JPH0943083A

JPH0943083A - 静電容量型圧力センサ及びそれを用いた血圧計，圧力測定装置並びにガスメータ

Info

Publication number: JPH0943083A
Application number: JP7215504A
Authority: JP
Inventors: Kentaro Hara; 健太郎原
Original assignee: Omron Corp; Omron Tateisi Electronics Co
Current assignee: Omron Corp
Priority date: 1995-08-02
Filing date: 1995-08-02
Publication date: 1997-02-14

Abstract

(57)【要約】【課題】入出力特性の直線性がよく、小型でも高感度
で測定範囲が広い静電容量型圧力センサを提供すること【解決手段】ダイアフラム２の周辺がベース１に支持
されていて、圧力を受けてダイアフラムがほぼ全面的に
ドーム状に撓み変形する。平面形状を保つ可動電極板１
０の中央部がダイアフラムの中央部に首部１１を介して
局部的に連結・支持されていて、ダイアフラムが撓み変
形したときに可動電極板がその厚み方向に平行変位する
が、平面形状は保持される。よって、ガラス基板５に配
設された固定電極７が可動電極板と適当な間隔をおいて
平行に対向しており、ダイアフラムの撓み変形に伴って
固定電極と可動電極板との間隔が変化しても各部分での
距離はほぼ等しくなり、広範囲で直線性が良好となる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、血圧計、ガスメー
タ、安全弁装置など、圧力検出系を含む各種の機器に使
用される圧力センサに関し、特に、ダイアフラムに連動
する可動電極と固定電極との間隔変化による両電極間の
静電容量の変化を電気信号として取り出すタイプの静電
容量型圧力センサに関する。

【０００２】

【従来の技術】よく知られているように、血圧計、ガス
メータ、安全弁装置などでは圧力センサを構成要素の一
部に含んでいる。このような各種機器に使用される従来
の圧力センサとしては、図１（Ａ），（Ｂ）に示す構造
の静電容量型圧力センサが代表的である。

【０００３】同図（Ａ）の圧力センサは次のように構成
されている。ダイアフラム２の周辺がベース１に支持さ
れていて、圧力を受けてダイアフラム２がほぼ全面的に
ドーム状に撓み変形する。ベース１とダイアフラム２は
シリコン基板をエッチング加工して一体に形成されてい
る。そしてダイアフラム２の上面に可動電極３が設けら
れている。

【０００４】一方、ベース１の上にガラス製の基板５が
接合されている。このガラス基板５の下面には凹部が形
成されていて、その凹部によりダイアフラム２の上に適
宜な空間６が形成されている。基板５の凹部の内面には
固定電極膜７が形成されていて、この固定電極膜７とダ
イアフラム２の可動電極３とが空間６を挟んで対向して
いる。

【０００５】そして、ダイアフラム２が圧力を受けてほ
ぼ全面的にドーム状に撓み変形すると、これと一体の可
動電極３も撓み変形し、固定電極膜７との間隔が変化す
る。可動電極３と固定電極膜７との間の静電容量に関連
した電気信号をセンサ出力として取り出す。

【０００６】同図（Ｂ）の圧力センサは次のように構成
されている。これは同図（Ａ）の構成におけるダイアフ
ラム２に替えて、肉厚の可動メサ部８を肉薄の周辺支持
部９を介してベース１に支持させた構成としている。ベ
ース１、周辺支持部９、可動メサ部８は、シリコン基板
にエッチング加工で一体形成されている。そして、可動
メサ部８の平らな上面に可動電極３を設ける。一方、ガ
ラス基板５と空間６および固定電極膜７の構成は同図
（Ａ）と同じである。

【０００７】係る構成の圧力センサでは、圧力を受けて
撓み変形するのは肉薄の周辺支持部９だけであり、この
部分の撓み変形により可動メサ部８は変形することなく
上下に平行変位する。この変位により可動電極３と固定
電極膜７との間隔が変化し、両電極間の静電容量に関連
した電気信号をセンサ出力として取り出す。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】同図（Ａ）の構成の従
来の圧力センサでは、ダイアフラム２が圧力を受けてほ
ぼ全面的にドーム状に撓み変形すると、これと一体の可
動電極３もドーム状に撓み変形するので、可動電極３と
固定電極膜７との間隔が場所により異なる。この電極間
隔の不均一な分布のせいで、圧力入力に対する電気出力
の直線性が悪くなるという問題があった。

【０００９】同図（Ｂ）の構成の従来の圧力センサで
は、可動電極３は可動メサ部８とともに上下に平行変位
するだけなので、可動電極３と固定電極膜７とは常に平
行に保たれる。したがって入出力特性の直線性はよい。
ところが同図（Ａ）に示すセンサと同じ受圧面積とした
場合（ダイアフラム２の外形寸法と周辺支持部９の外形
寸法を同じとした場合）、ダイアフラム２が圧力により
ほぼ全面的に撓み変形するのに対して、同図（Ｂ）に示
すセンサでは周辺支持部９のみが撓み変形するだけなの
で、可動電極３の変位量は同図（Ａ）の圧力センサの方
が大きくなる。そのため同程度の大きさのセンサであれ
ば、同図（Ｂ）に示す圧力センサの方が圧力測定範囲が
狭くなったり、検出感度が低くなったりする。

【００１０】本発明は、上記した背景に鑑みてなされた
もので、その目的とするところは、上記した問題を解決
し、入出力特性の直線性がよく、小型でかつ高感度で測
定範囲が広い静電容量型圧力センサを提供することにあ
る。また、出力特性の直線性の良好な測定圧力範囲の広
い血圧計，圧力測定装置並びにガスメータを提供するこ
とも別の目的とする。

【００１１】

【課題を解決するための手段】上記した目的を達成する
ために、本発明に係る静電容量型圧力センサでは、ダイ
アフラムの周辺が支持されるベースと、前記ベースを装
着するとともに前記ダイアフラム対向面に固定電極を設
けた基板とを有し、圧力を受けて前記ダイアフラムがほ
ぼ全面的にドーム状に撓み変形するようにした静電容量
型圧力センサにおいて、平面形状を保つ可動電極板を前
記ダイアフラムに局部的に支持させ、前記ダイアフラム
が撓み変形したときに前記可動電極板がその厚み方向に
前記平面形状を保持しながら変位して前記固定電極と前
記可動電極板間の静電容量が変化するようにした（請求
項１）。

【００１２】そして好ましくは、前記基板に配設された
固定電極と、前記可動電極板とが適当な間隔をおいて平
行に対向しており、その平行状態を保持しながら前記可
動電極板が変位するように構成することである（請求項
２）。

【００１３】すなわち、圧力が加わると、ダイアフラム
はドーム状に湾曲して膨らむので、ダイアフラム面の各
部と、固定電極との距離の変位量は場所により異なる
（中央部分ほど変位量が大きくなる）が、本発明では、
そのダイアフラムに可動電極板を取り付けたため、たと
えダイアフラムが湾曲しても可動電極板は平面形状を維
持しながら変位し、固定電極との距離の変位量はどの部
分でもほぼ等しくなる。よって、圧力に対する出力の直
線性が良好となる。

【００１４】そして、前記ダイアフラムと可動電極の具
体的な接続構造としては、前記ダイアフラムの中央部に
柱状の首部を介して前記可動電極板の中央部が接合する
ように構成することができる（請求項３）。そして、よ
り具体的には、前記ダイアフラムとこれを支持する前記
ベースがシリコン基板にエッチング加工により一体に形
成され、前記可動電極板と前記首部が別部材により一体
に形成され、その首部の先端が前記ダイアフラムに接合
されるように構成したり（請求項４）、前記ダイアフラ
ムとこれを支持する前記ベースおよび前記首部がシリコ
ン基板にエッチング加工により一体に形成され、別部材
からなる前記可動電極板が前記首部の先端面に接合させ
るように構成することができる（請求項５）。

【００１５】ここで、別部材とは、例えばポリシリコン
やアルミなどを用いることができ、さらには、シリコン
を用いることもできる。すなわち、本発明でいう別部材
とは異なる材質という意味ではなく、同一基板からでな
く別途形成されることを意味する。なお、導電性を有す
る材質で構成すると、可動電極板単独で電極と成り得る
ので好ましい。換言すれば、可動電極板として絶縁材料
を用いた場合には、その表面に電極膜をさらに形成する
ことにより可動電極が構成される。すなわち、本明細書
でいう可動電極板とは、可動電極を構成するための板部
材のことをいい、その板自体が可動電極を構成する場合
と、固定電極と基板（ガラス基板）との関係のように可
動電極膜を形成するための板（板自体では可動電極にな
り得ない）の両者を含む概念である。

【００１６】そして、上記各構成の圧力センサを、圧力
測定装置，血圧計，ガスメータ等の各種機器に適用する
ことができ（請求項６〜８）、そうすると、広範囲に直
線性の良好な特性が得られる機器となり、性能が向上す
る。

【００１７】

【発明の実施の形態】

［センサの構成と機能］図２は、本発明の実施の形態の
一例による静電容量型圧力センサの構成を示している。
同図に示すように、ダイアフラム２の周辺がベース１に
支持されていて、圧力を受けてダイアフラム２がほぼ全
面的にドーム状に撓み変形する。

【００１８】一方、ベース１の上にガラス基板５が接合
されている。ガラス基板５の下面には凹部が形成されて
いて、その凹部によりダイアフラム２の上に適宜な空間
６が形成されている。基板５の凹部の内面には固定電極
膜７が形成されていて、この固定電極膜７とダイアフラ
ム２に局部支持された可動電極板１０とが空間６を挟ん
で対向している。

【００１９】ここで本発明では、平面形状を保つ可動電
極板１０の中央部がダイアフラム２の中央部に首部１１
を介して局部的に支持されている。ダイアフラム２がド
ーム状に撓み変形したとき、可動電極板１０は平面形状
を保ったままでその厚み方向に平行変位する。なお、図
示の例では可動電極板１０と固定電極膜７とを平行に対
向配置しているが、本発明ではこれに限ることなく、所
定角度で傾斜配置しても良い。但しその場合でも可動電
極板１０はある程度の強度を有し、平面形状を保持する
ようにする必要がある。

【００２０】さらに、ベース１とダイアフラム２はシリ
コン基板をエッチング加工して一体に形成される。可動
電極板１０はポリシリコンにより形成される。首部１１
はダイアフラム２と一体にシリコン基板に造られるか、
またはポリシリコンの可動電極板１０と一体に造られ
る。

【００２１】ダイアフラム２が圧力を受けてほぼ全面的
にドーム状に撓み変形すると、可動電極板１０は平面形
状を保ったままでその厚み方向に平行変位し、固定電極
膜７との間隔が変化する。可動電極板１０と固定電極膜
７との間の静電容量に関連した電気信号をセンサ出力と
して取り出す。したがって、ダイアフラム２が全体的に
撓むため、最大変位量は大きくなり、しかも、そのよう
に大きく移動しても可動電極板１０は平面形状を保持し
ているので、固定電極膜７に対して平行状態を保持しな
がら移動するため、移動途中での電極間の各部分での距
離は等しくなり、両電極間の静電容量の変化は、変位量
に比例する。よって、圧力に対する出力特性の直線性が
広い範囲で得られる。

【００２２】なお、図２の実施の形態ではガラス基板５
側に形成した凹部により電極が対向する空間６を形成し
ているが、本発明はこれに限ることはなく、例えば図３
に示すように、ベース１ガラス基板５の両方に空間６用
の凹部を形成してもよいし、また図４に示すようにベー
ス１の側に空間６用の凹部を形成してもよい。この様に
ベース１側にのみ形成すると、ガラス基板５を削らなく
て良いので、製造が容易となる。

【００２３】さらには、上記した各例ではいずれも圧力
を半導体基板側からダイアフラム２に加え、圧力がかか
ると両電極間距離が狭まる方向に移動するように構成し
たが、本発明はこれに限ることはなく、例えば図５に示
すように、ガラス基板５側から圧力を加えるようにして
も良い。その場合には、ガラス基板５の所定位置の圧力
導入孔５ａを設ける必要がある。なお、この図示の例
は、上記した図２に対応するものであるが、図示省略す
るものの図３，図４に対しても同様の構成をとるこがで
きる。

【００２４】［センサの製造プロセス］図６と図７は、
前述した構造の圧力センサの主要部分の製造プロセスの
第１の例を示している。まず、図６（Ａ）に示すような
平板状のシリコン基板の表面所定位置に、フォトリソグ
ラフィ技術を用いて凹部を形成し、シリコン基板からな
るベース１の中央部分に肉薄のダイアフラム２を残す
（同図（Ｂ））。この表面に酸化膜４１を形成し、さら
にその上にレジストを塗布し、露光現像して所定部分を
除去したパターンニングを行い、ダイアフラム２の中央
部に窓穴４３を有するレジスト４２を形成する。

【００２５】次いで選択エッチングを行い、その窓穴４
３から露出する酸化膜４１部分を除去して酸化膜４１の
所定位置に窓穴４４を形成し、その後レジスト４２を除
去する（同図（Ｃ））。

【００２６】次に、表面全面にポリシリコン膜４５を成
膜する。すると、ポリシリコン膜４５は、同図（Ｄ）に
示すように、酸化膜４１の表面形状に沿って、凹部４５
ａが形成され、さらに窓穴４４の内部にもポリシリコン
膜４５が充填され、小突起４５ｂとなる。

【００２７】そして、露光現像処理により、ポリシリコ
ン膜４５の凹部４５ａ内にレジスト４６をパターン形成
し（図７（Ａ））、イオンミル，ドライエッチング等に
よりレジスト４６で覆われていない部分のポリシリコン
膜４５を除去する（同図（Ｂ））。次にレジスト４６を
除去し、さらに酸化膜４１を除去する（同図（Ｃ），
（Ｄ））。これにより、同図（Ｄ）に示すように、ダイ
アフラム２の中央部にポリシリコンの首部１１を介して
ポリシリコンの可動電極板１０が連結された構造ができ
る。ポリシリコン膜４５の凹部４５ａの底面が可動電極
板１０となり、上記小突起４５ｂの部分が首部１１とな
る。

【００２８】そして、係るプロセスにより製造されたセ
ンサでは、可動電極板１０と首部１１がポリシリコンに
より一体に形成された構造となり、請求項４に記載され
た発明に対応する実施の形態の一例となる。

【００２９】図８と図９は製造プロセスの第２の例を示
している。まず、同図（Ａ）に示すような平板状のシリ
コン基板の表面所定位置に、フォトリソグラフィ技術を
用いて凹部を形成し、シリコン基板からなるベース１の
中央部分にダイアフラム２′を残す（同図（Ｂ））。こ
こまでの製造プロセスは上記した第１の例と同様である
が、製造されるダイアフラム２′の厚さは、最終製品の
厚さよりも厚く（少なくとも首部の高さ分）している。
そして、同図（Ｂ）に示すように、露光現像してダイア
フラム２′の中央部と他のベース１の表面にレジスト５
１をパターン形成する。

【００３０】次いでエッチングすることにより、露出す
るシリコンをさらに肉薄に加工して最終のダイアフラム
２を得るとともに、その中央部に首部１１を一体形成す
る（同図（Ｄ））。

【００３１】次に可動電極板の形成プロセスに移行す
る。すなわちまず、首部１１の形成のために塗布したレ
ジスト５１を一旦除去し、全表面に酸化膜５２を形成
し、露光現像処理により首部１１の上部分を除く部分に
レジスト５３をパターン形成する（同図（Ｄ））。そし
て、レジスト５３で覆われていない首部１１の上部分の
酸化膜５２を除去し、次にレジスト５３を除去する（同
図（Ｅ））。

【００３２】次に全表面にポリシリコン膜５４を成膜す
る。すると、ポリシリコン膜５４は、図９（Ａ）に示す
ように、酸化膜５２の表面形状に沿って、凹部５４ａが
形成され、その凹部５４ａ内にパターン形成によりレジ
スト５５を形成する（同図（Ｂ））。そしてレジスト５
５で覆われていない部分のポリシリコン膜５４を除去
し、次にレジスト５５を除去し、さらに酸化膜５２を除
去する（同図（Ｃ）〜（Ｅ））。

【００３３】これにより、同図（Ｅ）に示すように、ダ
イアフラム２の中央部にシリコン製の首部１１が一体形
成され、その首部１１の上にポリシリコン製の可動電極
板１０が接合された構造が得られる。レジスト５５で覆
われて残ったポリシリコン５４が可動電極板１０とな
る。

【００３４】そして、係るプロセスにより製造されたセ
ンサでは、ダイアフラム２，首部１１がベース１ととも
にシリコン基板により形成され、可動電極板１０のみが
ポリシリコンにより形成された構造となり、請求項５に
記載された発明に対応する実施の形態の一例となる。

【００３５】さらに、上記した２つのプロセスにより形
成される各センサは、以下のような特徴を有する。すな
わち、実際の動作中では圧力にともないダイアフラム２
が湾曲するが、この時ダイアフラム２の表面と首部１１
との境界部分に応力が加わる。したがって、強度的に
は、係る応力が加わる部分が一体に形成された第２の製
造プロセスにより製造される請求項５に記載の発明に対
応する実施の形態の方が好ましい。一方、製造工程数を
考慮すると、第１の製造プロセスにより製造される請求
項４に記載の発明に対応する実施の形態の方が好まし
い。

【００３６】また、上記各例では、ポリシリコンを成膜
したが、アルミその他の金属等を成膜しても良い。さら
には、絶縁材料を成膜しても良いが、その場合には、少
なくとも最終的に残る部分の表面に金属膜等を成膜する
必要がある。

【００３７】［センサのケース構造］本発明の圧力セン
サを収納するケース構造はどのようなものでもかまわな
い。また、まったくケースを使用せずに機器に組み込ん
で実装する場合もある。そして、ケースに実装する場合
には、例えば図１０に示すようにすることができる。図
示するように例えば図２に示した本発明の実施の形態に
よる圧力センサＳをリードフレーム６１の付いたケース
６２に収納して内部配線し、蓋６３でケースを塞ぐ。ケ
ース６２の底面部中央に一体形成されている導圧管６４
の真上にセンサＳを位置させ、外部から導圧管６４に供
給される流体圧力をセンサＳのダイアフラム２に作用さ
せる。

【００３８】［センサ応用機器］本発明の圧力センサ
は、血圧計などに用いることができる。図１１は本発明
による圧力測定装置の一例である血圧計の概略構成図で
あって、血圧計は本発明による静電容量型圧力センサ２
１、カフ２２、ポンプ２３やＣＰＵからなる制御部２４
などから構成されている。カフ２２と圧力センサ２１と
の間は導圧管２５で接続されており、導圧管２５にはポ
ンプ２３が接続され、ポンプ２３からカフ２２に空気を
送ることができるように構成する。

【００３９】この血圧計で血圧を測定する場合には、ま
ずカフ２２を被測定者の上腕部に巻き付け、キーボード
などの入力部２６から必要に応じて被測定者の年齢や性
別等を入力し、血圧計をスタートする。制御部２４は入
力部２６からスタート信号を受信すると、制御弁２８を
閉成し、ポンプ２３を起動させてカフ２２に所定の圧力
になるまで空気を送り出し、上腕部を締め付ける。カフ
２２に印加された圧力は圧力センサ２１によって常に検
知されており、一定の圧力になると制御部２４はポンプ
２３を停止する。

【００４０】次いで制御部２４は制御弁２８を開き、徐
々にカフ２２内に空気を抜いて減圧する。このとき、導
圧管２５を介して圧力センサ２１に印加される圧力は、
上腕部を流れる血流の圧力と相まって周期的に変化しな
がら小さくなる。したがって、導圧管２５を介して圧力
センサ２１に印加される圧力の変化を制御部２４で検知
することによって、最高血圧や最低血圧並びに脈拍数を
求めることができる。

【００４１】このようにして最低血圧が求められたら制
御部２４は制御弁２８を全開し、カフ２２内の空気を大
気圧まで排出する。そして、求められた最高血圧や最低
血圧などはディスプレイなどからなる出力部２７に表示
し、あるいは入力された年齢などを参考にし、必要に応
じて異常値であることなどの注意を促すことができる。
なお、圧力測定装置としては、血圧計に限ることなく各
種の気体の圧力を測定するものに適用できる。

【００４２】図１２は、別の応用例であり、ガスメータ
に適用した例である。同図に示すように、ガスメータＭ
は、ガス供給源２９とガス使用機器３６との間に介在さ
れるもので、両者２９，３６を結ぶガス経路の途中に遮
断弁３０を設けている。

【００４３】さらに、この遮断弁３０は判断部３１から
の制御信号により開閉制御され、さらの判断部３１の出
力は警報装置３２へ与えられ、ガス漏れ，地震などの異
常状態発生時に警報を発することができるようになって
いる。そして、この判断部３１は、流量センサ３３，感
震器３４並びに圧力センサ３５からの検出信号に基づい
て異常の有無の判断を行うようになっている。そして、
係る圧力センサ３５に本発明に係る静電容量型圧力セン
サを用いる。なお、図示省略するが、ガス経路の途中に
は計量装置が実装され、ガスの消費量を測定し表示装置
に表示する。

【００４４】さらに、図１２に示す例から、流量センサ
３３，感震器３４を除いたのが、ガス器具に実装される
安全弁装置になる。そして、本発明に係る圧力センサ
は、従来並びに将来において圧力センサを含んだ各種の
機器に実装することができ、検出感度が向上する。そし
て、この様に特性が向上し高感度になるので、従来実装
できなかった機器に対しても実装が可能となる（特に測
定可能な圧力範囲の拡大にともなうもの）。

【００４５】

【発明の効果】本発明の静電容量型圧力センサは、ダイ
アフラムがドーム状に撓んだとしても可動電極板が平面
形状を保持するので、対向する固定電極との各部の変位
量はほぼ同一となるので入出力特性の直線性がよく、小
型でも高感度で広い圧力範囲にわたって測定できる。特
に、請求項２のようにすると、可動電極板と固定電極と
は平行状態を保持するので、出力特性の直線性が良好な
領域が拡大される。

【図面の簡単な説明】

【図１】従来の静電容量型圧力センサの代表的な２つの
構成例を示す断面図である。

【図２】本発明の実施の形態の一例を示す静電容量型圧
力センサの構成図である。

【図３】本発明の圧力センサの変形例の構成図である。

【図４】本発明の圧力センサの他の変形例の構成図であ
る。

【図５】本発明の圧力センサの他の変形例の構成図であ
る。

【図６】本発明の圧力センサの主要部の製造プロセスの
例１のフローチャートの一部である。

【図７】同上プロセスの例１のフローチャートの一部で
ある。

【図８】本発明の圧力センサの主要部の製造プロセスの
例２のフローチャートの一部である。

【図９】同上プロセスの例２のフローチャートの一部で
ある。

【図１０】圧力センサのケース構造の一例を示す図であ
る。

【図１１】圧力センサを使用した血圧計の構成図であ
る。

【図１２】圧力センサを使用したガスメータの構成図で
ある。

【符号の説明】

１ベース２ダイアフラム３可動電極膜５ガラスベース６空間７固定電極膜８可動メサ部９周辺支持部１０可動電極板１１首部

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】ダイアフラムの周辺が支持されるベース
と、前記ベースを装着するとともに前記ダイアフラム対向面
に固定電極を設けた基板とを有し、圧力を受けて前記ダイアフラムがほぼ全面的にドーム状
に撓み変形するようにした静電容量型圧力センサにおい
て、平面形状を保つ可動電極板を前記ダイアフラムに局部的
に支持させ、前記ダイアフラムが撓み変形したときに前記可動電極板
がその厚み方向に前記平面形状を保持しながら変位して
前記固定電極と前記可動電極板間の静電容量が変化する
ようにしたことを特徴とする静電容量型圧力センサ。
【請求項２】前記基板に配設された固定電極と、前記
可動電極板とが適当な間隔をおいて平行に対向してお
り、その平行状態を保持しながら前記可動電極板が変位する
ようにしたことを特徴とする請求項１に記載の静電容量
型圧力センサ。
【請求項３】前記ダイアフラムの中央部に柱状の首部
を介して前記可動電極板の中央部が接合されていること
を特徴とする請求項１または２に記載の静電容量型圧力
センサ。
【請求項４】前記ダイアフラムとこれを支持する前記
ベースがシリコン基板にエッチング加工により一体に形
成され、前記可動電極板と前記首部が別部材により一体に形成さ
れ、その首部の先端が前記ダイアフラムに接合されているこ
とを特徴とする請求項３に記載の静電容量型圧力セン
サ。
【請求項５】前記ダイアフラムとこれを支持する前記
ベースおよび前記首部がシリコン基板にエッチング加工
により一体に形成され、別部材からなる前記可動電極板が前記首部の先端面に接
合されていることを特徴とする請求項３に記載の静電容
量型圧力センサ。
【請求項６】請求項１〜５のいずれかに記載の静電容
量型圧力センサを備えた圧力測定装置。
【請求項７】請求項１〜５のいずれかに記載の静電容
量型圧力センサを備えた血圧計。
【請求項８】請求項１〜５のいずれかに記載の静電容
量型圧力センサを備えたガスメータ。