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JPH09311323A - 液晶セルの切断方法 - Google Patents

液晶セルの切断方法

Info

Publication number
JPH09311323A
JPH09311323A JP5350997A JP5350997A JPH09311323A JP H09311323 A JPH09311323 A JP H09311323A JP 5350997 A JP5350997 A JP 5350997A JP 5350997 A JP5350997 A JP 5350997A JP H09311323 A JPH09311323 A JP H09311323A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
liquid crystal
glass substrates
cutting
transparent electrodes
cut
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP5350997A
Other languages
English (en)
Inventor
Masataka Shishido
正孝 宍戸
Shigeru Kamiya
茂 神谷
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Yazaki Corp
Original Assignee
Yazaki Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Yazaki Corp filed Critical Yazaki Corp
Priority to JP5350997A priority Critical patent/JPH09311323A/ja
Publication of JPH09311323A publication Critical patent/JPH09311323A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Liquid Crystal (AREA)
  • Re-Forming, After-Treatment, Cutting And Transporting Of Glass Products (AREA)
  • Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 2枚のガラス基板間に液晶が注入される内部
空間を有する1つの組立体より複数の液晶セルを適正に
切断する方法の提供を図る。 【解決手段】 内側面に入れたスクライブ傷11と外側
面に形成したハーフカット17,18とによるガラス基
板1,2の残存部分に垂直方向の荷重を加えることによ
り、組立体16より複数の液晶セル20,21を破断や
斜め割れが発生することなく適正に切断することができ
る。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は液晶パネルを製作す
る際に、2枚のガラス基板が液晶注入用の内部空間を形
成するように枠型を介して接着された1つの組立体より
複数の液晶セルを切断する方法に関する。
【0002】
【従来の技術】図7は従来の液晶セルの製造方法であっ
て、先ず、ステップ701の電極パターニング工程で厚
さが0.7mmや0.55mm等のように1.1mm以
下の上側、下側となる2枚のガラス基板31,32の一
表面に複数の透明電極33,34,35,36を蒸着で
所定の配列に形成した後、ステップ702の配向処理工
程で透明電極33〜36の表面に液晶の分子が規則正し
く並ぶことができるように配向膜37,38,39,4
0を印刷で形成する。
【0003】次にステップ703の組立工程で前記ステ
ップ701〜702を経て出来上がった2枚のガラス基
板31,32を約10ミクロンの所定間隔をあけて各透
明電極33〜36が内側となるように向き合わせて各透
明電極33〜36を囲む形状に複数の枠型41,42で
接着することにより、液晶注入用の複数の内部空間4
3,44を有する組立体45を形成する。
【0004】そして、ステップ704のスクライブ・ブ
レーク工程で1つの組立体45より複数の液晶セル4
6,47を切断した後、ステップ705の液晶注入工程
で各液晶セル46,47の枠型41,42に形成された
図外の注入口より内部空間43,44に液晶48,49
を注入して、該注入口を封止している。
【0005】図8は例えば特開平3−2720号公報に
示された1つの組立体45から複数の液晶セル46,4
7を切断する方法であって、先ず、ステップ801で各
枠型41,42間の切断予定位置で下側のガラス基板3
2の外側面にスクライブ傷50を入れる。
【0006】引き続き、ステップ802で上側のガラス
基板31に柔軟性のある加圧体51を押し付けることに
より、前記スクライブ傷50に応力を集中させて下側の
ガラス基板32を切断する。
【0007】次に、ステップ803で組立体45を裏返
して今まで上側であった下側のガラス基板31の外側面
にスクライブ傷52を入れる。
【0008】その後、ステップ804で今まで下側であ
った上側のガラス基板32に前記加圧体51を押し付け
ることにより、前記スクライブ傷52に応力を集中させ
て下側のガラス基板31を切断するというように、2枚
のガラス基板31,32を片方づつ切断している。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】しかし、ガラス基板3
1,32として2mm程度以上の厚いガラス基板を用い
た場合、従来の切断方法では図9に示すように加圧体5
1が押し付けられた側のガラス基板31又は32に破断
53を生じたり、又は図10に示すように切断する側の
ガラス基板31又は32に斜め割れ54が発生してしま
う。
【0010】なお、図7のステップ704,705及び
図8〜10では図を簡明にすることから電極33〜36
及び配向膜37〜40を省略している。
【0011】そこで、本発明は2枚のガラス基板間に液
晶が注入される内部空間を有する1つの組立体より複数
の液晶セルを適正に切断することができる方法を提供し
ようとするものである。
【0012】
【課題を解決するための手段】請求項1にあっては、2
枚のガラス基板のそれぞれの一表面に複数の透明電極を
所定の配列に形成すると共に、これらの透明電極の表面
に液晶の分子が規則正しく並べられるようにする配向膜
を形成し、前記透明電極間の切断予定位置で2枚のガラ
ス基板のうちの一方又は両方の透明電極が形成された側
の表面にスクライブ傷を入れ、これらのガラス基板が液
晶注入用の内部空間を形成するように所定間隔をあけて
前記透明電極を内側となるように向き合わされて該透明
電極を囲む形状の複数の枠型を介して接着された組立体
を形成し、この組立体における2枚のガラス基板の外側
面にハーフカットを前記スクライブ傷に対応する位置に
形成し、このハーフカットと前記スクライブ傷とによる
ガラス基板の残存部分に垂直方向の荷重を加えることに
より、前記組立体より液晶注入用の内部空間を有する複
数の液晶セルを切断することを特徴としている この請求項1の方法によれば、内側面のスクライブ傷と
外側面のハーフカットとによるガラス基板の残存部分は
見かけの基板厚みが小さくなるため、該残存部分に垂直
方向の荷重を加えることにより、1つの組立体より複数
の液晶セルをガラス基板に破断や斜め割れが発生せずに
適正に切断することができる。
【0013】また、組立体の形成前に前記スクライブ傷
を入れ、該組立体の形成後に前記ハーフカットを形成し
ていることにより、組立体の形成時にガラス基板が折損
する不都合も解消できる。
【0014】請求項2の発明にあっては、請求項1に記
載の2枚のガラス基板の複数の透明電極が形成された側
の表面にスクライブ傷を段違いに入れる一方、これらの
スクライブ傷と上下に対応する位置で前記組立体におけ
る2枚のガラス基板の外側面にハーフカットを段違いに
形成したことを特徴としている。
【0015】この請求項2の方法によれば、2枚のガラ
ス基板に段違いに設けたスクライブ傷とハーフカットと
により、複数の液晶セルの電極部のように切断箇所が段
違いに配置している場合でも、2枚のガラス基板を少な
い荷重で切断することができる。
【0016】請求項3の発明にあっては、請求項1に記
載の2枚のガラス基板の複数の透明電極が形成された側
の表面にスクライブ傷を上下に対向するように入れる一
方、これらのスクライブ傷と上下に対応する位置で前記
組立体における2枚のガラス基板の外側面にハーフカッ
トを上下に対向するように形成したことを特徴としてい
る。
【0017】この請求項3の方法によれば、2枚のガラ
ス基板に上下に対向するように設けたスクライブ傷とハ
ーフカットとにより、2枚のガラス基板を同時に切断す
ることができて、1つの組立体より複数の液晶セルを効
率よく得ることができる。
【0018】請求項4にあっては、請求項1〜3のいず
れかに記載のハーフカットを形成する際、1回の切込深
さをダイシングソーのブレードに曲がりや破損等が発生
しない深さに設定し、該切込深さでの切り込みを繰り返
して行うことを特徴としている。
【0019】この請求項4の方法によれば、ダイシング
ソーのブレードに曲がりや破損等が発生しない切込深さ
での切り込みを複数回繰り返して行うことにより、1回
当たりの切り込み負荷が小さくなり、ガラス基板の外側
面にハーフカットを適切に形成することができると共
に、ダイシングソーのブレードの耐用寿命を向上するこ
とができる。
【0020】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施形態を図面と
共に詳述する。
【0021】図1は第1実施形態であって、先ず、ステ
ップ101の電極パターニング工程で上側、下側となる
2枚のガラス基板1,2のそれぞれの一表面に複数の透
明電極3,4,5,6を所定の配列に形成した後、ステ
ップ102の配向処理工程で各透明電極3〜6の表面に
液晶の分子が規則正しく並ぶことができるように配向膜
7,8,9,10を印刷で形成する。
【0022】次に、ステップ103のスクライブ工程に
より一方のガラス基板1の透明電極3,4間の切断予定
位置で、該ガラス基板1の透明電極3,4を形成した側
の表面にスクライバーを用いてスクライブ傷11を入れ
る。
【0023】引き続き、ステップ104の組立工程で前
記ステップ101〜102を経て出来上がったガラス基
板2を下側とし、前記ステップ101〜103を経て出
来上がったガラス基板1を上側として、これらの2枚の
ガラス基板1,2を10ミクロン程度の所定間隔をあけ
て各透明電極3〜6が内側となるように向き合わせて各
透明電極3〜6を囲む形状の複数の枠型12,13で接
着することにより、液晶注入用の内部空間14,15を
有する組立体16を形成する。
【0024】そして、ステップ105のハーフカット工
程で前記組立体16中の上側、下側のガラス基板1,2
の外側面にハーフカット17,18をダイシングソーで
スクライブ傷11と上下に対応する位置に形成する。
【0025】この実施形態の場合、ハーフカット17,
18によるガラス基板1,2の残存部分の厚さaは0.
3〜0.5mm程度に形成してある。
【0026】その後、ステップ106のブレーク工程で
スクライブ傷11を有するガラス基板1のハーフカット
11の上方より加圧体19を押し付けて、スクライブ傷
11とハーフカット17とによるガラス基板1の残存部
分及びハーフカット18によるガラス基板2の残存部分
のそれぞれに垂直方向の荷重を加えて、上側、下側のガ
ラス基板1,2を同時に切断することにより、ズテップ
107に示すように1つの組立体16より液晶注入用の
内部空間14,15を個別に有する複数の液晶セル2
0,21を分離形成する。
【0027】最後に、ステップ108の液晶注入工程で
枠型12,13に形成された図外の注入口より複数の液
晶セル20,21の内部空間14,15に液晶22,2
3を注入して、該注入口を封止する。
【0028】この実施形態の方法によれば、ガラス基板
1,2を2mm程度以上と厚くした場合でも、組立体1
6の上側のガラス基板1の内側面に設けたスクライブ傷
11と、上側及び下側のガラス基板1,2の外側面に設
けたハーフカット17,18とにより、切断箇所のガラ
ス基板1,2の見かけの厚さaを薄くして、該切断箇所
に破断や斜め割れ等が発生するのを阻止することができ
て、組立体16を複数の液晶セル20,21に適正に切
断することができる。
【0029】また、組立工程に先駆けて上側のガラス基
板1の内側面にスクライブ傷11を入れても、ハーフカ
ット17,18を形成する前には上側、下側のガラス基
板1,2の厚さが厚いので、組立工程でガラス基板1,
2が折損することはない。
【0030】図2は切断が段違い構造となる工程を示し
た第2実施形態で、先ず、ステップ201で上側、下側
のガラス基板1,2の透明電極3〜6及び配向膜7〜1
0が形成された側の表面にスクライブ傷11,24を段
違いに入れた後に、該ガラス基板1,2を各透明電極3
〜6が内側となるように向き合わせて枠型12,13で
接着することにより、液晶注入用の内部空間14,15
を有する組立体16を形成する。
【0031】次に、ステップ202でスクライブ傷1
1,24と上下に対応する位置でガラス基板1,2の外
側面にハーフカット17,18を形成する。
【0032】そして、ステップ203で上側のスクライ
ブ傷11と対応する位置で上側のガラス基板1に加圧体
19を押し付けることにより、上側のスクライブ傷11
に応力を集中させて上側のガラス基板1を切断する。
【0033】さらに、ステップ204で組立体16を裏
返して今まで下側であった上側のスクライブ傷24と上
下に対応する位置で今まで下側であった上側のガラス基
板2に加圧体19を押し付けて、今まで下側であった上
側のスクライブ傷24に応力を集中させて上側のガラス
基板2を切断することにより、ステップ205に示すよ
うに1つの組立体16より複数の液晶セル20,21を
分離形成する。
【0034】この実施形態の方法によれば、上側、下側
のガラス基板1,2の内側面に段違いに設けたスクライ
ブ傷11,24と、各スクライブ傷11,24と上下に
対応する位置でガラス基板1,2の外側面に段違いに設
けたハーフカット17,18とにより、切断箇所のガラ
ス基板1,2の厚さを薄く形成して、ガラス基板1,2
の双方を少ない荷重で切断することができるので、電極
部のように切断箇所が段違いに配置されていて、ガラス
基板1,2を片方づつ切断する方式の場合にも、加圧体
19より荷重を直接受ける側のガラス基板1又は2に破
断が発生することを阻止できる。
【0035】図3は上側、下側のガラス基板1,2を同
時に切断する工程を示した第3実施形態で、先ず、ステ
ップ301でガラス基板1,2の透明電極3〜6及び配
向膜7〜10が形成された側の表面にスクライブ傷1
1,24を上下に対向するように入れた後に、該ガラス
基板1,2を各透明電極3〜6が内側となるように向き
合わせて枠型12,13で接着することにより、液晶注
入用の内部空間14,15を有する組立体16を形成す
る。
【0036】次にステップ302においてスクライブ傷
11,24と上下に対応する位置でガラス基板1,2の
外側面にハーフカット17,18を形成する。
【0037】そして、ステップ303で上側のガラス基
板1のハーフカット17の上方より加圧体19を押し付
けて、2枚のガラス基板1,2を同時に切断することに
より、1つの組立体16より複数の液晶セル20,21
を分離形成する。
【0038】この実施形態の方法によれば、スクライブ
傷11,24及びハーフカット17,18を上下に対向
する位置で上側、下側のガラス基板1,2の内側面及び
外側面に設けたことにより、注入口部のように切断箇所
が上下に対応している場合に、2枚のガラス基板1,2
を同時に切断することができる。
【0039】図4は第4実施形態であって、1回の切込
深さbをダイシングソー25のブレード25aに曲がり
や破損等が発生しない深さに設定し、該切込深さbでの
切り込みを繰り返して行うことにより、2枚のガラス基
板1,2が枠型12,13で接着された組立体16の上
側及び下側のガラス基板1,2の外側面にハーフカット
17,18を形成し、切断箇所のガラス基板1,2の見
かけの厚さaを薄く形成する。
【0040】この実施形態の場合、ダイシングソー25
のブレード25aの厚さtが300μ程度で、1回の切
込深さbを0.5〜0.8mmに設定してある。
【0041】先ず、ステップ401で上側のガラス基板
1の外側面にダイシングソー25で最初の切り込みを行
ってハーフカット17を切込深さbに形成する。
【0042】そして、ステップ402で最初のハーフカ
ット17に対し、ダイシングソー25で2回目の切り込
みを行い、ハーフカット17を切込深さbの2倍以下の
深さとなるように形成する。
【0043】更に、ステップ403で2回目のハーフカ
ット17に対し、ダイシングソー25で3回目の切り込
みを行い、ハーフカット17を切込深さbの3倍以下の
深さとなるように形成する。
【0044】このような複数回の切り込みを繰り返し行
うことにより、上側のガラス基板1の外側面に所定深さ
のハーフカット17を形成し、切断箇所の見かけの上側
のガラス基板1の厚さaが例えば0.3〜0.5mm程
度となるように薄く形成する。
【0045】次に、ステップ404〜406で前記と同
様なダイシングソー25による切込深さbでの切り込み
を繰り返し行うことにより、組立体16中の下側のガラ
ス基板2の外側面にも所定深さのハーフカット18を形
成し、切断箇所の下側のガラス基板2の見かけの厚さa
が例えば0.3〜0.5mm程度となるように薄く形成
する。
【0046】この実施形態の方法によれば、ガラス基板
1,2を2mm程度以上と厚くした場合でも、1回での
切込深さbをダイシングソー25のブレード25aに曲
がりや破損等が発生しない所定の深さに設定した切り込
みを複数回繰り返して行うことにより、1回当たりの切
り込み負荷が小さくなり、ガラス基板1,2の外側面に
ハーフカット17,18を適切に形成することができる
と共に、ダイシングソー25のブレード25aの耐用寿
命を向上することができる。
【0047】この実施形態4ではスクライブ傷11を上
側のガラス基板1にのみ形成した組立体16を図示して
説明したが、上側と下側とのガラス基板1,2の双方に
スクライブ傷11,24を段違いに形成する場合、又
は、上側と下側とのガラス基板1,2の双方にスクライ
ブ傷11,24を上下で対応する位置に形成する場合に
適用しても同様の作用効果がある。
【0048】図5は実施形態4の対比例であって、1辺
が80mmの方形のガラス基板26に、図6の(a)に
示す新しい正常な形状のブレード28aを有するダイシ
ングソー28を用いて、1回の切込深さ1mm以上でハ
ーフカット27を並列に形成した場合である。
【0049】この対比例では、数十本目のハーフカット
27を形成する途中のA点で該ハーフカット27に曲が
りが発生し、その直後のB点で形成不能となった。
【0050】このA点では図6の(b)に示すようにダ
イシングソー28のブレード28aに曲がりを生じ、そ
のままダイシングソー25の回転を継続したことによ
り、前記B点では図6の(c)に示すようにダイシング
ソー28のブレード28aが破損した。
【0051】この対比例によれば、切込深さ1mm以上
では負荷が大きいため、1辺が80mmの方形のガラス
基板26にハーフカット27を20〜30本程度形成す
るのが限度であった。
【0052】又、実施形態4のように1回の切込深さを
0.5〜0.8mmに設定し、1本のハーフカットに対
し3回の切り込み繰り返し行うことにより、1辺が80
mmの方形のガラス基板にハーフカットを並列に形成し
たところ、ダイシングソーのブレードに曲がりや破損を
発生することなく、50本程度までハーフカットを形成
することができた。
【0053】なお、図1のステップ105〜108、図
2のステップ202〜205、図3のステップ302〜
304、図5の401〜406では図を簡明にすること
から電極3〜6及び配向膜7〜10を省略している。
【0054】
【発明の効果】以上、本発明によれば次に述べる効果を
奏せられる。
【0055】請求項1によれば、一方又は両方のガラス
基板の内側面に入れたスクライブ傷と両方のガラス基板
の外側面に形成したハーフカットとによりガラス基板の
残存部分は見かけの基板厚みが小さくなるため、該残存
部分に垂直方向の荷重を加えることによって、1つの組
立体より複数の液晶セルをガラス基板に破断や斜め割れ
が発生することなく適正に切断することができて、品質
感と信頼性を向上することができる。
【0056】また、組立体の形成前に前記スクライブ傷
を入れ、該組立体の形成後に前記ハーフカットを形成す
ることから、組立体の形成時にガラス基板が折損する不
都合も解消することができる。
【0057】請求項2によれば、2枚のガラス基板に段
違いに入れたスクライブ傷とハーフカットとにより、複
数の液晶セルの電極部のように切断箇所が段違いに配置
している場合でも、2枚のガラス基板を少ない荷重で切
断することができる。
【0058】請求項3によれば、2枚のガラス基板に上
下に対向するように入れたスクライブ傷とハーフカット
とにより、2枚のガラス基板を同時に切断することがで
きて、1つの組立体より複数の液晶セルを効率よく得る
ことができる。
【0059】請求項4によれば、ダイシングソーのブレ
ードに曲がりや破損等が発生しない切込深さでの切り込
みを複数回繰り返して行うことにより、1回当たりの切
り込み負荷が小さくなり、ガラス基板の外側面にハーフ
カットを適切に形成することができると共に、ダイシン
グソーのブレードの耐用寿命を向上することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1実施形態を模式的に示す工程図。
【図2】本発明の第2実施形態を模式的に示す工程図。
【図3】本発明の第3実施形態を模式的に示す工程図。
【図4】本発明の第4実施形態を模式的に示す工程図。
【図5】本発明の対比例を示す模式図。
【図6】本発明の対比例に用いたダイシングソーの形態
変化を示す模式図。
【図7】従来の液晶セルの製造方法を模式的に示す工程
図。
【図8】従来の液晶セルの切断方法を模式的に示す工程
図。
【図9】従来の切断時の破断を示す模式図。
【図10】従来の切断時の斜め割れを示す模式図。
【符号の説明】
1,2 ガラス基板 3〜6 透明電極 7〜10 配向膜 11,24 スクライブ傷 12,13 枠型 14,15 内部空間 16 組立体 17,18 ハーフカット 20,21 液晶セル 25 ダイシングソー 25a ブレード

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 2枚のガラス基板のそれぞれの一表面に
    複数の透明電極を所定の配列に形成すると共に、これら
    の透明電極の表面に液晶の分子が規則正しく並べられる
    ようにする配向膜を形成し、前記透明電極間の切断予定
    位置で2枚のガラス基板のうちの一方又は両方の透明電
    極が形成された側の表面にスクライブ傷を入れ、これら
    のガラス基板が液晶注入用の内部空間を形成するように
    所定間隔をあけて前記透明電極を内側となるように向き
    合わされて該透明電極を囲む形状の複数の枠型を介して
    接着された組立体を形成し、この組立体における2枚の
    ガラス基板の外側面にハーフカットを前記スクライブ傷
    に対応する位置に形成し、このハーフカットと前記スク
    ライブ傷とによるガラス基板の残存部分に垂直方向の荷
    重を加えることにより、前記組立体より液晶注入用の内
    部空間を有する複数の液晶セルを切断することを特徴と
    する液晶セルの切断方法。
  2. 【請求項2】 2枚のガラス基板の複数の透明電極が形
    成された側の表面にスクライブ傷を段違いに入れる一
    方、これらのスクライブ傷と上下に対応する位置で前記
    組立体における2枚のガラス基板の外側面にハーフカッ
    トを段違いに形成したことを特徴とする請求項1記載の
    液晶セルの切断方法。
  3. 【請求項3】 2枚のガラス基板の複数の透明電極が形
    成された側の表面にスクライブ傷を上下に対向するよう
    に入れる一方、これらのスクライブ傷と上下に対応する
    位置で前記組立体における2枚のガラス基板の外側面に
    ハーフカットを上下に対向するように形成したことを特
    徴とする請求項1記載の液晶セルの切断方法。
  4. 【請求項4】 前記ハーフカットを形成する際、1回の
    切込深さをダイシングソーのブレードに曲がりや破損等
    が発生しない深さに設定し、該切込深さでの切り込みを
    繰り返して行うことを特徴とする請求項1〜3のいずれ
    かに記載の液晶セルの切断方法。
JP5350997A 1996-03-21 1997-03-07 液晶セルの切断方法 Pending JPH09311323A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP5350997A JPH09311323A (ja) 1996-03-21 1997-03-07 液晶セルの切断方法

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP8-64884 1996-03-21
JP6488496 1996-03-21
JP5350997A JPH09311323A (ja) 1996-03-21 1997-03-07 液晶セルの切断方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH09311323A true JPH09311323A (ja) 1997-12-02

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ID=26394217

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JP5350997A Pending JPH09311323A (ja) 1996-03-21 1997-03-07 液晶セルの切断方法

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JP (1) JPH09311323A (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002329576A (ja) * 2001-04-27 2002-11-15 Semiconductor Energy Lab Co Ltd 発光装置およびその作製方法
US6864947B2 (en) * 2000-02-01 2005-03-08 Nec Lcd Technologies, Ltd. Method of fabricating liquid crystal display substrate and the same

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