JPH09329891A - 樹脂組成物、そのフィルム及びその硬化物 - Google Patents
樹脂組成物、そのフィルム及びその硬化物Info
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- JPH09329891A JPH09329891A JP17161796A JP17161796A JPH09329891A JP H09329891 A JPH09329891 A JP H09329891A JP 17161796 A JP17161796 A JP 17161796A JP 17161796 A JP17161796 A JP 17161796A JP H09329891 A JPH09329891 A JP H09329891A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】水、希アルカリ水溶液又は有機溶剤で現像がで
き、パターン精度が良好で、加熱焼成後の有機物の残渣
が少なく、密着性に優れた抵抗体、蛍光体、隔壁及び導
体パターン用等の樹脂組成物、フィルム及びその硬化物
を提供する。 【解決手段】光重合可能な樹脂化合物(A)及び/又は
非反応性樹脂(A’)、希釈剤(B)、光重合開始剤
(C)及び母粒子の周囲に母粒子よりも屈折率の低い
層、紫外線吸収層及び/又は着色層を有する金属粉、金
属酸化物又はガラスの中から選択される1種又は2種以
上(F)を含有することを特徴とする樹脂組成物、フィ
ルム及びその硬化物。
き、パターン精度が良好で、加熱焼成後の有機物の残渣
が少なく、密着性に優れた抵抗体、蛍光体、隔壁及び導
体パターン用等の樹脂組成物、フィルム及びその硬化物
を提供する。 【解決手段】光重合可能な樹脂化合物(A)及び/又は
非反応性樹脂(A’)、希釈剤(B)、光重合開始剤
(C)及び母粒子の周囲に母粒子よりも屈折率の低い
層、紫外線吸収層及び/又は着色層を有する金属粉、金
属酸化物又はガラスの中から選択される1種又は2種以
上(F)を含有することを特徴とする樹脂組成物、フィ
ルム及びその硬化物。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明はプラズマディスプレ
イ、蛍光表示管及び電子部品等に用いる抵抗体パター
ン、導体回路パターン又は螢光体パターンあるいは隔壁
等の製造工程において好適に用いられ、紫外線による露
光、有機溶剤による現像後に400〜1000℃で焼成
することにより電流を安定的に流す為の良好な抵抗体パ
ターン、優れた導電性を有する回路パターン、螢光体パ
ターンあるいは隔壁等を形成する樹脂組成物、そのフィ
ルム、その硬化物及び焼成成型物に関する。
イ、蛍光表示管及び電子部品等に用いる抵抗体パター
ン、導体回路パターン又は螢光体パターンあるいは隔壁
等の製造工程において好適に用いられ、紫外線による露
光、有機溶剤による現像後に400〜1000℃で焼成
することにより電流を安定的に流す為の良好な抵抗体パ
ターン、優れた導電性を有する回路パターン、螢光体パ
ターンあるいは隔壁等を形成する樹脂組成物、そのフィ
ルム、その硬化物及び焼成成型物に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、プラズマディスプレイ用の抵抗
体、螢光体及び隔壁、あるいは回路用導体は、抵抗体ペ
ースト(抵抗体をペースト状にしたもの)、螢光体ペー
スト(螢光体をペースト状にしたもの),隔壁ペースト
(隔壁用物質をペースト状にしたもの)及び導体ペース
ト(銅粉、銀粉等の導電物質をペースト状したもの)を
スクリーン印刷等によりパターン印刷し、次いで焼成す
ることにより抵抗体パターン、螢光体パターン及び隔壁
パターン、あるいは導体回路パターンを形成するものが
知られているが、これらは近年の抵抗体パターン、螢光
体パターン、隔壁パターン、あるいは導体回路パターン
の高密度、細線パターン化には対応できない。そこで、
感光性樹脂を用いたフォトプロセスが検討されている
が、それぞれのフィラーと感光性樹脂の屈折率が異なる
ために界面での光散乱が生じる。また、そのフィラーの
充填率が大きいために散乱強度も大きくなり、高精細パ
ターンの形成が困難であった。
体、螢光体及び隔壁、あるいは回路用導体は、抵抗体ペ
ースト(抵抗体をペースト状にしたもの)、螢光体ペー
スト(螢光体をペースト状にしたもの),隔壁ペースト
(隔壁用物質をペースト状にしたもの)及び導体ペース
ト(銅粉、銀粉等の導電物質をペースト状したもの)を
スクリーン印刷等によりパターン印刷し、次いで焼成す
ることにより抵抗体パターン、螢光体パターン及び隔壁
パターン、あるいは導体回路パターンを形成するものが
知られているが、これらは近年の抵抗体パターン、螢光
体パターン、隔壁パターン、あるいは導体回路パターン
の高密度、細線パターン化には対応できない。そこで、
感光性樹脂を用いたフォトプロセスが検討されている
が、それぞれのフィラーと感光性樹脂の屈折率が異なる
ために界面での光散乱が生じる。また、そのフィラーの
充填率が大きいために散乱強度も大きくなり、高精細パ
ターンの形成が困難であった。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】本発明の樹脂組成物
は、上記の欠点を改良し、細密なパターン作成が可能で
紫外線で硬化後、有機溶剤で現像し、良好な抵抗体パタ
ーン、螢光体パターン、隔壁パターンあるいは導体回路
パターンを形成する樹脂組成物及びその硬化物を提供す
る。
は、上記の欠点を改良し、細密なパターン作成が可能で
紫外線で硬化後、有機溶剤で現像し、良好な抵抗体パタ
ーン、螢光体パターン、隔壁パターンあるいは導体回路
パターンを形成する樹脂組成物及びその硬化物を提供す
る。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明は、[1]光重合
可能な樹脂化合物(A)及び/又は非反応性樹脂
(A’)、希釈剤(B)、光重合開始剤(C)、紫外線
吸収剤(D)及び/又は着色剤(E)及び金属粉、酸化
金属粉及び/又はガラス粉の1種類又は2種類以上の粉
体であって周囲にその粉体よりも屈折率の低い層、紫外
線吸収層及び/又は着色層を有する粉体(F)を含有
し、水、アルカリ水溶液又は有機溶剤で現像が可能な樹
脂組成物。[2]光重合可能な樹脂化合物(A)及び/
又は非反応性樹脂(A’)、希釈剤(B)、光重合開始
剤(C)及び金属粉、酸化金属粉及び/又はガラス粉の
1種類又は2種類以上の粉体であって周囲にその粉体よ
りも屈折率の低い層、紫外線吸収層及び/又は着色層を
有する粉体(F)を含有し、水、アルカリ水溶液又は有
機溶剤で現像が可能な樹脂組成物、[3]抵抗体パター
ン、導体パターン、螢光体パターン又は隔壁パターン用
の上記[1]及び[2]記載の樹脂組成物、[4]上記
[1]、[2]及び[3]記載の樹脂組成物から成るフ
ィルム、[5]上記[1]、[2]、[3]及び[4]
記載の樹脂組成物の硬化物、[6]上記[5]記載の硬
化物を焼成して得られる抵抗体、導体、蛍光体及び隔
壁、に関する。
可能な樹脂化合物(A)及び/又は非反応性樹脂
(A’)、希釈剤(B)、光重合開始剤(C)、紫外線
吸収剤(D)及び/又は着色剤(E)及び金属粉、酸化
金属粉及び/又はガラス粉の1種類又は2種類以上の粉
体であって周囲にその粉体よりも屈折率の低い層、紫外
線吸収層及び/又は着色層を有する粉体(F)を含有
し、水、アルカリ水溶液又は有機溶剤で現像が可能な樹
脂組成物。[2]光重合可能な樹脂化合物(A)及び/
又は非反応性樹脂(A’)、希釈剤(B)、光重合開始
剤(C)及び金属粉、酸化金属粉及び/又はガラス粉の
1種類又は2種類以上の粉体であって周囲にその粉体よ
りも屈折率の低い層、紫外線吸収層及び/又は着色層を
有する粉体(F)を含有し、水、アルカリ水溶液又は有
機溶剤で現像が可能な樹脂組成物、[3]抵抗体パター
ン、導体パターン、螢光体パターン又は隔壁パターン用
の上記[1]及び[2]記載の樹脂組成物、[4]上記
[1]、[2]及び[3]記載の樹脂組成物から成るフ
ィルム、[5]上記[1]、[2]、[3]及び[4]
記載の樹脂組成物の硬化物、[6]上記[5]記載の硬
化物を焼成して得られる抵抗体、導体、蛍光体及び隔
壁、に関する。
【0005】
【発明の実施の形態】以下、本発明を詳細に説明する。
本発明で用いる樹脂(A)は、例えば1分子中に2個以
上のエポキシ基を有する化合物と1分子中に不飽和2重
結合とカルボキシル基を1つずつ有する化合物を反応さ
せ、必要に応じて多塩基酸無水物(c)を反応させて得
られる樹脂であり、具体例としては、特開平7−259
528記載の脂肪族グリシジルエーテルの(メタ)アク
リレート、特開平7−288194記載の不飽和基含有
ポリカルボン酸樹脂、特開平7−314890、特開平
8−19283、特開平8−19284及び特開平8−
33099記載のポリ(メタ)アクリレート樹脂等が挙
げられる。但し、上記の樹脂に限定される分けではな
い。
本発明で用いる樹脂(A)は、例えば1分子中に2個以
上のエポキシ基を有する化合物と1分子中に不飽和2重
結合とカルボキシル基を1つずつ有する化合物を反応さ
せ、必要に応じて多塩基酸無水物(c)を反応させて得
られる樹脂であり、具体例としては、特開平7−259
528記載の脂肪族グリシジルエーテルの(メタ)アク
リレート、特開平7−288194記載の不飽和基含有
ポリカルボン酸樹脂、特開平7−314890、特開平
8−19283、特開平8−19284及び特開平8−
33099記載のポリ(メタ)アクリレート樹脂等が挙
げられる。但し、上記の樹脂に限定される分けではな
い。
【0006】本発明で用いる非反応性樹脂(A’)は、
例えば、ポリエチレングリコール、ポリエチレングリコ
ールと多塩基酸又はその無水酸との反応物であるポリエ
ステル、アクリルポリマー、セルロース等が例示され、
好ましくは、特開平7−259526記載の水溶性ポリ
エーテル及び/又はポリエステル系化合物、特開平7−
288193記載のカルボキシル基含有ロジン及び/又
はフェノール系樹脂、特開平7−314888記載の水
溶性重合体及び特開平7−314889記載の部分けん
化ポリ酢酸ビニル等が例示される。但し、上記の樹脂に
限定される分けではない。
例えば、ポリエチレングリコール、ポリエチレングリコ
ールと多塩基酸又はその無水酸との反応物であるポリエ
ステル、アクリルポリマー、セルロース等が例示され、
好ましくは、特開平7−259526記載の水溶性ポリ
エーテル及び/又はポリエステル系化合物、特開平7−
288193記載のカルボキシル基含有ロジン及び/又
はフェノール系樹脂、特開平7−314888記載の水
溶性重合体及び特開平7−314889記載の部分けん
化ポリ酢酸ビニル等が例示される。但し、上記の樹脂に
限定される分けではない。
【0007】本発明では希釈剤(B)を使用する。
(B)成分の具体例としては、例えば、2−ヒドロキシ
エチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル
(メタ)アクリレート、1,4−ブタンジオールモノ
(メタ)アクリレート、カルビトール(メタ)アクリレ
ート、アクリロイルモルホリン、水酸基含有(メタ)ア
クリレート(例えば、2−ヒドロキシエチル(メタ)ア
クリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレ
ート、1,4−ブタンジオールモノ(メタ)アクリレー
ト等)と多カルボン酸化合物の酸無水物(例えば、無コ
ハク酸、無水マレイン酸、無水フタル酸、テトラヒドロ
無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸等)の反応物
であるハーフエステル,ポリエチレングリコールジ(メ
タ)アクリレート、トリプロピレングリコールジ(メ
タ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メ
タ)アクリレート、トリメチロールプロパンポリエトキ
シトリ(メタ)アクリレート、グリセンポリプロポキシ
トリ(メタ)アクリレート、ヒドロキシビバリン酸ネオ
ペングリコールのε−カプロラクトン付加物のジ(メ
タ)アクリレート(例えば、日本化薬(株)製、KAY
ARAD HX−220、HX−620、等)、ペンタ
エリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタ
エリスリトールとε−カプロラクトンの反応物のポリ
(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールポリ
(メタ)アクリレート、モノ又はポリグリシジル化合物
(例えば、ブチルグリシジルエーテル、フェニルグリシ
ジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエ
ーテル、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテ
ル、1,6−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、
ヘキサヒドロフタル酸ジグリシジルエステル、グリセリ
ンポリグリシジルエーテル、グリセリンポリエトキシグ
リシジルエーテル、トリメチロールプロパンポリグリシ
ジルエーテル、トリメチロールプロパンポリエトキシポ
リグリシジルエーテル、等)と(メタ)アクリル酸の反
応物であるエポキシ(メタ)アクリレート、等の反応性
希釈剤(B−1)、エチレングリコールモノアルキルエ
ーテル類、エチレングリコールジアルキルエーテル類、
ジエチレングリコールモノアルキルエーテルアセテート
類、エチレングリコールモノアリールエーテル類、ポリ
エチレングリコールモノアリールエーテル類、アセト
ン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等の
ケトン類、酢酸エステル、酢酸ブチル等のエステル類、
トルエン、キシレン、ベンジルアルコール等の芳香族炭
化水素類、プロピレングリコールモノアルキルエーテル
類、ジプロピレングリコールジアルキルエーテル類、プ
ロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテート
類、エチレンカーボネート、プロピレンカーボネート、
γ−ブチロラクトン、ソルベントナフサ等の有機溶剤類
(B−2)等を挙げることができる。希釈剤は、単独で
用いても良く、2種類以上を混合して用いても良い。
(B)成分の具体例としては、例えば、2−ヒドロキシ
エチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル
(メタ)アクリレート、1,4−ブタンジオールモノ
(メタ)アクリレート、カルビトール(メタ)アクリレ
ート、アクリロイルモルホリン、水酸基含有(メタ)ア
クリレート(例えば、2−ヒドロキシエチル(メタ)ア
クリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレ
ート、1,4−ブタンジオールモノ(メタ)アクリレー
ト等)と多カルボン酸化合物の酸無水物(例えば、無コ
ハク酸、無水マレイン酸、無水フタル酸、テトラヒドロ
無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸等)の反応物
であるハーフエステル,ポリエチレングリコールジ(メ
タ)アクリレート、トリプロピレングリコールジ(メ
タ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メ
タ)アクリレート、トリメチロールプロパンポリエトキ
シトリ(メタ)アクリレート、グリセンポリプロポキシ
トリ(メタ)アクリレート、ヒドロキシビバリン酸ネオ
ペングリコールのε−カプロラクトン付加物のジ(メ
タ)アクリレート(例えば、日本化薬(株)製、KAY
ARAD HX−220、HX−620、等)、ペンタ
エリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタ
エリスリトールとε−カプロラクトンの反応物のポリ
(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールポリ
(メタ)アクリレート、モノ又はポリグリシジル化合物
(例えば、ブチルグリシジルエーテル、フェニルグリシ
ジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエ
ーテル、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテ
ル、1,6−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、
ヘキサヒドロフタル酸ジグリシジルエステル、グリセリ
ンポリグリシジルエーテル、グリセリンポリエトキシグ
リシジルエーテル、トリメチロールプロパンポリグリシ
ジルエーテル、トリメチロールプロパンポリエトキシポ
リグリシジルエーテル、等)と(メタ)アクリル酸の反
応物であるエポキシ(メタ)アクリレート、等の反応性
希釈剤(B−1)、エチレングリコールモノアルキルエ
ーテル類、エチレングリコールジアルキルエーテル類、
ジエチレングリコールモノアルキルエーテルアセテート
類、エチレングリコールモノアリールエーテル類、ポリ
エチレングリコールモノアリールエーテル類、アセト
ン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等の
ケトン類、酢酸エステル、酢酸ブチル等のエステル類、
トルエン、キシレン、ベンジルアルコール等の芳香族炭
化水素類、プロピレングリコールモノアルキルエーテル
類、ジプロピレングリコールジアルキルエーテル類、プ
ロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテート
類、エチレンカーボネート、プロピレンカーボネート、
γ−ブチロラクトン、ソルベントナフサ等の有機溶剤類
(B−2)等を挙げることができる。希釈剤は、単独で
用いても良く、2種類以上を混合して用いても良い。
【0008】光重合開始剤(C)の具体例としては、例
えば、2,4−ジエチルチオキサントン、2−クロロク
チキキサントン、イソプロピルチオキサントン、2−メ
チル−1−〔4−(メチルチオ)フェニル〕−2−モル
フォリノ−プロパン−1,2−ベンジル−2−ジメチル
アミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)−1−ブタ
ノン、4−ベンゾイル−4′−メチルジフェニルスルフ
ィド、2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルホ
スフィンオキサイド、ミヒラーズケトン、ベンジルジメ
チルケタール、2−エチルアンスラキノン等を挙げるこ
とができる。又、これら光重合開始剤(B)の促進剤と
しての光重合促進剤(例えば、N,N−ジメチルアミノ
安息香酸エチルエステル、N,N−ジメチルアミノ安息
香酸イソアミルエステル等のアミン類)を併用すること
もできる。
えば、2,4−ジエチルチオキサントン、2−クロロク
チキキサントン、イソプロピルチオキサントン、2−メ
チル−1−〔4−(メチルチオ)フェニル〕−2−モル
フォリノ−プロパン−1,2−ベンジル−2−ジメチル
アミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)−1−ブタ
ノン、4−ベンゾイル−4′−メチルジフェニルスルフ
ィド、2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルホ
スフィンオキサイド、ミヒラーズケトン、ベンジルジメ
チルケタール、2−エチルアンスラキノン等を挙げるこ
とができる。又、これら光重合開始剤(B)の促進剤と
しての光重合促進剤(例えば、N,N−ジメチルアミノ
安息香酸エチルエステル、N,N−ジメチルアミノ安息
香酸イソアミルエステル等のアミン類)を併用すること
もできる。
【0009】紫外線吸収剤(D)としては、ベンゾトリ
アゾール誘導体、ベンゾフェノン誘導体、サリチル酸誘
導体及びシアノアクリレート誘導体が例示される。ベン
ゾトリアゾール誘導体としては、2−(2−ヒドロキシ
−5−メチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(2
−ヒドロキシ−5−tert−ブチルフェニル)ベンゾ
トリアゾール、、2−(2−ヒドロキシ−3,5−ジ−
tert−ブチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−
(2−ヒドロキシ−3−tert−ブチル−5−メチ
ル)ベンゾトリアゾール、2−(2−ヒドロキシ−3,
5−ジ−tert−ブチルフェニル)−5−クロロベン
ゾトリアゾール、2−(2−ヒドロキシ−3,5−ジ−
tert−アミルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−
(2−ヒドロキシ−4−オクトキシフェニル)ベンゾト
リアゾール、2−{2−ヒドロキシ−3−(3,4,
5,6−テトラヒドロフタルイミドメチル)−5−メチ
ルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(2−ヒドロキ
シ−3,5−ジ−ノニルフェニル)ベンゾトリアゾー
ル、2−(2−ヒドロキシ−5’−メタクリルオキシエ
チルフェニル)−2H−ベンゾトリアゾール及びその共
重合物等、ベンゾフェノン誘導体としては、2,4−ジ
ヒドロキシベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−メト
キシベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−オクトキシ
ベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−ドデシルオキシ
ベンゾフェノン、2,2’−ジヒドロキシ−4−メトキ
シベンゾフェノン、2,2’−ジヒドロキシ−4,4’
−ジメトキシベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−メ
トキシ−5−スルホベンゾン等、サリチル酸誘導体とし
ては、フェニルサリチレート、p−tert−ブチルフ
ェニルサリチレート、p−オクチルフェニルサリチレー
ト、2−エチルヘキシルサリチレート、ホモメンチルサ
リチレート等、シアノアクリレート誘導体としては、2
−エチルヘキシル−2−シアノ−3,3−ジフェニルア
クリレート、エチル−2−シアノ−3,3−ジフェニル
アクリレート等が例示される。
アゾール誘導体、ベンゾフェノン誘導体、サリチル酸誘
導体及びシアノアクリレート誘導体が例示される。ベン
ゾトリアゾール誘導体としては、2−(2−ヒドロキシ
−5−メチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(2
−ヒドロキシ−5−tert−ブチルフェニル)ベンゾ
トリアゾール、、2−(2−ヒドロキシ−3,5−ジ−
tert−ブチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−
(2−ヒドロキシ−3−tert−ブチル−5−メチ
ル)ベンゾトリアゾール、2−(2−ヒドロキシ−3,
5−ジ−tert−ブチルフェニル)−5−クロロベン
ゾトリアゾール、2−(2−ヒドロキシ−3,5−ジ−
tert−アミルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−
(2−ヒドロキシ−4−オクトキシフェニル)ベンゾト
リアゾール、2−{2−ヒドロキシ−3−(3,4,
5,6−テトラヒドロフタルイミドメチル)−5−メチ
ルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(2−ヒドロキ
シ−3,5−ジ−ノニルフェニル)ベンゾトリアゾー
ル、2−(2−ヒドロキシ−5’−メタクリルオキシエ
チルフェニル)−2H−ベンゾトリアゾール及びその共
重合物等、ベンゾフェノン誘導体としては、2,4−ジ
ヒドロキシベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−メト
キシベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−オクトキシ
ベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−ドデシルオキシ
ベンゾフェノン、2,2’−ジヒドロキシ−4−メトキ
シベンゾフェノン、2,2’−ジヒドロキシ−4,4’
−ジメトキシベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−メ
トキシ−5−スルホベンゾン等、サリチル酸誘導体とし
ては、フェニルサリチレート、p−tert−ブチルフ
ェニルサリチレート、p−オクチルフェニルサリチレー
ト、2−エチルヘキシルサリチレート、ホモメンチルサ
リチレート等、シアノアクリレート誘導体としては、2
−エチルヘキシル−2−シアノ−3,3−ジフェニルア
クリレート、エチル−2−シアノ−3,3−ジフェニル
アクリレート等が例示される。
【0010】着色剤(E)としては、染料、顔料等が例
示される。染料としては、天然染料及び合成染料等が例
示され、天然染料としては古代紫及びコチニール等の動
物染料、アイ及びアカネ等の植物染料及びミネラルカー
キ等の鉱物染料等、合成染料としては、ニトロソ染料、
ニトロ染料、アゾ染料、スチルベン染料、ピラゾロン染
料、トリフェニルメタン染料、キサンテン染料、アクリ
ジン染料、キノリン染料、チアゾール染料、キノンイミ
ン染料、アジン染料、オキサジン染料、チアジン染料、
トリアジン染料、硫化染料、アントラキノン染料、イン
ジゴイド染料、フタロシアニン染料及び酸化染料が例示
され、さらに具体的には、カヤセットフラビン FN、
カヤセット フラビン FG、カヤセット イエロー
SF−G、カヤセット オレンジ SF−R、カヤセッ
ト レッド SF−4G、カヤセット レッド SF−
B、 カヤセット ブルー FR、 カヤセット イエ
ロー 2G、カヤセット イエロー GN、カヤセット
オレンジ G、カヤセット レッド G、カヤセット
レッド130、カヤセット レッド B、カヤセット
ブルー N、カヤセット ブラック G、カヤセット
ブラック B、カヤセット ブラック A−N、カヤ
セットグリーン A−B、カヤセット ブルー A−
D、カヤセット イエロー A−G、カヤセット オレ
ンジ A−N、カヤセット レッド A−G、カヤセッ
ト レッド A−2G、カヤセットレッド A−BR、
カヤセット バイオレット A−R、カヤセット ブル
ーA−2R、カヤセット イエロー E−G、カヤセッ
ト イエロー E−AR、カヤセット レッド E−C
G、カヤセット レッド E−BG、カヤセットブルー
ARC、カヤライト B、カヤライト OS及びカヤ
ライト OSN(いずれも日本化薬(株)製)等が例示
される。また、顔料としては、亜鉛華、鉛白、塩基性硫
酸鉛、硫酸鉛、リポトン、硫化亜鉛、酸化チタン、酸化
アンチモン、カーボンブラック、アセチレンブラック、
ランプブラック、ボーンブラック、黒鉛、鉄黒、ミネラ
ルブラック、アニリンブラック、シアニンブラック、黄
鉛、亜鉛黄、クロム酸バリウム、カドミウムイエロー、
黄色酸化鉄、黄土、チタン黄、鉛シアナミド、鉛酸カル
シウム、ナフトールイエローS、ハンザエロー10G、
ハンザエロー5G、ハンザエロー3G、ハンザエロー
G、ハンザエローGR、ハンザエローA、ハンザエロー
RN、ハンザエローR、ピグメントエローL、ベンジジ
ンイロー、ベンジジンエローG、ベンジジンエローG
R、パーマネントエローンCG、バルケンファストエロ
ー5G、タートラジンレーキ、キノリンエローレーキ、
アンスラゲンエロー6GL、パーマネントエローFG
L、パーマネントエローH10G、パーマネントエロー
HR、アンスラピリジンエロー、赤口黄鉛、クロムバー
ミリオン、スダーンI、パーマネントオレンジ、リソー
ルファストオレンジ3GL、パーマネントオレンジGT
R、ハンザエロー3R、バルカンファストオレンジョG
G、ベンジジンオレンジG、ペルシアンオレンジ、イン
ダンスレンブリリアントオレンジRK、インダンスレン
ブリリアントオレンジGR、酸化鉄、アンバー、パーマ
ネントブラウンFG、パラブラウン、べんがら、鉛丹、
銀朱、カドミウムレッド、カドミウムマーキュリレッ
ド、アンチモン朱、パーマネントレッド4R、パラレッ
ド、ファイヤーレッド、パラクロロオルトアニリンレッ
ド、リソールファストスカーレットG、ブリリアントフ
ァストスカーレット、洋朱、ブリリアントカーミンB
S、パーマネントレッドF2R、パーマネントレッドF
4R、パーマネントレッドFRL、パーマネントレッド
FRLL、パーマネントレッドF4RH、バルカンファ
ストルビンB、バルカンファストピンクG、ライトファ
ストレッドトーナーR、パーマネントカーミンFB、ピ
ラゾロンレッド、リソールレッド、レーキレッドC、レ
ーキレッドD、アンソシンB、ブリリアントスカーレッ
トG、リソールルビンGK、パーマネントレッドF5
R、ブリリアントカ0ミン6B、ピグメントスカーレッ
ト3B、ボルドー5B、トルイジンマルーン、パーマネ
ントボルドーF2R、ヘリオボルドーBL、ボルドー1
0B、ボンマルーンライト、ボンマルーンメジアム、エ
オシンレーキ、ローダミンレーキB、ローダミンレーキ
Y、アリザリンレーキ、チオインジゴレッドB、チオイ
ンジゴマルーン、パーマネントレッドFGR、PVカー
ミンHR、モノライトファストレッドYS、パーマネン
トレッドBL、コバルト紫、マンガン紫、ファストバイ
オレットB、メチルバイオレットレーキ、ジオキサジン
バイオレット、群青、紺青、コバルトブルー、セルリア
ンブルー、呉須、アルカリブルーレーキ、ピーコックブ
ルーレーキ、ビクトリアブルーレーキ、無金属フタロシ
アニンブルー、フタロシアニンブルー、ファストスカイ
ブルー、インダンスレンブルーRS、インダンスレンブ
ルーBC、インジゴ、クロムグリーン、ジンクグリー
ン、酸化クロム、ビリジアン、エメラルドグリーン、コ
バルトグリーン、ピグメントグリーンB、ナフトールグ
ルーンB、グリーンゴールド、アシッドグリーンレー
キ、マラカイトグリーンレーキ、フタロシアニングリー
ン、ポリブロム銅フタロシアニン、硫化亜鉛、珪酸亜
鉛、硫化亜鉛カドミウム、硫化カルシウム、硫化ストロ
ンチウム及びタングステン酸カルシウム等が例示され
る。
示される。染料としては、天然染料及び合成染料等が例
示され、天然染料としては古代紫及びコチニール等の動
物染料、アイ及びアカネ等の植物染料及びミネラルカー
キ等の鉱物染料等、合成染料としては、ニトロソ染料、
ニトロ染料、アゾ染料、スチルベン染料、ピラゾロン染
料、トリフェニルメタン染料、キサンテン染料、アクリ
ジン染料、キノリン染料、チアゾール染料、キノンイミ
ン染料、アジン染料、オキサジン染料、チアジン染料、
トリアジン染料、硫化染料、アントラキノン染料、イン
ジゴイド染料、フタロシアニン染料及び酸化染料が例示
され、さらに具体的には、カヤセットフラビン FN、
カヤセット フラビン FG、カヤセット イエロー
SF−G、カヤセット オレンジ SF−R、カヤセッ
ト レッド SF−4G、カヤセット レッド SF−
B、 カヤセット ブルー FR、 カヤセット イエ
ロー 2G、カヤセット イエロー GN、カヤセット
オレンジ G、カヤセット レッド G、カヤセット
レッド130、カヤセット レッド B、カヤセット
ブルー N、カヤセット ブラック G、カヤセット
ブラック B、カヤセット ブラック A−N、カヤ
セットグリーン A−B、カヤセット ブルー A−
D、カヤセット イエロー A−G、カヤセット オレ
ンジ A−N、カヤセット レッド A−G、カヤセッ
ト レッド A−2G、カヤセットレッド A−BR、
カヤセット バイオレット A−R、カヤセット ブル
ーA−2R、カヤセット イエロー E−G、カヤセッ
ト イエロー E−AR、カヤセット レッド E−C
G、カヤセット レッド E−BG、カヤセットブルー
ARC、カヤライト B、カヤライト OS及びカヤ
ライト OSN(いずれも日本化薬(株)製)等が例示
される。また、顔料としては、亜鉛華、鉛白、塩基性硫
酸鉛、硫酸鉛、リポトン、硫化亜鉛、酸化チタン、酸化
アンチモン、カーボンブラック、アセチレンブラック、
ランプブラック、ボーンブラック、黒鉛、鉄黒、ミネラ
ルブラック、アニリンブラック、シアニンブラック、黄
鉛、亜鉛黄、クロム酸バリウム、カドミウムイエロー、
黄色酸化鉄、黄土、チタン黄、鉛シアナミド、鉛酸カル
シウム、ナフトールイエローS、ハンザエロー10G、
ハンザエロー5G、ハンザエロー3G、ハンザエロー
G、ハンザエローGR、ハンザエローA、ハンザエロー
RN、ハンザエローR、ピグメントエローL、ベンジジ
ンイロー、ベンジジンエローG、ベンジジンエローG
R、パーマネントエローンCG、バルケンファストエロ
ー5G、タートラジンレーキ、キノリンエローレーキ、
アンスラゲンエロー6GL、パーマネントエローFG
L、パーマネントエローH10G、パーマネントエロー
HR、アンスラピリジンエロー、赤口黄鉛、クロムバー
ミリオン、スダーンI、パーマネントオレンジ、リソー
ルファストオレンジ3GL、パーマネントオレンジGT
R、ハンザエロー3R、バルカンファストオレンジョG
G、ベンジジンオレンジG、ペルシアンオレンジ、イン
ダンスレンブリリアントオレンジRK、インダンスレン
ブリリアントオレンジGR、酸化鉄、アンバー、パーマ
ネントブラウンFG、パラブラウン、べんがら、鉛丹、
銀朱、カドミウムレッド、カドミウムマーキュリレッ
ド、アンチモン朱、パーマネントレッド4R、パラレッ
ド、ファイヤーレッド、パラクロロオルトアニリンレッ
ド、リソールファストスカーレットG、ブリリアントフ
ァストスカーレット、洋朱、ブリリアントカーミンB
S、パーマネントレッドF2R、パーマネントレッドF
4R、パーマネントレッドFRL、パーマネントレッド
FRLL、パーマネントレッドF4RH、バルカンファ
ストルビンB、バルカンファストピンクG、ライトファ
ストレッドトーナーR、パーマネントカーミンFB、ピ
ラゾロンレッド、リソールレッド、レーキレッドC、レ
ーキレッドD、アンソシンB、ブリリアントスカーレッ
トG、リソールルビンGK、パーマネントレッドF5
R、ブリリアントカ0ミン6B、ピグメントスカーレッ
ト3B、ボルドー5B、トルイジンマルーン、パーマネ
ントボルドーF2R、ヘリオボルドーBL、ボルドー1
0B、ボンマルーンライト、ボンマルーンメジアム、エ
オシンレーキ、ローダミンレーキB、ローダミンレーキ
Y、アリザリンレーキ、チオインジゴレッドB、チオイ
ンジゴマルーン、パーマネントレッドFGR、PVカー
ミンHR、モノライトファストレッドYS、パーマネン
トレッドBL、コバルト紫、マンガン紫、ファストバイ
オレットB、メチルバイオレットレーキ、ジオキサジン
バイオレット、群青、紺青、コバルトブルー、セルリア
ンブルー、呉須、アルカリブルーレーキ、ピーコックブ
ルーレーキ、ビクトリアブルーレーキ、無金属フタロシ
アニンブルー、フタロシアニンブルー、ファストスカイ
ブルー、インダンスレンブルーRS、インダンスレンブ
ルーBC、インジゴ、クロムグリーン、ジンクグリー
ン、酸化クロム、ビリジアン、エメラルドグリーン、コ
バルトグリーン、ピグメントグリーンB、ナフトールグ
ルーンB、グリーンゴールド、アシッドグリーンレー
キ、マラカイトグリーンレーキ、フタロシアニングリー
ン、ポリブロム銅フタロシアニン、硫化亜鉛、珪酸亜
鉛、硫化亜鉛カドミウム、硫化カルシウム、硫化ストロ
ンチウム及びタングステン酸カルシウム等が例示され
る。
【0011】本発明で使用する粉体(F)の成分である
金属粉、酸化金属粉及び/又はガラス粉具体例として
は、例えば、好ましくは粒径が10μm以下である酸化
ルテニウム、酸化イットリウム、酸化ユーロピウム、酸
化サマリウム、酸化セリウム、酸化ランタン、酸化プラ
セオジム、酸化ネオジム、酸化ガドリニウム、酸化テル
ビウム、酸化ジスプロシウム、酸化ホルミウム、酸化エ
ルビウム、酸化ツリウム、等の金属酸化物あるいは混合
物、Y2 O3 :Eu、YVO4 :Eu、(Y,Gd)B
O3 :Eu、BaAl12O19:Mn、Zn2 SiO4 :
Mn、BaMgAl14O23:Eu、BaMgAl
16O27:Eu、MgO、LaB6 、Al、La0.5 Sr
0.5 CoO3 、La0.7 Sr0.3 :MnO3 等、銅粉、
銀粉、パラジウム粉、銀とパラジウムの混合粉、表面処
理された金粉、ランタン、セリウム、サマリウム、プラ
セオジム、ネオジム、プロメチウム、ユウロピウム、ガ
ドリニウム、テルビウム、ジスプロシウム、ホルミウ
ム、ツリウム、エルビウム、ルテニウム、イットリウ
ム、スカンジウム等の金属粉あるいは混合物、ガラス
粉、ガラスビーズ等、を挙げることができる。これらが
有する特性により、抵抗体用組成物、導体回路用組成
物、螢光体用組成物、隔壁用組成物等に応用することが
できる。
金属粉、酸化金属粉及び/又はガラス粉具体例として
は、例えば、好ましくは粒径が10μm以下である酸化
ルテニウム、酸化イットリウム、酸化ユーロピウム、酸
化サマリウム、酸化セリウム、酸化ランタン、酸化プラ
セオジム、酸化ネオジム、酸化ガドリニウム、酸化テル
ビウム、酸化ジスプロシウム、酸化ホルミウム、酸化エ
ルビウム、酸化ツリウム、等の金属酸化物あるいは混合
物、Y2 O3 :Eu、YVO4 :Eu、(Y,Gd)B
O3 :Eu、BaAl12O19:Mn、Zn2 SiO4 :
Mn、BaMgAl14O23:Eu、BaMgAl
16O27:Eu、MgO、LaB6 、Al、La0.5 Sr
0.5 CoO3 、La0.7 Sr0.3 :MnO3 等、銅粉、
銀粉、パラジウム粉、銀とパラジウムの混合粉、表面処
理された金粉、ランタン、セリウム、サマリウム、プラ
セオジム、ネオジム、プロメチウム、ユウロピウム、ガ
ドリニウム、テルビウム、ジスプロシウム、ホルミウ
ム、ツリウム、エルビウム、ルテニウム、イットリウ
ム、スカンジウム等の金属粉あるいは混合物、ガラス
粉、ガラスビーズ等、を挙げることができる。これらが
有する特性により、抵抗体用組成物、導体回路用組成
物、螢光体用組成物、隔壁用組成物等に応用することが
できる。
【0012】本発明で使用する粉体(F)は上記で説明
した粉体に低屈折率層、紫外線吸収層及び/又は着色層
を形成することで得られる。低屈折率層の屈折率は粉体
の屈折率より小さく、マトリックス樹脂組成物の屈折率
より大きいことが好ましく、好ましくは1.2〜1.6
である。これら低屈折率層は、有機物、無機物いずれで
も良く、有機物としては、ポリマーが好ましく、アクリ
ル樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂、ポリエステル樹
脂、ポリエーテル樹脂、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹
脂、ポリスルフィド樹脂、メラミン樹脂、セルロース樹
脂、キチン、キトサン及びゼラチン等が例示される。無
機物としては、金属アルコキシド、金属アセチルアセト
ネート及び金属カルボキシレート等が例示される。
した粉体に低屈折率層、紫外線吸収層及び/又は着色層
を形成することで得られる。低屈折率層の屈折率は粉体
の屈折率より小さく、マトリックス樹脂組成物の屈折率
より大きいことが好ましく、好ましくは1.2〜1.6
である。これら低屈折率層は、有機物、無機物いずれで
も良く、有機物としては、ポリマーが好ましく、アクリ
ル樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂、ポリエステル樹
脂、ポリエーテル樹脂、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹
脂、ポリスルフィド樹脂、メラミン樹脂、セルロース樹
脂、キチン、キトサン及びゼラチン等が例示される。無
機物としては、金属アルコキシド、金属アセチルアセト
ネート及び金属カルボキシレート等が例示される。
【0013】また、紫外線吸収層及び/又は着色層は、
上記紫外線吸収剤(D)及び着色剤(E)で例示した物
質を、バインダーを用いて母粒子にコーティングするこ
とで形成することができる。
上記紫外線吸収剤(D)及び着色剤(E)で例示した物
質を、バインダーを用いて母粒子にコーティングするこ
とで形成することができる。
【0014】これら低屈折率層、紫外線吸収層及び/又
は着色層の形成方法としては、パンコーティング法、ハ
イブリタイゼーション法、メカニカルフュージョン法、
熱融着法、溶剤融着法、液中乾燥法、噴霧乾燥法、コア
セルベーション法、界面重合法、in−situ法及び
ゾル−ゲル法等が例示される。又、これら低屈折率層、
紫外線吸収層及び/又は着色層の膜厚は、0.001〜
0.1μmが好ましい。
は着色層の形成方法としては、パンコーティング法、ハ
イブリタイゼーション法、メカニカルフュージョン法、
熱融着法、溶剤融着法、液中乾燥法、噴霧乾燥法、コア
セルベーション法、界面重合法、in−situ法及び
ゾル−ゲル法等が例示される。又、これら低屈折率層、
紫外線吸収層及び/又は着色層の膜厚は、0.001〜
0.1μmが好ましい。
【0015】本発明の樹脂組成物は(A)及び/又は
(A’)、(B)、(C)、(D)及び/又は(E)及
び(F)の各成分を溶解、混合、混練することにより調
製することができる。本発明の樹脂組成物中、各成分の
使用割合は以下のようにすることができる(%は重量
%)。(A)+(B−1)+(C)の合計した使用量は
組成物に対して5〜60%が好ましく、特に好ましくは
10〜50%である。(F)成分は、組成物中、40〜
95%が好ましく、特に好ましくは50〜90%であ
る。(D)又は(E)成分の添加量は、(A)+(B−
1)に対して、0.0001〜20%が好ましく、特に
好ましくは0.005〜10%である。(A)+(B−
1)+(C)の合計量の中に占める各成分の好ましい使
用量は、(A)成分の使用量は、30〜90%、(B−
1)成分の使用量は、5〜65%、(C)成分の使用量
は、5〜30%である。有機溶剤(B−2)の使用量
は、本発明の組成物を使用するために適当な粘度調整等
の目的のために任意の割合で使用することができる。
(A’)、(B)、(C)、(D)及び/又は(E)及
び(F)の各成分を溶解、混合、混練することにより調
製することができる。本発明の樹脂組成物中、各成分の
使用割合は以下のようにすることができる(%は重量
%)。(A)+(B−1)+(C)の合計した使用量は
組成物に対して5〜60%が好ましく、特に好ましくは
10〜50%である。(F)成分は、組成物中、40〜
95%が好ましく、特に好ましくは50〜90%であ
る。(D)又は(E)成分の添加量は、(A)+(B−
1)に対して、0.0001〜20%が好ましく、特に
好ましくは0.005〜10%である。(A)+(B−
1)+(C)の合計量の中に占める各成分の好ましい使
用量は、(A)成分の使用量は、30〜90%、(B−
1)成分の使用量は、5〜65%、(C)成分の使用量
は、5〜30%である。有機溶剤(B−2)の使用量
は、本発明の組成物を使用するために適当な粘度調整等
の目的のために任意の割合で使用することができる。
【0016】本発明の樹脂組成物には、その性能を阻害
しない範囲で、レベリング剤、消泡剤、カップリング
剤、重合禁止剤、ワックス類、その他等を使用すること
もできる。
しない範囲で、レベリング剤、消泡剤、カップリング
剤、重合禁止剤、ワックス類、その他等を使用すること
もできる。
【0017】本発明の樹脂組成物は、前述のように抵抗
体用組成物、螢光体用樹脂組成物、隔壁用樹脂組成物、
導体回路用樹脂組成物として用いることができ、これら
は、スクリーン印刷、カーテンフローコート、スプレー
コート等の方法により、各種基板(例えば、ガラス、セ
ラミック及び金属等)上の全面に塗布される。塗布後、
必要に応じて遠赤外線又は温風により50〜250℃程
度にプリベークし、有機溶剤を除去した後、パターニン
グしたい部分だけ紫外線を通すようにしたネガマスクを
用いて紫外線を露光する。紫外線の露光量としては10
〜10000mJ/cm2が好ましい。次に液温10〜60℃
の有機溶剤でスプレーなどの手段で現像を行ない、次い
で、例えば、400〜1000℃で1〜24時間、焼成
しパターンを形成する。
体用組成物、螢光体用樹脂組成物、隔壁用樹脂組成物、
導体回路用樹脂組成物として用いることができ、これら
は、スクリーン印刷、カーテンフローコート、スプレー
コート等の方法により、各種基板(例えば、ガラス、セ
ラミック及び金属等)上の全面に塗布される。塗布後、
必要に応じて遠赤外線又は温風により50〜250℃程
度にプリベークし、有機溶剤を除去した後、パターニン
グしたい部分だけ紫外線を通すようにしたネガマスクを
用いて紫外線を露光する。紫外線の露光量としては10
〜10000mJ/cm2が好ましい。次に液温10〜60℃
の有機溶剤でスプレーなどの手段で現像を行ない、次い
で、例えば、400〜1000℃で1〜24時間、焼成
しパターンを形成する。
【0018】現像液として使用する有機溶剤としては、
プロパン、n−ブタン、n−ペンタン、n−ヘキサン、
イソヘキサン、n−ヘプタン、n−オクタン、イソオク
タン、n−デカン、2,2−ジメチルブタン、石油エー
テル、石油ベンジン、リグロイン、ガソリン、ケロシ
ン、石油スピリット、石油ナフサ、エチレン、2−ペン
テン、混合ペンテン、シクロへキサン、メチルシクロへ
キサン、ベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベンゼ
ン、ジエチルベンゼン、イソプロピリベンゼン、アミル
ベンゼン、ジアミルベンゼン、トリアミルベンゼン、テ
トラアミルベンゼン、ドデシルベンゼン、ジドデシルベ
ンゼン、アミルトルエン、コールタールナフサ、ソルベ
ントナフサ等の炭化水素類、塩化メチル、塩化メチレ
ン、クロロホルム、四塩化炭素、塩化エチル、塩化エチ
レン、塩化エチリデン、1,1,1−トリクロロエタ
ン、1,1,2−トリクロロエタン、1,1,1,2−
テトラツロロエタン、1,1,2,2,−テトラクロロ
エタン等のハロゲン化炭化水素類、メタノール、エタノ
ール、n−プロパノール、イソプロパノール、n−ブタ
ノール、イソブタノール、第二ブタノール、第三ブタノ
ール、n−アミルアルコール、3−ペンタノール、フゼ
ル油、n−ヘキサノール、メチルアミルアルコール、2
−エチルブタノール、n−へプタノール、2−へプタノ
ール、3−へプタノール、n−オクタノール、2−オク
タノール、2−エチルヘキサノール、3,3,5−トリ
メチルヘキサノール、ノナノール、n−デカノール、ウ
ンデカノール、n−ドデカノール、シクロヘキサノー
ル、ベンジルアルコール、フルフリルアルコール、テト
ラヒドロフルフリルアルコール、α−テルピネオール等
のアルコール類、エチルエーテル、ジクロルエチルエー
テル、イソプロピルエーテル、n−ブチルエーテル、メ
チルフェニルエーテル、エチルフェニルエーテル、n−
ブチルフェニルエーテル、アミルフェニルエーテル、エ
チルベンジルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラ
ン等のエーテル及びアセタール類、アセトン、メチルエ
チルケトン、メチルイソブチルケトン、メチル−n−ア
ミルケトン、ジエチルケトン、シクロへキサノン、メチ
ルシクロへキサノン等のケトン類、ギ酸メチル、ギ酸メ
チル、ギ酸イソブチル、酢酸エチル、酢酸−n−ブチ
ル、酢酸シクロヘキシル、酢酸ベンジル、プロピオン酸
メチル、酪酸エチル、乳酸エチル等のエステル類、エチ
レングリコール、エチレングリコールモノエチルエーテ
ル、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテー
ト、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテー
ト、ジエチレングリコール、ジエチレングリコールモノ
メチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエー
テル、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテ
ート、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテ
ート、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロ
ピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等の多
価アルコール類、モノメチルアミン、ジメチルアミン、
トリメチルアミン、モノエチルアミン、ジエチルアミ
ン、トリエチルアミン、イソプロピルアミン、n−ブチ
ルアミン、エチレンジアミン、アニリン、シクロヘキシ
ルアミン、モノエタノールアミン、ジエタノールアミ
ン、トリエタノールアミン、N,N−ジメチルホルムア
ミド、アセトニトリル、ベンゾニトリル、ピリジン、モ
ルホリン、エチルモルホリン、フェニルモルホリン等の
窒素化合物、二硫化炭素、ジメチルスルホキシド等が例
示される。これら有機溶剤は、単独でも、二種類以上を
混合しても良く、必要に応じて、水を添加しても良い。
プロパン、n−ブタン、n−ペンタン、n−ヘキサン、
イソヘキサン、n−ヘプタン、n−オクタン、イソオク
タン、n−デカン、2,2−ジメチルブタン、石油エー
テル、石油ベンジン、リグロイン、ガソリン、ケロシ
ン、石油スピリット、石油ナフサ、エチレン、2−ペン
テン、混合ペンテン、シクロへキサン、メチルシクロへ
キサン、ベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベンゼ
ン、ジエチルベンゼン、イソプロピリベンゼン、アミル
ベンゼン、ジアミルベンゼン、トリアミルベンゼン、テ
トラアミルベンゼン、ドデシルベンゼン、ジドデシルベ
ンゼン、アミルトルエン、コールタールナフサ、ソルベ
ントナフサ等の炭化水素類、塩化メチル、塩化メチレ
ン、クロロホルム、四塩化炭素、塩化エチル、塩化エチ
レン、塩化エチリデン、1,1,1−トリクロロエタ
ン、1,1,2−トリクロロエタン、1,1,1,2−
テトラツロロエタン、1,1,2,2,−テトラクロロ
エタン等のハロゲン化炭化水素類、メタノール、エタノ
ール、n−プロパノール、イソプロパノール、n−ブタ
ノール、イソブタノール、第二ブタノール、第三ブタノ
ール、n−アミルアルコール、3−ペンタノール、フゼ
ル油、n−ヘキサノール、メチルアミルアルコール、2
−エチルブタノール、n−へプタノール、2−へプタノ
ール、3−へプタノール、n−オクタノール、2−オク
タノール、2−エチルヘキサノール、3,3,5−トリ
メチルヘキサノール、ノナノール、n−デカノール、ウ
ンデカノール、n−ドデカノール、シクロヘキサノー
ル、ベンジルアルコール、フルフリルアルコール、テト
ラヒドロフルフリルアルコール、α−テルピネオール等
のアルコール類、エチルエーテル、ジクロルエチルエー
テル、イソプロピルエーテル、n−ブチルエーテル、メ
チルフェニルエーテル、エチルフェニルエーテル、n−
ブチルフェニルエーテル、アミルフェニルエーテル、エ
チルベンジルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラ
ン等のエーテル及びアセタール類、アセトン、メチルエ
チルケトン、メチルイソブチルケトン、メチル−n−ア
ミルケトン、ジエチルケトン、シクロへキサノン、メチ
ルシクロへキサノン等のケトン類、ギ酸メチル、ギ酸メ
チル、ギ酸イソブチル、酢酸エチル、酢酸−n−ブチ
ル、酢酸シクロヘキシル、酢酸ベンジル、プロピオン酸
メチル、酪酸エチル、乳酸エチル等のエステル類、エチ
レングリコール、エチレングリコールモノエチルエーテ
ル、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテー
ト、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテー
ト、ジエチレングリコール、ジエチレングリコールモノ
メチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエー
テル、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテ
ート、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテ
ート、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロ
ピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等の多
価アルコール類、モノメチルアミン、ジメチルアミン、
トリメチルアミン、モノエチルアミン、ジエチルアミ
ン、トリエチルアミン、イソプロピルアミン、n−ブチ
ルアミン、エチレンジアミン、アニリン、シクロヘキシ
ルアミン、モノエタノールアミン、ジエタノールアミ
ン、トリエタノールアミン、N,N−ジメチルホルムア
ミド、アセトニトリル、ベンゾニトリル、ピリジン、モ
ルホリン、エチルモルホリン、フェニルモルホリン等の
窒素化合物、二硫化炭素、ジメチルスルホキシド等が例
示される。これら有機溶剤は、単独でも、二種類以上を
混合しても良く、必要に応じて、水を添加しても良い。
【0019】現像液には、界面活性剤を添加しても良
い。界面活性剤としては、ポリオキシエチレンアルキル
エーテル類、ポリオキシエチレンアルキルフェノールエ
ーテル類、ポリオキシエチレンアルキルエステル類、ソ
ルビタンアルキルエステル類、ポリオキシエチレンソル
ビタンアルキルエステル類等が例示される。
い。界面活性剤としては、ポリオキシエチレンアルキル
エーテル類、ポリオキシエチレンアルキルフェノールエ
ーテル類、ポリオキシエチレンアルキルエステル類、ソ
ルビタンアルキルエステル類、ポリオキシエチレンソル
ビタンアルキルエステル類等が例示される。
【0020】又、フィルムとして使用するときは本発明
の樹脂組成物を、例えば、ワイヤーバー方式、ディッピ
ング方式、スピンコート方式、グラビア方式及びドクタ
ーブレード方式等を用いて離型フィルム等に塗布し、必
要に応じて遠赤外線又は温風により通常は50〜250
℃で乾燥し、さらに、必要に応じて離型フィルム等を張
り付ける。使用時は、離型フィルムをはがして基板に転
写し、上記
の樹脂組成物を、例えば、ワイヤーバー方式、ディッピ
ング方式、スピンコート方式、グラビア方式及びドクタ
ーブレード方式等を用いて離型フィルム等に塗布し、必
要に応じて遠赤外線又は温風により通常は50〜250
℃で乾燥し、さらに、必要に応じて離型フィルム等を張
り付ける。使用時は、離型フィルムをはがして基板に転
写し、上記
【0014】と同様に露光、現像、焼成によりパターン
を形成する。
を形成する。
【0021】
【実施例】以下、実施例1〜5により本発明を説明す
る。例中、部とは重量部を表す。後記表1に示す組成に
したがって隔壁及び蛍光体用樹脂組成物を調製した。得
られた樹脂組成物をガイドを用いてガラス基板上の全面
に膜厚130μm(乾燥膜厚)で塗布し、80℃で30
分間プリベークした後、ネガフィルム(ライン/スペ−
ス=150μm/150μm)を接触させ超高圧水銀灯
により1500mJ/cm 2 照射し、次いで未露光部を現像
液(40℃)を用いてスプレー圧2kg/cm2 で2分間現
像した。現像後、空気中、500℃で1時間焼成し、隔
壁及び蛍光体パターンを形成した。パターン中の残存樹
脂分、現像性、現像後のパターンの状態、焼成後のガラ
ス基板との密着性を評価した。
る。例中、部とは重量部を表す。後記表1に示す組成に
したがって隔壁及び蛍光体用樹脂組成物を調製した。得
られた樹脂組成物をガイドを用いてガラス基板上の全面
に膜厚130μm(乾燥膜厚)で塗布し、80℃で30
分間プリベークした後、ネガフィルム(ライン/スペ−
ス=150μm/150μm)を接触させ超高圧水銀灯
により1500mJ/cm 2 照射し、次いで未露光部を現像
液(40℃)を用いてスプレー圧2kg/cm2 で2分間現
像した。現像後、空気中、500℃で1時間焼成し、隔
壁及び蛍光体パターンを形成した。パターン中の残存樹
脂分、現像性、現像後のパターンの状態、焼成後のガラ
ス基板との密着性を評価した。
【0022】合成例 (反応物(A)の合成例)かくはん装置及び冷却管のつ
いた丸底フラスコに、共重合型エポキシ樹脂(日本油脂
(株)製、ブレンマーCP−50M、エポキシ当量31
0、平均分子量6000)310部、アクリル酸72
部、トリフェニルホスフィン1.8部、メチルハイドロ
キノン0.3部及びプロピレングリコールモノメチルエ
ーテルアセテート500部を仕込み、60℃に昇温溶解
し、95℃で32時間反応させた後、無水こはく酸98
部を仕込み、90℃で5時間反応させ、平均分子量約8
000、樹脂固形分約50%の不飽和基含有ポリカルボ
ン酸樹脂を得た。
いた丸底フラスコに、共重合型エポキシ樹脂(日本油脂
(株)製、ブレンマーCP−50M、エポキシ当量31
0、平均分子量6000)310部、アクリル酸72
部、トリフェニルホスフィン1.8部、メチルハイドロ
キノン0.3部及びプロピレングリコールモノメチルエ
ーテルアセテート500部を仕込み、60℃に昇温溶解
し、95℃で32時間反応させた後、無水こはく酸98
部を仕込み、90℃で5時間反応させ、平均分子量約8
000、樹脂固形分約50%の不飽和基含有ポリカルボ
ン酸樹脂を得た。
【0023】調製例1 (粉体(F)の調製例)水100部にルビスコールK3
0(ビーエーエスエフジャパン(株)製ポリビニルピロ
リドン)5部を溶解した水溶液に、平均粒径5μmの低
融点ガラス粉100部を均一に分散させた。この分散液
をスプレードライヤーで乾燥し、低屈折率層を有する低
融点ガラス粉を得た。
0(ビーエーエスエフジャパン(株)製ポリビニルピロ
リドン)5部を溶解した水溶液に、平均粒径5μmの低
融点ガラス粉100部を均一に分散させた。この分散液
をスプレードライヤーで乾燥し、低屈折率層を有する低
融点ガラス粉を得た。
【0024】調製例2 (粉体(F)の調製例)水100部にゴーセノールKP
−06(日本合成化学工業(株)製ポリビニルアルコー
ル)5部を溶解した水溶液に、カヤセット フラビン
FN(日本化薬(株)製 染料)0.5部、平均粒径5
μmの低融点ガラス粉100部を均一に分散させた。こ
の分散液をスプレードライヤーで乾燥し、着色層を有す
る低融点ガラス粉を得た。
−06(日本合成化学工業(株)製ポリビニルアルコー
ル)5部を溶解した水溶液に、カヤセット フラビン
FN(日本化薬(株)製 染料)0.5部、平均粒径5
μmの低融点ガラス粉100部を均一に分散させた。こ
の分散液をスプレードライヤーで乾燥し、着色層を有す
る低融点ガラス粉を得た。
【0025】
【表1】 表1 実 施 例 1 2 3 4 合成例で得た重合体溶液 20.0 12.0 パオゲンEP−15 *1 10.0 6.0 テトラエチレングリコールジグリシジル 5.0 3.0 エーテルのジアクリレート KAYARAD THE−330 *2 5.0 2.5 KAYARAD TPGDA *3 3.0 2.0 KAYACURE DETX−S *4 0.25 0.1 0.5 0.5 KAYACURE EPA *5 0.25 0.1 0.5 0.5 Irg−651 *6 0.1 調製例1で得たガラス粉末 30 30 30 調製例2で得たガラス粉末 30 RUVA93 *7 0.01 0.01 残存有機物(wt%) 0.2 0.3 0.1 0.15 現像性(1%炭酸ナトリウム水溶液) ○ ○ 現像性(水) ○ ○ 現像後のパターンの状態 ○ ○ ○ ○ 密着性 ○ ○ ○ ○
【0026】注 *1 パオゲンEP−15:ポリエーテルポリエステル
ポリマー(第一工業製薬(株)製) *2 KAYARAD THE−330:EO変性トリ
メチロールプロパントリアクリレート(日本化薬(株)
製) *3 KAYARAD NPGDA:ネオペンチルグリ
コールジアクリレート(日本化薬(株)製) *4 KAYACURE DETX−S:2,4−ジエ
チルチオキサントン(日本化薬(株)製) *5 KAYACURE EPA:日本化薬(株)製、
p−ジメチルアミノ安息香酸エチルエステル *6 Irg−651:チバ−ガイギー(株)製、2,
2−ジメチキシ−1,2−ジフェニルエタン−1−オン *7 RUVA93:2−(2−’ヒドロキシ−5’−
メタクリルオキシエチルフェニル)−2H−ベンゾチア
ゾール(大塚化学(株)製)
ポリマー(第一工業製薬(株)製) *2 KAYARAD THE−330:EO変性トリ
メチロールプロパントリアクリレート(日本化薬(株)
製) *3 KAYARAD NPGDA:ネオペンチルグリ
コールジアクリレート(日本化薬(株)製) *4 KAYACURE DETX−S:2,4−ジエ
チルチオキサントン(日本化薬(株)製) *5 KAYACURE EPA:日本化薬(株)製、
p−ジメチルアミノ安息香酸エチルエステル *6 Irg−651:チバ−ガイギー(株)製、2,
2−ジメチキシ−1,2−ジフェニルエタン−1−オン *7 RUVA93:2−(2−’ヒドロキシ−5’−
メタクリルオキシエチルフェニル)−2H−ベンゾチア
ゾール(大塚化学(株)製)
【0027】実施例5 実施例1の樹脂組成物を乾燥後の膜厚が130μmにな
るように離型フィルムに塗布し、80℃で30分乾燥し
フィルムを得た。このフィルムをガラス基板に転写し、
ネガフィルムを接触させ超高圧水銀灯により1500mJ
/cm 2 照射し、次いで、未露光部をMEK(40℃)で
スプレー圧2kg/cm 2 で2分間現像した。現像後、空気
中、500℃で1時間焼成し、隔壁パターンを形成し
た。パターン中の残存樹脂分、現像性、現像後のパター
ンの状態、焼成後のガラス基板との密着性はすべて○で
あった。
るように離型フィルムに塗布し、80℃で30分乾燥し
フィルムを得た。このフィルムをガラス基板に転写し、
ネガフィルムを接触させ超高圧水銀灯により1500mJ
/cm 2 照射し、次いで、未露光部をMEK(40℃)で
スプレー圧2kg/cm 2 で2分間現像した。現像後、空気
中、500℃で1時間焼成し、隔壁パターンを形成し
た。パターン中の残存樹脂分、現像性、現像後のパター
ンの状態、焼成後のガラス基板との密着性はすべて○で
あった。
【0028】(残存有機分):450または600℃で
30分加熱焼成後の重量減少分を測定 (現像性):有機溶剤系現像液で、液温40℃でスプレ
ー圧2kg/cm 2 で2分間現 像し、以下の様
に評価した ○・・・・完全に現像できた △・・・・わずかに残渣がある ×・・・・現像されない部分がある (現像後のパターンので状態): ○・・・・パターンは正確に維持されている △・・・・パターンの幅が細くなっている ×・・・・パターン部分の一部または、全部剥がれてい
る (密着性):セロテープ剥離試験を行なった ○・・・・全く剥がれない △・・・・極一部剥がれがある ×・・・・剥がれの部分が多い
30分加熱焼成後の重量減少分を測定 (現像性):有機溶剤系現像液で、液温40℃でスプレ
ー圧2kg/cm 2 で2分間現 像し、以下の様
に評価した ○・・・・完全に現像できた △・・・・わずかに残渣がある ×・・・・現像されない部分がある (現像後のパターンので状態): ○・・・・パターンは正確に維持されている △・・・・パターンの幅が細くなっている ×・・・・パターン部分の一部または、全部剥がれてい
る (密着性):セロテープ剥離試験を行なった ○・・・・全く剥がれない △・・・・極一部剥がれがある ×・・・・剥がれの部分が多い
【0029】実施例1〜5の結果から明らかなように、
本発明の樹脂組成物、フィルム及びその硬化物は、現像
性に優れ、現像後のパターン精度が良好で、焼成後の有
機物の残存が少なく、密着性に優れている。
本発明の樹脂組成物、フィルム及びその硬化物は、現像
性に優れ、現像後のパターン精度が良好で、焼成後の有
機物の残存が少なく、密着性に優れている。
【0030】
【発明の効果】本発明の樹脂組成物及びフィルムは、パ
ターンを形成したフィルムを通して選択的に紫外線によ
り露光し、未露光部分を現像することによる抵抗体、螢
光体、隔壁あるいは導体回路のパターン形成において、
現像性に優れ、現像後のパターン精度が良好で、低温で
焼成しても有機物の残存が少なく、密着性に優れてい
る。
ターンを形成したフィルムを通して選択的に紫外線によ
り露光し、未露光部分を現像することによる抵抗体、螢
光体、隔壁あるいは導体回路のパターン形成において、
現像性に優れ、現像後のパターン精度が良好で、低温で
焼成しても有機物の残存が少なく、密着性に優れてい
る。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 H01J 9/02 H01J 9/02 B H05K 1/16 H05K 1/16 C 3/12 7511−4E 3/12 B // C08F 2/48 MDH C08F 2/48 MDH C09D 4/00 PDQ C09D 4/00 PDQ PEN PEN
Claims (6)
- 【請求項1】光重合可能な樹脂化合物(A)及び/又は
非反応性樹脂(A’)、希釈剤(B)、光重合開始剤
(C)、紫外線吸収剤(D)及び/又は着色剤(E)及
び金属粉、酸化金属粉及び/又はガラス粉の1種類又は
2種類以上の粉体であって周囲にその粉体よりも屈折率
の低い層、紫外線吸収層及び/又は着色層を有する粉体
(F)を含有し、水、アルカリ水溶液又は有機溶剤で現
像が可能な樹脂組成物。 - 【請求項2】光重合可能な樹脂化合物(A)及び/又は
非反応性樹脂(A’)、希釈剤(B)、光重合開始剤
(C)及び金属粉、酸化金属粉及び/又はガラス粉の1
種類又は2種類以上の粉体であって周囲にその粉体より
も屈折率の低い層、紫外線吸収層及び/又は着色層を有
する粉体(F)を含有し、水、アルカリ水溶液又は有機
溶剤で現像が可能な樹脂組成物。 - 【請求項3】抵抗体パターン、導体パターン、螢光体パ
ターン又は隔壁パターン用の請求項1及び2記載の樹脂
組成物。 - 【請求項4】請求項1、2及び3記載の樹脂組成物から
成るフィルム。 - 【請求項5】請求項1、2、3及び4記載の樹脂組成物
の硬化物。 - 【請求項6】請求項5記載の硬化物を焼成して得られる
抵抗体、導体、蛍光体及び隔壁。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP17161796A JPH09329891A (ja) | 1996-06-12 | 1996-06-12 | 樹脂組成物、そのフィルム及びその硬化物 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP17161796A JPH09329891A (ja) | 1996-06-12 | 1996-06-12 | 樹脂組成物、そのフィルム及びその硬化物 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH09329891A true JPH09329891A (ja) | 1997-12-22 |
Family
ID=15926501
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP17161796A Pending JPH09329891A (ja) | 1996-06-12 | 1996-06-12 | 樹脂組成物、そのフィルム及びその硬化物 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH09329891A (ja) |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2004061006A1 (ja) * | 2002-12-26 | 2004-07-22 | Taiyo Ink Mfg. Co., Ltd. | 光硬化性熱硬化性導電組成物及び該導電性組成物を用いた導電回路並びにその形成方法 |
KR100489741B1 (ko) * | 1999-07-08 | 2005-05-16 | 도오꾜오까고오교 가부시끼가이샤 | 무기 피막 형성용 조성물 및 무기 피막 형성 방법 |
WO2005044459A1 (en) * | 2003-11-05 | 2005-05-19 | Tri E Holding, Llc | Ultraviolet absorption and radiation shielding for raw materials and products |
JP2012513624A (ja) * | 2008-12-23 | 2012-06-14 | イー・アイ・デュポン・ドウ・ヌムール・アンド・カンパニー | 感光性ペーストおよびそれを用いたパターン生産方法 |
JP2014189585A (ja) * | 2013-03-26 | 2014-10-06 | Lintec Corp | 硬化性樹脂組成物、樹脂フィルム、ガスバリアフィルム及び電子デバイス |
JP2017062453A (ja) * | 2015-09-23 | 2017-03-30 | サムソン エレクトロ−メカニックス カンパニーリミテッド. | 感光性絶縁フィルム、プリント回路基板及びプリント回路基板の製造方法 |
-
1996
- 1996-06-12 JP JP17161796A patent/JPH09329891A/ja active Pending
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100489741B1 (ko) * | 1999-07-08 | 2005-05-16 | 도오꾜오까고오교 가부시끼가이샤 | 무기 피막 형성용 조성물 및 무기 피막 형성 방법 |
WO2004061006A1 (ja) * | 2002-12-26 | 2004-07-22 | Taiyo Ink Mfg. Co., Ltd. | 光硬化性熱硬化性導電組成物及び該導電性組成物を用いた導電回路並びにその形成方法 |
WO2005044459A1 (en) * | 2003-11-05 | 2005-05-19 | Tri E Holding, Llc | Ultraviolet absorption and radiation shielding for raw materials and products |
JP2012513624A (ja) * | 2008-12-23 | 2012-06-14 | イー・アイ・デュポン・ドウ・ヌムール・アンド・カンパニー | 感光性ペーストおよびそれを用いたパターン生産方法 |
JP2014189585A (ja) * | 2013-03-26 | 2014-10-06 | Lintec Corp | 硬化性樹脂組成物、樹脂フィルム、ガスバリアフィルム及び電子デバイス |
JP2017062453A (ja) * | 2015-09-23 | 2017-03-30 | サムソン エレクトロ−メカニックス カンパニーリミテッド. | 感光性絶縁フィルム、プリント回路基板及びプリント回路基板の製造方法 |
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