JPH09506712A - 赤外線デバイス用集積シリコン真空マイクロパッケージ - Google Patents
赤外線デバイス用集積シリコン真空マイクロパッケージInfo
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- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 title description 5
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 title description 5
- 239000010703 silicon Substances 0.000 title description 5
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 claims abstract description 55
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 claims abstract description 37
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 23
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 21
- 230000005855 radiation Effects 0.000 claims description 16
- 238000007789 sealing Methods 0.000 claims description 16
- 238000005530 etching Methods 0.000 claims description 13
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims description 10
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 9
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 8
- 238000003491 array Methods 0.000 claims description 4
- 238000005304 joining Methods 0.000 claims description 3
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 claims description 3
- 229910052724 xenon Inorganic materials 0.000 claims description 3
- FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N xenon atom Chemical compound [Xe] FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 claims 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims 1
- 238000009413 insulation Methods 0.000 abstract description 9
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 21
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 20
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 16
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 10
- 239000011324 bead Substances 0.000 description 8
- 238000005247 gettering Methods 0.000 description 5
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 5
- 230000003213 activating effect Effects 0.000 description 3
- 238000012536 packaging technology Methods 0.000 description 3
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 3
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 3
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 2
- 238000013461 design Methods 0.000 description 2
- 238000010943 off-gassing Methods 0.000 description 2
- 238000004806 packaging method and process Methods 0.000 description 2
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 2
- 230000000717 retained effect Effects 0.000 description 2
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 2
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 2
- 229910001218 Gallium arsenide Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 230000004913 activation Effects 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 1
- 229910052788 barium Inorganic materials 0.000 description 1
- DSAJWYNOEDNPEQ-UHFFFAOYSA-N barium atom Chemical compound [Ba] DSAJWYNOEDNPEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010923 batch production Methods 0.000 description 1
- 238000012937 correction Methods 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 1
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 1
- 229910052732 germanium Inorganic materials 0.000 description 1
- GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N germanium atom Chemical compound [Ge] GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003331 infrared imaging Methods 0.000 description 1
- 238000002955 isolation Methods 0.000 description 1
- 230000000873 masking effect Effects 0.000 description 1
- 238000009462 micro packaging Methods 0.000 description 1
- 229910021421 monocrystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- NJPPVKZQTLUDBO-UHFFFAOYSA-N novaluron Chemical group C1=C(Cl)C(OC(F)(F)C(OC(F)(F)F)F)=CC=C1NC(=O)NC(=O)C1=C(F)C=CC=C1F NJPPVKZQTLUDBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002161 passivation Methods 0.000 description 1
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 1
- 239000003380 propellant Substances 0.000 description 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 1
- 238000005476 soldering Methods 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 description 1
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 1
- 230000005619 thermoelectricity Effects 0.000 description 1
- 239000012780 transparent material Substances 0.000 description 1
- 238000007738 vacuum evaporation Methods 0.000 description 1
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 description 1
- LEONUFNNVUYDNQ-UHFFFAOYSA-N vanadium atom Chemical compound [V] LEONUFNNVUYDNQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
- G01J5/00—Radiation pyrometry, e.g. infrared or optical thermometry
- G01J5/02—Constructional details
- G01J5/04—Casings
-
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- G01—MEASURING; TESTING
- G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
- G01J5/00—Radiation pyrometry, e.g. infrared or optical thermometry
- G01J5/02—Constructional details
- G01J5/04—Casings
- G01J5/041—Mountings in enclosures or in a particular environment
- G01J5/045—Sealings; Vacuum enclosures; Encapsulated packages; Wafer bonding structures; Getter arrangements
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- G01—MEASURING; TESTING
- G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
- G01J5/00—Radiation pyrometry, e.g. infrared or optical thermometry
- G01J5/10—Radiation pyrometry, e.g. infrared or optical thermometry using electric radiation detectors
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10F—INORGANIC SEMICONDUCTOR DEVICES SENSITIVE TO INFRARED RADIATION, LIGHT, ELECTROMAGNETIC RADIATION OF SHORTER WAVELENGTH OR CORPUSCULAR RADIATION
- H10F39/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one element covered by group H10F30/00, e.g. radiation detectors comprising photodiode arrays
- H10F39/10—Integrated devices
- H10F39/12—Image sensors
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10F—INORGANIC SEMICONDUCTOR DEVICES SENSITIVE TO INFRARED RADIATION, LIGHT, ELECTROMAGNETIC RADIATION OF SHORTER WAVELENGTH OR CORPUSCULAR RADIATION
- H10F77/00—Constructional details of devices covered by this subclass
- H10F77/50—Encapsulations or containers
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N—ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N19/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one thermoelectric or thermomagnetic element covered by groups H10N10/00 - H10N15/00
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/0001—Technical content checked by a classifier
- H01L2924/0002—Not covered by any one of groups H01L24/00, H01L24/00 and H01L2224/00
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10F—INORGANIC SEMICONDUCTOR DEVICES SENSITIVE TO INFRARED RADIATION, LIGHT, ELECTROMAGNETIC RADIATION OF SHORTER WAVELENGTH OR CORPUSCULAR RADIATION
- H10F39/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one element covered by group H10F30/00, e.g. radiation detectors comprising photodiode arrays
- H10F39/10—Integrated devices
- H10F39/12—Image sensors
- H10F39/18—Complementary metal-oxide-semiconductor [CMOS] image sensors; Photodiode array image sensors
- H10F39/184—Infrared image sensors
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10F—INORGANIC SEMICONDUCTOR DEVICES SENSITIVE TO INFRARED RADIATION, LIGHT, ELECTROMAGNETIC RADIATION OF SHORTER WAVELENGTH OR CORPUSCULAR RADIATION
- H10F39/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one element covered by group H10F30/00, e.g. radiation detectors comprising photodiode arrays
- H10F39/80—Constructional details of image sensors
- H10F39/804—Containers or encapsulations
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Abstract
(57)【要約】
赤外線検出器または放射素子アレイを有する赤外線透過性ウィンドウまたはトップキャップを有する2枚のウエハまたはダイを互いに結合する効率的な方法によって安価な赤外線パッケージを製造する。これらのウエハの間には、低熱伝導性気体を封入して熱絶縁を改善することができる。ウエハの接合は好ましくは半田によって行うが、超音波ボンディング法を用いてもよい。
Description
【発明の詳細な説明】
赤外線デバイス用集積シリコン真空マイクロパッケージ
本発明は、赤外線検出及び赤外線シーン投影または放射に関し、特にこれらで
使用される小さい素子のアレイのパッケージ技術に関する。
背景
熱絶縁は、赤外線の検出あるいは伝達は検出器またはデバイスの放射素子で生
じる温度上昇と直接関係するので、量子型センサまたは放射素子と異なり、熱型
赤外線デバイス(検出器または放射素子)にとっては非常に重要である。検出器
または放射素子の熱絶縁が良いほど、デバイスの赤外線から熱への変換(検出器
)あるいは熱から赤外線への変換(放射素子)の効率は高くなる。真空パッケー
ジは、性能を改善するための非常に有効な手段である。真空パッケージは、個々
の赤外線ユニットから近隣のユニット及び/又は周囲表面への周囲気体による熱
流をそれらの周囲気体が除去されているので低減することができる。
マイクロ構造の赤外線検出器及び放射素子アレイは、非常に小さくかつ壊れや
すいので、通常のシリコン製造及びパッケージ技術は、これらのアレイ保持型デ
バイスの大量生産には適しない場合がある。アレイ中の典型的な赤外線ユニット
は、チップからも近隣のユニットからも熱的に絶縁して作り込まれ、物理的接触
をできる限り少なくすることにより熱絶縁を改善するよう、各素子を基板から浮
かして設けられる。これらのブリッジまたはサスペンション構造は特に壊れやす
いことがあり、そのためにこれらを真空封入する方法はデバイスの歩留まりにと
って決定的な意味を持つ。
ダイをバッチプロセスで封入するある方法によれば、歩留まりが大幅に改善さ
れ、コストが低減されると同時に、これらのデバイスの最大性能が達成される。
安価な熱型赤外線デバイスを大量生産するためにはこの種のパッケージ技術が必
要である。そのために提案されているパッケージ技術は「マイクロパッケージ」
法と呼ばれる。
密封後のパッケージ中で実効真空を保つことは、表面気体放出のために困難で
ある。表面気体放出は、熱処理によって最小限に抑えられることも多いが、連続
的にあるいは定期的に除去することができる場合を除いて、デバイスの有効寿命
を決定する。各個別のチップにゲッタを封入する方法は、ゲッタがチップで発生
する気体放出を打ち消すように作用するので、十分な真空を維持する一つの方法
になると考えられる。
本発明の新規な構造によれば、これらの赤外線デバイスをパッケージするため
の従来技術の方法に比べて大幅なコスト節減が達成され、はるかに小さいパッケ
ージを得ることができるとともに、パッケージ済みデバイスの歩留まりをより低
いコストで大幅に改善することができる。
図面の簡単な説明
図1は、本発明の一実施形態で使用するウエハレベル設計の平面図である。
図2は、本発明の一実施形態によるウエハレベル設計の断面図である。
図3は、本発明の一実施形態における単一のデバイスの断面図である。
図4は、本発明のもう一つの実施形態のチップの断面図である。
図5は、本発明の一実施形態のチップレベルにおける2つの主要構成部分の側
面図である。
図6は、本発明の一実施形態のチップレベルにおける基板層(上面)の表面パ
ターニングの上面図である。
発明の概要
赤外線デバイスの形成方法及びそれによって形成される赤外線デバイスを開示
する。赤外線デバイス(検出器でも放射素子でもよく、また単独型でもアレイ型
でもよい)を有するウエハアセンブリが赤外線デバイスを安価にパッケージする
方法を提供する。そのウエハは、これから半田ビードにより離された赤外線透過
性材料のトップキャップによって覆われて真空に保たれ、いくつかの例ではウエ
ハはトップキャップウエハよりさらに大きく離間して設けられる。
いずれの場合も、上記の結果として、トップキャップと赤外線デバイスとの間
に熱伝導が非常に小さい空間が形成され、その空間は排気されるか、あるいは熱
伝導が非常に小さい流体を満たされる。その空間は、一部または全部の半田ビー
ド、トップキャップ中の凹部またはトップキャップの下面に別途付加した材料か
らなるスペーサ層によって形成することができる。
この実施形態においては、次にウエハアセンブリをダイシングして、各々個別
に真空保全性を有する最終チップコンポーネントが形成される。各真空キャビテ
ィには、チップコンポーネントの真空寿命を延ばすために一体化されたゲッタを
設けることが望ましい。
実施形態の詳細な説明
図1を参照すると、本発明の一実施形態に従って一組のデバイスを形成するた
めに使用されるウエハが描かれており、その上には従来技術のプロセスによって
多数のデバイスまたはチップ8が形成されている。
図2は、図1に7で示すようなウエハの断面図を示し、そのウエハにはトップ
キャップウエハ(9b)が取り付けられている。トップキャップウエハ(9b)
としては、IR透過性ウエハを用いるべきである。高効率のバッチ製造技術によ
ってトップキャップを真空中で取り付けると、1枚のウエハ上の全デバイスがキ
ャップによって同時に封止される。スペーサ材11は、各々ウエハ9と9bを離
間して保持し、各チップまたはダイ8をそれぞれの部位に封止する。符号84の
周りの破線は、部位84の赤外線デバイスに基づいてチップを作るために上記一
対のウエハをダイシングする位置を示している。
次に図3には、実施形態のデバイスが「デバイス」レベルまたはチップレベル
で描かれており、図示のデバイスは基板またはベースチップ9及びトップカバー
12を有する。トップカバー12の表面には反射防止層13が設けられ、その裏
面には第2の反射防止層14が設けられている。(反射防止コーティングに使用
される物質は周知である)。本発明によるこのような半部2つを互いに結合する
ことによってこれらの間に空間が形成される。これらの半部を真空中において好
ましくは半田層16、16aによって互いに封止することにより、キャビティ2
1自体も真空に保たれる。半田層は、真空蒸着とリフトオフまたはエッチング法
によって、あるいはマスキングとメッキ法によって形成することができる。マイ
クロボロメータ20及び/または他の種類の熱赤外線検出デバイス(パイロ電気
、熱電気等)を内部に有するウエハまたはチップをまず製造する。このようなチ
ップの製造は本発明の一部をなすものではなく、多くの周知方法で製造すること
が
できる。表面層の下には、赤外線検出デバイス(20)で使用する何らかの信号
処理及び/またはスイッチング特性を与える電子回路を設けることができる。一
般には、電気的接続部及びマイクロボロメータ22aあるいは他の赤外線検出ま
たは放射デバイスからなる層22が設けられる。これらのリード部は、表面に半
田を載せ、リードを互いに短絡させることなく真空封止を行うことができるよう
に、不動化される(すなわち、例えば窒化珪素あるいは他の周知の不動化材のよ
うな保護材料層でコーティングする)。これらのリードは、パッド18上に終端
し、パッド18は、その上でワイヤボンディングを行って、赤外線検出デバイス
の外部の他の回路に接続することができる。
赤外線検出素子20は、通常は、熱絶縁のためにチップ表面から浮かして設け
られた薄膜構造であり、このようなデバイスは次の製造ステップで非常に壊れや
すい。図3には、このような熱絶縁を基板の一部22bをエッチングで除去する
ことによって行った部分が示されている。トップキャップは、素子に触れず、素
子に、あるいは素子から熱を伝えないように、熱的に絶縁された素子から切り離
す必要がある。十分なキャビティ寸法を確保するための一つの効果的な方法は、
トップキャップの表面15にエッチングによって凹部を形成することである。こ
のエッチングを行うと、半田を溶融させてウエハを互いに押し付けるとき、半田
が絞り出されるのを防ぐための端囲い手段が不要であり、トップキャップをエッ
チバックした部分におけるパッド15aと16の分離が非常に少なく、処理がよ
くなくても、キャビティは保たれる。半田を濡らすことができ、半田16、16
aをトップキャップの表面上にパターニングすることができる金属層15aは、
熱的に絶縁された構造20のアレイを取り囲むのに十分な大きさのリングまたは
フレームを形成するようにるようになっている。半田が濡らすことができる同様
の金属のリングまたはフレームを検出器/放射素子のウエハ上に形成してもよい
。
2枚のウエハは、適切なウエハボンディング装置を用いて真空中で互いに結合
される。この処理ステップには低温熱処理を用いてもよく(半田は通常用いる種
類によって100〜300℃の範囲でリフローする)、この実施形態では50:
50InPbを用いることが望ましい。ダイは真空中で封止され、次のウエハ切断及
びウエハハンドリングに伴って周囲の半田ビードにより損傷したり、破片を生じ
た
りしないように保護される。ウエハ切断線27は、半田シールの完全性を保ちつ
つダイが切り離される一つの方向を示している。(また、トップキャップ12に
は、2つの半部12と11を結合する前に反射防止層13及び14を設けるべき
である)。
上記の結果得られるパッケージは、2枚のシリコンウエハ分の厚さしかないの
で、パッケージの寸法及び重量を同様のデバイス用の普通の真空パッケージと比
べて著しく小さくすることができる。この特徴は重要であり、赤外線デバイスの
ほぼ全ての用途にとって好ましい特徴である。
マイクロパッケージ内部(チップレベルの真空キャビティ21)の低圧を確実
に保つためには、マイクロパッケージ中に過度に気体放出するような物質が全く
ないようにすると効果的である。さらに、赤外線ダイ及びその上にあるウィンド
ウまたはトップキャップの内面にも少なくとも小量の気体放出があるので、マイ
クロパッケージ中に特殊なゲッタ材を少量封入することが必要、あるいは少なく
とも効果的な場合がある。このゲッタ材の機能は、マイクロパッケージの内部圧
力を増加させ、その結果として赤外線検出器または放射素子の熱絶縁を低下させ
る放出気体を吸収することである。
適切なゲッタ材としては、バリウム、バナジウム、またはこれらの合金の薄膜
のような周知のものを用いることができる。このような材料をゲッタ材として作
用することができるようにするには、始めに短時間高温に加熱することによって
活性化しなければならない。
マイクロパッケージ中に少量のゲッタ材を封入し、活性化するには、例えば必
要量のゲッタ材を赤外線ダイまたはトップキャップの適切な領域上にモノリシッ
ク状に蒸着する。符号23及び24は、このようなモノリシックゲッタを蒸着す
るのに好ましい場所を示している。ゲッタ材は、これらの表面24に直接蒸着し
てもよいし、窒化珪素のような物質で形成され、熱的に絶縁されたマイクロブリ
ッジ23上に蒸着してもよい。マイクロブリッジ上に蒸着する方法には、マイク
ロブリッジの熱絶縁性のために、例えば加熱電流または赤外線レーザにより生じ
る熱放射ビームによって僅かな加熱エネルギーを短時間加えるだけでゲッタ材の
活性化が可能であり、赤外線ダイまたはウィンドウの周囲部分を著しく加熱する
必要がないという利点がある。
熱的に絶縁された構造上にゲッタを置く場合は、もう一つ、その構造に作り込
まれた抵抗加熱素子にゲッタを活性化するのに十分な電流を流して加熱する方法
を用いることもできる。この加熱素子に電源を供給するには、トップキャップの
パッド23aとデバイスチップ23b上のパッドとを接続するよう、半田リング
16、16aと同時にもう一つの半田パターン23cを形成してもよい。これら
のパッド23bは、半田が濡らすことができる金属で形成され、ワイヤボンディ
ング用のパッド18に接続されるリードと接続される。これらのパッドの上方で
ウエハを貫通させて形成された穴26は、ワイヤボンディングのために封止デバ
イスへのアクセスを可能にするためのものである。必要ならば、真空または真空
/ゲッタフィラーに替えて、キセノンのような分子量または原子量の大きい不活
性気体を用いることもできる。キセノンは、例えば、熱伝導率が空気の5分の1
しかないということが知られている。しかしながら、この実施形態においては、
空間排気とゲッタの組合せを用いることが望ましい。
もっとも安価にするためには、トップキャップ12は単結晶シリコンで形成し
、赤外線検出または放射領域の吸収を低くすることが望ましい。この材料は、赤
外線に対して透過であり、入手も容易である。あるいは、トップキャップウエハ
中のウィンドウ、あるいはトップキャップウエハ自体を、多結晶シリコンまたは
ゲルマニウム、GaAs等、種々異なる赤外線透過度を有する他の材料で形成す
ることもできる。例えば、20で示す構造が赤外線放射構造の場合は、赤外線は
トップキャップ12を透過して送出し、赤外線受光または検出器構造の場合も、
周囲からの赤外線をやはりトップキャップ12を透過してこれらの構造に受光す
ることができる。
図4を参照すると、赤外線検出デバイス44を有する基板が符号41で、また
デバイス全体が符号40で示されている。非常に大きい赤外線デバイスアレイま
たはトップキャップ中のウィンドウが薄い場合は、トップキャップ及びデバイス
チップに加わる大気圧の荷重によって2枚のウエハの内面が互いに接触するよう
なたわみを生じることがある。トップキャップをトップキャップ42から離間し
た位置に保つために少なくとも1本の支柱43を付加することも可能であり、こ
の実施形態においては、トップキャップ42は、幅を大きくすることなく相当長
くしてある。このように長くすると、非常に大きなアレイや赤外線検出構造の封
入が可能であり、例えばカメラのような赤外線撮像デバイスにおいていっそう有
用になる。図4には、トップキャップを熱的に絶縁された素子から離間するもう
一つの方法が示されている。金属のような蒸着材料のスタンドオフ45を支柱4
3と同時に形成することにより、トップキャップの表面にエッチングで凹部を形
成しなくても済むようにすることも可能である。必要ならば、次の半田付け作業
のために支柱の上部に半田が濡らすことができる金属をパターニングすることも
できる。
他の実施形態においては、検出器/放射素子ダイ47上の熱的に絶縁された構
造上にゲッタを置くことも可能である。このゲッタを加熱するための電気的接続
は、例えば22で示すような層及びパッド18を有する図3に示す構造によって
行うことができる。
システムの電子回路部をさらに組み込むためには、それらの電子デバイス48
をトップキャップウエハ中に作り込み、これらのデバイスに対する電気的接続は
、パッド23a、23b、半田23cによる図3の熱的に絶縁されたゲッタの場
合と同様に行うことができる。電子回路部をトップキャップ中に配置することの
利点としては、例えば寸法をさらに小さくすることができ、リードが短くなるこ
とにより電気ノイズを低下させることができ、温度を赤外線検出ダイの温度に非
常に近づけることができる等がある。
半田層は、真空中におけるこの種のボンディングにおいて知られる他のどのよ
うな構造より好適である。しかしながら、ポスとまたはペディスタル構造全体を
同時に基板41の表面に対して押し当てるような適切な構造を有するものであれ
ば、超音波圧力装置を用いることもできる。
図5には、構造30が簡単化して示されている。この場合は、基板31中の赤
外線構造(図示省略)から外部への電気的アクセスを取ることができるよう、ボ
ンディングパッドへの直接アクセスを確保するためにギャップまたは穴33が設
けられている(この場合はエッチングによる)。図示のように、トップキャップ
32の下面には、半田層34が形成されており、図には、一実施形態の製造方法
においてこのような半田層を常温形で形成することが可能な場合が示されている
。
図6を参照して説明すると、表面31上に本発明に関係する部分51乃至59
Dが描かれている。これら一組の構造の中心部には、部位51があり、ここには
赤外線検出構造が配置される。部分42は、トップキャップキャビティの縁部が
配置される領域を示す。この部分の外側には部分53があり、この部分には図5
に示すような半田層(符号34)が配置される。外縁54も図示されている。こ
の部分54中には、ボンディングパッド58a乃至59dが示されている。部分
55は、ウエハまたはダイ31と32を互いに結合して、ボンディングを行うこ
とができる位置に設けられる開口33が示されている。従って、ボンディングパ
ッド58a乃至59dは、開口33を介してアクセスすることができる。
【手続補正書】特許法第184条の8
【提出日】1995年12月4日
【補正内容】
補正明細書
赤外線検出素子20は、通常は、熱絶縁のためにチップ表面から浮かして設け
られた薄膜構造であり、このようなデバイスは次の製造ステップで非常に壊れや
すい。図3には、このような熱絶縁を基板の一部22bをエッチングで除去する
ことによって行った部分が示されている。トップキャップは、素子に触れず、素
子に、あるいは素子から熱を伝えないように、熱的に絶縁された素子から切り離
す必要がある。十分なキャビティ寸法を確保するための一つの効果的な方法は、
トップキャップの表面15にエッチングによって凹部を形成することである。こ
のエッチングを行うと、半田を溶融させてウエハを互いに押し付けるとき、半田
が絞り出されるのを防ぐための端囲い手段が不要であり、トップキャップをエッ
チバックした部分におけるパッド15aと16の分離が非常に少なく、処理がよ
くなくても、キャビティは保たれる。半田を濡らすことができ、半田16、16
aをトップキャップの表面上にパターニングすることができる金属層15aは、
熱的に絶縁された構造20のアレイを取り囲むのに十分な大きさのリングまたは
フレームを形成するようにるようになっている。半田が濡らすことができる同様
の金属のリングまたはフレームを検出器/放射素子のウエハ上に形成してもよい
。
2枚のウエハは、適切なウエハボンディング装置を用いて真空中で互いに結合
される。この処理ステップには低温熱処理を用いてもよく(半田は通常用いる種
類によって100〜300℃の範囲でリフローする)、この実施形態では50:
50InPbを用いることが望ましい。ダイは真空中で封止され、次のウエハ切断及
びウエハハンドリングに伴って周囲の半田ビードにより損傷したり、破片を生じ
たりしないように保護される。ウエハ切断線27は、半田シールの完全性を保ち
つつダイが切り離される一つの方向を示している。(また、トップキャップ12
には、2つの半部12と9を結合する前に反射防止層13及び14を設けるべき
である)。
上記の結果得られるパッケージは、2枚のシリコンウエハ分の厚さしかないの
で、パッケージの寸法及び重量を同様のデバイス用の普通の真空パッケージと比
べて著しく小さくすることができる。この特徴は重要であり、赤外線デバイスの
ほぽ全ての用途にとって好ましい特徴である。
補正請求の範囲
1.内面及び外面を有する基板(9)と、その基板の内面上に設けられた赤外線
検出器素子(20)とを有する赤外線検出パッケージにおいて、
前記基板(9)の内面に対して離して配置された赤外線透過性材料のトップカ
バー(12)と、そのトップカバー(12)と基板(9)の内面との間に配置さ
れた封止手段(16)とを有し、それにより、赤外線検出器素子(20)の上面
を低熱伝導性雰囲気をに保つことを特徴とする赤外線検出パッケージ。
2.上記低熱伝導性雰囲気が真空である請求項1記載の赤外線検出パッケージ。
3.上記低熱伝導性雰囲気が低熱伝導性気休である請求項1記載の赤外線検出パ
ッケージ。
4.トップカバー(12)にエッチングにより形成された凹部によって、前記基
板(9)の内面とそのトップカバー(12)とが互いにさらに離間された請求項
1記載の赤外線検出パッケージ。
5.前記低熱伝導性雰囲気と接触するゲッタリング手段(23)と、そのゲッタ
リング手段(23)を活性化して前記低熱伝導性雰囲気の熱伝導率を修正させる
活性化手段とをさらに有する請求項1記載の赤外線検出パッケージ。
6.上記封止手段(16)が半田ビードよりなる請求項1記載の赤外線検出パッ
ケージ。
7.上記封止手段(16)が半田ビードよりなる請求項5記載の赤外線検出パッ
ケージ。
8.内面及び外面を有する基板(9)と、その基板の内面上に設けられた赤外線
放射素子(20)とを有する赤外線放射パッケージにおいて、
前記基板(9)の内面に対して離した位置関係で配置された赤外線透過性材料
のトップカバー(12)と、そのトップカバー(12)と基板(9)の内面との
間に配置された封止手段(16)とを有し、赤外線放射素子(20)の上面を低
熱伝導性雰囲気をに保つことを特徴とする赤外線放射パッケージ。
9.上記低熱伝導性雰囲気が真空である請求項8記載の赤外線放射パッケージ。
10.上記低熱伝導性雰囲気が低熱伝導性気体である請求項8記載の赤外線放射
パッケージ。
11.前記トップカバー(12)にエッチングにより形成された凹部によって、
前記基板(9)の内面とトップカバー(12)とが互いにさらに離間された請求
項8記載の赤外線放出パッケージ。
12.上記低熱伝導性雰囲気と接触するゲッタリング手段(23)と、そのゲッ
タリング手段(23)を活性化して前記低熱伝導性雰囲気の熱伝導率を修正させ
る活性化手段とをさらに有する請求項8記載の赤外線放出パッケージ。
13.前記封止手段(16)が半田ビードよりなる請求項8記載の赤外線放出パ
ッケージ。
14.前記封止手段(16)が半田ビードよりなる請求項12記載の赤外線放出
パッケージ。
15.a)赤外線検出アレイ支持基板(9)と、封止手段(16)が形成された
赤外線透過性トップキャップ(12)とを有するチャンバを排気するステップと
、
b)前記基板(9)を前記トップキャップ(12)上の封止手段(16)に接触
させて赤外線アレイ支持基板(9)とトップキャップ(12)との間に封止キャ
ビティを形成するステップと、
c)前記封止手段(16)を活性化して、前記赤外線アレイ支持基板(9)と前
記トップキャップ(12)との間に永久シールを形成するステップと、
を具備した赤外線素子アレイを内部に有する赤外線アレイパッケージを製造する
方法。
16.上記赤外線アレイパッケージの内部にゲッタリング手段(16)を設け、
かつさらに
そのゲッタリング手段(16)を活性化して上記封止キャビティの熱伝導率を
修正させるステップ
を具備した請求項15記載の方法。
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(72)発明者 ストラトン,トーマス・ジイ
アメリカ合衆国 55113 ミネソタ州・ロ
ーズヴィル・サンディ フック ドライ
ブ・3000
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1.赤外線検出器アレイの形で作り込まれた赤外線検出器ユニットを有するウエ ハと、パターニングされた半田層によって該赤外線検出器アレイからシール性を もって離間された赤外線透過性材料のトップキャップウエハとを特徴とする赤外 線検出器真空パッケージ。 2.赤外線放射素子アレイの形で作り込まれた赤外線放射素子ユニットを有する ダイと、パターニングされた半田層によって該赤外線放射素子アレイからシール 性をもって離間された赤外線透過性材料のトップキャップウエハとを特徴とする 赤外線放射素子パッケージ。 3.赤外線放射素子アレイが作り込まれたダイと、該ダイと互いに封止すること によりキャビティを形成し、該キャビティ中に該赤外線放射素子アレイを封入す るトップキャップウエハとを特徴とする赤外線放射素子真空パッケージ。 4.トップキャップと赤外線アレイとの間に囲われる空間を排気した請求項1、 2または3のいずれか1項に記載のパッケージ。 5.赤外線検出器アレイが作り込まれたダイと、該ダイと互いに封止することに より排気されたキャビティを形成し、該キャビティ中に該赤外線検出器アレイを 封入するトップキャップウエハとを特徴とする赤外線検出器真空パッケージ。 6.上記トップキャップと検出器アレイとを該トップキャップ中にエッチングに より形成された凹部によってさらに離間した請求項1乃至5のいずれか1項に記 載のパッケージ。 7.上記トップキャップと検出器アレイとをスペーサ層によってさらに離間した 請求項1乃至6のいずれか1項に記載のパッケージ。 8.トップキャップと赤外線アレイとの間に囲われる空間に低熱伝導性気体を満 たした請求項1乃至3、6または7のいずれか1項に記載のパッケージ。 9.上記気体がキセノンまたはアルゴンである請求項8記載のパッケージ。 10.トップキャップ中にゲッタをモノリシック状に設けた請求項8または9の いずれか1項に記載のパッケージ。 11.上記赤外線アレイの部分の適切な領域にゲッタをモノリシック状に設けた 請求項8、9または10のいずれか1項に記載のパッケージ。 12.赤外線アレイを駆動して赤外線を検出または放射させるための電子回路手 段をトップキャップウエハ中に組み込んだ請求項1乃至11のいずれか1項に記 載のパッケージ。 13.トップキャップウエハにギャップを形成し、赤外線アレイとの電気的接続 を行うための金属リードを該ギャップ中に配置した請求項1乃至12のいずれか 1項記載のパッケージ。 14.赤外線検出器ユニットが、各々ウエハ中にエッチングにより形成されたキ ャビティの上方に浮かされた1つまたは2つ以上の半導体マイクロブリッジマイ クロ構造よりなる請求項1乃至13のいずれか1項記載のパッケージ。 15.a)トップキャップダイを有するトップキャップウエハによって囲われ、 該トップキャップダイと対状をなすように配置されたアレイダイを有するアレイ ウエハを内部に有するチャンバを排気するステップと; b)該対状をなすアレイとトップキャップが互いに封止可能に配置されるよう該 2枚のウエハを互いに物理的に結合するステップと; c)該ウエハを互いに封止するステップと; d)該対状としたダイをダイシングするステップと; を具備した2枚のウエハから赤外線アレイパッケージを製造する方法。 16.上記ステップ(c)より前の適切な時点でトップキャップウエハまたはア レイキャップウエハに半田を塗着する請求項15記載の方法。 17.上記ステップ(c)の前に上記チャンバに低熱伝導性気体を充填する請求 項15または16のいずれか1項に記載の方法。 18.上記封止ステップで超音波ボンディングを用いる請求項15乃至17のい ずれか1項に記載の方法。
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