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JPH09511927A - 歯槽骨へのビスホスホネート類のイオン導入デリバリー - Google Patents

歯槽骨へのビスホスホネート類のイオン導入デリバリー

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Publication number
JPH09511927A
JPH09511927A JP7526974A JP52697495A JPH09511927A JP H09511927 A JPH09511927 A JP H09511927A JP 7526974 A JP7526974 A JP 7526974A JP 52697495 A JP52697495 A JP 52697495A JP H09511927 A JPH09511927 A JP H09511927A
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JP
Japan
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substituted
amino
hydrogen
reservoir
hydroxy
Prior art date
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Pending
Application number
JP7526974A
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English (en)
Inventor
壽 篠田
ひろし 堀内
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Procter and Gamble Co
Original Assignee
Procter and Gamble Co
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Filing date
Publication date
Application filed by Procter and Gamble Co filed Critical Procter and Gamble Co
Publication of JPH09511927A publication Critical patent/JPH09511927A/ja
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Abstract

(57)【要約】 本発明は:a)リザーバーが治療される歯槽骨に最も近い露出組織と接触するように口腔の歯肉組織にリザーバーを投与する(リザーバーは負電荷状態に活性化合物を維持するpHを有した組成物であって、安全有効量の構造(I)を有した活性化合物〔式中:nは0〜7(好ましくは0〜3、更に好ましくは1)の整数である;R1は水素、クロロ、アミノ又はヒドロキシ(好ましくは水素又はヒドロキシ)である;Xは‐NH‐、四級アミン、酸素、イオウ又は単結合(好ましくは‐NH‐又は単結合)である;R2は5〜7員炭素環(好ましくは6〜7員、更に好ましくはベンゼン又はシクロヘプチル)、1〜3のヘテロ原子を有する5〜7員ヘテロ環(好ましくは1又は2つの窒素原子を有する6員ヘテロ環;環窒素は四級化されていてもよい)、‐NH2、1つのアルキル又は2つのアルキル(好ましくはC1‐C5)基で置換されて各々二級又は三級アミンを与えるアミノ、四級アミノあるいは水素である;R2が置換5〜7員炭素環又はヘテロ環であるならば、置換基は1〜約6の炭素原子を有する置換及び非置換、飽和又は不飽和アルキル、置換及び非置換アリール、置換及び非置換ベンジル、ヒドロキシ、ハロゲン、カルボニル、アルコキシ、ニトロ、アミド、アミノ、置換アミノ、カルボキシレートとそれらの組合せからなる群より選択される1以上の置換基である;各R3は独立して水素又は1〜約4の炭素原子を有する置換もしくは非置換アルキル(飽和又は不飽和)である〕又はそれらの薬学上許容される塩及びエステルを含んでいる);及びb)安全有効量の電流を2つの電極に通す(1つの電極はリザーバーと接触する負電極であり、第二電極は治療されるヒト又は他の動物と接触する正電極である)ことからなる、ヒト又は他の動物の歯槽骨吸収又は歯の望ましくない動きを阻止する方法に関する。

Description

【発明の詳細な説明】 歯槽骨へのビスホスホネート類のイオン導入デリバリー 発明の背景 あるgem-ビスホスホン酸化合物は、それらの塩及びエステルを含めて、歯槽骨 喪失と望ましくない歯の動きに対して有効である。このような化合物に伴う問題 は、その化合物が通常負電荷分子であって、非常に容易には口内組織に浸透でき ないことである。このような薬物は全身投与されてきたが、それらの吸収速度は とても乏しい。 イオン導入とはイオンを含有した溶液又は他の媒体を組織と接触させて又はそ の極めて近くにおくことにより人の組織中にイオンをデリバリーするための技術 であり、イオンを含有した溶液又は媒体は典型的には第一電極パウチ又はレセプ タクルによりキャリーされる。第二又は分散電極は第一電極のやや近くにある組 織に向けておかれる。イオンは、2つの電極への適度な極性の電位又は電圧の適 用により、イオンキャリー媒体から組織中に移動される。制御電流は、第一及び 第二電極間で十分な電圧差を設けて、回路で他に制限抵抗又は他の電流制限装置 をおくことにより作られる。 本発明者は、イオン導入で投与されたとき、あるビスホスホネート化合物が歯 周病に伴う歯槽骨吸収を阻止して歯科矯正操作中に歯の動きを安定化させるだけ でなく、それらが低投与量でもそうすることを、意外にも発見した。イオン導入 で投与されるときには、投与量は全身レベルの薬物がほとんど又は全くないほど 十分低いにもかかわらず、その投与量であれば局所効果を与える上で有効である 。 発明の要旨 本発明は: a)リザーバーが治療される歯槽骨に最も近い露出組織と接触するように口腔 の歯肉組織にリザーバーを投与する(リザーバーは負電荷状態に活性化合物を維 持するpHを有した組成物であって、安全有効量の下記構造を有した活性化合物 : 〔上記式中:nは0〜7(好ましくは0〜3、更に好ましくは1)の整数である ;R1は水素、クロロ、アミノ又はヒドロキシ(好ましくは水素又はヒドロキシ )である;Xは‐NH‐、四級アミン、酸素、イオウ又は単結合(好ましくは‐ NH‐又は単結合)である;R2は5〜7員炭素環(好ましくは6〜7員、更に 好ましくはベンゼン又はシクロヘプチル)、1〜3のヘテロ原子を有する5〜7 員ヘテロ環(好ましくは1又は2つの窒素原子を有する6員ヘテロ環;環窒素は 四級化されていてもよい)、‐NH21つのアルキル又は2つのアルキル(好ま しくはC1‐C5)基で置換されて各々二級又は三級アミンを与えるアミノ、四級 アミノあるいは水素である;R2が置換5〜7員炭素環又はヘテロ環であるなら ば、置換基は水素、1〜約6の炭素原子を有する置換及び非置換、飽和又は不飽 和アルキル、置換及び非置換アリール、置換及び非置換ベンジル、ヒドロキシ、 ハロゲン、カルボニル、アルコキシ、ニトロ、アミド、アミノ、置換アミノ、カ ルボキシレートとそれらの組合せからなる群より選択される1以上の置換基であ る;各R3は独立して水素又は1〜約4の炭素原子を有する置換もしくは非置換 アルキル(飽和又は不飽和)である〕又はそれらの薬学上許容される塩 及びエステルを含んでいる);及び b)安全有効量の電流を2つの電極に通す(1つの電極はリザーバーと接触す る負電極であり、第二電極は治療されるヒト又は他の動物と接触する正電極であ る) ことからなる、ヒト又は他の動物の歯槽骨吸収又は歯の望ましくない動きを阻止 する方法に関する。 発明の具体的な説明 本発明の本質及び非本質面は下記パラグラフで記載されている。 ビスホスホン酸 本発明は安全有効量のgem-ビスホスホン酸化合物(“BP”)又はそれらのそ れらの薬学上許容される塩及びエステルの口内組織へのイオン導入デリバリーに 関する。 本発明で有用な特に好ましいビスホスホネート類は、下記式の化合物: 〔上記式中:nは0〜7(好ましくは0〜3、更に好ましくは1)の整数である ;R1は水素、クロロ、アミノ又はヒドロキシ(好ましくは水素又はヒドロキシ )である;Xは‐NH‐、四級アミン、酸素、イオウ又は単結合(好ましくは‐ NH‐又は単結合)である;R2は置換又は非置換5〜7員炭素環(好ましくは 6〜7員、更に好ましくはベンゼン又はシクロヘプチル)、1〜3のヘテロ原子 を有する置換又は非置換5〜7員ヘテロ環(好ましくは1又は2つの窒素原子を 有する6員ヘテロ環;環窒素は四級化されていてもよい)、‐NH2、1つの アルキル又は2つのアルキル(好ましくはC1‐C5)基で置換されて各々二級又 は三級アミンを与えるアミノ、四級アミノあるいは水素である;R2が置換5〜 7員炭素環又はヘテロ環であるならば、置換基は1〜約6の炭素原子を有する置 換及び非置換、飽和又は不飽和アルキル、置換及び非置換アリール、置換及び非 置換ベンジル、ヒドロキシ、ハロゲン、カルボニル、アルコキシ、ニトロ、アミ ド、アミノ、置換アミノ、カルボキシレートとそれらの組合せからなる群より選 択される1以上の置換基である(水素が好ましい);各R3は独立して水素又は 1〜約4の炭素原子を有する置換もしくは非置換アルキル(飽和又は不飽和)で ある〕とそれらの薬学上許容される塩及びエステルである。 本明細書で用いられる“薬学上許容される塩及びエステル”という用語は、そ れらが誘導される酸形と同様の一般的薬理性質を有して薬学上許容される骨活性 ホスホネート類の加水分解性エステル及び塩を意味する。薬学上許容される塩に は、例えばアルカリ金属(例えばナトリウム及びカリウム)、アルカリ土類金属 (例えばカルシウム及びマグネシウム)、無毒性重金属(例えばスズ及びインジ ウム)とアンモニウム及び低分子量置換アンモニウム(例えばモノ、ジ及びトリ エタノールアミン)塩がある。好ましい化合物はナトリウム、カリウム及びアン モニウム塩である。薬学上許容されるエステルには、非置換及び置換アルキル、 アリール及びホスホリルエステルがある。薬学上許容されるエステルの非制限例 には、例えばイソプロピル、tert‐ブチル、2‐クロロエチル、2,2,2‐ト リクロロエチル、2,2,2‐トリフルオロエチル、p‐トルエンスルホニルエ チル、グリシル、サルコシル、ベンジル、フェニル、1,2‐ヘキサノイルグリ セリル、p‐ニトロフェニル、2,2‐ジメチル‐1,3‐ジオキソレン‐4‐ メチル、イソペンテニル、o‐カルボメトキシフェニル、ピラロイルオキシメチ ルサリチリル、ジエチルアミドホスホリル、ピバロイルオキシメチル、アシルオ キシメチル、プロピオニルオキシメチル、イソブチリルオキシメチル、ドデシル 、 オクタデシル及びイソプロピルオキシメチルがある。 ビスホスホネート類で有用な置換基に関する具体例及び定義は、1989年1 月11日付で公開されたEbetino の欧州特許公開第298,553号明細書で記 載されている(参考のため本明細書に組み込まれる)。本発明の方法で有用なビ スホスホネート類とこのような化合物の製造方法は、すべて参考のため本明細書 に組み込まれる下記特許文献で記載されている:1971年1月5日付で発行さ れたFrancis の米国特許第3,553,314号;1972年8月8日付で発行 されたFrancis の米国特許第3,683,080号;1974年11月5日付で 発行されたWollmannらの米国特許第3,846,420号;1975年8月12 日付で発行されたSchindler らの米国特許第3,899,496号;1976年 3月2日付で発行されたPlogerらの米国特許第3,941,772号;1976 年5月18日付で発行されたPlogerらの米国特許第3,957,160号;19 76年6月8日付で発行されたSchmidt-Dunkerの米国特許第3,962,432 号;1976年9月7日付で発行されたWollmannらの米国特許第3,979,3 85号;1976年10月26日付で発行されたPlogerらの米国特許第3,98 8,443号;1977年10月18日付で発行されたBlumらの米国特許第4, 054,598号;1978年9月12日付で発行されたFleisch らの米国特許 第4,113,861号;1978年9月26日付で発行されたPlogerの米国特 許第4,117,090号;1979年1月16日付で発行されたSchmidt-Dunk erの米国特許第4,134,969号:1981年5月12日付で発行されたBl umらの米国特許第4,267,108号;1981年12月8日付で発行された Jaryらの米国特許第4,304,734号;1982年5月18日付で発行され たFrancis の米国特許第4,330,537号;1983年10月4日付で発行 されたBlumらの米国特許第4,407,761号;1984年9月4日付で発行 されたAndrews の米国特許第4,469,686号;1986年3月25日付で 発行されたRosiniの米国特許第4,578,376号;1986年8月26日付 で発行されたBlumらの米国特許第4,608,368号;1986年11月4日 付で発行されたRosiniらの米国特許第4,621,077号;1987年8月1 8日付で発行されたBosiesらの米国特許第4,687,767号;1987年1 0月18日付で発行されたBenedictらの米国特許第4,687,768号;19 87年12月8日付で発行されたStahl らの米国特許第4,711,880号; 1988年1月12日付で発行されたBosiesらの米国特許第4,719,203 号;1990年5月22日付で発行されたGallらの米国特許第4,927,81 4号;1991年2月5日付で発行されたIsomura らの米国特許第4,990, 503号;1991年5月28日付で発行されたKieczykowskiの米国特許第5, 019,651号;1972年8月17日付で公開されたWorms の西独特許公開 第2,104,476号;1975年4月3日付で公開されたPloeger らの西独 特許公開第2,343,147号;1975年6月26日付で公開されたWorms らの西独特許公開第2,360,798号;1976年10月7日付で公開され たSchmidt-Dunkerの西独特許公開第2,513,966号;1977年3月24 日付で公開されたEimersらの西独特許公開第2,541,981号;1985年 4月4日付で公開されたBlumの西独特許公開第3,334,211号;1978 年5月29日付で公開されたSuzukiらの日本特許公開第78/59,674号; 1979年10月22日付で公開されたSuzukiらの日本特許公開第79/135 ,724号;1980年7月25日付で公開されたSuzukiらの日本特許公開第8 0/98193号;1983年9月14日付で公開されたBlumらの欧州特許公開 第88,359号;1984年2月15日付で公開されたBreliereらの欧州特許 公開第100,718号;1986年7月2日付で公開されたBenedictらの欧州 特許公開第186,405号;1986年10月15日付で公開されたBosiesら の欧州特許公開第197,478号;1987年7月29日付で公開されたBene di ctらの欧州特許公開第230,068号;1988年7月6日付で公開されたEb etino らの欧州特許公開第273,514号;1988年7月13日付で公開さ れたEbetino らの欧州特許公開第274,158号;1988年9月14日付で 公開されたSakamotoらの欧州特許公開第282,309号;1988年9月14 日付で公開されたIsomura らの欧州特許公開第282,320号;1987年6 月18日付で公開されたBinderupらのPCT特許公開第87/03598号;1 988年1月28日付で公開されたGallらのPCT特許公開第88/00590 号明細書。 本発明の方法で有用な好ましい骨活性ホスホネート類には、1‐ヒドロキシエ タン‐1,1‐ビスホスホン酸;ジクロロメタンビスホスホン酸;3‐アミノ‐ 1‐ヒドロキシプロパン‐1,1‐ビスホスホン酸;6‐アミノ‐1‐ヒドロキ シヘキサン‐1,1‐ビスホスホン酸;4‐アミノ‐1‐ヒドロキシブタン‐1 ,1‐ビスホスホン酸;2‐(3‐ピリジル)‐1‐ヒドロキシエタン‐1,1 ‐ビスホスホン酸:2‐(N‐イミダゾイル)‐1‐ヒドロキシエタン‐1,1 ‐ビスホスホン酸;3‐(N‐ペンチル‐N‐メチルアミノ)‐1‐ヒドロキシ プロパン‐1,1‐ビスホスホン酸;3‐(N‐ピロリジノ)‐1‐ヒドロキシ プロパン‐1,1‐ビスホスホン酸;N‐シクロヘプチルアミノメタンビスホス ホン酸;S‐(p‐クロロフェニル)チオメタンビスホスホン酸;4‐アミノ‐ 1‐ヒドロキシブチリデン‐1,1‐ビスホスホン酸;(7‐ジヒドロ‐1‐ピ リンジン)メタンビスホスホン酸;(7‐ジヒドロ‐1‐ピリンジン)ヒドロキ シメタンビスホスホン酸;(6‐ジヒドロ‐2‐ピリンジン)ヒドロキシメタン ビスホスホン酸;2‐(6‐ピロロピリジン)‐1‐ヒドロキシエタン‐1,1 ‐ビスホスホン酸;それらの薬学上許容される塩及びエステルがある。 本発明の方法で有用な特に好ましい骨活性ホスホネート類には、4‐アミノ‐ 1‐ヒドロキシブタン‐1,1‐ビスホスホン酸;2‐(3‐ピリジル)‐1‐ ヒドロキシエタン‐1,1‐ビスホスホン酸;3‐(N‐ペンチル‐N‐メチル アミノ)‐1‐ヒドロキシプロパン‐1,1‐ビスホスホン酸;N‐シクロヘプ チルアミノメタンビスホスホン酸;S‐(p‐クロロフェニル)チオメタンビス ホスホン酸;(7‐ジヒドロ‐1‐ピリンジン)メタンビスホスホン酸;それら の薬学上許容される塩及びエステルがある。 しかしながら、アミノエタンビスホスホン酸化合物は、最も好ましくは下記の ように製造される:リゼドロネート活性成分 本明細書で用いられる“リゼドロネート(risedronate)”という用語は3‐ ピリジル‐1‐ヒドロキシエチリデン‐1,1‐ビスホスホン酸を表し、下記構 造を有する: 化合物リゼドロネートはすべて参考のため本明細書に組み込まれる下記公開文 献で更に記載されている:BenedictらからThe Procter & Gamble Co.に譲渡され て1986年7月2日付で公開されたEPO特許出願第186,405号;"An International Conference,Bisphosphonates: Current Status and Future Pros pects",The Royal College of Physicians,London,England,may 21-22,1990,IBC Technical Services 開催。 “リゼドロネート活性成分”という用語には、リゼドロネート、リゼドロネー ト塩及びリゼドロネートエステル又はそれらいずれかの混合物を含む。リゼドロ ネートのいかなる薬学上許容される無毒性の塩又はエステルも、本発明で有用な 経口剤形でリゼドロネート活性成分として用いてよい。リゼドロネートの塩には 酸付加塩、特に塩酸塩があるが、いかなる薬学上許容される無毒性の有機又は無 機酸塩も用いてよい。加えて、限定されないが、アルカリ金属塩(K、Na)及 びアルカリ土類金属塩(Ca、Mg)を含めたカルボン酸基で形成される塩が使 用でき、Ca及びNa塩が好ましい。 特に、本明細書で開示されている本発明で活性成分として使用に適したリゼド ロネートの他のエステルは、限定されないが、メチル、エチル、プロピル、イソ プロピル、ブチル、イソブチル、アミル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、ノニ ル、デシル、ラウリル、ミリスチル、セチル及びステアリルを含めた直鎖又は分 岐鎖C1‐C18アルキルエステル;限定されないが、ビニル、アルキル、ウンデ セニル及びリノレニルを含めた直鎖又は分岐鎖C2−C18アルケニルエステル; 限定されないが、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキ シル、シクロヘプチル及びシクロオクチルを含めたC3‐C8シクロアルキルエス テル;限定されないが、フェニル、トルイル、キシリル及びナフチルを含めたア リールエステル;限定されないが、メンチルを含めた脂環式エステル;限定され ないが、ベンジル及びフェネチルを含めたアラルキルエステルである。 一般的に言えば、リゼドロネート活性成分の適正な選択は、処方の選択された タイプに依存している。活性成分の物理的及び化学的特性も、リゼドロネート活 性成分を含有した剤形で使用に適した薬学上許容される賦形剤を選択するときに 考慮されねばならない。N‐〔2‐(3‐ピコリル)〕アミノエタンBPの合成 上記化合物は、テトラエチルビニルビスホスホネートと2‐アミノ‐3‐ピコ リンとの典型的マイクル反応により製造される(H.O.House,Modern Synthetic Reaction,2nd Ed.,W.A.Benjamin Inc.,p.595-623 参照;その開示は参考のため 本明細書に組み込まれる)。 テトラヒドロフラン中2‐アミノ‐3‐ピコリン1.62g(15mmol)の溶 液に5℃でテトラエチルビニルビスホスホネート4.50g(15mmol)を加え る。反応混合液を室温で16時間撹拌する。溶媒の蒸発と、シリカゲルで生成物 のクロマトグラフィー(アセトン/ヘキサン、4/1)により、純粋なN‐〔2 ‐(3‐ピコリル)〕‐2‐アミノエタンビスホスホン酸テトラエチルを得る。 CDCl3中純粋なテトラエチルエステルのP‐31 NMRでは22.1 p pmで共鳴を示す。エステルを還流6N HCl中で一夜加水分解させる。生成 物はD2O中pH=12で19.0ppmのP‐31 NMRシグナルを示した 。 N‐(2‐ピリジル)‐2‐アミノエタンBP及びN‐〔2‐(5‐ピコリル )〕‐2‐アミノエタンBPも同一手法で製造される。 下記一般式を有する化合物: (上記式中nは1〜約5の整数、好ましくはn=1である;X、R2及びR3は前 記のとおりであるが、好ましいR2はピリミジン及び特にピリジンであり、好ま しいR4は水素、メチル、アミノ、クロロ、ニトロ、メトキシ、ヒドロキシ及び それらの組合せからなる群より選択される1以上の置換基であり、好ましいXは 単結合であり、好ましいR3は水素である)は、最も好ましくは下記のように製 造される:2‐(2‐ピリジル)‐1‐ヒドロキシエタン‐1,1‐ビスホスホン酸の合成 還流コンデンサー及び磁気撹拌棒を装備した3首丸底フラスコに2‐ピリジン 酢酸6.94g(0.04モル)、リン酸9.84g(0.14モル)及びクロ ロベンゼン150mlを入れる。この反応混合液を沸騰水浴で加熱し、三塩化リ ン16.5g(0.12モル)を撹拌しながら滴下する。この反応混合液を2‐ 1/2時間加熱したところ、粘稠黄色油状物が生成する。次いで反応混合液を氷浴 で冷却し、クロロベンゼン溶液を固化した生成物からデカントする。この固化生 成物を含有した反応フラスコに水150mlを入れ、沸騰水浴で数時間加熱する 。 溶液に加えたところ、沈殿物が生成する。氷で1時間冷却した後、沈殿物を口取 し、その後メタノール/水(1/1容量/容量)、メタノール及びエーテルで洗 浄し、風乾する。生成物は熱水から再結晶させてもよい。サンプルはP‐31及 びC‐13 NMRで特徴付けられる。 本発明において、活性剤の有効量とはそのイオン導入投与で意図した結果を生 じるために必要な量を意味する。有効量は、特に他の因子の中で、望ましい活性 剤の組織レベルにより決定されるような生理効果、活性剤のクリアランス速度及 び望ましい皮内代謝に応じて変わる。 イオン導入デリバリーのためキャリア中に配合される投与当たりの活性剤の量 は、活性剤約0.002〜約20mg、好ましくは約0.01〜約10mg、更 に好ましくは約0.1〜約5mgである。イオン導入 イオン導入中、荷電化合物はヒト又は動物の口内組織に付着されたリザーバー からその下にある組織中に移る。そのプロセスでは、デリバリー速度が電流、活 性剤濃度及び他のイオンの存在の関数となっている。高い化合物濃度、高い電流 レベル及び低いそれらイオン濃度になるほど化合物の大きな量のデリバリーとな ることが、一般的に持たれた考え方である。 安全有効量の電流を出す上で十分な適切な電圧が利用されるべきである。本明 細書で用いられる“安全有効量”とは、健全な医学的判断の範囲内(妥当な利益 /危険比)で、治療すべき症状に有意の改善を誘導する上で十分だが、しかも重 篤な副作用を避ける上で十分に低い量を意味する。電流の安全有効量は、治療さ れる具体的な症状、治療される患者の年齢及び身体条件、症状の程度、治療期間 、併用療法の性質、用いられる具体的な化合物又は組成物、利用される具体的な 薬学上許容されるキャリアと類似ファクターに応じて変わる。約0.01〜約5 .0 ma/cm2、好ましくは約0.1〜約1 ma/cm2、しかも更に好ましくは約1〜 約4.5 ma/cm2の電流を出す電圧であれば十分である。参考のため本明細書に 組み込まれる1991年5月28日付で発行されたWeaverらの米国特許第5,0 19,034号明細書で記載されたような高電圧エレクトロポレーションも用い てよい。 本発明の方法及び組成物は、従来の方法及び組成物と比較して特に有利である 。従来の方法及び組成物は、典型的には浸透増強剤のような組織ダメージ又は組 織変化組成物に依存していた。歯肉上皮を変化させる組織浸透増強剤とは異なり 、本発明の組成物及び方法は歯肉上皮を変化させるものではなく、イオン導入デ リバリー活性剤で高い組織濃度を達成する。 下記用語は本書で用いられているように定義される。“イオン”とは、1以上 の電子を失うか又は得て電荷を獲得した原子又は基に関する。“活性剤”とは、 イオン導入でデリバリーさせるために選択される物質に関する。このため、活性 剤とはデリバリー用に選択された物質及び選択された物質のイオン形、例えばデ リバリーされる選択された物質のハライド塩(例えば、リゼドロネートと、カル シウムリゼドロネートのようなデリバリー用のリゼドロネートのイオン形)に関 する。“患者”とは、ヒト、イヌ及びネコのような家庭動物、ウシ、ウマ、ヒツ ジ、ブタ、ヤギ及びウサギのような家畜、マウス及びラットのような実験動物と 、エキゾチックな種類のような動物園動物を含めた動物に関する。 本発明の方法及び組成物は、いずれか1つの特定なイオン導入系で実施するこ とに限定されない。通常、イオン導入装置は少くとも2つの電極、電気エネルギ ー源(例えば、バッテリー)及びデリバリーされる活性剤を含有した少くとも1 つのリザーバーからなる。P.Tyle,Pharmaceutical Research,3:318(1986)で開示 されたもののように、いくつかのイオン導入装置が知られている。 活性剤は、化学的に純粋な形でドナーコンパートメントに維持されねばならな い。電極における活性剤の電気化学的反応は避けられる。活性剤のイオン導入が 行われるとき、化合物は歯肉上皮、介在口内組織を通って歯槽骨中に入る。歯肉 上皮が律速バリヤである状況では、脈管構造中の血流はほとんど重要でない。化 合物を除去する脈管構造の能力が律速するところまで活性剤のデリバリー速度が イオン導入の場合のように、受動的デリバリーよりも高められるとき、脈管構造 中の血流は重要になる。したがって、血管収縮剤を活性剤と共にイオン導入すれ ば、イオン導入でデリバリーされる活性剤の組織濃度を高める。 活性剤対血管収縮剤の適正な濃度比を維持する能力は、活性剤及び血管収縮剤 のイオン導入性と、ひいては活性剤と組み合わされた血管収縮剤の相対割合に依 存する。キャリア “薬学上許容される組成物”という用語は、イオン導入でデリバリーされる活 性剤の性質又はその安定性に有意又は有害な影響を与えない、塩、成形複合体、 固体及び液体キャリア、イオン形等の付加物に関する。薬学上許容される組成物 は、Remington's Pharmaceutical Sciences,Ed.A.F.Germaro,17th Ed.,1985,Mac k Publishing Co.,Easton,Pennsylvaniaのような当分野で一般的なテキストを参 考にして製造することができる。 デリバリーされる活性剤を含有した薬学上許容される組成物又はリザーバーは 、イオン導入ユニットと口内組織とを接触させる上で適したいずれかの物質の形 をとることができる。適切な物質には溶液、フォーム、ゲル、クリーム及びロー ションがあるが、それらに限定されず、ノニオン系ゲルが好ましい。 イオン導入溶液には水、アルコール、プロピレングリコール、ポリエチレング リコール又はそれらの混合物のような液体ビヒクルを含むことができる。このよ うなビヒクルは、溶液の約70〜約99%、好ましくは約80〜約98%である 。 それらがビヒクル成分と適合するならば、任意の剤も加えてよい。このような 剤には、ポロキサマー、ナトリウムラウリルサルフェート等のような界面活性剤 ;メチルパラベン、塩化セチルピリジニウム等のような保存剤;香味剤及び着色 剤がある。 イオン導入ゲルには、適切なゲル化剤でゲル化された上記のような液体又は溶 液組成物を含むことができる。このような適切なゲル化剤には、ヒドロキシプロ ピルメチルセルロース、カルボキシビニルコポリマー(カルボポール)、食用デ ンプン、例えばコーンスターチ及びポテトスターチ、ガム類、例えばキサンタン 、カラヤ、アルギン酸、生体ポリマー、例えばキトサン、他の多糖ゲル、又はイ オンをキャリーできる類似親水性水性ゲルがある。このようなゲルの具体例には ポリビニルアルコール、ポリメチルピロリジン、ポリビニルピロリドン、メチル セルロース、ポリアクリルアミド、ポリヘマス、ポリヘマ誘導体、食用デンプン 、例えばコーン及びポテトスターチ等がある。選択されるマトリックスは人体組 織に無刺激であって、マトリックスは組織と良好な電気的接触を得るために適切 な粘度及び界面活性剤性質と、ビスホスホネートイオンのキャリア媒体として作 用する能力を有しているべきである。好ましいマトリックスはデンプンである。 ゲル化剤は組成物の約0.1〜約10%、好ましくは0.2〜2%である。 任意成分も加えてよい。このような任意成分には、メチルパラベンのような保 存剤、フレーバー、及びソルビトールのような甘味剤がある。例えば、高いアル コール量がビヒクルとして用いられるならば、追加保存剤は不要である。 所望であれば、無水ゲルも、例えば水なしにビヒクルとしてプロピレングリコ ールを用いて、プロピレングリコールを適切なセルロース系又は他のポリマーで ゲル化することにより処方できる。 イオン導入フォーミングペーストは、ナトリウムラウリルサルフェート、ナト リウムドデシルサルフェート、ポロキサマー等のような薬学上許容される起泡界 面活性剤を含むことができる。ナトリウムラウリルサルフェートが用いられる場 合、その濃度は約0.1〜約5%、好ましくは約0.5〜約2%である。高濃度 になるほど起泡性を増加させ、低濃度になるほど起泡性を減少させる。歯磨剤処 方の場合、薬学上許容される歯科研磨剤が加えられる。適切な歯科研磨剤には、 参考のため本明細書に組み込まれる1962年12月25日付で発行されたCool eyらの米国特許第3,070,510号明細書で開示されたようなコロイド性二 酸化ケイ素及びその他がある。 場合により、二酸化チタンのような不透明剤は処方物を不透明にするために加 えることができる。その不在下で、組成物は透明又は半透明である。 イオン導入ローション及びクリームは、乳化剤として脂肪又は油性成分、水性 成分及び界面活性剤を含むことができる。適切な脂肪成分には、ワセリン、脂肪 アルコール、脂肪酸等がある。適切な界面活性剤にはナトリウムラウリルサルフ ェート、ソルビタンエステル、ポリオキシエチレン及びポリオキシプロピレン誘 導体及びコポリマー、天然及び合成ゴム、セルロース系物質等がある。本発明で 使用に適したローション又はクリームの製造は、エマルジョン製品を製造する科 学及び技術に精通した者に周知である。 pHは、生理学的に許容できて負電荷状態にビスホスホネートを維持する範囲 、好ましくは約3〜約9、更に好ましくは約5〜約8に維持されねばならない。 短 時間治療(例えば、2〜3分間)の場合には、広い範囲で許容される。長時間( 例えば、約5分間以上)にわたり一定pHを維持するためのキーは、金属電極よ りもむしろ無分極電極か、又は塩橋と大表面金属電極との組合せの使用である。 このような無分極電極にはAg/AgCl及びカロメル電極がある。アノード又 はカソードからドナー溶液を分離するイオン交換膜も、この目的、特に酸化感受 性活性剤に用いてよい。 本発明の目的に有用な好ましい組成物は約150mM以下の最大オスモル濃度 を有し、好ましくはオスモル濃度はこの量以下である。最大イオン濃度は最大で 約150mM、好ましくはそれ以下ある。好ましくは、活性剤イオンは最少でこ のような組成物の移動イオン濃度の25%である。任意成分 本発明の方法で使用の活性剤は、単独で又は他の物質と組合せてデリバリーで きる。他の物質には、他の浸透増強剤、緩衝剤、静菌剤、安定剤、酸化防止剤、 他の活性剤等、抗炎症剤、抗ヒスタミン剤、抗生物質がある。好ましくは、活性 剤は非全身デリバリー用である。抗生物質の具体例には、クリンダマイシン、ス トレプトマイシン、バンコマイシン、テトラサイクリン、メトロニダゾール及び アジトロマイシンがある。組成物は、典型的にはイオン導入デリバリーに適した キャリアに溶解される。 すべての剤形、特に溶液及びゲルにおいて、エタノールの添加(0.001〜 約40%)は皮膚浸透性を増加させて、ビスホスホネートデリバリーを高める。 香料及び/又は香味剤も、特に治療がパッチなしで口腔に適用されるときに加え ることができる。局所麻酔剤(例えば、リドカイン、ベンゾカイン)も適用部位 を麻痺させるために含有させてよい。局所麻酔剤を含有した組成物は、イオン導 入電流が適用される前に歯肉組織に適用して、少くとも約30秒間にわたりおか れるべきである。追加任意成分には痛み及び炎症を軽減させる抗炎症剤がある。 α‐プロピオン酸(例えば、イブプロフェン、ケトプロフェン、ナプロキセン、 フルルビプロフェン)、ケトロラック、インドメタシン及びメクロフェナム酸を 含めたアニオン系NSAIDが好ましいが、それらに制限されない。使用方法 前記組成物は口内組織に直接又はパッチで適用できる。前者の場合、適用部位 はその後でイオン導入治療を始めるために電極と接触させねばならない。すべて の剤形は導電性でなければならない。好ましい剤形には、パッチと共に又はそれ なしに適用される導電性ゲルと、パッチ内に含有される導電性溶液がある。 本発明によるイオン導入治療は、約1分間〜約24時間、好ましくは約2分間 〜約2時間、更に好ましくは約3〜約30分間、更に一層好ましくは約5〜約1 0分間にわたり続ける。治療頻度は約1回/3月〜約10回/日、好ましくは約 1回/週〜約4回/日、更に好ましくは約1回〜約2回/日である。好ましくは 、最少で2回の治療が行われる。 本発明で使用の治療法には、患者のタイプ、年齢、体重、性別、医学的症状、 症状の程度と、デリバリーされる活性剤を含めた様々なファクターの考慮事項を 含む。通常の熟練した歯科医又は医者であれば、最初に比較的少ない用量を用い て、その後最大応答が得られるまで容量を増加させることにより、症状の進行を 防止又は阻止する上で必要な有効量の剤を容易に決定及び処方して、投与するこ とができる。 下記例は本明細書で記載された発明の具体的態様について説明している。当業 者に明らかなように、様々な変更及び修正が可能であり、記載された発明の範囲 内で考えられる。 例I 溶液: 重量% リゼドロネート 0.5 アルコール、95% 7.8 メチルパラベン 0.15 塩化セチルピリジニウム 0.05 ポロキサマー407 0.5 フレーバー及び甘味剤 所要量 リン酸‐塩水緩衝液、0.1モル、pH7.4 100まで 50mMリゼドロネートを含んだ溶液を進行性疾患の歯周炎患者の歯肉縁に適 用する。0.2ミリアンペアのイオン導入電流を10分間適用する。治療は1週 間後に繰り返す。歯槽骨吸収の進行は、X線撮影評価により調べたところ、3月 間で阻止される。 例II ゲル: ゲルはオーラルケア分野で周知の技術を用いて処方できる。 重量% エチドロネートニナトリウム(EHDP) 1 ヒドロキシプロピルメチルセルロース 2 メチルパラベン 0.17 プロピルパラベン 0.04 塩化ナトリウム 0.9 フレーバー及び甘味剤 所要量 脱イオン水 q.s. 20mMのEHDPを含んだゲルを歯周炎患者の歯肉ポケットに適用して、 0.5ミリアンペアのイオン導入電流を1月間にわたり4回各々10分間適用す る。その後の臨床及びX線撮影評価では、歯槽骨喪失の進行が阻止されたことを 証明している。 例III ゲル: ゲルはオーラルケア分野で周知の技術を用いて処方できる。 重量% リゼドロネート 0.14 コーンスターチ 39 フレーバー及び甘味剤 所要量 水 q.s. 実験的に誘導された歯周炎を有する動物を、歯槽骨吸収の部位に最も近い歯の 頸部あたりで8mMのリゼドロネートを含んだゲル50μlの適用により、初日 に治療する。0.1mAの電流をゲルに10分間適用する。治療は3日目と再び 5日目に繰り返す。最後の治療から3日後に撮影されたマイクロX線写真で調べ たところ、骨ミネラル密度の喪失は動物口内で未治療コントロール部位と比較し て防止されていることがわかる。 例IV ローション: ローションはオーラルケア分野で周知の技術を用いて処方できる。 重量% アレンドロネート 0.25 ステアリン酸 7 メチルパラベン 0.15 プロピルパラベン 0.05 キサンタンガム 0.7 水酸化ナトリウム、5%溶液 pH6.8まで 水酸化ナトリウム 0.7 脱イオン水 q.s. 歯の矯正整復後に、80mMのアレンドロネートを含んだローションをその歯 の歯肉縁に適用して、1ミリアンペアのイオン導入電流を3週間離して2回5分 間適用する。その後の臨床評価では、歯が安定していて、その前位置への歯逆移 動の兆しがないことを証明している。 例V フォーミングペースト: ペーストはオーラルケア分野で周知の技術を用いて処方 できる。 重量% リゼドロネート 1 コロイド性二酸化ケイ素 5 二酸化チタン 0.25 カルボポール934 0.3 ナトリウムラウリルサルフェート 1.5 水酸化ナトリウム、5%溶液 pH5.5まで メチルパラベン 0.15 プロピルパラベン 0.05 フレーバー及び甘味剤 所要量 脱イオン水 q.s. 1年間の歯科矯正治療中に、患者のアンカー歯を15分間の0.1ミリアンペ アイオン導入電流と共に10mMのリゼドロネートを含んだフォーミングペース トの歯肉縁への適用により、1ケ月おきに治療する。この治療ではアンカー歯の 位置又は安定性を変化させることなく12ケ月間以内で望ましい歯の安定な整復 を行う。
───────────────────────────────────────────────────── 【要約の続き】

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1. ヒト又は他の動物の歯槽骨吸収又は歯の望ましくない動きを阻止する治 療用の薬剤の製造に関するビスホスホネートの用法であって、 治療が: a)リザーバーが治療される歯槽骨に最も近い露出組織と接触するように口腔 の歯肉組織にリザーバーを投与する(リザーバーは負電荷状態にビスホスホネー トを維持するpHを有した組成物であって、安全有効量の下記構造を有したビス ホスホネート: 〔上記式中:nは0〜7(好ましくは0〜3)の整数である;R1は水素、クロ ロ、アミノ又はヒドロキシ(好ましくは水素又はヒドロキシ)である; Xは‐NH‐、四級アミン、酸素、イオウ又は単結合(好ましくは‐NH‐又は 単結合)である;R2は5〜7員炭素環(好ましくは6〜7員炭素環)、1〜3 のヘテロ原子を有する5〜7員ヘテロ環(好ましくは1又は2つの窒素原子を有 する6員ヘテロ環;環窒素は四級化されていてもよい)、‐NH2、1つのアル キル又は2つのアルキル(好ましくはC1‐C5)基で置換されて各々二級又は三 級アミンを与えるアミノ、四級アミノあるいは水素である;R2が置換5〜7員 炭素環又はヘテロ環であるならば、置換基は1〜6の炭素原子を有する置換及び 非置換、飽和又は不飽和アルキル、置換及び非置換アリール、置換及び非置換ベ ンジル、ヒドロキシ、ハロゲン、カルボニル、アルコキシ、ニトロ、アミド、 アミノ、置換アミノ、カルボキシレートとそれらの組合せから選択される1以上 の置換基である;各R3は独立して水素又は1〜4の炭素原子を有する置換もし くは非置換アルキル(飽和又は不飽和)である〕又はそれらの薬学上許容される 塩及びエステルを含んでいる); b)安全有効量の電流を2つの電極に通す(1つの電極はリザーバーと接触す る負電極であり、第二電極は治療されるヒト又は他の動物と接触する正電極であ る) ことからなる用法。 2. リザーバーが0.002〜10mgのビスホスホネートを含んだオーラ ル組成物であり、その場合にXは単結合であり;R2は四級アミン、ピリジン、 ピリダジン、ピリミジン及びピラジンから選択され;nは0〜5、好ましくはn =1又は2であり;R1は水素、アミノ、ヒドロキシ又はクロロであり;R3は水 素、あるいは1〜4の炭素原子を有する置換又は非置換、飽和又は不飽和アルキ ルであり;R2が置換されているならば、置換基は水素、1〜6の炭素原子を有 する置換及び非置換、飽和又は不飽和アルキル、置換及び非置換アリール、置換 及び非置換ベンジル、ヒドロキシ、ハロゲン、カルボニル、アルコキシ、ニトロ 、アミド、アミノ、置換アミノ、カルボキシレートとそれらの組合せからなる群 より選択される1以上の置換基であり;好ましくは、R2はピリジン、ピリミジ ン又は四級アミンから選択される、請求項1に記載の用法。 3. リザーバーが0.002〜10mgの下記構造を有するビスホスホネー トあるいはそれらの薬学上許容される塩又はエステル: (上記式中n=1又は2;R1は水素、クロロ、アミノ又はヒドロキシである; R4は水素、メチル、アミノ、クロロ、メトキシ、ヒドロキシ、ニトロ及びそれ らの組合せから選択される1以上の置換基である)を含んだオーラル組成物であ る、請求項1又は2に記載の用法。 4. ビスホスホネートが3‐ピリジル‐1‐ヒドロキシエチリデン‐1,1 ‐ビスホスホン酸あるいはそれらの薬学上許容される塩又はエステルである、請 求項1〜3のいずれか一項に記載の用法。 5. 組成物の移動イオン濃度が最少で25%活性化合物イオンである、請求 項1〜4のいずれか一項に記載の用法。 6. 組成物が150mMの最大オスモル濃度を有する、請求項1〜5のいず れか一項に記載の用法。 7. リザーバーがノニオン系ゲルである、請求項1〜6のいずれか一項に記 載の用法。 8. リザーバーが0.01〜10mgのビスホスホネートを含み、好ましく はリザーバーが5〜9のpHを有するオーラル組成物である、請求項1〜7のい ずれか一項に記載の用法。 9. 電流の量が0.01〜5 ma/cm2である、請求項1〜8のいずれか一項 に記載の用法。 10. 電流が1分間〜2時間通され、好ましくは治療頻度が1回/3月〜4 回/日である、請求項1〜9のいずれか一項に記載の用法。
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