JPH09244043A - Liquid crystal display device - Google Patents
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- JPH09244043A JPH09244043A JP8052687A JP5268796A JPH09244043A JP H09244043 A JPH09244043 A JP H09244043A JP 8052687 A JP8052687 A JP 8052687A JP 5268796 A JP5268796 A JP 5268796A JP H09244043 A JPH09244043 A JP H09244043A
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は液晶表示装置に関
し、更に詳しくは、駆動基板上の凸部を避けて透明導電
膜電極を形成することにより、ラビング工程におけるラ
ビング材料カスの発生を抑えて表示品質の安定化を図っ
た液晶表示装置に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a liquid crystal display device, and more particularly, a transparent conductive film electrode is formed so as to avoid a convex portion on a driving substrate to suppress generation of rubbing material residue in a rubbing process. The present invention relates to a liquid crystal display device whose quality is stabilized.
【0002】[0002]
【従来の技術】液晶表示装置はフラットな構造や低消費
電力に特徴があり、液晶プロジェクタやラップトップパ
ソコンに代表される液晶表示装置付き電子機器、テレビ
等へと実用化され普及しつつある。図4は本発明に係わ
る液晶表示装置の基本的な構成を示す図であり、図にお
ける液晶表示装置1は、駆動基板2および対向基板3か
ら大略構成されている。駆動基板2には、互いに絶縁さ
れた走査線と信号線が形成されていて、その交差部には
各画素駆動用の薄膜トランジスタ(図示省略)が形成さ
れるとともに、透明導電膜電極2Aや配向膜2Bが形成
されている。対向基板3には、図示を省略したが、カラ
ー液晶パネルの場合にはR、G、Bのカラーフィルタ
や、透明導電膜電極3Aおよび配向膜3Bが形成されて
いる。かかる構造を有する液晶表示装置はアクティブマ
トリクス型と呼ばれる。なお、本発明の対象となる液晶
表示装置はこの構造に限られるものではなく、単に例示
したにすぎない。2. Description of the Related Art Liquid crystal display devices are characterized by a flat structure and low power consumption, and are being put to practical use and becoming widespread in electronic equipment equipped with liquid crystal display devices such as liquid crystal projectors and laptop personal computers, and televisions. FIG. 4 is a diagram showing a basic configuration of a liquid crystal display device according to the present invention. The liquid crystal display device 1 in the figure is roughly composed of a drive substrate 2 and a counter substrate 3. Scanning lines and signal lines, which are insulated from each other, are formed on the drive substrate 2, thin film transistors (not shown) for driving each pixel are formed at the intersections thereof, and the transparent conductive film electrodes 2A and the alignment film are formed. 2B is formed. Although not shown, the counter substrate 3 is provided with R, G, and B color filters, a transparent conductive film electrode 3A, and an alignment film 3B in the case of a color liquid crystal panel. A liquid crystal display device having such a structure is called an active matrix type. The liquid crystal display device which is the object of the present invention is not limited to this structure and is merely an example.
【0003】これら駆動基板2および対向基板3は、そ
れぞれの製造工程において製造された後、所定の間隔を
もって対向配置されるとともに、スペーサ4を挟持して
シール材5によって接合される。その後、図示を省略し
た注入孔から液晶6を注入し、これらガラス基板の両面
に2枚の偏光板(図示省略)を一体に積層することによ
り、上記構成の液晶表示装置1が完成される。The driving substrate 2 and the counter substrate 3 are manufactured in their respective manufacturing processes, and then are arranged to face each other with a predetermined gap therebetween, and the spacers 4 are sandwiched therebetween and joined by a seal material 5. After that, the liquid crystal 6 is injected from an injection hole (not shown), and two polarizing plates (not shown) are integrally laminated on both surfaces of these glass substrates to complete the liquid crystal display device 1 having the above configuration.
【0004】次に、液晶表示装置における1画素領域を
図5に例示してその構成を説明する。この表示装置は、
駆動基板2に配設されたHシフトレジスタ(図示省略)
に接続され、各画素部に映像信号を入力する信号線7
A、7B、同じく図示を省略したVシフトレジスタに接
続され、各画素部に走査パルスを供給する走査線8A、
8Bを内挿して構成される。例えば、信号線7Aおよび
走査線8Aの交差部には各画素電極をスイッチング駆動
する薄膜トランジスタ(Thin Film Transistor:以下、単
に「TFT」と記す)が配設され、TFTの1Poly
(ドレイン)は第1コンタクトホール9を介して信号線
7Aに接続され、TFTのゲートは走査線8Aに接続さ
れ、ソースは第2コンタクトホール10を介して前述の
透明導電膜電極2Aに接続されている。ここで、本発明
に係わる透明導電膜電極2Aは、TFTのチャネル部1
1に渡って形成されているため、その他の部分に比べて
盛り上がって形成されている。なお、図における液晶表
示装置は、簡単のため画素の中の1画素を示している。Next, the structure of one pixel area in the liquid crystal display device will be described with reference to FIG. This display device
H shift register (not shown) arranged on the drive substrate 2
Signal line 7 that is connected to and inputs a video signal to each pixel section
A and 7B, a scanning line 8A that is connected to a V shift register (not shown) and supplies a scanning pulse to each pixel portion,
8B is interpolated. For example, a thin film transistor (hereinafter, simply referred to as “TFT”) for switching and driving each pixel electrode is provided at the intersection of the signal line 7A and the scanning line 8A, and 1 Poly of the TFT is provided.
The (drain) is connected to the signal line 7A through the first contact hole 9, the gate of the TFT is connected to the scanning line 8A, and the source is connected to the above-mentioned transparent conductive film electrode 2A through the second contact hole 10. ing. Here, the transparent conductive film electrode 2A according to the present invention is the channel portion 1 of the TFT.
Since it is formed over one portion, it is formed to be higher than other portions. Note that the liquid crystal display device in the figure shows one of the pixels for the sake of simplicity.
【0005】かかる構成の液晶表示装置の動作を図5を
参照して簡潔に説明する。The operation of the liquid crystal display device having such a configuration will be briefly described with reference to FIG.
【0006】外部ICから入力された映像信号や各種制
御信号はHシフトレジスタやVシフトレジスタ(何れも
図示省略)に入力される。TFTでは、走査線8Aから
供給される走査パルスに応動して、信号線7Aを介して
供給される映像信号を制御し、透明導電膜電極2Aに供
給する。透明導電膜電極2Aではこの画素部毎に制御さ
れた映像信号によって液晶6を電圧印加方向に捩じれて
倒立させ、この液晶6による旋光性を利用して液晶表示
装置の情報表示等がなされる。Video signals and various control signals input from an external IC are input to an H shift register and a V shift register (both not shown). The TFT controls the video signal supplied via the signal line 7A in response to the scanning pulse supplied from the scanning line 8A, and supplies it to the transparent conductive film electrode 2A. In the transparent conductive film electrode 2A, the liquid crystal 6 is twisted and inverted in the voltage application direction by the video signal controlled for each pixel portion, and information is displayed on the liquid crystal display device by utilizing the optical rotatory power of the liquid crystal 6.
【0007】更に、図6に従来の液晶表示装置における
ラビング工程を例示して、従来の液晶表示装置のラビン
グ方法を説明する。ラビング工程は、前述の液晶6の配
向性を高めるために、配向膜の表面を一定方向にラビン
グし、液晶分子をラビングした方向に配列し易くする工
程である。このラビング工程は、被加工基板をコンベア
で搬入し、この基板をフェルト等のラビング材料12が
巻着されたローラ13を回転させながら、矢印方向に移
動させて行われる。ラビング工程を終了した駆動基板は
再びコンベアで配送されて次工程に搬出される。ラビン
グ材料12は消耗部品であるため、定期的に交換して使
用される。Furthermore, the rubbing method of the conventional liquid crystal display device will be described by exemplifying the rubbing process in the conventional liquid crystal display device in FIG. The rubbing step is a step of rubbing the surface of the alignment film in a certain direction to facilitate the alignment of the liquid crystal molecules in the rubbing direction in order to enhance the alignment of the liquid crystal 6. This rubbing process is carried in by carrying in the substrate to be processed by a conveyor and moving the substrate in the direction of the arrow while rotating the roller 13 around which the rubbing material 12 such as felt is wound. The drive substrate that has completed the rubbing process is again delivered by the conveyor and carried out to the next process. Since the rubbing material 12 is a consumable part, it is regularly replaced and used.
【0008】ところで、従来の液晶表示装置の透明導電
膜電極2Aは、画素部の薄膜トランジスタの凸部上に渡
って形成されているため、このようなラビング工程を施
すことにより、ラビング工程途中またはラビング工程後
に透明導電膜電極のエッジ部でラビング材料が削られ、
図6(b)に示すようなラビング材料カス(以下、単に
「バフカス」と記す)が積層されることになる。このよ
うに積層されたバフカスによって画素間のショート等が
引き起こされ、配向不良となって輝点欠陥等の不良とな
る。また、透明導電膜電極2Aのエッジ部において必要
以上にラビング材料12が削られるためラビング材料1
2の交換頻度が増して、製造コストを上昇させるという
問題点がある。By the way, since the transparent conductive film electrode 2A of the conventional liquid crystal display device is formed over the convex portion of the thin film transistor in the pixel portion, by performing such a rubbing process, the rubbing process is performed or the rubbing process is performed. After the process, the rubbing material is scraped off at the edge of the transparent conductive film electrode,
A rubbing material residue (hereinafter, simply referred to as “buff residue”) as shown in FIG. 6B is laminated. The buffs stacked in this way cause short-circuiting between pixels, resulting in poor alignment and defects such as bright spot defects. Further, since the rubbing material 12 is scraped more than necessary at the edge portion of the transparent conductive film electrode 2A, the rubbing material 1
There is a problem that the replacement frequency of 2 increases and the manufacturing cost rises.
【0009】[0009]
【発明が解決しようとする課題】本発明はかかる問題点
に鑑みてなされたもので、その課題は、画素部の薄膜ト
ランジスタの凸部上にも透明導電膜電極が形成されてい
ることによる、ラビング材料カスの発生を抑え、これを
主原因とする画素間ショート等を排除して表示品質の安
定化を図った液晶表示装置を提供することである。SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above problems, and its problem is that the transparent conductive film electrode is formed also on the convex portion of the thin film transistor in the pixel portion. An object of the present invention is to provide a liquid crystal display device which suppresses the generation of material dust and eliminates a short circuit between pixels mainly caused by the generation of dust, thereby stabilizing the display quality.
【0010】[0010]
【課題を解決するための手段】上述した本発明の課題を
解決するために以下の手段を講じた。すなわち、本発明
の液晶表示装置の基本的な構成として、基板上にマトリ
クス状に配置された透明導電膜電極(画素部)と、その
透明導電膜電極を駆動する薄膜トランジスタとを備えた
駆動基板を有する液晶表示装置において、その透明導電
膜電極を、薄膜トランジスタの凸部を避けて形成するこ
とにより、薄膜トランジスタの凸部におけるラビング工
程不良(ラビング工程時に発生するラビング材料カスを
主原因とするショート不良等)を回避するようにする。In order to solve the above-mentioned problems of the present invention, the following means have been taken. That is, as a basic configuration of the liquid crystal display device of the present invention, a drive substrate including a transparent conductive film electrode (pixel portion) arranged in a matrix on the substrate and a thin film transistor for driving the transparent conductive film electrode is provided. In the liquid crystal display device having the transparent conductive film electrode formed by avoiding the convex portion of the thin film transistor, a rubbing process defect in the convex portion of the thin film transistor (short circuit defect mainly caused by rubbing material residue generated during the rubbing process, etc.) ) To avoid.
【0011】本発明の液晶表示装置の応用構成として、
前記透明導電膜電極を、画像を表示する表示領域の他、
表示領域の周囲に形成された画像を表示しないダミー画
素領域にも形成し、表示領域の透明導電膜電極にラビン
グ工程不良の影響が及ばないようにする。As an applied configuration of the liquid crystal display device of the present invention,
The transparent conductive film electrode, in addition to a display area for displaying an image,
An image formed around the display region is also formed in a dummy pixel region that does not display, so that the transparent conductive film electrode in the display region is not affected by the rubbing process defect.
【0012】本発明の液晶表示装置によれば、駆動基板
上に形成される透明導電膜電極を、薄膜トランジスタの
凸部を避けて段差を生じないように形成するようにし
た。これにより、薄膜トランジスタの凸部におけるラビ
ング工程不良、即ち、ラビング工程におけるバフカスの
発生を抑え、バフカスによる画素間ショートや画素欠陥
の発生を抑えることができる。また、薄膜トランジスタ
の凸部に透明導電膜電極が形成されていないため、透明
導電膜電極のエッジ部において必要以上にラビング材料
が削られることがなく、ラビング材料の交換時期を延長
することができ、製造コストを低減して生産効率を向上
できる。更に、駆動基板上に形成される透明導電膜電極
を、画像を表示しないダミー画素領域にも形成すること
により、表示領域にバフカスが進入することがなくな
り、画素間ショート等の画素欠陥を撲滅できる。According to the liquid crystal display device of the present invention, the transparent conductive film electrode formed on the driving substrate is formed so as to avoid the convex portion of the thin film transistor and prevent a step. Accordingly, it is possible to suppress the defective rubbing process in the convex portion of the thin film transistor, that is, the occurrence of buffing in the rubbing process, and to suppress the occurrence of short circuits between pixels and the occurrence of pixel defects due to the buffing. Further, since the transparent conductive film electrode is not formed on the convex portion of the thin film transistor, the rubbing material is not scraped more than necessary at the edge portion of the transparent conductive film electrode, and the replacement time of the rubbing material can be extended, Manufacturing cost can be reduced and production efficiency can be improved. Further, by forming the transparent conductive film electrode formed on the driving substrate also in the dummy pixel area where the image is not displayed, buff residue does not enter the display area, and pixel defects such as short circuit between pixels can be eliminated. .
【0013】[0013]
【発明の実施の形態】以下、本発明の具体的な実施の形
態につき添付図面を参照して説明する。DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, specific embodiments of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings.
【0014】実施の形態例1 先ず、図1を参照して本発明の液晶表示装置の第1の実
施例の構成を説明する。図1は本発明の液晶表示装置の
実施の形態例1における1画素領域を示す平面図であ
る。なお、従来技術で記載した事項と共通する部分には
同一参照符合を付すものとする。First Embodiment First, the configuration of a first embodiment of the liquid crystal display device of the present invention will be described with reference to FIG. FIG. 1 is a plan view showing one pixel region in the first embodiment of the liquid crystal display device of the present invention. It should be noted that parts common to those described in the related art are designated by the same reference numerals.
【0015】この表示素子は、駆動基板2に配設された
Hシフトレジスタ(図示省略)に接続されるとともに、
各画素部に映像信号を入力する信号線7A、7B、同じ
くVシフトレジスタに接続されるとともに、各画素部に
走査パルスを供給する走査線8A、8Bを内挿して構成
される。そして、例えば信号線7Aや走査線8Aの交差
部には各画素部をスイッチング駆動するTFTが配設さ
れ、TFTの1Poly(ドレイン)は第1コンタクト
ホール9を介して信号線7Aに接続され、TFTのゲー
トは走査線8Aに接続され、ソースは第2コンタクトホ
ール10を介して透明導電膜電極20に接続されてい
る。本発明の特徴事項たる透明導電膜電極20は、図示
の如くTFTのチャネル部11を避けて段差を生じない
ように形成されている。This display element is connected to an H shift register (not shown) provided on the drive substrate 2, and
Signal lines 7A and 7B for inputting a video signal to each pixel portion are connected to the V shift register, and scanning lines 8A and 8B for supplying a scanning pulse to each pixel portion are interpolated. Then, for example, a TFT for switching and driving each pixel portion is arranged at the intersection of the signal line 7A and the scanning line 8A, and 1Poly (drain) of the TFT is connected to the signal line 7A through the first contact hole 9. The gate of the TFT is connected to the scanning line 8A, and the source is connected to the transparent conductive film electrode 20 via the second contact hole 10. The transparent conductive film electrode 20, which is a feature of the present invention, is formed so as to avoid the channel portion 11 of the TFT as shown in FIG.
【0016】一方、図2(a)に示した液晶表示装置の
断面構造は、洗浄した基板上に成膜された1Pory、
1Poryのパターニング後にゲート酸化膜等を介して
成膜された2Pory、2Poryのパターニング後に
形成された第1PSG(リンシリケートガラス)21お
よび第2PSG22(NSGでも良い)、このようなT
FTの凸部、例えばTFTのゲート電極上、図示を省略
した保持容量上および信号線上等を避けてITO(Indiu
m-Tin Oxide)膜等によって形成された本発明の透明導電
膜電極20、そして、透明導電膜電極20上に塗布形成
されたポリイミド膜やポリビニルアルコール等の配向膜
(図示省略)により構成される。On the other hand, the cross-sectional structure of the liquid crystal display device shown in FIG. 2 (a) is 1 Poy formed on a washed substrate.
A first PSG (phosphosilicate glass) 21 and a second PSG 22 (which may be NSG) formed after patterning 2 Pory and 2 Pory formed through a gate oxide film or the like after patterning 1 Poly, such a T
Avoid the convex portion of the FT, for example, the gate electrode of the TFT, the storage capacitor and the signal line (not shown), and the ITO (Indiu
(m-Tin Oxide) film or the like, and the transparent conductive film electrode 20 of the present invention, and an alignment film (not shown) such as a polyimide film or polyvinyl alcohol coated and formed on the transparent conductive film electrode 20. .
【0017】かかる構成の本発明の液晶表示装置はラビ
ング工程に移される。ラビング工程では、前述のように
ラビング材料12の巻着されたローラ13を所定方向に
回転しながら矢印方向に移動しつつ、ラビング材料12
によって液晶表示装置の配向膜の表面を所定方向にラビ
ングする。ラビング加工を終了した駆動基板は再びコン
ベアで配送されて次工程に搬出される。The liquid crystal display device of the present invention having the above structure is transferred to the rubbing process. In the rubbing process, as described above, the roller 13 wound with the rubbing material 12 is rotated in a predetermined direction and moved in the arrow direction while the rubbing material 12 is being moved.
The surface of the alignment film of the liquid crystal display device is rubbed by a predetermined direction. The drive substrate for which the rubbing process has been completed is again delivered by the conveyor and carried to the next step.
【0018】このように、本発明の透明導電膜電極20
は、TFTの凸部上には形成されていないめ、図2
(b)に示すように、ラビング工程を施すことによって
も、ラビング工程途中またはラビング工程後に透明導電
膜電極20のエッジ部でラビング材料が削られることが
なく、バフカスが発生しなくなる。これにより、積層さ
れたバスカスを主原因とする画素間のショートや画素欠
陥の発生を抑えることができる。また、透明導電膜電極
20のエッジ部において必要以上にラビング材料12が
削られることがないため、ラビング材料12の交換時期
が延長され、生産効率を向上することができる。Thus, the transparent conductive film electrode 20 of the present invention
Is not formed on the convex portion of the TFT,
As shown in (b), even if the rubbing process is performed, the rubbing material is not scraped at the edge portion of the transparent conductive film electrode 20 during the rubbing process or after the rubbing process, and buff residue does not occur. As a result, it is possible to suppress the occurrence of short circuits between pixels and the occurrence of pixel defects, which are mainly caused by the stacked bass. Further, since the rubbing material 12 is not shaved more than necessary at the edge portion of the transparent conductive film electrode 20, the replacement time of the rubbing material 12 can be extended and the production efficiency can be improved.
【0019】実施の形態例2 本実施の形態例は、実施の形態例1に加え、画像を表示
しないダミー画素領域にも同様に透明導電膜電極を形成
して表示領域のバフカスの発生を抑えた例であり、これ
を図3を参照して説明する。図3は本発明の液晶表示装
置の実施の形態例2における基本的な構成を示す断面図
である。Second Embodiment In addition to the first embodiment, the second embodiment similarly forms a transparent conductive film electrode in a dummy pixel region where an image is not displayed to suppress the occurrence of buffs in the display region. This is an example, which will be described with reference to FIG. FIG. 3 is a sectional view showing the basic structure of the second embodiment of the liquid crystal display device of the present invention.
【0020】図示のように、本実施例の液晶表示装置
は、画像を表示する表示領域23、表示領域23周辺部
に形成された画像を表示しないダミー画素領域24によ
って大略区分される。表示領域23およびダミー画素領
域24は、各画素部に形成されたTFTと、このTFT
を被覆する第1PSG21、その上にパターニング形成
されるとともに、TFTに接続する例えばAl等からな
る配線電極25、これらを被覆するPSG、NSG、S
iO2 、SiN等からなる第2PSG22、平坦化膜2
6、表示領域23上にTFTの凸部を避けて形成された
透明導電膜電極20、およびダミー画素領域24上にT
FTの凸部を避けて形成されたダミー透明導電膜電極2
7、28によって構成される。As shown in the figure, the liquid crystal display device of this embodiment is roughly divided into a display area 23 for displaying an image and a dummy pixel area 24 formed in the peripheral portion of the display area 23 and not displaying an image. The display area 23 and the dummy pixel area 24 include the TFT formed in each pixel portion and the TFT
A first PSG 21 for covering the wiring, a wiring electrode 25 made of, for example, Al and patterned on the first PSG 21, and PSG, NSG, S for covering these.
Second PSG 22 made of iO 2 , SiN, etc., planarizing film 2
6, the transparent conductive film electrode 20 formed on the display region 23 while avoiding the convex portion of the TFT, and the T on the dummy pixel region 24.
Dummy transparent conductive film electrode 2 formed avoiding the convex portion of FT
7, 28.
【0021】かかる構成の本実施例の液晶表示装置は、
配向膜(図示省略)を塗布した後、ラビング工程に移さ
れる。ラビング工程では、前述のようにラビング材料1
2の巻着されたローラ13が矢印方向に回転・進行して
おり、このローラ13によって液晶表示装置の表面を一
定方向にラビングする。The liquid crystal display device of this embodiment having the above structure is
After applying an alignment film (not shown), the rubbing process is performed. In the rubbing process, as described above, the rubbing material 1
The two wound rollers 13 are rotating and advancing in the direction of the arrow, and the rollers 13 rub the surface of the liquid crystal display device in a certain direction.
【0022】このように、本実施例の液晶表示装置は、
表示領域23の透明導電膜電極20を形成すると同時に
ダミー画素領域24上にダミー透明導電膜電極27、2
8を形成するようにしたため、ラビング工程における表
示領域23をラビングする前にバフカスを取り除くこと
ができる。すなわち、バフカスは、ラビング材料12と
液晶表示装置の表面が接触を始める初期時のみに発生す
るものであるため、このダミー透明導電膜電極27、2
8を経過する時点でバフカスの発生は抑えられ、表示領
域23の透明導電膜電極20にバフカスの影響が及ばな
くなり、バフカスによる画素間のショートや画素欠陥の
発生を抑えることができる。As described above, the liquid crystal display device of this embodiment is
At the same time as forming the transparent conductive film electrode 20 in the display area 23, the dummy transparent conductive film electrodes 27, 2 are formed on the dummy pixel area 24.
8 is formed, the buff residue can be removed before rubbing the display area 23 in the rubbing process. That is, since the buff residue is generated only at the initial stage when the rubbing material 12 and the surface of the liquid crystal display device start to contact each other, the dummy transparent conductive film electrodes 27 and 2 are formed.
The generation of buffs is suppressed at the time when 8 is passed, the influence of the buffs is not exerted on the transparent conductive film electrode 20 in the display region 23, and it is possible to suppress the short circuit between pixels and the generation of the pixel defect due to the buffs.
【0023】本発明は前記実施の形態例に限定されず、
種々の実施形態を採ることができる。例えば、本実施の
形態例では透明導電膜電極にITO膜を用いた例を例示
したが、SnO2 等の他の透明導電膜電極でも良く、駆
動基板は前述の構成に限定されない。また、実施の形態
例1および2はそれぞれ個別に実施しても良く、組み合
わせて実施しても良い。更に、本発明は以上示した実施
形態にとらわれず様々な形態に発展できることは言うま
でもない。The present invention is not limited to the above embodiment,
Various embodiments can be adopted. For example, in the present embodiment, an example in which an ITO film is used for the transparent conductive film electrode has been illustrated, but another transparent conductive film electrode such as SnO 2 may be used, and the drive substrate is not limited to the above-mentioned configuration. Further, the first and second embodiments may be implemented individually or in combination. Further, needless to say, the present invention can be developed into various forms without being limited to the above-described embodiments.
【0024】[0024]
【発明の効果】以上説明したように、本発明の液晶表示
装置によれば、駆動基板上に形成される透明導電膜電極
を、薄膜トランジスタの凸部を避けて段差を生じないよ
うに形成するようにした。これにより、薄膜トランジス
タの凸部におけるラビング不良、即ち、ラビング工程に
おけるバフカスの発生を抑え、バフカスによる画素間シ
ョート等の画素欠陥の発生を抑えることが可能となる。
また、薄膜トランジスタの凸部に透明導電膜電極が形成
されていないため、透明導電膜電極のエッジ部において
必要以上にラビング材料が削られることがなく、ラビン
グ材料の交換時期を延長でき、製造コストを低減して生
産効率を向上できる効果がある。As described above, according to the liquid crystal display device of the present invention, the transparent conductive film electrode formed on the driving substrate is formed so as to avoid the convex portion of the thin film transistor and not generate a step. I chose As a result, it is possible to suppress the rubbing failure in the convex portion of the thin film transistor, that is, the occurrence of buffs in the rubbing process, and the occurrence of pixel defects such as short circuits between pixels due to the buffs.
Further, since the transparent conductive film electrode is not formed on the convex portion of the thin film transistor, the rubbing material is not scraped more than necessary at the edge portion of the transparent conductive film electrode, the rubbing material replacement time can be extended, and the manufacturing cost can be reduced. There is an effect that it can be reduced to improve the production efficiency.
【0025】更に、第2の発明の液晶表示装置によれ
ば、駆動基板上に形成される透明導電膜電極を、表示領
域以外の画像を表示しないダミー画素領域にも形成する
ようにした。これにより、表示領域にバフカスが進入す
ることがなくなり、画素間ショート等の画素欠陥を撲滅
できる効果がある。Further, according to the liquid crystal display device of the second invention, the transparent conductive film electrode formed on the drive substrate is formed also in the dummy pixel region other than the display region where the image is not displayed. This prevents buffs from entering the display area, and has an effect of eliminating pixel defects such as a short circuit between pixels.
【図1】 本発明の液晶表示装置の実施の形態例1にお
ける1画素領域を示す平面図である。FIG. 1 is a plan view showing one pixel region in a first embodiment of a liquid crystal display device of the present invention.
【図2】 本発明の液晶表示装置におけるラビング工程
を示す図であり、(a)はラビング工程途中の断面図、
(b)はラビング工程後の断面図である。FIG. 2 is a diagram showing a rubbing process in the liquid crystal display device of the present invention, in which (a) is a cross-sectional view during the rubbing process,
(B) is a cross-sectional view after the rubbing step.
【図3】 本発明の液晶表示装置の実施の形態例2にお
ける基本的な構成を示す断面図である。FIG. 3 is a cross-sectional view showing the basic configuration of a second embodiment of the liquid crystal display device of the present invention.
【図4】 本発明に係わる液晶表示装置の基本的な構成
を示す模式的な断面図である。FIG. 4 is a schematic sectional view showing a basic configuration of a liquid crystal display device according to the present invention.
【図5】 従来の液晶表示装置における1画素領域を示
す平面図である。FIG. 5 is a plan view showing one pixel region in a conventional liquid crystal display device.
【図6】 従来の液晶表示装置におけるラビング工程を
示す図であり、(a)はラビング工程途中の断面図、
(b)はラビング工程後の断面図である。FIG. 6 is a diagram showing a rubbing process in a conventional liquid crystal display device, (a) is a cross-sectional view during the rubbing process,
(B) is a cross-sectional view after the rubbing step.
1…液晶表示装置、2…駆動基板、3…対向基板、4…
スペーサ、5…シール材、6…液晶、7A、7B…信号
線、8A、8B…走査線、9…第1コンタクトホール、
10…第2コンタクトホール、11…チャネル部、12
…ラビング材料、13…ローラ、2A,20…透明導電
膜電極、21…第1PSG、22…第2PSG、23…
表示領域、24…ダミー画素領域、25…配線電極、2
6…平坦化膜、27,28…ダミー透明導電膜電極、1 ... Liquid crystal display device, 2 ... Drive substrate, 3 ... Counter substrate, 4 ...
Spacer, 5 ... Sealing material, 6 ... Liquid crystal, 7A, 7B ... Signal line, 8A, 8B ... Scan line, 9 ... First contact hole,
10 ... 2nd contact hole, 11 ... Channel part, 12
... rubbing material, 13 ... roller, 2A, 20 ... transparent conductive film electrode, 21 ... first PSG, 22 ... second PSG, 23 ...
Display area, 24 ... Dummy pixel area, 25 ... Wiring electrode, 2
6 ... Planarizing film, 27, 28 ... Dummy transparent conductive film electrode,
Claims (3)
導電膜電極と、前記透明導電膜電極を駆動する薄膜トラ
ンジスタとを備えた駆動基板を有する液晶表示装置にお
いて、 前記透明導電膜電極を、前記薄膜トランジスタの凸部を
避けて形成することにより、前記薄膜トランジスタの凸
部におけるラビング工程不良を回避することを特徴とす
る液晶表示装置。1. A liquid crystal display device having a drive substrate including transparent conductive film electrodes arranged in a matrix on a substrate and thin film transistors for driving the transparent conductive film electrodes, wherein the transparent conductive film electrodes are A liquid crystal display device, characterized in that a rubbing process defect in the convex portion of the thin film transistor is avoided by forming while avoiding the convex portion of the thin film transistor.
表示領域および画像を表示しないダミー画素領域に形成
することにより、表示領域の透明導電膜電極におけるラ
ビング工程不良を回避することを特徴とする請求項1に
記載の液晶表示装置。2. The rubbing process defect in the transparent conductive film electrode in the display region is avoided by forming the transparent conductive film electrode in a display region displaying an image and a dummy pixel region not displaying an image. The liquid crystal display device according to claim 1.
膜トランジスタのゲート電極上、信号線上および前記薄
膜トランジスタに近接して形成される保持容量上の少な
くとも1箇所であることを特徴とする請求項1または請
求項2に記載の液晶表示装置。3. The projection of the thin film transistor is at least one location on a gate electrode of the thin film transistor, on a signal line, and on a storage capacitor formed in the vicinity of the thin film transistor. Item 3. The liquid crystal display device according to item 2.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP8052687A JPH09244043A (en) | 1996-03-11 | 1996-03-11 | Liquid crystal display device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP8052687A JPH09244043A (en) | 1996-03-11 | 1996-03-11 | Liquid crystal display device |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH09244043A true JPH09244043A (en) | 1997-09-19 |
Family
ID=12921810
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP8052687A Pending JPH09244043A (en) | 1996-03-11 | 1996-03-11 | Liquid crystal display device |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH09244043A (en) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100620324B1 (en) * | 2003-08-22 | 2006-09-13 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | Array substrate for liquid crystal display device and manufacturing method thereof |
US7751008B2 (en) | 2004-12-17 | 2010-07-06 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Liquid crystal display and method of manufacturing a liquid crystal display with a barrier formed of TFT materials |
CN105892189A (en) * | 2016-06-23 | 2016-08-24 | 京东方科技集团股份有限公司 | Array substrate and display device |
US9500919B2 (en) | 2013-04-11 | 2016-11-22 | Japan Display Inc. | Liquid crystal display device |
-
1996
- 1996-03-11 JP JP8052687A patent/JPH09244043A/en active Pending
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100620324B1 (en) * | 2003-08-22 | 2006-09-13 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | Array substrate for liquid crystal display device and manufacturing method thereof |
US7751008B2 (en) | 2004-12-17 | 2010-07-06 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Liquid crystal display and method of manufacturing a liquid crystal display with a barrier formed of TFT materials |
US9500919B2 (en) | 2013-04-11 | 2016-11-22 | Japan Display Inc. | Liquid crystal display device |
CN105892189A (en) * | 2016-06-23 | 2016-08-24 | 京东方科技集团股份有限公司 | Array substrate and display device |
CN105892189B (en) * | 2016-06-23 | 2019-04-02 | 京东方科技集团股份有限公司 | Array substrate and display device |
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