。例えば、上記実施形態
においてはＴＦＴをアクティブ素子とするカラー液晶表
示素子を例にこの発明を説明したが、この発明は、ＭＩ
Ｍをアクティブ素子とするカラー液晶表示素子にも適用
可能である。また、液晶２０に添加する二色性染料の割
合、色、液晶２０のツイスト角等も変更可能である。

【００４５】

【発明の効果】以上説明したように、この発明のカラー
液晶表示素子は、明るいカラー画像を表示できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】この発明の第１の実施形態のカラー液晶表示素
子の構成例を示す断面図である。

【図２】図１に示すカラー液晶表示素子の変形例の構成
を示す断面図である。

【図３】この発明の第２の実施形態のカラー液晶表示素
子の構成例を示す断面図である。

【図４】図３に示すカラー液晶表示素子の変形例の構成
を示す断面図である。

【図５】図１〜図４のカラー液晶表示素子の変形例の構
成を示す断面図である。

【図６】この発明の第３の実施形態のカラー液晶表示素
子の構成例を示す断面図である。

【図７】図６に示すカラー液晶表示素子の変形例の構成
を示す断面図である。

【符号の説明】

１・・・ＴＦＴ基板、２・・・対向基板、３・・・画素電極、４・
・・ＴＦＴ、５・・・ゲート電極、６・・・ゲート絶縁膜、７・・
・真性半導体層、８・・・ソース電極、９・・・ドレイン電
極、１０・・・反射膜、１１・・・絶縁層、１２・・・蛍光体
層、１３・・・対向電極、２０・・・液晶、２１・・・配向膜、
２２・・・配向膜

Claims (11)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】第１の基板と、 前記第１の基板の上にマトリクス状に形成されたアクテ
   ィブ素子と、 前記アクティブ素子を覆って前記第１の基板上に形成さ
   れた絶縁膜と、 対応するアクティブ素子に接続され、前記絶縁膜上にマ
   トリクス状に形成された画素電極と、 前記第１の基板に対向して配置された第２の基板と、 前記第２の基板の前記第１の基板に対向する面に形成さ
   れた対向電極と、 前記第１と第２の基板の間に、ツイスト配向状態で封止
   され、二色性染料が添加された液晶と、 前記画素電極又は前記対向電極に積層して形成された蛍
   光体層と、 を備えることを特徴とするカラー液晶表示素子。
2. 【請求項２】前記蛍光体層は各前記画素電極の上に形成
   されていることを特徴とする請求項１に記載のカラー液
   晶表示素子。
3. 【請求項３】前記蛍光体層は前記対向電極に積層され、
   対向する各前記画素電極に対向して形成されていること
   を特徴とする請求項１に記載のカラー液晶表示素子。
4. 【請求項４】前記絶縁膜上の各画素領域には、所定電圧
   が印加された光反射性導電膜が配置され、 該光反射性導電膜の上に前記蛍光体層が配置され、 前記画素電極は、前記蛍光体層の上に、前記蛍光体層に
   より前記光反射性導電膜から絶縁されて配置されてい
   る、 ことを特徴とする請求項１に記載のカラー液晶表示素
   子。
5. 【請求項５】第１の基板と、 前記第１の基板上の各画素領域にマトリクス状に形成さ
   れた光反射性膜と、 前記光反射性膜を覆って形成された絶縁膜と、 前記絶縁膜上の各画素領域にマトリクス状に形成された
   画素電極と、 前記光反射性膜又は前記画素電極に積層されて形成され
   た蛍光体層と、 前記第１の基板上にマトリクス状に形成され、対応する
   前記画素電極に接続されたアクティブ素子と、 前記第１の基板に対向して配置された第２の基板と、 前記第２の基板の前記第１の基板に対向する面に形成さ
   れた対向電極と、 前記第１と第２の基板の間に、ツイスト配向状態で封止
   され、二色性染料が添加された液晶と、 を備えることを特徴とするカラー液晶表示素子。
6. 【請求項６】前記蛍光体層は対応する前記光反射性膜の
   上に形成されていることを特徴とする請求項５に記載の
   カラー液晶表示素子。
7. 【請求項７】前記蛍光体層は対応する前記画素電極の上
   に形成されていることを特徴とする請求項５に記載のカ
   ラー液晶表示素子。
8. 【請求項８】前記光反射性膜は所定の電圧が印加される
   導電性材料から構成され、前記画素電極と前記光反射性
   膜は補償容量を構成する、ことを特徴とする請求項５、
   ６、又は７に記載のカラー液晶表示素子。
9. 【請求項９】前記アクティブ素子は、ゲート電極と該ゲ
   ート電極を覆うゲート絶縁膜を備え、 前記光反射性膜と前記ゲート電極は、同一の金属膜をパ
   ターニングして形成され、 前記絶縁膜とゲート絶縁膜は実質的に同一の絶縁膜から
   構成されている、ことを特徴とする請求項５、６、７又
   は８に記載のカラー液晶表示素子。
10. 【請求項１０】光透過性の画素電極と該画素電極に接続
    されたアクティブ素子とがマトリクス状に形成された第
    １の基板と、 光反射性の対向電極が形成された対向基板と、 前記第１と第２の基板の間に、ツイスト配向状態で封止
    され、二色性染料が添加された液晶と、 前記第１の基板と前記対向電極との間に配置された蛍光
    体層と、 を備えることを特徴とするカラー液晶表示素子。
11. 【請求項１１】前記蛍光体層は、複数色の蛍光体層を含
    む、ことを特徴とする請求項１乃至１０のいずれか１つ
    に記載のカラー液晶表示素子。