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JPH0943669A - Image photographic device - Google Patents

Image photographic device

Info

Publication number
JPH0943669A
JPH0943669A JP7193356A JP19335695A JPH0943669A JP H0943669 A JPH0943669 A JP H0943669A JP 7193356 A JP7193356 A JP 7193356A JP 19335695 A JP19335695 A JP 19335695A JP H0943669 A JPH0943669 A JP H0943669A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
light
shutter curtain
photometric
light flux
mirror
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP7193356A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Tsutomu Honda
努 本田
Toshihiro Hamamura
俊宏 濱村
Hideki Osada
英喜 長田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Minolta Co Ltd
Original Assignee
Minolta Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Minolta Co Ltd filed Critical Minolta Co Ltd
Priority to JP7193356A priority Critical patent/JPH0943669A/en
Priority to US08/659,690 priority patent/US5664243A/en
Priority to DE19622802A priority patent/DE19622802A1/en
Publication of JPH0943669A publication Critical patent/JPH0943669A/en
Priority to US08/834,107 priority patent/US5953546A/en
Priority to US10/680,340 priority patent/US7133608B1/en
Pending legal-status Critical Current

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  • Exposure Control For Cameras (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To improve photometric accuracy with simple constitution in an image photographic device such as a single lens reflex camera and a still camera equipped with a video camera. SOLUTION: A half mirror 3 is disposed apart from a shutter curtain 5 in a mirror box 2, and a photometry element 14 is arranged at a position where an angle formed by a line linking the element 14 with the center of an area on the shutter curtain 5 covered as the photometric range of the element 14 at the time of normal photometry with the shutter curtain 5 becomes nearly perpendicular, whereby the same brightness of respective parts is nearly uniformly obtained when the same light quantity per unit area is cast to the respective parts in the case of viewing the photometric range on the shutter curtain 5 from the element 14.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、1眼レフカメラ、
及びビデオカメラ、スチルカメラ双方の機能を備えた画
像撮影装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a single-lens reflex camera,
Also, the present invention relates to an image capturing device having functions of both a video camera and a still camera.

【0002】[0002]

【従来の技術】図11は、従来の1眼レフカメラのミラ
ーボックス2を中心とした部分の光学系の概略構成図で
ある。この図に示すように、従来の1眼レフカメラの光
学系は、主光学系としての交換レンズ1と、この交換レ
ンズ1を通して被写体からの光束が入射するミラーボッ
クス2と、ミラーボックス2内に支点20bを中心に回
転可能に支持されたミラー20と、ミラー20がX方向
に移動したとき被写体からの光束が結像するフィルム露
光面6と、ミラー20がY方向に移動したときミラー面
20aで反射された被写体からの光束が導かれるファイ
ンダー光学系とにより構成されている。
2. Description of the Related Art FIG. 11 is a schematic configuration diagram of an optical system of a portion centering on a mirror box 2 of a conventional single-lens reflex camera. As shown in this figure, an optical system of a conventional single-lens reflex camera includes an interchangeable lens 1 as a main optical system, a mirror box 2 into which a light beam from a subject enters through the interchangeable lens 1, and a mirror box 2 inside. A mirror 20 rotatably supported around a fulcrum 20b, a film exposure surface 6 on which a light beam from a subject forms an image when the mirror 20 moves in the X direction, and a mirror surface 20a when the mirror 20 moves in the Y direction. And a finder optical system that guides the light flux from the subject reflected by.

【0003】ここで、ミラー20は、シャッターがレリ
ーズされた時以外はY方向に移動している。通常、この
とき、ミラー20は主光学系の光軸に対して45゜の角
度で支持されるようになっており、その角度を正確に出
すため位置出し具21が設けられている。一方、シャッ
ターがレリーズされた時、ミラー20はX方向に跳ね上
げられる。
Here, the mirror 20 is moving in the Y direction except when the shutter is released. Normally, at this time, the mirror 20 is supported at an angle of 45 ° with respect to the optical axis of the main optical system, and a positioning tool 21 is provided to accurately measure the angle. On the other hand, when the shutter is released, the mirror 20 is flipped up in the X direction.

【0004】また、フィルム露光面6のミラー20側に
はシャッター幕5が配設されており、シャッターがレリ
ーズされた時、このシャッター幕5がミラー20と同期
して動作することにより、主光学系から入射した光束が
フィルム露光面6上に導かれる。また、フィルム露光面
6を所定位置に配置するため、フィルムは圧板7とフィ
ルムレール8とにより位置決めされる。そして、これら
フィルム露光面6、シャッター幕5等により銀塩写真撮
像部が構成されている。
A shutter curtain 5 is provided on the film exposure surface 6 on the side of the mirror 20. When the shutter is released, the shutter curtain 5 operates in synchronization with the mirror 20 so that the main optical The light flux incident from the system is guided onto the film exposure surface 6. Further, since the film exposure surface 6 is arranged at a predetermined position, the film is positioned by the pressure plate 7 and the film rail 8. The film exposure surface 6, the shutter curtain 5 and the like constitute a silver salt photographic image pickup section.

【0005】なお、交換レンズ1を収容する鏡筒の後側
フランジ面13からフィルム露光面6までの距離FBLは
フランジバックと呼ばれ、通常、交換レンズ1を共用で
きるように同じシリーズの1眼レフカメラでは同じ値に
設定されている。
The distance FBL from the rear flange surface 13 of the lens barrel that houses the interchangeable lens 1 to the film exposure surface 6 is called a flange back, and normally, the interchangeable lens 1 can be shared so that one lens of the same series can be used. The same value is set on the reflex camera.

【0006】この従来の1眼レフカメラでは、ミラーボ
ックス2内でミラー20が回転するための空間を交換レ
ンズ1の鏡筒の後側に確保する必要があるので、ミラー
20は交換レンズ1の鏡筒の後側フランジ面13から可
能な限り離して配置されている。この場合、フランジバ
ックFBLを一定とすると、ミラー20はシャッター幕5
に近付けて配置されることになる。
In this conventional single-lens reflex camera, it is necessary to secure a space for rotating the mirror 20 in the mirror box 2 on the rear side of the lens barrel of the interchangeable lens 1. It is arranged as far as possible from the rear flange surface 13 of the lens barrel. In this case, assuming that the flange back FBL is constant, the mirror 20 moves to the shutter curtain 5.
Will be placed close to.

【0007】また、別の従来例として、可動式のミラー
20に代えて固定式のハーフミラーを搭載した1眼レフ
カメラがある。このタイプのカメラでは、主光学系から
入射した被写体からの光束はハーフミラーで2分割され
て、一方の光束は銀塩写真撮像部に至り、他方の光束は
ファインダー光学系に導かれるようになっている。この
場合、ハーフミラーは回転しないので交換レンズの鏡筒
の後側フランジ面に接近させて配置することができる
が、同じシリーズ内の可動式ミラーを用いたカメラと部
品を共用化する目的から、一般に、ハーフミラーはシャ
ッター幕に近付けて配置されている。
Another conventional example is a single-lens reflex camera equipped with a fixed half mirror in place of the movable mirror 20. In this type of camera, the luminous flux from the subject incident from the main optical system is divided into two by the half mirror, one luminous flux reaches the silver salt photographic imaging section, and the other luminous flux is guided to the finder optical system. ing. In this case, since the half mirror does not rotate, it can be placed close to the rear flange surface of the lens barrel of the interchangeable lens, but for the purpose of sharing parts with a camera using a movable mirror in the same series, Generally, the half mirror is arranged close to the shutter curtain.

【0008】そして、これらの1眼レフカメラでは、定
常測光あるいはフラッシュ調光を行うために、一次像面
(フィルム露光面であるが、定常測光時には近似的にシ
ャッター幕が一次像面となる)を測光範囲として直接カ
バーできる位置、すなわちミラーあるいはハーフミラー
とシャッター幕との間に測光素子を配置したものが多
い。この場合、ミラー、ハーフミラーのどちらを用いた
ものでも、フラッシュ使用時には測光素子がフィルム露
光面で反射された光を受光することによりフラッシュ調
光が行われる。
In these single-lens reflex cameras, the primary image plane (the film exposure surface, but the shutter curtain becomes the primary image plane during steady photometry, in order to perform steady photometry or flash light control). In many cases, a photometric element is arranged between the shutter curtain and a mirror or half mirror at a position where it can be directly covered as a photometric range. In this case, whether using a mirror or a half mirror, when the flash is used, the light metering element receives the light reflected by the exposed surface of the film to perform flash dimming.

【0009】[0009]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記1
眼レフカメラにおいて、ミラーボックスの壁面上でミラ
ーあるいはハーフミラーとシャッター幕の間に測光素子
や測距素子を配設する場合には、それらの素子を配置す
るための空間が狭く、無理をして配置しなければならな
かった。
However, the above-mentioned 1
In an eye reflex camera, when a photometric element or a distance measuring element is arranged between the mirror or half mirror and the shutter curtain on the wall surface of the mirror box, the space for arranging these elements is small and it is not possible. Had to be placed.

【0010】そのため、測光素子の測光範囲としてカバ
ーされる一次像面(フィルム露光面あるいはシャッター
幕)上の領域に対して、測光素子は斜めから(すなわ
ち、一次像面に近い位置から)臨むことになる。この場
合、図12に示すように、測光素子をミラーボックス2
の壁面上で一次像面16に点P1よりも近い点P2に配置
したとき、一次像面16に至る光束の光軸AXと一次像
面16との交点をOとすると、直線OP2と一次像面1
6とがなす角θ2は、直線OP1と一次像面16とがなす
角θ1に比べて小さくなり、一次像面16上の領域A1内
の点と領域A2内の点から測光素子に至るそれぞれの直
線が一次像面16となす角度の差が、測光素子が点P1
にある場合に比べて大きくなる。
For this reason, the photometric element should face the area on the primary image surface (film exposure surface or shutter curtain) covered as the photometric range of the photometric element obliquely (that is, from a position close to the primary image plane). become. In this case, as shown in FIG.
When it is arranged at a point P2 closer to the primary image plane 16 than the point P1 on the wall surface of the, the intersection point between the optical axis AX of the light flux reaching the primary image plane 16 and the primary image plane 16 is O, and the straight line OP2 and the primary image. Surface 1
The angle θ2 formed by 6 is smaller than the angle θ1 formed by the straight line OP1 and the primary image plane 16, and the points in the area A1 on the primary image plane 16 and the points in the area A2 reach the photometric element. The difference between the angle formed by the straight line and the primary image plane 16 is the point P1
It is larger than the case in.

【0011】ここで、一次像面(フィルム露光面あるい
はシャッター幕)16に入射した光は乱反射されるが、
その乱反射される光の強さの分布は非等方的であり、こ
の場合、一次像面16に対して垂直に近い方向により大
きい光量を反射する。したがって、点P2に測光素子を
配置したとき、たとえ一次像面16の領域A1内の点と
領域A2内の点に同じ強度の光が入射した場合でも、領
域A2内の点から測光素子の方向に反射される光量の方
が、領域A1内の点からの光量よりも大きい。そして、
その差は、測光素子を点P2に配置すると、点P1に配置
したときに比べて大きくなる。
Here, the light incident on the primary image surface (film exposure surface or shutter curtain) 16 is diffusely reflected,
The intensity distribution of the irregularly reflected light is anisotropic, and in this case, a larger amount of light is reflected in a direction close to the direction perpendicular to the primary image plane 16. Therefore, when the photometric element is arranged at the point P2, even if the light of the same intensity is incident on the point in the area A1 of the primary image plane 16 and the point in the area A2, the direction of the photometric element from the point in the area A2. The amount of light reflected by is larger than the amount of light from a point in the area A1. And
The difference is greater when the photometric element is placed at the point P2 than when it is placed at the point P1.

【0012】また同時に、点P2に測光素子を配置する
と、領域A1内の点から測光素子までの距離は、領域A2
内の点から測光素子までの距離よりも長くなり、その差
は、点P1に測光素子を配置したときに比べて大きい。
このため、たとえ領域A1内の微小領域と領域A2内の微
小領域とが、点P2に位置する測光素子に向かって単位
面積当たり同量の光を反射した場合でも、測光素子が領
域A2内の微小領域から受光する光量の方が、領域A1内
の微小領域から受光する光量よりも大きくなる。そし
て、その差は、測光素子を点P2に配置した場合の方
が、点P1に配置した場合よりも大きい。
At the same time, when a photometric element is arranged at the point P2, the distance from the point in the area A1 to the photometric element is the area A2.
It becomes longer than the distance from the point inside to the photometric element, and the difference is larger than when the photometric element is arranged at the point P1.
Therefore, even if the minute area in the area A1 and the minute area in the area A2 reflect the same amount of light per unit area toward the light measuring element located at the point P2, the light measuring element is The amount of light received from the minute area is larger than the amount of light received from the minute area in the area A1. The difference is larger when the photometric element is arranged at the point P2 than when it is arranged at the point P1.

【0013】これらの理由から、点P2に測光素子を配
置した場合、一次像面16上の領域A1と領域A2にたと
え単位面積当たり同じ光量が当たっても、それらが反射
して測光素子に達する光量は、領域A2からの方が領域
A1からよりも大きい。つまり、この場合、測光素子か
ら見ると、領域A2は領域A1よりも明るく見える。そし
て、それらの光量の差は、点P1に測光素子を配置した
ときよりも大きくなる。
For these reasons, when the photometric element is arranged at the point P2, even if the area A1 and the area A2 on the primary image plane 16 receive the same amount of light per unit area, they are reflected and reach the photometric element. The amount of light is larger from the area A2 than from the area A1. That is, in this case, the area A2 looks brighter than the area A1 when viewed from the photometric element. Then, the difference between the light amounts becomes larger than that when the photometric element is arranged at the point P1.

【0014】したがって、従来の1眼レフカメラのよう
に、ミラーボックス内でミラーあるいはハーフミラーを
シャッター幕に接近させて配設し、しかもミラーあるい
はハーフミラーとシャッター幕との間に測光素子を配置
した場合には、一次像面(フィルム露光面あるいはシャ
ッター幕)全体に亙る正確な測光が行えないという問題
があった。
Therefore, like a conventional single-lens reflex camera, a mirror or a half mirror is arranged in the mirror box close to the shutter curtain, and a photometric element is arranged between the mirror or the half mirror and the shutter curtain. In that case, there is a problem that accurate photometry cannot be performed over the entire primary image surface (film exposure surface or shutter curtain).

【0015】また、一次像面に対して多分割測光を行う
場合には、上記と同じ理由から、一次像面上の各領域に
対する測光精度のばらつきが生じることになり、このば
らつきを解消するためには、一次像面上の各領域に対応
して測光素子の測光面上の各領域毎の検知出力に重み付
けするという補正が必要であった。
Further, when multi-divisional photometry is performed on the primary image plane, variations in photometric accuracy with respect to each area on the primary image plane will occur for the same reason as above, and in order to eliminate this variation. In this case, it is necessary to correct the detection output of each area on the photometric surface of the photometric element corresponding to each area on the primary image surface.

【0016】さらに、図13に示すように、交換レンズ
1から入射した光束を2分割するためにハーフミラー3
を備えた従来の1眼レフカメラでは、通常、ハーフミラ
ー3の一次像面16側に、ハーフミラー3を透過した光
束の一部を反射し、結像用の凸レンズ15aを通して測
距素子15に導くためのミラー(以下、AFミラーと呼
ぶ)4が配設されているので、一次像面16上にはこの
AFミラー4に遮られた陰S1ができる。
Further, as shown in FIG. 13, the half mirror 3 is used to divide the light beam incident from the interchangeable lens 1 into two.
In the conventional single-lens reflex camera equipped with, normally, a part of the light flux transmitted through the half mirror 3 is reflected on the primary image plane 16 side of the half mirror 3 and is passed through the convex lens 15a for image formation to the distance measuring element 15. Since a guide mirror (hereinafter referred to as an AF mirror) 4 is provided, a shadow S1 blocked by the AF mirror 4 is formed on the primary image plane 16.

【0017】すなわち、図14に示すように、測光素子
14が測光範囲としてカバーする一次像面16上に、A
Fミラー4の陰S1が生じる。しかも、図13に示すよ
うに、ハーフミラー3を透過して一次像面16に至る光
束は次第に拡がる形となるため、従来の1眼レフカメラ
のように、ハーフミラー3をシャッター幕に接近させて
配置すると、その分、AFミラー4は大きくなり、凸レ
ンズ14aを通して測光素子14の測光面上に結像され
る一次像面16上で測光に有効に利用できる面積が小さ
くなるので、測光精度が下がるという問題があった。
That is, as shown in FIG. 14, on the primary image plane 16 covered by the photometric element 14 as a photometric range, A
The shadow S1 of the F mirror 4 occurs. Moreover, as shown in FIG. 13, since the light flux passing through the half mirror 3 and reaching the primary image plane 16 is gradually expanded, the half mirror 3 is brought closer to the shutter curtain as in a conventional single-lens reflex camera. If it is arranged, the AF mirror 4 becomes larger accordingly, and the area that can be effectively used for photometry on the primary image surface 16 formed on the photometric surface of the photometric element 14 through the convex lens 14a becomes smaller. There was a problem of going down.

【0018】また同時に、図15に示すように、このよ
うなミラーボックス2内にハーフミラー3とAFミラー
4を備えた従来の画像撮影装置では、ハーフミラー3を
シャッター幕に接近させて配置しており、測光素子14
と測距素子15をその間の狭い空間に配置することとな
るため、一次像面16で反射された光の一部が測光素子
14に至る途中でAFミラー4に遮られてしまう。この
ため、測光素子14から一次像面16を眺めたとき、そ
の中にAFミラー4の陰S2が生じ、一次像面16上で
測光に有効に利用できる面積が小さくなるので、その
分、測光精度が低下するという問題があった。
At the same time, as shown in FIG. 15, in the conventional image taking apparatus having the half mirror 3 and the AF mirror 4 in the mirror box 2, the half mirror 3 is arranged close to the shutter curtain. And photometric element 14
Since the distance measuring element 15 is arranged in a narrow space between them, a part of the light reflected by the primary image plane 16 is blocked by the AF mirror 4 on the way to the light measuring element 14. For this reason, when the primary image surface 16 is viewed from the photometric element 14, the shadow S2 of the AF mirror 4 is generated in the primary image surface 16, and the area on the primary image surface 16 that can be effectively used for photometry is reduced. There was a problem that the accuracy was lowered.

【0019】本発明は、このような問題点を解決するた
めになされたものであって、1眼レフカメラ、及びビデ
オカメラ、スチルカメラ双方の機能を備えた画像撮影装
置において、簡単な構成で測光精度を大きく改善するこ
とを目的とする。
The present invention has been made in order to solve such a problem, and has a simple structure in an image pickup apparatus having both functions of a single-lens reflex camera, a video camera and a still camera. The purpose is to greatly improve the photometric accuracy.

【0020】[0020]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
本発明では、主光学系と、主光学系を通して被写体から
の光束が入射する箱形の室と、箱形の室内に固定的に支
持され被写体からの光束を第1の光束と第2の光束に分
割する光分割器と、箱形の室の一側面に配設され第1の
光束が結像する感光部材及び感光部材の光分割器側に配
設されたシャッター幕を有する銀塩写真方式の第1撮像
手段と、箱形の室の壁面上で光分割器とシャッター幕の
間に配設され第1の光束が感光部材あるいはシャッター
幕で反射された光量を検知することにより測光する測光
手段とを備えた画像撮影装置において、光分割器を、主
光学系の光軸に対して所定の角度をなすように配置され
たハーフミラーとし、感光部材とシャッター幕を、とも
に第1の光束の光軸に対して垂直に配置し、測光手段の
測光範囲としてカバーされるシャッター幕上の領域の中
心と測光手段とを結ぶ直線がシャッター幕となす角が垂
直に近くなる位置に測光手段を配置できるように、光分
割器を第1の光束の光軸方向にシャッター幕から離して
配置する。
In order to achieve the above object, according to the present invention, a main optical system, a box-shaped chamber into which a light beam from a subject enters through the main optical system, and a fixed support in the box-shaped chamber. A light splitter for splitting a light flux from a subject into a first light flux and a second light flux, and a light splitting member and a light splitting member on one side surface of a box-shaped chamber where the first light flux forms an image. A silver salt photographic first image pickup means having a shutter curtain disposed on the side of the container, and a first light flux disposed between the light splitter and the shutter curtain on the wall surface of the box-shaped chamber to expose the photosensitive member or In an image capturing apparatus equipped with a photometric device that measures light by detecting the amount of light reflected by a shutter curtain, an optical splitter is arranged in a half position with respect to the optical axis of the main optical system. The light sensitive member and the shutter curtain are used as a mirror, and the light of the first light flux is used together. So that the straight line connecting the center of the area on the shutter curtain covered by the photometric means to the photometric means and the angle formed by the shutter curtain is close to vertical. Then, the light splitter is arranged apart from the shutter curtain in the optical axis direction of the first light flux.

【0021】このように構成すると、例えば第1の光束
としてシャッター幕全域に亙って単位面積当たり同じ光
量が当たった場合、測光素子から見ると、シャッター幕
の各部位の明るさが均一に近くなる。
According to this structure, for example, when the same amount of light per unit area hits the entire shutter curtain as the first light flux, the brightness of each part of the shutter curtain is almost uniform when viewed from the photometric element. Become.

【0022】また、上記画像撮影装置は以下の条件を満
たすことが好ましい。 a≧31/2・FSL/2, 但し、 a : 上記光分割器の光分割面と上記第1の光束の光
軸の交点と、上記シャッター幕との間の距離、 FSL: 上記第1の光束の光軸と上記第2の光束の光軸
とに平行な平面で切断したときの上記シャッター幕の長
さである。
Further, it is preferable that the above-mentioned image capturing apparatus satisfies the following conditions. a ≧ 3 1/2 · F SL / 2, where a: the distance between the intersection of the light splitting surface of the light splitter and the optical axis of the first light flux and the shutter curtain, F SL : the above It is the length of the shutter curtain when cut along a plane parallel to the optical axis of the first light flux and the optical axis of the second light flux.

【0023】この場合、確実に光分割器とシャッター幕
との間の距離を広くすることができ、測光手段の測光範
囲としてカバーされるシャッター幕上の領域の中心と測
光手段とを結ぶ直線がシャッター幕となす角が垂直に近
くなる位置に測光手段を配置できるので、例えば第1の
光束としてシャッター幕全域に亙って単位面積当たり同
じ光量が当たった場合、測光素子から見ると、シャッタ
ー幕の各部位の明るさが均一に近くなる。
In this case, the distance between the light splitter and the shutter curtain can be surely widened, and the straight line connecting the center of the area on the shutter curtain covered by the photometric means to the photometric means. Since the photometric means can be arranged at a position where the angle formed with the shutter curtain is close to vertical, for example, when the same amount of light per unit area hits the entire shutter curtain as the first light flux, the shutter curtain is seen from the photometric element. The brightness of each part becomes almost uniform.

【0024】さらに、第2の光束は、リレー光学系によ
り第2撮像手段に導かれて撮像に用いられるようにする
とよい。
Further, the second light flux may be guided to the second image pickup means by the relay optical system and used for image pickup.

【0025】この場合、主光学系から入射した光が分割
された後、2つの撮像手段に導かれて独立に撮像に用い
られる。
In this case, after the light incident from the main optical system is split, it is guided to two image pickup means and used independently for image pickup.

【0026】また、第2撮像手段を電子写真方式とする
ことができる。
Further, the second image pickup means can be of an electrophotographic type.

【0027】この場合、第2撮像手段で、例えばビデオ
撮影が行われる。
In this case, for example, video shooting is performed by the second image pickup means.

【0028】また、シャッター幕の光分割器側の表面の
反射率を、感光部材の表面の反射率と略等価にすること
が好ましい。
Further, it is preferable that the reflectance of the surface of the shutter curtain on the side of the light splitter is substantially equal to the reflectance of the surface of the photosensitive member.

【0029】そうすると、定常測光時にシャッター幕で
反射される光量と、仮にシャッター幕を置かずフィルム
露光面で反射されたときの光量とが略等しくなる。
Then, the amount of light reflected by the shutter curtain during steady photometry becomes substantially equal to the amount of light reflected by the film exposure surface without the shutter curtain.

【0030】さらに、第1撮像手段のフィルムのフォー
マットを、135システムとすることができる。
Further, the film format of the first image pickup means can be set to the 135 system.

【0031】この場合、第1撮像手段によるフィルムの
フォーマットは広く用いられているものとなる。
In this case, the film format of the first image pickup means is widely used.

【0032】また、光分割器のシャッター幕側に配設さ
れ第1の光束の一部を反射するミラーと、箱形の室の壁
面上に配設されミラーで反射された光を受けて測距を行
う測距手段とを備えることができる。
Further, a mirror arranged on the shutter curtain side of the light splitter for reflecting a part of the first light flux and a light arranged on the wall of the box-shaped chamber for receiving the light reflected by the mirror are measured. Distance measuring means for performing distance measurement can be provided.

【0033】この場合、光分割器により得られた第1の
光束を用いて、測光とともに測距が行われる。また、光
分割器をシャッター幕から離して配置しているので、従
来技術の場合よりもミラーをシャッター幕から離して配
置することができる。
In this case, the first light flux obtained by the light splitter is used to perform the photometry and the distance measurement. Further, since the light splitter is arranged away from the shutter curtain, the mirror can be arranged farther from the shutter curtain than in the case of the conventional technique.

【0034】また、測光手段は、箱形の室の第2の光束
の伝搬方向と反対側の壁面上に配設することができる。
Further, the photometric means can be arranged on the wall surface of the box-shaped chamber opposite to the propagation direction of the second light flux.

【0035】この場合、光分割器をシャッター幕から離
しているので、測光手段の測光範囲としてカバーされる
シャッター幕上の領域の中心と測光手段とを結ぶ直線が
シャッター幕となす角が垂直に近くなる位置に測光手段
を配置するのが、従来技術の場合よりも容易である。
In this case, since the light splitter is separated from the shutter curtain, the angle formed by the straight line connecting the center of the area on the shutter curtain covered by the photometric means and the photometric means is perpendicular to the shutter curtain. It is easier to arrange the photometric means at a position closer to each other than in the case of the conventional technique.

【0036】さらに、測光手段は、箱形の室の第2の光
束の伝搬方向側の壁面上に配設してもよい。
Further, the photometric means may be arranged on the wall surface of the box-shaped chamber on the side of the propagation direction of the second light flux.

【0037】この場合も、光分割器をシャッター幕から
離しているので、測光手段の測光範囲としてカバーされ
るシャッター幕上の領域の中心と測光手段とを結ぶ直線
がシャッター幕となす角が垂直に近くなる位置に測光手
段を配置するのが、従来技術の場合よりも容易である。
しかも、この場合には、シャッター幕から測光手段に至
る光束がミラーに遮られることのない位置に、測光手段
が配設されることになる。
Also in this case, since the light splitter is separated from the shutter curtain, the angle formed by the straight line connecting the center of the area on the shutter curtain covered by the photometric means and the photometric means is perpendicular to the shutter curtain. It is easier to dispose the photometric means at a position closer to the position than in the prior art.
Moreover, in this case, the photometric means is arranged at a position where the light flux from the shutter curtain to the photometric means is not blocked by the mirror.

【0038】また、測光手段は、箱形の室の第1の光束
の光軸と第2の光束の光軸とに平行な壁面上に配設して
もよい。
The photometric means may be arranged on the wall surface of the box-shaped chamber parallel to the optical axes of the first and second light beams.

【0039】この場合も、光分割器をシャッター幕から
離しているので、測光手段の測光範囲としてカバーされ
るシャッター幕上の領域の中心と測光手段とを結ぶ直線
がシャッター幕となす角が垂直に近くなる位置に測光手
段を配置するのが、従来技術の場合よりも容易である。
Also in this case, since the light splitter is separated from the shutter curtain, the angle formed by the straight line connecting the center of the area on the shutter curtain covered by the photometry means and the photometry means is perpendicular to the shutter curtain. It is easier to dispose the photometric means at a position closer to the position than in the prior art.

【0040】また、測光手段は、箱形の室の第1の光束
の光軸と第2の光束の光軸とに平行な2つの壁面上に一
対配設してもよい。
A pair of photometric means may be arranged on two wall surfaces parallel to the optical axis of the first light flux and the optical axis of the second light flux in the box-shaped chamber.

【0041】この場合、それぞれの測光素子は、第2の
光束の光軸方向から眺めたとき第1の光束の光軸によっ
て分けられるシャッター幕の2つの領域の内それぞれに
近い方全域と、遠い方の領域の一部とを、測光範囲とし
てカバーするようにすれば、2つの壁面の内のいずれか
の上に測光手段を1つ配設する場合に比べて、それぞれ
の測光素子の測光範囲の中心と測光素子とを結ぶ直線
が、シャッター幕に対して、より垂直に近い角度で交わ
ることになる。
In this case, each of the photometric elements is located closer to each of the two areas of the shutter curtain divided by the optical axis of the first light flux when viewed from the optical axis direction of the second light flux, and far away. If a part of one of the two areas is covered as a photometric range, the photometric range of each photometric element can be compared to the case where one photometric means is provided on either of the two wall surfaces. The straight line connecting the center of and the photometric element intersects the shutter curtain at a more vertical angle.

【0042】また、測光手段と測距手段とは、ともに箱
形の室の第2の光束の伝搬方向と反対側の壁面上に配設
され、かつ第2の光束の光軸方向から眺めたとき、とも
に上記第1の光束の光軸の近傍に配置されるようにして
もよい。
The photometric means and the distance measuring means are both arranged on the wall surface of the box-shaped chamber opposite to the propagation direction of the second light flux, and viewed from the optical axis direction of the second light flux. At this time, both may be arranged near the optical axis of the first light flux.

【0043】この場合、第2の光束の光軸方向から眺め
たとき、測光手段は、第1の光束の光軸の両側の領域に
対して同じ角度で臨むことになる。
In this case, when viewed from the optical axis direction of the second light flux, the photometric means faces the regions on both sides of the optical axis of the first light flux at the same angle.

【0044】さらに、このとき、第2の光束の光軸方向
から眺めたとき、光分割器からシャッター幕に向かっ
て、測距手段、測光手段の順に配列されているのが好ま
しい。
Further, at this time, when viewed from the optical axis direction of the second light flux, it is preferable that the distance measuring means and the light measuring means are arranged in this order from the optical splitter toward the shutter curtain.

【0045】この場合、シャッター幕から測光手段に至
る光束がミラーに遮られるのを容易かつ確実に避けるこ
とができる。
In this case, the light flux from the shutter curtain to the photometric means can be easily and surely prevented from being blocked by the mirror.

【0046】[0046]

【発明の実施の形態】以下、本発明をビデオカメラ、ス
チルカメラ双方の機能を備えた画像撮影装置に適用した
実施の形態を図面を参照しながら説明する。なお、図1
1〜図16に示した従来技術に係る構成要素と同じもの
には同じ符号を付ける。図1〜図4は、第1実施形態を
示している。図1は、本実施形態の光学系全体の概略構
成図である。主光学系としての交換レンズ1を通してミ
ラーボックス2内に入射した被写体からの光束は、ミラ
ーボックス2内に配設されたハーフミラー3により、シ
ャッター幕5を経てフィルム露光面6に至る第1の光束
と、コンデンサレンズ9、反射ミラー10、リレーレン
ズ11を経てCCDイメージセンサ12に至る第2の光
束とに分割される。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION An embodiment in which the present invention is applied to an image capturing apparatus having both functions of a video camera and a still camera will be described below with reference to the drawings. FIG.
The same components as those according to the related art shown in FIGS. 1 to 4 show the first embodiment. FIG. 1 is a schematic configuration diagram of the entire optical system of the present embodiment. The light flux from the subject that has entered the mirror box 2 through the interchangeable lens 1 as the main optical system reaches the film exposure surface 6 through the shutter curtain 5 by the half mirror 3 arranged in the mirror box 2. The light beam is split into a second light beam that reaches the CCD image sensor 12 via the condenser lens 9, the reflection mirror 10, and the relay lens 11.

【0047】なお、ハーフミラー3は、ガラスの表面に
金属酸化物を蒸着して薄い皮膜を形成したものであり、
本実施形態では、ミラーボックス2内に交換レンズ1の
光軸に対して45゜の角度をもって固定的に支持されて
いる。
The half mirror 3 is formed by depositing a metal oxide on the surface of glass to form a thin film.
In this embodiment, the mirror box 2 is fixedly supported at an angle of 45 ° with respect to the optical axis of the interchangeable lens 1.

【0048】ここで、第1の光束は、銀塩写真方式のフ
ィルムを用いたスチル撮影に用いられるものであり、そ
のための銀塩写真撮像部は、シャッター幕5、フィルム
露光面6等により構成されている。この場合、シャッタ
ー幕5とフィルム露光面6は、ともに第1の光束の光軸
に対して垂直に配置されており、また、フィルム露光面
6を所定位置に配置するため、フィルムは圧板7とフィ
ルムレール8とにより位置決めされる。
Here, the first light flux is used for still photography using a silver salt photographic film, and the silver salt photographic image pickup section for that purpose is composed of a shutter curtain 5, a film exposure surface 6, and the like. Has been done. In this case, the shutter curtain 5 and the film exposure surface 6 are both arranged perpendicularly to the optical axis of the first light flux, and since the film exposure surface 6 is arranged at a predetermined position, the film is formed by the pressure plate 7. It is positioned by the film rail 8.

【0049】また第1実施形態では、従来技術とは異な
り、ハーフミラー3を、交換レンズ1を収容する鏡筒の
後側フランジ面13に接近させて配置している。ここ
で、鏡筒の後側フランジ面13からフィルム露光面6ま
での距離、すなわちフランジバックFBLは、通常、交換
レンズ1を共用できるように同じシリーズの1眼レフカ
メラでは同じ値に設定されるので、この場合、ハーフミ
ラー3はシャッター幕5から離れた位置に配置されるこ
とになる。
Also, in the first embodiment, unlike the prior art, the half mirror 3 is arranged close to the rear flange surface 13 of the lens barrel that houses the interchangeable lens 1. Here, the distance from the rear flange surface 13 of the lens barrel to the film exposure surface 6, that is, the flange back FBL, is usually set to the same value in single-lens reflex cameras of the same series so that the interchangeable lens 1 can be shared. Therefore, in this case, the half mirror 3 is arranged at a position away from the shutter curtain 5.

【0050】また、第2の光束は、CCDイメージセン
サ12に到達して電子写真方式のビデオ撮影に用いられ
る。第2の光束は、その光路上において、コンデンサレ
ンズ9の近傍で一旦空中像を結ぶ。ここで、一般的な1
眼レフカメラ(本実施形態のコンデンサレンズ9以降の
光学系をファインダー光学系に置き替えたカメラ)の場
合には、その位置に焦点板を設けてその上に像を結ばせ
るため、第2の光束の光路上において焦点板の後側に測
光素子を配置し、焦点板に映る像を測光素子の測光面上
に映し出せるように光学系を設ければ、多分割測光を行
うことができる。
The second light flux reaches the CCD image sensor 12 and is used for electrophotographic video photography. The second light flux forms an aerial image once near the condenser lens 9 on its optical path. Where the general 1
In the case of an eye reflex camera (a camera in which the optical system after the condenser lens 9 of the present embodiment is replaced with a finder optical system), a focusing screen is provided at that position and an image is formed on the focusing screen. Multi-division photometry can be performed by disposing a photometric element on the rear side of the focusing plate in the optical path of the light flux and providing an optical system so that an image projected on the focusing plate can be projected on the photometric surface of the photometric element.

【0051】しかし、本実施形態では、第2の光束の光
路上に焦点板を配置するとそこで第2の光束が拡散光と
なってCCDイメージセンサ12で明瞭な撮影が行えな
くなるため、焦点板は設けない。したがって、多分割測
光を行うためには、第2の光束を用いるのではなく、第
1の光束が結像する一次像面(フィルム露光面6である
が、定常測光時には近似的にシャッター幕5が一次像面
となる)を測光範囲としてカバーできる位置に多分割測
光用の測光素子を配設することになる。
However, in the present embodiment, if the focusing plate is arranged on the optical path of the second light flux, the second light flux becomes diffused light there, and the CCD image sensor 12 cannot perform clear photographing. Not provided. Therefore, in order to perform multi-divisional photometry, the second light flux is not used, but the primary image plane on which the first light flux forms an image (the film exposure surface 6), but during steady photometry approximately the shutter curtain 5 Will be the primary image plane), and a photometric element for multi-division photometry will be arranged at a position where it can cover the photometric range.

【0052】なお、特に図示しないが、第2の光束の光
路上においてリレーレンズ11の近傍には、CCDイメ
ージセンサ12に達する光量を調節するために、NDフ
ィルターとリレー絞りが配設されている。
Although not particularly shown, an ND filter and a relay diaphragm are provided near the relay lens 11 on the optical path of the second light flux in order to adjust the amount of light reaching the CCD image sensor 12. .

【0053】また、第1実施形態では、ミラーボックス
2の壁面上においてハーフミラー3とシャッター幕5の
間に測光素子14を配設しているので、定常測光時には
シャッター幕5を、また、フラッシュ調光時にはフィル
ム露光面6を測光範囲としてカバーすることにより、多
分割測光を行うことができる(もちろん、平均測光ある
いはスポット測光を行うことも可能である)。また、ハ
ーフミラー3のシャッター幕5側にはAFミラー4が設
けられており、第1の光束の一部を反射して測距素子1
5に導くことにより測距が行われる。なお、測光素子1
4、測距素子15の前には、それぞれ導かれた光束を測
光面上、測距面上に結像させるために、凸レンズ14
a、15aが設けられている。
Further, in the first embodiment, since the photometric element 14 is disposed between the half mirror 3 and the shutter curtain 5 on the wall surface of the mirror box 2, the shutter curtain 5 and the flash are flashed during steady photometry. At the time of dimming, by covering the film exposure surface 6 as a photometric range, multi-division photometry can be performed (of course, it is also possible to perform average photometry or spot photometry). Further, an AF mirror 4 is provided on the shutter screen 5 side of the half mirror 3 and reflects a part of the first light flux to measure the distance.
Distance measurement is performed by leading to 5. The photometric element 1
4. In front of the distance measuring element 15, a convex lens 14 is provided in order to form the light fluxes respectively guided on the light measuring surface and the distance measuring surface.
a and 15a are provided.

【0054】このような構成において、AFミラー4を
固定的に支持しておくと、第1の光束によるフィルム露
光面6上への実撮影に際して、第1の光束の一部がAF
ミラー4に遮られて、フィルム露光面6上に映る像(第
1の光束による一次像)にAFミラー6の陰が生じるこ
とになる。そのため、第1実施形態では、シャッターが
レリーズされたとき(すなわち、シャッター幕5が開い
てフィルム露光面6が露出したとき)、図示しない手段
によってAFミラー4を第1の光束が通る範囲から退避
させるように構成する。
In such a structure, if the AF mirror 4 is fixedly supported, a part of the first light flux is AF when the actual exposure on the film exposure surface 6 by the first light flux.
The AF mirror 6 is shaded in the image (primary image formed by the first light flux) that is blocked by the mirror 4 and appears on the film exposure surface 6. Therefore, in the first embodiment, when the shutter is released (that is, when the shutter curtain 5 opens and the film exposure surface 6 is exposed), the AF mirror 4 is retracted from the range through which the first light flux passes by means not shown. Configure to allow.

【0055】図2に、多分割測光用の測光素子14の測
光面の一例を示す。このように、測光面は多数の領域1
41に分割されており、その一つ一つの領域141がそ
れぞれ受光した光量に応じた電圧を出力する構成となっ
ている。そのため、上記第1の光束による一次像(フィ
ルム露光面6あるいはシャッター幕5に映った像)をこ
の測光面上に映し出すようにすれば、一次像の各部位毎
に(すなわち、被写体の各部位毎に)、例えば作画的に
重み付けをした測光を容易に行うことができる。
FIG. 2 shows an example of the photometric surface of the photometric element 14 for multi-division photometry. In this way, the photometric surface has many areas 1
It is divided into 41, and each region 141 is configured to output a voltage according to the amount of light received. Therefore, if the primary image (the image exposed on the film exposure surface 6 or the shutter curtain 5) by the first light flux is projected on this photometric surface, each primary image portion (that is, each object portion) Each time), for example, it is possible to easily perform photometry with drawing weighting.

【0056】図3に、第1実施形態の光学系のミラーボ
ックス2を中心とした部分を取り出して示す。本実施形
態では、測光素子14をミラーボックス2内の第2の光
束の伝搬方向と反対側の壁面上に配設している。なお同
図は、測光素子14がシャッター幕5を測光範囲として
カバーしている状態を示している。
FIG. 3 shows a portion of the optical system of the first embodiment centered on the mirror box 2 for extraction. In this embodiment, the photometric element 14 is arranged on the wall surface of the mirror box 2 on the side opposite to the propagation direction of the second light flux. The figure shows a state in which the photometric element 14 covers the shutter curtain 5 as a photometric range.

【0057】このとき、フィルム露光面6は隠れてお
り、測光素子14が受けるのはシャッター幕5で反射さ
れた光であるが、実撮影時にはフィルム露光面6が(さ
らに詳しく言えば、シャッタースピード時間内にフィル
ム露光面6の前でシャッター幕5が動作するため、フィ
ルム露光面6とシャッター幕5とがそれぞれ部分的に)
第1の光束に露光される。
At this time, the film exposure surface 6 is hidden, and the light received by the photometric element 14 is the light reflected by the shutter curtain 5. However, during actual shooting, the film exposure surface 6 (more specifically, shutter speed). (Since the shutter curtain 5 operates in front of the film exposure surface 6 within the time, the film exposure surface 6 and the shutter curtain 5 are partially)
It is exposed to the first light flux.

【0058】そこで、第1実施形態では、シャッター幕
5のハーフミラー3側の反射率をフィルム露光面6の反
射率を略等価にする。これにより、シャッター幕5で反
射される光量と、仮にシャッター幕5を置かずフィルム
露光面6で反射されたときの光量とが略等しくなるの
で、定常測光時にシャッター幕5で反射され測光素子1
4で受光された光量から、なんら補正をしなくても実撮
影時のフィルム露光面6の露光量が正確に分かり、簡単
な構成でより精度の高い測光を行うことができる。
Therefore, in the first embodiment, the reflectance on the half mirror 3 side of the shutter curtain 5 is made substantially equal to the reflectance on the film exposure surface 6. As a result, the amount of light reflected by the shutter curtain 5 and the amount of light when it is reflected by the film exposure surface 6 without the shutter curtain 5 are substantially equal to each other.
From the amount of light received at 4, the exposure amount of the film exposure surface 6 at the time of actual photographing can be accurately known without any correction, and more accurate photometry can be performed with a simple configuration.

【0059】第1実施形態では、ハーフミラー3をシャ
ッター幕5から離して配置しているので、測光素子14
と測距素子15をハーフミラー3とシャッター幕5の間
の広い空間に余裕を持って配置することができる。特
に、測光素子14を、第1の光束による一次像面(フィ
ルム露光面6あるいはシャッター幕5)から離して配置
することができる。
In the first embodiment, since the half mirror 3 is arranged apart from the shutter curtain 5, the photometric element 14
Therefore, the distance measuring element 15 can be arranged with a margin in a wide space between the half mirror 3 and the shutter curtain 5. In particular, the photometric element 14 can be arranged away from the primary image surface (the film exposure surface 6 or the shutter curtain 5) formed by the first light flux.

【0060】すなわち、図12において、従来技術に係
る1眼レフカメラの場合の測光素子14の配置位置をP
2とすると、第1実施形態の場合の測光素子14の配置
位置は(P2よりも一次像面16から離れた位置)P1と
なる。このため、測光素子14の測光範囲としてカバー
される一次像面16上の領域の中心O(第1の光束の光
軸AXと一次像面16との交点)と、測光素子14とを
結ぶ直線が一次像面16となす角θ1が、(従来技術の
場合の角θ2と比べて)垂直に近くなる位置に、測光素
子14を配置できる。
That is, in FIG. 12, the arrangement position of the photometric element 14 in the case of the single-lens reflex camera according to the prior art is indicated by P.
If the number is 2, the arrangement position of the photometric element 14 in the case of the first embodiment is P1 (position farther from the primary image plane 16 than P2). Therefore, a straight line connecting the center O of the area on the primary image plane 16 (the intersection of the optical axis AX of the first light flux and the primary image plane 16) covered by the photometric range of the photometric element 14 to the photometric element 14 The photometric element 14 can be arranged at a position where an angle θ1 formed by the primary image plane 16 is close to vertical (compared to the angle θ2 in the case of the conventional technique).

【0061】したがって、図12の説明で述べた理由か
ら、一次像面16上の領域A1と領域A2に単位面積当た
り同じ光量が当たった場合、それらが反射して測光素子
14に達する光量の差は、従来技術の場合よりも小さ
い。つまり、この場合、測光素子14から見ると、(従
来技術の場合に比べて)領域A1と領域A2の明るさは、
より均一となり、簡単な構成で一次像面16全体に亙る
より正確な測光を行うことができる。
Therefore, for the reason described in the description of FIG. 12, when the same amount of light hits the area A1 and the area A2 on the primary image plane 16 per unit area, the difference in the amount of light reflected by them reaches the photometric element 14. Is smaller than in the prior art. That is, in this case, when viewed from the photometric element 14, the brightness of the areas A1 and A2 (compared to the case of the conventional technique) is
It becomes more uniform, and more accurate photometry can be performed over the entire primary image plane 16 with a simple configuration.

【0062】なお、一次像面16に対して多分割測光を
行う場合、従来技術では、一次像面16上の各領域に対
する測光精度のばらつきを解消するために、測光素子の
測光面上の各領域毎の検知出力に重み付けするという補
正が必要であったが、本実施形態によれば、上記と同じ
理由から、ばらつきそのものが小さくなるので、そのよ
うな補正は極めてやり易くなり、場合によっては補正す
る必要がない。
When performing multi-divisional photometry on the primary image plane 16, in the prior art, in order to eliminate the variation in photometric accuracy for each area on the primary image plane 16, each photometric plane on the photometric element is eliminated. The correction of weighting the detection output for each region was necessary, but according to the present embodiment, for the same reason as described above, the variation itself is small, and therefore such correction is extremely easy to perform, and in some cases, the correction is performed. No need to correct.

【0063】図4に、第1実施形態において第1の光束
による一次像面16上にAFミラー4の陰が生じる様子
を示す。従来技術と同じように第1実施形態でも、ハー
フミラー3の一次像面16側に、ハーフミラー3を透過
した光束の一部を反射して測距素子15に導くAFミラ
ー4が配設されているので、一次像面16上にはこのA
Fミラー4に遮られた陰S1ができる。
FIG. 4 shows how the AF mirror 4 is shaded on the primary image plane 16 by the first light flux in the first embodiment. In the first embodiment as well as in the prior art, the AF mirror 4 is disposed on the primary image surface 16 side of the half mirror 3 to reflect a part of the light flux transmitted through the half mirror 3 and guide it to the distance measuring element 15. Therefore, the A on the primary image plane 16
There is a shadow S1 blocked by the F mirror 4.

【0064】しかしこの場合、ハーフミラー3を透過し
て一次像面16に至る光束は次第に拡がる形となってお
り、第1実施形態では従来技術に比べて、ハーフミラー
3を一次像面16から離して配置しているので、AFミ
ラー4を一次像面16から離して配置することができ
る。したがって、その分、AFミラー4を小さくするこ
とができ、測光素子14により測光範囲としてカバーさ
れる面積のうちAFミラー4によって蹴られる部分が小
さくなるので、測光精度は改善される。
However, in this case, the light flux which has passed through the half mirror 3 and reaches the primary image plane 16 is gradually expanded. In the first embodiment, the half mirror 3 is moved from the primary image plane 16 to the primary image plane 16 as compared with the prior art. Since they are arranged apart from each other, the AF mirror 4 can be arranged apart from the primary image plane 16. Therefore, the AF mirror 4 can be made smaller by that amount, and the part of the area covered by the photometric element 14 as the photometric range is reduced by the AF mirror 4, and the photometric accuracy is improved.

【0065】以上のような構成において、第1実施形態
の銀塩写真撮像部のフィルムのフォーマットには、広く
用いられている135システムを採用している。135
システムのフィルムの露光エリアは、通常撮影時は3
6.0mm×24.0mmであり、パノラマ撮影時は3
6.0mm×15.0mmである。
In the above-mentioned structure, the widely used 135 system is adopted as the film format of the silver salt photographic image pickup portion of the first embodiment. 135
The film exposure area of the system is 3 for normal shooting.
The size is 6.0 mm x 24.0 mm, and 3 for panoramic shooting.
It is 6.0 mm × 15.0 mm.

【0066】また、フィルムフォーマットとして、特開
平7−84309号公報で提案されている16:9,
2:3,1:3の3つのフォーマットを持つフィルムシ
ステムを用いることもできる。これは、135システム
のフィルムと比べて露光エリアが小さいものであり、こ
れに対応したカメラではミラーボックスのサイズが小さ
くなるため、本実施形態のようにハーフミラーをシャッ
ター幕から離して配置することによりハーフミラーとシ
ャッター幕の間を広くすると、測光素子や測距素子を余
裕を持って配置できるので有利である。
As a film format, 16: 9, which is proposed in Japanese Patent Laid-Open No. 7-84309,
It is also possible to use a film system having three formats of 2: 3 and 1: 3. This is because the exposure area is smaller than that of the film of the 135 system, and the size of the mirror box becomes smaller in a camera corresponding to this, so the half mirror should be arranged away from the shutter curtain as in the present embodiment. Therefore, widening the space between the half mirror and the shutter curtain is advantageous because the photometry element and the distance measurement element can be arranged with a margin.

【0067】ここで、ハーフミラー3をどの程度シャッ
ター幕5から離すことができるかを説明する。図5は、
ミラーボックス2内でハーフミラー3をどの程度動かせ
るかを示すために、ミラーボックス2を第1の光束の光
軸と第2の光束の光軸とに垂直な方向から眺めた概略図
である。この場合、ハーフミラー3は、第1の光束に対
して45゜傾けて配置されている。
Here, how far the half mirror 3 can be separated from the shutter curtain 5 will be described. FIG.
FIG. 3 is a schematic view of the mirror box 2 viewed from a direction perpendicular to the optical axes of the first light flux and the second light flux in order to show how much the half mirror 3 can be moved within the mirror box 2. In this case, the half mirror 3 is arranged at an angle of 45 ° with respect to the first light flux.

【0068】ここで、FBLはフランジバック(すなわ
ち、フランジ面13とフィルム露光面6との距離)、κ
はフランジ面13とシャッター幕5の対物側面との距
離、FSLはフィルム露光面の紙面に平行な平面内での距
離(一般には、フィルム露光面の短辺長)、SLはフィ
ルム露光面6とシャッター幕5の対物側面との距離であ
る。なお、以下図5の説明で言及する上下左右の方向
は、同図における上下左右の方向を指すものとする。ま
た、シャッター幕5の対物側面の中心、下端をそれぞれ
O、Pとする。
Here, F BL is the flange back (that is, the distance between the flange surface 13 and the film exposure surface 6), κ
Is the distance between the flange surface 13 and the objective side surface of the shutter curtain 5, F SL is the distance in a plane parallel to the paper surface of the film exposure surface (generally the short side length of the film exposure surface), and S L is the film exposure surface. 6 is the distance between the shutter curtain 5 and the objective side surface. Note that the up, down, left, and right directions referred to in the description of FIG. 5 below refer to the up, down, left, and right directions in the figure. Further, the center and the lower end of the objective side surface of the shutter curtain 5 are O and P, respectively.

【0069】そうすると、ハーフミラー3をその下端が
フランジ面13に接触するまで近付けたとき、ハーフミ
ラー3の下端、中心及び上端は、それぞれK1、L1及び
1となる。このとき、第2の光束による一次像17の
左端、右端は、それぞれI1、J1となる。また、ハーフ
ミラー3をその上端がシャッター幕5に接触するまで近
付けたとき、ハーフミラー3の下端、中心及び上端は、
それぞれK2、L2及びM2となり、第2の光束による一
次像面の左端、右端は、それぞれI2、J2となる。
Then, when the half mirror 3 is brought close to the flange surface 13 until its lower end comes into contact, the lower end, the center and the upper end of the half mirror 3 become K 1 , L 1 and M 1 , respectively. At this time, the left end and the right end of the primary image 17 formed by the second light flux become I 1 and J 1 , respectively. Further, when the half mirror 3 is brought close to the shutter curtain 5 at its upper end, the lower end, center and upper end of the half mirror 3 are
These are K 2 , L 2 and M 2 , respectively, and the left and right ends of the primary image plane of the second light flux are I 2 and J 2 , respectively.

【0070】したがって、ハーフミラー3の光分割面と
第1の光束の光軸の交点と、シャッター幕5の対物側面
との間の距離(すなわち図5では、ハーフミラー3の中
心と点Oとの間の距離)をaとした場合、aの可動量は
距離L12すなわち距離K12となり、距離K2PがF
SLに等しいことを考慮すると、 (aの可動量)=κ−FSL ……(1) となる。この範囲で、ハーフミラー3の下端がK1から
2まで、また同時に、上端がM1からM2まで移動する
と、第2の光束による一次像17の左端はI1からI2
で、またその右端はJ1からJ2まで移動する。
Therefore, the distance between the intersection of the light splitting surface of the half mirror 3 and the optical axis of the first light beam and the side surface of the objective of the shutter curtain 5 (that is, the center of the half mirror 3 and the point O in FIG. 5). Distance) is a, the movable amount of a is the distance L 1 L 2, that is, the distance K 1 K 2 , and the distance K 2 P is F.
Considering that it is equal to SL , (amount of movement of a) = κ−F SL (1) In this range, when the lower end of the half mirror 3 moves from K 1 to K 2 and at the same time the upper end moves from M 1 to M 2 , the left end of the primary image 17 by the second light flux is from I 1 to I 2 , and Its right edge moves from J 1 to J 2 .

【0071】また、aの最小値amin、最大値amaxは、
それぞれ以下のようになる; amin=(距離OL2)=FSL/2 ……(2), amax=amin+(aの可動量) =κ−FSL/2 ……(3).
The minimum value amin and the maximum value amax of a are
They are as follows; amin = (distance OL2) = F SL / 2 (2), amax = amin + (movable amount of a) = κ-F SL / 2 (3).

【0072】ところで、aを余り大きくしてamaxに近
付けると、ハーフミラー3の下端がフランジ面13に近
付き過ぎ、例えばフランジ面13のシャッター幕5側に
レンズ等が飛び出して設けられている場合、第2の光束
による一次像17にその陰が生じ、その結果、第2の光
束による撮像に際して映らない部分ができるので好まし
くない。一方、aを小さくすると、ハーフミラー3とシ
ャッター幕5との間に配設される測光素子の配置位置が
シャッター幕5に近付くこととなり、既に述べたように
測光精度に支障が生じる。
By the way, when a is made too large to approach amax, the lower end of the half mirror 3 comes too close to the flange surface 13 and, for example, when a lens or the like is provided on the shutter curtain 5 side of the flange surface 13, It is not preferable because the primary image 17 due to the second light flux is shaded, and as a result, there is a portion that is not visible during imaging with the second light flux. On the other hand, if a is made smaller, the position of the photometric element disposed between the half mirror 3 and the shutter curtain 5 will be closer to the shutter curtain 5, and as described above, the photometric accuracy will be impaired.

【0073】実際、従来技術ではaを大きくしたものは
なく、その結果、測光素子の測光精度に問題が生じ易い
構成となっていた。そこで、本発明の第1実施形態で
は、aの範囲として、具体的に、以下の範囲を設定す
る; 31/2・FSL/2<a<κ−FSL/2(=amax) ……(4).
In fact, in the prior art, there is no one in which a is increased, and as a result, a problem is likely to occur in the photometric accuracy of the photometric element. Therefore, in the first embodiment of the present invention, the following range is specifically set as the range of a: 3 1/2 · F SL / 2 <a <κ−F SL / 2 (= amax) ... …(Four).

【0074】aをこの範囲に設定することにより、より
確実にハーフミラー3とシャッター幕5との間を広くす
ることができ、測光素子をシャッター幕5から離して配
置することができることになり、測光素子と点Oを結ぶ
直線がシャッター幕5となす角が垂直に近くなるので、
既に述べた理由から、シャッター幕5全域に亙る正確な
測光が行える。
By setting a in this range, the distance between the half mirror 3 and the shutter curtain 5 can be increased more reliably, and the photometric element can be arranged away from the shutter curtain 5. Since the angle between the line connecting the photometric element and the point O and the shutter curtain 5 is close to vertical,
For the reasons already described, accurate photometry can be performed over the entire shutter curtain 5.

【0075】なお、aを式(4)の下限値としたときのハ
ーフミラー3の下端、中心及び上端をそれぞれK3、L3
及びM3とすると、 (距離PL3)=(距離L32)=(距離PM2)=FSL ……(5) である。また、式(4)によるハーフミラー3の可在範囲
は斜線で示した平行四辺形K1331であり、これに
対応して、第2の光束による一次像17の可在範囲は、
斜線で示した平行四辺形I1331となる。
The lower end, the center and the upper end of the half mirror 3 when K is the lower limit of the equation (4) are K 3 and L 3 respectively.
And When M 3, which is (distance PL 3) = (distance L 3 M 2) = (Distance PM 2) = F SL ...... ( 5). Further, the possible range of the half mirror 3 according to the equation (4) is a parallelogram K 1 K 3 M 3 M 1 shown by the diagonal lines, and correspondingly, the possible presence of the primary image 17 by the second light flux is The range is
It becomes a parallelogram I 1 I 3 J 3 J 1 shown by hatching.

【0076】次に、図6を参照しながら第2実施形態を
説明する。同図は、本実施形態におけるミラーボックス
2を中心とした部分の光学系の構成図であり、測光素子
14がシャッター幕5を測光範囲としてカバーしている
状態を示している。なお、本実施形態に係る光学系全体
の構成は、測距素子の配置位置を除いて、図1に示した
第1実施形態の場合と同じなので、その説明は省略す
る。また、図2及び図5も第1実施形態と同様に用いら
れるが、その説明も省略する。
Next, the second embodiment will be described with reference to FIG. This figure is a block diagram of the optical system of the portion centering on the mirror box 2 in the present embodiment, and shows a state in which the photometric element 14 covers the shutter curtain 5 as a photometric range. The configuration of the entire optical system according to the present embodiment is the same as that of the first embodiment shown in FIG. 1 except for the arrangement position of the distance measuring element, and therefore the description thereof will be omitted. 2 and 5 are also used in the same manner as in the first embodiment, the description thereof will be omitted.

【0077】図6に示すように、第2実施形態では、測
光素子14と、第1の光束による一次像をその測光面上
に映し出す凸レンズ14aとを、ミラーボックス2の第
2の光束の伝搬方向側の壁面上に配設している。また、
ハーフミラー3をシャッター幕5から離して配置してい
る。但し、この場合、第1実施形態と比べて、シャッタ
ー幕5から測光素子14に至る光束がAFミラー4に遮
られるのを容易かつ確実に避けることができるので、そ
の分、測光精度を改善することができる。
As shown in FIG. 6, in the second embodiment, the photometric element 14 and the convex lens 14a for projecting the primary image of the first luminous flux on its photometric surface are used to propagate the second luminous flux of the mirror box 2. It is arranged on the wall on the direction side. Also,
The half mirror 3 is arranged apart from the shutter curtain 5. However, in this case, as compared with the first embodiment, it is possible to easily and surely prevent the light flux reaching the photometric element 14 from the shutter curtain 5 from being blocked by the AF mirror 4, so that the photometric accuracy is improved accordingly. be able to.

【0078】次に、図7及び図8を参照しながら第3実
施形態を説明する。なお、本実施形態に係る光学系全体
の構成は、測距素子と測光素子の配置位置を除いて、図
1に示した第1実施形態の場合と同じなので、その説明
は省略する。また、図2及び図5も第1実施形態と同様
に用いられるが、その説明も省略する。ここで、図7及
び図8は、それぞれ、本実施形態におけるミラーボック
ス2を中心とした部分の光学系を第1の光束の光軸と第
2の光束の光軸とに垂直な方向から眺めた構成図、及び
同じ部分を第2の光束の光軸方向から眺めた構成図であ
り、ともに測光素子14がシャッター幕5を測光範囲と
してカバーしている状態を示している。
Next, a third embodiment will be described with reference to FIGS. 7 and 8. The configuration of the entire optical system according to the present embodiment is the same as that of the first embodiment shown in FIG. 1 except for the arrangement positions of the distance measuring element and the photometric element, and therefore the description thereof will be omitted. 2 and 5 are also used in the same manner as in the first embodiment, the description thereof will be omitted. Here, FIG. 7 and FIG. 8 respectively show the optical system of the portion centering on the mirror box 2 in the present embodiment viewed from a direction perpendicular to the optical axes of the first light flux and the second light flux. 6A and 6B are configuration diagrams in which the same portion is viewed from the optical axis direction of the second light flux, and both show a state in which the photometric element 14 covers the shutter curtain 5 as a photometric range.

【0079】図7に示すように、第3実施形態では第1
実施形態と同じく、測光素子14と測距素子15とを、
ともにミラーボックス2の第2の光束の伝搬方向と反対
側の壁面上に配設している。但し、第1実施形態とは異
なり、第2の光束の光軸方向から眺めたとき、ハーフミ
ラー3からシャッター幕5に向かって、測距素子15、
測光素子14の順に配列している。この配列により、第
1実施形態と比べて、シャッター幕5から測光素子14
に至る光束がAFミラー4に遮られるのを容易かつ確実
に避けることができるので、その分、測光精度を改善す
ることができる。
As shown in FIG. 7, in the third embodiment, the first
As in the embodiment, the photometric element 14 and the distance measuring element 15 are
Both are arranged on the wall surface of the mirror box 2 opposite to the propagation direction of the second light flux. However, unlike the first embodiment, when viewed from the optical axis direction of the second light flux, the distance measuring element 15, from the half mirror 3 toward the shutter curtain 5,
The photometric elements 14 are arranged in this order. With this arrangement, as compared with the first embodiment, the shutter curtain 5 to the photometric element 14 are compared.
Since it is possible to easily and surely prevent the light flux reaching the above from being blocked by the AF mirror 4, it is possible to improve the photometric accuracy accordingly.

【0080】この場合、測光素子14をシャッター幕5
から離して配置すると、第2の光束の光軸方向から眺め
たとき測距素子15の配置位置がAFミラー4よりも交
換レンズ1側となるので、AFミラー4は、第1の光束
を第2の光束の光軸よりも交換レンズ1側に傾いた方向
に反射するように構成する。同時に、測距素子15を配
置する場所が狭くなるので、AFミラー4で反射した光
束が凸レンズ15aを通った後、反射ミラー15bで反
射されて測距素子15の測距面に至るようにしている。
In this case, the photometric element 14 is attached to the shutter curtain 5.
When it is arranged away from the second light flux, the distance measuring element 15 is located closer to the interchangeable lens 1 side than the AF mirror 4 when viewed from the optical axis direction of the second light flux, so that the AF mirror 4 changes the first light flux to the first light flux. The second light flux is configured to be reflected in a direction inclined to the interchangeable lens 1 side with respect to the optical axis. At the same time, since the location of the distance measuring element 15 is narrowed, the light flux reflected by the AF mirror 4 passes through the convex lens 15a and then is reflected by the reflecting mirror 15b to reach the distance measuring surface of the distance measuring element 15. There is.

【0081】またこのとき、図8に示すように、測光素
子14と測距素子15(同図では、測光素子14、測距
素子15のそれぞれの前に置かれる凸レンズ14a、1
5aを示している)を、第2の光束の光軸方向から眺め
たとき、ともに第1の光束の光軸の近傍となるように配
置している。これにより、第2の光束の光軸方向から眺
めたとき、測光素子14は、第1の光束の光軸の両側の
領域に対して同じ角度で臨むことになるので、例えばそ
れぞれの領域に単位面積当たり同じ光量が当たった場
合、それらが反射して測光素子14に達する光量は等し
くなる。したがって、シャッター幕5全体に亙るより正
確な測光を行うことができる。
At this time, as shown in FIG. 8, the photometric element 14 and the distance measuring element 15 (in the figure, the convex lenses 14a, 1a placed in front of the photometric element 14 and the distance measuring element 15 respectively)
5a) is arranged so as to be near the optical axis of the first light flux when viewed from the optical axis direction of the second light flux. As a result, when viewed from the optical axis direction of the second light flux, the photometric element 14 faces the regions on both sides of the optical axis of the first light flux at the same angle. When the same amount of light hits the area, the amount of light reflected by them reaches the photometric element 14 becomes equal. Therefore, more accurate photometry can be performed over the entire shutter curtain 5.

【0082】最後に、図9及び図10を参照しながら第
4実施形態を説明する。なお、本実施形態に係る光学系
全体の構成は、測距素子と測光素子の配置位置を除い
て、図1に示した第1実施形態の場合と同じなので、そ
の説明は省略する。また、図2及び図5も第1実施形態
と同様に用いられるが、その説明も省略する。ここで、
図9及び図10は、それぞれ、本実施形態におけるミラ
ーボックス2を中心とした部分の光学系を第1の光束の
光軸と第2の光束の光軸とに垂直な方向から眺めた構成
図、及び同じ部分を第2の光束の光軸方向から眺めた構
成図であり、ともに測光素子14がシャッター幕5を測
光範囲としてカバーしている状態を示している。
Finally, the fourth embodiment will be described with reference to FIGS. 9 and 10. The configuration of the entire optical system according to the present embodiment is the same as that of the first embodiment shown in FIG. 1 except for the arrangement positions of the distance measuring element and the photometric element, and therefore the description thereof will be omitted. 2 and 5 are also used in the same manner as in the first embodiment, the description thereof will be omitted. here,
9 and 10 are configuration diagrams in which the optical system of the portion centering on the mirror box 2 in the present embodiment is viewed from a direction perpendicular to the optical axes of the first light flux and the second light flux. , And the same portion viewed from the optical axis direction of the second light flux, both showing a state in which the photometric element 14 covers the shutter curtain 5 as a photometric range.

【0083】図9及び図10に示すように、第4実施形
態では、測距素子15はミラーボックス2の第2の光束
の伝搬方向と反対側の壁面上に配設しているが、測光素
子14、14は第1の光束の光軸と第2の光束の光軸と
に平行な2つの壁面上に1対配設している。そして、そ
れぞれの測光素子14、14は、第2の光束の光軸方向
から眺めたとき第1の光束の光軸によって分けられるシ
ャッター幕5の2つの領域の内それぞれに近い方全域
と、遠い方の領域の一部とを、測光範囲としてカバーし
ている。
As shown in FIGS. 9 and 10, in the fourth embodiment, the distance measuring element 15 is arranged on the wall surface of the mirror box 2 opposite to the propagation direction of the second light beam. The elements 14 and 14 are arranged in pairs on two wall surfaces parallel to the optical axis of the first light flux and the optical axis of the second light flux. Each of the photometric elements 14 and 14 is located near and away from each of the two areas of the shutter curtain 5 divided by the optical axis of the first light flux when viewed from the optical axis direction of the second light flux. A part of the other area is covered as a photometric range.

【0084】測光素子14、14をこのように構成、配
置することにより、それぞれの測光素子14の測光範囲
の中心と測光素子14とを結ぶ直線が、シャッター幕5
に対して、(従来技術や第1〜第3実施形態の場合と比
べて)垂直に近い角度で交わることになるので、例えば
各測光素子14の測光範囲全域に亙って単位面積当たり
同じ光量が当たったとき、その測光素子14から見ると
測光範囲の各部位の明るさがより均一となる。したがっ
て、2つの測光素子14、14を協働させることによ
り、シャッター幕5全域に亙るより正確な測光を行うこ
とができる。
By configuring and arranging the photometric elements 14 and 14 in this way, a straight line connecting the center of the photometric range of each photometric element 14 and the photometric element 14 is formed.
On the other hand, since they intersect at an angle close to vertical (compared with the case of the related art or the first to third embodiments), for example, the same light amount per unit area over the entire photometric range of each photometric element 14. When it hits, the brightness of each part of the photometric range becomes more uniform when viewed from the photometric element 14. Therefore, by cooperating the two photometric elements 14, 14, more accurate photometry can be performed over the entire area of the shutter curtain 5.

【0085】なお、第4実施形態では、測光素子を第1
の光束の光軸と第2の光束の光軸とに平行な2つの壁面
上に1対配設しているが、その数を1つとし、前記2つ
の壁面のいずれかの上に配設することもできる。その場
合、測光範囲の中心はシャッター幕の中心となり、測光
範囲の中心と測光素子とを結ぶ直線が、シャッター幕に
対して、上記測光素子を2つ配設した場合よりも小さい
角度で交わることになるが、ハーフミラーをシャッター
幕から離して配置することにより、従来技術の場合より
は、その角度が垂直に近くなるので、上記と同じ理由か
ら、従来技術に比べるとシャッター幕全域に亙るより正
確な測光を行うことができる。
In the fourth embodiment, the photometric element is the first
A pair is provided on two wall surfaces that are parallel to the optical axis of the luminous flux and the optical axis of the second luminous flux, and the number is one, and the pair is provided on either of the two wall surfaces. You can also do it. In that case, the center of the photometric range becomes the center of the shutter curtain, and the straight line connecting the center of the photometric range and the photometric element should intersect the shutter curtain at a smaller angle than when two above-mentioned photometric elements are arranged. However, by arranging the half mirror away from the shutter curtain, the angle becomes closer to vertical than in the case of the conventional technology. Accurate photometry can be performed.

【0086】[0086]

【発明の効果】以上説明したように、請求項1の発明に
よれば、例えば第1の光束としてシャッター幕全域に亙
って単位面積当たり同じ光量が当たった場合、測光素子
から見ると、シャッター幕の各部位の明るさが均一に近
くなるので、簡単な構成でシャッター幕全体に亙るより
正確な測光を行うことができる。また、多分割測光を行
う場合には、シャッター幕上の各領域に対する測光精度
のばらつきを解消するために、測光素子の測光面上の各
領域毎の検知出力に重み付けするという補正が極めてや
り易くなり、場合によっては補正する必要がない。
As described above, according to the first aspect of the present invention, for example, when the same amount of light per unit area hits the entire shutter curtain as the first light flux, the shutter is seen from the photometric element. Since the brightness of each part of the curtain becomes nearly uniform, it is possible to perform more accurate photometry over the entire shutter curtain with a simple configuration. In addition, when performing multi-division photometry, it is extremely easy to perform correction by weighting the detection output of each area on the photometric surface of the photometric element in order to eliminate variations in photometric accuracy for each area on the shutter curtain. There is no need to correct in some cases.

【0087】請求項2によるときは、確実に光分割器と
シャッター幕との間の距離を広くすることができ、測光
手段の測光範囲としてカバーされるシャッター幕上の領
域の中心と測光手段とを結ぶ直線がシャッター幕となす
角が垂直に近くなる位置に測光手段を配置できるので、
例えば第1の光束としてシャッター幕全域に亙って単位
面積当たり同じ光量が当たった場合、測光素子から見る
と、シャッター幕の各部位の明るさが均一に近くなる。
したがって、簡単な構成でシャッター幕全体に亙ってよ
り正確な測光を確実に行うことができる。
According to the present invention, the distance between the light splitter and the shutter curtain can be surely widened, and the center of the area on the shutter curtain covered by the photometric range of the photometric means and the photometric means. The photometric means can be placed at a position where the straight line connecting the lines with the shutter curtain is close to vertical.
For example, when the same amount of light per unit area strikes the entire shutter curtain as the first light flux, the brightness of each part of the shutter curtain becomes nearly uniform when viewed from the photometric element.
Therefore, more accurate photometry can be reliably performed over the entire shutter curtain with a simple configuration.

【0088】請求項3によるときは、1つの主光学系か
ら入射した光が分割された後、2つの撮像手段に導かれ
て独立に撮像に用いられるので、1台で銀塩写真方式の
撮像手段部と、それとは別の方式の撮像手段とを備えた
画像撮影装置を構成することができる。
According to the third aspect, the light incident from one main optical system is split and then guided to two image pickup means to be independently used for image pickup. It is possible to configure an image capturing device that includes a means unit and an image pickup unit of a method different from that.

【0089】請求項4によるときは、第2撮像手段で、
例えばビデオ撮影を行うことができ、第1撮像手段とと
もに用いれば、ビデオムービーと銀塩写真が同時に撮影
できる同時撮影モード、銀塩撮影ができる銀塩撮影モー
ド、ビデオムービーが撮影できるビデオ撮影モード、ビ
デオ静止画が撮影できるスチルビデオ撮影モード等を設
定して利用することができる。
According to claim 4, in the second image pickup means,
For example, video shooting can be performed, and when used together with the first imaging means, a simultaneous shooting mode in which a video movie and a silver salt picture can be taken simultaneously, a silver salt shooting mode in which a silver salt picture can be taken, a video shooting mode in which a video movie can be taken, It is possible to set and use a still video shooting mode or the like that can shoot video still images.

【0090】請求項5によるときは、定常測光時にシャ
ッター幕で反射される光量と、仮にシャッター幕を置か
ずフィルム露光面で反射されたときの光量とが略等しく
なるので、定常測光時にシャッター幕で反射され測光素
子で受光された光量から、なんら補正をしなくても実撮
影時のフィルム露光面の露光量が正確に分かり、簡単な
構成でより精度の高い測光を行うことができる。
According to the present invention, since the amount of light reflected by the shutter curtain during steady photometry is substantially equal to the amount of light reflected by the film exposure surface without the shutter curtain, the shutter curtain is displayed during steady photometry. From the amount of light reflected by the photometering device and received by the photometric element, the exposure amount of the film exposure surface at the time of actual photographing can be accurately known without any correction, and more accurate photometry can be performed with a simple configuration.

【0091】請求項6によるときは、第1撮像手段によ
るフィルムのフォーマットは広く用いられているものと
なり、入手し易いフィルムを用いて銀塩写真撮像を行う
ことができる。
According to the sixth aspect, the format of the film by the first image pickup means is widely used, and the silver salt photograph can be picked up by using an easily available film.

【0092】請求項7によるときは、光分割器により得
られた第1の光束を用いて、測光とともに測距が行われ
るので、測距を行うために主光学系の外に別途光学系を
設ける必要がない。また、光分割器をシャッター幕から
離して配置しているので、従来技術の場合よりもミラー
をシャッター幕から離して配置することができる。その
場合、ミラーを小さくすることができ、測光手段により
測光範囲としてカバーされる面積のうちミラーによって
蹴られる部分が小さくなるので、測光精度が改善され
る。
According to the seventh aspect, since the distance measurement is performed together with the light measurement using the first light flux obtained by the light splitter, an additional optical system is provided outside the main optical system to perform the distance measurement. No need to provide. Further, since the light splitter is arranged away from the shutter curtain, the mirror can be arranged farther from the shutter curtain than in the case of the conventional technique. In that case, the mirror can be made smaller, and the portion of the area covered by the photometric means as the photometric range that is kicked by the mirror is reduced, so that photometric accuracy is improved.

【0093】請求項8によるときは、光分割器をシャッ
ター幕から離しているので、従来技術の場合よりも、測
光手段の測光範囲としてカバーされるシャッター幕上の
領域の中心と測光手段とを結ぶ直線がシャッター幕とな
す角が垂直に近くなる位置に測光手段を配置するのが容
易となる。したがって、例えば第1の光束としてシャッ
ター幕全域に亙って単位面積当たり同じ光量が当たった
場合、測光素子から見ると、シャッター幕の各部位の明
るさが均一に近くなるので、簡単な構成でシャッター幕
全体に亙るより正確な測光を行うことができる。
According to the eighth aspect, since the light splitter is separated from the shutter curtain, the center of the area on the shutter curtain covered as the photometric range of the photometric means and the photometric means are more than those in the prior art. It becomes easy to dispose the photometric means at a position where the connecting straight line and the shutter curtain form an angle close to vertical. Therefore, for example, when the same amount of light per unit area hits the entire shutter curtain as the first light flux, the brightness of each part of the shutter curtain becomes close to uniform as seen from the photometric element. More accurate photometry is possible over the entire shutter curtain.

【0094】請求項9によるときは、光分割器をシャッ
ター幕から離しているので、従来技術の場合よりも、測
光手段の測光範囲としてカバーされるシャッター幕上の
領域の中心と測光手段とを結ぶ直線がシャッター幕とな
す角が垂直に近くなる位置に測光手段を配置するのが容
易となる。したがって、例えば第1の光束としてシャッ
ター幕全域に亙って単位面積当たり同じ光量が当たった
場合、測光素子から見ると、シャッター幕の各部位の明
るさが均一に近くなるので、簡単な構成でシャッター幕
全体に亙るより正確な測光を行うことができる。しか
も、シャッター幕から測光手段に至る光束がミラーに遮
られることのない位置に、測光手段が配設されるので、
その分、測光精度を改善することができる。
According to the ninth aspect, since the light splitter is separated from the shutter curtain, the center of the area on the shutter curtain covered as the photometric range of the photometric means and the photometric means are more provided than in the case of the prior art. It becomes easy to dispose the photometric means at a position where the connecting straight line and the shutter curtain form an angle close to vertical. Therefore, for example, when the same amount of light per unit area hits the entire shutter curtain as the first light flux, the brightness of each portion of the shutter curtain becomes close to uniform as seen from the photometric element. More accurate photometry is possible over the entire shutter curtain. Moreover, since the light measuring means is arranged at a position where the light flux from the shutter curtain to the light measuring means is not blocked by the mirror,
The photometric accuracy can be improved accordingly.

【0095】請求項10によるときは、光分割器をシャ
ッター幕から離しているので、従来技術の場合よりも、
測光手段の測光範囲としてカバーされるシャッター幕上
の領域の中心と測光手段とを結ぶ直線がシャッター幕と
なす角が垂直に近くなる位置に測光手段を配置するのが
容易となる。したがって、例えば第1の光束としてシャ
ッター幕全域に亙って単位面積当たり同じ光量が当たっ
た場合、測光素子から見ると、シャッター幕の各部位の
明るさが均一に近くなるので、簡単な構成でシャッター
幕全体に亙るより正確な測光を行うことができる。
According to the tenth aspect of the present invention, since the light splitter is separated from the shutter curtain, it is more difficult than the prior art.
It becomes easy to dispose the photometric means at a position where the straight line connecting the center of the area on the shutter curtain covered as the photometric range of the photometric means and the photometric means forms an angle near the vertical with the shutter curtain. Therefore, for example, when the same amount of light per unit area hits the entire shutter curtain as the first light flux, the brightness of each part of the shutter curtain becomes close to uniform as seen from the photometric element. More accurate photometry is possible over the entire shutter curtain.

【0096】請求項11によるときは、それぞれの測光
素子は、第2の光束の光軸方向から眺めたとき第1の光
束の光軸によって分けられるシャッター幕の2つの領域
の内それぞれに近い方全域と、遠い方の領域の一部と
を、測光範囲としてカバーするようにすれば、請求項1
0の場合に比べて、それぞれの測光素子の測光範囲の中
心と測光素子とを結ぶ直線とシャッター幕がなす角がよ
り垂直に近くなる。したがって、例えば第1の光束とし
てシャッター幕全域に亙って単位面積当たり同じ光量が
当たった場合、測光素子から見ると、シャッター幕の各
部位の明るさがより均一に近くなるので、簡単な構成で
シャッター幕全体に亙るより正確な測光を行うことがで
きる。
According to the eleventh aspect, each photometric element is closer to each of the two regions of the shutter curtain divided by the optical axis of the first light flux when viewed from the optical axis direction of the second light flux. The entire area and a part of the far area are covered as a photometric range.
Compared with the case of 0, the angle formed by the shutter curtain and the straight line connecting the center of the photometric range of each photometric element and the photometric element becomes closer to vertical. Therefore, for example, when the same amount of light per unit area hits the entire shutter curtain as the first light flux, the brightness of each part of the shutter curtain becomes more uniform as viewed from the photometric element, so that a simple configuration is achieved. With, you can perform more accurate photometry over the entire shutter curtain.

【0097】請求項12によるときは、第2の光束の光
軸方向から眺めたとき、測光手段は、第1の光束の光軸
の両側の領域に対して同じ角度で臨むことになるので、
例えばそれぞれの領域に単位面積当たり同じ光量が当た
った場合、それらが反射して測光手段に達する光量は等
しくなる。したがって、シャッター幕全体に亙るより正
確な測光を行うことができる。
According to the twelfth aspect, when viewed from the optical axis direction of the second light flux, the photometric means faces the regions on both sides of the optical axis of the first light flux at the same angle.
For example, when the same amount of light hits each area per unit area, the amount of light reflected by them reaches the photometric means becomes equal. Therefore, more accurate photometry can be performed over the entire shutter curtain.

【0098】請求項13によるときは、シャッター幕か
ら測光手段に至る光束がミラーに遮られるのを容易かつ
確実に避けることができる。したがって、その分、シャ
ッター幕全域の内、測光範囲として有効に利用できる面
積が大きくなるので、測光精度が改善される。
According to the thirteenth aspect, the light flux from the shutter curtain to the photometric means can be easily and surely prevented from being blocked by the mirror. Therefore, the area that can be effectively used as the photometric range in the entire shutter curtain is increased accordingly, and the photometric accuracy is improved.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】 第1実施形態に係るビデオカメラつきスチル
カメラの光学系全体の概略構成図。
FIG. 1 is a schematic configuration diagram of an entire optical system of a still camera with a video camera according to a first embodiment.

【図2】 多分割測光用の測光素子の測光面の一例を示
す図。
FIG. 2 is a diagram showing an example of a photometric surface of a photometric element for multi-division photometry.

【図3】 第1実施形態の光学系のミラーボックス2を
中心とした部分の概略構成図。
FIG. 3 is a schematic configuration diagram of a portion centering on a mirror box 2 of the optical system of the first embodiment.

【図4】 第1実施形態において第1の光束による一次
像面上にAFミラーの陰が生じる様子を示す図。
FIG. 4 is a diagram showing how the shadow of the AF mirror is generated on the primary image plane by the first light flux in the first embodiment.

【図5】 ミラーボックス内でハーフミラーをどの程度
動かせるかを示すために、ミラーボックスを第1の光束
の光軸と第2の光束の光軸とに垂直な方向から眺めた概
略図。
FIG. 5 is a schematic view of the mirror box viewed from a direction perpendicular to the optical axes of the first light flux and the second light flux in order to show how much the half mirror can be moved within the mirror box.

【図6】 第2実施形態の光学系のミラーボックス2を
中心とした部分の概略構成図。
FIG. 6 is a schematic configuration diagram of a portion centering on a mirror box 2 of the optical system of the second embodiment.

【図7】 第3実施形態におけるミラーボックスを中心
とした部分の光学系を第1の光束の光軸と第2の光束の
光軸とに垂直な方向から眺めた概略構成図。
FIG. 7 is a schematic configuration diagram of an optical system of a portion centered on a mirror box in the third embodiment as viewed from a direction perpendicular to an optical axis of a first light flux and an optical axis of a second light flux.

【図8】 図7と同じ部分を第2の光束の光軸方向から
眺めた概略構成図。
8 is a schematic configuration diagram in which the same portion as FIG. 7 is viewed from the optical axis direction of the second light flux.

【図9】 第4実施形態におけるミラーボックスを中心
とした部分の光学系を第1の光束の光軸と第2の光束の
光軸とに垂直な方向から眺めた概略構成図。
FIG. 9 is a schematic configuration diagram of an optical system of a portion centering on a mirror box in the fourth embodiment as viewed from a direction perpendicular to an optical axis of a first light flux and an optical axis of a second light flux.

【図10】 図9と同じ部分を第2の光束の光軸方向か
ら眺めた概略構成図。
FIG. 10 is a schematic configuration diagram of the same portion as FIG. 9 viewed from the optical axis direction of the second light flux.

【図11】 従来の1眼レフカメラのミラーボックスを
中心とした部分の光学系の概略構成図。
FIG. 11 is a schematic configuration diagram of an optical system of a part centering on a mirror box of a conventional single-lens reflex camera.

【図12】 ミラーボックス内における測光素子の配置
位置に応じて、第1の光束の光軸と一次像面の交点と測
光素子とを結ぶ直線が一次像面となす角度が変化する様
子を示す図。
FIG. 12 shows how the angle formed by a straight line connecting the photometric element and the intersection of the optical axis of the first light flux and the primary image plane changes depending on the arrangement position of the photometric element in the mirror box. Fig.

【図13】 従来の画像撮影装置において第1の光束に
よる一次像面上にAFミラーの陰が生じる様子を示す
図。
FIG. 13 is a diagram showing how a shadow of an AF mirror is generated on a primary image plane by a first light flux in a conventional image capturing apparatus.

【図14】 図13の作用により第1の光束による一次
像面上に生じるAFミラーの陰を示す図。
FIG. 14 is a diagram showing the shadow of the AF mirror generated on the primary image plane by the first light flux by the action of FIG.

【図15】 従来の画像撮影装置において第1の光束に
よる一次像面で反射され測光素子に至る光がAFミラー
により遮られる様子を示す図。
FIG. 15 is a diagram showing a state in which the light reflected by the first light flux on the primary image plane and reaching the photometric element is blocked by the AF mirror in the conventional image capturing apparatus.

【図16】 図15の作用により測光素子が眺める一次
像面内に生じるAFミラーの陰を示す図。
16 is a diagram showing the shadow of the AF mirror generated in the primary image plane viewed by the photometric element by the action of FIG.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 交換レンズ(主光学系) 2 ミラーボックス(箱形の室) 3 ハーフミラー (光分割器) 4 AFミラー 5 シャッター幕 (第1撮像手段の一部) 6 フィルム露光面 (第1撮像手段の一部、感光部
材) 7 圧板 (第1撮像手段の一部) 8 フィルムレール (第1撮像手段の一部) 9 コンデンサレンズ (第2撮像手段の一部) 10 反射ミラー (第2撮像手段の一部) 11 リレーレンズ (第2撮像手段の一部) 12 CCDイメージセンサ (第2撮像手段の一部) 13 フランジ面 14 測光素子 (測光手段) 15 測距素子 (測距手段) 16 第1の光束による一次像面 17 第2の光束による一次像面
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Interchangeable lens (main optical system) 2 Mirror box (box-shaped chamber) 3 Half mirror (light splitter) 4 AF mirror 5 Shutter curtain (a part of first imaging means) 6 Film exposure surface (of first imaging means) Part, photosensitive member 7 Pressure plate (part of first imaging means) 8 Film rail (part of first imaging means) 9 Condenser lens (part of second imaging means) 10 Reflecting mirror (of second imaging means) 11) Relay lens (a part of the second image pickup means) 12 CCD image sensor (a part of the second image pickup means) 13 Flange surface 14 Photometric element (photometric means) 15 Distance measuring element (distance measuring means) 16 First Primary image plane by the second luminous flux 17 Primary image plane by the second luminous flux

Claims (13)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 主光学系と、該主光学系を通して被写体
からの光束が入射する箱形の室と、該箱形の室内に固定
的に支持され前記被写体からの光束を第1の光束と第2
の光束に分割する光分割器と、前記箱形の室の一側面に
配設され前記第1の光束が結像する感光部材及び該感光
部材の前記光分割器側に配設されたシャッター幕を有す
る銀塩写真方式の第1撮像手段と、前記箱形の室の壁面
上で前記光分割器と前記シャッター幕の間に配設され前
記第1の光束が前記感光部材あるいは前記シャッター幕
で反射された光量を検知することにより測光する測光手
段とを備えた画像撮影装置において、 前記光分割器は、前記主光学系の光軸に対して所定の角
度をなすように配置されたハーフミラーであり、 前記感光部材と前記シャッター幕は、ともに前記第1の
光束の光軸に対して垂直に配置され、 前記測光手段の測光範囲としてカバーされる前記シャッ
ター幕上の領域の中心と前記測光手段とを結ぶ直線が前
記シャッター幕となす角が垂直に近くなる位置に前記測
光手段を配置できるように、前記光分割器を前記第1の
光束の光軸方向に前記シャッター幕から離して配置した
ことを特徴とする画像撮影装置。
1. A main optical system, a box-shaped chamber into which a light beam from a subject enters through the main optical system, and a light beam from the subject that is fixedly supported in the box-shaped chamber and is a first light beam. Second
Beam splitter for splitting into a light beam, a photosensitive member disposed on one side surface of the box-shaped chamber to form an image of the first light beam, and a shutter curtain disposed on the light splitter side of the photosensitive member. And a first image pickup means of a silver salt photographic system, which is arranged between the light splitter and the shutter curtain on the wall surface of the box-shaped chamber, and the first light flux is generated by the photosensitive member or the shutter curtain. In an image capturing apparatus including a photometric unit that measures the amount of reflected light, the light splitter is a half mirror arranged so as to form a predetermined angle with respect to the optical axis of the main optical system. Both the photosensitive member and the shutter curtain are arranged perpendicular to the optical axis of the first light flux, and the center of the area on the shutter curtain covered as the photometric range of the photometric means and the photometric The straight line connecting the means is The image is characterized in that the light splitter is arranged apart from the shutter curtain in the optical axis direction of the first light flux so that the photometric means can be arranged at a position where the angle formed with the shutter curtain is close to vertical. Imaging device.
【請求項2】 以下の条件を満たす請求項1に記載の画
像撮影装置; a≧31/2・FSL/2, 但し、 a : 上記光分割器の光分割面と上記第1の光束の光
軸の交点と、上記シャッター幕との間の距離、 FSL: 上記第1の光束の光軸と上記第2の光束の光軸
とに平行な平面で切断したときの上記シャッター幕の長
さである。
2. The image capturing apparatus according to claim 1, wherein the following conditions are satisfied: a ≧ 3 1/2 · F SL / 2, where a: a light splitting surface of the light splitter and the first light flux. Distance between the intersection of the optical axes of the above and the shutter curtain, F SL : of the shutter curtain when cut by a plane parallel to the optical axes of the first light flux and the second light flux. Is the length.
【請求項3】 上記第2の光束は、リレー光学系により
第2撮像手段に導かれて撮像に用いられる請求項1また
は請求項2に記載の画像撮影装置。
3. The image photographing device according to claim 1, wherein the second light flux is guided to a second image pickup means by a relay optical system and is used for image pickup.
【請求項4】 上記第2撮像手段は電子写真方式である
請求項3に記載の画像撮影装置。
4. The image capturing apparatus according to claim 3, wherein the second image pickup means is an electrophotographic system.
【請求項5】 上記シャッター幕の上記光分割器側の表
面の反射率を、上記感光部材の表面の反射率と略等価に
した請求項1ないし請求項4のいずれかに記載の画像撮
影装置。
5. The image capturing device according to claim 1, wherein the reflectance of the surface of the shutter curtain on the side of the light splitter is substantially equal to the reflectance of the surface of the photosensitive member. .
【請求項6】 上記第1撮像手段のフィルムのフォーマ
ットは、135システムである請求項1ないし請求項5
のいずれかに記載の画像撮影装置。
6. The film format of the first imaging means is a 135 system.
The image capturing device according to any one of 1.
【請求項7】 上記光分割器の上記シャッター幕側に配
設され上記第1の光束の一部を反射するミラーと、上記
箱形の室の壁面上に配設され前記ミラーで反射された光
を受けて測距を行う測距手段とを備えた請求項1ないし
請求項6のいずれかに記載の画像撮影装置。
7. A mirror disposed on the shutter curtain side of the light splitter for reflecting a part of the first light flux, and a mirror disposed on the wall surface of the box-shaped chamber and reflected by the mirror. 7. The image capturing apparatus according to claim 1, further comprising a distance measuring unit that receives light to perform distance measurement.
【請求項8】 上記測光手段は、上記箱形の室の上記第
2の光束の伝搬方向と反対側の壁面上に配設されている
請求項1ないし請求項7のいずれかに記載の画像撮影装
置。
8. The image according to claim 1, wherein the photometric means is disposed on a wall surface of the box-shaped chamber opposite to a propagation direction of the second light flux. Imaging device.
【請求項9】 上記測光手段は、上記箱形の室の上記第
2の光束の伝搬方向側の壁面上に配設されている請求項
1ないし請求項7のいずれかに記載の画像撮影装置。
9. The image capturing device according to claim 1, wherein the photometric means is disposed on a wall surface of the box-shaped chamber on the propagation direction side of the second light flux. .
【請求項10】 上記測光手段は、上記箱形の室の上記
第1の光束の光軸と上記第2の光束の光軸とに平行な壁
面上に配設されている請求項1ないし請求項7のいずれ
かに記載の画像撮影装置。
10. The light metering means is arranged on a wall surface of the box-shaped chamber parallel to the optical axes of the first light flux and the second light flux. Item 7. The image capturing device according to any one of items 7.
【請求項11】 上記測光手段は、上記箱形の室の上記
第1の光束の光軸と上記第2の光束の光軸とに平行な2
つの壁面上に一対配設されている請求項1ないし請求項
7のいずれかに記載の画像撮影装置。
11. The photometric means comprises two parallel optical axes of the first light flux and the second light flux of the box-shaped chamber.
The image capturing device according to any one of claims 1 to 7, which is arranged in a pair on one wall surface.
【請求項12】 上記測光手段と上記測距手段とは、と
もに上記箱形の室の上記第2の光束の伝搬方向と反対側
の壁面上に配設され、かつ前記第2の光束の光軸方向か
ら眺めたとき、ともに上記第1の光束の光軸の近傍に配
置されている請求項7に記載の画像撮影装置。
12. The light measuring means and the distance measuring means are both disposed on the wall surface of the box-shaped chamber opposite to the propagation direction of the second light flux, and the light of the second light flux is provided. The image capturing apparatus according to claim 7, wherein both of them are arranged near an optical axis of the first light flux when viewed from the axial direction.
【請求項13】 上記第2の光束の光軸方向から眺めた
とき、上記光分割器から上記シャッター幕に向かって、
上記測距手段、上記測光手段の順に配列されている請求
項12に記載の画像撮影装置。
13. When viewed from the optical axis direction of the second light flux, from the light splitter toward the shutter curtain,
The image capturing apparatus according to claim 12, wherein the distance measuring unit and the photometric unit are arranged in this order.
JP7193356A 1995-06-08 1995-07-28 Image photographic device Pending JPH0943669A (en)

Priority Applications (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP7193356A JPH0943669A (en) 1995-07-28 1995-07-28 Image photographic device
US08/659,690 US5664243A (en) 1995-06-08 1996-06-06 Camera
DE19622802A DE19622802A1 (en) 1995-06-08 1996-06-07 Photocamera for generating two pictures
US08/834,107 US5953546A (en) 1995-06-08 1997-04-14 Camera
US10/680,340 US7133608B1 (en) 1995-06-08 2003-10-08 Camera

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP7193356A JPH0943669A (en) 1995-07-28 1995-07-28 Image photographic device

Publications (1)

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JPH0943669A true JPH0943669A (en) 1997-02-14

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JP7193356A Pending JPH0943669A (en) 1995-06-08 1995-07-28 Image photographic device

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JP (1) JPH0943669A (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6041195A (en) * 1996-07-24 2000-03-21 Minolta Co., Ltd. Camera capable of video and film shooting having optical viewfinder

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6041195A (en) * 1996-07-24 2000-03-21 Minolta Co., Ltd. Camera capable of video and film shooting having optical viewfinder

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