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JPH0935308A - 情報記録装置 - Google Patents

情報記録装置

Info

Publication number
JPH0935308A
JPH0935308A JP7176987A JP17698795A JPH0935308A JP H0935308 A JPH0935308 A JP H0935308A JP 7176987 A JP7176987 A JP 7176987A JP 17698795 A JP17698795 A JP 17698795A JP H0935308 A JPH0935308 A JP H0935308A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
optical system
information recording
light source
laser light
adjusting
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP7176987A
Other languages
English (en)
Inventor
Osamu Mizuta
治 水田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Ricoh Co Ltd
Original Assignee
Ricoh Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Ricoh Co Ltd filed Critical Ricoh Co Ltd
Priority to JP7176987A priority Critical patent/JPH0935308A/ja
Publication of JPH0935308A publication Critical patent/JPH0935308A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

(57)【要約】 【課題】 レーザ光源交換時における組付け調整の簡略
化を図り、出射ビームの光軸及びビーム形状の再現性を
良好に行うことを課題とする。 【解決手段】 レーザ光源1からの出射ビームAを照射
光学系2の前段に配置されビーム形状及び光軸の調整が
可能なビーム調整光学系10に導くことにより、レーザ
光源1や照射光学系2での組付け調整を行わずに、出射
ビームAのビーム形状の整形や、出射角度・出射位置の
光軸調整を正確に行うようにした。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、光ディスク原盤露
光機等として用いられる情報記録装置に関する。
【0002】
【従来の技術】図10(a)は、従来における一般的な
情報記録装置の構成をブロック化して示す。レーザ光源
1から出射された出射ビームAは、照射光学系2を介し
て、対物レンズ3により集光され、微小な光スポットの
状態で光ディスク(光情報記録媒体)4の面上に照射さ
れ、これにより所望とする記録位置に情報の記録が行わ
れる。この場合、情報記録装置として光ディスク原盤露
光機を例に挙げると、レーザ光源1からの出射ビームA
は、露光光学系(照射光学系2)によりデジタル変調化
され、光ディスク原盤(光ディスク4)の面上に照射さ
れ、所望とする形状のピット(約1μm)や溝が作成さ
れ、これにより情報の記録が行われる。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】このような情報の記録
用光源として用いられるレーザ光源1(Ar,Krレー
ザ、He−Cdレーザ等)の寿命は一般的に2000〜
3000時間であり、定期的な交換が行われる。しか
し、レーザ光源1の光特性(出射ビームの拡散角、ビー
ム径、ガウス分布形状等)は各光源によって異なる場合
が多いため、その定期的な交換毎に、レーザ光源1の出
射位置・出射角度の光軸調整や、照射光学系2の組付け
調整を行わなければならず、作業効率が悪い。特に、光
ディスク原盤露光機の場合、レーザ光源1は大型な重量
物(40kg前後)である場合が多いため、その移動調
整に時間がかかり、照射光学系2の組付け調整において
も同一のビーム状態を再現するのは非常に難しい。ま
た、照射光学系2の内部で自動的に光軸調整を行おうと
すると、部品点数が増加し、これにより光学系が大型化
してコスト高となる。
【0004】また、そのような光軸調整の簡略化を図る
ために、図10(b)に示すような、レーザ光源1と照
射光学系2との間に光軸補正ユニット5が設けられてい
るものがある(特公平6−95174号公報参照)。図
11は、その光軸補正ユニット5の構成例を示すもので
あり、サーボミラー6,7を用いて光軸調整が行われ
る。すなわち、出射ビームAの一部を4分割受光素子8
により検出し、モータ9によりサーボミラー6,7を回
転制御することによって、出射ビームAの光軸調整(出
射位置・出射角度の補正等)を行っている。
【0005】しかし、その光軸補正ユニット5は、出射
ビームAの光軸調整を行うものであり、ビーム形状のビ
ーム整形(非点収差等の補正等)を行うものではない。
このため、そのような光軸調整の機能した持たない光軸
補正ユニット5を、特に微小なピット(例えば1μm以
下の径)を作成することが要求される光ディスク原盤露
光機に用いたのでは、レーザ光源1の交換毎に所望とす
るビーム形状を良好に再現することは困難であり、溝形
状を安定して作り込むことができない。
【0006】
【課題を解決するための手段】請求項1記載の発明にお
いては、レーザ光源からの出射ビームをビーム調整光学
系に導くことによって、その出射ビームの出射位置・出
射角度の調整のみならず、ビーム形状の整形がなされ
る。このようにして調整された出射ビームは、照射光学
系に導かれて変調制御された後、対物レンズにより集光
されて所望とする微小な光スポットとなり、この光スポ
ットが光情報記録媒体に照射され情報の記録が行われ
る。
【0007】請求項2記載の発明においては、レーザ光
源からの出射ビームを、ビーム径規制部材に導くことに
よって、ビーム径が常に一定な出射ビームが作られる。
このビーム径が一定とされた出射ビームは、ビーム調整
光学系を介して光情報記録媒体に照射される。
【0008】請求項3記載の発明においては、レーザ光
源からの出射ビームを、一対のシリンドリカルレンズに
導き、レンズ曲率の形成された方向に移動させることに
よって、一方向のビーム整形を行うことが可能となる。
【0009】請求項4記載の発明においては、レーザ光
源からの出射ビームを、各組のレンズ曲率の形成された
方向が互いに直交するシリンドリカルレンズに導くこと
によって、二方向の異なるビーム整形を同時に行うこと
が可能となる。
【0010】請求項5記載の発明においては、レーザ光
源からの出射ビームをビームエキスパンダに導くことに
よって、光量変動の量を1/mに低減させることができ
る。
【0011】請求項6記載の発明においては、シリンド
リカルレンズにより調整された後の出射ビームを、ビー
ム抽出手段に導いてサンプル光として抽出することによ
って、一方向ずつのビーム調整のモニタが可能となる。
また、ビーム抽出手段として例えばダイクロイックミラ
ーを用いることによって、抽出されない記録用のメイン
ビームの偏光方向を維持することができる。
【0012】請求項7記載の発明においては、抽出され
たサンプル光を偏光分離手段に導くことによって、その
1本のサンプル光からP偏光とS偏光との2本のビーム
を作ることが可能となる。
【0013】請求項8記載の発明においては、位置調整
用受光手段を用いて出射ビームの光軸位置をモニタする
ことができ、角度・ビーム形状調整用受光手段を用いて
出射ビームの出射角度又はビーム形状をモニタすること
ができる。
【0014】請求項9記載の発明においては、ビーム抽
出手段により抽出された複数のサンプル光を1個の角度
・ビーム形状調整用受光手段に導くことによって、異な
るビームスポットを同一のモニタ面上で同時に位置調整
することができる。
【0015】
【発明の実施の形態】本発明の実施の一形態を図1〜図
9に基づいて説明する。なお、ここでは、情報記録装置
として、前述した光ディスク原盤露光機(図10参照)
を例に挙げ、その同一部分については同一符号を用い
る。
【0016】図1は、光ディスク原盤露光機の構成を示
す。この原盤露光機は、レーザ光源1と、ビーム調整光
学系としてのビーム整形ユニット10と、照射光学系と
しての露光光学系2とに大別される。この場合、レーザ
光源1と、露光光学系2とは、周知の部材により構成さ
れる。例えば、レーザ光源1はイオンレーザ(Arレー
ザ,He−Cdレーザ等)により構成される。照射光学
系2は、アナログ変調器11と、デジタル変調器12
と、偏向器13と、一対のビームエキスパンダ14a,
14bとにより構成される。
【0017】ここで、ビーム整形ユニット10の構成に
ついて述べる。図2に示すように、レーザ光源1の出射
光路上には、ビーム径規制部材としてのピンホール板1
5が配置されている。このピンホール板15の中心に
は、出射ビームAのビーム径よりも小さな径をもつピン
ホール15aが形成されている。このピンホール板15
によりビーム径が規制された光路上には、一対のシリン
ドリカルレンズ16a,16bが配置されている。この
シリンドリカルレンズ16a,16bの曲率が変化する
方向は、光軸方向Yに直交するX方向(水平方向)に設
定されている。
【0018】また、シリンドリカルレンズ16a,16
bの後段には、出射ビームAの一部を分離してサンプル
光Bを作るために、ビーム抽出手段としてのダイクロイ
ックミラー17が配置されている。このダイクロイック
ミラー17の後段には、一対のシリンドリカルレンズ1
8a,18bが配置されている。このシリンドリカルレ
ンズ18a,18bの曲率が変化する方向は、光軸方向
Yに直交する垂直面内の鉛直方向Zに設定されている。
これにより、シリンドリカルレンズ18a,18bと、
その前段に配置されたシリンドリカルレンズ16a,1
6bとは、曲率が形成された方向が互いに直交して配置
されている。この場合、図3に示すように、シリンドリ
カルレンズ16a,18aに対して、シリンドリカルレ
ンズ16b,18bは、ビームエキスパンダ比がm倍
(m>1)のビームエキスパンダとしてそれぞれ構成さ
れている。また、このようなシリンドリカルレンズ18
a,18bの後段には、前記ダイクロイックミラー17
と同様な分離機能をもつビーム抽出手段としてのダイク
ロイックミラー19が配置されている。
【0019】また、ダイクロイックミラー17により分
離されたサンプル光Bの光路上には、λ/2板20と、
偏光ビームスプリッタ21とが配置されている。これら
λ/2板20と偏光ビームスプリッタ21とは、サンプ
ル光Bを2方向(S偏光,P偏光)に分離するための偏
光分離手段を構成している。また、その偏光ビームスプ
リッタ21により反射された光路上には、CCD22が
配置され、このCCD22はモニタ23と接続されてい
る。一方、偏光ビームスプリッタ21を透過した光路上
には、2分割受光素子(又はPSD:Position Sensi
tive Device)24が配置されている。この2分割受光
素子24は表示器25と接続されている。なお、CCD
22とモニタ23とは角度・ビーム形状調整用受光手段
を構成し、また、2分割受光素子24と表示器25とは
位置調整用受光手段を構成している。
【0020】また、ダイクロイックミラー19により分
離されたサンプル光Bの光路上にも、ダイクロイックミ
ラー17により分離された光路上と同様な光学系、すな
わち、λ/2板26、偏光ビームスプリッタ27、2分
割受光素子28が順次配置されている。ただし、ここで
は、偏光ビームスプリッタ27により反射された光は、
λ/2板29及び前段の偏光ビームスプリッタ21を介
して、CCD22に導かれ、また、2分割受光素子24
は前述した表示器25に接続されている。
【0021】このような構成において、本装置の動作に
ついて述べる。レーザ光源1からの出射ビームAは、図
2のビーム整形ユニット10を介して、露光光学系2に
導かれる。この露光光学系2では、出射ビームAは、ア
ナログ変調器11により最適な光量に変換され、デジタ
ル変調器12により情報信号に応じたパルス光に変換さ
れ、さらに偏向器13を介して、ビームエキスパンダ1
4a,14bにより所定のビーム径に変換される。この
ようにして変換された出射ビームAは、対物レンズ3に
より集光され微小な光スポットとなり、スライドターン
テーブル4aにより回転制御される光ディスク原盤4の
面上に露光され、これにより所望とする形状のピットや
溝が作成されて情報の記録が行われる。
【0022】このとき、レーザ光源1が寿命等により交
換されたものとすると、ビーム整形ユニット10を用い
て以下のような調整が行われる。まず、レーザ光源1か
ら出射した出射ビームAは、ピンホール15aに導かれ
る。これによって、図4に示すように、X−Y面、Y−
Z面に対してそれぞれ一定なビーム径に整形することが
でき、しかも、レーザ光源1の設置位置を容易に確認す
ることができる。そして、このようにしてビーム径が一
定に整形された出射ビームAは、図5に示すように、シ
リンドリカルレンズ16a,16bに入射する。このシ
リンドリカルレンズ16a,16bを、曲率方向Xにそ
れぞれ移動させることによって、その曲率方向Xに対す
る出射ビームAの出射角度や出射位置の光軸調整を行う
ことができる。また、シリンドリカルレンズ16a,1
6bを、光軸方向Yにそれぞれ移動させることによっ
て、ビーム平行化の整形を行うことができる。このよう
にシリンドリカルレンズ16a,16bを曲率方向X、
光軸方向Yへ移動させることによって、出射ビームAの
光軸調整やビーム形状のビーム整形を簡単に行うことが
できる。なお、ここでは鉛直方向Zに対する整形は行わ
れない。
【0023】このようにしてシリンドリカルレンズ16
a,16bにより一方向のみがビーム整形された出射ビ
ームAは、ダイクロイックミラー17を介して、後段の
シリンドリカルレンズ18a,18bに導かれる。この
シリンドリカルレンズ18a,18bにおいては、図6
に示すように、X方向に直交する鉛直方向Zの曲率に対
する出射角度、出射位置の調整が行われる。これによ
り、X,Z方向へのビーム広がり角を等しくして非点収
差のないビーム形状の出射ビームAを作ることができ
る。このように曲率方向が互いに直交するシリンドリカ
ルレンズ16a,16bとシリンドリカルレンズ18
a,18bとを組み合わせて構成したことによって、ビ
ーム整形の精度を高めることができる。また、このよう
に出射ビームAをX,Z方向に独立して調整することが
可能となるため、一方のビーム整形が他方のビーム整形
に影響を及ぼすようなことがなく、調整を正確にかつ簡
単に行うことができる。
【0024】また、前段のシリンドリカルレンズ16
a,16b及び後段のシリンドリカルレンズ18a,1
8bは、図3のようにビームエキスパンダ比がそれぞれ
m倍とされている。これにより、出射ビームAの光軸変
動量が例えばθ0 のときは、シリンドリカルレンズ16
a,16bを通過後の光軸変動量はθ1 =θ0 /mとな
る。さらに、その光軸変動量がθ1 とされた出射ビーム
Aは、シリンドリカルレンズ18a,18bを通過する
ことにより、光軸変動量がθ2 =θ1 /mとなる。この
ようにレーザ光源1自体に光軸変動が生じても、各ビー
ムエキスパンダにおいて光軸変動量を1/mに低減させ
ることができ、ここでは2組の構成としていることか
ら、ビーム整形ユニット10を通過後の光軸変動量を1
/m2 に大幅に低減させることができる。これにより、
後段の露光光学系2でのビーム形状の変化を防止するこ
とができ、光ディスク原盤4に作られる溝形状を正確に
作り込むことができる。
【0025】また、出射ビームA(メインビーム)はダ
イクロイックミラー17,19により分離され、これに
よりモニタ用のサンプル光Bが作られる。すなわち、図
7に示すように、出射ビームAは前段のダイクロイック
ミラー17により分離され、その1%が反射されサンプ
ル光Bとなる。このダイクロイックミラー17を光路上
に配置したことにより、透過したメインビーム(出射ビ
ームA)の偏光方向をその配置前と同じビーム状態に維
持することができ、これにより後段の露光光学系2にお
いて偏光方向がずれて光量損失を起こすようなことがな
くなる。
【0026】このようにしてダイクロイックミラー17
により分離された直線偏光のサンプル光Bは、図8に示
すように、λ/2板20を介して、偏光ビームスプリッ
タ21に入射することによって、P偏光とS偏光とに分
離される。ここでは、透過光をP偏光とし、反射光をS
偏光とすると、その一方のP偏光からなるサンプル光B
は2分割受光素子24に受光される。この受光された信
号を表示器25に表示することにより、出射ビームAの
所定位置からの光軸ずれを容易に知ることができる。こ
の表示された数値がレーザ光源1の交換前と同じ値にな
るようにシリンドリカルレンズ16a,16bを調整す
ることによって、交換前と同一の光軸位置を再現するこ
とができる。他方、偏光ビームスプリッタ21により反
射されたS偏光からなるサンプル光Bは、CCD22に
受光され、モニタ23にビームスポットが映し出され
る。この場合、そのモニタ像がレーザ光源1の交換前と
同じ位置、同一のスポットの大きさとなるようにシリン
ドリカルレンズ16a,16bを調整することによっ
て、交換前と同一の出射角度、ビーム形状を再現するこ
とができる。
【0027】また、後段のダイクロイックミラー19に
より分離されたサンプル光Bは、図9に示すように、λ
/2板26を介して、偏光ビームスプリッタ27に導か
れ2つのビームに分離される。ここでは、その分離によ
り反射されたS偏光はλ/2板29を介してP偏光とな
り、前段の偏光ビームスプリッタ21を透過してCCD
22に受光される。これにより、モニタ23には、2個
のビームスポットが映し出される。従って、これら2個
のビームスポットを一致させることによって、ビーム整
形時に生じた角度ずれをなくすことができる。また、2
個のビームスポットの大きさを一致させることによっ
て、X,Z方向のビーム形状を等しくすることができ
る。さらに、このように合致したビームスポットが、レ
ーザ光源1の交換前と同一位置、同一の大きさになるよ
うに調整することによって、交換前と同一位置、出射角
度とされた同一のビーム形状を再現することができる。
【0028】上述したように、ビーム整形ユニット10
を設けたことによって、従来のようにレーザ光源1や露
光光学系2による光軸調整を行わずに、出射ビームAの
出射位置・出射角度の調整のみならず、ビーム整形を正
確に行いビーム形状を良好に再現することができ、これ
により、レーザ光源1を寿命等により交換したような場
合においても、組付け調整の作業効率を図ることができ
る。
【0029】なお、情報記録装置として、光ディスク原
盤露光機を例に挙げたが、これに限るものではなく、光
ディスクのような媒体に対して記録を行う記録装置であ
ればよく、このような記録装置にビーム調整光学系を組
込むことができる。
【0030】
【発明の効果】請求項1記載の発明では、レーザ光源と
照射光学系との間の光路上にビーム形状及び光軸の調整
を行うビーム調整光学系を設けたので、寿命等によりレ
ーザ光源を交換したような場合においても、従来のよう
にレーザ光源や照射光学系による光軸調整を行わずに、
ビーム形状、及び、出射ビームの出射位置・出射角度を
良好に再現することができ、これにより、レーザ光源交
換時における組付け調整の作業時間を大幅に短縮するこ
とができると共に、簡単な構成で低コストなビーム調整
機構を備えた情報記録装置を提供することができる。
【0031】請求項2記載の発明では、レーザ光源から
の出射ビームをビーム径規制部材に導くようにしたの
で、レーザ光源の交換により生じるビーム径の違いを一
定にすることができ、これにより、常に一定の条件下で
ビーム調整を行うことが可能となる。
【0032】請求項3記載の発明では、レーザ光源から
の出射ビームをレンズ曲率の形成された方向及び光軸方
向に移動自在な一対のシリンドリカルレンズに導くよう
にしたので、ビーム形状の整形と、出射角度・出射位置
の光軸調整とを独立して行うことができる。
【0033】請求項4記載の発明では、各組のレンズ曲
率の形成された方向が互いに直交するように2組のシリ
ンドリカルレンズを設置したので、ビーム整形を二方向
に対して各々独立に行うことができ、これにより、出射
ビームをレーザ光源の交換前と同様なビーム形状にする
ことが可能となる。
【0034】請求項5記載の発明では、レーザ光源から
の出射ビームをビームエキスパンダ比がm倍(m>1)
のビームエキスパンダに導くようにしたので、レーザ光
源の出射ビームに光量変動が発生しても、光量変動の量
を一対のビームエキスパンダ当たり1/mに低減させる
ことができる。従って、このようなビームエキスパンダ
を例えば光ディスク原盤露光機に用いたような場合、光
ディスク原盤に溝形状を常に安定して作り込むことがで
きる。
【0035】請求項6記載の発明では、ビーム抽出手段
を用いて整形後の出射ビームをサンプル光として抽出す
るようにしたので、出射ビームの偏光方向を変えること
なく、サンプル光をモニタして一段と正確な調整を行う
ことができる。
【0036】請求項7記載の発明では、抽出されたサン
プル光を偏光分離手段に導くようにしたので、1本のサ
ンプル光を2本のビームに分離することができ、これに
より、出射ビームの2種類の状態のモニタが可能とな
る。
【0037】請求項8記載の発明では、偏光分離手段に
より分離された一方の光路上に位置調整用受光手段を配
設し、他方の光路上に角度・ビーム形状調整用受光手段
を配設したので、出射ビームの光軸位置と、出射角度又
はビーム形状の2種類の状態を同時にモニタすることが
でき、これにより、出射ビームの調整作業を効率良く行
うことができる。
【0038】請求項9記載の発明では、ビーム抽出手段
により抽出された複数のサンプル光を、角度・ビーム形
状調整用受光手段に導くようにしたので、異なるビーム
スポットの位置合わせを容易に行うことができ、これに
より、出射ビームの出射角度の調整を一段と正確に行う
ことができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施の一形態である光ディスク原盤露
光機の構成を示すブロック図である。
【図2】ビーム整形ユニットの全体構成を示す斜視図で
ある。
【図3】ビームエキスパンダによる光軸変動低減の様子
を示す光路図である。
【図4】シリンドリカルレンズの前段にピンホールを配
設した場合の様子を示す斜視図である。
【図5】1組のシリンドリカルレンズを用いてビーム整
形を行う様子を示す斜視図である。
【図6】2組のシリンドリカルレンズを用いてビーム整
形を行う様子を示す斜視図である。
【図7】サンプル光を抽出する部分の光学系を示す平面
図である。
【図8】サンプル光の位置及び角度・ビーム形状をモニ
タする光学系を示す平面図である。
【図9】サンプル光の角度・ビーム形状をモニタする前
・後段に配置された光学系を示す平面図である。
【図10】(a)は従来の情報記録装置の構成を示すブ
ロック図、(b)は(a)に光軸補正ユニットを備えた
場合の構成を示すブロック図である。
【図11】従来の光軸補正ユニットの構成例を示す斜視
図である。
【符号の説明】
1 レーザ光源 2 照射光学系 3 対物レンズ 4 光情報記録媒体 10 ビーム調整光学系 15 ビーム径規制部材 16a,16b シリンドリカルレンズ 17 ビーム抽出手段 18a,18b シリンドリカルレンズ 19 ビーム抽出手段 20,21 偏光分離手段 22,23 角度・ビーム形状調整用受光手
段 24,25 位置調整用受光手段 26,27 偏光分離手段 28 位置調整用受光手段

Claims (9)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 レーザ光源からの出射ビームを照射光学
    系を介して対物レンズに導き、これにより集光された前
    記出射ビームを光情報記録媒体の面上に照射して情報の
    記録を行う情報記録装置において、前記レーザ光源と前
    記照射光学系との間の光路上に、前記出射ビームのビー
    ム形状及び光軸の調整を行うビーム調整光学系を設けた
    ことを特徴とする情報記録装置。
  2. 【請求項2】 ビーム調整光学系に、出射ビームのビー
    ム径を規制するビーム径規制部材を設けたことを特徴と
    する請求項1記載の情報記録装置。
  3. 【請求項3】 ビーム調整光学系は、レンズ曲率の形成
    された方向及び光軸方向に移動自在な一対のシリンドリ
    カルレンズを有することを特徴とする請求項1又は2記
    載の情報記録装置。
  4. 【請求項4】 一対のシリンドリカルレンズを2組設
    け、これら各組のレンズ曲率の形成された方向が互いに
    直交するように前記一対のシリンドリカルレンズを設置
    したことを特徴とする請求項3記載の情報記録装置。
  5. 【請求項5】 一対のシリンドリカルレンズを、ビーム
    エキスパンダ比がm倍(ただしm>1)のビームエキス
    パンダとして構成したことを特徴とする請求項3又は4
    記載の情報記録装置。
  6. 【請求項6】 シリンドリカルレンズの後段に、調整後
    の出射ビームをサンプル光として抽出するビーム抽出手
    段を設けたことを特徴とする請求項4又は5記載の情報
    記録装置。
  7. 【請求項7】 ビーム抽出手段により抽出されたサンプ
    ル光を2方向に偏光分離する偏光分離手段を設けたこと
    を特徴とする請求項6記載の情報記録装置。
  8. 【請求項8】 偏光分離手段により分離された一方の光
    路上に位置調整用受光手段を配設し、他方の光路上に角
    度・ビーム形状調整用受光手段を配設したことを特徴と
    する請求項7記載の情報記録装置。
  9. 【請求項9】 角度・ビーム形状調整用受光手段に、ビ
    ーム抽出手段により抽出された複数のサンプル光を導く
    ようにしたことを特徴とする請求項8記載の情報記録装
    置。
JP7176987A 1995-07-13 1995-07-13 情報記録装置 Pending JPH0935308A (ja)

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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US7236434B2 (en) 2001-06-29 2007-06-26 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Exposure apparatus of an optical disk master, method of exposing an optical disk master, and wavefront fluctuation correction mechanism

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7236434B2 (en) 2001-06-29 2007-06-26 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Exposure apparatus of an optical disk master, method of exposing an optical disk master, and wavefront fluctuation correction mechanism
US7272099B2 (en) 2001-06-29 2007-09-18 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Exposure apparatus of an optical disk master, method of exposing an optical disk master and pinhole mechanism

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