JPH09506478A - 光放射半導体ダイオード及びこのようなダイオードの製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 本発明は、光放射半導体ダイオード、特にレーザダイオードに関するものであり、その活性層（３）は、種々の元素例えばIII 族元素が規則的又は不規則的に存在しうるIII-V 族混晶を具える。このような混晶を、放出が１μｍより下のInGaP とする。活性層（３）が活性領域（３Ａ）で規則的な分布を有するとともに出射表面（１５）付近に配置した受動領域（３Ｂ）の元素の不規則的な分布を有する既知のダイオードでは、カタストロフィック光学的劣化が抑制される。既知のダイオードは、低効率及び高始動電流を有する。本発明のダイオードでは、相違する元素の分布は活性領域（３Ａ）で不規則的であり、同時に受動領域（３Ｂ）を、活性層（３）の局所的混成によって形成する。驚くべきことに、このようなダイオードは、高効率及び低始動電流を有し、前記劣化をほとんど示さず、それに加えて製造が容易である。したがって本発明は、このようなダイオードの製造方法にも関するものである。前記不規則的な分布を例えば高成長温度で実現し、同時に混成を、例えばZn又はSiの局所的拡散によって達成する。混成は、半導体層の製造中又は製造後発生しうる。

Description

【発明の詳細な説明】 光放射半導体ダイオード及びこのようなダイオードの製造方法 本発明は、第１導電型の半導体基板を有する半導体本体を具える光放射半導体 ダイオードであって、この半導体基板上に、少なくとも、前記第１導電型の第１ クラッド層と、活性層と、前記第１導電型とは逆の第２導電型の第２クラッド層 とが順に存在し、前記クラッド層に電流供給手段を設け、前記活性層は、相違す る元素の原子が副格子に規則的又は不規則的に配置して存在しうるIII-V 族半導 体材料の混晶と、ダイオードから発生する放射用の出射表面から受動領域により 分離された細条形状活性領域とを具える光放射半導体ダイオードに関するもので ある。また本発明は、このようなダイオードの製造方法に関するものである。 このような光放射ダイオードはしばしば、ＬＥＤ（＝発光ダイオード）の形態 の放射源として使用されるが、レーザの形態の放射源としても使用される。用途 は、放射波長が１μｍよりも上のグラスファイバー通信システム、又は、放射波 長が１μｍよりも下のレーザプリンタのような情報処理システム、ＣＤ（Ｖ）（ ＝コンパクトディスク（ビデオ））プレーヤのような光ディスクシステム若しく はバーコードリーダである。前者の場合、III-V 族材料系をInP/InGaAsP とし、 後者の場合、GaAs/InGaAlPとする。いずれのIII-V 族材料系のIII 族元素も、副 格子全体に亘って規則的又は不規則的に分布させることができる。これは、III 族元素が一方の方法でのみ分布することができるGaAs/AlGaAs のような材料系に 接触する。 このような光放射ダイオード及びその製造方法は、1991年6 月に刊行されたIE EE Journal of Quantum Electronicsのvol.27,no.6 のItaya 等による論文“New Window-Structure InGaAlP Visible Light Laser DIodes by Self-Selectlve Z n Diffusion-Induced Disordering”から既知である。これは、InGaP 活性層と 、InAlGaP を具えるクラッド層と、活性領域及びレーザミラー間にInGaP を具え る受動領域と、を有するダイオードレーザに関するものである。ダイオードはス ペクトルの可視範囲で放出する。種々の元素の原子は、活性層に関しては、III- V 族材料の前記混晶中の副格子に存在し、この場合III 族元素副格子にIn及びGa原 子が存在する。これら原子を、副格子全体に亘って規則的又は不規則的に分布さ せることができる。同一材料組成において、不規則な分布では、規則的な分布の 場合に比べてバンドギャップが大きくなる。既知のレーザでは、活性層中のIn及 びGa原子を活性領域の範囲内で規則的な分布で付与し、かつ、ミラーに隣接して 不規則的な分布で付与する。したがって、受動領域がミラーに隣接して形成され る。このような受動領域は、いわゆるＣＯＤ（＝カタストロフィック光ダメージ ）劣化の抑制におおいに寄与する。 既知の半導体ダイオードの欠点は、その効率が比較的低く、レーザの場合、そ の指導電流が比較的高い。 本発明の目的は、前記欠点を有しない、したがって、一方では優れたＣＯＤ抑 制を持つ受動ミラーを有し、他方ではあり得る最高の効率及びあり得る最低の始 動電流を有し、同時に製造の容易なダイオードを提供することである。 本発明によれば、冒頭で説明した種類の光放射半導体ダイオードは、この目的 のために、前記活性領域の副格子全体に亘る相違する元素の原子の分布を不規則 にし、前記受動領域を、前記活性層の局所的混成によって形成したことを特徴と するものである。驚くべきことに、規則的な分布の活性層は、より不規則的な分 布の活性層よりも大きな損失を有することが確認された。したがって、より不規 則的な分布の活性層は、発生した放射の波長がより短くなるだけでなく、効率が より高くなるとともに始動電流が低くなる。本発明はさらに、不規則な分布を有 する活性層の場合にもかかわらずより大きな不規則性及びより大きなバンドギャ ップを有する受動領域を形成することができ、かつ、さらにこれを比較的簡単な 方法ですなわち活性層の混成により行うことができるという驚くべき認識に基づ く。この混成を二つの方法で行うことができる。一つは、活性層（の一部）を（ 分離）制限層（の一部）に混成することにより行うことができる。後者は活性層 より一層大きなバンドギャップの半導体材料を具え、したがって混成により中間 のバンドギャップとなる。活性層を、活性層の内側に位置したより高いバンドギ ャップの半導体材料の層と混成することもできる。混成を、例えば、適切な不純 物を適切な濃度で活性層及び（分離）制限層（の一部）に、又は専ら活性層に拡 散させることにより得ることができる。したがって、本発明によるダイオードは 、あり得る最高の効率及びあり得る最低の始動電流並びにＣＯＤが強く抑制され る受動領域を有し、それにもかかわらずダイオードは製造容易である。他の利点 は、活性領域と受動領域との間のバンドギャップの相違についてより幅広い選択 ができるようになる。その理由は、規則的な分布を有する材料と不規則的な分布 を有する材料との間のバンドギャップの相違は75meV の目安であり、それに対し て、不規則的な分布を有する材料と混成した活性層との間の相違は、例えば150m eVに容易に達しうる。 好適例では、前記活性層は、少なくとも一つの量子井戸層、好適には多重量子 井戸層を具える。混成は、活性層が比較的肉薄、すなわち量子井戸を具える場合 に最も容易に達成される。多重量子井戸層を使用すると、肉薄のバリア層を活性 層の混成に使用することができるという利点が得られる。混成中の状態における 活性層及び（分離）制限層の両方の厚さ及び組成は、活性領域のバッドギャップ の値、したがって活性領域と受動領域との間の相違を決定する。 好適には、本発明による光放射半導体ダイオードは、InGaP 又はInAlGaP の活 性層を具え、これをレーザとして構成した。既に説明したように、InGaAsP だけ でなく(Al)InGaP は、規則的な分布及び不規則的な分布が存在しうる材料である 。この材料は、可視範囲（630〜690 nm）の放射を発生させ、かつ、この材料か ら製造したダイオード、特にレーザ形態は、既に説明した多数の用途に非常に好 適である。 他の好適な変形は、圧縮応力下とした活性層を具える。これにより、発生した 放射の波長は、既知のダイオードのように、規則的な活性層を有するダイオード の波長の方向にシフトバックすることができる。圧縮下の活性層でもむしろ低い 始動電流となる。 光放射ダイオードの製造方法であって、少なくとも、第１導電型の第１クラッ ド層と、活性層と、前記第１導電型とは逆の第２導電型の第２クラッド層とを順 に、前記第１導電型の半導体基板上に設け、前記クラッド層に電流供給手段を設 けるとともに、III-V 族半導体材料の混晶を、相違する元素の原子が副格子に規 則的又は不規則的な配置で存在しうる前記活性層に対して選択し、前記活性層内 で、前記ダイオードに発生する放射用に形成すべき出射表面から受動領域によっ て分離される細条形状活性領域を形成するに当たり、前記活性領域の相違する元 素の原子を前記副格子の全体に亘って不規則に分布させ、前記受動領域を、前記 活性層の局所的混成によって形成することを特徴とする。本発明によるダイオー ドがこれにより簡単な方法で得られる。 本発明による方法の好適例では、前記活性領域の相違する元素の原子の不規則 的な分布を、前記活性領域を設ける間の成長状態又は前記基板の配向を適切に選 択することにより達成し、前記活性領域の混成を、前記活性領域に不純物を局所 的に拡散させる。このような好適な成長状態を、例えば、750 ℃〜760 ℃の比較 的高い成長温度とする。これに適切な基板の配向を、（００１）配向きに対して 少なくとも約６°配向をずらす。（００１）配向以外、例えば（５１１）又は（ ３１１）配向のような配向も適切である。例えば、Zn又はSiの局所的拡散を、活 性層の局所的混成に用いることができる。このような方法は、既知の方法に比べ て追加のステップを具えず、その結果特に好適である。 その第１の好適変形例では、前記不純物を、前記活性領域の上の細条形状領域 を介して、形成すべき前記出射表面の区域で、前記ダイオードに導入する。この ようにして、全ての個々のダイオードを相互接続しながら受動領域を形成するこ とができ、これにより製造が比較的簡単になる。好適には、不純物を、不純物が 基板に到達しない深さに付与しない。不純物により生じた任意の寄生電流は、こ れにより大幅に制限される。良好な結果が、Zn原子を、GaAs含有層を介して気相 からダイオードに導入される前記不純物に対して選択し、この層の上に、マスク を、約550 と650 ℃との間、好適には約600 と650 ℃との間の温度で局所的に設 ける際に得られる。この方法は比較的簡単であり、現在の技術で容易に使用しう る。混成プロセスのこの変形に要求される温度は比較的高い。 非常に良好な結果が、例えばZnのイオン注入及びそれに従う温度処理によって 得られる。注入は、好適には低エネルギー、例えば25keV で行われる。加熱処理 が、650 〜850 ℃の間の温度、好適には約750 ℃で10〜40分間施される。その後 、670nm から640nm の放出波長の降下が、InGaP/InAlGaP ダイオードの出射表面 付近で観察される。イオン注入は、比較的簡単、正確、かつ、再現可能なプロセ ス であり、特に貫通深さは、これにより非常に良好に制御しうる。それに加えて、 イオン注入工程を、製造の任意の段階に、例えば他の成長ステップ前に容易に挿 入することができる。 第２の、非常に好適な変形例では、前記出射表面を形成した後前記不純物を提 供し、かつ、前記出射表面を介して前記不純物を前記ダイオードに導入する。例 えば切断により、単一行のダイオードを含む細条形状本体を先ず形成する。結果 的に得られる二つの側面、すなわち切断表面は、形成すべき各ダイオードの出射 表面を形成する。次いで、各ダイオードに対する一つ、又は好適には二つの受動 領域を、気相（Zn）から、すなわち出射表面を直接介した局所的イオン注入（Zn ,Si又はMg）により形成する。気相からZn原子を提供すると良好な結果が得られ る。驚くべきことに、この導入が比較的低温で生じるとGaAsを具える層にZnが貫 通しないことが確認された。n-GaAsが、例えば基板又はコンタクト層中に存在す るので、連続的なｐ型領域が出射表面上の接続導体間に発生して短絡が生じるの をこのようにして防止する。この変形は、単一切断ステップは別にして、ダイオ ードの製造が活性層の混成の瞬時に完了するという利点がある。受動領域を形成 する前に出射表面が既に形成され、その結果出射表面を受動領域の位置に整列さ せる必要がないことは重要である。これにより他の利点が得られる。すなわち、 受動領域を、受動領域が既に存在することにより出射表面を切断することによっ て形成した前記変形に要求されるような少なくとも約10μｍの代わりに、比較的 狭く、例えば約５μｍ又はそれ未満にすることができる。受動領域もこの際狭く することができる。その理由は、Zn原子の半導体本体への貫通が第１変形例の場 合に比べて浅薄だからである。既に説明したようなZn原子の半導体本体への選択 的な貫通は、非常に高くない温度を要求する。良好な結果が、450 から550 ℃の 間、好適には475 から525 ℃との間の温度の気相貫通で得られた。既に説明した ように、好適には、（多重）量子井戸層を、活性層を形成するのに選択する。好 適には、(Al)InGaP を活性層及びクラッド層の材料として選択し、好適にはダイ オードをレーザとして構成する。 既に説明したようなイオン注入をこの変形例にも好適に適用することができる 。不純物の貫通深さが非常に小さいので、出射表面全体に亘る非常に小さな寄生 電 流がこの際に可能となる。この場合、温度処理を限定し又は省略することができ る。注入により生じた損傷がダイオードの動作中部分的に、すなわち活性層の区 域で専ら回復される。 本発明を、二つの実施の形態及び添付図面を参照して詳細に説明する。 図１は、本発明による光放射半導体ダイオードの一実施の形態の断面及び部分 的斜視図を示す。 図２は、図１のダイオードのII-II 線沿いの断面図である。 図３〜５は、本発明による第１形態による製造の連続段階における図１の光放 射半導体ダイオードの断面及び部分的斜視図を示す。 図６は、本発明にる方法の第２形態の製造段階における図１のダイオードのII -II 線沿いの断面図である。 図面は線図的であり、スケール通りに描いていない。厚さ方向の寸法は特に、 明瞭のために誇張されている。種々の例において、一般に対応する部材には対応 する番号を付してある。同一型の半導体領域には一般に、同一方向に斜線を引い ている。 図１は、本発明による光放射半導体ダイオードの断面及び部分的斜視図を示す 。図２は、図１のダイオードのII-II 線沿いの断面図である。この場合、ダイオ ードはダイオードレーザを具え、このダイオードレーザは、第１の、ここではｎ 導電型の基板を有する半導体本体１００を具える。この半導体本体は、本例では 単結晶（１００）ガリウム砒素からなる。ｎ導電型のバッファ層１１、ｎ導電型 の第１クラッド層２’、第１分離制限層２”、ここではバリア層３”によって分 離された二つの量子井戸層３’を具える（例えば、図２参照）活性層３、ここで はｐ導電型の第２クラッド層４’，４⁰、及びこれら第２クラッド層の間に存在 するエッチング停止層５を具える半導体層構体を、基板上に設ける。半導体層構 体のメサ形状部１２内に、第２クラッド層４’，４⁰に加えて、中間層９及び第 １コンタクト層１０が存在し、これら層９，１０のいずれもｐ導電型とする。ｎ 型電流ブロック層１３がメサ１２の両側に存在する。この層及びメサ１２上の全 体に亘って、第２コンタクト層６及び電流供給用の接続導体７を配置する。基板 １に、同一目的の接続導体８を設ける。活性層３は、III-V 族半導体材料InP 及 び GaP の混晶、この場合InGaP を具え、相違する元素の原子、この場合In及びGa原 子を、副格子、ここではIII 族元素f.c.c.（＝面心立方体）上に配置することが できる。受動領域３Ｂが、活性層３の一部を形成する細条形状活性領域３Ａと、 出射表面、ここでは二つのミラー表面５０，５１との間に存在する。二つのクラ ッド層２，４間に形成したｐｎ結合は、メサ１２の下に配置した活性層３の細条 形状活性領域３Ａと、活性領域３Ａにほぼ垂直なミラー表面５０，５１によって 形成した共鳴キャビィティ内とに、干渉電磁放射を、前方に十分な電流強度を付 与して発生させることができる。 本発明によれば、活性領域３Ａの副格子の全体に亘る相違する元素の原子、こ こではIn及びGa原子の分布は不規則であり、それに対して、受動領域３Ｂを、活 性層３の混成する局所、ここでは量子井戸層３’とバリア層３”が混成する局所 に亘って形成する。活性領域３Ａの不規則な分布のために、前記領域の損失は比 較的低く、その結果本発明によるダイオードの効率及び始動電流は最適となる。 それにもかかわらず、活性層３の局所的な混成は、十分大きなバンドギャップの 受動領域３Ｂを発生させる。これは、不規則な分布の層が最低損失を有するとい う驚くべき影響と、活性層３の範囲内すなわち活性領域３Ａの範囲内で不規則を 選択したにもかかわらず十分大きなバンドギャップを有する受動領域３Ｂを形成 することができるという驚くべき認識とに基づく。それに加えて、このような不 規則な活性領域３Ａ及び活性領域３のこのような局所的な混成を、容易に、すな わち、活性層の成長状態又は基板の配向を適切に選択することにより、及び、活 性層３に不純物を局所的に加えることによりそれぞれ、実現することができる。 本例のレーザの（多重）量子井戸層（３，３”）により、前記混成の達成を容 易に行うことができる。その理由は、非常に肉薄な層は比較的容易に混成するか らである。本例のようなInGaP 又はAlInGaP を具える活性層３により、比較的短 い波長の可視放射となり、これは多数の用途に非常に好適である。本例のレーザ は約680nm で出射する。この値は、規則的な活性層３を有するレーザの値と非常 に異なる。その理由は、本例の活性層３は圧縮応力を有するからである。受動領 域３Ｂのバンドギャップに相当する波長は約650nm である。受動領域の波長を、 より厚いバリア層３”を選択することにより、又は、Alも含めることにより容易 に減少させることができる。しかしながら、このような短波長値は一般に望まし くない。その理由は、横断方向の実効屈折率が受動領域３Ｂで非常に低くなるス テップを有するおそれがあるからである。本例のバンドギャップより大きなバン ドギャップのクラッド層２，４を付与することにより、受動領域３Ｂの最適バン ドギャップをより高い値にすることができる。 本例のレーザを屈折率ガイドタイプとし、このレーザはいわゆる埋め込み突起 導波構造を有する。以上説明したレーザの厚さ、材料及びバージョンの他の特性 を以下の表に示す。 メサ形状細条１２の幅及び長さをそれぞれ、約５μｍ及び約500 μｍとする。 この場合受動領域３Ｂの厚さを約10μｍとする。本例の基板１上の導電層８を、 約100nm の金−ゲルマニウム−ニッケル層とする。本例の導電層７は、それぞれ が約100nm,約50nm及び約250nm の厚さを有するプラチナ、タンタル、及び金層を 具える。 図３〜５は、本発明の方法の第１の形態による順次の製造工程の図１の光放射 半導体ダイオードの断面及び部分的斜視図を示す。この方法は、２×１０¹⁸原子 ／cm³のドーピング濃度及び例えば350 μｍの厚さを有する単結晶ｎ型ガリウム 砒素の（１００）基板１（図３参照）を基にする。（００１）配向を有する表面 を研磨及びエッチングした後、例えばＯＭＶＰＥ（有機金属気相エピタキシャル 成長法）により気相から、基板上に、バッファ層１１と、第１クラッド層２’と 、第１分離制限層２”と、第１量子井戸層３’、バリア層３”及び第２量子井戸 ３’を具える活性層３と、第２分離制限層４”と、第２クラッド層４’，４°の 第１部分４’と、エッチング停止層５と、第２クラッド層４’，４°の第１部分 ４°と、第１コンタクト層１０とを成長させる。混晶、この場合、In及びGa原子 がIII族原子格子全体に亘って規則的又は不規則的に分布しうるInGaP を、活性 層３に対して選択する。 本発明によれば、活性層３に形成すべき活性領域３ＡのIn及びGa原子を、この 場合これらの副格子全体に亘って不規則に分布させる。これは、活性層３を設け る間成長状態を適切に選択することにより本形態の方法によって行う。このよう な適切な状態を、例えば、約760 ℃の比較的高い成長温度とする。この場合、全 ての半導体層を前記温度で設ける。同時に、本発明による方法では、活性層３の 局所的混成によって形成すべき受動領域３Ｂを、形成すべき活性領域３Ａと、放 射を発生させる出射表面５０，５１との間に形成する。 本形態では、この混成を次のようにして発生させる。構体を成長装置から取り 出した後、それぞれが約20μｍの幅であり、かつ、図３では幅の半分のみが見え る細条形状凹部３１，３２を具える構体上に、二酸化珪素のマスク層３０を、ス パッタリング及びフォトリソグラフィにより設ける。次いで、装置を、亜鉛砒化 物とともに密閉カプセルに挿入し、このカプセルを550 ℃と650 ℃との間、好適 には約600 ℃と650 ℃との間、この場合600 ℃の温度で加熱する。これにより、 不純物、ここではZn原子１０００を、半導体本体１００中で活性層３を越えて拡 散させ、その結果、凹部３１，３２の歌の混成により受動領域３Ｂが形成される 。例えば、半導体本体１００にZnイオンを浅く導入するのにイオン注入を用いる 場 合、次の温度処理の前に、半導体本体１００を、肉薄層、例えば0.1 μｍの厚さ のSiO₂によって好適には完全に被覆する。 カプセルから取り出した後、マスク３０を取り除き、二酸化珪素の細条形状マ スク４０を設ける（図４参照）。次いで、半導体層構体を、図面平面に対して垂 直なメサ形状構体にエッチングする。この際に、エッチング停止層５の上に位置 する層に対して通常の（選択的）エッチング手段を用いる。構体を清潔にした後 、ＯＭＶＰＥに対向するブロック層１３をメサ１２の両側に配置する。二酸化珪 素マスク４０を除去し及び構体を清潔にした後、第２コンタクト層６を最終ＯＭ ＶＰＥで設ける。材料、組成、厚さ、導電型及びドーピング密度を、半導体層に 対して、上記表にリストしたように選択する。次いで、上記厚さ及び組成の導電 層７，８を、例えばスパッタリングによって設ける。互いに垂直な方向に切断し た後、最終装着の準備のできた本発明による個別のダイオードを得る。 図６は、本発明による方法の第２の形態による製造の段階の図１の線II-II 沿 いのダイオードの断面を示す。この方法は上記方法と大体同一である。先ず、図 ３に示すとともに既に説明したように、半導体層１１〜１０を基板１上に設ける 。次いで、細条形状マスク４０を基板上に設け（図４参照）、その後メサ１２を エッチングによって形成する。次いで、半導体層１３を、選択的エピタキシーに よりメサ１２の両側に設ける。マスク４０を除去した後、コンタクト層６を非選 択的エピタキシーによって設ける。次いで、半導体層７，８を設け、構体を、そ れぞれが互いに隣接して存在する１行のダイオードを具える一連の半導体本体に 切断する。二つのこのような半導体本体を図６に示す。分離細条６１によって互 いに分離したこれら半導体本体を、キャリア６２上に配置する。 ここで、キャリア６２を、亜鉛砒化物とともに密閉水晶カプセル（図６に図示 せず）に導入し、この状態でカプセルを、450 から550 ℃の間、好適には475 か ら525 ℃との間この場合500 ℃で加熱する。その結果、Zn原子１０００は、基板 １のようなGaAsを具える層すなわち半導体層１及び６を除く全ての半導体層を具 える領域６５内の出射表面５０を介して、気相から半導体本体を貫通する。本発 明によれば、活性層３はこのようにして領域６５内で混成され、これにより、受 動領域３Ｂが形成される。本発明によるこの方法における領域６５及び受動領域 ３Ｂの幅は比較的小さく、すなわち約５μｍ又はそれ未満となる。このような小 幅は、受動領域３Ｂの放射損失が比較的小さくすることができるという利点を有 する。その理由は、この方法によれば、受動領域３Ｂは出射表面５０，５１の形 成中まだ存在しないからである。実際、（既に存在する）受動領域３Ｂに出射表 面５０，５１を整列させるには、ダイオードごとに少なくとも10μｍに相当する 少なくとも20μｍの幅が要求される。活性領域３Ａ中の相違する元素の原子も、 既に説明した変更の場合と同様に、本発明の変更において、副格子全体に亘って 不規則に分布される。半導体本体を、キャリア６２上で向きを変え、図６に示す プロセスを繰り返して、出射表面５１にも受動領域３Ｂを形成する。最終切断ス テップ後、最終装着の準備ができている本発明による個別のダイオードを得る。 当業者には幾多の変更又は変形が本発明の範囲内で可能であるので、本発明は 上記実施の形態に限定されるものではない。したがって、相違する組成、厚さ及 び成長技術を、上記例で言及したものの代わりに選択することができる。導電型 を全て互いに逆に置き換えることもできる。さらに、例えば酸化アルミニウムの 保護コーティングをダイオードの出射表面に設けることも好適である。Zn原子を 、密閉カプセル中の亜鉛砒化物の形態だけでなく、例えばＭＯＶＰＥ成長反応器 でDEZn（＝ジエチル亜鉛）のような例えば有機化合物の形態で提供することがで きる。いわゆる利得ガイド構体のような他のダイオード構体を用いることもでき る。

───────────────────────────────────────────────────── 【要約の続き】 又は製造後発生しうる。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １．第１導電型の半導体基板（１）を有する半導体本体（１００）を具える光放 射半導体ダイオードであって、この半導体基板上に、少なくとも、前記第１導電 型の第１クラッド層（２）と、活性層（３）と、前記第１導電型とは逆の第２導 電型の第２クラッド層（４）とが順に存在し、前記クラッド層（２，４）に電流 供給手段（７，８）を設け、前記活性層（３）は、相違する元素の原子が副格子 に規則的又は不規則的に配置して存在しうるIII-V 族半導体材料の混晶と、ダイ オードから発生する放射用の出射表面（５０，５１）から受動領域（３Ｂ）によ り分離された細条形状活性領域（３Ａ）とを具える光放射半導体ダイオードにお いて、前記活性領域（３Ａ）の副格子全体に亘る相違する元素の原子の分布を不 規則にし、前記受動領域（３Ｂ）を、前記活性層（３）の局所的混成によって形 成したことを特徴とする光放射半導体ダイオード。 ２．前記活性層（３）は、少なくとも一つの量子井戸層（３）、好適には多重量 子井戸層（３’）を具えることを特徴とする請求の範囲１記載の光放射半導体ダ イオード。 ３．前記活性層（３）はInGaP 又はInAlGaP を具え、前記半導体ダイオードは半 導体ダイオードレーザを具えることを特徴とする請求の範囲１又は２記載の光放 射半導体ダイオード。 ４．前記活性層（３）を圧縮応力下としたことを特徴とする請求の範囲１，２又 は３記載の光放射半導体ダイオード。 ５．光放射ダイオードの製造方法であって、少なくとも、第１導電型の第１クラ ッド層（２）と、活性層（３）と、前記第１導電型とは逆の第２導電型の第２ク ラッド層（４）とを順に、前記第１導電型の半導体基板（１）上に設け、前記ク ラッド層（２，４）に電流供給手段（７，８）を設けるとともに、III-V 族半導 体材料の混晶を、相違する元素の原子が副格子に規則的又は不規則的な配置で存 在しうる前記活性層に対して選択し、前記活性層内で、前記ダイオードに発生す る放射用に形成すべき出射表面（５０，５１）から受動領域（３Ｂ）によって分 離される細条形状活性領域（３Ａ）を形成するに当たり、前記活性 領域（３Ａ）の相違する元素の原子を前記副格子の全体に亘って不規則に分布さ せ、前記受動領域（３Ｂ）を、前記活性層（３）の局所的混成によって形成する ことを特徴とする光放射ダイオードの製造方法。 ６．前記活性領域（３Ａ）の相違する元素の原子の不規則的な分布を、前記活性 領域を設ける間の成長状態又は前記基板（１）の配向を適切に選択することによ り達成し、前記活性領域（３）の混成を、前記活性領域（３）に不純物（１００ ０）を局所的に拡散させることにより達成することを特徴とする請求の範囲５記 載の光放射ダイオードの製造方法。 ７．前記不純物（１０００）を、前記活性領域（３）の上の細条形状領域（３１ ，３２）を介して、形成すべき前記出射表面（５０，５１）の区域で、前記ダイ オードに導入することを特徴とする請求項６記載の光放射ダイオードの製造方法 。 ８．Zn原子を、GaAs含有層（１０）を介して気相からダイオードに導入される前 記不純物（１０００）に対して選択し、この層の上に、マスク（３０）を、約55 0 と650 ℃との間、好適には約600 と650 ℃との間の温度で局所的に設けること を特徴とする請求の範囲７記載の光放射ダイオードの製造方法。 ９．前記出射表面（５０，５１）を形成した後前記不純物（１０００）を提供し 、かつ、前記出射表面（５０，５１）を介して前記不純物を前記ダイオードに導 入することを特徴とする請求の範囲６記載の光放射ダイオードの製造方法。 10．Zn原子を前記不純物（１０００）として選択し、かつ、450 から550 ℃の間 、好適には475 から525 ℃との間の温度で前記ダイオードに導入することを特徴 とする請求の範囲９記載の光放射ダイオードの製造方法。 11．前記不純物（１０００）を、イオン注入によって前記ダイオードに導入する ことを特徴とする請求の範囲７又は９記載の光放射ダイオードの製造方法。 12．Znイオンを前記不純物（１０００）として選択し、20keV の目安の注入エネ ルギーを選択し、かつ、10^-15cm^-2の目安の注入濃度を選択することを特徴とす る請求の範囲１１記載の光放射ダイオードの製造方法。 13．イオン注入に続いて、10〜40分間の650 と850 ℃との間の温度の加熱処理を 施すことを特徴とする請求の範囲１１又は１２記載の光放射ダイオードの製造 方法。