JPH093138A - グラフト変性エチレン系重合体 - Google Patents
グラフト変性エチレン系重合体Info
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Landscapes
- Graft Or Block Polymers (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【構成】 密度が0.850〜0.980g/cm3 の範囲
にあり、190℃、2.16kg荷重におけるメルトフロ
ーレート(MFR)が0.01〜200g/10分の範囲に
あり、190℃における溶融張力(MT)と MFRとがMT>
2×MFR-0.65の関係を満たし、溶融重合体の190℃に
おけるずり応力が2.4×106 dyne/cm2 に到達する
時のずり速度で定義される流動性インデックス(FI)
と、MFRとがFI>75×MFR の関係を満たすエチレン系
重合体に極性モノマーがグラフト共重合されてなるグラ
フト変性エチレン系重合体。 【効果】 金属または極性樹脂との接着において、低温
接着性と高温雰囲気下での接着力保持性とのバランスに
優れている。
にあり、190℃、2.16kg荷重におけるメルトフロ
ーレート(MFR)が0.01〜200g/10分の範囲に
あり、190℃における溶融張力(MT)と MFRとがMT>
2×MFR-0.65の関係を満たし、溶融重合体の190℃に
おけるずり応力が2.4×106 dyne/cm2 に到達する
時のずり速度で定義される流動性インデックス(FI)
と、MFRとがFI>75×MFR の関係を満たすエチレン系
重合体に極性モノマーがグラフト共重合されてなるグラ
フト変性エチレン系重合体。 【効果】 金属または極性樹脂との接着において、低温
接着性と高温雰囲気下での接着力保持性とのバランスに
優れている。
Description
【0001】
【発明の技術分野】本発明は、新規なグラフト変性エチ
レン系重合体に関し、さらに詳しくは、金属または極性
樹脂との接着において、低温接着性と高温雰囲気下での
接着力保持性とのバランスに優れたグラフト変性エチレ
ン系重合体に関するものである。
レン系重合体に関し、さらに詳しくは、金属または極性
樹脂との接着において、低温接着性と高温雰囲気下での
接着力保持性とのバランスに優れたグラフト変性エチレ
ン系重合体に関するものである。
【0002】
【発明の技術的背景】エチレン単独重合体、エチレン・
α−オレフィン共重合体などのエチレン系重合体は、種
々の成形方法により成形され、多方面の用途に供されて
いる。エチレン系重合体は、他の樹脂、金属箔などとの
積層、または他の樹脂とのブレンド等に用いられること
がある。しかしながらエチレン系重合体は、分子中に極
性基を持たない、いわゆる無極性樹脂であるため金属を
はじめ種々の極性物質との親和性に乏しく、このような
用途に用いることは困難であった。このため、金属との
接着または極性樹脂とのブレンド等に用途に使用する場
合には、エチレン系重合体に極性モノマーをグラフト共
重合するなどして、極性物質との親和性を改良する必要
があった。
α−オレフィン共重合体などのエチレン系重合体は、種
々の成形方法により成形され、多方面の用途に供されて
いる。エチレン系重合体は、他の樹脂、金属箔などとの
積層、または他の樹脂とのブレンド等に用いられること
がある。しかしながらエチレン系重合体は、分子中に極
性基を持たない、いわゆる無極性樹脂であるため金属を
はじめ種々の極性物質との親和性に乏しく、このような
用途に用いることは困難であった。このため、金属との
接着または極性樹脂とのブレンド等に用途に使用する場
合には、エチレン系重合体に極性モノマーをグラフト共
重合するなどして、極性物質との親和性を改良する必要
があった。
【0003】ところで、近年では生産性の向上、省エネ
ルギーが多くの製造分野で求められており、グラフト変
性エチレン系重合体と金属等とを接着する場合に、高速
成形および省エネルギーの観点から、より低温で接着で
きるグラフト変性エチレン系重合体が必要とされてい
る。しかしながら、従来から知られているグラフト変性
エチレン系重合体は、低温接着性を向上させるために、
より低融点のものを使用すると、高温雰囲気下での接着
力が極端に低下する場合がある。そこで、金属などに対
する低温接着性が良好で、しかも高温雰囲気下において
接着力の低下が少ないグラフト変性エチレン系重合体が
出現すればその工業的価値は極めて大きい。
ルギーが多くの製造分野で求められており、グラフト変
性エチレン系重合体と金属等とを接着する場合に、高速
成形および省エネルギーの観点から、より低温で接着で
きるグラフト変性エチレン系重合体が必要とされてい
る。しかしながら、従来から知られているグラフト変性
エチレン系重合体は、低温接着性を向上させるために、
より低融点のものを使用すると、高温雰囲気下での接着
力が極端に低下する場合がある。そこで、金属などに対
する低温接着性が良好で、しかも高温雰囲気下において
接着力の低下が少ないグラフト変性エチレン系重合体が
出現すればその工業的価値は極めて大きい。
【0004】本発明者らは、このような従来技術に鑑み
鋭意研究した結果、密度およびメルトフローレートが特
定の範囲にあり、かつ溶融張力とメルトフローレート、
および流動性インデックスとメルトフローレートが、そ
れぞれ一定の関係を満たすエチレン系重合体に極性モノ
マーがグラフト共重合されてなるグラフト変性エチレン
系重合体は、金属または極性樹脂との接着において、低
温接着性と高温雰囲気下での接着力保持性とのバランス
に優れることを見出して本発明を完成するに至った。
鋭意研究した結果、密度およびメルトフローレートが特
定の範囲にあり、かつ溶融張力とメルトフローレート、
および流動性インデックスとメルトフローレートが、そ
れぞれ一定の関係を満たすエチレン系重合体に極性モノ
マーがグラフト共重合されてなるグラフト変性エチレン
系重合体は、金属または極性樹脂との接着において、低
温接着性と高温雰囲気下での接着力保持性とのバランス
に優れることを見出して本発明を完成するに至った。
【0005】
【発明の目的】本発明は、金属または極性樹脂との接着
において、低温接着性と高温雰囲気下での接着力保持性
とのバランスに優れたグラフト変性エチレン系重合体を
提供することを目的としている。
において、低温接着性と高温雰囲気下での接着力保持性
とのバランスに優れたグラフト変性エチレン系重合体を
提供することを目的としている。
【0006】
【発明の概要】本発明に係るグラフト変性エチレン系重
合体は、エチレンの単独重合体またはエチレンと炭素原
子数が3〜20のα−オレフィンとの共重合体であっ
て、(i)エチレンから誘導される構成単位が50〜1
00重量%の範囲にあり、(ii)密度が0.850〜
0.980g/cm3 の範囲にあり、(iii)190
℃、2.16kg荷重におけるメルトフローレートが
0.01〜200g/10分の範囲にあり、(iv)19
0℃における溶融張力(MT)と、メルトフローレート
(MFR)とが MT>2×MFR-0.65 で示される関係を満たし、(v)溶融重合体の190℃
におけるずり応力が2.4×106 dyne/cm2に到達
する時のずり速度で定義される流動性インデックス(F
I(1/秒))と、メルトフローレート(MFR)とが FI>75×MFR で示される関係を満たすエチレン系重合体に、極性モノ
マーがグラフト共重合されてなることを特徴としてい
る。
合体は、エチレンの単独重合体またはエチレンと炭素原
子数が3〜20のα−オレフィンとの共重合体であっ
て、(i)エチレンから誘導される構成単位が50〜1
00重量%の範囲にあり、(ii)密度が0.850〜
0.980g/cm3 の範囲にあり、(iii)190
℃、2.16kg荷重におけるメルトフローレートが
0.01〜200g/10分の範囲にあり、(iv)19
0℃における溶融張力(MT)と、メルトフローレート
(MFR)とが MT>2×MFR-0.65 で示される関係を満たし、(v)溶融重合体の190℃
におけるずり応力が2.4×106 dyne/cm2に到達
する時のずり速度で定義される流動性インデックス(F
I(1/秒))と、メルトフローレート(MFR)とが FI>75×MFR で示される関係を満たすエチレン系重合体に、極性モノ
マーがグラフト共重合されてなることを特徴としてい
る。
【0007】本発明では、前記極性モノマーが水酸基含
有エチレン性不飽和化合物、アミノ基含有エチレン性不
飽和化合物、エポキシ基含有エチレン性不飽和化合物、
芳香族ビニル化合物、不飽和カルボン酸およびその誘導
体、ビニルエステル化合物、塩化ビニルから選ばれる少
なくとも1種のモノマーであることが望ましく、水酸基
含有エチレン性不飽和化合物、芳香族ビニル化合物、不
飽和カルボン酸およびその誘導体から選ばれる少なくと
も1種のモノマーであることが特に望ましい。また、極
性モノマーから誘導されるグラフト基のグラフト量が
0.1〜50重量%の範囲内にあることが望ましい。
有エチレン性不飽和化合物、アミノ基含有エチレン性不
飽和化合物、エポキシ基含有エチレン性不飽和化合物、
芳香族ビニル化合物、不飽和カルボン酸およびその誘導
体、ビニルエステル化合物、塩化ビニルから選ばれる少
なくとも1種のモノマーであることが望ましく、水酸基
含有エチレン性不飽和化合物、芳香族ビニル化合物、不
飽和カルボン酸およびその誘導体から選ばれる少なくと
も1種のモノマーであることが特に望ましい。また、極
性モノマーから誘導されるグラフト基のグラフト量が
0.1〜50重量%の範囲内にあることが望ましい。
【0008】
【発明の具体的説明】以下、本発明に係るグラフト変性
エチレン系重合体について具体的に説明する。
エチレン系重合体について具体的に説明する。
【0009】本発明に係るグラフト変性エチレン系重合
体は、エチレンの単独重合体またはエチレンと炭素原子
数が3〜20のα−オレフィンとのランダム共重合体で
あるエチレン系重合体に、極性モノマーがグラフト共重
合されている。
体は、エチレンの単独重合体またはエチレンと炭素原子
数が3〜20のα−オレフィンとのランダム共重合体で
あるエチレン系重合体に、極性モノマーがグラフト共重
合されている。
【0010】本発明のグラフト変性エチレン系重合体に
用いられるエチレン系重合体では、エチレンから誘導さ
れる構成単位は、50〜100重量%、好ましくは70
〜100重量%、より好ましくは80〜100重量%の
量で存在し、炭素原子数が3〜20のα-オレフィンか
ら誘導される構成単位は、0〜50重量%、好ましくは
0〜30重量%、より好ましくは0〜20重量%の量で
存在することが望ましい。
用いられるエチレン系重合体では、エチレンから誘導さ
れる構成単位は、50〜100重量%、好ましくは70
〜100重量%、より好ましくは80〜100重量%の
量で存在し、炭素原子数が3〜20のα-オレフィンか
ら誘導される構成単位は、0〜50重量%、好ましくは
0〜30重量%、より好ましくは0〜20重量%の量で
存在することが望ましい。
【0011】ここで炭素原子数が3〜20のα-オレフ
ィンとしては、プロピレン、1-ブテン、1-ペンテン、1-
ヘキセン、4-メチル-1-ペンテン、1-オクテン、1-デセ
ン、1-ドデセン、1-テトラデセン、1-ヘキサデセン、1-
オクタデセン、1-エイコセンなどが挙げられる。
ィンとしては、プロピレン、1-ブテン、1-ペンテン、1-
ヘキセン、4-メチル-1-ペンテン、1-オクテン、1-デセ
ン、1-ドデセン、1-テトラデセン、1-ヘキサデセン、1-
オクタデセン、1-エイコセンなどが挙げられる。
【0012】このようなエチレン系重合体では、密度
は、0.850〜0.980g/cm 3 、好ましくは
0.870〜0.975g/cm3 、より好ましくは
0.900〜0.970g/cm3 の範囲にあり、メル
トフローレートは、0.01〜200g/10分、好ま
しくは0.03〜100g/10分、より好ましくは
0.05〜50g/分の範囲にある。
は、0.850〜0.980g/cm 3 、好ましくは
0.870〜0.975g/cm3 、より好ましくは
0.900〜0.970g/cm3 の範囲にあり、メル
トフローレートは、0.01〜200g/10分、好ま
しくは0.03〜100g/10分、より好ましくは
0.05〜50g/分の範囲にある。
【0013】また、エチレン系重合体は、190℃にお
ける溶融張力〔MT(g)〕とメルトフローレート〔M
FR(g/10分)〕とが、 MT>2.0×MFR-0.65 好ましくは MT>2.2×MFR-0.65 より好ましくは MT>2.5×MFR-0.65 で示される関係を満たしている。
ける溶融張力〔MT(g)〕とメルトフローレート〔M
FR(g/10分)〕とが、 MT>2.0×MFR-0.65 好ましくは MT>2.2×MFR-0.65 より好ましくは MT>2.5×MFR-0.65 で示される関係を満たしている。
【0014】溶融張力とメルトフローレートとが、上記
のような関係を満たすエチレン系重合体は、従来のエチ
レン系重合体に比べて溶融張力が高く、成形性が良好で
ある。
のような関係を満たすエチレン系重合体は、従来のエチ
レン系重合体に比べて溶融張力が高く、成形性が良好で
ある。
【0015】さらに、エチレン系重合体は、溶融重合体
の190℃における応力が2.4×106 dyne/cm2
に到達する時のずり速度で定義される流動インデックス
〔FI(1/秒)〕とメルトフローレート〔MFR(g
/10分)〕とが、 FI>75×MFR 好ましくは FI>80×MFR より好ましくは FI>85×MFR で示される関係を満たしている。
の190℃における応力が2.4×106 dyne/cm2
に到達する時のずり速度で定義される流動インデックス
〔FI(1/秒)〕とメルトフローレート〔MFR(g
/10分)〕とが、 FI>75×MFR 好ましくは FI>80×MFR より好ましくは FI>85×MFR で示される関係を満たしている。
【0016】従来技術で組成分布の狭いエチレン系重合
体を製造しようとすると、一般に分子量分布も同時に狭
くなるため流動性も悪くなり、FIが小さくなる。本発
明で用いられるエチレン系重合体は、FIとMFRとが
上記のような関係を満たしているため、高ずり速度まで
低い応力が保たれ、成形性が良好である。
体を製造しようとすると、一般に分子量分布も同時に狭
くなるため流動性も悪くなり、FIが小さくなる。本発
明で用いられるエチレン系重合体は、FIとMFRとが
上記のような関係を満たしているため、高ずり速度まで
低い応力が保たれ、成形性が良好である。
【0017】本発明で用いられるエチレン系重合体は、
上記のような特性を有するとともに、下記のような特性
を有することが望ましい。示差走査型熱量計(DSC)
により測定した吸熱曲線における最大ピーク位置の温度
〔Tm(℃)〕と密度〔d(g/cm3 )〕とが、 Tm<400×d−250 好ましくは Tm<450×d−297 より好ましくは Tm<500×d−344 特に好ましくは Tm<550×d−391 で示される関係を満たすことが望ましい。
上記のような特性を有するとともに、下記のような特性
を有することが望ましい。示差走査型熱量計(DSC)
により測定した吸熱曲線における最大ピーク位置の温度
〔Tm(℃)〕と密度〔d(g/cm3 )〕とが、 Tm<400×d−250 好ましくは Tm<450×d−297 より好ましくは Tm<500×d−344 特に好ましくは Tm<550×d−391 で示される関係を満たすことが望ましい。
【0018】このようなエチレン系重合体は、従来のチ
タン系触媒で重合されたエチレン系重合体に比べて、密
度に対して上記Tmが低いため、同一密度で比較する
と、ヒートシール性に優れている。
タン系触媒で重合されたエチレン系重合体に比べて、密
度に対して上記Tmが低いため、同一密度で比較する
と、ヒートシール性に優れている。
【0019】また、室温におけるn-デカン可溶成分量率
〔W(重量%)〕と密度〔d(g/cm3 )〕とが、M
FR≦10g/10分のとき: W<80×exp(−100(d−0.88))+0.1 好ましくは W<60×exp(−100(d−0.8
8))+0.1 より好ましくは W<40×exp(−100(d−0.8
8))+0.1 MFR>10g/10分のとき: W<80×(MFR−9)0.35×exp(−100(d−
0.88))+0.1 で示される関係を満たすことが望ましい。
〔W(重量%)〕と密度〔d(g/cm3 )〕とが、M
FR≦10g/10分のとき: W<80×exp(−100(d−0.88))+0.1 好ましくは W<60×exp(−100(d−0.8
8))+0.1 より好ましくは W<40×exp(−100(d−0.8
8))+0.1 MFR>10g/10分のとき: W<80×(MFR−9)0.35×exp(−100(d−
0.88))+0.1 で示される関係を満たすことが望ましい。
【0020】室温におけるn-デカン可溶成分量率と密度
とが、上記のような関係を満たすエチレン系重合体は組
成分布が狭いと言える。さらに、エチレン系重合体は、
結晶化度が30%を超えることが好ましく、35〜90
%の範囲にあることがより好ましい。
とが、上記のような関係を満たすエチレン系重合体は組
成分布が狭いと言える。さらに、エチレン系重合体は、
結晶化度が30%を超えることが好ましく、35〜90
%の範囲にあることがより好ましい。
【0021】上記のようなエチレン系重合体は、たとえ
ば、(a)特定のインデニル基またはその置換体から選
ばれた2個の基が炭素含有基またはケイ素含有基を介し
て結合した二座配位子を有する周期律表第IVB族の遷移
金属の化合物または特定の置換シクロペンタジエニル基
を配位子とした周期律表第IVB族の遷移金属の化合物、
(b)有機アルミニウムオキシ化合物、(c)担体、必
要に応じて(d)有機アルミニウム化合物から形成され
るオレフィン重合触媒の存在下に、エチレンを得られる
重合体の密度が0.850〜0.980g/cm3 とな
るように単独重合するか、あるいはエチレンと炭素原子
数が3〜20のα-オレフィンとを得られる共重合体の
密度が0.850〜0.980g/cm3 となるように
共重合させることによって製造することができる。
ば、(a)特定のインデニル基またはその置換体から選
ばれた2個の基が炭素含有基またはケイ素含有基を介し
て結合した二座配位子を有する周期律表第IVB族の遷移
金属の化合物または特定の置換シクロペンタジエニル基
を配位子とした周期律表第IVB族の遷移金属の化合物、
(b)有機アルミニウムオキシ化合物、(c)担体、必
要に応じて(d)有機アルミニウム化合物から形成され
るオレフィン重合触媒の存在下に、エチレンを得られる
重合体の密度が0.850〜0.980g/cm3 とな
るように単独重合するか、あるいはエチレンと炭素原子
数が3〜20のα-オレフィンとを得られる共重合体の
密度が0.850〜0.980g/cm3 となるように
共重合させることによって製造することができる。
【0022】以下にこのようなオレフィン重合触媒およ
び各触媒成分について説明する。 (a)特定のインデニル基またはその置換体から選ばれ
た2個の基が低級アルキレン基を介して結合した二座配
位子を有する周期律表第IVB族の遷移金属の化合物また
は特定の置換シクロペンタジエニル基を配位子とした周
期律表第IVB族の遷移金属の化合物(以下「成分
(a)」と記載することがある)は、具体的には下記式
(I)または(II)で表される遷移金属化合物である。
び各触媒成分について説明する。 (a)特定のインデニル基またはその置換体から選ばれ
た2個の基が低級アルキレン基を介して結合した二座配
位子を有する周期律表第IVB族の遷移金属の化合物また
は特定の置換シクロペンタジエニル基を配位子とした周
期律表第IVB族の遷移金属の化合物(以下「成分
(a)」と記載することがある)は、具体的には下記式
(I)または(II)で表される遷移金属化合物である。
【0023】MKL1 x-2 … (I) (式中、Mは周期律表第IVB族から選ばれる遷移金属原
子を示し、KおよびL1は遷移金属原子に配位する配位
子を示し、配位子Kは同一または異なるインデニル基、
置換インデニル基またはその部分水添加物が炭素含有基
またはケイ素含有基を介して結合した2座配位子であ
り、配位子L1 は、炭素原子数が1〜12の炭化水素
基、アルコキシ基、アリーロキシ基、ハロゲン原子、ト
リアルキルシリル基または水素原子であり、xは遷移金
属原子Mの原子価を示す。) ML2 x … (II) (式中、Mは周期律表第IVB族から選ばれる遷移金属を
示し、L2 は遷移金属原子に配位する配位子を示し、こ
れらのうち少なくとも2個の配位子L2 は、メチル基お
よびエチル基から選ばれる置換基のみを2〜5個有する
置換シクロペンタジエニル基であり、置換シクロペンタ
ジエニル基以外の配位子L2 は、炭素原子数が1〜12
の炭化水素基、アルコキシ基、アリーロキシ基、ハロゲ
ン原子、トリアルキルシリル基または水素原子であり、
xは遷移金属原子Mの原子価を示す。) まず、上記一般式(I)で表される遷移金属化合物につ
いて説明する。
子を示し、KおよびL1は遷移金属原子に配位する配位
子を示し、配位子Kは同一または異なるインデニル基、
置換インデニル基またはその部分水添加物が炭素含有基
またはケイ素含有基を介して結合した2座配位子であ
り、配位子L1 は、炭素原子数が1〜12の炭化水素
基、アルコキシ基、アリーロキシ基、ハロゲン原子、ト
リアルキルシリル基または水素原子であり、xは遷移金
属原子Mの原子価を示す。) ML2 x … (II) (式中、Mは周期律表第IVB族から選ばれる遷移金属を
示し、L2 は遷移金属原子に配位する配位子を示し、こ
れらのうち少なくとも2個の配位子L2 は、メチル基お
よびエチル基から選ばれる置換基のみを2〜5個有する
置換シクロペンタジエニル基であり、置換シクロペンタ
ジエニル基以外の配位子L2 は、炭素原子数が1〜12
の炭化水素基、アルコキシ基、アリーロキシ基、ハロゲ
ン原子、トリアルキルシリル基または水素原子であり、
xは遷移金属原子Mの原子価を示す。) まず、上記一般式(I)で表される遷移金属化合物につ
いて説明する。
【0024】上記一般式(I)において、Mは周期律表
第IVB族から選ばれる遷移金属原子を示し、具体的に
は、ジルコニウム、チタンまたはハフニウムであり、好
ましくはジルコニウムである。
第IVB族から選ばれる遷移金属原子を示し、具体的に
は、ジルコニウム、チタンまたはハフニウムであり、好
ましくはジルコニウムである。
【0025】xは、遷移金属原子Mの原子価であり、x
−2はL1 の個数を示す。Kは、遷移金属原子に配位す
る配位子を示し、インデニル基およびその部分水添加
物、ならびに置換インデニル基およびその部分水添加物
から選ばれる、同一または異なる2個の基が低級アルキ
レン基などの炭素含有基またはケイ素含有基を介して結
合した2座配位子である。
−2はL1 の個数を示す。Kは、遷移金属原子に配位す
る配位子を示し、インデニル基およびその部分水添加
物、ならびに置換インデニル基およびその部分水添加物
から選ばれる、同一または異なる2個の基が低級アルキ
レン基などの炭素含有基またはケイ素含有基を介して結
合した2座配位子である。
【0026】具体的には、エチレンビスインデニル基、
エチレンビス(4,5,6,7-テトラヒドロ-1-インデニル)
基、エチレンビス(4-メチル-1-インデニル)基、エチ
レンビス(5-メチル-1-インデニル)基、エチレンビス
(6-メチル-1-インデニル)基、エチレンビス(7-メチ
ル-1-インデニル)基、ジメチルシリレンビスインデニ
ル基、ジメチルシリレンビス(4,5,6,7-テトラヒドロ-1
-インデニル)基、ジメチルシリレンビス(4-メチル-1-
インデニル)基、ジメチルシリレンビス(5-メチル-1-
インデニル)基、ジメチルシリレンビス(6-メチル-1-
インデニル)基、ジメチルシリレンビス(7-メチル-1-
インデニル)基を例示することができる。
エチレンビス(4,5,6,7-テトラヒドロ-1-インデニル)
基、エチレンビス(4-メチル-1-インデニル)基、エチ
レンビス(5-メチル-1-インデニル)基、エチレンビス
(6-メチル-1-インデニル)基、エチレンビス(7-メチ
ル-1-インデニル)基、ジメチルシリレンビスインデニ
ル基、ジメチルシリレンビス(4,5,6,7-テトラヒドロ-1
-インデニル)基、ジメチルシリレンビス(4-メチル-1-
インデニル)基、ジメチルシリレンビス(5-メチル-1-
インデニル)基、ジメチルシリレンビス(6-メチル-1-
インデニル)基、ジメチルシリレンビス(7-メチル-1-
インデニル)基を例示することができる。
【0027】L1 は、炭素原子数が1〜12の炭化水素
基、アルコキシ基、アリーロキシ基、ハロゲン原子、ト
リアルキルシリル基または水素原子を示す。炭素原子数
が1〜12の炭化水素基としては、アルキル基、シクロ
アルキル基、アリール基、アラルキル基などを例示する
ことができ、より具体的には、メチル基、エチル基、n-
プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、イソブチル
基、sec-ブチル基、t-ブチル基、ペンチル基、ヘキシル
基、オクチル基、2-エチルヘキシル基、デシル基などの
アルキル基;シクロペンチル基、シクロヘキシル基など
のシクロアルキル基;フェニル基、トリル基などのアリ
ール基;ベンジル基、ネオフィル基などのアラルキル基
を例示することができる。
基、アルコキシ基、アリーロキシ基、ハロゲン原子、ト
リアルキルシリル基または水素原子を示す。炭素原子数
が1〜12の炭化水素基としては、アルキル基、シクロ
アルキル基、アリール基、アラルキル基などを例示する
ことができ、より具体的には、メチル基、エチル基、n-
プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、イソブチル
基、sec-ブチル基、t-ブチル基、ペンチル基、ヘキシル
基、オクチル基、2-エチルヘキシル基、デシル基などの
アルキル基;シクロペンチル基、シクロヘキシル基など
のシクロアルキル基;フェニル基、トリル基などのアリ
ール基;ベンジル基、ネオフィル基などのアラルキル基
を例示することができる。
【0028】アルコキシ基としては、メトキシ基、エト
キシ基、n-プロポキシ基、イソプロポキシ基、n-ブトキ
シ基、イソブトキシ基、sec-ブトキシ基、t-ブトキシ
基、ペントキシ基、ヘキソキシ基、オクトキシ基などを
例示することができる。
キシ基、n-プロポキシ基、イソプロポキシ基、n-ブトキ
シ基、イソブトキシ基、sec-ブトキシ基、t-ブトキシ
基、ペントキシ基、ヘキソキシ基、オクトキシ基などを
例示することができる。
【0029】アリーロキシ基としては、フェノキシ基な
どを例示することができる。ハロゲン原子は、フッ素、
塩素、臭素、ヨウ素である。トリアルキルシリル基とし
ては、トリメチルシリル基、トリエチルシリル基、トリ
フェニルシリル基などを例示することができる。
どを例示することができる。ハロゲン原子は、フッ素、
塩素、臭素、ヨウ素である。トリアルキルシリル基とし
ては、トリメチルシリル基、トリエチルシリル基、トリ
フェニルシリル基などを例示することができる。
【0030】このような一般式(I)で表される遷移金
属化合物としては、エチレンビス(インデニル)ジルコ
ニウムジクロリド、エチレンビス(4-メチル-1-インデ
ニル)ジルコニウムジクロリド、エチレンビス(4,5,6,
7-テトラヒドロ-1-インデニル)ジルコニウムジクロリ
ド、エチレンビス(5-メチル-1-インデニル)ジルコニ
ウムジクロリド、エチレンビス(6-メチル-1-インデニ
ル)ジルコニウムジクロリド、エチレンビス(7-メチル
-1-インデニル)ジルコニウムジクロリド、エチレンビ
ス(4-メチル-1-インデニル)ジルコニウムジブロミ
ド、エチレンビス(4-メチル-1-インデニル)ジルコニ
ウムメトキシクロリド、エチレンビス(4-メチル-1-イ
ンデニル)ジルコニウムエトキシクロリド、エチレンビ
ス(4-メチル-1-インデニル)ジルコニウムブトキシク
ロリド、エチレンビス(4-メチル-1-インデニル)ジル
コニウムメトキシド、エチレンビス(4-メチル-1-イン
デニル)ジルコニウムメチルクロリド、エチレンビス
(4-メチル-1-インデニル)ジルコニウムジメチル、エ
チレンビス(4-メチル-1-インデニル)ジルコニウムベ
ンジルクロリド、エチレンビス(4-メチル-1-インデニ
ル)ジルコニウムジベンジル、エチレンビス(4-メチル
-1-インデニル)ジルコニウムフェニルクロリド、エチ
レンビス(4-メチル-1-インデニル)ジルコニウムハイ
ドライドクロリドなどが挙げられる。本発明では、上記
のようなジルコニウム化合物において、ジルコニウム金
属を、チタン金属またはハフニウム金属置き換えた遷移
金属化合物を用いることができる。
属化合物としては、エチレンビス(インデニル)ジルコ
ニウムジクロリド、エチレンビス(4-メチル-1-インデ
ニル)ジルコニウムジクロリド、エチレンビス(4,5,6,
7-テトラヒドロ-1-インデニル)ジルコニウムジクロリ
ド、エチレンビス(5-メチル-1-インデニル)ジルコニ
ウムジクロリド、エチレンビス(6-メチル-1-インデニ
ル)ジルコニウムジクロリド、エチレンビス(7-メチル
-1-インデニル)ジルコニウムジクロリド、エチレンビ
ス(4-メチル-1-インデニル)ジルコニウムジブロミ
ド、エチレンビス(4-メチル-1-インデニル)ジルコニ
ウムメトキシクロリド、エチレンビス(4-メチル-1-イ
ンデニル)ジルコニウムエトキシクロリド、エチレンビ
ス(4-メチル-1-インデニル)ジルコニウムブトキシク
ロリド、エチレンビス(4-メチル-1-インデニル)ジル
コニウムメトキシド、エチレンビス(4-メチル-1-イン
デニル)ジルコニウムメチルクロリド、エチレンビス
(4-メチル-1-インデニル)ジルコニウムジメチル、エ
チレンビス(4-メチル-1-インデニル)ジルコニウムベ
ンジルクロリド、エチレンビス(4-メチル-1-インデニ
ル)ジルコニウムジベンジル、エチレンビス(4-メチル
-1-インデニル)ジルコニウムフェニルクロリド、エチ
レンビス(4-メチル-1-インデニル)ジルコニウムハイ
ドライドクロリドなどが挙げられる。本発明では、上記
のようなジルコニウム化合物において、ジルコニウム金
属を、チタン金属またはハフニウム金属置き換えた遷移
金属化合物を用いることができる。
【0031】これらの、一般式(I)で表される遷移金
属化合物のうちでは、エチレンビス(インデニル)ジル
コニウムジクロリド、エチレンビス(4-メチル-1-イン
デニル)ジルコニウムジクロリド、エチレンビス(4,5,
6,7-テトラヒドロ-1-インデニル)ジルコニウムジクロ
リドが特に好ましい。
属化合物のうちでは、エチレンビス(インデニル)ジル
コニウムジクロリド、エチレンビス(4-メチル-1-イン
デニル)ジルコニウムジクロリド、エチレンビス(4,5,
6,7-テトラヒドロ-1-インデニル)ジルコニウムジクロ
リドが特に好ましい。
【0032】このような前記式(I)で表される遷移金
属化合物は、たとえばアニオン化されたインデニル基ま
たはその置換体から選ばれた2個の基が炭素含有基また
はケイ素含有基を介して結合した二座配位化合物と、周
期律表IVB族の遷移金属のハロゲン化物との反応により
得られる。
属化合物は、たとえばアニオン化されたインデニル基ま
たはその置換体から選ばれた2個の基が炭素含有基また
はケイ素含有基を介して結合した二座配位化合物と、周
期律表IVB族の遷移金属のハロゲン化物との反応により
得られる。
【0033】アニオン化されたインデニル基またはその
置換体から選ばれた2個の基が炭素含有基またはケイ素
含有基を介して結合した二座配位化合物は、下記式 ZR1 −R2 −R3 Z (式中、R1 およびR3 は、互いに同一でも異なってい
てもよく、インデニルアニオン、置換インデニルアニオ
ンまたはその部分水素化アニオンを示し、R2 は低級ア
ルキレン基であり、Zはアルカリ金属カチオンであ
る。)で表され、具体的には、エチレンビスインデニル
ジリチウム、エチレンビスインデニルジナトリウム、エ
チレンビス(4,5,6,7-テトラヒドロ-1-インデニル)ジ
リチウム、エチレンビス(4-メチル-1-インデニル)ジ
リチウム、エチレンビス(5-メチル-1-インデニル)ジ
リチウム、エチレンビス(6-メチル-1-インデニル)ジ
リチウム、エチレンビス(7-メチル-1-インデニル)ジ
リチウムなどを例示できる。
置換体から選ばれた2個の基が炭素含有基またはケイ素
含有基を介して結合した二座配位化合物は、下記式 ZR1 −R2 −R3 Z (式中、R1 およびR3 は、互いに同一でも異なってい
てもよく、インデニルアニオン、置換インデニルアニオ
ンまたはその部分水素化アニオンを示し、R2 は低級ア
ルキレン基であり、Zはアルカリ金属カチオンであ
る。)で表され、具体的には、エチレンビスインデニル
ジリチウム、エチレンビスインデニルジナトリウム、エ
チレンビス(4,5,6,7-テトラヒドロ-1-インデニル)ジ
リチウム、エチレンビス(4-メチル-1-インデニル)ジ
リチウム、エチレンビス(5-メチル-1-インデニル)ジ
リチウム、エチレンビス(6-メチル-1-インデニル)ジ
リチウム、エチレンビス(7-メチル-1-インデニル)ジ
リチウムなどを例示できる。
【0034】周期律表IVB族の遷移金属のハロゲン化物
として具体的には、四塩化ジルコニウム、四塩化ハフニ
ウム、四塩化チタニウム、四臭化チタニウムなどを例示
できる。
として具体的には、四塩化ジルコニウム、四塩化ハフニ
ウム、四塩化チタニウム、四臭化チタニウムなどを例示
できる。
【0035】前記式(I)で表される遷移金属化合物
は、上記のような二座配位化合物と、遷移金属のハロゲ
ン化物とを、エーテル、テトラヒドロフラン、ベンゼ
ン、トルエン、二塩化メチレンなどの有機溶媒中で混合
接触することにより得られる。この際、二座配位化合物
と遷移金属のハロゲン化物との混合モル比(ZR1 −R
2−R3 Z/遷移金属)は、0.5〜2、好ましくは
0.75〜1.25の範囲であり、遷移金属のハロゲン
化物の濃度は、通常0.03〜0.5モル/リットル、
好ましくは0.05〜0.3モル/リットルの範囲であ
ることが望ましい。
は、上記のような二座配位化合物と、遷移金属のハロゲ
ン化物とを、エーテル、テトラヒドロフラン、ベンゼ
ン、トルエン、二塩化メチレンなどの有機溶媒中で混合
接触することにより得られる。この際、二座配位化合物
と遷移金属のハロゲン化物との混合モル比(ZR1 −R
2−R3 Z/遷移金属)は、0.5〜2、好ましくは
0.75〜1.25の範囲であり、遷移金属のハロゲン
化物の濃度は、通常0.03〜0.5モル/リットル、
好ましくは0.05〜0.3モル/リットルの範囲であ
ることが望ましい。
【0036】次に、上記一般式(II)で表される遷移金
属化合物について説明する。上記一般式(II)において
Mは周期律表第IVB族から選ばれる遷移金属原子を示
し、具体的には、ジルコニウム、チタンまたはハフニウ
ムであり、好ましくはジルコニウムである。
属化合物について説明する。上記一般式(II)において
Mは周期律表第IVB族から選ばれる遷移金属原子を示
し、具体的には、ジルコニウム、チタンまたはハフニウ
ムであり、好ましくはジルコニウムである。
【0037】xは、遷移金属原子Mの原子価であり、L
2 の個数を示す。L2 は遷移金属原子Mに配位した配位
子を示し、これらのうち少なくとも2個の配位子L
2 は、メチル基およびエチル基から選ばれる置換基のみ
を2〜5個有する置換シクロペンタジエニル基であり、
各配位子は同一でも異なっていてもよい。この置換シク
ロペンタジエニル基は、置換基を2〜3個有するシクロ
ペンタジエニル基であることが好ましく、二置換シクロ
ペンタジエニル基であることがより好ましく、1,3-置換
シクロペンタジエニル基であることが特に好ましい。な
お、各置換基は同一でも異なっていてもよい。
2 の個数を示す。L2 は遷移金属原子Mに配位した配位
子を示し、これらのうち少なくとも2個の配位子L
2 は、メチル基およびエチル基から選ばれる置換基のみ
を2〜5個有する置換シクロペンタジエニル基であり、
各配位子は同一でも異なっていてもよい。この置換シク
ロペンタジエニル基は、置換基を2〜3個有するシクロ
ペンタジエニル基であることが好ましく、二置換シクロ
ペンタジエニル基であることがより好ましく、1,3-置換
シクロペンタジエニル基であることが特に好ましい。な
お、各置換基は同一でも異なっていてもよい。
【0038】また上記式(II)において、遷移金属原子
Mに配位する置換シクロペンタジエニル基以外の配位子
L2 は、上記一般式(I)中のL1 と同様の炭素原子数
が1〜12の炭化水素基、アルコキシ基、アリーロキシ
基、ハロゲン原子、トリアルキルシリル基または水素原
子である。
Mに配位する置換シクロペンタジエニル基以外の配位子
L2 は、上記一般式(I)中のL1 と同様の炭素原子数
が1〜12の炭化水素基、アルコキシ基、アリーロキシ
基、ハロゲン原子、トリアルキルシリル基または水素原
子である。
【0039】このような一般式(II)で表される遷移金
属化合物としては、ビス(ジメチルシクロペンタジエニ
ル)ジルコニウムジクロリド、ビス(ジエチルシクロペ
ンタジエニル)ジルコニウムジクロリド、ビス(メチル
エチルシクロペンタジエニル)ジルコニウムジクロリド
ビス(ジメチルエチルシクロペンタジエニル)ジルコニ
ウムジクロリド、ビス(ジメチルシクロペンタジエニ
ル)ジルコニウムジブロミド、ビス(ジメチルシクロペ
ンタジエニル)ジルコニウムメトキシクロリド、ビス
(ジメチルシクロペンタジエニル)ジルコニウムエトキ
シクロリド、ビス(ジメチルシクロペンタジエニル)ジ
ルコニウムブトキシクロリド、ビス(ジメチルシクロペ
ンタジエニル)ジルコニウムジエトキシド、ビス(ジメ
チルシクロペンタジエニル)ジルコニウムメチルクロリ
ド、ビス(ジメチルシクロペンタジエニル)ジルコニウ
ムジメチル、ビス(ジメチルシクロペンタジエニル)ジ
ルコニウムベンジルクロリド、ビス(ジメチルシクロペ
ンタジエニル)ジルコニウムジベンジル、ビス(ジメチ
ルシクロペンタジエニル)ジルコニウムフェニルクロリ
ド、ビス(ジメチルシクロペンタジエニル)ジルコニウ
ムハイドライドクロリドなどが挙げられる。なお、上記
例示において、シクロペンタジエニル環の二置換体は1,
2-および1,3-置換体を含み、三置換体は1,2,3-および1,
2,4-置換体を含む。本発明では、上記のようなジルコニ
ウム化合物において、ジルコニウム金属を、チタン金属
またはハフニウム金属に置き換えた遷移金属化合物を用
いることができる。
属化合物としては、ビス(ジメチルシクロペンタジエニ
ル)ジルコニウムジクロリド、ビス(ジエチルシクロペ
ンタジエニル)ジルコニウムジクロリド、ビス(メチル
エチルシクロペンタジエニル)ジルコニウムジクロリド
ビス(ジメチルエチルシクロペンタジエニル)ジルコニ
ウムジクロリド、ビス(ジメチルシクロペンタジエニ
ル)ジルコニウムジブロミド、ビス(ジメチルシクロペ
ンタジエニル)ジルコニウムメトキシクロリド、ビス
(ジメチルシクロペンタジエニル)ジルコニウムエトキ
シクロリド、ビス(ジメチルシクロペンタジエニル)ジ
ルコニウムブトキシクロリド、ビス(ジメチルシクロペ
ンタジエニル)ジルコニウムジエトキシド、ビス(ジメ
チルシクロペンタジエニル)ジルコニウムメチルクロリ
ド、ビス(ジメチルシクロペンタジエニル)ジルコニウ
ムジメチル、ビス(ジメチルシクロペンタジエニル)ジ
ルコニウムベンジルクロリド、ビス(ジメチルシクロペ
ンタジエニル)ジルコニウムジベンジル、ビス(ジメチ
ルシクロペンタジエニル)ジルコニウムフェニルクロリ
ド、ビス(ジメチルシクロペンタジエニル)ジルコニウ
ムハイドライドクロリドなどが挙げられる。なお、上記
例示において、シクロペンタジエニル環の二置換体は1,
2-および1,3-置換体を含み、三置換体は1,2,3-および1,
2,4-置換体を含む。本発明では、上記のようなジルコニ
ウム化合物において、ジルコニウム金属を、チタン金属
またはハフニウム金属に置き換えた遷移金属化合物を用
いることができる。
【0040】これらの、一般式(II)で表される遷移金
属化合物のうちでは、ビス(1,3-ジメチルシクロペンタ
ジエニル)ジルコニウムジクロリド、ビス(1,3-ジエチ
ルシクロペンタジエニル)ジルコニウムジクロリド、ビ
ス(1-メチル-3-エチルシクロペンタジエニル)ジルコ
ニウムジクロリドが特に好ましい。
属化合物のうちでは、ビス(1,3-ジメチルシクロペンタ
ジエニル)ジルコニウムジクロリド、ビス(1,3-ジエチ
ルシクロペンタジエニル)ジルコニウムジクロリド、ビ
ス(1-メチル-3-エチルシクロペンタジエニル)ジルコ
ニウムジクロリドが特に好ましい。
【0041】次に、有機アルミニウムオキシ化合物
(b)について説明する。有機アルミニウムオキシ化合
物(b)(以下「成分(b)」と記載することがあ
る。)は、従来公知のベンゼン可溶性のアルミノキサン
であってもよく、また特開平2−276807号公報で
開示されているようなベンゼン不溶性の有機アルミニウ
ムオキシ化合物であってもよい。
(b)について説明する。有機アルミニウムオキシ化合
物(b)(以下「成分(b)」と記載することがあ
る。)は、従来公知のベンゼン可溶性のアルミノキサン
であってもよく、また特開平2−276807号公報で
開示されているようなベンゼン不溶性の有機アルミニウ
ムオキシ化合物であってもよい。
【0042】上記のようなアルミノキサンは、例えば下
記のような方法によって調製することができる。 (1)吸着水を含有する化合物あるいは結晶水を含有す
る塩類、例えば塩化マグネシウム水和物、硫酸銅水和
物、硫酸アルミニウム水和物、硫酸ニッケル水和物、塩
化第1セリウム水和物などの炭化水素媒体懸濁液に、ト
リアルキルアルミニウムなどの有機アルミニウム化合物
を添加して、吸着水あるいは結晶水と有機アルミニウム
化合物とを反応させる方法。
記のような方法によって調製することができる。 (1)吸着水を含有する化合物あるいは結晶水を含有す
る塩類、例えば塩化マグネシウム水和物、硫酸銅水和
物、硫酸アルミニウム水和物、硫酸ニッケル水和物、塩
化第1セリウム水和物などの炭化水素媒体懸濁液に、ト
リアルキルアルミニウムなどの有機アルミニウム化合物
を添加して、吸着水あるいは結晶水と有機アルミニウム
化合物とを反応させる方法。
【0043】(2)ベンゼン、トルエン、エチルエーテ
ル、テトラヒドロフランなどの媒体中で、トリアルキル
アルミニウムなどの有機アルミニウム化合物に直接水や
氷や水蒸気を作用させる方法。
ル、テトラヒドロフランなどの媒体中で、トリアルキル
アルミニウムなどの有機アルミニウム化合物に直接水や
氷や水蒸気を作用させる方法。
【0044】(3)デカン、ベンゼン、トルエン等の媒
体中でトリアルキルアルミニウム等の有機アルミニウム
化合物に、ジメチルスズオキシド、ジブチルスズオキシ
ド等の有機スズ酸化物を反応させる方法。
体中でトリアルキルアルミニウム等の有機アルミニウム
化合物に、ジメチルスズオキシド、ジブチルスズオキシ
ド等の有機スズ酸化物を反応させる方法。
【0045】なお、このアルミノキサンは、少量の有機
金属成分を含有してもよい。また回収された上記のアル
ミノキサンの溶液から溶媒あるいは未反応有機アルミニ
ウム化合物を蒸留して除去した後、溶媒に再溶解しても
よい。
金属成分を含有してもよい。また回収された上記のアル
ミノキサンの溶液から溶媒あるいは未反応有機アルミニ
ウム化合物を蒸留して除去した後、溶媒に再溶解しても
よい。
【0046】アルミノキサンを調製する際に用いられる
有機アルミニウム化合物として具体的には、トリメチル
アルミニウム、トリエチルアルミニウム、トリプロピル
アルミニウム、トリイソプロピルアルミニウム、トリn-
ブチルアルミニウム、トリイソブチルアルミニウム、ト
リsec-ブチルアルミニウム、トリtert- ブチルアルミニ
ウム、トリペンチルアルミニウム、トリヘキシルアルミ
ニウム、トリオクチルアルミニウム、トリデシルアルミ
ニウムなどのトリアルキルアルミニウム;トリシクロヘ
キシルアルミニウム、トリシクロオクチルアルミニウム
などのトリシクロアルキルアルミニウム;ジメチルアル
ミニウムクロリド、ジエチルアルミニウムクロリド、ジ
エチルアルミニウムブロミド、ジイソブチルアルミニウ
ムクロリドなどのジアルキルアルミニウムハライド;ジ
エチルアルミニウムハイドライド、ジイソブチルアルミ
ニウムハイドライドなどのジアルキルアルミニウムハイ
ドライド;ジメチルアルミニウムメトキシド、ジエチル
アルミニウムエトキシドなどのジアルキルアルミニウム
アルコキシド;ジエチルアルミニウムフェノキシドなど
のジアルキルアルミニウムアリーロキシドなどが挙げら
れる。
有機アルミニウム化合物として具体的には、トリメチル
アルミニウム、トリエチルアルミニウム、トリプロピル
アルミニウム、トリイソプロピルアルミニウム、トリn-
ブチルアルミニウム、トリイソブチルアルミニウム、ト
リsec-ブチルアルミニウム、トリtert- ブチルアルミニ
ウム、トリペンチルアルミニウム、トリヘキシルアルミ
ニウム、トリオクチルアルミニウム、トリデシルアルミ
ニウムなどのトリアルキルアルミニウム;トリシクロヘ
キシルアルミニウム、トリシクロオクチルアルミニウム
などのトリシクロアルキルアルミニウム;ジメチルアル
ミニウムクロリド、ジエチルアルミニウムクロリド、ジ
エチルアルミニウムブロミド、ジイソブチルアルミニウ
ムクロリドなどのジアルキルアルミニウムハライド;ジ
エチルアルミニウムハイドライド、ジイソブチルアルミ
ニウムハイドライドなどのジアルキルアルミニウムハイ
ドライド;ジメチルアルミニウムメトキシド、ジエチル
アルミニウムエトキシドなどのジアルキルアルミニウム
アルコキシド;ジエチルアルミニウムフェノキシドなど
のジアルキルアルミニウムアリーロキシドなどが挙げら
れる。
【0047】これらのうち、トリアルキルアルミニウム
およびトリアルキルアルミニウムが特に好ましい。ま
た、この有機アルミニウム化合物として、一般式 (i-C4H9)xAly(C5H10)z (x、y、zは正の数であり、z≧2xである)で表さ
れるイソプレニルアルミニウムを用いることもできる。
およびトリアルキルアルミニウムが特に好ましい。ま
た、この有機アルミニウム化合物として、一般式 (i-C4H9)xAly(C5H10)z (x、y、zは正の数であり、z≧2xである)で表さ
れるイソプレニルアルミニウムを用いることもできる。
【0048】上記のような有機アルミニウム化合物は、
単独であるいは組合せて用いられる。アルミノキサンの
調製の際に用いられる溶媒としては、ベンゼン、トルエ
ン、キシレン、クメン、シメンなどの芳香族炭化水素、
ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、デカン、ド
デカン、ヘキサデカン、オクタデカンなどの脂肪族炭化
水素、シクロペンタン、シクロヘキサン、シクロオクタ
ン、メチルシクロペンタンなどの脂環族炭化水素、ガソ
リン、灯油、軽油などの石油留分あるいは上記芳香族炭
化水素、脂肪族炭化水素、脂環族炭化水素のハロゲン化
物とりわけ、塩素化物、臭素化物などの炭化水素溶媒が
挙げられる。その他、エチルエーテル、テトラヒドロフ
ランなどのエーテル類を用いることもできる。これらの
溶媒のうち特に芳香族炭化水素が好ましい。
単独であるいは組合せて用いられる。アルミノキサンの
調製の際に用いられる溶媒としては、ベンゼン、トルエ
ン、キシレン、クメン、シメンなどの芳香族炭化水素、
ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、デカン、ド
デカン、ヘキサデカン、オクタデカンなどの脂肪族炭化
水素、シクロペンタン、シクロヘキサン、シクロオクタ
ン、メチルシクロペンタンなどの脂環族炭化水素、ガソ
リン、灯油、軽油などの石油留分あるいは上記芳香族炭
化水素、脂肪族炭化水素、脂環族炭化水素のハロゲン化
物とりわけ、塩素化物、臭素化物などの炭化水素溶媒が
挙げられる。その他、エチルエーテル、テトラヒドロフ
ランなどのエーテル類を用いることもできる。これらの
溶媒のうち特に芳香族炭化水素が好ましい。
【0049】担体(c)は、無機あるいは有機の化合物
であって、粒径が10〜300μm、好ましくは20〜
200μmの顆粒状ないしは微粒子状の固体が使用され
る。このうち無機担体としては多孔質酸化物が好まし
く、具体的にはSiO2、Al2O3、MgO、ZrO2、
TiO2、B2O3、CaO、ZnO、BaO、ThO2等
またはこれらの混合物、例えばSiO2-MgO、SiO
2-Al2O3、SiO2-TiO2、SiO2-V2O5、Si
O2-Cr2O3、SiO2-TiO2-MgO等を例示するこ
とができる。これらの中でSiO2およびAl2O3から
なる群から選ばれた少なくとも1種の成分を主成分とす
るものが好ましい。
であって、粒径が10〜300μm、好ましくは20〜
200μmの顆粒状ないしは微粒子状の固体が使用され
る。このうち無機担体としては多孔質酸化物が好まし
く、具体的にはSiO2、Al2O3、MgO、ZrO2、
TiO2、B2O3、CaO、ZnO、BaO、ThO2等
またはこれらの混合物、例えばSiO2-MgO、SiO
2-Al2O3、SiO2-TiO2、SiO2-V2O5、Si
O2-Cr2O3、SiO2-TiO2-MgO等を例示するこ
とができる。これらの中でSiO2およびAl2O3から
なる群から選ばれた少なくとも1種の成分を主成分とす
るものが好ましい。
【0050】なお、上記無機酸化物には少量のNa2C
O3、K2CO3、CaCO3、MgCO3、Na2SO4、
Al2(SO4)3、BaSO4、KNO3、Mg(NO3)
2、Al(NO3)3、Na2O、K2O、Li2O等の炭酸
塩、硫酸塩、硝酸塩、酸化物成分を含有していても差し
つかえない。
O3、K2CO3、CaCO3、MgCO3、Na2SO4、
Al2(SO4)3、BaSO4、KNO3、Mg(NO3)
2、Al(NO3)3、Na2O、K2O、Li2O等の炭酸
塩、硫酸塩、硝酸塩、酸化物成分を含有していても差し
つかえない。
【0051】このような担体(c)はその種類および製
法により性状は異なるが、比表面積が50〜1000m
2/g、好ましくは100〜700m2/gであり、細孔
容積が0.3〜2.5cm3/gであることが望まし
い。該担体は、必要に応じて100〜1000℃、好ま
しくは150〜700℃で焼成して用いられる。
法により性状は異なるが、比表面積が50〜1000m
2/g、好ましくは100〜700m2/gであり、細孔
容積が0.3〜2.5cm3/gであることが望まし
い。該担体は、必要に応じて100〜1000℃、好ま
しくは150〜700℃で焼成して用いられる。
【0052】さらに、本発明に用いることのできる担体
としては、粒径が10〜300μmである有機化合物の
顆粒状ないしは微粒子状固体を挙げることができる。こ
れら有機化合物としては、エチレン、プロピレン、1-ブ
テン、4-メチル-1-ペンテンなどの炭素原子数が2〜1
4のα-オレフィンを主成分とする(共)重合体あるい
はビニルシクロヘキサン、スチレンを主成分とする重合
体もしくは共重合体を例示することができる。
としては、粒径が10〜300μmである有機化合物の
顆粒状ないしは微粒子状固体を挙げることができる。こ
れら有機化合物としては、エチレン、プロピレン、1-ブ
テン、4-メチル-1-ペンテンなどの炭素原子数が2〜1
4のα-オレフィンを主成分とする(共)重合体あるい
はビニルシクロヘキサン、スチレンを主成分とする重合
体もしくは共重合体を例示することができる。
【0053】エチレン系重合体の製造に用いられるオレ
フィン重合用触媒は、上記成分(a)、成分(b)およ
び(c)担体から形成されるが、必要に応じて(d)有
機アルミニウム化合物を用いてもよい。
フィン重合用触媒は、上記成分(a)、成分(b)およ
び(c)担体から形成されるが、必要に応じて(d)有
機アルミニウム化合物を用いてもよい。
【0054】必要に応じて用いられる(d)有機アルミ
ニウム化合物(以下「成分(d)」と記載することがあ
る。)としては、例えば下記一般式(III)で表される
有機アルミニウム化合物を例示することができる。
ニウム化合物(以下「成分(d)」と記載することがあ
る。)としては、例えば下記一般式(III)で表される
有機アルミニウム化合物を例示することができる。
【0055】Ra nAlX3-n … (III) (式中、Ra は炭素原子数が1〜12の炭化水素基を示
し、Xはハロゲン原子または水素原子を示し、nは1〜
3である。) 上記一般式(III)において、Ra は炭素原子数が1〜
12の炭化水素基、例えばアルキル基、シクロアルキル
基またはアリ−ル基であるが、具体的には、メチル基、
エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、イソブチル
基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、シクロペン
チル基、シクロヘキシル基、フェニル基、トリル基など
である。
し、Xはハロゲン原子または水素原子を示し、nは1〜
3である。) 上記一般式(III)において、Ra は炭素原子数が1〜
12の炭化水素基、例えばアルキル基、シクロアルキル
基またはアリ−ル基であるが、具体的には、メチル基、
エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、イソブチル
基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、シクロペン
チル基、シクロヘキシル基、フェニル基、トリル基など
である。
【0056】このような有機アルミニウム化合物として
は、具体的には以下のような化合物が挙げられる。トリ
メチルアルミニウム、トリエチルアルミニウム、トリイ
ソプロピルアルミニウム、トリイソブチルアルミニウ
ム、トリオクチルアルミニウム、トリ2-エチルヘキシル
アルミニウムなどのトリアルキルアルミニウム;イソプ
レニルアルミニウムなどのアルケニルアルミニウム;ジ
メチルアルミニウムクロリド、ジエチルアルミニウムク
ロリド、ジイソプロピルアルミニウムクロリド、ジイソ
ブチルアルミニウムクロリド、ジメチルアルミニウムブ
ロミドなどのジアルキルアルミニウムハライド;メチル
アルミニウムセスキクロリド、エチルアルミニウムセス
キクロリド、イソプロピルアルミニウムセスキクロリ
ド、ブチルアルミニウムセスキクロリド、エチルアルミ
ニウムセスキブロミドなどのアルキルアルミニウムセス
キハライド;メチルアルミニウムジクロリド、エチルア
ルミニウムジクロリド、イソプロピルアルミニウムジク
ロリド、エチルアルミニウムジブロミドなどのアルキル
アルミニウムジハライド;ジエチルアルミニウムハイド
ライド、ジイソブチルアルミニウムハイドライドなどの
アルキルアルミニウムハイドライドなど。
は、具体的には以下のような化合物が挙げられる。トリ
メチルアルミニウム、トリエチルアルミニウム、トリイ
ソプロピルアルミニウム、トリイソブチルアルミニウ
ム、トリオクチルアルミニウム、トリ2-エチルヘキシル
アルミニウムなどのトリアルキルアルミニウム;イソプ
レニルアルミニウムなどのアルケニルアルミニウム;ジ
メチルアルミニウムクロリド、ジエチルアルミニウムク
ロリド、ジイソプロピルアルミニウムクロリド、ジイソ
ブチルアルミニウムクロリド、ジメチルアルミニウムブ
ロミドなどのジアルキルアルミニウムハライド;メチル
アルミニウムセスキクロリド、エチルアルミニウムセス
キクロリド、イソプロピルアルミニウムセスキクロリ
ド、ブチルアルミニウムセスキクロリド、エチルアルミ
ニウムセスキブロミドなどのアルキルアルミニウムセス
キハライド;メチルアルミニウムジクロリド、エチルア
ルミニウムジクロリド、イソプロピルアルミニウムジク
ロリド、エチルアルミニウムジブロミドなどのアルキル
アルミニウムジハライド;ジエチルアルミニウムハイド
ライド、ジイソブチルアルミニウムハイドライドなどの
アルキルアルミニウムハイドライドなど。
【0057】また有機アルミニウム化合物(d)とし
て、下記一般式(IV)で表される化合物を用いることも
できる。 Ra nAlY3-n … (IV) (式中、Ra は上記一般式(III)中のRa と同様の炭
化水素を示し、Yは−ORb 基、−OSiRc 3 基、−
OAlRd 2 基、−NRe 2 基、−SiRf 3 基または−
N(Rg)AlRh 2 基を示し、nは1〜2であり、
Rb 、Rc 、Rd およびRh はメチル基、エチル基、イ
ソプロピル基、イソブチル基、シクロヘキシル基、フェ
ニル基などであり、Re は水素原子、メチル基、エチル
基、イソプロピル基、フェニル基、トリメチルシリル基
などであり、Rf およびRg はメチル基、エチル基など
である。) このような有機アルミニウム化合物としては、具体的に
は、以下のような化合物が用いられる。
て、下記一般式(IV)で表される化合物を用いることも
できる。 Ra nAlY3-n … (IV) (式中、Ra は上記一般式(III)中のRa と同様の炭
化水素を示し、Yは−ORb 基、−OSiRc 3 基、−
OAlRd 2 基、−NRe 2 基、−SiRf 3 基または−
N(Rg)AlRh 2 基を示し、nは1〜2であり、
Rb 、Rc 、Rd およびRh はメチル基、エチル基、イ
ソプロピル基、イソブチル基、シクロヘキシル基、フェ
ニル基などであり、Re は水素原子、メチル基、エチル
基、イソプロピル基、フェニル基、トリメチルシリル基
などであり、Rf およびRg はメチル基、エチル基など
である。) このような有機アルミニウム化合物としては、具体的に
は、以下のような化合物が用いられる。
【0058】(1)Ra nAl(ORb)3-n で表される
化合物、例えばジメチルアルミニウムメトキシド、ジエ
チルアルミニウムエトキシド、ジイソブチルアルミニウ
ムメトキシドなど、 (2)Ra nAl(OSiRc 3)3-n で表される化合物、
例えばEt2Al(OSiMe3)、(iso-Bu)2Al
(OSiMe3)、(iso-Bu)2 Al(OSiEt3)
など; (3)Ra nAl(OAlRd 2)3-n で表される化合物、
例えばEt2AlOAlEt2 、(iso-Bu)2AlOA
l(iso-Bu)2 など; (4) Ra nAl(NRe 2)3-n で表される化合物、例え
ばMe2AlNEt2 、Et2AlNHMe 、Me2Al
NHEt 、Et2AlN(SiMe3)2、(iso-Bu)2
AlN(SiMe3)2 など; (5)Ra nAl(SiRf 3)3-n で表される化合物、例
えば(iso-Bu)2AlSi Me3 など; (6)Ra nAl(N(Rg)AlRh 2)3-n で表される
化合物、例えばEt2AlN(Me)AlEt2 、(iso
-Bu)2AlN(Et)Al(iso-Bu)2 など。
化合物、例えばジメチルアルミニウムメトキシド、ジエ
チルアルミニウムエトキシド、ジイソブチルアルミニウ
ムメトキシドなど、 (2)Ra nAl(OSiRc 3)3-n で表される化合物、
例えばEt2Al(OSiMe3)、(iso-Bu)2Al
(OSiMe3)、(iso-Bu)2 Al(OSiEt3)
など; (3)Ra nAl(OAlRd 2)3-n で表される化合物、
例えばEt2AlOAlEt2 、(iso-Bu)2AlOA
l(iso-Bu)2 など; (4) Ra nAl(NRe 2)3-n で表される化合物、例え
ばMe2AlNEt2 、Et2AlNHMe 、Me2Al
NHEt 、Et2AlN(SiMe3)2、(iso-Bu)2
AlN(SiMe3)2 など; (5)Ra nAl(SiRf 3)3-n で表される化合物、例
えば(iso-Bu)2AlSi Me3 など; (6)Ra nAl(N(Rg)AlRh 2)3-n で表される
化合物、例えばEt2AlN(Me)AlEt2 、(iso
-Bu)2AlN(Et)Al(iso-Bu)2 など。
【0059】上記一般式(III)および(IV)で表され
る有機アルミニウム化合物の中では、一般式Ra 3Al、
Ra nAl(ORb)3-n 、Ra nAl(OAlRd 2)3-n
で表される化合物が好ましく、特にRa がイソアルキル
基であり、n=2である化合物が好ましい。
る有機アルミニウム化合物の中では、一般式Ra 3Al、
Ra nAl(ORb)3-n 、Ra nAl(OAlRd 2)3-n
で表される化合物が好ましく、特にRa がイソアルキル
基であり、n=2である化合物が好ましい。
【0060】本発明ではエチレン系重合体を製造するに
際して、上記のような成分(a)、成分(b)および担
体(c)、必要に応じて成分(d)を接触させることに
より調製される触媒が用いられる。エチレン系重合体の
製造に用いられる触媒は、上記のような成分(a)、成
分(b)、担体(c)および必要に応じて成分(d)の
存在下にオレフィンを予備重合させて得られる予備重合
触媒であってもよい。予備重合は、上記のような成分
(a)、成分(b)、担体(c)および必要に応じて成
分(d)の存在下、不活性炭化水素溶媒中にオレフィン
を導入することにより行うことができる。
際して、上記のような成分(a)、成分(b)および担
体(c)、必要に応じて成分(d)を接触させることに
より調製される触媒が用いられる。エチレン系重合体の
製造に用いられる触媒は、上記のような成分(a)、成
分(b)、担体(c)および必要に応じて成分(d)の
存在下にオレフィンを予備重合させて得られる予備重合
触媒であってもよい。予備重合は、上記のような成分
(a)、成分(b)、担体(c)および必要に応じて成
分(d)の存在下、不活性炭化水素溶媒中にオレフィン
を導入することにより行うことができる。
【0061】本発明で用いられるエチレン系重合体は、
前記のようなオレフィン重合触媒または予備重合触媒の
存在下に、エチレンを単独重合するか、またはエチレン
と炭素原子数がが3〜20のα-オレフィン、例えばプ
ロピレン、1-ブテン、1-ペンテン、1-ヘキセン、4-メチ
ル-1-ペンテン、1-オクテン、1-デセン、1-ドデセン、1
-テトラデセン、1-ヘキサデセン、1-オクタデセン、1-
エイコセンとを共重合することによって得られる。
前記のようなオレフィン重合触媒または予備重合触媒の
存在下に、エチレンを単独重合するか、またはエチレン
と炭素原子数がが3〜20のα-オレフィン、例えばプ
ロピレン、1-ブテン、1-ペンテン、1-ヘキセン、4-メチ
ル-1-ペンテン、1-オクテン、1-デセン、1-ドデセン、1
-テトラデセン、1-ヘキサデセン、1-オクタデセン、1-
エイコセンとを共重合することによって得られる。
【0062】エチレンの単独重合、またはエチレンとα
-オレフィンとの共重合は、気相であるいはスラリー状
の液相で行われる。スラリー重合においては、不活性炭
化水素を溶媒としてもよいし、オレフィン自体を溶媒と
することもできる。
-オレフィンとの共重合は、気相であるいはスラリー状
の液相で行われる。スラリー重合においては、不活性炭
化水素を溶媒としてもよいし、オレフィン自体を溶媒と
することもできる。
【0063】スラリー重合において用いられる不活性炭
化水素溶媒として具体的には、ブタン、イソブタン、ペ
ンタン、ヘキサン、オクタン、デカン、ドデカン、ヘキ
サデカン、オクタデカンなどの脂肪族系炭化水素;シク
ロペンタン、メチルシクロペンタン、シクロヘキサン、
シクロオクタンなどの脂環族系炭化水素;ベンゼン、ト
ルエン、キシレンなどの芳香族系炭化水素;ガソリン、
灯油、軽油などの石油留分などが挙げられる。これら不
活性炭化水素媒体のうち脂肪族系炭化水素、脂環族系炭
化水素、石油留分などが好ましい。
化水素溶媒として具体的には、ブタン、イソブタン、ペ
ンタン、ヘキサン、オクタン、デカン、ドデカン、ヘキ
サデカン、オクタデカンなどの脂肪族系炭化水素;シク
ロペンタン、メチルシクロペンタン、シクロヘキサン、
シクロオクタンなどの脂環族系炭化水素;ベンゼン、ト
ルエン、キシレンなどの芳香族系炭化水素;ガソリン、
灯油、軽油などの石油留分などが挙げられる。これら不
活性炭化水素媒体のうち脂肪族系炭化水素、脂環族系炭
化水素、石油留分などが好ましい。
【0064】スラリー重合法または気相重合法で実施す
る際には、上記のようなオレフィン重合触媒または予備
重合触媒は、重合反応系内の遷移金属原子の濃度とし
て、通常10-8〜10-3グラム原子/リットル、好まし
くは10-7〜10-4グラム原子/リットルの量で用いら
れることが望ましい。
る際には、上記のようなオレフィン重合触媒または予備
重合触媒は、重合反応系内の遷移金属原子の濃度とし
て、通常10-8〜10-3グラム原子/リットル、好まし
くは10-7〜10-4グラム原子/リットルの量で用いら
れることが望ましい。
【0065】また、本重合に際して、担持されている成
分(b)、成分(d)に加えて、さらに成分(b)と同
様の有機アルミニウムオキシ化合物および/または有機
アルミニウム化合物(d)を添加してもよい。この際、
有機アルミニウムオキシ化合物および有機アルミニウム
化合物中のアルミニウム原子(Al)と、遷移金属化合
物(a)に由来する遷移金属原子(M)との原子比(A
l/M)は、5〜300、好ましくは10〜200、よ
り好ましくは15〜150の範囲である。
分(b)、成分(d)に加えて、さらに成分(b)と同
様の有機アルミニウムオキシ化合物および/または有機
アルミニウム化合物(d)を添加してもよい。この際、
有機アルミニウムオキシ化合物および有機アルミニウム
化合物中のアルミニウム原子(Al)と、遷移金属化合
物(a)に由来する遷移金属原子(M)との原子比(A
l/M)は、5〜300、好ましくは10〜200、よ
り好ましくは15〜150の範囲である。
【0066】スラリー重合法を実施する際には、重合温
度は、通常−50〜100℃、好ましくは0〜90℃の
範囲にあり、気相重合法を実施する際には、重合温度
は、通常0〜120℃、好ましくは20〜100℃の範
囲である。
度は、通常−50〜100℃、好ましくは0〜90℃の
範囲にあり、気相重合法を実施する際には、重合温度
は、通常0〜120℃、好ましくは20〜100℃の範
囲である。
【0067】重合圧力は、通常常圧ないし100kg/
cm2、好ましくは2〜50kg/cm2の加圧条件下で
あり、重合は、回分式、半連続式、連続式のいずれの方
式においても行うことができる。
cm2、好ましくは2〜50kg/cm2の加圧条件下で
あり、重合は、回分式、半連続式、連続式のいずれの方
式においても行うことができる。
【0068】さらに重合を反応条件の異なる2段以上に
分けて行うことも可能である。本発明のグラフト変性エ
チレン系重合体は、ラジカル開始剤の存在下、上記のよ
うなエチレン系重合体と、後述するような極性モノマー
とを反応させることにより得ることができる。
分けて行うことも可能である。本発明のグラフト変性エ
チレン系重合体は、ラジカル開始剤の存在下、上記のよ
うなエチレン系重合体と、後述するような極性モノマー
とを反応させることにより得ることができる。
【0069】極性モノマーとしては、水酸基含有エチレ
ン性不飽和化合物、アミノ基含有エチレン性不飽和化合
物、エポキシ基含有エチレン性不飽和化合物、芳香族ビ
ニル化合物、不飽和カルボン酸およびその誘導体、ビニ
ルエステル化合物、塩化ビニルなどが挙げられる。
ン性不飽和化合物、アミノ基含有エチレン性不飽和化合
物、エポキシ基含有エチレン性不飽和化合物、芳香族ビ
ニル化合物、不飽和カルボン酸およびその誘導体、ビニ
ルエステル化合物、塩化ビニルなどが挙げられる。
【0070】具体的には、水酸基含有エチレン性不飽和
化合物としては、ヒドロキシエチル(メタ)アクリレー
ト、2-ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、3-ヒ
ドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2-ヒドロキシ
-3-フェノキシ−プロピル(メタ)アクリレート、3-ク
ロロ-2-ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、グ
リセリンモノ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリト
ールモノ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパ
ンモノ(メタ)アクリレート、テトラメチロールエタン
モノ(メタ)アクリレート、ブタンジオールモノ(メ
タ)アクリレート、ポリエチレングリコールモノ(メ
タ)アクリレート、2-(6-ヒドロキシヘキサノイルオキ
シ)エチルアクリレートなどの(メタ)アクリル酸エス
テル;10-ウンデセン-1-オール、1-オクテン-3-オー
ル、2-メタノールノルボルネン、ヒドロキシスチレン、
ヒドロキシエチルビニルエーテル、ヒドロキシブチルビ
ニルエーテル、N-メチロールアクリルアミド、2-(メ
タ)アクロイルオキシエチルアシッドフォスフェート、
グリセリンモノアリルエーテル、アリルアルコール、ア
リロキシエタノール、2-ブテン-1,4-ジオール、グリセ
リンモノアルコールなどが挙げられる。
化合物としては、ヒドロキシエチル(メタ)アクリレー
ト、2-ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、3-ヒ
ドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2-ヒドロキシ
-3-フェノキシ−プロピル(メタ)アクリレート、3-ク
ロロ-2-ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、グ
リセリンモノ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリト
ールモノ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパ
ンモノ(メタ)アクリレート、テトラメチロールエタン
モノ(メタ)アクリレート、ブタンジオールモノ(メ
タ)アクリレート、ポリエチレングリコールモノ(メ
タ)アクリレート、2-(6-ヒドロキシヘキサノイルオキ
シ)エチルアクリレートなどの(メタ)アクリル酸エス
テル;10-ウンデセン-1-オール、1-オクテン-3-オー
ル、2-メタノールノルボルネン、ヒドロキシスチレン、
ヒドロキシエチルビニルエーテル、ヒドロキシブチルビ
ニルエーテル、N-メチロールアクリルアミド、2-(メ
タ)アクロイルオキシエチルアシッドフォスフェート、
グリセリンモノアリルエーテル、アリルアルコール、ア
リロキシエタノール、2-ブテン-1,4-ジオール、グリセ
リンモノアルコールなどが挙げられる。
【0071】アミノ基含有エチレン性不飽和化合物は、
エチレン性二重結合とアミノ基を有する化合物であり、
このような化合物としては、次式で表されるアミノ基お
よび置換アミノ基を少なくとも1種類有するビニル系単
量体を挙げることができる。
エチレン性二重結合とアミノ基を有する化合物であり、
このような化合物としては、次式で表されるアミノ基お
よび置換アミノ基を少なくとも1種類有するビニル系単
量体を挙げることができる。
【0072】
【化1】
【0073】式中、R4 は水素原子、メチル基またはエ
チル基を示し、R5 は、水素原子、炭素原子数が1〜1
2、好ましくは1〜8のアルキル基または炭素原子数が
6〜12、好ましくは6〜8のシクロアルキル基であ
る。なお上記のアルキル基、シクロアルキル基は、さら
に置換基を有してもよい。
チル基を示し、R5 は、水素原子、炭素原子数が1〜1
2、好ましくは1〜8のアルキル基または炭素原子数が
6〜12、好ましくは6〜8のシクロアルキル基であ
る。なお上記のアルキル基、シクロアルキル基は、さら
に置換基を有してもよい。
【0074】このようなアミノ基含有エチレン性不飽和
化合物としては、具体的には、(メタ)アクリル酸アミ
ノエチル、(メタ)アクリル酸プロピルアミノエチル、
メタクリル酸ジメチルアミノエチル、(メタ)アクリル
酸アミノプロピル、メタクリル酸フェニルアミノエチル
およびメタクリル酸シクロヘキシルアミノエチルなどの
アクリル酸またはメタクリル酸のアルキルエステル系誘
導体類;N-ビニルジエチルアミンおよびN-アセチルビニ
ルアミンなどのビニルアミン系誘導体類;アリルアミ
ン、メタクリルアミン、N-メチルアクリルアミン、N,N-
ジメチルアクリルアミド、およびN,N-ジメチルアミノプ
ロピルアクリルアミドなどのアリルアミン系誘導体;ア
クリルアミドおよびN-メチルアクリルアミドなどのアク
リルアミド系誘導体;p-アミノスチレンなどのアミノス
チレン類;6-アミノヘキシルコハク酸イミド、2-アミノ
エチルコハク酸イミドなどが用いられる。
化合物としては、具体的には、(メタ)アクリル酸アミ
ノエチル、(メタ)アクリル酸プロピルアミノエチル、
メタクリル酸ジメチルアミノエチル、(メタ)アクリル
酸アミノプロピル、メタクリル酸フェニルアミノエチル
およびメタクリル酸シクロヘキシルアミノエチルなどの
アクリル酸またはメタクリル酸のアルキルエステル系誘
導体類;N-ビニルジエチルアミンおよびN-アセチルビニ
ルアミンなどのビニルアミン系誘導体類;アリルアミ
ン、メタクリルアミン、N-メチルアクリルアミン、N,N-
ジメチルアクリルアミド、およびN,N-ジメチルアミノプ
ロピルアクリルアミドなどのアリルアミン系誘導体;ア
クリルアミドおよびN-メチルアクリルアミドなどのアク
リルアミド系誘導体;p-アミノスチレンなどのアミノス
チレン類;6-アミノヘキシルコハク酸イミド、2-アミノ
エチルコハク酸イミドなどが用いられる。
【0075】エポキシ基含有エチレン性不飽和化合物
は、1分子中に重合可能な不飽和結合およびエポキシ基
を少なくとも1個以上有するモノマーであり、このよう
なエポキシ基含有エチレン性不飽和化合物としては、具
体的には、グリシジルアクリレート、グリシジルメタク
リレート、マレイン酸のモノおよびジグリシジルエステ
ル、フマル酸のモノおよびジグリシジルエステル、クロ
トン酸のモノおよびジグリシジルエステル、テトラヒド
ロフタル酸のモノおよびジグリシジルエステル、イタコ
ン酸のモノおよびグリシジルエステル、ブテントリカル
ボン酸のモノおよびジグリシジルエステル、シトラコン
酸のモノおよびジグリシジルエステル、エンド-シス-ビ
シクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボン酸(ナ
ジック酸TM)のモノおよびジグリシジルエステル、エン
ド-シス-ビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2-メチル-2,
3-ジカルボン酸(メチルナジック酸TM)のモノおよびジ
グリシジルエステル、アリルコハク酸のモノおよびグリ
シジルエステルなどのジカルボン酸モノおよびアルキル
グリシジルエステル(モノグリシジルエステルの場合の
アルキル基の炭素原子数1〜12)、p-スチレンカルボ
ン酸のアルキルグリシジルエステル、アリルグリシジル
エーテル、2-メチルアリルグリシジルエーテル、スチレ
ン-p-グリシジルエーテル、3,4-エポキシ-1-ブテン、3,
4-エポキシ-3-メチル-1-ブテン、3,4-エポキシ-1-ペン
テン、3,4-エポキシ-3-メチル-1-ペンテン、5,6-エポキ
シ-1-ヘキセン、ビニルシクロヘキセンモノオキシドな
どを例示することができる。
は、1分子中に重合可能な不飽和結合およびエポキシ基
を少なくとも1個以上有するモノマーであり、このよう
なエポキシ基含有エチレン性不飽和化合物としては、具
体的には、グリシジルアクリレート、グリシジルメタク
リレート、マレイン酸のモノおよびジグリシジルエステ
ル、フマル酸のモノおよびジグリシジルエステル、クロ
トン酸のモノおよびジグリシジルエステル、テトラヒド
ロフタル酸のモノおよびジグリシジルエステル、イタコ
ン酸のモノおよびグリシジルエステル、ブテントリカル
ボン酸のモノおよびジグリシジルエステル、シトラコン
酸のモノおよびジグリシジルエステル、エンド-シス-ビ
シクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボン酸(ナ
ジック酸TM)のモノおよびジグリシジルエステル、エン
ド-シス-ビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2-メチル-2,
3-ジカルボン酸(メチルナジック酸TM)のモノおよびジ
グリシジルエステル、アリルコハク酸のモノおよびグリ
シジルエステルなどのジカルボン酸モノおよびアルキル
グリシジルエステル(モノグリシジルエステルの場合の
アルキル基の炭素原子数1〜12)、p-スチレンカルボ
ン酸のアルキルグリシジルエステル、アリルグリシジル
エーテル、2-メチルアリルグリシジルエーテル、スチレ
ン-p-グリシジルエーテル、3,4-エポキシ-1-ブテン、3,
4-エポキシ-3-メチル-1-ブテン、3,4-エポキシ-1-ペン
テン、3,4-エポキシ-3-メチル-1-ペンテン、5,6-エポキ
シ-1-ヘキセン、ビニルシクロヘキセンモノオキシドな
どを例示することができる。
【0076】芳香族ビニル化合物としては、下記式で表
される化合物が挙げられる。
される化合物が挙げられる。
【0077】
【化2】
【0078】上記式において、R6 およびR7 は、互い
に同一でも異なっていてもよく、水素原子または炭素原
子数が1〜3のアルキル基を示し、具体的には、メチル
基、エチル基、プロピル基およびイソプロピル基を挙げ
ることができる。また、R8は炭素原子数が1〜3の炭
化水素基またはハロゲン原子を示し、具体的には、メチ
ル基、エチル基、プロピル基およびイソプロピル基並び
に塩素原子、臭素原子およびヨウ素原子などを挙げるこ
とができる。また、nは通常は0〜5、好ましくは1〜
5の整数を表す。
に同一でも異なっていてもよく、水素原子または炭素原
子数が1〜3のアルキル基を示し、具体的には、メチル
基、エチル基、プロピル基およびイソプロピル基を挙げ
ることができる。また、R8は炭素原子数が1〜3の炭
化水素基またはハロゲン原子を示し、具体的には、メチ
ル基、エチル基、プロピル基およびイソプロピル基並び
に塩素原子、臭素原子およびヨウ素原子などを挙げるこ
とができる。また、nは通常は0〜5、好ましくは1〜
5の整数を表す。
【0079】このような芳香族ビニル化合物の具体的な
例としては、スチレン、α−メチルスチレン、o-メチル
スチレン、p-メチルスチレン、m-メチルスチレン、p-ク
ロロスチレン、m-クロロスチレンおよびp-クロロメチル
スチレン、4-ビニルピリジン、2-ビニルピリジン、5-エ
チル-2-ビニルピリジン、2-メチル-5-ビニルピリジン、
2-イソプロペニルピリジン、2-ビニルキノリン、3-ビニ
ルイソキノリン、N-ビニルカルバゾール、N-ビニルピロ
リドンなどを挙げることができる。
例としては、スチレン、α−メチルスチレン、o-メチル
スチレン、p-メチルスチレン、m-メチルスチレン、p-ク
ロロスチレン、m-クロロスチレンおよびp-クロロメチル
スチレン、4-ビニルピリジン、2-ビニルピリジン、5-エ
チル-2-ビニルピリジン、2-メチル-5-ビニルピリジン、
2-イソプロペニルピリジン、2-ビニルキノリン、3-ビニ
ルイソキノリン、N-ビニルカルバゾール、N-ビニルピロ
リドンなどを挙げることができる。
【0080】不飽和カルボン酸としては、アクリル酸、
メタクリル酸、マレイン酸、フマル酸、テトラヒドロフ
タル酸、イタコン酸、シトラコン酸、クロトン酸、イソ
クロトン酸、ノルボルネンジカルボン酸、ビシクロ[2,
2,1]ヘプト-2-エン-5,6-ジカルボン酸などの不飽和カ
ルボン酸、またはこれらの酸無水物あるいはこれらの誘
導体(例えば酸ハライド、アミド、イミド、エステルな
ど)が挙げられる。具体的な化合物の例としては、塩化
マレニル、マレニルイミド、無水マレイン酸、無水イタ
コン酸、無水シトラコン酸、テトラヒドロ無水フタル
酸、ビシクロ[2,2,1]ヘプト-2-エン-5,6-ジカルボン
酸無水物、マレイン酸ジメチル、マレイン酸モノメチ
ル、マレイン酸ジエチル、フマル酸ジエチル、イタコン
酸ジメチル、シトラコン酸ジエチル、テトラヒドロフタ
ル酸ジメチル、ビシクロ[2,2,1]ヘプト-2-エン-5,6-
ジカルボン酸ジメチル、ヒドロキシエチル(メタ)アク
リレート、ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、
グリシジル(メタ)アクリレート、メタクリル酸アミノ
エチルおよびメタクリル酸アミノプロピルなどを挙げる
ことができる。これらの中では、(メタ)アクリル酸、
無水マレイン酸、ヒドロキシエチル(メタ)アクリレー
ト、グリシジルメタクリレート、メタクリル酸アミノプ
ロピルが好ましい。
メタクリル酸、マレイン酸、フマル酸、テトラヒドロフ
タル酸、イタコン酸、シトラコン酸、クロトン酸、イソ
クロトン酸、ノルボルネンジカルボン酸、ビシクロ[2,
2,1]ヘプト-2-エン-5,6-ジカルボン酸などの不飽和カ
ルボン酸、またはこれらの酸無水物あるいはこれらの誘
導体(例えば酸ハライド、アミド、イミド、エステルな
ど)が挙げられる。具体的な化合物の例としては、塩化
マレニル、マレニルイミド、無水マレイン酸、無水イタ
コン酸、無水シトラコン酸、テトラヒドロ無水フタル
酸、ビシクロ[2,2,1]ヘプト-2-エン-5,6-ジカルボン
酸無水物、マレイン酸ジメチル、マレイン酸モノメチ
ル、マレイン酸ジエチル、フマル酸ジエチル、イタコン
酸ジメチル、シトラコン酸ジエチル、テトラヒドロフタ
ル酸ジメチル、ビシクロ[2,2,1]ヘプト-2-エン-5,6-
ジカルボン酸ジメチル、ヒドロキシエチル(メタ)アク
リレート、ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、
グリシジル(メタ)アクリレート、メタクリル酸アミノ
エチルおよびメタクリル酸アミノプロピルなどを挙げる
ことができる。これらの中では、(メタ)アクリル酸、
無水マレイン酸、ヒドロキシエチル(メタ)アクリレー
ト、グリシジルメタクリレート、メタクリル酸アミノプ
ロピルが好ましい。
【0081】ビニルエステル化合物の例としては、酢酸
ビニル、プロピオン酸ビニル、n-酪酸ビニル、イソ酪酸
ビニル、ピバリン酸ビニル、カプロン酸ビニル、バーサ
ティック酸ビニル、ラウリル酸ビニル、ステアリン酸ビ
ニル、安息香酸ビニル、p-t-ブチル安息香酸ビニル、サ
リチル酸ビニル、シクロヘキサンカルボン酸ビニルなど
を挙げることができる。
ビニル、プロピオン酸ビニル、n-酪酸ビニル、イソ酪酸
ビニル、ピバリン酸ビニル、カプロン酸ビニル、バーサ
ティック酸ビニル、ラウリル酸ビニル、ステアリン酸ビ
ニル、安息香酸ビニル、p-t-ブチル安息香酸ビニル、サ
リチル酸ビニル、シクロヘキサンカルボン酸ビニルなど
を挙げることができる。
【0082】上記極性モノマーは、上記エチレン系重合
体100重量部に対して、通常は、1〜100重量部、
好ましくは5〜80重量部の量で使用される。ラジカル
開始剤としては、有機過酸化物あるいはアゾ化合物など
を挙げることができる。
体100重量部に対して、通常は、1〜100重量部、
好ましくは5〜80重量部の量で使用される。ラジカル
開始剤としては、有機過酸化物あるいはアゾ化合物など
を挙げることができる。
【0083】有機過酸化物の具体的な例としては、ジク
ミルパーオキサイド、ジ-t-ブチルパーオキサイド、2,5
-ジメチル-2,5-ビス(t-ブチルパーオキシ)ヘキサン、2,
5-ジメチル-2,5-ビス(t-ブチルパーオキシ)ヘキシン-
3、1,3-ビス(t-ブチルパーオキシイソプロピル)ベンゼ
ン、1,1-ビス(t-ブチルパーオキシ)バラレート、ベンゾ
イルパーオキサイド、t-ブチルパーオキシベンゾエー
ト、アセチルパーオキサイド、イソブチリルパーオキサ
イド、オクタノイルパーオキサイド、デカノイルパーオ
キサイド、ラウロイルパーオキサイド、3,5,5-トリメチ
ルヘキサノイルパーオキサイドおよび2,4-ジクロロベン
ゾイルパーオキサイド、m-トルイルパーオキサイドなど
を挙げることができる。また、アゾ化合物としてはアゾ
イソブチロニトリル、ジメチルアゾイソブチロニトリル
などを挙げることができる。
ミルパーオキサイド、ジ-t-ブチルパーオキサイド、2,5
-ジメチル-2,5-ビス(t-ブチルパーオキシ)ヘキサン、2,
5-ジメチル-2,5-ビス(t-ブチルパーオキシ)ヘキシン-
3、1,3-ビス(t-ブチルパーオキシイソプロピル)ベンゼ
ン、1,1-ビス(t-ブチルパーオキシ)バラレート、ベンゾ
イルパーオキサイド、t-ブチルパーオキシベンゾエー
ト、アセチルパーオキサイド、イソブチリルパーオキサ
イド、オクタノイルパーオキサイド、デカノイルパーオ
キサイド、ラウロイルパーオキサイド、3,5,5-トリメチ
ルヘキサノイルパーオキサイドおよび2,4-ジクロロベン
ゾイルパーオキサイド、m-トルイルパーオキサイドなど
を挙げることができる。また、アゾ化合物としてはアゾ
イソブチロニトリル、ジメチルアゾイソブチロニトリル
などを挙げることができる。
【0084】このようなラジカル開始剤は、上記エチレ
ン系重合体100重量部に対して、一般には、0.00
1〜10重量部の量で使用されることが望ましい。ラジ
カル開始剤は、そのままエチレン系重合体および極性モ
ノマーと混合して使用することもできるが、このラジカ
ル開始剤を少量の有機溶媒に溶解して使用することもで
きる。ここで使用される有機溶媒としては、ラジカル開
始剤を溶解し得る有機溶媒であれば特に限定することな
く使用することができる。このような有機溶媒として
は、ベンゼン、トルエンおよびキシレンなどの芳香族炭
化水素溶媒;ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタ
ン、ノナンおよびデカンなどの脂肪族炭化水素系溶媒;
シクロヘキサン、メチルシクロヘキサンおよびデカヒド
ロナフタレンのようなの脂環族炭化水素系溶媒;クロル
ベンゼン、ジクロルベンゼン、トリクロルベンゼン、塩
化メチレン、クロロホルム、四塩化炭素およびテトラク
ロルエチレンなどの塩素化炭化水素;メタノール、エタ
ノール、n-プロピノール、iso-プロパノール、n-ブタノ
ール、sec-ブタノールおよびtert-ブタノールなどのア
ルコール系溶媒;アセトン、メチルエチルケトンおよび
メチルイソブチルケトンなどのケトン系溶媒;酢酸エチ
ルおよびジメチルフタレートなどのエステル系溶媒;ジ
メチルエーテル、ジエチルエーテル、ジ-n-アミルエー
テル、テトラヒドロフランおよびジオキシアニソールの
ようなエーテル系溶媒を挙げることができる。
ン系重合体100重量部に対して、一般には、0.00
1〜10重量部の量で使用されることが望ましい。ラジ
カル開始剤は、そのままエチレン系重合体および極性モ
ノマーと混合して使用することもできるが、このラジカ
ル開始剤を少量の有機溶媒に溶解して使用することもで
きる。ここで使用される有機溶媒としては、ラジカル開
始剤を溶解し得る有機溶媒であれば特に限定することな
く使用することができる。このような有機溶媒として
は、ベンゼン、トルエンおよびキシレンなどの芳香族炭
化水素溶媒;ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタ
ン、ノナンおよびデカンなどの脂肪族炭化水素系溶媒;
シクロヘキサン、メチルシクロヘキサンおよびデカヒド
ロナフタレンのようなの脂環族炭化水素系溶媒;クロル
ベンゼン、ジクロルベンゼン、トリクロルベンゼン、塩
化メチレン、クロロホルム、四塩化炭素およびテトラク
ロルエチレンなどの塩素化炭化水素;メタノール、エタ
ノール、n-プロピノール、iso-プロパノール、n-ブタノ
ール、sec-ブタノールおよびtert-ブタノールなどのア
ルコール系溶媒;アセトン、メチルエチルケトンおよび
メチルイソブチルケトンなどのケトン系溶媒;酢酸エチ
ルおよびジメチルフタレートなどのエステル系溶媒;ジ
メチルエーテル、ジエチルエーテル、ジ-n-アミルエー
テル、テトラヒドロフランおよびジオキシアニソールの
ようなエーテル系溶媒を挙げることができる。
【0085】また本発明において、エチレン系重合体を
グラフト変性するに際して、還元性物質を用いてもよ
い。還元性物質は、得られるグラフト変性エチレン系重
合体におけるグラフト量を向上させる作用を有する。
グラフト変性するに際して、還元性物質を用いてもよ
い。還元性物質は、得られるグラフト変性エチレン系重
合体におけるグラフト量を向上させる作用を有する。
【0086】還元性物質としては、鉄(II)イオン、ク
ロムイオン、コバルトイオン、ニッケルイオン、パラジ
ウムイオン、亜硫酸塩、ヒドロキシルアミン、ヒドラジ
ンなどのほか、−SH、SO3H、−NHNH2、−CO
CH(OH)−などの基を含む化合物が挙げられる。
ロムイオン、コバルトイオン、ニッケルイオン、パラジ
ウムイオン、亜硫酸塩、ヒドロキシルアミン、ヒドラジ
ンなどのほか、−SH、SO3H、−NHNH2、−CO
CH(OH)−などの基を含む化合物が挙げられる。
【0087】このような還元性物質としては、具体的に
は、塩化第一鉄、重クロム酸カリウム、塩化コバルト、
ナフテン酸コバルト、塩化パラジウム、エタノールアミ
ン、ジエタノールアミン、N,N-ジメチルアニリン、ヒド
ラジン、エチルメルカプタン、ベンゼンスルホン酸、p-
トルエンスルホン酸などが挙げられる。
は、塩化第一鉄、重クロム酸カリウム、塩化コバルト、
ナフテン酸コバルト、塩化パラジウム、エタノールアミ
ン、ジエタノールアミン、N,N-ジメチルアニリン、ヒド
ラジン、エチルメルカプタン、ベンゼンスルホン酸、p-
トルエンスルホン酸などが挙げられる。
【0088】上記の還元性物質は、上記のエチレン系重
合体100重量部に対して、通常は、0.001〜5重
量部、好ましくは0.1〜3重量部の量で使用される。
エチレン系重合体のグラフト変性は、従来公知の方法で
行うことができ、例えばエチレン系重合体を有機溶媒に
溶解し、次いで極性モノマーおよびラジカル開始剤など
を溶液に加え、70〜200℃、好ましくは80〜19
0℃の温度で、0.5〜15時間、好ましくは1〜10
時間反応させることにより行われる。
合体100重量部に対して、通常は、0.001〜5重
量部、好ましくは0.1〜3重量部の量で使用される。
エチレン系重合体のグラフト変性は、従来公知の方法で
行うことができ、例えばエチレン系重合体を有機溶媒に
溶解し、次いで極性モノマーおよびラジカル開始剤など
を溶液に加え、70〜200℃、好ましくは80〜19
0℃の温度で、0.5〜15時間、好ましくは1〜10
時間反応させることにより行われる。
【0089】エチレン系重合体をグラフト変性する際に
用いられる有機溶媒は、エチレン系重合体を溶解し得る
有機溶媒であれば特に限定することなく使用することが
できる。
用いられる有機溶媒は、エチレン系重合体を溶解し得る
有機溶媒であれば特に限定することなく使用することが
できる。
【0090】このような有機溶媒としては、ベンゼン、
トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素系溶媒、ペン
タン、ヘキサン、ヘプタンなどの脂肪族炭化水素系溶媒
などが挙げられる。
トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素系溶媒、ペン
タン、ヘキサン、ヘプタンなどの脂肪族炭化水素系溶媒
などが挙げられる。
【0091】また、押出機などを使用して、エチレン系
重合体と極性モノマーとを無溶媒で、混練、反応させ
て、グラフト変性エチレン系重合体を製造することがで
きる。反応温度は、通常エチレン系重合体の融点以上、
具体的には120〜250℃の範囲である。このような
温度条件下における反応時間は、通常0.5〜10分間
である。
重合体と極性モノマーとを無溶媒で、混練、反応させ
て、グラフト変性エチレン系重合体を製造することがで
きる。反応温度は、通常エチレン系重合体の融点以上、
具体的には120〜250℃の範囲である。このような
温度条件下における反応時間は、通常0.5〜10分間
である。
【0092】このようにして調製されたグラフト変性エ
チレン系重合体中における極性モノマーから誘導される
グラフト基のグラフト量は、通常は0.1〜50重量
%、好ましくは0.2〜30重量%の範囲内にある。
チレン系重合体中における極性モノマーから誘導される
グラフト基のグラフト量は、通常は0.1〜50重量
%、好ましくは0.2〜30重量%の範囲内にある。
【0093】本発明のグラフト変性エチレン系重合体に
は、本発明の目的を損なわない範囲で、耐候性安定剤、
耐熱安定剤、帯電防止剤、スリップ防止剤、アンチブロ
ッキング剤、防曇剤、滑剤、顔料、染料、核剤、可塑
剤、老化防止剤、塩酸吸収剤、酸化防止剤等の添加剤が
必要に応じて配合されていてもよい。また、本発明の趣
旨を逸脱しない限り他の高分子化合物を少量ブレンドす
ることができる。
は、本発明の目的を損なわない範囲で、耐候性安定剤、
耐熱安定剤、帯電防止剤、スリップ防止剤、アンチブロ
ッキング剤、防曇剤、滑剤、顔料、染料、核剤、可塑
剤、老化防止剤、塩酸吸収剤、酸化防止剤等の添加剤が
必要に応じて配合されていてもよい。また、本発明の趣
旨を逸脱しない限り他の高分子化合物を少量ブレンドす
ることができる。
【0094】
【発明の効果】本発明のグラフト変性エチレン系重合体
は、金属または極性樹脂との接着において、低温接着性
と高温雰囲気下での接着力保持性とのバランスに優れて
いる。
は、金属または極性樹脂との接着において、低温接着性
と高温雰囲気下での接着力保持性とのバランスに優れて
いる。
【0095】次に本発明で使用する物性値の測定法を示
す。 (1)重合体の組成13 C−NMRにより決定した。すなわち、10mmφの
試料管中で約200mgの重合体試料を1mlのヘキサ
クロロブタジエンに均一に溶解させた試料の13C−NM
Rスペクトルを、測定温度120℃、測定周波数25.
05MHz 、スペクトル幅1500Hz 、パルス繰返し
時間4.2sec.、パルス幅6μsec.の測定条件下で測定
することにより決定される。 (2)密度 190℃における2.16kg荷重でのメルトフローレ
ート測定時に得られるストランドを120℃で1時間熱
処理し、1時間かけて室温まで徐冷したのち、密度勾配
管で測定する。 (3)メルトフローレート(MFR) ASTM D1238−65Tに従い190℃、2.1
6kg荷重の条件下に測定される。 (4)溶融張力(MT) 溶融させたポリマーを一定速度で延伸した時の応力を測
定することにより決定される。すなわち、東洋精機製作
所製、MT測定機を用い、樹脂温度190℃、押し出し
速度15mm/分、巻取り速度10〜20m/分、ノズ
ル径2.09mmφ、ノズル長さ8mmの条件で行われ
る。 (5)流動性インデックス(FI) 流動インデックスは、190℃におけるずり応力が2.
4×106 dyne/cm 2 に到達する時のずり速度で定義
される。流動インデックスは、ずり速度を変えながら樹
脂をキャピラリーから押し出し、その時の応力を測定す
ることにより決定する。すなわち、MT測定と同様の試
料を用い、東洋精機製作所製、毛細式流れ特性試験機を
用い、樹脂温度190℃、ずり応力の範囲が5×104
〜3×106 dyne/cm2 程度で測定する。
す。 (1)重合体の組成13 C−NMRにより決定した。すなわち、10mmφの
試料管中で約200mgの重合体試料を1mlのヘキサ
クロロブタジエンに均一に溶解させた試料の13C−NM
Rスペクトルを、測定温度120℃、測定周波数25.
05MHz 、スペクトル幅1500Hz 、パルス繰返し
時間4.2sec.、パルス幅6μsec.の測定条件下で測定
することにより決定される。 (2)密度 190℃における2.16kg荷重でのメルトフローレ
ート測定時に得られるストランドを120℃で1時間熱
処理し、1時間かけて室温まで徐冷したのち、密度勾配
管で測定する。 (3)メルトフローレート(MFR) ASTM D1238−65Tに従い190℃、2.1
6kg荷重の条件下に測定される。 (4)溶融張力(MT) 溶融させたポリマーを一定速度で延伸した時の応力を測
定することにより決定される。すなわち、東洋精機製作
所製、MT測定機を用い、樹脂温度190℃、押し出し
速度15mm/分、巻取り速度10〜20m/分、ノズ
ル径2.09mmφ、ノズル長さ8mmの条件で行われ
る。 (5)流動性インデックス(FI) 流動インデックスは、190℃におけるずり応力が2.
4×106 dyne/cm 2 に到達する時のずり速度で定義
される。流動インデックスは、ずり速度を変えながら樹
脂をキャピラリーから押し出し、その時の応力を測定す
ることにより決定する。すなわち、MT測定と同様の試
料を用い、東洋精機製作所製、毛細式流れ特性試験機を
用い、樹脂温度190℃、ずり応力の範囲が5×104
〜3×106 dyne/cm2 程度で測定する。
【0096】なお測定する樹脂のMFR(g/10分)に
よって、ノズル(キャピラリー)の直径を次のように変
更して測定する。 MFR>20 のとき0.5mm 20≧MFR>3 のとき1.0mm 3≧MFR>0.8 のとき2.0mm 0.8≧MFR のとき3.0mm (6)n-デカン可溶成分量率(W) 重合体約3gをn-デカン450mlに加え、145℃で
溶解後23℃まで冷却し、濾過によりn-デカン不溶部を
除き、濾液よりn-デカン可溶部を回収することにより行
われる。
よって、ノズル(キャピラリー)の直径を次のように変
更して測定する。 MFR>20 のとき0.5mm 20≧MFR>3 のとき1.0mm 3≧MFR>0.8 のとき2.0mm 0.8≧MFR のとき3.0mm (6)n-デカン可溶成分量率(W) 重合体約3gをn-デカン450mlに加え、145℃で
溶解後23℃まで冷却し、濾過によりn-デカン不溶部を
除き、濾液よりn-デカン可溶部を回収することにより行
われる。
【0097】W=n-デカン可溶部の重量/(n-デカン不
溶部および可溶部の重量)×100%で定義される。可
溶成分量の少ないもの程組成分布が狭いことを意味す
る。 (7)DSCによる最大ピーク温度(Tm) パーキンエルマー社製DSC−7型装置を用いて行なっ
た。吸熱曲線における最大ピーク位置の温度(Tm)
は、試料約5mgをアルミパンに詰め10℃/分で20
0℃まで昇温し、200℃で5分間保持したのち、20
℃/分で室温まで降温し、次いで10℃/分で昇温する
際の吸熱曲線より求める。 (8)結晶化度 成形後少なくとも24時間経過した厚さ1.0mmのプ
レスシートのX線回折測定により求める。
溶部および可溶部の重量)×100%で定義される。可
溶成分量の少ないもの程組成分布が狭いことを意味す
る。 (7)DSCによる最大ピーク温度(Tm) パーキンエルマー社製DSC−7型装置を用いて行なっ
た。吸熱曲線における最大ピーク位置の温度(Tm)
は、試料約5mgをアルミパンに詰め10℃/分で20
0℃まで昇温し、200℃で5分間保持したのち、20
℃/分で室温まで降温し、次いで10℃/分で昇温する
際の吸熱曲線より求める。 (8)結晶化度 成形後少なくとも24時間経過した厚さ1.0mmのプ
レスシートのX線回折測定により求める。
【0098】
【実施例】以下、実施例に基づいて本発明をさらに具体
的に説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるも
のではない。
的に説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるも
のではない。
【0099】
【製造例1】 [触媒成分(A)の調製]窒素置換した400mlのガ
ラス製フラスコにビス(インデニル)エタン20gとテ
トラヒドロフラン(THF)200mlとを装入し、攪
拌しながら−50℃まで冷却した。これにn-BuLi
(1.6M溶液)100mlを50分にわたり滴下し、
引き続き−50℃で1時間攪拌した後、室温まで自然昇
温することによりビス(インデニル)エタンをアニオン
化した。さらにTHF100mlを加え均一液とした。
ラス製フラスコにビス(インデニル)エタン20gとテ
トラヒドロフラン(THF)200mlとを装入し、攪
拌しながら−50℃まで冷却した。これにn-BuLi
(1.6M溶液)100mlを50分にわたり滴下し、
引き続き−50℃で1時間攪拌した後、室温まで自然昇
温することによりビス(インデニル)エタンをアニオン
化した。さらにTHF100mlを加え均一液とした。
【0100】窒素置換した別の1リットルのガラス製フ
ラスコにTHF250mlを装入し−50℃に冷却した
後、四塩化ジルコニウム16.54gを徐々に添加し
た。その後、60℃まで昇温して1時間攪拌した。これ
に上記のようにしてアニオン化した配位子を滴下し、6
0℃で3時間攪拌した後、グラスフィルターで濾過し
た。濾液を室温で最初の1/5程度の容量まで濃縮した
ところ、固体が析出した。この析出固体をグラスフィル
ターで濾過した後、ヘキサン/エーテル(1/1)混合
溶媒で洗浄し、減圧乾燥することにより触媒成分(A)
を得た。
ラスコにTHF250mlを装入し−50℃に冷却した
後、四塩化ジルコニウム16.54gを徐々に添加し
た。その後、60℃まで昇温して1時間攪拌した。これ
に上記のようにしてアニオン化した配位子を滴下し、6
0℃で3時間攪拌した後、グラスフィルターで濾過し
た。濾液を室温で最初の1/5程度の容量まで濃縮した
ところ、固体が析出した。この析出固体をグラスフィル
ターで濾過した後、ヘキサン/エーテル(1/1)混合
溶媒で洗浄し、減圧乾燥することにより触媒成分(A)
を得た。
【0101】[予備重合触媒の調製]充分に窒素置換し
た8リットルのフラスコに、シリカ(富士デヴィソン社
製TG-20643)を700℃で6時間焼成したもの55.4
gとデカン1リットルとを加え懸濁状にした。そこへデ
カン50mlで希釈したトリイソブチルアルミニウム4
6ミリモルを加え室温で10分間攪拌した。
た8リットルのフラスコに、シリカ(富士デヴィソン社
製TG-20643)を700℃で6時間焼成したもの55.4
gとデカン1リットルとを加え懸濁状にした。そこへデ
カン50mlで希釈したトリイソブチルアルミニウム4
6ミリモルを加え室温で10分間攪拌した。
【0102】引き続き有機アルミニウムオキシ化合物
(SCHERING社製)のトルエン溶液(Al;1.65モル
/リットル)140mlを添加し、さらに室温で10分
間攪拌した。次いで、ビス(メチルシクロペンタジエニ
ル)ジルコニウムジクロリドのトルエン溶液(Zr;
0.05モル/リットル)36.9mlを加え、15分
間攪拌した。その後エチレンガス(常圧)を連続的に導
入しながら30℃で3.5時間予備重合を行った。
(SCHERING社製)のトルエン溶液(Al;1.65モル
/リットル)140mlを添加し、さらに室温で10分
間攪拌した。次いで、ビス(メチルシクロペンタジエニ
ル)ジルコニウムジクロリドのトルエン溶液(Zr;
0.05モル/リットル)36.9mlを加え、15分
間攪拌した。その後エチレンガス(常圧)を連続的に導
入しながら30℃で3.5時間予備重合を行った。
【0103】しかる後、デカン2リットルを追加し、さ
らに有機アルミニウムオキシ化合物(SCHERING社製)の
トルエン溶液(Al;1.65モル/リットル)279
ml、上記で調製した触媒成分(A)(Zr;0.00
264モル/リットル)2.79リットルおよび50m
lのデカンで希釈したトリブチルアルミニウム23.4
mlを順次添加して、さらに予備重合を30℃で4時間
続けた。
らに有機アルミニウムオキシ化合物(SCHERING社製)の
トルエン溶液(Al;1.65モル/リットル)279
ml、上記で調製した触媒成分(A)(Zr;0.00
264モル/リットル)2.79リットルおよび50m
lのデカンで希釈したトリブチルアルミニウム23.4
mlを順次添加して、さらに予備重合を30℃で4時間
続けた。
【0104】予備重合終了後、デカンテーションにより
溶媒を除去し、ヘキサン5リットルで熱洗浄(60℃)
を3回、さらにヘキサン5リットルで洗浄(室温)を3
回行った。この操作によりシリカ1gに対してZrを1
1ミリグラム、Alを190ミリグラムおよびポリエチ
レンを16g含有する予備重合触媒が得られた。
溶媒を除去し、ヘキサン5リットルで熱洗浄(60℃)
を3回、さらにヘキサン5リットルで洗浄(室温)を3
回行った。この操作によりシリカ1gに対してZrを1
1ミリグラム、Alを190ミリグラムおよびポリエチ
レンを16g含有する予備重合触媒が得られた。
【0105】[重 合]連続式流動床気相重合装置を用
い全圧20kg/cm2-G 、重合温度80℃でエチレン
と1-ヘキセンとの共重合を行った。上記で調製した呼び
重合触媒をジルコニウム原子換算で0.1ミリモル/
h、トリブチルアルミニウムを15ミリモル/hの割合
で連続的に供給し重合の間一定のガス組成を維持するた
めにエチレン、1-ヘキセン、水素、窒素を連続的に供給
した(ガス組成;1-ヘキセン/エチレン=0.015、
H2 /エチレン=6.3×10-3)。ポリマー収量は
6.0kg/hであった。得られたエチレン・1-ヘキセ
ン共重合体の物性を表1に示す。
い全圧20kg/cm2-G 、重合温度80℃でエチレン
と1-ヘキセンとの共重合を行った。上記で調製した呼び
重合触媒をジルコニウム原子換算で0.1ミリモル/
h、トリブチルアルミニウムを15ミリモル/hの割合
で連続的に供給し重合の間一定のガス組成を維持するた
めにエチレン、1-ヘキセン、水素、窒素を連続的に供給
した(ガス組成;1-ヘキセン/エチレン=0.015、
H2 /エチレン=6.3×10-3)。ポリマー収量は
6.0kg/hであった。得られたエチレン・1-ヘキセ
ン共重合体の物性を表1に示す。
【0106】
【製造例2】 [触媒成分(B)の調製]充分に窒素置換した400m
lのフラスコに、Al2(SO4)3・14H2O37gと
トルエン125mlとを装入し、0℃に冷却した後、ト
ルエン125mlで希釈したトリメチルアルミニウム5
00ミリモルを滴下した。次に40℃まで昇温し、その
温度で48時間反応を続けた。反応終了後、濾過により
固液分離を行い、さらに濾液よりトルエンを除去したと
ころ、白色固体の触媒成分(B)9.1gが得られた。
なお、予備重合触媒の調製にはトルエンに再溶解して用
いた。
lのフラスコに、Al2(SO4)3・14H2O37gと
トルエン125mlとを装入し、0℃に冷却した後、ト
ルエン125mlで希釈したトリメチルアルミニウム5
00ミリモルを滴下した。次に40℃まで昇温し、その
温度で48時間反応を続けた。反応終了後、濾過により
固液分離を行い、さらに濾液よりトルエンを除去したと
ころ、白色固体の触媒成分(B)9.1gが得られた。
なお、予備重合触媒の調製にはトルエンに再溶解して用
いた。
【0107】[予備重合触媒の調製]充分に窒素置換し
た400mlのフラスコに、シリカ(富士デヴィソンF-
948)を700℃で6時間焼成したもの1.29gとト
ルエン20mlとを加え懸濁状にした。そこへトリイソ
ブチルアルミニウムのデカン溶液(Al;1モル/リッ
トル)4.51mlを加え室温で30分間攪拌した。引
き続き上記で調製した触媒成分(B)のトルエン溶液
(Al;0.95モル/リットル)7.91mlを添加
し、さらに室温で30分間攪拌した。次いで、製造例1
で調製した触媒成分(A)のトルエン溶液(Zr;0.
00298モル/リットル)72mlを加え、10分間
攪拌した。さらにデカン52mlを加え、それにエチレ
ンガス(常圧)を連続的に導入しながら30℃で4時間
予備重合を行った。
た400mlのフラスコに、シリカ(富士デヴィソンF-
948)を700℃で6時間焼成したもの1.29gとト
ルエン20mlとを加え懸濁状にした。そこへトリイソ
ブチルアルミニウムのデカン溶液(Al;1モル/リッ
トル)4.51mlを加え室温で30分間攪拌した。引
き続き上記で調製した触媒成分(B)のトルエン溶液
(Al;0.95モル/リットル)7.91mlを添加
し、さらに室温で30分間攪拌した。次いで、製造例1
で調製した触媒成分(A)のトルエン溶液(Zr;0.
00298モル/リットル)72mlを加え、10分間
攪拌した。さらにデカン52mlを加え、それにエチレ
ンガス(常圧)を連続的に導入しながら30℃で4時間
予備重合を行った。
【0108】予備重合終了後、デカンテーションにより
溶媒を除去し、ヘキサン200mlで熱洗浄(60℃)
を3回、さらにヘキサン200mlで洗浄(室温)を3
回行った。この操作によりシリカ1gに対してZrを
8.5ミリグラム、Alを160ミリグラムおよびポリ
エチレンを15g含有する予備重合触媒が得られた。
溶媒を除去し、ヘキサン200mlで熱洗浄(60℃)
を3回、さらにヘキサン200mlで洗浄(室温)を3
回行った。この操作によりシリカ1gに対してZrを
8.5ミリグラム、Alを160ミリグラムおよびポリ
エチレンを15g含有する予備重合触媒が得られた。
【0109】[重 合]充分に窒素置換した内容積2リ
ットルのステンレス製オートクレーブに塩化ナトリウム
(和光純薬特級)150gを装入し、90℃で1時間減
圧乾燥した。その後エチレンと1-ブテンとの混合ガス
(1-ブテン含量6.3モル%)の導入により常圧に戻し
系内を70℃とした。
ットルのステンレス製オートクレーブに塩化ナトリウム
(和光純薬特級)150gを装入し、90℃で1時間減
圧乾燥した。その後エチレンと1-ブテンとの混合ガス
(1-ブテン含量6.3モル%)の導入により常圧に戻し
系内を70℃とした。
【0110】次に、上記のようにして調製した予備重合
触媒をジルコニウム原子換算で0.0075ミリグラム
原子の量で、またトリイソブチルアルミニウムを1.1
3ミリモルの量で混合して、オートクレーブへ添加し
た。
触媒をジルコニウム原子換算で0.0075ミリグラム
原子の量で、またトリイソブチルアルミニウムを1.1
3ミリモルの量で混合して、オートクレーブへ添加し
た。
【0111】その後、水素50Nmlを導入し、さらに
上記エチレンと1-ブテンとの混合ガスを導入し、全圧を
4kg/cm2-Gとして重合を開始した。系内温度は直
ちに80℃に上昇した。その後、混合ガスのみを補給
し、全圧を4kg/cm2-Gに保ち、80℃で1時間重
合を行った。
上記エチレンと1-ブテンとの混合ガスを導入し、全圧を
4kg/cm2-Gとして重合を開始した。系内温度は直
ちに80℃に上昇した。その後、混合ガスのみを補給
し、全圧を4kg/cm2-Gに保ち、80℃で1時間重
合を行った。
【0112】重合終了後、水洗により塩化ナトリウムを
除き、残ったポリマーをメタノールで洗浄した後、80
℃で1晩減圧乾燥してエチレン・1-ブテン共重合体11
6gを得た。得られたエチレン・1-ブテン共重合体の物
性を表1に示す。
除き、残ったポリマーをメタノールで洗浄した後、80
℃で1晩減圧乾燥してエチレン・1-ブテン共重合体11
6gを得た。得られたエチレン・1-ブテン共重合体の物
性を表1に示す。
【0113】
【製造例3】 [触媒成分の調製]250℃で10時間乾燥したシリカ
7.9kgを121リットルのトルエンで懸濁状にした
後、0℃まで冷却した。その後、メチルアルミノキサン
のトルエン溶液(Al=1.47mol/リットル)4
1リットルを1時間で適下した。この際、系内の温度を
0℃に保った。引続き0℃で30分間反応させ、次いで
1.5時間かけて95℃まで昇温し、その温度で4時間
反応させた。その後60℃まで降温し上澄液をデカンテ
ーション法により除去した。このようにして得られた固
体成分をトルエンで2回洗浄した後、トルエン125リ
ットルで再懸濁化した。この系内へビス(1,3-ジメチル
シクロペンタジエニル)ジルコニウムジクロリドのトル
エン溶液(Zr=28.4mmol/リットル)20リ
ットルを30℃で30分間かけて適下し、更に30℃で
2時間反応させた。その後、上澄液を除去しヘキサンで
2回洗浄することにより、1g当り4.6mgのジルコ
ニウムを含有する固体触媒を得た。
7.9kgを121リットルのトルエンで懸濁状にした
後、0℃まで冷却した。その後、メチルアルミノキサン
のトルエン溶液(Al=1.47mol/リットル)4
1リットルを1時間で適下した。この際、系内の温度を
0℃に保った。引続き0℃で30分間反応させ、次いで
1.5時間かけて95℃まで昇温し、その温度で4時間
反応させた。その後60℃まで降温し上澄液をデカンテ
ーション法により除去した。このようにして得られた固
体成分をトルエンで2回洗浄した後、トルエン125リ
ットルで再懸濁化した。この系内へビス(1,3-ジメチル
シクロペンタジエニル)ジルコニウムジクロリドのトル
エン溶液(Zr=28.4mmol/リットル)20リ
ットルを30℃で30分間かけて適下し、更に30℃で
2時間反応させた。その後、上澄液を除去しヘキサンで
2回洗浄することにより、1g当り4.6mgのジルコ
ニウムを含有する固体触媒を得た。
【0114】[予備重合触媒の調製]16molのトリ
イソブチルアルミニウムを含有する160リットルのヘ
キサンに、上記で得られた固体触媒4.3kgを加え3
5℃で3.5時間エチレンの予備重合を行うことによ
り、固体触媒1g当り3gのエチレン重合体が予備重合
された予備重合触媒を得た。この予備重合体の極限粘度
[η]は、1.27dl/gであった。
イソブチルアルミニウムを含有する160リットルのヘ
キサンに、上記で得られた固体触媒4.3kgを加え3
5℃で3.5時間エチレンの予備重合を行うことによ
り、固体触媒1g当り3gのエチレン重合体が予備重合
された予備重合触媒を得た。この予備重合体の極限粘度
[η]は、1.27dl/gであった。
【0115】[重合]連続式流動床気相重合装置を用
い、全圧20kg/cm2-G 、重合温度80℃でエチレ
ンと1-ヘキセンとの共重合を行った。上記で調製した予
備重合触媒をジルコニウム原子換算で0.05mmol
/hr、トリイソブチルアルミニウムを10mmol/
hrの割合で連続的に供給し重合の間一定のガス組成を
維持するためにエチレン、1-ヘキセン、水素、窒素を連
続的に供給した(ガス組成;1-ヘキセン/エチレン=
0.018、水素/エチレン=0.0012、エチレン
濃度=25%)。ポリマー収量は、5.2kg/hrで
あった。得られたエチレン・1-ヘセキン共重合体の物性
を表1に示す。
い、全圧20kg/cm2-G 、重合温度80℃でエチレ
ンと1-ヘキセンとの共重合を行った。上記で調製した予
備重合触媒をジルコニウム原子換算で0.05mmol
/hr、トリイソブチルアルミニウムを10mmol/
hrの割合で連続的に供給し重合の間一定のガス組成を
維持するためにエチレン、1-ヘキセン、水素、窒素を連
続的に供給した(ガス組成;1-ヘキセン/エチレン=
0.018、水素/エチレン=0.0012、エチレン
濃度=25%)。ポリマー収量は、5.2kg/hrで
あった。得られたエチレン・1-ヘセキン共重合体の物性
を表1に示す。
【0116】
【製造例4】 [予備重合触媒の調製]製造例2と同様のシリカ3.1
4gにデカン25mlを加え懸濁状にし、そこへトリイ
ソブチルアルミニウムのデカン溶液(Al;1モル/リ
ットル)13.1mlを加え室温で45分間攪拌した。
4gにデカン25mlを加え懸濁状にし、そこへトリイ
ソブチルアルミニウムのデカン溶液(Al;1モル/リ
ットル)13.1mlを加え室温で45分間攪拌した。
【0117】次いで、この懸濁液中に製造例2と同様に
して合成した有機アルミニウムオキシ化合物のトルエン
溶液(Al;1.79モル/リットル)36.5mlを
添加し、さらに室温で20分間攪拌した。
して合成した有機アルミニウムオキシ化合物のトルエン
溶液(Al;1.79モル/リットル)36.5mlを
添加し、さらに室温で20分間攪拌した。
【0118】しかる後、この懸濁液中にビス(メチルシ
クロペンタジエニル)ジルコニウムジクロリドのトルエ
ン溶液(Zr;0.0480モル/リットル)10.9
mlを加え、30分間攪拌した後、さらに、デカン10
0mlを加えエチレンガス(常圧)を連続的に導入し3
0℃で4.5時間予備重合を行った。その後、実施例1
と同様の洗浄操作を行い、シリカ1gに対してジルコニ
ウムを7.6ミリグラム、アルミニウムを190ミリグ
ラムおよびポリエチレンを9.7g含有する予備重合触
媒を得た。
クロペンタジエニル)ジルコニウムジクロリドのトルエ
ン溶液(Zr;0.0480モル/リットル)10.9
mlを加え、30分間攪拌した後、さらに、デカン10
0mlを加えエチレンガス(常圧)を連続的に導入し3
0℃で4.5時間予備重合を行った。その後、実施例1
と同様の洗浄操作を行い、シリカ1gに対してジルコニ
ウムを7.6ミリグラム、アルミニウムを190ミリグ
ラムおよびポリエチレンを9.7g含有する予備重合触
媒を得た。
【0119】[重 合]製造例2の重合において、1-ブ
テン含量6.1モル%の混合ガスを用い、かつ上記で得
られた予備重合触媒をジルコニウム原子換算で0.01
5ミリグラム原子、トリイソブチルアルミニウムを0.
75ミリモル用い全圧8kg/cm2-Gの下85℃で1
時間重合した以外は、実施例1と同様に行ったところエ
チレン・1-ブテン共重合体137gを得た。得られたエ
チレン・1-ブテン共重合体の物性を表1に示す。
テン含量6.1モル%の混合ガスを用い、かつ上記で得
られた予備重合触媒をジルコニウム原子換算で0.01
5ミリグラム原子、トリイソブチルアルミニウムを0.
75ミリモル用い全圧8kg/cm2-Gの下85℃で1
時間重合した以外は、実施例1と同様に行ったところエ
チレン・1-ブテン共重合体137gを得た。得られたエ
チレン・1-ブテン共重合体の物性を表1に示す。
【0120】
【製造例5】MgCl2 担持型Ti触媒を用いて、気相
中でエチレンと1-ヘキセンの共重合体を製造した。得ら
れたエチレン・1-ヘキセン共重合体の物性を表1に示
す。
中でエチレンと1-ヘキセンの共重合体を製造した。得ら
れたエチレン・1-ヘキセン共重合体の物性を表1に示
す。
【0121】
【実施例1】反応溶媒としてトルエンを用い、トルエン
5.7リットル当たり825gの前記製造例1で得られ
たエチレン・1-ヘキセン共重合体を160℃で溶解させ
た。次に、このトルエン溶液に無水マレイン酸のトルエ
ン溶液(4.13g/250ml)およびジクミルペル
オキシド(DPC)のトルエン溶液(0.33g/50
ml)を別々の導管から4時間かけて除々に供給した。
5.7リットル当たり825gの前記製造例1で得られ
たエチレン・1-ヘキセン共重合体を160℃で溶解させ
た。次に、このトルエン溶液に無水マレイン酸のトルエ
ン溶液(4.13g/250ml)およびジクミルペル
オキシド(DPC)のトルエン溶液(0.33g/50
ml)を別々の導管から4時間かけて除々に供給した。
【0122】供給収量後、さらに160℃で30分間反
応を続け、次に室温まで冷却し、ポリマーを析出させ
た。析出したポリマーを濾過し、さらにアセトンで繰り
返し洗浄し、80℃で一昼夜減圧乾燥して目的の変性エ
チレン・1-ヘキセン共重合体を得た。
応を続け、次に室温まで冷却し、ポリマーを析出させ
た。析出したポリマーを濾過し、さらにアセトンで繰り
返し洗浄し、80℃で一昼夜減圧乾燥して目的の変性エ
チレン・1-ヘキセン共重合体を得た。
【0123】この変性エチレン・1-ヘキセン共重合体に
ついて元素分析を行い、無水マレイン酸のグラフト量を
測定したところ、変性エチレン・1-ヘキセン共重合体1
00g当たり2.0gに相当する無水マレイン酸がグラ
フト重合していることがわかった。変性重合体の物性を
表1に示す。
ついて元素分析を行い、無水マレイン酸のグラフト量を
測定したところ、変性エチレン・1-ヘキセン共重合体1
00g当たり2.0gに相当する無水マレイン酸がグラ
フト重合していることがわかった。変性重合体の物性を
表1に示す。
【0124】得られた、変性重合体から下記のようにし
てフィルムを作製し、ヒートシール開始温度および80
℃剥離強度を下記のようにして測定した。結果を表1に
示す。
てフィルムを作製し、ヒートシール開始温度および80
℃剥離強度を下記のようにして測定した。結果を表1に
示す。
【0125】[フィルムの作製]プレス板上に厚さ0.
1mmアルミ製シート、ポリエチレンテレフタレート
(PET)製シートおよび中央を15cm×15cm角
に切り取った厚さ100μmのアルミ製シートをこの順
に敷き、この中央(切り抜かれた部分)に3.3gの試
料を置いた。次いで、PET製シート、アルミ製シー
ト、プレス板をこの順にさらに重ねた。
1mmアルミ製シート、ポリエチレンテレフタレート
(PET)製シートおよび中央を15cm×15cm角
に切り取った厚さ100μmのアルミ製シートをこの順
に敷き、この中央(切り抜かれた部分)に3.3gの試
料を置いた。次いで、PET製シート、アルミ製シー
ト、プレス板をこの順にさらに重ねた。
【0126】上記プレス板で挟まれた試料を200℃の
ホットプレスの中に入れ、約7分間の予熱を行った後、
試料内の気泡を取り除くため、加圧(50kg/cm2-
G )脱圧操作を数回繰り返した。次いで、100kg/
cm2-G に昇圧し、2分間加圧加熱した。脱圧後、プレ
ス板のプレス機から取り出し、0℃に圧着部が保たれた
別のプレス機に移し、100kg/cm2-G で4分間加
圧冷却を行った後、脱圧し、試料を取り出した。得られ
たフィルム(変性重合体フィルム)の均一な約150〜
170μmの厚さとなった部分をヒートシール開始温度
および80℃剥離強度の測定用として使用した。
ホットプレスの中に入れ、約7分間の予熱を行った後、
試料内の気泡を取り除くため、加圧(50kg/cm2-
G )脱圧操作を数回繰り返した。次いで、100kg/
cm2-G に昇圧し、2分間加圧加熱した。脱圧後、プレ
ス板のプレス機から取り出し、0℃に圧着部が保たれた
別のプレス機に移し、100kg/cm2-G で4分間加
圧冷却を行った後、脱圧し、試料を取り出した。得られ
たフィルム(変性重合体フィルム)の均一な約150〜
170μmの厚さとなった部分をヒートシール開始温度
および80℃剥離強度の測定用として使用した。
【0127】[ヒートシール開始温度の測定]変性重合
体フィルムを25mmの幅の短冊に切り、これを幅25
mm、厚さ50μmのアルミニウム箔2枚で挟み、ヒー
トシールを行った。ヒートシールは、ヒートシーラーの
下部温度を70℃一定に保ち、熱板上部の温度のみを適
宜5℃刻みで変えて行った。ヒートシール時の圧力は1
kg/cm2 、ヒートシール時間は1秒とした。得られ
た積層体を15mm幅の短冊に切り、25℃の恒温室内
に一晩放置した後、ヒートシール強度の測定をした。
体フィルムを25mmの幅の短冊に切り、これを幅25
mm、厚さ50μmのアルミニウム箔2枚で挟み、ヒー
トシールを行った。ヒートシールは、ヒートシーラーの
下部温度を70℃一定に保ち、熱板上部の温度のみを適
宜5℃刻みで変えて行った。ヒートシール時の圧力は1
kg/cm2 、ヒートシール時間は1秒とした。得られ
た積層体を15mm幅の短冊に切り、25℃の恒温室内
に一晩放置した後、ヒートシール強度の測定をした。
【0128】ヒートシール強度は、上記各ヒートシール
温度でヒートシールを施した変性重合体フィルムの剥離
強度を200mm/minの引張試験を行うことにより
求めた。
温度でヒートシールを施した変性重合体フィルムの剥離
強度を200mm/minの引張試験を行うことにより
求めた。
【0129】上述した方法で5℃刻みの各ヒートシール
温度での剥離強度を求め、ヒートシール温度対剥離強度
のプロットを曲線で結ぶ。この曲線をもとに500g/
15mmの剥離強度となるヒートシール温度を求めヒー
トシール開始温度とした。
温度での剥離強度を求め、ヒートシール温度対剥離強度
のプロットを曲線で結ぶ。この曲線をもとに500g/
15mmの剥離強度となるヒートシール温度を求めヒー
トシール開始温度とした。
【0130】[80℃剥離強度の測定]変性重合体フィ
ルムを15cm×15cm角のアルミニウム製シート
(厚さ200μm)2枚で挟み、前記「フィルムの作
製」と同様のプレス条件で、アルミニウム製シートと変
性重合体フィルムとを貼り合わせた。得られた積層体を
15mm幅の短冊に切り、80℃に保った恒温槽内に設
置したチャンバーに取り付け、10分静置した後にアル
ミニウム製シートと変性重合体フィルムとの接着界面を
180°方向に剥離し、剥離強度を測定した。
ルムを15cm×15cm角のアルミニウム製シート
(厚さ200μm)2枚で挟み、前記「フィルムの作
製」と同様のプレス条件で、アルミニウム製シートと変
性重合体フィルムとを貼り合わせた。得られた積層体を
15mm幅の短冊に切り、80℃に保った恒温槽内に設
置したチャンバーに取り付け、10分静置した後にアル
ミニウム製シートと変性重合体フィルムとの接着界面を
180°方向に剥離し、剥離強度を測定した。
【0131】
【実施例2、3】実施例1において、変性モノマーを表
1に記載したものに変えたこと以外は、実施例1と同様
にして変性重合体を得た。得られた変性重合体の物性を
表1に示す。
1に記載したものに変えたこと以外は、実施例1と同様
にして変性重合体を得た。得られた変性重合体の物性を
表1に示す。
【0132】この変性重合体から実施例1と同様にして
フィルムを作製し、ヒートーシール開始温度および80
℃剥離強度を測定した。結果を表1に示す。
フィルムを作製し、ヒートーシール開始温度および80
℃剥離強度を測定した。結果を表1に示す。
【0133】
【実施例4】実施例1において、エチレン系重合体を製
造例2で製造したエチレン・1-ブテン共重合体に変えた
以外は、実施例1と同様にして変性重合体を得た。得ら
れた変性重合体の物性を表1に示す。
造例2で製造したエチレン・1-ブテン共重合体に変えた
以外は、実施例1と同様にして変性重合体を得た。得ら
れた変性重合体の物性を表1に示す。
【0134】この変性重合体から実施例1と同様にして
フィルムを作製し、ヒートーシール開始温度および80
℃剥離強度を測定した。結果を表1に示す。
フィルムを作製し、ヒートーシール開始温度および80
℃剥離強度を測定した。結果を表1に示す。
【0135】
【実施例5】実施例1において、エチレン系重合体を製
造例3で製造したエチレン・1-ヘキセン共重合体に変え
た以外は、実施例1と同様にして変性重合体を得た。得
られた変性重合体の物性を表1に示す。
造例3で製造したエチレン・1-ヘキセン共重合体に変え
た以外は、実施例1と同様にして変性重合体を得た。得
られた変性重合体の物性を表1に示す。
【0136】この変性重合体から実施例1と同様にして
フィルムを作製し、ヒートーシール開始温度および80
℃剥離強度を測定した。結果を表1に示す。
フィルムを作製し、ヒートーシール開始温度および80
℃剥離強度を測定した。結果を表1に示す。
【0137】
【比較例1】実施例1において、エチレン系重合体を製
造例4で製造したエチレン・1-ブテン共重合体に変えた
以外は、実施例1と同様にして変性重合体を得た。得ら
れた変性重合体の物性を表1に示す。
造例4で製造したエチレン・1-ブテン共重合体に変えた
以外は、実施例1と同様にして変性重合体を得た。得ら
れた変性重合体の物性を表1に示す。
【0138】この変性重合体から実施例1と同様にして
フィルムを作製し、ヒートーシール開始温度および80
℃剥離強度を測定した。結果を表1に示す。
フィルムを作製し、ヒートーシール開始温度および80
℃剥離強度を測定した。結果を表1に示す。
【0139】
【比較例2】実施例1において、エチレン系重合体を製
造例5で製造したエチレン・1-ヘキセン共重合体に変え
た以外は、実施例1と同様にして変性重合体を得た。得
られた変性重合体の物性を表1に示す。
造例5で製造したエチレン・1-ヘキセン共重合体に変え
た以外は、実施例1と同様にして変性重合体を得た。得
られた変性重合体の物性を表1に示す。
【0140】この変性重合体から実施例1と同様にして
フィルムを作製し、ヒートーシール開始温度および80
℃剥離強度を測定した。結果を表1に示す。
フィルムを作製し、ヒートーシール開始温度および80
℃剥離強度を測定した。結果を表1に示す。
【0141】
【表1】
Claims (4)
- 【請求項1】 エチレンの単独重合体またはエチレンと
炭素原子数が3〜20のα−オレフィンとの共重合体で
あって、(i)エチレンから誘導される構成単位が50
〜100重量%の範囲にあり、(ii)密度が0.850
〜0.980g/cm3 の範囲にあり、(iii)190
℃、2.16kg荷重におけるメルトフローレートが
0.01〜200g/10分の範囲にあり、(iv)19
0℃における溶融張力(MT)と、メルトフローレート
(MFR)とが MT>2×MFR-0.65 で示される関係を満たし、(v)溶融重合体の190℃
におけるずり応力が2.4×106 dyne/cm2に到達
する時のずり速度で定義される流動性インデックス(F
I(1/秒))と、メルトフローレート(MFR)とが FI>75×MFR で示される関係を満たすエチレン系重合体に、極性モノ
マーがグラフト共重合されてなることを特徴とするグラ
フト変性エチレン系重合体。 - 【請求項2】 前記極性モノマーが水酸基含有エチレン
性不飽和化合物、アミノ基含有エチレン性不飽和化合
物、エポキシ基含有エチレン性不飽和化合物、芳香族ビ
ニル化合物、不飽和カルボン酸およびその誘導体、ビニ
ルエステル化合物、塩化ビニルから選ばれる少なくとも
1種のモノマーである請求項1に記載のグラフト変性エ
チレン系重合体。 - 【請求項3】 前記極性モノマーが水酸基含有エチレン
性不飽和化合物、芳香族ビニル化合物、不飽和カルボン
酸およびその誘導体から選ばれる少なくとも1種のモノ
マーである請求項1に記載のグラフト変性エチレン系重
合体。 - 【請求項4】 極性モノマーから誘導されるグラフト基
のグラフト量が0.1〜50重量%の範囲内にある請求
項1〜3のいずれかに記載のグラフト変性エチレン系重
合体。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP15020795A JPH093138A (ja) | 1995-06-16 | 1995-06-16 | グラフト変性エチレン系重合体 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP15020795A JPH093138A (ja) | 1995-06-16 | 1995-06-16 | グラフト変性エチレン系重合体 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH093138A true JPH093138A (ja) | 1997-01-07 |
Family
ID=15491875
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP15020795A Pending JPH093138A (ja) | 1995-06-16 | 1995-06-16 | グラフト変性エチレン系重合体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH093138A (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH09176522A (ja) * | 1995-12-22 | 1997-07-08 | Nippon Poriorefuin Kk | 接着性樹脂粉体 |
WO2003078488A1 (fr) * | 2002-03-18 | 2003-09-25 | Mitsui Chemicals, Inc. | Resine adhesive et composition de resine adhesive pour polymere cristallin liquide |
JP2007063196A (ja) * | 2005-08-31 | 2007-03-15 | Sanyo Chem Ind Ltd | 変性ポリオレフィンの製造法 |
JP2012020418A (ja) * | 2010-07-12 | 2012-02-02 | Mitsubishi Chemicals Corp | 成形体 |
-
1995
- 1995-06-16 JP JP15020795A patent/JPH093138A/ja active Pending
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH09176522A (ja) * | 1995-12-22 | 1997-07-08 | Nippon Poriorefuin Kk | 接着性樹脂粉体 |
WO2003078488A1 (fr) * | 2002-03-18 | 2003-09-25 | Mitsui Chemicals, Inc. | Resine adhesive et composition de resine adhesive pour polymere cristallin liquide |
CN1303120C (zh) * | 2002-03-18 | 2007-03-07 | 三井化学株式会社 | 液晶聚合物用粘合树脂及粘合树脂的组合物 |
US7317055B2 (en) | 2002-03-18 | 2008-01-08 | Mitsui Chemicals, Inc. | Adhesive resin and adhesive resin composition for liquid crystalline polymer |
JP2007063196A (ja) * | 2005-08-31 | 2007-03-15 | Sanyo Chem Ind Ltd | 変性ポリオレフィンの製造法 |
JP2012020418A (ja) * | 2010-07-12 | 2012-02-02 | Mitsubishi Chemicals Corp | 成形体 |
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