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JPH09222511A - Production of compensator for liquid crystal display device - Google Patents

Production of compensator for liquid crystal display device

Info

Publication number
JPH09222511A
JPH09222511A JP8031507A JP3150796A JPH09222511A JP H09222511 A JPH09222511 A JP H09222511A JP 8031507 A JP8031507 A JP 8031507A JP 3150796 A JP3150796 A JP 3150796A JP H09222511 A JPH09222511 A JP H09222511A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
acid
liquid crystal
reaction
carboxylic acid
compensator
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP8031507A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Akira Takagi
彰 高木
Shinichi Komatsu
伸一 小松
Hitoshi Mazaki
仁詩 真崎
Yoshihiro Kobori
良浩 小堀
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Eneos Corp
Original Assignee
Nippon Oil Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nippon Oil Corp filed Critical Nippon Oil Corp
Priority to JP8031507A priority Critical patent/JPH09222511A/en
Publication of JPH09222511A publication Critical patent/JPH09222511A/en
Pending legal-status Critical Current

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  • Polarising Elements (AREA)
  • Liquid Crystal (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To efficiently produce a compensator for a liquid crystal display element having excellent thermal stability and reliability at high temp. SOLUTION: A planer condensed cyclic compd. having six or more phenyl- type hydroxyl groups in one molecule, an acetylating agent, and several kinds of carboxylic compds. having >6 carbon atoms are supplied to a reaction system to cause acetylation reaction of the phenyl-type hydroxyl groups, while the reaction between the acetyl groups obtd. by the first reaction and the carboxylic compds. present in the reaction system is made to proceed to release acetic acid in the same reaction system. The obtd. reaction product is used as the substantial component of a discotic liquid crystal material, which is applied on a counter substrate, heat treated and cooled to obtain a compensator for a liquid crystal display element.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、液晶ディスプレイ
の視野角改良板(視野角補償板)、色補償板として有用
な熱安定性、高温信頼性に優れた液晶表示素子用補償板
の製造方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for producing a viewing angle improving plate (viewing angle compensating plate) for a liquid crystal display and a compensating plate useful for a color compensating plate, which is excellent in thermal stability and high temperature reliability. Regarding

【0002】[0002]

【従来の技術】近来、ディスコティック液晶化合物は、
特開昭56−90878号、特開平2−287120
号、特開平7−134213号、特開平7−14640
9号公報などに開示されているように種々の光学素子の
化学材料として有用であることが明らかとなっている。
該液晶性化合物は主にディスコティック液晶相を発現す
るのに必須の円盤状の中心部分(ディスコゲン)と液晶
相を安定化するために必要な置換基とで構成されるが、
フェノール性ヒドロキシル基を持つディスコゲンとカル
ボン酸基(カルボキシル基)を持つ置換基部分との間に
エステル結合を形成させてなる液晶化合物が光学材料と
して用いられている。従来エステル結合の形成方法は、
例えばディスコゲンとなりうる原料として2,3,6,
7,10,11−ヘキサヒドロキシトリフェニレンのよ
うな1分子中に複数のフェノール性ヒドロキシル基を持
つ化合物と置換基部分となりうる原料としてカルボン酸
の塩化物を用い、これらを縮合させるものであった。し
かしながらこの方法ではカルボン酸を塩化チオニルなど
有害で取り扱い難い試薬を用いて塩化物に変換する必要
があり、また縮合反応時には溶媒および塩基を必要とす
るために後処理が煩雑であることなどの欠点があり、こ
の方法によるディスコティック液晶化合物の工業的な大
量合成には無理があった。また、上記公報に記載されて
いる補償板は、ディスコティック液晶分子のダイレクタ
ー(分子の平均的な光軸の配向方向を指定する単位ベク
トル)を一定方向に傾けて配向させ、補償板としての光
軸が傾いた、すなわち屈折率構造が傾いた負の一軸性と
した補償板だが、この該補償板においては、光軸が傾い
た配向を得るためにSiO斜め蒸着膜、特殊変成配向膜
を用いることなどの、コスト高の要因となる製造上の不
利があった。
2. Description of the Related Art Recently, discotic liquid crystal compounds are
JP-A-56-90878, JP-A-2-287120
No. 7-134213, 7-14640
It has been clarified that it is useful as a chemical material for various optical elements as disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. 9 and the like.
The liquid crystal compound is mainly composed of a disc-shaped central portion (discogen) essential for expressing a discotic liquid crystal phase and a substituent necessary for stabilizing the liquid crystal phase,
A liquid crystal compound in which an ester bond is formed between a discogen having a phenolic hydroxyl group and a substituent having a carboxylic acid group (carboxyl group) is used as an optical material. Conventional ester bond formation method is
For example, 2,3,6 as raw materials that can become discogens
A compound having a plurality of phenolic hydroxyl groups in one molecule such as 7,10,11-hexahydroxytriphenylene and a chloride of a carboxylic acid as a raw material which can be a substituent part are used to condense these. However, in this method, it is necessary to convert a carboxylic acid into a chloride by using a reagent which is harmful and difficult to handle, such as thionyl chloride, and a post-treatment is complicated because a solvent and a base are required during the condensation reaction. However, it has been impossible to mass-produce industrially a discotic liquid crystal compound by this method. Further, the compensator described in the above publication is oriented as a director by tilting a director (a unit vector that specifies the orientation direction of the average optical axis of a molecule) of discotic liquid crystal molecules in a certain direction. The compensator has a negative uniaxial property in which the optical axis is tilted, that is, the refractive index structure is tilted. In this compensator, a SiO oblique vapor deposition film and a special metamorphic alignment film are used to obtain an alignment in which the optical axis is tilted. There are manufacturing disadvantages such as the use, which cause a high cost.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】本発明は上記課題を解
決するものであり、簡単且つ効率的な反応で得られる反
応生成物自体が優れた特性をもつディスコティック液晶
材料となることを知見し、本発明に到達した。
DISCLOSURE OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above problems and found that the reaction product itself obtained by a simple and efficient reaction becomes a discotic liquid crystal material having excellent characteristics. Has reached the present invention.

【0004】[0004]

【課題を解決するための手段】すなわち本発明の第1
は、1分子中に6個以上のフェノール性ヒドロキシル基
を有する1種もしくは複数種の平面状縮合環化合物とア
セチル化剤と炭素数6以上の複数種のカルボン酸化合物
とを反応系に供し、フェノール性ヒドロキシル基のアセ
チル化反応を生起させると共に、該反応によって得られ
たアセチル基と反応系に共存するカルボン酸化合物との
脱酢酸反応を同一反応系内で進行せしめることにより生
成される反応生成物より実質上構成されるディスコティ
ック液晶材料を配向基板上に塗布し、次いで熱処理し、
冷却することを特徴とする液晶表示素子用補償板の製造
方法に関する。また本発明の第2は、ディスコティック
液晶材料が、1分子中に6個以上のフェノール性ヒドロ
キシル基を有する1種もしくは複数種の平面状縮合環化
合物とアセチル化剤および炭素数6以上の複数種のカル
ボン酸化合物との反応において、反応開始時点から反応
終了時点までの全反応時間中の1/3〜9/10の後記
反応時間においては、反応条件を減圧下または不活性ガ
ス気流下において反応を行うことにより得られる反応生
成物より実質上構成されることを特徴とする上記第1記
載の液晶表示素子用補償板の製造方法に関する。また本
発明の第3は、1分子中に6個以上のフェノール性ヒド
ロキシル基を有する平面状縮合環化合物が、2,3,
6,7,10,11−ヘキサヒドロキシトリフェニレン
であることを特徴とする上記第1または第2記載の液晶
表示素子用補償板の製造方法に関する。また本発明の第
4は、炭素数6以上の複数種のカルボン酸化合物が、1
分子中に1個のカルボキシル基を有する化合物および/
または1分子中に2個以上のカルボキシル基を有するカ
ルボン酸化合物であることを特徴とする上記第1乃至第
3記載の液晶表示素子用補償板の製造方法に関する。さ
らに本発明の第5は、アセチル化剤が、無水酢酸である
ことを特徴とする上記第1乃至第4記載の液晶表示素子
用補償板の製造方法に関する。
Means for Solving the Problems That is, the first aspect of the present invention
Is one or more planar condensed ring compounds having 6 or more phenolic hydroxyl groups in one molecule, an acetylating agent and a plurality of carboxylic acid compounds having 6 or more carbon atoms, A reaction product produced by causing an acetylation reaction of a phenolic hydroxyl group and advancing a deacetic acid reaction between the acetyl group obtained by the reaction and a carboxylic acid compound coexisting in the reaction system in the same reaction system. A discotic liquid crystal material consisting essentially of a material is applied onto the alignment substrate and then heat treated,
The present invention relates to a method for manufacturing a compensating plate for a liquid crystal display element, which is characterized by cooling. A second aspect of the present invention is that the discotic liquid crystal material comprises one or more planar condensed ring compounds having 6 or more phenolic hydroxyl groups in one molecule, an acetylating agent, and a plurality of carbon atoms having 6 or more carbon atoms. In the reaction with one kind of carboxylic acid compound, in the reaction time described below from 1/3 to 9/10 of the total reaction time from the reaction start time to the reaction end time, the reaction conditions are under reduced pressure or under an inert gas stream. The present invention relates to a method for producing a compensating plate for a liquid crystal display element, which is substantially composed of a reaction product obtained by carrying out a reaction. The third aspect of the present invention is that the planar condensed ring compound having 6 or more phenolic hydroxyl groups in one molecule is 2, 3,
6,7,10,11-Hexahydroxytriphenylene The present invention relates to a method for manufacturing a compensating plate for a liquid crystal display element according to the first or second aspect. The fourth aspect of the present invention is that a plurality of carboxylic acid compounds having 6 or more carbon atoms are
Compounds having one carboxyl group in the molecule and /
Alternatively, the present invention relates to a method for producing a compensating plate for a liquid crystal display element, which is a carboxylic acid compound having two or more carboxyl groups in one molecule. Further, a fifth aspect of the present invention relates to the method for producing a compensating plate for a liquid crystal display element according to any one of the first to fourth aspects, wherein the acetylating agent is acetic anhydride.

【0005】[0005]

【発明の実施の形態】本発明の液晶表示素子用補償板の
製造方法に供されるディスコティック液晶材料は、1分
子中に6個以上のフェノール性ヒドロキシル基を有する
1種もしくは複数種の平面状縮合環化合物とアセチル化
剤と炭素数6以上の複数種のカルボン酸化合物とを反応
させて得られた反応生成物から実質上構成される。該反
応生成物は、1種または2種以上のディスコティック液
晶化合物を含有するものであり、好ましくは2種以上の
ディスコティック液晶化合物から実質上構成される。反
応生成物中の生成であるディスコティック液晶化合物と
しては、一官能性の置換基のみが導入した該液晶化合
物、二官能性や三官能性など多官能性置換基がディスコ
ゲンに導入することによって生成したダイマー、トリマ
ーなどのオリゴマー化したディスコティック液晶化合物
などがある。また、反応条件、反応に供する平面状縮合
環化合物、アセチル化剤および/またはカルボン酸化合
物の種類によっては、ディスコティック液晶化合物以外
の生成物も生成しうる。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The discotic liquid crystal material used in the method for producing a compensating plate for a liquid crystal display device of the present invention is one or more planes having 6 or more phenolic hydroxyl groups in one molecule. Substantially composed of a reaction product obtained by reacting a condensed ring compound, an acetylating agent and a plurality of carboxylic acid compounds having 6 or more carbon atoms. The reaction product contains one or more discotic liquid crystal compounds, and is preferably substantially composed of two or more discotic liquid crystal compounds. The discotic liquid crystal compound produced in the reaction product is a liquid crystal compound in which only a monofunctional substituent is introduced, and a polyfunctional substituent such as a difunctional or trifunctional substituent is introduced into a discogen. There is an oligomerized discotic liquid crystal compound such as a produced dimer or trimer. Further, a product other than the discotic liquid crystal compound may be produced depending on the reaction conditions, the kind of the planar condensed ring compound, the acetylating agent and / or the carboxylic acid compound used in the reaction.

【0006】以下、本発明についてさらに詳しく説明す
る。本発明の製造方法に供される1分子中に6個以上の
フェノール性ヒドロキシル基を有する平面状縮合環化合
物は、主にディスコティック液晶相を発現させるのに必
須の円盤状の中心部分(ディスコゲン)を構成する化合
物である。また平面状縮合環化合物とは、芳香族環が少
なくとも3個以上縮合した、分子構造上、平面状をとり
うる化合物を意味する。
The present invention will be described in more detail below. The planar condensed ring compound having 6 or more phenolic hydroxyl groups in one molecule, which is used in the production method of the present invention, is mainly a disc-shaped central portion (disco) essential for expressing a discotic liquid crystal phase. (Gen) is a compound that constitutes. In addition, the planar condensed ring compound means a compound that can be planar in terms of molecular structure, in which at least three aromatic rings are condensed.

【0007】本発明におけるフェノール性ヒドロキシル
基を有する平面縮合環化合物の例として、トリフェニレ
ン骨格、トルクセン骨格などを有する化合物が挙げられ
るが、本発明ではその中でも、2,3,6,7,10,
11−ヘキサヒドロキシトリフェニレン(以後、HHT
Pと略す)を特に好ましい化合物として挙げることがで
きる。
Examples of the planar condensed ring compound having a phenolic hydroxyl group in the present invention include compounds having a triphenylene skeleton, a torquesen skeleton, and the like. In the present invention, among them, 2, 3, 6, 7, 10,
11-hexahydroxytriphenylene (hereinafter referred to as HHT
(Abbreviated as P) can be mentioned as a particularly preferred compound.

【0008】一方、ディスコティック液晶相を安定化す
るのに必要な置換基部分を構成する化合物として、炭素
数6以上の複数種のカルボン酸化合物を用いる。本発明
では、該平面状縮合環化合物のアセチル化反応を生起さ
せるとともに、該反応によって得られたアセチル基が、
反応系に共存するカルボン酸化合物と脱酢酸反応を起こ
し、それによってカルボン酸化合物が平面状縮合環化合
物に導入される。
On the other hand, a plurality of kinds of carboxylic acid compounds having 6 or more carbon atoms are used as the compound constituting the substituent portion necessary for stabilizing the discotic liquid crystal phase. In the present invention, the acetylation reaction of the planar condensed ring compound is caused, and the acetyl group obtained by the reaction is
A deacetic acid reaction is caused with a carboxylic acid compound coexisting in the reaction system, whereby the carboxylic acid compound is introduced into the planar condensed ring compound.

【0009】上記カルボン酸化合物としては、1分子中
に1個のカルボキシル基を有する一官能性カルボン酸、
または1分子中に2個以上のカルボキシル基を有する多
官能性カルボン酸化合物のどちらもが好適に用いられ
る。
As the above-mentioned carboxylic acid compound, a monofunctional carboxylic acid having one carboxyl group in one molecule,
Alternatively, both of the polyfunctional carboxylic acid compounds having two or more carboxyl groups in one molecule are preferably used.

【0010】一官能性カルボン酸としては、ヘキサン
酸、ヘプタン酸、オクタン酸、ノナン酸、デカン酸、ウ
ンデカン酸、ドデカン酸、トリデカン酸、テトラデカン
酸、ペンタデカン酸、ヘキサデカン酸、ヘプタデカン
酸、オクタデカン酸、ノナデカン酸、エイコサン酸、オ
レイン酸、リノレン酸、シクロヘキサンカルボン酸、シ
クロペンタンカルボン酸などの炭素数6から40、好ま
しくは炭素数6から30のアルカン酸またはアルケン酸
を例示できる。
Examples of the monofunctional carboxylic acid include hexanoic acid, heptanoic acid, octanoic acid, nonanoic acid, decanoic acid, undecanoic acid, dodecanoic acid, tridecanoic acid, tetradecanoic acid, pentadecanoic acid, hexadecanoic acid, heptadecanoic acid, octadecanoic acid, Examples thereof include alkanoic acids or alkenoic acids having 6 to 40 carbon atoms, preferably 6 to 30 carbon atoms, such as nonadecanoic acid, eicosanoic acid, oleic acid, linolenic acid, cyclohexanecarboxylic acid and cyclopentanecarboxylic acid.

【0011】また、炭素数7から37、好ましくは7か
ら27の安息香酸誘導体も好適に使用できる。以下にそ
の例を示すが、アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン、
アミノ基、ニトロ基などの置換基を有する安息香酸を用
いる場合には、その置換位置に特に制限はなく、2,
3,4位のいずれの置換位置でも好適に使用できる。ま
た複数の置換基を持つ化合物も使用できる。
Further, a benzoic acid derivative having 7 to 37 carbon atoms, preferably 7 to 27 carbon atoms can also be preferably used. Examples thereof are shown below, but an alkyl group, an alkoxy group, a halogen,
When using a benzoic acid having a substituent such as an amino group and a nitro group, the position of substitution is not particularly limited, and
It can be suitably used at any of the substitution positions at the 3 and 4 positions. A compound having a plurality of substituents can also be used.

【0012】それらの具体例としては、安息香酸、4−
メチル安息香酸、4−エチル安息香酸、4−プロピル安
息香酸、4−イソプロピル安息香酸、4−ブチル安息香
酸、4−sec−ブチル安息香酸、4−イソブチル安息
香酸、4−tert−ブチル安息香酸、4−ペンチル安
息香酸、4−ヘキシル安息香酸、4−ヘプチル安息香
酸、4−オクチル安息香酸、4−ノニル安息香酸、4−
デシル安息香酸、4−ウンデシル安息香酸、4−ドデシ
ル安息香酸、4−トリデシル安息香酸、4−テトラデシ
ル安息香酸、4−クロロ安息香酸、4−ブロモ安息香
酸、4−ニトロ安息香酸、4−ジメチルアミノ安息香
酸、4−ヒドロキシ安息香酸、4−メトキシ安息香酸、
4−エトキシ安息香酸、4−プロポキシ安息香酸、4−
イソプロポキシ安息香酸、4−ブトキシ安息香酸、4−
sec−ブトキシ安息香酸、4−イソブトキシ安息香
酸、4−tert−ブトキシ安息香酸、4−ペンチルオ
キシ安息香酸、4−ヘキシルオキシ安息香酸、4−ヘプ
チルオキシ安息香酸、4−オクチルオキシ安息香酸、4
−ノニルオキシ安息香酸、4−デシルオキシ安息香酸、
4−ウンデシルオキシ安息香酸、4−ドデシルオキシ安
息香酸、4−トリデシルオキシ安息香酸、4−テトラデ
シルオキシ安息香酸、3−メチル安息香酸、3−エチル
安息香酸、3−プロピル安息香酸、3−イソプロピル安
息香酸、3−ブチル安息香酸、3−sec−ブチル安息
香酸、3−イソブチル安息香酸、3−tert−ブチル
安息香酸、3−ペンチル安息香酸、3−ヘキシル安息香
酸、3−ヘプチル安息香酸、3−オクチル安息香酸、3
−ノニル安息香酸、3−デシル安息香酸、3−ウンデシ
ル安息香酸、3−ドデシル安息香酸、3−トリデシル安
息香酸、3−テトラデシル安息香酸、3−クロロ安息香
酸、3−ブロモ安息香酸、3−ニトロ安息香酸、3−ジ
メチルアミノ安息香酸、3−ヒドロキシ安息香酸、3−
メトキシ安息香酸、3−エトキシ安息香酸、3−プロポ
キシ安息香酸、3−イソプロポキシ安息香酸、3−ブト
キシ安息香酸、3−sec−ブトキシ安息香酸、3−イ
ソブトキシ安息香酸、3−tert−ブトキシ安息香
酸、3−ペンチルオキシ安息香酸、3−ヘキシルオキシ
安息香酸、3−ヘプチルオキシ安息香酸、3−オクチル
オキシ安息香酸、3−ノニルオキシ安息香酸、3−デシ
ルオキシ安息香酸、3−ウンデシルオキシ安息香酸、3
−ドデシルオキシ安息香酸、3−トリデシルオキシ安息
香酸、3−テトラデシルオキシ安息香酸、2−メチル安
息香酸、2−エチル安息香酸、2−プロピル安息香酸、
2−イソプロピル安息香酸、2−ブチル安息香酸、2−
sec−ブチル安息香酸、2−イソブチル安息香酸、2
−tert−ブチル安息香酸、2−ペンチル安息香酸、
2−ヘキシル安息香酸、2−ヘプチル安息香酸、2−オ
クチル安息香酸、2−ノニル安息香酸、2−デシル
Specific examples thereof include benzoic acid and 4-
Methylbenzoic acid, 4-ethylbenzoic acid, 4-propylbenzoic acid, 4-isopropylbenzoic acid, 4-butylbenzoic acid, 4-sec-butylbenzoic acid, 4-isobutylbenzoic acid, 4-tert-butylbenzoic acid, 4-pentylbenzoic acid, 4-hexylbenzoic acid, 4-heptylbenzoic acid, 4-octylbenzoic acid, 4-nonylbenzoic acid, 4-
Decylbenzoic acid, 4-undecylbenzoic acid, 4-dodecylbenzoic acid, 4-tridecylbenzoic acid, 4-tetradecylbenzoic acid, 4-chlorobenzoic acid, 4-bromobenzoic acid, 4-nitrobenzoic acid, 4-dimethylamino Benzoic acid, 4-hydroxybenzoic acid, 4-methoxybenzoic acid,
4-ethoxybenzoic acid, 4-propoxybenzoic acid, 4-
Isopropoxybenzoic acid, 4-butoxybenzoic acid, 4-
sec-Butoxybenzoic acid, 4-isobutoxybenzoic acid, 4-tert-butoxybenzoic acid, 4-pentyloxybenzoic acid, 4-hexyloxybenzoic acid, 4-heptyloxybenzoic acid, 4-octyloxybenzoic acid, 4
-Nonyloxybenzoic acid, 4-decyloxybenzoic acid,
4-undecyloxybenzoic acid, 4-dodecyloxybenzoic acid, 4-tridecyloxybenzoic acid, 4-tetradecyloxybenzoic acid, 3-methylbenzoic acid, 3-ethylbenzoic acid, 3-propylbenzoic acid, 3 -Isopropylbenzoic acid, 3-butylbenzoic acid, 3-sec-butylbenzoic acid, 3-isobutylbenzoic acid, 3-tert-butylbenzoic acid, 3-pentylbenzoic acid, 3-hexylbenzoic acid, 3-heptylbenzoic acid , 3-octylbenzoic acid, 3
-Nonylbenzoic acid, 3-decylbenzoic acid, 3-undecylbenzoic acid, 3-dodecylbenzoic acid, 3-tridecylbenzoic acid, 3-tetradecylbenzoic acid, 3-chlorobenzoic acid, 3-bromobenzoic acid, 3-nitro Benzoic acid, 3-dimethylaminobenzoic acid, 3-hydroxybenzoic acid, 3-
Methoxybenzoic acid, 3-ethoxybenzoic acid, 3-propoxybenzoic acid, 3-isopropoxybenzoic acid, 3-butoxybenzoic acid, 3-sec-butoxybenzoic acid, 3-isobutoxybenzoic acid, 3-tert-butoxybenzoic acid , 3-pentyloxybenzoic acid, 3-hexyloxybenzoic acid, 3-heptyloxybenzoic acid, 3-octyloxybenzoic acid, 3-nonyloxybenzoic acid, 3-decyloxybenzoic acid, 3-undecyloxybenzoic acid, 3
-Dodecyloxybenzoic acid, 3-tridecyloxybenzoic acid, 3-tetradecyloxybenzoic acid, 2-methylbenzoic acid, 2-ethylbenzoic acid, 2-propylbenzoic acid,
2-Isopropylbenzoic acid, 2-butylbenzoic acid, 2-
sec-Butylbenzoic acid, 2-isobutylbenzoic acid, 2
-Tert-butylbenzoic acid, 2-pentylbenzoic acid,
2-hexylbenzoic acid, 2-heptylbenzoic acid, 2-octylbenzoic acid, 2-nonylbenzoic acid, 2-decyl

【0013】安息香酸、2−ウンデシル安息香酸、2−
ドデシル安息香酸、2−トリデシル安息香酸、2−テト
ラデシル安息香酸、2−クロロ安息香酸、2−ブロモ安
息香酸、2−ニトロ安息香酸、2−ジメチルアミノ安息
香酸、2−ヒドロキシ安息香酸、2−メトキシ安息香
酸、2−エトキシ安息香酸、2−プロポキシ安息香酸、
2−イソプロポキシ安息香酸、2−ブトキシ安息香酸、
2−sec−ブトキシ安息香酸、2−イソブトキシ安息
香酸、2−tert−ブトキシ安息香酸、2−ペンチル
オキシ安息香酸、2−ヘキシルオキシ安息香酸、2−ヘ
プチルオキシ安息香酸、2−オクチルオキシ安息香酸、
2−ノニルオキシ安息香酸、2−デシルオキシ安息香
酸、2−ウンデシルオキシ安息香酸、2−ドデシルオキ
シ安息香酸、2−トリデシルオキシ安息香酸、2−テト
ラデシルオキシ安息香酸、3,4−ジメトキシ安息香
酸、3,4−ジエトキシ安息香酸、3,4−ジプロポキ
シ安息香酸、3,4−ジブトキシ安息香酸、3,4−ジ
ペンチルオキシ安息香酸、3,4−ジヘキシルオキシ安
息香酸、3,4−ジヘプチルオキシ安息香酸、3,4−
ジオクチルオキシ安息香酸、3,4−ジノニルオキシ安
息香酸、3,4−ジデシルオキシ安息香酸、3,4−ビ
ス(2−メトキシエトキシ)安息香酸、2,4−ジメト
キシ安息香酸、2,4−ジエトキシ安息香酸、2,4−
ジプロポキシ安息香酸、2,4−ジブトキシ安息香酸、
2,4−ジペンチルオキシ安息香酸、2,4−ジヘキシ
ルオキシ安息香酸、2,4−ジヘプチルオキシ安息香
酸、2,4−ジオクチルオキシ安息香酸、2,4−ジノ
ニルオキシ安息香酸、2,4−ジデシルオキシ安息香
酸、2,4−ビス(2−メトキシエトキシ)安息香酸、
3,4,5−トリメトキシ安息香酸、3,4,5−トリ
エトキシ安息香酸、3,4,5−トリプロポキシ安息香
酸、3,4,5−トリブトキシ安息香酸、3,4,5−
トリペンチルオキシ安息香酸、3,4,5−トリヘキシ
ルオキシ安息香酸、3,4,5−トリヘプチルオキシ安
息香酸、3,4,5−トリオクチルオキシ安息香酸、
3,4,5−トリノニルオキシ安息香酸、3,4,5−
トリデシルオキシ安息香酸、4−メチル−3−メトキシ
安息香酸、4−エチル−3−メトキシ安息香酸、4−プ
ロピル−3−メトキシ安息香酸、4−ブチル−3−メト
キシ安息香酸、4−ペンチル−3−メトキシ安息香酸、
4−ヘキシル−3−メトキシ安息香酸、4−ヘプチル−
3−メトキシ安息香酸、4−オクチル−3−メトキシ安
息香酸、4−ノニル−3−メトキシ安息香酸、4−デシ
ル−3−メトキシ安息香酸、4−ウンデシル−3−メト
キシ安息香酸、4−ドデシル−3−メトキシ安息香酸、
3−メチル−4−メトキシ安息香酸、3−エチル−4−
メトキシ安息香酸、3−プロピル−4−メトキシ安息香
酸、3−ブチル−4−メトキシ安息香酸、3−ペンチル
−4−メトキシ安息香酸、3−ヘキシル−4−メトキシ
安息香酸、3−ヘプチル−4−メトキシ安息香酸、3−
オクチル−4−メトキシ安息香酸、3−ノニル−4−メ
トキシ安息香酸、3−デシル−4−メトキシ安息香酸、
3−ウンデシル−4−メトキシ安息香酸、3−ドデシル
−4−メトキシ安息香酸などを例示できる。
Benzoic acid, 2-undecylbenzoic acid, 2-
Dodecylbenzoic acid, 2-tridecylbenzoic acid, 2-tetradecylbenzoic acid, 2-chlorobenzoic acid, 2-bromobenzoic acid, 2-nitrobenzoic acid, 2-dimethylaminobenzoic acid, 2-hydroxybenzoic acid, 2-methoxy. Benzoic acid, 2-ethoxybenzoic acid, 2-propoxybenzoic acid,
2-isopropoxybenzoic acid, 2-butoxybenzoic acid,
2-sec-butoxybenzoic acid, 2-isobutoxybenzoic acid, 2-tert-butoxybenzoic acid, 2-pentyloxybenzoic acid, 2-hexyloxybenzoic acid, 2-heptyloxybenzoic acid, 2-octyloxybenzoic acid,
2-nonyloxybenzoic acid, 2-decyloxybenzoic acid, 2-undecyloxybenzoic acid, 2-dodecyloxybenzoic acid, 2-tridecyloxybenzoic acid, 2-tetradecyloxybenzoic acid, 3,4-dimethoxybenzoic acid 3,4-diethoxybenzoic acid, 3,4-dipropoxybenzoic acid, 3,4-dibutoxybenzoic acid, 3,4-dipentyloxybenzoic acid, 3,4-dihexyloxybenzoic acid, 3,4-diheptyloxy Benzoic acid, 3,4-
Dioctyloxybenzoic acid, 3,4-dinonyloxybenzoic acid, 3,4-didecyloxybenzoic acid, 3,4-bis (2-methoxyethoxy) benzoic acid, 2,4-dimethoxybenzoic acid, 2,4-diethoxybenzoic acid , 2,4-
Dipropoxybenzoic acid, 2,4-dibutoxybenzoic acid,
2,4-dipentyloxybenzoic acid, 2,4-dihexyloxybenzoic acid, 2,4-diheptyloxybenzoic acid, 2,4-dioctyloxybenzoic acid, 2,4-dinonyloxybenzoic acid, 2,4-didecyloxy Benzoic acid, 2,4-bis (2-methoxyethoxy) benzoic acid,
3,4,5-Trimethoxybenzoic acid, 3,4,5-Triethoxybenzoic acid, 3,4,5-Tripropoxybenzoic acid, 3,4,5-Tributoxybenzoic acid, 3,4,5-
Tripentyloxybenzoic acid, 3,4,5-trihexyloxybenzoic acid, 3,4,5-triheptyloxybenzoic acid, 3,4,5-trioctyloxybenzoic acid,
3,4,5-Trinonyloxybenzoic acid, 3,4,5-
Tridecyloxybenzoic acid, 4-methyl-3-methoxybenzoic acid, 4-ethyl-3-methoxybenzoic acid, 4-propyl-3-methoxybenzoic acid, 4-butyl-3-methoxybenzoic acid, 4-pentyl- 3-methoxybenzoic acid,
4-hexyl-3-methoxybenzoic acid, 4-heptyl-
3-methoxybenzoic acid, 4-octyl-3-methoxybenzoic acid, 4-nonyl-3-methoxybenzoic acid, 4-decyl-3-methoxybenzoic acid, 4-undecyl-3-methoxybenzoic acid, 4-dodecyl- 3-methoxybenzoic acid,
3-Methyl-4-methoxybenzoic acid, 3-ethyl-4-
Methoxybenzoic acid, 3-propyl-4-methoxybenzoic acid, 3-butyl-4-methoxybenzoic acid, 3-pentyl-4-methoxybenzoic acid, 3-hexyl-4-methoxybenzoic acid, 3-heptyl-4- Methoxybenzoic acid, 3-
Octyl-4-methoxybenzoic acid, 3-nonyl-4-methoxybenzoic acid, 3-decyl-4-methoxybenzoic acid,
Examples include 3-undecyl-4-methoxybenzoic acid and 3-dodecyl-4-methoxybenzoic acid.

【0014】また、炭素数9から39、好ましくは9か
ら29の桂皮酸誘導体も好適に使用できる。以下にその
例を示すが、アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン、ア
ミノ基、ニトロ基などの置換基を有する桂皮酸を用いる
場合にはその置換位置に特に制限はなく、2,3,4位
のいずれの置換位置も好適に使用できる。また複数の置
換基を持つ化合物も使用できる。
Further, a cinnamic acid derivative having 9 to 39 carbon atoms, preferably 9 to 29 carbon atoms can also be preferably used. Examples thereof will be shown below, but when cinnamic acid having a substituent such as an alkyl group, an alkoxy group, a halogen, an amino group or a nitro group is used, the substitution position is not particularly limited, and the 2,3,4 position Any substitution position can be preferably used. A compound having a plurality of substituents can also be used.

【0015】それらの具体例としては、桂皮酸、4−メ
チル桂皮酸、4−エチル桂皮酸、4−プロピル桂皮酸、
4−イソプロピル桂皮酸、4−ブチル桂皮酸、4−se
c−ブチル桂皮酸、4−イソブチル桂皮酸、4−ter
t−ブチル桂皮酸、4−ペンチル桂皮酸、4−ヘキシル
桂皮酸、4−ヘプチル桂皮酸、4−オクチル桂皮酸、4
−ノニル桂皮酸、4−デシル桂皮酸、4−ウンデシル桂
皮酸、4−ドデシル桂皮酸、4−トリデシル桂皮酸、4
−テトラデシル桂皮酸、4−クロロ桂皮酸、4−ブロモ
桂皮酸、4−ニトロ桂皮酸、4−ジメチルアミノ桂皮
酸、4−ヒドロキシ桂皮酸、4−メトキシ桂皮酸、4−
エトキシ桂皮酸、4−プロポキシ桂皮酸、4−イソプロ
ポキシ桂皮酸、4−ブトキシ桂皮酸、4−sec−ブト
キシ桂皮酸、4−イソブトキシ桂皮酸、4−tert−
ブトキシ桂皮酸、4−ペンチルオキシ桂皮酸、4−ヘキ
シルオキシ桂皮酸、4−ヘプチルオキシ桂皮酸、4−オ
クチルオキシ桂皮酸、4−ノニルオキシ桂皮酸、4−デ
シルオキシ桂皮酸、4−ウンデシルオキシ桂皮酸、4−
ドデシルオキシ桂皮酸、4−トリデシルオキシ桂皮酸、
4−テトラデシルオキシ桂皮酸、3−メチル桂皮酸、3
−エチル桂皮酸、3−プロピル桂皮酸、3−イソプロピ
ル桂皮酸、3−ブチル桂皮酸、3−sec−ブチル桂皮
酸、3−イソブチル桂皮酸、3−tert−ブチル桂皮
酸、3−ペンチル桂皮酸、3−ヘキシル桂皮酸、3−ヘ
プチル桂皮酸、3−オクチル桂皮酸、3−ノニル桂皮
酸、3−デシル桂皮酸、3−ウンデシル桂皮酸、3−ド
デシル桂皮酸、3−トリデシル桂皮酸、3−テトラデシ
ル桂皮酸、3−クロロ桂皮酸、3−ブロモ桂皮酸、3−
ニトロ桂皮酸、3−ジメチルアミノ桂皮酸、3−ヒドロ
キシ桂皮酸、3−メトキシ桂皮酸、3−エトキシ桂皮
酸、3−プロポキシ桂皮酸、3−イソプロポキシ桂皮
酸、3−ブトキシ桂皮酸、3−sec−ブトキシ桂皮
酸、3−イソブトキシ桂皮酸、3−tert−ブトキシ
桂皮酸、3−ペンチルオキシ桂皮酸、3−ヘキシルオキ
シ桂皮酸、3−ヘプチルオキシ桂皮酸、3−オクチルオ
キシ桂皮酸、3−ノニルオキシ桂皮酸、3−デシルオキ
シ桂皮酸、3−ウンデシルオキシ桂皮酸、3−ドデシル
オキシ桂皮酸、3−トリデシルオキシ桂皮酸、3−テト
ラデシルオキシ桂皮酸、2−メチル桂皮酸、2−エチル
桂皮酸、2−プロピル桂皮酸、2−イソプロピル桂皮
酸、2−ブチル桂皮酸、2−sec−ブチル桂皮酸、2
−イソブチル桂皮酸、2−tert−ブチル桂皮酸、2
−ペンチル桂皮酸、2−ヘキシル桂皮酸、2−ヘプチル
桂皮酸、2−オクチル桂皮酸、2−ノニル桂皮酸、2−
デシル桂皮酸、2−ウンデシル桂皮酸、2−ドデシル桂
皮酸、2−トリデシル桂皮酸、2−テトラデシル桂皮
酸、2−クロロ桂皮酸、2−ブロモ桂皮酸、2−ニトロ
桂皮酸、2−ジメチルアミノ桂皮酸、2−ヒドロキシ桂
皮酸、2−メトキシ桂皮酸、2−エトキシ桂皮酸、2−
プロポキシ桂皮酸、2−イソプロポキシ桂皮酸、2−ブ
トキシ桂皮酸、2−sec−ブトキシ桂皮酸、2−イソ
ブトキシ桂皮酸、2−tert−ブトキシ桂皮酸、2−
ペンチルオキシ桂皮酸、2−ヘキシルオキシ桂皮酸、2
−ヘプチルオキシ桂皮酸、2−オクチルオキシ桂皮酸、
2−ノニルオキシ桂皮酸、2−デシルオキシ桂皮酸、2
−ウンデシルオキシ桂皮酸、2−ドデシルオキシ桂皮
酸、2−トリデシルオキシ桂皮酸、2−テトラデシルオ
キシ桂皮酸、3,4−ジメトキシ桂皮酸、3,4−ジエ
トキシ桂皮酸、3,4−ジプロポキシ桂皮酸、3,4−
ジブトキシ桂皮酸、3,4−ジペンチルオキシ桂皮酸、
3,4−ジヘキシルオキシ桂皮酸、3,4−ジヘプチル
オキシ桂皮酸、3,4−ジオクチルオキシ桂皮酸、3,
4−ジノニルオキシ桂皮酸、3,4−ジデシルオキシ桂
皮酸、3,4−ビス(2−メトキシエトキシ)桂皮酸、
2,4−ジメトキシ桂皮酸、2,4−ジエトキシ桂皮
酸、2,4−ジプロポキシ桂皮酸、2,4−ジブトキシ
桂皮酸、2,4−ジペンチルオキシ桂皮酸、2,4−ジ
ヘキシルオキシ桂皮酸、2,4−ジヘプチルオキシ桂皮
酸、2,4−ジオクチルオキシ桂皮酸、2,4−ジノニ
ルオキシ桂皮酸、2,4−ジデシルオキシ桂皮酸、2,
4−ビス(2−メトキシエトキシ)桂皮酸、3,4,5
−トリメトキシ桂皮酸、3,4,5−トリエトキシ桂皮
酸、3,4,5−トリプロポキシ桂皮酸、3,4,5−
トリブトキシ桂皮酸、3,4,5−トリペンチルオキシ
桂皮酸、3,4,5−トリヘキシルオキシ桂皮酸、3,
4,5−トリヘプチルオキシ桂皮酸、3,4,5−トリ
オクチルオキシ桂皮酸、3,4,5−トリノニルオキシ
桂皮酸、3,4,5−トリデシルオキシ桂皮酸、4−メ
チル−3−メトキシ桂皮酸、4−エチル−3−メトキシ
桂皮酸、4−プロピル−3−メトキシ桂皮酸、4−ブチ
ル−3−メトキシ桂皮酸、4−ペンチル−3−メトキシ
桂皮酸、4−ヘキシル−3−メトキシ桂皮酸、4−ヘプ
チル−3−メトキシ桂皮酸、4−オクチル−3−メトキ
シ桂皮酸、4−ノニル−3−メトキシ桂皮酸、4−デシ
ル−3−メトキシ桂皮酸、4−ウンデシル−3−メトキ
シ桂皮酸、4−ドデシル−3−メトキシ桂皮酸、3−メ
チル−4−メトキシ桂皮酸、3−エチル−4−メトキシ
桂皮酸、3−プロピル−4−メトキシ桂皮酸、3−ブチ
ル−4−メトキシ桂皮酸、3−ペンチル−4−メトキシ
桂皮酸、3−ヘキシル−4−メトキシ桂皮酸、3−ヘプ
チル−4−メトキシ桂皮酸、3−オクチル−4−メトキ
シ桂皮酸、3−ノニル−4−メトキシ桂皮酸、3−デシ
ル−4−メトキシ桂皮酸、3−ウンデシル−4−メトキ
シ桂皮酸、3−ドデシル−4−メトキシ桂皮酸などを例
示できる。
Specific examples thereof include cinnamic acid, 4-methylcinnamic acid, 4-ethylcinnamic acid, 4-propylcinnamic acid,
4-Isopropylcinnamic acid, 4-butylcinnamic acid, 4-se
c-Butylcinnamic acid, 4-isobutylcinnamic acid, 4-ter
t-Butyl cinnamic acid, 4-pentyl cinnamic acid, 4-hexyl cinnamic acid, 4-heptyl cinnamic acid, 4-octyl cinnamic acid, 4
-Nonylcinnamic acid, 4-decylcinnamic acid, 4-undecylcinnamic acid, 4-dodecylcinnamic acid, 4-tridecylcinnamic acid, 4
-Tetradecylcinnamic acid, 4-chlorocinnamic acid, 4-bromocinnamic acid, 4-nitrocinnamic acid, 4-dimethylaminocinnamic acid, 4-hydroxycinnamic acid, 4-methoxycinnamic acid, 4-
Ethoxycinnamic acid, 4-propoxycinnamic acid, 4-isopropoxycinnamic acid, 4-butoxycinnamic acid, 4-sec-butoxycinnamic acid, 4-isobutoxycinnamic acid, 4-tert-
Butoxycinnamic acid, 4-pentyloxycinnamic acid, 4-hexyloxycinnamic acid, 4-heptyloxycinnamic acid, 4-octyloxycinnamic acid, 4-nonyloxycinnamic acid, 4-decyloxycinnamic acid, 4-undecyloxycinnamic acid Acid, 4-
Dodecyloxycinnamic acid, 4-tridecyloxycinnamic acid,
4-tetradecyloxycinnamic acid, 3-methylcinnamic acid, 3
-Ethyl cinnamic acid, 3-propyl cinnamic acid, 3-isopropyl cinnamic acid, 3-butyl cinnamic acid, 3-sec-butyl cinnamic acid, 3-isobutyl cinnamic acid, 3-tert-butyl cinnamic acid, 3-pentyl cinnamic acid , 3-hexyl cinnamic acid, 3-heptyl cinnamic acid, 3-octyl cinnamic acid, 3-nonyl cinnamic acid, 3-decyl cinnamic acid, 3-undecyl cinnamic acid, 3-dodecyl cinnamic acid, 3-tridecyl cinnamic acid, 3 -Tetradecylcinnamic acid, 3-chlorocinnamic acid, 3-bromocinnamic acid, 3-
Nitrocinnamic acid, 3-dimethylaminocinnamic acid, 3-hydroxycinnamic acid, 3-methoxycinnamic acid, 3-ethoxycinnamic acid, 3-propoxycinnamic acid, 3-isopropoxycinnamic acid, 3-butoxycinnamic acid, 3- sec-Butoxycinnamic acid, 3-isobutoxycinnamic acid, 3-tert-butoxycinnamic acid, 3-pentyloxycinnamic acid, 3-hexyloxycinnamic acid, 3-heptyloxycinnamic acid, 3-octyloxycinnamic acid, 3- Nonyloxycinnamic acid, 3-decyloxycinnamic acid, 3-undecyloxycinnamic acid, 3-dodecyloxycinnamic acid, 3-tridecyloxycinnamic acid, 3-tetradecyloxycinnamic acid, 2-methylcinnamic acid, 2-ethyl Cinnamic acid, 2-propylcinnamic acid, 2-isopropylcinnamic acid, 2-butylcinnamic acid, 2-sec-butylcinnamic acid, 2
-Isobutyl cinnamic acid, 2-tert-butyl cinnamic acid, 2
-Pentyl cinnamic acid, 2-hexyl cinnamic acid, 2-heptyl cinnamic acid, 2-octyl cinnamic acid, 2-nonyl cinnamic acid, 2-
Decylcinnamic acid, 2-undecylcinnamic acid, 2-dodecylcinnamic acid, 2-tridecylcinnamic acid, 2-tetradecylcinnamic acid, 2-chlorocinnamic acid, 2-bromocinnamic acid, 2-nitrocinnamic acid, 2-dimethylamino Cinnamic acid, 2-hydroxycinnamic acid, 2-methoxycinnamic acid, 2-ethoxycinnamic acid, 2-
Propoxycinnamic acid, 2-isopropoxycinnamic acid, 2-butoxycinnamic acid, 2-sec-butoxycinnamic acid, 2-isobutoxycinnamic acid, 2-tert-butoxycinnamic acid, 2-
Pentyloxycinnamic acid, 2-hexyloxycinnamic acid, 2
-Heptyloxycinnamic acid, 2-octyloxycinnamic acid,
2-nonyloxycinnamic acid, 2-decyloxycinnamic acid, 2
-Undecyloxycinnamic acid, 2-dodecyloxycinnamic acid, 2-tridecyloxycinnamic acid, 2-tetradecyloxycinnamic acid, 3,4-dimethoxycinnamic acid, 3,4-diethoxycinnamic acid, 3,4- Dipropoxycinnamic acid, 3,4-
Dibutoxycinnamic acid, 3,4-dipentyloxycinnamic acid,
3,4-dihexyloxycinnamic acid, 3,4-diheptyloxycinnamic acid, 3,4-dioctyloxycinnamic acid, 3,
4-dinonyloxycinnamic acid, 3,4-didecyloxycinnamic acid, 3,4-bis (2-methoxyethoxy) cinnamic acid,
2,4-dimethoxycinnamic acid, 2,4-diethoxycinnamic acid, 2,4-dipropoxycinnamic acid, 2,4-dibutoxycinnamic acid, 2,4-dipentyloxycinnamic acid, 2,4-dihexyloxycinnamic acid, 2,4-diheptyloxycinnamic acid, 2,4-dioctyloxycinnamic acid, 2,4-dinonyloxycinnamic acid, 2,4-didecyloxycinnamic acid, 2,
4-bis (2-methoxyethoxy) cinnamic acid, 3,4,5
-Trimethoxycinnamic acid, 3,4,5-triethoxycinnamic acid, 3,4,5-tripropoxycinnamic acid, 3,4,5-
Tributoxycinnamic acid, 3,4,5-tripentyloxycinnamic acid, 3,4,5-trihexyloxycinnamic acid, 3,
4,5-Triheptyloxycinnamic acid, 3,4,5-trioctyloxycinnamic acid, 3,4,5-trinonyloxycinnamic acid, 3,4,5-tridecyloxycinnamic acid, 4-methyl- 3-methoxycinnamic acid, 4-ethyl-3-methoxycinnamic acid, 4-propyl-3-methoxycinnamic acid, 4-butyl-3-methoxycinnamic acid, 4-pentyl-3-methoxycinnamic acid, 4-hexyl- 3-methoxycinnamic acid, 4-heptyl-3-methoxycinnamic acid, 4-octyl-3-methoxycinnamic acid, 4-nonyl-3-methoxycinnamic acid, 4-decyl-3-methoxycinnamic acid, 4-undecyl- 3-methoxycinnamic acid, 4-dodecyl-3-methoxycinnamic acid, 3-methyl-4-methoxycinnamic acid, 3-ethyl-4-methoxycinnamic acid, 3-propyl-4-methoxycinnamic acid, 3-butyl- 4-methoxy Cinnamic acid, 3-pentyl-4-methoxycinnamic acid, 3-hexyl-4-methoxycinnamic acid, 3-heptyl-4-methoxycinnamic acid, 3-octyl-4-methoxycinnamic acid, 3-nonyl-4-methoxy. Examples include cinnamic acid, 3-decyl-4-methoxycinnamic acid, 3-undecyl-4-methoxycinnamic acid, and 3-dodecyl-4-methoxycinnamic acid.

【0016】また、カルボン酸として炭素数11から4
1ナフトエ酸誘導体も好適に使用できる。アルキル基、
アルコキシ基、ハロゲン、アミノ基、ニトロ基などの置
換基を有するナフトエ酸誘導体を用いる場合には、その
置換位置に特に制限はなく、すべての異性体が好適に使
用できるが、特に2位の位置にカルボキシル基、6位ま
たは7位、好ましくは6位の位置に置換基が結合したも
のが入手しやすさなどの理由で好適に利用できる。
The carboxylic acid has 11 to 4 carbon atoms.
A 1-naphthoic acid derivative can also be preferably used. Alkyl group,
When a naphthoic acid derivative having a substituent such as an alkoxy group, a halogen, an amino group or a nitro group is used, the substitution position is not particularly limited, and all isomers can be preferably used, but especially at the 2-position. In addition, a carboxyl group and a substituent bonded to the 6-position or 7-position, preferably the 6-position, can be preferably used for reasons such as easy availability.

【0017】それらの具体例としては、2−ナフトエ
酸、6−メチル−2−ナフトエ酸、6−エチル−2−ナ
フトエ酸、6−プロピル−2−ナフトエ酸、6−イソプ
ロピル−2−ナフトエ酸、6−ブチル−2−ナフトエ
酸、6−sec−ブチル−2−ナフトエ酸、6−イソブ
チル−2−ナフトエ酸、6−6−tert−ブチル−2
−ナフトエ酸、6−ペンチル−2−ナフトエ酸、6−ヘ
キシル−2−ナフトエ酸、6−ヘプチル−2−ナフトエ
酸、6−オクチル−2−ナフトエ酸、6−ノニル−2−
ナフトエ酸、6−デシル−2−ナフトエ酸、6−ウンデ
シル−2−ナフトエ酸、6−ドデシル−2−ナフトエ
酸、6−6−トリデシル−2−ナフトエ酸、6−テトラ
デシル−2−ナフトエ酸、6−クロロ−2−ナフトエ
酸、6−ブロモ−2−ナフトエ酸、6−ニトロ−2−ナ
フトエ酸、6−ジメチルアミノ−2−ナフトエ酸、6−
ヒドロキシ−2−ナフトエ酸、6−メトキシナフトエ
酸、エトキシ−2−ナフトエ酸、6−プロポキシ−2−
ナフトエ酸、6−イソプロポキシ−2−ナフトエ酸、6
−ブトキシ−2−ナフトエ酸、6−sec−ブトキシ−
2−ナフトエ酸、6−イソブトキシ−2−ナフトエ酸、
6−tert−ブトキシ−2−ナフトエ酸、6−ペンチ
ルオキシ−2−ナフトエ酸、6−ヘキシルオキシ−2−
ナフトエ酸、6−ヘプチルオキシ−2−ナフトエ酸、6
−オクチルオキシ−2−ナフトエ酸、6−ノニルオキシ
−2−ナフトエ酸、6−デシルオキシ−2−ナフトエ
酸、6−ウンデシルオキシ−2−ナフトエ酸、6−ドデ
シルオキシ−2−ナフトエ酸、6−トリデシルオキシ−
2−ナフトエ酸、6−テトラデシルオキシ−2−ナフト
エ酸などを例示できる。
Specific examples thereof include 2-naphthoic acid, 6-methyl-2-naphthoic acid, 6-ethyl-2-naphthoic acid, 6-propyl-2-naphthoic acid and 6-isopropyl-2-naphthoic acid. , 6-butyl-2-naphthoic acid, 6-sec-butyl-2-naphthoic acid, 6-isobutyl-2-naphthoic acid, 6-6-tert-butyl-2
-Naphthoic acid, 6-pentyl-2-naphthoic acid, 6-hexyl-2-naphthoic acid, 6-heptyl-2-naphthoic acid, 6-octyl-2-naphthoic acid, 6-nonyl-2-
Naphthoic acid, 6-decyl-2-naphthoic acid, 6-undecyl-2-naphthoic acid, 6-dodecyl-2-naphthoic acid, 6-6-tridecyl-2-naphthoic acid, 6-tetradecyl-2-naphthoic acid, 6-chloro-2-naphthoic acid, 6-bromo-2-naphthoic acid, 6-nitro-2-naphthoic acid, 6-dimethylamino-2-naphthoic acid, 6-
Hydroxy-2-naphthoic acid, 6-methoxynaphthoic acid, ethoxy-2-naphthoic acid, 6-propoxy-2-
Naphthoic acid, 6-isopropoxy-2-naphthoic acid, 6
-Butoxy-2-naphthoic acid, 6-sec-butoxy-
2-naphthoic acid, 6-isobutoxy-2-naphthoic acid,
6-tert-butoxy-2-naphthoic acid, 6-pentyloxy-2-naphthoic acid, 6-hexyloxy-2-
Naphthoic acid, 6-heptyloxy-2-naphthoic acid, 6
-Octyloxy-2-naphthoic acid, 6-nonyloxy-2-naphthoic acid, 6-decyloxy-2-naphthoic acid, 6-undecyloxy-2-naphthoic acid, 6-dodecyloxy-2-naphthoic acid, 6- Tridecyloxy-
Examples thereof include 2-naphthoic acid and 6-tetradecyloxy-2-naphthoic acid.

【0018】さらに、カルボン酸として[1,1’−ビ
フェニル]カルボン酸誘導体も好適に使用できる。アル
キル基、アルコキシ基、ハロゲン、アミノ基、ニトロ基
などの置換基を有する[1,1’−ビフェニル]カルボ
ン酸誘導体を用いる場合には、その置換位置に特に制限
はなく、すべての異性体が好適に使用できるが、特に4
位の位置にカルボキシル基、4’位の位置に置換基が結
合したものが入手しやすさなどの理由から好適に利用で
きる。
Further, as the carboxylic acid, a [1,1'-biphenyl] carboxylic acid derivative can also be preferably used. When a [1,1′-biphenyl] carboxylic acid derivative having a substituent such as an alkyl group, an alkoxy group, a halogen, an amino group or a nitro group is used, the substitution position is not particularly limited, and all isomers are It can be preferably used, but especially 4
A carboxyl group at the 4-position and a substituent at the 4'-position can be preferably used because of their availability.

【0019】それらの具体例としては、[1,1’−ビ
フェニル]−4−カルボン酸、4’−メチル[1,1’
−ビフェニル]−4−カルボン酸、4’−エチル[1,
1’−ビフェニル]−4−カルボン酸、4’−プロピル
[1,1’−ビフェニル]−4−カルボン酸、4’−イ
ソプロピル[1,1’−ビフェニル]−4−カルボン
酸、4’−ブチル[1,1’−ビフェニル]−4−カル
ボン酸、4’−sec−ブチル[1,1’−ビフェニ
ル]−4−カルボン酸、4’−イソブチル[1,1’−
ビフェニル]−4−カルボン酸、4’−tert−ブチ
ル[1,1’−ビフェニル]−4−カルボン酸、4’−
ペンチル[1,1’−ビフェニル]−4−カルボン酸、
4’−ヘキシル[1,1’−ビフェニル]−4−カルボ
ン酸、4’−ヘプチル[1,1’−ビフェニル]−4−
カルボン酸、4’−オクチル[1,1’−ビフェニル]
−4−カルボン酸、4’−ノニル[1,1’−ビフェニ
ル]−4−カルボン酸、4’−デシル[1,1’−ビフ
ェニル]−4−カルボン酸、4’−ウンデシル[1,
1’−ビフェニル]−4−カルボン酸、4’−ドデシル
[1,1’−ビフェニル]−4−カルボン酸、4’−ト
リデシル[1,1’−ビフェニル]−4−カルボン酸、
4’−テトラデシル[1,1’−ビフェニル]−4−カ
ルボン酸、4’−クロロ[1,1’−ビフェニル]−4
−カルボン酸、4’−ブロモ[1,1’−ビフェニル]
−4−カルボン酸、4’−ニトロ[1,1’−ビフェニ
ル]−4−カルボン酸、4’−ジメチルアミノ[1,
1’−ビフェニル]−4−カルボン酸、4’−ヒドロキ
シ[1,1’−ビフェニル]−4−カルボン酸、4’−
メトキシ[1,1’−ビフェニル]−4−カルボン酸、
4’−エトキシ[1,1’−ビフェニル]−4−カルボ
ン酸、4’−プロポキシ[1,1’−ビフェニル]−4
−カルボン酸、4’−イソプロポキシ[1,1’−ビフ
ェニル]−4−カルボン酸、4’−ブトキシ[1,1’
−ビフェニル]−4−カルボン酸、4’−sec−ブト
キシ[1,1’−ビフェニル]−4−カルボン酸、4’
−イソブトキシ[1,1’−ビフェニル]−4−カルボ
ン酸、4’−tert−ブトキシ[1,1’−ビフェニ
ル]−4−カルボン酸、4’−ペンチルオキシ[1,
1’−ビフェニル]−4−カルボン酸、4’−ヘキシル
オキシ[1,1’−ビフェニル]−4−カルボン酸、
4’−ヘプチルオキシ[1,1’−ビフェニル]−4−
カルボン酸、4’−オクチルオキシ[1,1’−ビフェ
ニル]−4−カルボン酸、4’−ノニルオキシ[1,
1’−ビフェニル]−4−カルボン酸、4’−デシルオ
キシ[1,1’−ビフェニル]−4−カルボン酸、4’
−ウンデシルオキシ[1,1’−ビフェニル]−4−カ
ルボン酸、4’−ドデシルオキシ[1,1’−ビフェニ
ル]−4−カルボン酸、4’−トリデシルオキシ[1,
1’−ビフェニル]−4−カルボン酸、4’−テトラデ
シルオキシ[1,1’−ビフェニル]−4−カルボン酸
などを例示できる。
Specific examples thereof include [1,1'-biphenyl] -4-carboxylic acid, 4'-methyl [1,1 '.
-Biphenyl] -4-carboxylic acid, 4'-ethyl [1,
1'-biphenyl] -4-carboxylic acid, 4'-propyl [1,1'-biphenyl] -4-carboxylic acid, 4'-isopropyl [1,1'-biphenyl] -4-carboxylic acid, 4'- Butyl [1,1′-biphenyl] -4-carboxylic acid, 4′-sec-butyl [1,1′-biphenyl] -4-carboxylic acid, 4′-isobutyl [1,1′-
Biphenyl] -4-carboxylic acid, 4'-tert-butyl [1,1'-biphenyl] -4-carboxylic acid, 4'-
Pentyl [1,1′-biphenyl] -4-carboxylic acid,
4'-hexyl [1,1'-biphenyl] -4-carboxylic acid, 4'-heptyl [1,1'-biphenyl] -4-
Carboxylic acid, 4'-octyl [1,1'-biphenyl]
-4-carboxylic acid, 4'-nonyl [1,1'-biphenyl] -4-carboxylic acid, 4'-decyl [1,1'-biphenyl] -4-carboxylic acid, 4'-undecyl [1,
1′-biphenyl] -4-carboxylic acid, 4′-dodecyl [1,1′-biphenyl] -4-carboxylic acid, 4′-tridecyl [1,1′-biphenyl] -4-carboxylic acid,
4'-tetradecyl [1,1'-biphenyl] -4-carboxylic acid, 4'-chloro [1,1'-biphenyl] -4
-Carboxylic acid, 4'-bromo [1,1'-biphenyl]
-4-carboxylic acid, 4'-nitro [1,1'-biphenyl] -4-carboxylic acid, 4'-dimethylamino [1,
1'-biphenyl] -4-carboxylic acid, 4'-hydroxy [1,1'-biphenyl] -4-carboxylic acid, 4'-
Methoxy [1,1'-biphenyl] -4-carboxylic acid,
4'-ethoxy [1,1'-biphenyl] -4-carboxylic acid, 4'-propoxy [1,1'-biphenyl] -4
-Carboxylic acid, 4'-isopropoxy [1,1'-biphenyl] -4-carboxylic acid, 4'-butoxy [1,1 '
-Biphenyl] -4-carboxylic acid, 4'-sec-butoxy [1,1'-biphenyl] -4-carboxylic acid, 4 '
-Isobutoxy [1,1'-biphenyl] -4-carboxylic acid, 4'-tert-butoxy [1,1'-biphenyl] -4-carboxylic acid, 4'-pentyloxy [1,
1'-biphenyl] -4-carboxylic acid, 4'-hexyloxy [1,1'-biphenyl] -4-carboxylic acid,
4'-heptyloxy [1,1'-biphenyl] -4-
Carboxylic acid, 4'-octyloxy [1,1'-biphenyl] -4-carboxylic acid, 4'-nonyloxy [1,
1'-biphenyl] -4-carboxylic acid, 4'-decyloxy [1,1'-biphenyl] -4-carboxylic acid, 4 '
-Undecyloxy [1,1'-biphenyl] -4-carboxylic acid, 4'-dodecyloxy [1,1'-biphenyl] -4-carboxylic acid, 4'-tridecyloxy [1,
1'-biphenyl] -4-carboxylic acid and 4'-tetradecyloxy [1,1'-biphenyl] -4-carboxylic acid can be exemplified.

【0020】次に、多官能性カルボン酸としては好まし
くは二官能性カルボン酸化合物が用いられる。二官能性
カルボン酸の例としてはまず、アジピン酸、ピメリン
酸、スベリン酸、アゼライン酸、セバシン酸、ウンデカ
ンジカルボン酸、ドデカンジカルボン酸、トリデカンジ
カルボン酸、テトラデカンジカルボン酸、1,4−シク
ロヘキサンジカルボン酸、フタル酸、イソフタル酸、テ
レフタル酸、2,6−ナフタレンジカルボン酸、2,5
−ナフタレンジカルボン酸、1,4−ナフタレンジカル
ボン酸、1,5−ナフタレンジカルボン酸、[1,1’
−ビフェニル]−4,4’−ジカルボン酸、フマール
酸、マレイン酸、スチルベン−4,4’−ジカルボン
酸、[1,1’−ジシクロヘキサン]−4,4’−ジカ
ルボン酸、4,4’−イソプロピリデンビス(フェノキ
シ酢酸)、ベンゼン−1,4−ジイルビス(3−プロペ
ニル酸)などの炭素数6から30、好ましくは6から2
0のジカルボン酸誘導体を挙げることができる。
Next, a difunctional carboxylic acid compound is preferably used as the polyfunctional carboxylic acid. Examples of the bifunctional carboxylic acid include adipic acid, pimelic acid, suberic acid, azelaic acid, sebacic acid, undecanedicarboxylic acid, dodecanedicarboxylic acid, tridecanedicarboxylic acid, tetradecanedicarboxylic acid, 1,4-cyclohexanedicarboxylic acid. , Phthalic acid, isophthalic acid, terephthalic acid, 2,6-naphthalenedicarboxylic acid, 2,5
-Naphthalenedicarboxylic acid, 1,4-naphthalenedicarboxylic acid, 1,5-naphthalenedicarboxylic acid, [1,1 '
-Biphenyl] -4,4'-dicarboxylic acid, fumaric acid, maleic acid, stilbene-4,4'-dicarboxylic acid, [1,1'-dicyclohexane] -4,4'-dicarboxylic acid, 4,4 ' -Isopropylidene bis (phenoxyacetic acid), benzene-1,4-diylbis (3-propenyl acid) and the like having 6 to 30 carbon atoms, preferably 6 to 2 carbon atoms.
The dicarboxylic acid derivative of 0 can be mentioned.

【0021】また安息香酸基、ナフトエ酸基、[1,
1’−ビフェニル]カルボン酸基から選ばれる基2個に
より、C2〜C20の有機基が挟まれた形のジカルボン
酸も好適に用いることができ、以下にその例を示す。こ
こでは置換位置を示していないが、例えば安息香酸誘導
体を用いる場合一般に2、3、4位のいずれの位置が置
換されたものも用いることができるが、製造の容易さな
どから4置換体が最も好ましく用いることができる。ま
た、ナフトエ酸誘導体を用いる場合には、一般に置換ナ
フトエ酸のどの異性体も好適に使用できるが、好ましく
はカルボキシル基はナフタレンの2位の位置にあるもの
が用いられ、置換基は6位または7位、好ましくは6位
の位置にあるものが用いられる。さらに、[1,1’−
ビフェニル]カルボン酸誘導体についても、どの異性体
も好適に使用できるが、好ましくはカルボキシル基は
[1,1’−ビフェニル]基の4位の位置にあるものが
用いられ、置換基は4’位の位置にあるものが用いられ
る。
Further, a benzoic acid group, a naphthoic acid group, [1,
A dicarboxylic acid having a C2 to C20 organic group sandwiched between two groups selected from 1′-biphenyl] carboxylic acid groups can also be preferably used, and examples thereof are shown below. Although the substitution position is not shown here, for example, in the case of using a benzoic acid derivative, it is possible to generally use a compound in which any of the 2, 3 and 4 positions is substituted, but a 4-substituted product is preferred because of ease of production and the like. Most preferably used. When a naphthoic acid derivative is used, generally, any isomer of substituted naphthoic acid can be preferably used, but preferably, the carboxyl group is at the 2-position of naphthalene, and the substituent is at the 6-position or The one at the 7th position, preferably the 6th position is used. Furthermore, [1,1'-
As the biphenyl] carboxylic acid derivative, any isomer can be preferably used, but preferably, the carboxyl group is used at the 4-position of the [1,1′-biphenyl] group, and the substituent is at the 4′-position. The one in the position of is used.

【0022】それらの具体例としては、4,4’−(エ
タン−1,2−ジイルビスオキシ)ビス安息香酸、4,
4’−(プロパン−1,3−ジイルビスオキシ)ビス安
息香酸、4,4’−(ブタン−1,4−ジイルビスオキ
シ)ビス安息香酸、4,4’−(ペンタン−1,5−ジ
イルビスオキシ)ビス安息香酸、4,4’−(ヘキサン
−1,6−ジイルビスオキシ)ビス安息香酸、4,4’
−(ヘプタン−1,7−ジイルビスオキシ)ビス安息香
酸、4,4’−(オクタン−1,8−ジイルビスオキ
シ)ビス安息香酸、4,4’−(ノナン−1,9−ジイ
ルビスオキシ)ビス安息香酸、4,4’−(デカン−
1,10−ジイルビスオキシ)ビス安息香酸、4,4’
−(ウンデカン−1,11−ジイルビスオキシ)ビス安
息香酸、4,4’−(ドデカン−1,12−ジイルビス
オキシ)ビス安息香酸、4,4’−(ベンゼン−1,4
−ジイルビスオキシ)ビス安息香酸、4,4’−(ベン
ゼン−1,4−ジメチル−α,α’−ジイルビスオキ
シ)ビス安息香酸、4,4’−(シクロヘキサン−1,
4−ジメチル−α,α’−ジイルビスオキシ)ビス安息
香酸、6,6’−(エタン−1,2−ジイルビスオキ
シ)ビス(2−ナフトエ酸)、6,6’−(プロパン−
1,3−ジイルビスオキシ)ビス(2−ナフトエ酸)、
6,6’−(ブタン−1,4−ジイルビスオキシ)ビス
(2−ナフトエ酸)、6,6’−(ペンタン−1,5−
ジイルビスオキシ)ビス(2−ナフトエ酸)、6,6’
−(ヘキサン−1,6−ジイルビスオキシ)ビス(2−
ナフトエ酸)、6,6’−(ヘプタン−1,7−ジイル
ビスオキシ)ビス(2−ナフトエ酸)、6,6’−(オ
クタン−1,8−ジイルビスオキシ)ビス(2−ナフト
エ酸)、6,6’−(ノナン−1,9−ジイルビスオキ
シ)ビス(2−ナフトエ酸)、6,6’−(デカン−
1,10−ジイルビスオキシ)ビス(2−ナフトエ
酸)、6,6’−(ウンデカン−1,11−ジイルビス
オキシ)ビス(2−ナフトエ酸)、6,6’−(ドデカ
ン−1,12−ジイルビスオキシ)ビス(2−ナフトエ
酸)、6,6’−(ベンゼン−1,4−ジイルビスオキ
シ)ビス(2−ナフトエ酸)、6,6’−(ベンゼン−
1,4−ジメチル−α,α’−ジイルビスオキシ)ビス
(2−ナフトエ酸)、6,6’−(シクロヘキサン−
1,4−ジメチル−α,α’−ジイルビスオキシ)ビス
(2−ナフトエ酸)、4’,4''' −(エタン−1,2
−ジイルビスオキシ)ビス([1,1’−ビフェニル]
−4−カルボン酸)、4’,4''' −(プロパン−1,
3−ジイルビスオキシ)ビス([1,1’−ビフェニ
ル]−4−カルボン酸)、4’,4''' −(ブタン−
1,4−ジイルビスオキシ)ビス([1,1’−ビフェ
ニル]−4−カルボン酸)、4’,4''' −(ペンタン
−1,5−ジイルビスオキシ)ビス([1,1’−ビフ
ェニル]−4−カルボン酸)、4’,4''' −(ヘキサ
ン−1,6−ジイルビスオキシ)ビス([1,1’−ビ
フェニル]−4−カルボン酸)、4’,4''' −(ヘプ
タン−1,7−ジイルビスオキシ)ビス([1,1’−
ビフェニル]−4−カルボン酸)、4’,4''' −(オ
クタン−1,8−ジイルビスオキシ)ビス([1,1’
−ビフェニル]−4−カルボン酸)、4’,4''' −
(ノナン−1,9−ジイルビスオキシ)ビス([1,
1’−ビフェニル]−4−カルボン酸)、4’,4'''
−(デカン−1,10−ジイルビスオキシ)ビス
([1,1’−ビフェニル]−4−カルボン酸)、
4’,4''' −(ウンデカン−1,11−ジイルビスオ
キシ)ビス([1,1’−ビフェニル]−4−カルボン
酸)、4’,4'''−(ドデカン−1,12−ジイルビ
スオキシ)ビス([1,1’−ビフェニル]−4−カル
ボン酸)、4’,4''' −(ベンゼン−1,4−ジイル
ビスオキシ)ビス([1,1’−ビフェニル]−4−カ
ルボン酸)、4’,4''' −(ベンゼン−1,4−ジメ
チル−α.α’−ジイルビスオキシ)ビス([1,1’
−ビフェニル]−4−カルボン酸)、4’,4''' −
(シクロヘキサン−1,4−ジメチル−α,α’−ジイ
ルビスオキシ)ビス([1,1’−ビフェニル]−4−
カルボン酸)などを挙げることができる。
Specific examples thereof include 4,4 '-(ethane-1,2-diylbisoxy) bisbenzoic acid and 4,4'-(ethane-1,2-diylbisoxy) bisbenzoic acid.
4 '-(propane-1,3-diylbisoxy) bisbenzoic acid, 4,4'-(butane-1,4-diylbisoxy) bisbenzoic acid, 4,4 '-(pentane-1,5- Diylbisoxy) bisbenzoic acid, 4,4 ′-(hexane-1,6-diylbisoxy) bisbenzoic acid, 4,4 ′
-(Heptane-1,7-diylbisoxy) bisbenzoic acid, 4,4 '-(octane-1,8-diylbisoxy) bisbenzoic acid, 4,4'-(nonane-1,9-diylbis Oxy) bisbenzoic acid, 4,4 ′-(decane-
1,10-diylbisoxy) bisbenzoic acid, 4,4 ′
-(Undecane-1,11-diylbisoxy) bisbenzoic acid, 4,4 '-(dodecane-1,12-diylbisoxy) bisbenzoic acid, 4,4'-(benzene-1,4)
-Diylbisoxy) bisbenzoic acid, 4,4 '-(benzene-1,4-dimethyl-α, α'-diylbisoxy) bisbenzoic acid, 4,4'-(cyclohexane-1,
4-Dimethyl-α, α′-diylbisoxy) bisbenzoic acid, 6,6 ′-(ethane-1,2-diylbisoxy) bis (2-naphthoic acid), 6,6 ′-(propane-
1,3-diylbisoxy) bis (2-naphthoic acid),
6,6 '-(butane-1,4-diylbisoxy) bis (2-naphthoic acid), 6,6'-(pentane-1,5-
Diylbisoxy) bis (2-naphthoic acid), 6,6 '
-(Hexane-1,6-diylbisoxy) bis (2-
Naphthoic acid), 6,6 ′-(heptane-1,7-diylbisoxy) bis (2-naphthoic acid), 6,6 ′-(octane-1,8-diylbisoxy) bis (2-naphthoic acid) ), 6,6 ′-(nonane-1,9-diylbisoxy) bis (2-naphthoic acid), 6,6 ′-(decane-)
1,10-diylbisoxy) bis (2-naphthoic acid), 6,6 '-(undecane-1,11-diylbisoxy) bis (2-naphthoic acid), 6,6'-(dodecane-1, 12-diylbisoxy) bis (2-naphthoic acid), 6,6 '-(benzene-1,4-diylbisoxy) bis (2-naphthoic acid), 6,6'-(benzene-
1,4-dimethyl-α, α′-diylbisoxy) bis (2-naphthoic acid), 6,6 ′-(cyclohexane-
1,4-dimethyl-α, α′-diylbisoxy) bis (2-naphthoic acid), 4 ′, 4 ″ ′-(ethane-1,2)
-Diylbisoxy) bis ([1,1'-biphenyl]
-4-carboxylic acid), 4 ', 4'''-(propane-1,
3-diylbisoxy) bis ([1,1′-biphenyl] -4-carboxylic acid), 4 ′, 4 ′ ″-(butane-
1,4-diylbisoxy) bis ([1,1′-biphenyl] -4-carboxylic acid), 4 ′, 4 ′ ″-(pentane-1,5-diylbisoxy) bis ([1,1 '-Biphenyl] -4-carboxylic acid), 4', 4 '''-(hexane-1,6-diylbisoxy) bis ([1,1'-biphenyl] -4-carboxylic acid), 4', 4 '''-(heptane-1,7-diylbisoxy) bis ([1,1'-
Biphenyl] -4-carboxylic acid), 4 ′, 4 ′ ″-(octane-1,8-diylbisoxy) bis ([1,1 ′
-Biphenyl] -4-carboxylic acid), 4 ', 4'''-
(Nonane-1,9-diylbisoxy) bis ([1,
1'-biphenyl] -4-carboxylic acid), 4 ', 4'''
-(Decane-1,10-diylbisoxy) bis ([1,1'-biphenyl] -4-carboxylic acid),
4 ', 4'"-(Undecane-1,11-diylbisoxy) bis ([1,1'-biphenyl] -4-carboxylic acid), 4 ', 4"'-(dodecane-1,12 -Diylbisoxy) bis ([1,1'-biphenyl] -4-carboxylic acid), 4 ', 4'"-(benzene-1,4-diylbisoxy) bis ([1,1'-biphenyl ] -4-Carboxylic acid), 4 ′, 4 ′ ″-(benzene-1,4-dimethyl-α.α′-diylbisoxy) bis ([1,1 ′
-Biphenyl] -4-carboxylic acid), 4 ', 4'''-
(Cyclohexane-1,4-dimethyl-α, α′-diylbisoxy) bis ([1,1′-biphenyl] -4-
Carboxylic acid) and the like.

【0023】また、ジエチレングリコール、トリエチレ
ングリコール、テトラエチレングリコールなどの2個の
末端ヒドロキシ基をヒドロキシ安息香酸、ヒドロキシナ
フトエ酸、ヒドロキシ[1,1’−ビフェニル]カルボ
ン酸などのヒドロキシ基とエーテル結合を形成させて得
られる化合物も使用できる。さらにこれら安息香酸、ナ
フトエ酸、[1,1’−ビフェニル]カルボン酸基を含
む二官能性カルボン酸では、両側が、例えば片方が安息
香酸基、もう片方がナフトエ酸基のように異なった化合
物も使用できる。
Further, two terminal hydroxy groups such as diethylene glycol, triethylene glycol and tetraethylene glycol are combined with a hydroxy group such as hydroxybenzoic acid, hydroxynaphthoic acid and hydroxy [1,1'-biphenyl] carboxylic acid to form an ether bond. Compounds obtained by forming can also be used. Furthermore, in these bifunctional carboxylic acids containing benzoic acid, naphthoic acid and [1,1′-biphenyl] carboxylic acid group, different compounds such as benzoic acid group on one side and naphthoic acid group on the other side are used. Can also be used.

【0024】さらに一分子中に3個以上のカルボン酸基
を持つ化合物も用いることができる。それらの例として
は、ベンゼン−1,3,5−トリカルボン酸、4,
4’,4''−(プロパン−1,2,3−トリイルトリス
オキシ)トリス(安息香酸)などを挙げることができ
る。
Further, a compound having three or more carboxylic acid groups in one molecule can also be used. Examples of these are benzene-1,3,5-tricarboxylic acid, 4,
4 ′, 4 ″-(propane-1,2,3-triyltrisoxy) tris (benzoic acid) and the like can be mentioned.

【0025】本発明では上記の如きカルボン酸化合物を
複数種用いて、ディスコゲンの置換部位のいずれかに結
合したディスコティック液晶材料を得る。複数種のカル
ボン酸化合物の組み合わせとして、一官能性カルボン酸
化合物の組み合わせとしては、 (1)安息息香酸誘導体 + ナフトエ酸誘導体 (2)安息香酸誘導体 + [1,1’−ビフェニル]
カルボン酸誘導体 (3)安息香酸誘導体 + 桂皮酸誘導体 (4)ナフトエ酸誘導体 + 桂皮酸誘導体 (5)ナフトエ酸誘導体 + [1,1’−ビフェニ
ル]カルボン酸誘導体 (6)桂皮酸誘導体 + [1,1’−ビフェニル]カ
ルボン酸誘導体 (7)安息香酸誘導体 + ナフトエ酸誘導体 + 桂
皮酸誘導体 (8)安息香酸誘導体 + [1,1’−ビフェニル]
カルボン酸誘導体 +桂皮酸誘導体 (9)安息香酸誘導体 + ナフトエ酸誘導体 +
[1,1’−ビフェニル]カルボン酸誘導体 (10)安息香酸誘導体 + アルカン酸 (11)安息香酸誘導体 + アルケン酸 (12)アルカン酸 + ナフトエ酸誘導体 (13)アルケン酸 + ナフトエ酸誘導体 (14)複数種の安息香酸誘導体 (15)複数種のナフトエ酸誘導体 (16)複数種の[1,1’−ビフェニル]カルボン酸誘
導体 (17)複数種の桂皮酸誘導体 などを挙げることができる。
In the present invention, a plurality of kinds of carboxylic acid compounds as described above are used to obtain a discotic liquid crystal material bonded to any of the discogen substitution sites. As a combination of plural kinds of carboxylic acid compounds, as a combination of monofunctional carboxylic acid compounds, (1) benzoic acid derivative + naphthoic acid derivative (2) benzoic acid derivative + [1,1′-biphenyl]
Carboxylic acid derivative (3) Benzoic acid derivative + Cinnamic acid derivative (4) Naphthoic acid derivative + Cinnamic acid derivative (5) Naphthoic acid derivative + [1,1'-biphenyl] carboxylic acid derivative (6) Cinnamic acid derivative + [1 , 1'-Biphenyl] carboxylic acid derivative (7) Benzoic acid derivative + Naphthoic acid derivative + Cinnamic acid derivative (8) Benzoic acid derivative + [1,1'-biphenyl]
Carboxylic acid derivative + Cinnamic acid derivative (9) Benzoic acid derivative + Naphthoic acid derivative +
[1,1'-Biphenyl] carboxylic acid derivative (10) Benzoic acid derivative + alkanoic acid (11) Benzoic acid derivative + Alkenic acid (12) Alkanoic acid + Naphthoic acid derivative (13) Alkenic acid + Naphthoic acid derivative (14) Examples include plural kinds of benzoic acid derivatives (15) plural kinds of naphthoic acid derivatives (16) plural kinds of [1,1′-biphenyl] carboxylic acid derivatives (17) plural kinds of cinnamic acid derivatives.

【0026】また一官能性カルボン酸化合物と多官能性
カルボン酸化合物との組み合わせとしては、 (1)炭素数6から30のジカルボン酸誘導体 + 安
息香酸誘導体 (2)炭素数6から30のジカルボン酸誘導体 + ナ
フトエ酸誘導体 (3)炭素数6から30のジカルボン酸誘導体 + 安
息香酸誘導体 + ナフトエ酸誘導体 (4)炭素数6から30のジカルボン酸誘導体 + 桂
皮酸誘導体 (5)炭素数6から30のジカルボン酸誘導体 + 桂
皮酸誘導体 + 安息香酸誘導体 (6)炭素数6から30のジカルボン酸誘導体 + 桂
皮酸誘導体 + 安息香酸誘導体 + ナフトエ酸誘導
体 (7)炭素数6から30のジカルボン酸誘導体 +
[1,1’−ビフェニル]カルボン酸誘導体 (8)炭素数6から30のジカルボン酸誘導体 +
[1,1’−ビフェニル]カルボン酸誘導体 + 安息
香酸誘導体 (9)炭素数6から30のジカルボン酸誘導体 +
[1,1’−ビフェニル]カルボン酸誘導体 + ナフ
トエ酸誘導体 (10)炭素数6から30のジカルボン酸誘導体 +
[1,1’−ビフェニル]カルボン酸誘導体 + 安息
香酸誘導体 + ナフトエ酸誘導体 (11)炭素数6から30のジカルボン酸誘導体 +
[1,1’−ビフェニル]カルボン酸誘導体 + 桂皮
酸誘導体 (12)安息香酸基2個により、C2〜C20の有機基が
挟まれた形のジカルボン酸誘導体 + 安息香酸誘導体
+ ナフトエ酸誘導体 (13)安息香酸基2個により、C2〜C20の有機基が
挟まれた形のジカルボン酸誘導体 + 安息香酸誘導体
+ [1,1’−ビフェニル]カルボン酸誘導体 (14)安息香酸基2個により、C2〜C20の有機基が
挟まれた形のジカルボン酸誘導体 + 安息香酸誘導体
+ ナフトエ酸誘導体 + [1,1’−ビフェニ
ル]カルボン酸誘導体 (15)安息香酸基2個により、C2〜C20の有機基が
挟まれた形のジカルボン酸誘導体 + 安息香酸誘導体
+ ナフトエ酸誘導体 + [1,1’−ビフェニ
ル]カルボン酸誘導体 (16)安息香酸基2個により、C2〜C20の有機基が
挟まれた形のジカルボン酸誘導体 + 安息香酸誘導体
+ ナフトエ酸誘導体 + [1,1’−ビフェニ
ル]カルボン酸誘導体 + アルカン酸 (17) ナフトエ酸基2個により、C2〜C20の有機基
が挟まれた形のジカルボン誘導体 + 安息香酸誘導体
+ ナフトエ酸誘導体 (18)ナフトエ酸基2個により、C2〜C20の有機基
が挟まれた形のジカルボン誘導体 + 安息香酸誘導体
+ [1,1’−ビフェニル]カルボン酸誘導体 (19) ナフトエ酸基2個により、C2〜C20の有機基
が挟まれた形のジカルボン誘導体 + 安息香酸誘導体
+ ナフトエ酸誘導体 + [1,1’−ビフェニ
ル]カルボン酸誘導体 (20)[1,1’−ビフェニル]カルボン酸基2個によ
り、C2〜C20の有機基が挟まれた形のジカルボン酸
誘導体 + 安息香酸誘導体 (21)[1,1’−ビフェニル]カルボン酸基2個によ
り、C2〜C20の有機基が挟まれた形のジカルボン酸
誘導体 + ナフトエ酸誘導体 (22)[1,1’−ビフェニル]カルボン酸基2個によ
り、C2〜C20の有機基が挟まれた形のジカルボン酸
誘導体 + 安息香酸誘導体 + ナフトエ酸誘導体 (23)[1,1’−ビフェニル]カルボン酸基2個によ
り、C2〜C20の有機基が挟まれた形のジカルボン酸
誘導体 + 桂皮酸誘導体 + ナフトエ酸誘導体 (24)[1,1’−ビフェニル]カルボン酸基2個によ
り、C2〜C20の有機基が挟まれた形のジカルボン酸
誘導体 + 桂皮酸誘導体 + 安息香酸誘導体 などを挙げることができる。
Further, the combination of the monofunctional carboxylic acid compound and the polyfunctional carboxylic acid compound includes (1) a dicarboxylic acid derivative having 6 to 30 carbon atoms + a benzoic acid derivative (2) a dicarboxylic acid having 6 to 30 carbon atoms Derivative + naphthoic acid derivative (3) C6 to C30 dicarboxylic acid derivative + benzoic acid derivative + naphthoic acid derivative (4) C6 to C30 dicarboxylic acid derivative + cinnamic acid derivative (5) C6 to C30 Dicarboxylic acid derivative + cinnamic acid derivative + benzoic acid derivative (6) C6 to C30 dicarboxylic acid derivative + cinnamic acid derivative + benzoic acid derivative + naphthoic acid derivative (7) C6 to C30 dicarboxylic acid derivative +
[1,1′-Biphenyl] carboxylic acid derivative (8) Dicarboxylic acid derivative having 6 to 30 carbon atoms +
[1,1'-Biphenyl] carboxylic acid derivative + benzoic acid derivative (9) Dicarboxylic acid derivative having 6 to 30 carbon atoms +
[1,1'-Biphenyl] carboxylic acid derivative + naphthoic acid derivative (10) Dicarboxylic acid derivative having 6 to 30 carbon atoms +
[1,1'-Biphenyl] carboxylic acid derivative + benzoic acid derivative + naphthoic acid derivative (11) Dicarboxylic acid derivative having 6 to 30 carbon atoms +
[1,1'-Biphenyl] carboxylic acid derivative + cinnamic acid derivative (12) Dicarboxylic acid derivative + benzoic acid derivative + naphthoic acid derivative in which C2-C20 organic groups are sandwiched by two benzoic acid groups (13) ) A dicarboxylic acid derivative in which a C2-C20 organic group is sandwiched by two benzoic acid groups + a benzoic acid derivative + [1,1'-biphenyl] carboxylic acid derivative (14) C2 is formed by two benzoic acid groups. To C20 organic group sandwiched between dicarboxylic acid derivatives + benzoic acid derivatives + naphthoic acid derivatives + [1,1'-biphenyl] carboxylic acid derivatives (15) Two benzoic acid groups form C2 to C20 organic groups Dicarboxylic acid derivative sandwiched between + benzoic acid derivative + naphthoic acid derivative + [1,1'-biphenyl] carboxylic acid derivative (16) C2-C2 depending on two benzoic acid groups Dicarboxylic acid derivative in which organic groups are sandwiched + Benzoic acid derivative + Naphthoic acid derivative + [1,1'-biphenyl] carboxylic acid derivative + Alkanoic acid (17) C2-C20 organic group by two naphthoic acid groups Dicarboxylic derivative in which group is sandwiched + Benzoic acid derivative + Naphthoic acid derivative (18) Dicarboxylic derivative in which C2 to C20 organic group is sandwiched by two naphthoic acid groups + Benzoic acid derivative + [1,1 '-Biphenyl] carboxylic acid derivative (19) Dicarboxylic derivative in which C2-C20 organic group is sandwiched by two naphthoic acid groups + benzoic acid derivative + naphthoic acid derivative + [1,1'-biphenyl] carboxylic acid Derivative (20) Dicarboxylic acid derivative in which C2 to C20 organic group is sandwiched by two [1,1'-biphenyl] carboxylic acid groups + benzoic acid derivative (21) Dicarboxylic acid derivative in which C2-C20 organic group is sandwiched by two [1,1'-biphenyl] carboxylic acid groups + naphthoic acid derivative (22) [1,1'-biphenyl] carboxylic acid A dicarboxylic acid derivative in which a C2-C20 organic group is sandwiched by two groups + a benzoic acid derivative + a naphthoic acid derivative (23) [2, 1,1'-biphenyl] carboxylic acid Dicarboxylic acid derivative in which organic group is sandwiched + cinnamic acid derivative + naphthoic acid derivative (24) [1,1′-biphenyl] dicarboxylic acid derivative in which C2 to C20 organic group is sandwiched by two carboxylic acid groups Examples thereof include acid derivatives + cinnamic acid derivatives + benzoic acid derivatives.

【0027】本発明の製造方法によれば、ディスコティ
ック液晶材料の相転移温度、該液晶材料の液晶状態にお
ける分子の配向形態などの特性は、組合せるべき平面状
縮合環化合物および/またはカルボン酸化合物を種々選
択することによって調節することができる。また後に説
明する反応条件によっても、所望の相転移温度を有する
反応生成物、すなわちディスコティック液晶材料を得る
ことが可能である。
According to the production method of the present invention, the characteristics such as the phase transition temperature of the discotic liquid crystal material and the orientation form of molecules in the liquid crystal state of the liquid crystal material are determined by the planar condensed ring compound and / or carboxylic acid to be combined. It can be adjusted by selecting various compounds. In addition, it is possible to obtain a reaction product having a desired phase transition temperature, that is, a discotic liquid crystal material, also by the reaction conditions described later.

【0028】次に本発明の反応条件について説明する。
本発明の製造方法においては、1分子中に6個以上のフ
ェノール性ヒドロキシル基を有する平面状縮合環化合
物、アセチル化剤およびカルボン酸化合物を反応系に供
する。該反応系内においては、該ヒドロキシ体、アセチ
ル化剤およびカルボン酸化合物を反応器に仕込むことに
より、ヒドロキシ体のアセチル化反応とアセチル基とカ
ルボン酸化合物のカルボキシル基との脱酢酸反応とを1
つの反応容器内で進行させる。
Next, the reaction conditions of the present invention will be described.
In the production method of the present invention, a planar condensed ring compound having 6 or more phenolic hydroxyl groups in one molecule, an acetylating agent and a carboxylic acid compound are supplied to the reaction system. In the reaction system, by charging the hydroxy form, the acetylating agent and the carboxylic acid compound into a reactor, the acetylation reaction of the hydroxy form and the deacetic acid reaction between the acetyl group and the carboxyl group of the carboxylic acid compound can be carried out in one step.
Proceed in one reaction vessel.

【0029】このアセチル化反応の際に用いられるアセ
チル化剤としては、例えばアセチルケテン、ケテン、N
−アセチルイミダゾール、無水酢酸などが挙げられる
が、特に好ましくは無水酢酸である。該アセチル化剤
は、平面状縮合環化合物に含まれるフェノール性ヒドロ
キシル基に対してモル数で通常1.5〜20倍、好まし
くは2〜10倍の量が用いられる。アセチル化反応の反
応温度は、通常50℃〜200℃、好ましくは80℃〜
180℃である。反応時間は、通常10分〜2時間であ
る。
As the acetylating agent used in this acetylation reaction, for example, acetyl ketene, ketene, N
-Acetylimidazole, acetic anhydride and the like can be mentioned, but acetic anhydride is particularly preferable. The acetylating agent is used in an amount of usually 1.5 to 20 times, preferably 2 to 10 times the molar amount of the phenolic hydroxyl group contained in the planar condensed ring compound. The reaction temperature of the acetylation reaction is usually 50 ° C to 200 ° C, preferably 80 ° C to
It is 180 ° C. The reaction time is usually 10 minutes to 2 hours.

【0030】次いで、上記条件にて得られた平面状縮合
環化合物のアセチル化物とカルボン酸化合物の反応につ
いて説明する。脱反応は、理論的には、該アセチル化物
に含まれるアセチル基のモル数と、カルボン酸化合物に
含まれるカルボキシル基のモル数との比が1となるよう
に仕込みモル比を設定する。しかしながら、現実の操作
では、必ずしも正確にモル比を1にする必要はなく、通
常、0.80〜1.20、好ましくは0.95〜1.0
5の比となるように設定する。例えば、反応中に置換基
部分の原料、すなわちカルボン酸化合物が昇華などによ
り反応系外に飛散する恐れのある場合にはカルボン酸を
若干多めにしても何ら差し支えない。なおカルボン酸化
合物を多く用いすぎると、未反応カルボン酸化合物が多
量に反応生成物中に残り、液晶性に悪影響を及ぼす場合
がある。一方、平面状縮合環化合物の置換部位に、カル
ボン酸化合物をすべて置換する必要のない場合には、置
換基部分を少なめに用いることができるということはい
うまでもない。以上のことから、本発明の製造方法で
は、平面状縮合環化合物に対して過剰の置換基となるカ
ルボン酸化合物を必要としないので、未反応のカルボン
酸化合物を除去するなどの精製工程は必ずしも必要とし
ない。
Next, the reaction between the acetylated compound of the planar condensed ring compound obtained under the above conditions and the carboxylic acid compound will be described. In the dereaction, theoretically, the charging molar ratio is set so that the ratio of the number of moles of acetyl groups contained in the acetylated compound to the number of moles of carboxyl groups contained in the carboxylic acid compound is 1. However, in actual operation, it is not always necessary to accurately set the molar ratio to 1, and usually 0.80 to 1.20, preferably 0.95 to 1.0.
The ratio is set to 5. For example, if the raw material of the substituent, that is, the carboxylic acid compound may be scattered out of the reaction system during the reaction due to sublimation or the like, the carboxylic acid may be increased a little. When too much carboxylic acid compound is used, a large amount of unreacted carboxylic acid compound remains in the reaction product, which may adversely affect liquid crystallinity. On the other hand, needless to say, when it is not necessary to completely substitute the carboxylic acid compound at the substitution site of the planar condensed ring compound, a small amount of the substituent group can be used. From the above, the production method of the present invention does not require a carboxylic acid compound serving as an excessive substituent with respect to the planar condensed ring compound, and therefore a purification step such as removal of unreacted carboxylic acid compound is not always required. do not need.

【0031】上記反応における反応温度は、通常200
℃〜300℃、好ましくは220℃〜280℃に設定さ
れる。反応温度が低すぎると反応速度が著しく遅くなり
好ましくない。一方温度が高すぎると分解が進行し、液
晶性あるいは色相を悪化させる恐れがあり望ましくな
い。なお本発明においては、通常上述において説明し
た、1分子中に6個以上のフェノール性ヒドロキシル基
を有する平面状縮合環化合物、カルボン酸化合物および
アセチル化剤の原料の仕込みを室温で行うことが望まし
い。
The reaction temperature in the above reaction is usually 200.
C. to 300.degree. C., preferably 220.degree. C. to 280.degree. If the reaction temperature is too low, the reaction rate becomes extremely slow, which is not preferable. On the other hand, if the temperature is too high, the decomposition proceeds, which may deteriorate the liquid crystallinity or the hue, which is not desirable. In the present invention, it is generally desirable to charge the raw materials of the planar condensed ring compound having 6 or more phenolic hydroxyl groups in one molecule, the carboxylic acid compound and the acetylating agent as described above at room temperature. .

【0032】本発明の液晶表示素子用補償板の製造方法
に供される反応生成物、すなわちディスコティック液晶
材料を得るにあたって、通常、反応中に圧力を調節する
必要はないが原料の留出あるいは昇華が著しい場合な
ど、必要であれば1気圧以上の圧力雰囲気下で実施する
こともできる。一方、反応中に副生する酢酸などの留出
を促進する必要がある場合には、減圧下に実施すること
もできる。さらに、該酢酸などの留出を促進するため窒
素などの不活性ガスを流しながら反応を行うことも可能
である。一般に縮合反応の初期には、低分子量で留出ま
たは昇華しやすい成分が多く存在する。従ってこの時間
帯においては、減圧条件下または不活性ガス気流下など
の操作は避けるべきである。一方、反応後期、具体的に
は全反応時間中の後期1/3〜9/10、好ましくは1
/2〜4/5程度の時間においては、副生する酢酸の留
出を促進させると共に、所望の液晶転移点を有するディ
スコティック液晶材料を得る目的で、減圧あるいは不活
性ガス気流下で反応を行うことが好ましい。この操作を
行うことにより、液晶転移転を上昇させることができ
る。なお、全反応時間とは後記にて具体的に説明する
が、平面状縮合環化合物、カルボン酸化合物およびアセ
チル化剤を反応器内に供してから反応終了時点までを意
味する。この際不活性ガスとしては、得られる液晶材料
に悪影響を及ぼさないものであれば特に限定されない
が、具体的にはヘリウム、アルゴン、メタン、窒素、二
酸化炭素などを挙げることができるが、この中でも窒素
が好ましく使用される。不活性ガスの流速は、脱酢酸反
応を阻害しない範囲であれば特に制限されないが、通常
〔流速(ml/分)÷反応器容量(リットル)〕の値と
して、10〜1000、好ましくは30〜300であ
る。本発明では、この操作によってディスコティック液
晶材料の相転移温度を調節することができる。
In obtaining a reaction product, ie, a discotic liquid crystal material, which is used in the method for producing a compensating plate for a liquid crystal display device of the present invention, it is usually unnecessary to adjust the pressure during the reaction, but distilling of raw materials or If necessary, for example, when sublimation is remarkable, it can be carried out under a pressure atmosphere of 1 atm or more. On the other hand, when it is necessary to accelerate the distillation of acetic acid and the like produced as a by-product during the reaction, it can be carried out under reduced pressure. Furthermore, it is possible to carry out the reaction while flowing an inert gas such as nitrogen in order to accelerate the distillation of the acetic acid and the like. Generally, in the initial stage of the condensation reaction, there are many components having a low molecular weight and easily distilled or sublimated. Therefore, during this time period, operations under reduced pressure or under an inert gas stream should be avoided. On the other hand, the latter half of the reaction, specifically, the latter half of the whole reaction time 1/3 to 9/10, preferably 1
/ 2 to 4/5, the reaction is performed under reduced pressure or under an inert gas stream for the purpose of promoting the distillation of acetic acid by-produced and obtaining a discotic liquid crystal material having a desired liquid crystal transition point. It is preferable to carry out. By performing this operation, the liquid crystal transition rate can be increased. The total reaction time, which will be specifically described later, means the period from the time when the planar condensed ring compound, the carboxylic acid compound and the acetylating agent are provided in the reactor to the end of the reaction. At this time, the inert gas is not particularly limited as long as it does not adversely affect the obtained liquid crystal material, and specific examples thereof include helium, argon, methane, nitrogen and carbon dioxide. Nitrogen is preferably used. The flow rate of the inert gas is not particularly limited as long as it does not hinder the deacetic acid reaction, but is usually 10 to 1000, preferably 30 to 1000 as a value of [flow rate (ml / min) ÷ reactor capacity (liter)]. It is 300. In the present invention, this operation can adjust the phase transition temperature of the discotic liquid crystal material.

【0033】全反応時間は、通常1時間〜48時間、好
ましくは3時間〜24時間である。反応時間が短いと十
分な液晶性が得られない恐れがある。一方反応時間が長
すぎると生成物の分解が進行し、色相などに悪影響を及
ぼす恐れがあるので望ましくない。
The total reaction time is usually 1 hour to 48 hours, preferably 3 hours to 24 hours. If the reaction time is short, sufficient liquid crystallinity may not be obtained. On the other hand, if the reaction time is too long, the decomposition of the product proceeds, which may adversely affect the hue and the like, which is not desirable.

【0034】本発明の製造方法において、使用される反
応器の材質に特に制限はないが、副生する酢酸により腐
食を受けないことが必要であり、一般にはガラス製反応
器、ステンレス製反応器、ハステロイ製反応器、ガラ
ス、チタン、金、銀、テフロンなどによりライニングし
た反応器などが好適に用いられる。本発明の製造方法で
は、溶媒を必要としないで光学材料に適したディスコテ
ィック液晶材料を容易に得ることができる。
In the production method of the present invention, the material of the reactor used is not particularly limited, but it is necessary that it is not corroded by acetic acid produced as a by-product, and is generally a glass reactor or a stainless reactor. A Hastelloy reactor, a reactor lined with glass, titanium, gold, silver, Teflon, or the like is preferably used. According to the manufacturing method of the present invention, a discotic liquid crystal material suitable for an optical material can be easily obtained without using a solvent.

【0035】本発明の液晶表示素子用補償板の製造方法
に供される反応生成物、すなわちディスコティック液晶
材料を得るには、ある一個のディスコゲンの特定の位置
に特定の置換基を導入するというような高度な選択性制
御を行う必要は全くない。本発明の製造方法では、ディ
スコゲン部分を与える平面状縮合環化合物と側鎖部分を
与える複数のカルボン酸化合物とを一つの反応容器内で
同時に反応を進行させ、光学素子材料に適したディスコ
ティック液晶材料を得ることができる。この際、複数の
ディスコゲン部分を与える該化合物を使用することもも
ちろん可能であり、これと置換基部分を与える複数種の
カルボン酸化合物を混合して反応に供しても何ら問題な
い。もちろんこの場合得られるディスコティック液晶材
料は、多様な置換基分布のディスコティック液晶化合物
の組成物が反応生成物として得られるが、光学材料とし
て用いる場合、液晶相からの結晶相への転移が起こって
は望ましくない。その点で、例えば分子の対称性を低下
させるなど、上記のごとき多種類の置換基を用いること
は非常に好ましい態様である。さらに、反応条件または
仕込み原料が異なる反応生成物を複数種混合して、ディ
スコティック液晶材料として用いることも全く差し支え
ない。
In order to obtain a reaction product, ie, a discotic liquid crystal material, which is used in the method for producing a compensating plate for a liquid crystal display device of the present invention, a specific substituent is introduced into a specific position of one discogen. There is no need to perform such advanced selectivity control. In the production method of the present invention, a planar fused ring compound that provides a discogen moiety and a plurality of carboxylic acid compounds that provide side chain moieties are simultaneously allowed to proceed in a single reaction vessel to prepare a discotic material suitable for optical element materials. A liquid crystal material can be obtained. In this case, it is of course possible to use the compound which gives a plurality of discogen moieties, and there is no problem even if the compound is mixed with a plurality of carboxylic acid compounds which give a substituent moiety for use in the reaction. Of course, in this case, the discotic liquid crystal material obtained in this case is a composition of discotic liquid crystal compounds having various substituent distributions as a reaction product, but when used as an optical material, a transition from a liquid crystal phase to a crystalline phase occurs. Is not desirable. In that respect, it is a very preferable embodiment to use various kinds of substituents as described above, for example, to reduce the symmetry of the molecule. Furthermore, there is no problem in mixing a plurality of reaction products having different reaction conditions or charged raw materials and using them as discotic liquid crystal materials.

【0036】以上、ディスコティック液晶材料の製造方
法を詳細に説明したが、本発明の製造方法により得られ
たディスコティック液晶材料は光学材料として使用する
場合、さらに精製する必要はないが、必要であれば再沈
あるいはクロマトグラフィーなどの方法で精製すること
もできる。
The method for producing the discotic liquid crystal material has been described above in detail. When the discotic liquid crystal material obtained by the production method of the present invention is used as an optical material, it need not be further purified, but it is necessary. If so, it can be purified by a method such as reprecipitation or chromatography.

【0037】次いで、本発明の液晶表示素子用補償板の
製造方法について説明する。本発明の液晶表示素子用補
償板は、上述の如くして得られたディスコティック液晶
材料を配向基板上に塗布し、次いで熱処理、冷却するこ
とにより製造される。配向基板としては、配向能、要求
される耐熱性、耐溶剤性、用いるディスコティック液晶
の種類と性質によって異なるため一概には言えないが、
用いられる配向基板の代表例としては、アルミニウム、
鉄、鋼などの金属板、陶磁器製の板、ほうろう板、ガラ
スなどのシート状あるいは板状の基板の上に、公知の処
方により得られる例えばラビング処理したポリイミド
膜、ポリビニルアルコール膜、または酸化珪素の斜め蒸
着膜などの配向能を付与した配向膜を有するものが挙げ
られる。また他の例としては、ポリイミド、ポリアミド
イミド、ポリエーテルイミド、ポリアミド、ポリエーテ
ルエーテルケトン、ポリエーテルケトン、ポリケトンサ
ルファイド、ポリエーテルスルフォン、ポリスルフォ
ン、ポリフェニレンサルファイド、ポリフェニレンオキ
サイド、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテ
レフタレート、ポリアセタール、ポリカーボネート、ア
クリル樹脂、ポリビニルアルコール、セルロース系プラ
スチックス、エポキシ樹脂、フェノール樹脂などのプラ
スチックスフィルムまたはシート表面に、ラビング処理
したポリイミド膜、ポリビニルアルコール膜、または酸
化珪素の斜め蒸着膜などの配向能を付与した配向膜を有
する基板があげられる。また、これらのプラスチックフ
ィルム表面を直接ラビング処理した配向基板などを挙げ
ることができる。またこれらのプラスチックスフィルム
またはシートのうち、結晶性の高いものについては1軸
延伸するだけでディスコティック液晶の配向能をもつも
のもあり、それらについては直接ラビング処理またはラ
ビングポリイミド膜などの配向膜が必要なく、そのまま
配向基板として用いることができる。具体的にはポリイ
ミド、ポリエーテルイミド、ポリエーテルエーテルケト
ン、ポリエーテルケトン、ポリフェニレンサルファイ
ド、ポリエチレンテレフタレートなどを挙げることがで
きる。
Next, a method of manufacturing the compensating plate for a liquid crystal display device of the present invention will be described. The compensating plate for a liquid crystal display device of the present invention is manufactured by applying the discotic liquid crystal material obtained as described above on an alignment substrate, followed by heat treatment and cooling. As the alignment substrate, the alignment ability, required heat resistance, solvent resistance, and the type and properties of the discotic liquid crystal to be used are different, so it cannot be generally stated.
Typical examples of the oriented substrate used include aluminum,
A metal plate such as iron or steel, a plate made of ceramics, an enamel plate, a sheet-shaped or plate-shaped substrate such as glass, and obtained by a known formulation, for example, a rubbed polyimide film, polyvinyl alcohol film, or silicon oxide. Examples thereof include those having an alignment film having an alignment ability such as the obliquely vapor-deposited film. Further, as other examples, polyimide, polyamide imide, polyether imide, polyamide, polyether ether ketone, polyether ketone, polyketone sulfide, polyether sulfone, polysulfone, polyphenylene sulfide, polyphenylene oxide, polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, Polyacetal, polycarbonate, acrylic resin, polyvinyl alcohol, cellulosic plastics, epoxy resin, phenol resin and other plastics film or sheet surface, rubbing-treated polyimide film, polyvinyl alcohol film, or silicon dioxide oblique vapor deposition film orientation An example of the substrate is a substrate having an orientation film having a function. In addition, an oriented substrate in which the surface of these plastic films is directly rubbed may be used. Of these plastics films or sheets, those with high crystallinity may have the ability to orientate discotic liquid crystals only by uniaxially stretching them, and for those, direct rubbing treatment or orientation film such as rubbing polyimide film. Can be used as it is as an alignment substrate. Specific examples include polyimide, polyetherimide, polyetheretherketone, polyetherketone, polyphenylene sulfide, polyethylene terephthalate, and the like.

【0038】これらの配向基板上にディスコティック液
晶材料を塗布、熱処理、冷却することにより、液晶状態
における配向形態を損なうことなく固定化された薄膜
(補償板)を配向基板上に形成する。
By coating, heat-treating and cooling a discotic liquid crystal material on these alignment substrates, a fixed thin film (compensation plate) is formed on the alignment substrates without impairing the alignment form in the liquid crystal state.

【0039】ディスコティック液晶材料を配向基板上に
塗布するには、該材料を溶融させて塗布する溶融塗布、
および溶媒に該材料を溶解して塗布する溶液塗布とがあ
る。本発明では製造プロセス上溶液塗布が望ましい。
To apply the discotic liquid crystal material onto the alignment substrate, the material is melted and applied by melt coating,
And solution coating in which the material is dissolved and applied in a solvent. In the present invention, solution coating is desirable in the manufacturing process.

【0040】溶液塗布の際の溶媒としては、ディスコテ
ィック液晶材料の種類にもよるが、通常、クロロホル
ム、ジクロロメタン、四塩化炭素、ジクロロエタン、テ
トラクロロエタン、トリクロロエチレン、テトラクロロ
エチレン、クロロベンゼン、オルソジクロロベンゼンな
どのハロゲン化炭化水素類、フェノール、パラクロロフ
ェノールなどのフェノール類、ベンゼン、トルエン、キ
シレン、エチルベンゼン、メトキシベンゼン、1,2−
ジメトキシベンゼンなどの芳香族炭化水素類、アセト
ン、メチルエチルケトン、酢酸エチル、tert−ブチ
ルアルコール、グリセリン、エチレングリコール、トリ
エチレングリコール、ヘキシレングリコール、エチレン
グリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコール
ジメチルエーテル、エチルセルソルブ、ブチルセルソル
ブ、γ−ブチロラクトン、2−ピロリドン、N−メチル
−2−ピロリドン、ピリジン、トリエチルアミン、ジメ
チルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、アセトニト
リル、ブチロニトリル、ジメチルスルホキサイド、二硫
化炭素など、およびこれらの混合溶媒などが用いられ
る。
The solvent used for applying the solution depends on the type of discotic liquid crystal material, but is usually a halogenated substance such as chloroform, dichloromethane, carbon tetrachloride, dichloroethane, tetrachloroethane, trichloroethylene, tetrachloroethylene, chlorobenzene, orthodichlorobenzene. Hydrocarbons, phenols, phenols such as parachlorophenol, benzene, toluene, xylene, ethylbenzene, methoxybenzene, 1,2-
Aromatic hydrocarbons such as dimethoxybenzene, acetone, methyl ethyl ketone, ethyl acetate, tert-butyl alcohol, glycerin, ethylene glycol, triethylene glycol, hexylene glycol, ethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, ethyl cellosolve, butyl cellosolve , Γ-butyrolactone, 2-pyrrolidone, N-methyl-2-pyrrolidone, pyridine, triethylamine, dimethylformamide, dimethylacetamide, acetonitrile, butyronitrile, dimethyl sulfoxide, carbon disulfide, etc., and mixed solvents thereof are used. .

【0041】溶液の濃度は、ディスコティック液晶材料
の溶解性や補償板の膜厚に依存するため一概には言えな
いが、通常1〜60重量%の範囲で使用され、好ましく
は3〜40重量%の範囲で用いる。
The concentration of the solution depends on the solubility of the discotic liquid crystal material and the film thickness of the compensator and cannot be generally stated, but it is usually used in the range of 1 to 60% by weight, preferably 3 to 40% by weight. Used in the range of%.

【0042】塗布方法としては、例えばスピンコート
法、ロールコート法、プリント法、浸漬引き上げ法、カ
ーテンコート法(ダイコート法)などによって、ディス
コティック液晶材料を溶解した溶液を配向基板上に塗布
し塗布膜を形成する。なお本発明の製造方法では、1枚
または2枚の配向基板を利用して該塗布膜を形成するこ
とができる。本発明では通常、1枚の配向基板と空気界
面とを利用して、該塗布膜を形成する方がコスト面、製
造ラインの簡略化において望ましい。
As a coating method, for example, a spin coating method, a roll coating method, a printing method, a dipping and pulling method, a curtain coating method (die coating method) or the like is used to coat the alignment substrate with a solution in which a discotic liquid crystal material is dissolved. Form a film. In the manufacturing method of the present invention, the coating film can be formed by using one or two alignment substrates. In the present invention, it is usually preferable to form the coating film by utilizing one orientation substrate and the air interface in terms of cost and simplification of the production line.

【0043】塗布した後、溶媒を除去し、配向基板上に
膜厚の均一なディスコティック液晶材料の層を形成す
る。溶媒除去条件は特に限定されず、溶媒が概ね除去で
き、該液晶材料の層が流動したり流れ落ちたりしなけれ
ば良い。通常、室温での風乾、ホットプレートでの乾
燥、乾燥炉での乾燥、温風や熱風の吹き付けなどを利用
して溶媒を除去する。
After coating, the solvent is removed and a layer of discotic liquid crystal material having a uniform thickness is formed on the alignment substrate. The conditions for removing the solvent are not particularly limited, as long as the solvent can be almost removed and the layer of the liquid crystal material does not flow or flow down. Usually, the solvent is removed by air drying at room temperature, drying on a hot plate, drying in a drying furnace, or blowing hot or hot air.

【0044】溶媒を除去した後、熱処理によって好まし
くは均一でモノドメインな薄膜を配向基板上に形成す
る。熱処理は、ディスコティック液晶材料の液晶状態で
配向させるか、または一旦液晶相を呈する温度範囲より
もさらに高温の等方性流体状態にした後、液晶相を呈す
る温度範囲にまで温度を下げることにより行う。通常熱
処理温度は、50〜300℃の範囲で行われ、特に10
0〜270℃の範囲が好適である。さらに150〜25
0℃の温度が好適である。配向膜上で液晶状態において
十分な配向を得るために必要な時間は、ディスコティッ
ク液晶材料の種類、分子量などによって異なり、一概に
は言えないが通常5秒〜2時間の範囲、好ましくは10
秒〜40分の範囲、特に好ましくは20秒〜20分の範
囲で行う。5秒より短い場合、ディスコティック液晶材
料層の温度が所定温度まで上がりきらず配向不十分とな
る恐れがある。また、2時間より長い場合には生産性が
低下するのであまり好ましくない。
After removing the solvent, a uniform and mono-domain thin film is preferably formed on the alignment substrate by heat treatment. The heat treatment is performed by aligning in the liquid crystal state of the discotic liquid crystal material, or by bringing the liquid crystal phase into an isotropic fluid state at a temperature higher than the temperature range in which the liquid crystal phase is exhibited, and then lowering the temperature to the temperature range in which the liquid crystal phase is exhibited. To do. The heat treatment temperature is usually in the range of 50 to 300 ° C., especially 10
The range of 0-270 degreeC is suitable. Further 150-25
A temperature of 0 ° C. is preferred. The time required to obtain sufficient alignment in the liquid crystal state on the alignment film varies depending on the type and molecular weight of the discotic liquid crystal material and cannot be generally stated, but is usually in the range of 5 seconds to 2 hours, and preferably 10 seconds.
It is carried out in the range of seconds to 40 minutes, particularly preferably in the range of 20 seconds to 20 minutes. If the time is shorter than 5 seconds, the temperature of the discotic liquid crystal material layer may not reach the predetermined temperature and the orientation may be insufficient. Further, if it is longer than 2 hours, the productivity is lowered, which is not preferable.

【0045】なお、ディスコティック液晶材料を溶融状
態で、配向基板上に塗布した後に熱処理をすることによ
っても、同様の配向形態を得ることができる。また、熱
処理を行いつつディスコティック液晶材料層に電場や磁
場を印加しながら配向させても特に構わない。
A similar alignment form can be obtained by applying a heat treatment after applying the discotic liquid crystal material in a molten state on the alignment substrate. It is also possible to align the discotic liquid crystal material layer while applying an electric field or magnetic field while performing heat treatment.

【0046】こうして得られた配向形態を、次に該液晶
材料のガラス転移点以下の温度に冷却することによっ
て、液晶状態における配向形態を損なわずに固定化でき
る。一般的に、冷却の過程で結晶相が出現する場合、液
晶状態における配向は結晶化にともない破壊されてしま
うが、本発明に用いられるディスコティック液晶材料は
結晶相を全く有しないか、潜在的に結晶相を有していて
も冷却時には結晶相が現れない性質を持ったもの、ある
いは明瞭な結晶転移点および液晶転移点は確認されない
ものの補償素子としての使用温度範囲内においては流動
性がなく、かつ外場や外力を加えても配向形態が変化し
ない、というような性質のものを用いるため、結晶化に
よる配向形態の破壊は起こらない。
By cooling the alignment form thus obtained to a temperature below the glass transition point of the liquid crystal material, the alignment form in the liquid crystal state can be fixed without impairing the alignment form. In general, when a crystal phase appears in the cooling process, the orientation in the liquid crystal state is destroyed along with crystallization, but the discotic liquid crystal material used in the present invention has no crystal phase or has a latent phase. Even if it has a crystalline phase, it has the property that the crystalline phase does not appear on cooling, or no clear crystal transition point or liquid crystal transition point is confirmed, but it has no fluidity within the temperature range used as a compensating element. In addition, since the orientation morphology does not change even when an external field or external force is applied, the orientation morphology is not destroyed by crystallization.

【0047】冷却の条件は、熱処理雰囲気中から室温中
に取り出すだけで均一に固定化することができる。また
空冷、水冷などの強制冷却、徐冷などを行っても何ら差
し支えなく、さらに冷却速度にも特に制限はない。
The cooling condition can be fixed uniformly by only taking out from the heat treatment atmosphere to room temperature. In addition, forced cooling such as air cooling or water cooling or slow cooling may be performed without any limitation, and the cooling rate is not particularly limited.

【0048】熱処理後、冷却することによって得られる
本発明の補償板は、その配向条件、ディスコティック液
晶材料の種類、性質などによってその配向形態が異な
る。配向形態としては、ディスコティック液晶のダイレ
クターが配向基板の法線方向にあるホメオトロピック配
向(図1のa)、該ダイレクターが配向基板の法線方向
から一定角度傾いたチルト配向などの負の一軸性構造
(図1のb)、または該ダイレクターがディスコティッ
ク液晶から成る層の一方の界面付近とそれとは逆の他方
の界面付近とでその角度が異なったハイブリッド配向
(図1のc)などが挙げられる。
The orientation of the compensator of the present invention obtained by cooling after the heat treatment varies depending on the orientation conditions, the type and properties of the discotic liquid crystal material, and the like. As for the alignment form, the director of the discotic liquid crystal has a homeotropic alignment in the normal direction of the alignment substrate (a in FIG. 1), and the director has a negative alignment such as a tilt alignment inclined at a certain angle from the normal direction of the alignment substrate. Uniaxial structure (b in FIG. 1), or a hybrid orientation in which the director has different angles in the vicinity of one interface of the discotic liquid crystal layer and in the vicinity of the other opposite interface (c of FIG. 1). ) And the like.

【0049】本発明におけるディスコティック液晶材料
より成る補償板は、上記のいずれの配向形態を有したも
のでもよく、好ましくは均一でモノドメインなディスコ
ティックネマティック相を示し、かつ液晶状態において
形成した配向形態を該配向形態が損なわれることなく容
易に固定化した補償板であり、さらに好ましくは、均一
でモノドメインなディスコティックネマティック相を示
すとともに液晶状態において補償板の上界面と下界面と
の膜厚方向におけるディスコティック液晶のダイレクタ
ーが、該補償板の上界面付近と下界面付近とでは該補償
板法線と該ダイレクターとのなす角度が異なったハイブ
リッド配向を形成した補償板である。ここでハイブリッ
ド配向とは、単層の薄膜において、該薄膜の両界面、す
なわち配向基板側の薄膜界面付近とそれとは逆の薄膜界
面付近に存在するディスコティック液晶のダイレクター
が、薄膜平面での投影ベクトルが同一方向でありながら
膜厚方向に於ける角度が異なった配向形態を言う。その
膜厚方向における角度範囲は、補償板界面付近に存在す
るディスコティック液晶分子のダイレクターと補償板平
面法線とのなす最小の角度の絶対値、すなわち該液晶分
子のダイレクターと補償板平面における法線とがなす鈍
角側ではない角度(0度以上90度以下の範囲となる角
度)をa度とした際に、[90度−a度]により求めら
れる角度が、該補償板の上面または下面の一方において
は、通常60度以上90度以下の角度をなし、当該面の
反対面においては、通常0度以上50度以下である。よ
り好ましくは一方の角度の絶対値が80度以上90度以
下、他方の角度の絶対値が0度以上30度以下である。
The compensator made of the discotic liquid crystal material according to the present invention may have any of the above-mentioned alignment forms, preferably shows a uniform and monodomain discotic nematic phase, and is formed in the liquid crystal state. A compensator having a morphology easily fixed without impairing the alignment morphology, and more preferably a film having a uniform and monodomain discotic nematic phase and having a liquid crystal state at the upper and lower interfaces of the compensator. The director of the discotic liquid crystal in the thickness direction is a compensating plate in which the angle formed by the compensator normal and the director is different between near the upper interface and near the lower interface of the compensator. Here, the hybrid orientation means that in a single-layer thin film, the directors of the discotic liquid crystal present at both interfaces of the thin film, that is, near the thin film interface on the alignment substrate side and the opposite thin film interface are It means an orientation mode in which the projection vectors are in the same direction but the angles in the film thickness direction are different. The angle range in the film thickness direction is the absolute value of the minimum angle formed by the director of the discotic liquid crystal molecule existing near the interface of the compensator and the normal to the compensator plane, that is, the director of the liquid crystal molecule and the compensator plane. The angle obtained by [90 degrees-a degrees] is the upper surface of the compensator when the angle that is not on the obtuse angle side (the angle within the range of 0 degrees to 90 degrees) formed by the normal line in Alternatively, one of the lower surfaces usually forms an angle of 60 degrees or more and 90 degrees or less, and the opposite surface of the surface is usually 0 degrees or more and 50 degrees or less. More preferably, the absolute value of one angle is 80 degrees or more and 90 degrees or less, and the absolute value of the other angle is 0 degrees or more and 30 degrees or less.

【0050】本発明の液晶表示素子用補償板は、好まし
くはハイブリッド配向を形成しているためにダイレクタ
ーが厚み方向で異なる方向を向いており、補償板という
構造体として見た場合、もはや光軸は存在せず一軸性は
失われている。このような、液晶の配向形態中を光が通
過する際、従来得られなかった複雑な複屈折挙動を観察
することができる。
In the compensating plate for a liquid crystal display element of the present invention, since the directors are preferably oriented in different directions in the thickness direction because they form a hybrid alignment, when viewed as a structure called a compensating plate, it is no longer a light source. There is no axis and uniaxiality is lost. When light passes through such an alignment form of the liquid crystal, it is possible to observe a complicated birefringence behavior that has not been obtained conventionally.

【0051】上記ハイブリッド配向において、補償板法
線と該補償板界面付近に存在するディスコティック液晶
分子のダイレクターと補償板平面とのなす角度の絶対値
が、補償板の上面または下面の一方においては、0度以
上90度以下の範囲内、また当該面の反対面において
は、0度以上50度以下の範囲内において、使用するデ
ィスコティック液晶材料、配向基板などを適宜選択する
ことにより所望の角度にそれぞれ調整することができ
る。また、いったん補償板を形成した後でも、例えば、
補償板表面を均一に削る、溶剤に浸して補償板の表面を
均一に溶かす、などといった方法を用いることにより所
望の角度に調節することができる。尚この際に用いられ
る溶剤は、ディスコティック液晶材料、配向基板の種類
によって適宜選択する。
In the above hybrid orientation, the absolute value of the angle between the compensator normal and the director of the discotic liquid crystal molecules existing near the compensator interface and the compensator plane is either on the upper surface or the lower surface of the compensator. Is within a range of 0 ° or more and 90 ° or less, and on the surface opposite to the surface within a range of 0 ° or more and 50 ° or less, a discotic liquid crystal material to be used, an alignment substrate, or the like is appropriately selected. It can be adjusted to each angle. Also, even after forming the compensator once, for example,
The angle can be adjusted to a desired angle by using a method such as uniformly scraping the surface of the compensator or immersing it in a solvent to uniformly dissolve the surface of the compensator. The solvent used at this time is appropriately selected depending on the type of discotic liquid crystal material and alignment substrate.

【0052】本発明に用いられるディスコティック液晶
材料は、液晶状態から固定化する際に、液晶相から結晶
相への転移が起こることがない。そのために、該液晶材
料が液晶状態において形成した配向形態を損なうことな
く固定化することができる。また補償板を形成した後、
使用条件下で配向形態が保たれ、かつ固体と同様に取扱
いができるものが望ましい。なおここで固定化された状
態とは、液晶構造がアモルファスなガラス状態で凍結さ
れた状態が最も典型的、かつ好ましい態様ではあるが、
それだけには限定されない。すなわち液晶表示素子用補
償板の使用条件下、具体的に通常0℃から50℃、より
過酷な条件下では−30℃から70℃の温度範囲におい
て、ディスコティック液晶材料より形成される補償板に
流動性を全く示さず、また外力や外場によって配向形態
に変化を生じさせることなく、液晶状態において形成し
た配向形態を安定に保ち続けることができる状態を意味
する。
The discotic liquid crystal material used in the present invention does not cause a transition from a liquid crystal phase to a crystalline phase when it is fixed from a liquid crystal state. Therefore, the liquid crystal material can be fixed without impairing the alignment form formed in the liquid crystal state. After forming the compensator,
It is desirable that the oriented form be maintained under the conditions of use and that it can be handled like a solid. The fixed state here is a state in which the liquid crystal structure is frozen in an amorphous glass state, which is the most typical and preferable mode.
It is not limited to that. That is, a compensator formed of a discotic liquid crystal material is used under the conditions of use of the compensator for a liquid crystal display device, specifically in the temperature range of usually 0 ° C to 50 ° C and -30 ° C to 70 ° C under more severe conditions. It means a state in which the alignment form formed in the liquid crystal state can be kept stable without showing any fluidity and without causing a change in the alignment form due to an external force or an external field.

【0053】以上説明したように、ディスコティック液
晶材料を配向基板上に塗布し、熱処理後、冷却すること
によって液晶表示素子用補償板を製造することができ
る。本発明の製造方法によって得られた補償板を実際に
液晶セルに配置する場合、上述の配向基板を本補償板か
ら剥離して、該補償板単体で用いる、配向基板上に形成
したそのままの状態で使用する、ということが考えられ
る。
As described above, a compensator for a liquid crystal display device can be manufactured by applying a discotic liquid crystal material on an alignment substrate, heat-treating it, and then cooling it. When the compensating plate obtained by the manufacturing method of the present invention is actually arranged in a liquid crystal cell, the above-mentioned alignment substrate is peeled from the compensating plate, and the compensating plate is used as it is, as it is formed on the alignment substrate. It is conceivable that it will be used in.

【0054】補償板単体として用いる場合には、配向基
板を補償板との界面で、ロールなどを用いて機械的に剥
離する方法、構造材料すべてに対する貧溶媒に浸漬した
のち機械的に剥離する方法、貧溶媒中で超音波をあてて
剥離する方法、配向基板と補償板との熱膨張係数の差を
利用して温度変化を与えて剥離する方法、配向基板その
もの、または配向基板上の配向膜を溶解除去する方法な
どを例示することができる。剥離性は、用いるディスコ
ティック液晶材料と配向基板の密着性によって異なるた
め、その系に最も適した方法を採用すべきである。
When the compensating plate is used alone, the alignment substrate is mechanically peeled off at the interface with the compensating plate using a roll or the like, or it is immersed in a poor solvent for all structural materials and then mechanically peeled off. , A method of peeling by applying ultrasonic waves in a poor solvent, a method of peeling by giving a temperature change by utilizing a difference in thermal expansion coefficient between the alignment substrate and the compensator, the alignment substrate itself, or an alignment film on the alignment substrate A method of dissolving and removing the can be exemplified. The releasability depends on the adhesiveness between the discotic liquid crystal material used and the alignment substrate, and therefore the method most suitable for the system should be adopted.

【0055】次に、配向基板上に形成した状態で補償板
を用いる場合、配向基板が透明で光学的に等方である
か、あるいは配向基板が液晶表示素子にとって必要な部
材である場合には、そのまま目的とする光学補償素子と
して使用することができる。さらに、配向基板上でディ
スコティック液晶材料を配向固定化して得られた、該補
償板を該基板から剥離して、光学用途により適した別の
基板上に移しかえて使用することもできる。
Next, when the compensating plate is used on the alignment substrate, if the alignment substrate is transparent and optically isotropic, or if the alignment substrate is a member necessary for a liquid crystal display element. It can be used as it is as an intended optical compensation element. Further, the compensating plate obtained by aligning and fixing the discotic liquid crystal material on the alignment substrate can be peeled off from the substrate and transferred to another substrate more suitable for optical use.

【0056】例えば、使用する配向基板が、例えばハイ
ブリッド配向形態を得るために必要なものではあるが、
補償素子として使用する場合の性質には、好ましくない
影響を与えるような該基板を用いた場合、その基板を補
償板から除去して用いることができる。具体的には次の
ような方法を採ることができる。
For example, although the alignment substrate used is necessary to obtain a hybrid alignment form, for example,
When the substrate is used, which has an unfavorable effect on the properties when used as a compensating element, the substrate can be removed from the compensating plate before use. Specifically, the following method can be adopted.

【0057】目的とする補償素子に適した基板(以下、
第2の基板と言う)と配向基板上の補償板とを、接着剤
または粘着剤を用いて貼りつける。次に、配向基板と補
償板の界面で、配向基板を剥離し、補償板すなわちディ
スコティック液晶材料層を補償素子に適した第2の基板
側に転写して目的とする補償素子を製造することが可能
である。
A substrate suitable for the target compensating element (hereinafter,
The second substrate) and the compensator on the alignment substrate are attached using an adhesive or a pressure-sensitive adhesive. Next, the alignment substrate is peeled off at the interface between the alignment substrate and the compensating plate, and the compensating plate, that is, the discotic liquid crystal material layer is transferred to the second substrate side suitable for the compensating device to manufacture the target compensating device. Is possible.

【0058】転写に用いられる第2の基板としては、適
度な平面性を有するものであれば特に限定されないが、
ガラスや透明で光学的等方性を有するプラスチックフィ
ルムなどが好ましい。かかるプラスチックフィルムの例
としては、ポリメタクリレート、ポリスチレン、ポリカ
ーボネート、ポリエーテルスルフォン、ポリフェニレン
サルファイド、ポリアリレート、アモルファスポリオレ
フィン、トリアセチルセルロースあるいはエポキシ樹脂
などをあげることができる。なかでもポリメチルメタク
リレート、ポリカーボネート、ポリアリレート、トリア
セチルセルロース、ポリエーテルスルフォンなどが好ま
しく用いられる。また、光学的に異方性であっても、液
晶表示素子にとって必要な部材である場合には使用する
ことができる。このような例としては、ポリカーボネー
トやポリスチレンなどのプラスチックフィルムを延伸し
て得られる位相差フィルム、偏光フィルムなどがあげら
れる。
The second substrate used for transfer is not particularly limited as long as it has appropriate flatness,
Glass or a transparent plastic film having optical isotropy is preferable. Examples of such plastic film include polymethacrylate, polystyrene, polycarbonate, polyether sulfone, polyphenylene sulfide, polyarylate, amorphous polyolefin, triacetyl cellulose, epoxy resin and the like. Among them, polymethyl methacrylate, polycarbonate, polyarylate, triacetyl cellulose, polyether sulfone and the like are preferably used. Further, even if it is optically anisotropic, it can be used when it is a member necessary for a liquid crystal display element. Examples of such materials include retardation films and polarizing films obtained by stretching a plastic film such as polycarbonate and polystyrene.

【0059】さらに用いられる第2の基板の例として、
液晶表示セルそのものをあげることができる。液晶表示
セルは、上下2枚の電極付きのガラスまたはプラスチッ
ク基板を用いており、この上下いずれかあるいは両面に
本発明の補償板を転写すれば、本補償板の組み込みがす
でに達成されていることになる。また表示セルを形成す
るガラス基板またはプラスチック基板そのものを配向基
板として本発明の補償板を製造することももちろん可能
である。
As an example of the second substrate used further,
The liquid crystal display cell itself can be mentioned. The liquid crystal display cell uses a glass or plastic substrate with two upper and lower electrodes, and if the compensating plate of the present invention is transferred to either the upper or lower side or both sides, the incorporation of the compensating plate has already been achieved. become. It is of course possible to manufacture the compensator of the present invention by using the glass substrate or the plastic substrate forming the display cell itself as the alignment substrate.

【0060】転写に用いられる第2の基板と配向固定化
されたディスコティック液晶材料層とを貼りつける接着
剤または粘着剤は、光学グレードのものであれば特に制
限はないが、アクリル系、エポキシ系、エチレン−酢酸
ビニル共重合体系、ゴム系などを用いることができる。
The adhesive or pressure-sensitive adhesive for adhering the second substrate and the orientation-fixed discotic liquid crystal material layer used for transfer is not particularly limited as long as it is an optical grade, but acrylic or epoxy. A system, an ethylene-vinyl acetate copolymer system, a rubber system, etc. can be used.

【0061】本発明の補償板を補償素子に適した第2の
基板への転写方法は、接着後配向基板を補償板との界面
で剥離することにより行える。剥離の方法は、上述でも
説明したが、ロールなどを用いて機械的に剥離する方
法、構造材料すべてに対する貧溶媒に浸漬したのち機械
的に剥離する方法、貧溶媒中で超音波をあてて剥離する
方法、配向基板と該補償板との熱膨張係数の差を利用し
て温度変化を与えて剥離する方法、配向基板そのもの、
または配向基板上の配向膜を溶解除去する方法などを例
示することができる。剥離性は、用いるディスコティッ
ク液晶材料と配向基板の密着性によって異なるため、そ
の系に最も適した方法を採用すべきである。
The method of transferring the compensating plate of the present invention to the second substrate suitable for the compensating element can be carried out by peeling the oriented substrate after adhesion at the interface with the compensating plate. The peeling method was described above, but it is mechanically peeling using a roll, etc., mechanically peeling after dipping in a poor solvent for all structural materials, and peeling by applying ultrasonic waves in a poor solvent. Method, peeling by giving a temperature change utilizing the difference in thermal expansion coefficient between the alignment substrate and the compensation plate, the alignment substrate itself,
Alternatively, a method of dissolving and removing the alignment film on the alignment substrate can be exemplified. The releasability depends on the adhesiveness between the discotic liquid crystal material used and the alignment substrate, and therefore the method most suitable for the system should be adopted.

【0062】本発明の補償板は、さらに光学的に重要な
ディスコティック液晶材料層、すなわち補償板表面を保
護する目的で、ディスコティック液晶の片面または両面
をアクリル系あるいはエポキシ系などのオーバーコート
層を設けることもできる。これらは本発明の補償板にと
って本質的なものではないが、光学的には等方的である
ことが好ましく、これらにより光学素子としての強度を
増すことができ、製品としての耐久性を増すことができ
る。
The compensator of the present invention further comprises an acrylic or epoxy-based overcoat layer on one or both sides of the discotic liquid crystal for the purpose of protecting the optically important discotic liquid crystal material layer, that is, the compensator surface. Can be provided. These are not essential for the compensator of the present invention, but are preferably optically isotropic, and these can increase the strength as an optical element and increase the durability as a product. You can

【0063】このようにして得られた本発明の補償板
は、前述の通り液晶ディスプレイに対して色・視野角補
償効果をもつ。なかでもTN液晶セルをノーマリホワイ
トモードで駆動するディスプレイに対しては視野角補償
効果(視野角改良効果)およびOCBモードの液晶ディ
スプレイに対しては色・視野角補償効果を発現する。本
発明の補償板が、各種液晶ディスプレイに対して補償効
果を示すための補償板の膜厚は、対象とする液晶ディス
プレイの方式やパラメーターに依存するので一概には言
えないが、通常0.1μm以上40μm以下の範囲であ
り、より好ましくは0.2μm以上20μm以下の範
囲、特に好ましくは0.4μm以上10μm以下の範囲
である。膜厚が0.1μmより薄い場合、補償効果が十
分得られない恐れがある。膜厚が40μmを越える場合
は、ディスプレイの表示が不必要に色づく恐れがある。
ただし本発明の補償板の性能をより高く引き出すために
は、補償板のパラメーターや軸配置をさらに詳細に考慮
することが好ましい。
The compensation plate of the present invention thus obtained has a color / viewing angle compensation effect for a liquid crystal display as described above. Above all, a viewing angle compensating effect (a viewing angle improving effect) is exerted on a display in which a TN liquid crystal cell is driven in a normally white mode, and a color / viewing angle compensating effect is exerted on an OCB mode liquid crystal display. The film thickness of the compensating plate for the compensating plate of the present invention to exhibit a compensating effect for various liquid crystal displays depends on the system and parameters of the target liquid crystal display and cannot be generally stated, but is usually 0.1 μm. The above range is 40 μm or less, more preferably 0.2 μm or more and 20 μm or less, and particularly preferably 0.4 μm or more and 10 μm or less. If the film thickness is less than 0.1 μm, the compensation effect may not be sufficiently obtained. If the film thickness exceeds 40 μm, the display may unnecessarily be colored.
However, in order to maximize the performance of the compensator of the present invention, it is preferable to consider the compensator parameters and axial arrangement in more detail.

【0064】一般に、補償板の構造を特徴づける光学パ
ラメーターや物性値としては、ダイレクターの角度、膜
厚、見かけの面内リターデーション、平均チルト角を挙
げることができ、それらについて以下に説明する。
In general, the optical parameters and the physical property values that characterize the structure of the compensator include the angle of the director, the film thickness, the apparent in-plane retardation, and the average tilt angle, which will be described below. .

【0065】先ず補償板界面近傍のディスコティック液
晶のダイレクターが、補償板平面となす角は、該補償板
の上面付近もしくは下面付近の一方においては60度以
上90度以下、好ましくは70度以上90度以下の角度
をなし、当該面の反対面においては0度以上50度以
下、好ましくは0度以上30度以下であることが好まし
い。この条件を満たさない場合、液晶セルの選択表示時
における屈折率構造の特徴である基板界面付近で液晶の
ダイレクターが基板に略平行、膜厚方向の中央部で略垂
直という屈折率の変化に対し、補償を十分に行えなくな
る恐れがある。従って、ハイブリッド配向を形成してい
ない、例えばチルト配向を形成した補償板などを用いる
際には、少なくとも2枚の該補償板を積層して用いる。
具体的には図1の(a)と(b)とを積層するなどの方
法によって擬似的にハイブリッド配向を形成する。ハイ
ブリッド配向を形成した補償板を用いない場合には、こ
のような方法によって上記の条件を満たさなければ補償
効果を改善することができない。
First, the angle formed by the director of the discotic liquid crystal near the interface of the compensating plate with the plane of the compensating plate is 60 degrees or more and 90 degrees or less, preferably 70 degrees or more, either near the upper surface or the lower surface of the compensating plate. It is preferable that an angle of 90 degrees or less is formed, and 0 degrees or more and 50 degrees or less, and preferably 0 degrees or more and 30 degrees or less on the opposite surface. If this condition is not satisfied, the director of the liquid crystal is almost parallel to the substrate interface near the substrate interface, which is a feature of the refractive index structure at the time of selective display of the liquid crystal cell, and the vertical direction at the central portion in the film thickness direction causes a change in the refractive index. On the other hand, there is a risk that compensation will not be fully achieved. Therefore, when using a compensator having no hybrid orientation, for example, a tilt orientation, at least two compensating plates are laminated and used.
Specifically, a pseudo hybrid orientation is formed by a method of stacking (a) and (b) of FIG. If a compensator having a hybrid orientation is not used, the compensating effect cannot be improved unless the above conditions are satisfied by such a method.

【0066】次に補償板の膜厚は、液晶のもつ固有の複
屈折値との関連において制御する必要がある。ここでい
う固有の複屈折値(以下△nとも呼ぶ)とは、本発明の
製造方法により得られる補償板を構成しているディスコ
ティック液晶材料より成る薄膜が、極微小領域において
もつダイレクターに垂直な方向の屈折率(以下noとも
呼ぶ)とダイレクターに平行な方向の屈折率(以下ne
とも呼ぶ)の差のことである。このような屈折率はアッ
ベ屈折計が、連続的に屈折率が変化する構造であって
も、測定界面近傍の情報を提供する性質があることを利
用して求めることもできる。
Next, the film thickness of the compensator needs to be controlled in relation to the intrinsic birefringence value of the liquid crystal. The unique birefringence value (hereinafter also referred to as Δn) as used herein means that the thin film made of the discotic liquid crystal material constituting the compensating plate obtained by the manufacturing method of the present invention has a director in an extremely small area. The refractive index in the vertical direction (hereinafter also referred to as no) and the refractive index in the direction parallel to the director (hereinafter ne
It is also called). Such a refractive index can be obtained by utilizing the fact that the Abbe refractometer has a property of providing information in the vicinity of the measurement interface even if the structure has a structure in which the refractive index continuously changes.

【0067】また、ディスコティック液晶材料を2枚の
同じ界面の基板に挟んでハイブリッド配向形態を抑制
し、ダイレクターが一方向に向くように配向せしめた試
料を測定することによっても求めることができる。この
ようにして得られた固有の複屈折値と補償板を構成して
いるディスコティック液晶材料より成る薄膜の絶対膜厚
との積の絶対値は、TNモードのディスプレイを補償す
る場合、20nm以上1000nm以下の範囲であり、
好ましくは50nm以上600nm以下であり、特に好
ましくは100nmから400nm以下の範囲である。
この範囲にある場合、本発明の製造方法によって得られ
た補償板は、十分な補償効果を発現する。20nm未満
の時は、液晶ディスプレイの視野角特性をほとんど変化
させることができない恐れがある。また1000nmを
超える時は、液晶表示に不必要な色付きが生じる恐れが
ある。尚、本発明の製造方法によって得られた補償板
は、ディスコティック液晶材料より成る薄膜を複数枚ま
たは該製造方法によって得られた補償板自体を複数枚で
使用することもできるが、その場合、それぞれのディス
コティック液晶材料より成る薄膜について、固有の複屈
折値と絶対膜厚との積の値の絶対値が、これらの範囲内
にあることが好ましい。OCBモードのディスプレイを
補償する場合は、上記の値は通常50nm以上200n
m以下が好ましい。
It can also be obtained by measuring a sample in which a discotic liquid crystal material is sandwiched between two substrates having the same interface to suppress the hybrid orientation form and the director is oriented so as to be oriented in one direction. . The absolute value of the product of the intrinsic birefringence value thus obtained and the absolute film thickness of the thin film made of the discotic liquid crystal material constituting the compensator is 20 nm or more when compensating for a TN mode display. The range is 1000 nm or less,
It is preferably 50 nm or more and 600 nm or less, particularly preferably 100 nm to 400 nm or less.
Within this range, the compensator obtained by the manufacturing method of the present invention exhibits a sufficient compensating effect. When it is less than 20 nm, there is a possibility that the viewing angle characteristics of the liquid crystal display can hardly be changed. On the other hand, when it exceeds 1000 nm, unnecessary coloring may occur in the liquid crystal display. Incidentally, the compensator obtained by the manufacturing method of the present invention, it is also possible to use a plurality of thin films made of a discotic liquid crystal material or a plurality of compensating plates themselves obtained by the manufacturing method, in which case, The absolute value of the product of the intrinsic birefringence value and the absolute film thickness of each thin film made of the discotic liquid crystal material is preferably within these ranges. When compensating for OCB mode display, the above value is usually 50 nm or more and 200 n
m or less is preferable.

【0068】次に正面における、面内の見かけのリター
デーション値について説明する。ハイブリッド配向で
は、ダイレクターが一般に薄膜平面に対して垂直な方向
にないために、薄膜平面に垂直な方向から観察したと
き、見かけ上複屈折が生じることになる。ダイレクター
をディスコティック液晶性材料より成る薄膜面内に投影
したとき得られる方向が、見かけ上進相軸で、それと垂
直な面内の方向が遅相軸となる。この正面における、見
かけのリターデーション値は、エリプソメトリー等の偏
光光学測定により容易に求めることができる。本発明の
補償板を構成するディスコティック液晶材料より成る薄
膜における、見かけのリターデーション値は、TNモー
ドのディスプレイを補償する場合、550nmの単色光
に対し、通常5nmから500nmの範囲、より好まし
くは10nmから300nmの範囲、特に好ましくは1
5nmから150nmの範囲である。見かけのリターデ
ーション値が、5nm未満の場合には、補償効果があま
り期待できない恐れがある。また500nmより大きい
場合には、斜めからみたときにTNモードの液晶ディス
プレイに不必要な色付きが生じる恐れがある。本発明の
補償板を複数枚で使用する場合は、それぞれの該薄膜の
見かけのリターデーション値の絶対値がこれらの範囲内
にあることが好ましい。またOCBモードのディスプレ
イを補償する場合、上記の値は通常10nmから800
nmの範囲が好ましい。
Next, the apparent in-plane retardation value on the front surface will be described. In the hybrid orientation, since the director is not generally in the direction perpendicular to the thin film plane, apparent birefringence occurs when observed from the direction perpendicular to the thin film plane. The direction obtained when the director is projected in the plane of the thin film made of the discotic liquid crystal material is apparently the fast axis, and the direction in the plane perpendicular thereto is the slow axis. The apparent retardation value on the front side can be easily obtained by polarization optical measurement such as ellipsometry. The apparent retardation value in a thin film made of a discotic liquid crystal material constituting the compensator of the present invention is usually in the range of 5 nm to 500 nm, more preferably, for monochromatic light of 550 nm when compensating for a TN mode display. In the range of 10 nm to 300 nm, particularly preferably 1
It is in the range of 5 nm to 150 nm. If the apparent retardation value is less than 5 nm, the compensation effect may not be expected so much. On the other hand, if the thickness is larger than 500 nm, unnecessary coloring may occur in the TN mode liquid crystal display when viewed obliquely. When a plurality of compensating plates of the present invention are used, the absolute value of the apparent retardation value of each thin film is preferably within these ranges. When compensating for OCB mode displays, the above values are usually 10 nm to 800 nm.
The range of nm is preferred.

【0069】次にパラメーターとして、見かけの平均チ
ルト角が挙げられる。これは、ディスコティック液晶の
ダイレクターが基板法線となす角度の平均的な値であ
る。これは、結晶構造の解析に有効な、クリスタルロー
テーション法を応用して求めることができる。測定方法
は以下の通りである。 まず直交した偏光子の間に、本発明の補償板を挟
む。但し、その配置の仕方は、ディスコティック液晶の
ダイレクターの投影ベクトルと、偏光子の透過軸が45
度の角度を成すようにする。 次に、基板上の該薄膜を、基板面におけるディスコ
ティック液晶のダイレクターの投影ベクトル方向に沿っ
て、該薄膜を基板ごと傾け、透過率を測定する。 ディスコティック液晶性材料より成る薄膜の傾き角
と透過率の関係から、平均チルト角を計算により求め
る。
Next, an apparent average tilt angle is given as a parameter. This is the average value of the angle formed by the director of the discotic liquid crystal with the substrate normal. This can be obtained by applying the crystal rotation method, which is effective for analyzing the crystal structure. The measuring method is as follows. First, the compensator of the present invention is sandwiched between orthogonal polarizers. However, the arrangement is such that the projection vector of the director of the discotic liquid crystal and the transmission axis of the polarizer are 45
Make an angle of degrees. Then, the thin film on the substrate is tilted together with the substrate along the projection vector direction of the director of the discotic liquid crystal on the substrate surface, and the transmittance is measured. The average tilt angle is calculated from the relationship between the tilt angle and the transmittance of the thin film made of the discotic liquid crystal material.

【0070】尚、偏光子を補償板より光源に近い側に1
枚だけ置き、出射光を偏光解析して見かけのリターデー
ション値を求める方法も同様に採用することができる。
但しハイブリッド配向を形成したディスコティック液晶
材料より成る薄膜を構成部材とした補償板は、光軸が一
定方向にある負の一軸性構造とは完全に等価ではない。
すなわち負の一軸性構造では、一般に透過率がほぼゼロ
に落ちつく傾き角度が存在し、これは試料の光軸に沿っ
て入射光が進んだことに対応している(ただし、薄膜界
面での光の屈折を考慮する)。それに対しハイブリッド
配向では、光軸が存在しないため完全に透過率がゼロに
なる傾き角度は存在しない。そのため、透過率の極小値
あるいは透過率と傾き角の関係を示す曲線の曲率が最も
近い、均一チルト配向のチルト角を、ハイブリッド配向
を形成した該薄膜の平均チルト角とすることにする。こ
のようにして求められた平均チルト角は、通常2度から
60度の範囲であり、好ましくは5度から50度の範
囲、さらに好ましくは10度から45度の範囲である。
平均チルト角が2度未満の時は、補償効果があまり発現
されない恐れがある。また、平均チルト角が60度を超
える場合には、厚み方向の平均屈折率が、面内のそれに
比べて大きくなりすぎ、補償効果が十分に得られなくな
る恐れがある。
The polarizer is placed on the side closer to the light source than the compensator.
A method in which only one sheet is placed and the apparent retardation value is obtained by polarization analysis of the emitted light can be similarly adopted.
However, a compensator having a thin film made of a discotic liquid crystal material having a hybrid orientation as a constituent member is not completely equivalent to a negative uniaxial structure in which the optical axis is in a fixed direction.
That is, in the negative uniaxial structure, there is generally a tilt angle at which the transmittance falls to almost zero, which corresponds to the fact that the incident light travels along the optical axis of the sample (however, the light at the thin film interface is Consider the refraction of). On the other hand, in the hybrid orientation, since there is no optical axis, there is no tilt angle at which the transmittance becomes zero. Therefore, the tilt angle of the uniform tilt orientation in which the curvature of the curve showing the relationship between the minimum value of the transmittance or the transmittance and the tilt angle is the closest is the average tilt angle of the thin film in which the hybrid orientation is formed. The average tilt angle thus obtained is usually in the range of 2 to 60 degrees, preferably in the range of 5 to 50 degrees, and more preferably in the range of 10 to 45 degrees.
When the average tilt angle is less than 2 degrees, there is a possibility that the compensation effect may not be exhibited so much. Further, when the average tilt angle exceeds 60 degrees, the average refractive index in the thickness direction becomes too large as compared with that in the plane, and the compensation effect may not be sufficiently obtained.

【0071】以上、本発明の製造方法によって得られる
ハイブリッド配向を形成した場合におけるディスコティ
ック液晶材料より成る薄膜を構成部材とした補償板の構
造を詳述できる光学パラメーターや物性値として、ダイ
レクターの角度、膜厚、面内の見かけのリターデーショ
ン値、平均チルト角について説明した。上記の値は、全
て測定可能であり、それぞれについて好ましい範囲内に
あることが当然好ましい。しかしながら、補償板の形態
によっては、全てについて測定が困難な場合がある。こ
のような場合、これらの値は互いに相関があるため、こ
れらのうち少なくとも2つを測定し、それぞれについて
上述の好ましい範囲内にあれば実用上差し支えない。例
えば同じ液晶材料を用い、同様な方法で配向させた場
合、本発明では一般に薄膜界面でのダイレクターの角度
や、平均チルト角は膜厚によらず一定であり、またリタ
ーデーション値は膜厚に比例する。
As described above, the optical parameters and physical property values that can be described in detail are the structures of the compensating plate having a thin film made of a discotic liquid crystal material as a constituent member when the hybrid alignment obtained by the manufacturing method of the present invention is formed. The angle, the film thickness, the in-plane apparent retardation value, and the average tilt angle have been described. It is naturally preferred that all of the above values be measurable and be within the preferred ranges for each. However, depending on the form of the compensator, it may be difficult to measure all of them. In such a case, since these values are correlated with each other, it is practically acceptable if at least two of them are measured and are within the above-described preferable ranges. For example, when the same liquid crystal material is used and aligned by a similar method, in the present invention, the director angle at the thin film interface and the average tilt angle are generally constant regardless of the film thickness, and the retardation value is the film thickness. Proportional to.

【0072】以上説明したように本補償板を、1枚また
は複数枚で使用することによりノーマリーホワイトモー
ドのTN液晶ディスプレイ、OCBモードの液晶ディス
プレイを始めとする種々の液晶ディスプレイに対して特
に視野角改善に絶大な効果を発揮する。また従来の液晶
高分子から成る補償板(補償素子)、例えば負の一軸性
屈折率構造を持つ光学フィルム、正の一軸性屈折率構造
をもつ光学フィルム、または二軸性の屈折率構造を持つ
光学フィルムなどと組み合わせて使用することも可能で
ある。さらに偏光板として、視野角依存性が改良された
偏光板と併せて使用することも可能である。但し、補償
に対して決定的な役割を果たすのは本発明の製造方法に
よって得られた補償板であり、従来の液晶高分子からな
る補償板(補償素子)のみを如何様に組み合わせて用い
たとしても、本発明の製造方法によって得られた補償板
の如き優れた補償効果を発現させることは不可能であ
る。
As described above, the use of one or more compensators of the present invention makes it possible to view various liquid crystal displays such as normally white mode TN liquid crystal display and OCB mode liquid crystal display. Greatly effective in improving corners. A conventional compensator (compensation element) made of liquid crystal polymer, for example, an optical film having a negative uniaxial refractive index structure, an optical film having a positive uniaxial refractive index structure, or a biaxial refractive index structure It is also possible to use it in combination with an optical film or the like. Further, it can be used as a polarizing plate in combination with a polarizing plate having improved viewing angle dependency. However, it is the compensator obtained by the manufacturing method of the present invention that plays a decisive role for compensation, and only the compensator (compensation element) made of the conventional liquid crystal polymer was used in any combination. Even in this case, it is impossible to exhibit an excellent compensation effect like the compensator obtained by the manufacturing method of the present invention.

【0073】以上のように、本発明の製造方法によって
得られる補償板を種々の液晶ディスプレイに備えること
によって、視角による僅かな色の変化や、明暗の変化も
殆ど感じることがない。また、ディスプレイを大面積化
した際にも、画面中央部と周辺部とで同一の表示を行う
ことも可能である。
As described above, by providing various liquid crystal displays with the compensating plate obtained by the manufacturing method of the present invention, little change in color or change in light and dark depending on the viewing angle is hardly felt. Further, even when the area of the display is enlarged, it is possible to display the same in the central portion and the peripheral portion of the screen.

【0074】なお本発明の製造方法によって得られる補
償板において、該補償板を構成しているディスコティッ
ク液晶材料より成る薄膜を、ハイブリッド配向を形成し
た該薄膜にした場合、ハイブリッド配向であるがゆえ
に、補償板の上下は等価でなく、どちらの面を駆動用液
晶セルに近い方にするかによって補償効果に多少の違い
が見られる。さらに該補償板においては、界面近傍の液
晶のダイレクターがフィルム平面となす角は、フィルム
の上面もしくは下面の一方においては60度以上90度
以下の角度をなし、当該面の反対面においては0度以上
50度以下であり、どちらの面を液晶セルに近い側にし
てもよいが、ダイレクターがフィルム平面となす角度が
より大きい面(該角度が60度から90度である面)を
駆動用液晶セルに近く、偏光板から遠くなるように設置
する方が望ましい。
In the compensating plate obtained by the manufacturing method of the present invention, when the thin film made of the discotic liquid crystal material forming the compensating plate is made into the thin film in which the hybrid alignment is formed, the thin film is hybrid alignment. The upper and lower sides of the compensator are not equivalent, and a slight difference in compensation effect can be seen depending on which side is closer to the driving liquid crystal cell. Further, in the compensator, the angle formed by the director of the liquid crystal near the interface with the plane of the film is 60 degrees or more and 90 degrees or less on one of the upper surface and the lower surface of the film, and 0 on the opposite surface. It is not less than 50 degrees and not more than 50 degrees, and either surface may be closer to the liquid crystal cell, but the surface formed by the director at a larger angle with the film plane (the surface having an angle between 60 degrees and 90 degrees) is driven. It is desirable to install the liquid crystal cell close to the liquid crystal cell and away from the polarizing plate.

【0075】[0075]

【実施例】以下に実施例を挙げ本発明をさらに詳しく説
明するが、本発明はこれらに制限されるものではない。
調製例・実施例で用いた各分析法は以下の通りである。 (光学顕微鏡観察)オリンパス製の偏光顕微鏡 BX−
50を用いて、オルソスコープ観察およびコノスコープ
観察を行った。また、液晶相の同定はメトラーホットス
テージ(FP−80)上で加熱しながらテクスチャー観
察することにより行った。 (偏光解析)溝尻光学工業所製エリプソメーター DV
A−36VWLDを用いて行った。 (屈折率測定)アタゴ製 アッベ屈折計 Type−4
Tを用いて行った。 (膜厚測定)小坂研究所製 高精度薄膜段差測定器 E
T−10を主に用いた。また、干渉波測定(日本分光製
紫外・可視・近赤外分光光度計 V−570)と屈折
率のデーターから膜厚を求める方法も併用した。
The present invention will be described in more detail with reference to the following examples, which should not be construed as limiting the invention thereto.
The analytical methods used in Preparation Examples and Examples are as follows. (Optical microscope observation) Polarizing microscope BX- manufactured by Olympus
50 was used for orthoscopic observation and conoscopic observation. The liquid crystal phase was identified by observing the texture while heating it on a METTLER HOT stage (FP-80). (Polarization analysis) Ellipsometer DV manufactured by Mizojiri Optical Industry Co., Ltd.
It was performed using A-36VWLD. (Measurement of Refractive Index) Atago Abbe Refractometer Type-4
Performed using T. (Film thickness measurement) Kosaka Laboratory's high-precision thin film level difference measuring device E
T-10 was mainly used. Further, an interference wave measurement (UV-visible / near-infrared spectrophotometer V-570 manufactured by JASCO) and a method of obtaining the film thickness from the data of the refractive index were also used.

【0076】ディスコティック液晶材料の調整 (調製例1)ヘキサヒドロキシトリフェニレン 50m
mol、4−ブトキシ安息香酸 100mmol、4−
ヘキシルオキシ安息香酸 100mmol、4−オクチ
ルオキシ安息香酸 100mmol、無水酢酸 150
0mmolの混合物をメカニカルスターラーを備えた容
量500mlのガラス容器に仕込み、窒素雰囲気下、1
20℃で1時間加熱した。続いて1時間かけ、副生した
酢酸および未反応無水酢酸を留去しながら260℃まで
昇温した。反応温度200℃付近で、反応物のサンプリ
ングを行い、該反応物を高速液体クロマトグラフィー
(HPLC)で測定した(カラム:DuPont社製Z
orvax ODS 4.6×250mm、移動相:C
3 CN/H2 O/H3 PO4 =60/40/0.1、
流速:1.0ml/min、保持時間:8.3mi
n)。測定した結果、ヘキサヒドロキシトリフェニレン
はほぼ確認されず、ヘキサヒドロキシトリフェニレンの
アセチル化物であるヘキサアセトキシトリフェニレンの
生成が確認された。260℃まで昇温した後、同温度で
2時間反応後、50ml/分の窒素気流下、280℃で
8時間反応させディスコティック液晶材料(材料1)を
得た。この材料のアイソトロピック転移温度は280℃
であった。
Preparation of Discotic Liquid Crystal Material (Preparation Example 1) Hexahydroxytriphenylene 50 m
mol, 4-butoxybenzoic acid 100 mmol, 4-
Hexyloxybenzoic acid 100 mmol, 4-octyloxybenzoic acid 100 mmol, acetic anhydride 150
The mixture of 0 mmol was charged into a glass container having a capacity of 500 ml equipped with a mechanical stirrer, and under a nitrogen atmosphere, 1
Heated at 20 ° C. for 1 hour. Subsequently, the temperature was raised to 260 ° C. over a period of 1 hour while distilling off the acetic acid by-produced and unreacted acetic anhydride. The reaction product was sampled at a reaction temperature of about 200 ° C., and the reaction product was measured by high performance liquid chromatography (HPLC) (column: Z manufactured by DuPont).
orvax ODS 4.6 × 250 mm, mobile phase: C
H 3 CN / H 2 O / H 3 PO 4 = 60/40 / 0.1,
Flow rate: 1.0 ml / min, retention time: 8.3 mi
n). As a result of the measurement, almost no hexahydroxytriphenylene was confirmed, and production of hexaacetoxytriphenylene, which is an acetylated product of hexahydroxytriphenylene, was confirmed. After the temperature was raised to 260 ° C., the mixture was reacted at the same temperature for 2 hours and then reacted at 280 ° C. for 8 hours under a nitrogen stream of 50 ml / min to obtain a discotic liquid crystal material (Material 1). The isotropic transition temperature of this material is 280 ℃
Met.

【0077】(調製例2)ヘキサヒドロキシトリフェニ
レン 50mmol、4−tert−ブチル安息香酸
145mmol、4−ヘプチルオキシ安息香酸 145
mmol、無水酢酸 1500mmolの混合物を、メ
カニカルスターラーを備えた容量500mlのガラス容
器に仕込み、窒素雰囲気下、120℃で1時間加熱し
た。続いて1時間かけ、副生した酢酸および未反応無水
酢酸を留去しながら250℃まで昇温した。反応温度2
00℃付近で、反応物のサンプリングを行い、該反応物
を高速液体クロマトグラフィー(HPLC)で測定した
(カラム:DuPont社製Zorvax ODS
4.6×250mm、移動相:CH3 CN/H2 O/H
3PO4 =60/40/0.1、流速:1.0ml/m
in、保持時間:8.3min)。測定した結果、ヘキ
サヒドロキシトリフェニレンはほぼ確認されず、ヘキサ
ヒドロキシトリフェニレンのアセチル化物であるヘキサ
アセトキシトリフェニレンの生成が確認された。250
℃まで昇温した後、同温度で3時間反応後、50ml/
分の窒素気流下、260℃で8時間反応させディスコテ
ィック液晶材料(材料2)を得た。この材料のアイソト
ロピック転移温度は267℃であった。
Preparation Example 2 Hexahydroxytriphenylene 50 mmol, 4-tert-butylbenzoic acid
145 mmol, 4-heptyloxybenzoic acid 145
A mixture of mmol and acetic anhydride 1500 mmol was charged into a glass container having a capacity of 500 ml equipped with a mechanical stirrer and heated at 120 ° C. for 1 hour under a nitrogen atmosphere. Subsequently, the temperature was raised to 250 ° C. over a period of 1 hour while distilling off by-produced acetic acid and unreacted acetic anhydride. Reaction temperature 2
The reaction product was sampled at around 00 ° C., and the reaction product was measured by high performance liquid chromatography (HPLC) (column: DuPont Zorvax ODS).
4.6 × 250 mm, mobile phase: CH 3 CN / H 2 O / H
3 PO 4 = 60/40 / 0.1, flow rate: 1.0 ml / m
in, retention time: 8.3 min). As a result of the measurement, almost no hexahydroxytriphenylene was confirmed, and production of hexaacetoxytriphenylene, which is an acetylated product of hexahydroxytriphenylene, was confirmed. 250
After heating up to ℃, react at the same temperature for 3 hours, then 50ml /
A discotic liquid crystal material (material 2) was obtained by reacting at 260 ° C. for 8 hours under a nitrogen stream for a minute. The isotropic transition temperature of this material was 267 ° C.

【0078】(調製例3)ヘキサヒドロキシトリフェニ
レン 50mmol、4−tert−ブチル安息香酸
112mmol、ステアリン酸 112mmol、セバ
シン酸 40mmol、無水酢酸 1500mmolの
混合物を、メカニカルスターラーを備えた容量500m
lのガラス容器に仕込み、窒素雰囲気下、120℃で1
時間加熱した。続いて1時間かけ、副生した酢酸および
未反応無水酢酸を留去しながら250℃まで昇温した。
反応温度200℃付近で、反応物のサンプリングを行
い、該反応物を高速液体クロマトグラフィー(HPL
C)で測定した(カラム:DuPont社製Zorva
x ODS 4.6×250mm、移動相:CH3 CN
/H2 O/H3 PO4 =60/40/0.1、流速:
1.0ml/min、保持時間:8.3min)。測定
した結果、ヘキサヒドロキシトリフェニレンはほぼ確認
されず、ヘキサヒドロキシトリフェニレンのアセチル化
物であるヘキサアセトキシトリフェニレンの生成が確認
された。250℃まで昇温した後、同温度で3時間反応
後、280℃に昇温し3時間反応、次いで1mmHgの
減圧下、280℃で1時間加熱することによりディスコ
ティック液晶材料(材料3)を得た。この材料のアイソ
トロピック転移温度は281℃であった。
(Preparation Example 3) Hexahydroxytriphenylene 50 mmol, 4-tert-butylbenzoic acid
A mixture of 112 mmol, stearic acid 112 mmol, sebacic acid 40 mmol, acetic anhydride 1500 mmol, and a capacity of 500 m equipped with a mechanical stirrer.
It was placed in a glass container of 1 l, and it was 1 at 120 ° C under a nitrogen atmosphere.
Heated for hours. Subsequently, the temperature was raised to 250 ° C. over a period of 1 hour while distilling off by-produced acetic acid and unreacted acetic anhydride.
The reaction product was sampled at a reaction temperature of about 200 ° C. and the reaction product was subjected to high performance liquid chromatography (HPL).
C) (column: Zorva manufactured by DuPont)
x ODS 4.6 × 250 mm, mobile phase: CH 3 CN
/ H 2 O / H 3 PO 4 = 60/40 / 0.1, flow rate:
1.0 ml / min, holding time: 8.3 min). As a result of the measurement, almost no hexahydroxytriphenylene was confirmed, and production of hexaacetoxytriphenylene, which is an acetylated product of hexahydroxytriphenylene, was confirmed. After the temperature was raised to 250 ° C., the reaction was performed at the same temperature for 3 hours, the temperature was raised to 280 ° C., the reaction was performed for 3 hours, and then the discotic liquid crystal material (material 3) was heated at 280 ° C. for 1 hour under a reduced pressure of 1 mmHg. Obtained. The isotropic transition temperature of this material was 281 ° C.

【0079】(調製例4)ヘキサヒドロキシトリフェニ
レン 50mmol、4−tert−ブチル安息香酸
75mmol、4−ペンチル安息香酸 75mmol、
4−ヘキシルオキシ安息香酸 75mmol、4−ヘプ
チルオキシ安息香酸 80mmol、無水酢酸 150
0mmolの混合物を、メカニカルスターラーを備えた
容量500mlのガラス容器に仕込み、窒素雰囲気下、
120℃で1時間加熱した。続いて1時間かけ、副生し
た酢酸および未反応無水酢酸を留去しながら250℃ま
で昇温した。反応温度200℃付近で、反応物のサンプ
リングを行い、該反応物を高速液体クロマトグラフィー
(HPLC)で測定した(カラム:DuPont社製Z
orvax ODS 4.6×250mm、移動相:C
3 CN/H2 O/H 3 PO4 =60/40/0.1、
流速:1.0ml/min、保持時間:8.3mi
n)。測定した結果、ヘキサヒドロキシトリフェニレン
はほぼ確認されず、ヘキサヒドロキシトリフェニレンの
アセチル化物であるヘキサアセトキシトリフェニレンの
生成が確認された。250℃まで昇温した後、同温度で
3時間反応後、290℃で8時間反応を行いディスコテ
ィック液晶材料(材料4)を得た。この材料のアイソト
ロピック転移温度は284℃であった。
Preparation Example 4 Hexahydroxytripheni
Ren 50 mmol, 4-tert-butylbenzoic acid
75 mmol, 4-pentylbenzoic acid 75 mmol,
4-hexyloxybenzoic acid 75 mmol, 4-hep
Tyloxybenzoic acid 80 mmol, acetic anhydride 150
0 mmol mixture was equipped with mechanical stirrer
Charge in a glass container with a capacity of 500 ml, and under a nitrogen atmosphere,
Heated at 120 ° C. for 1 hour. Then take an hour
Distilled off acetic acid and unreacted acetic anhydride to 250 ° C.
The temperature rose. When the reaction temperature is around 200 ° C, the reaction product
Ring and perform high performance liquid chromatography of the reaction product.
Measured by (HPLC) (column: Z manufactured by DuPont)
orvax ODS 4.6 × 250 mm, mobile phase: C
HThreeCN / HTwoO / H ThreePOFour= 60/40 / 0.1,
Flow rate: 1.0 ml / min, retention time: 8.3 mi
n). As a result of measurement, hexahydroxytriphenylene
Is almost not confirmed, and hexahydroxytriphenylene
Of the acetylated hexaacetoxytriphenylene
Generation was confirmed. After heating up to 250 ° C, at the same temperature
After reacting for 3 hours, react at 290 ° C for 8 hours
A liquid crystal material (material 4) was obtained. Isot of this material
The ropic transition temperature was 284 ° C.

【0080】(調製例5)ヘキサヒドロキシトリフェニ
レン 50mmol、6−ヘキシルオキシ−2−ナフト
エ酸 150mmol、4−ペンチルオキシ安息香酸
150mmol、無水酢酸 1500mmolの混合物
を、メカニカルスターラーを備えた容量500mlのガ
ラス容器に仕込み、窒素雰囲気下、110℃で2時間加
熱した。続いて1.5時間かけ、副生した酢酸および未
反応無水酢酸を留去しながら250℃まで昇温した。反
応温度200℃付近で、反応物のサンプリングを行い、
該反応物を高速液体クロマトグラフィー(HPLC)で
測定した(カラム:DuPont社製Zorvax O
DS 4.6×250mm、移動相:CH3 CN/H 2
O/H3 PO4 =60/40/0.1、流速:1.0m
l/min、保持時間:8.3min)。測定した結
果、ヘキサヒドロキシトリフェニレンはほぼ確認され
ず、ヘキサヒドロキシトリフェニレンのアセチル化物で
あるヘキサアセトキシトリフェニレンの生成が確認され
た。250℃まで昇温した後、同温度で3時間反応後、
50ml/分の窒素気流下、260℃で6時間反応を行
いディスコティック液晶材料(材料5)を得た。この材
料のアイソトロピック転移温度は284℃であった。
Preparation Example 5 Hexahydroxytripheni
Ren 50 mmol, 6-hexyloxy-2-naphtho
150 mM enoic acid, 4-pentyloxybenzoic acid
A mixture of 150 mmol and acetic anhydride 1500 mmol
With a mechanical stirrer and a capacity of 500 ml.
Place in a lath container and heat at 110 ° C for 2 hours in a nitrogen atmosphere.
Heated. Then, over a period of 1.5 hours, acetic acid produced as
The temperature was raised to 250 ° C while the reaction acetic anhydride was distilled off. Anti
The reaction product is sampled at a temperature of around 200 ° C,
The reaction product was analyzed by high performance liquid chromatography (HPLC).
Measured (column: Zorvax O manufactured by DuPont)
DS 4.6 x 250 mm, mobile phase: CHThreeCN / H Two
O / HThreePOFour= 60/40 / 0.1, flow velocity: 1.0 m
l / min, holding time: 8.3 min). Measured result
As a result, hexahydroxytriphenylene was almost confirmed.
Without acetylated hexahydroxytriphenylene
The formation of certain hexaacetoxytriphenylene was confirmed
Was. After heating to 250 ° C., reacting at the same temperature for 3 hours,
Reaction is performed at 260 ° C for 6 hours under a nitrogen stream of 50 ml / min.
A discotic liquid crystal material (material 5) was obtained. This material
The isotropic transition temperature of the material was 284 ° C.

【0081】(調製例6)ヘキサヒドロキシトリフェニ
レン 50mmol、4−ヘプチルオキシ安息香酸 2
80mmol、テレフタル酸 10mmol、無水酢酸
1500mmolの混合物を、メカニカルスターラー
を備えた容量500mlのガラス容器に仕込み、窒素雰
囲気下まず125℃で1時間加熱し、続いて2時間かけ
て副生した酢酸および未反応無水酢酸を留去しながら2
40℃まで昇温した。反応温度200℃付近で、反応物
のサンプリングを行い、該反応物を高速液体クロマトグ
ラフィー(HPLC)で測定した(カラム:DuPon
t社製Zorvax ODS4.6×250mm、移動
相:CH3 CN/H2 O/H3 PO4 =60/40/
0.1、流速:1.0ml/min、保持時間:8.3
min)。測定した結果、ヘキサヒドロキシトリフェニ
レンはほぼ確認されず、ヘキサヒドロキシトリフェニレ
ンのアセチル化物であるヘキサアセトキシトリフェニレ
ンの生成が確認された。240℃まで昇温した後、同温
度で3時間反応後、280℃に昇温して6時間反応を行
いディスコティック液晶材料(材料6)を得た。この材
料のアイソトロピック転移温度は235℃であった。
Preparation Example 6 Hexahydroxytriphenylene 50 mmol, 4-heptyloxybenzoic acid 2
A mixture of 80 mmol, 10 mmol of terephthalic acid, and 1500 mmol of acetic anhydride was charged into a glass container having a capacity of 500 ml equipped with a mechanical stirrer, which was first heated at 125 ° C. for 1 hour under a nitrogen atmosphere, followed by acetic acid and unproduced by-products over 2 hours. While distilling off the reaction acetic anhydride 2
The temperature was raised to 40 ° C. The reaction product was sampled at a reaction temperature of about 200 ° C., and the reaction product was measured by high performance liquid chromatography (HPLC) (column: DuPon.
Zorvax ODS 4.6 × 250 mm manufactured by t company, mobile phase: CH 3 CN / H 2 O / H 3 PO 4 = 60/40 /
0.1, flow rate: 1.0 ml / min, retention time: 8.3
min). As a result of the measurement, almost no hexahydroxytriphenylene was confirmed, and production of hexaacetoxytriphenylene, which is an acetylated product of hexahydroxytriphenylene, was confirmed. After the temperature was raised to 240 ° C., the reaction was carried out at the same temperature for 3 hours and then the temperature was raised to 280 ° C. and the reaction was carried out for 6 hours to obtain a discotic liquid crystal material (material 6). The isotropic transition temperature of this material was 235 ° C.

【0082】(調製例7)ヘキサヒドロキシトリフェニ
レン 5mmol、4’−ヘプチルオキシ[1,1’−
ビフェニル]−4−カルボン酸 7mmol、4−ヘキ
シルオキシ安息香酸 19mmol、4,4’−(エタ
ン−1,2−ジイルビスオキシ)ビス安息香酸 2mm
ol、無水酢酸 150mmolを用い、これを容量2
00mlのガラス容器に仕込み、窒素雰囲気下、125
℃で45分加熱した。続いて1時間かけて副生した酢酸
および未反応無水酢酸を留去しながら250℃まで昇温
した。反応温度200℃付近で、反応物のサンプリング
を行い、該反応物を高速液体クロマトグラフィー(HP
LC)で測定した(カラム:DuPont社製Zorv
ax ODS 4.6×250mm、移動相:CH3
N/H2 O/H3 PO 4 =60/40/0.1、流速:
1.0ml/min、保持時間:8.3min)。測定
した結果、ヘキサヒドロキシトリフェニレンはほぼ確認
されず、ヘキサヒドロキシトリフェニレンのアセチル化
物であるヘキサアセトキシトリフェニレンの生成が確認
された。250℃まで昇温した後、同温度で3時間反応
後、20ml/分の窒素気流下で6時間反応を行いディ
スコティック液晶材料(材料7)を得た。この材料のア
イソトロピック転移温度は282℃であった。
Preparation Example 7 Hexahydroxytripheni
Ren 5 mmol, 4'-heptyloxy [1,1'-
Biphenyl] -4-carboxylic acid 7 mmol, 4-hex
Syloxybenzoic acid 19 mmol, 4,4 '-(ethane
N-1,2-diylbisoxy) bisbenzoic acid 2 mm
ol, acetic anhydride 150 mmol was used, and this was used as volume 2
Place in a 00 ml glass container, and under a nitrogen atmosphere, 125
Heat at 45 ° C for 45 minutes. Acetic acid produced as a by-product over 1 hour
And distilling off unreacted acetic anhydride while raising the temperature to 250 ° C.
did. Sampling of reactants at reaction temperature around 200 ℃
Then, the reaction product was subjected to high performance liquid chromatography (HP
LC (column: DuPont Zorv)
ax ODS 4.6 × 250 mm, mobile phase: CHThreeC
N / HTwoO / HThreePO Four= 60/40 / 0.1, flow rate:
1.0 ml / min, holding time: 8.3 min). Measurement
As a result, hexahydroxytriphenylene was almost confirmed
Acetylation of hexahydroxytriphenylene
Generation of hexaacetoxytriphenylene, which is a substance
Was done. After heating up to 250 ° C, react at the same temperature for 3 hours
After that, the reaction was performed for 6 hours under a nitrogen stream of 20 ml / min, and the reaction was performed.
A scotic liquid crystal material (material 7) was obtained. This material
The isotropic transition temperature was 282 ° C.

【0083】(調製例8)ヘキサヒドロキシトリフェニ
レン 50mmol、4−オクチルオキシ安息香酸 1
20mmol、6−ペンチルオキシ−2−ナフトエ酸
180mmol、無水酢酸 2000mmolの混合物
を、メカニカルスターラーを備えた容量500mlのガ
ラス容器に仕込み、窒素雰囲気下、120℃で1時間加
熱した。続いて1時間かけて副生した酢酸および未反応
無水酢酸を留去しながら250℃まで昇温した。反応温
度200℃付近で、反応物のサンプリングを行い、該反
応物を高速液体クロマトグラフィー(HPLC)で測定
した(カラム:DuPont社製Zorvax ODS
4.6×250mm、移動相:CH3 CN/H2 O/
3 PO4 =60/40/0.1、流速:1.0ml/
min、保持時間:8.3min)。測定した結果、ヘ
キサヒドロキシトリフェニレンはほぼ確認されず、ヘキ
サヒドロキシトリフェニレンのアセチル化物であるヘキ
サアセトキシトリフェニレンの生成が確認された。25
0℃まで昇温した後、同温度で2時間反応後、50ml
/分の窒素気流下、280℃で6時間反応させ、ディス
コティック液晶材料(材料8)を得た。この材料のアイ
ソトロピック転移温度は283℃であった。
Preparation Example 8 Hexahydroxytriphenylene 50 mmol, 4-octyloxybenzoic acid 1
20 mmol, 6-pentyloxy-2-naphthoic acid
A mixture of 180 mmol and 2000 mmol of acetic anhydride was placed in a glass container having a capacity of 500 ml equipped with a mechanical stirrer, and heated at 120 ° C. for 1 hour under a nitrogen atmosphere. Subsequently, the temperature was raised to 250 ° C. over 1 hour while distilling off the acetic acid by-produced and unreacted acetic anhydride. The reaction product was sampled at a reaction temperature of about 200 ° C., and the reaction product was measured by high performance liquid chromatography (HPLC) (column: Zorvax ODS manufactured by DuPont).
4.6 × 250 mm, mobile phase: CH 3 CN / H 2 O /
H 3 PO 4 = 60/40 / 0.1, flow rate: 1.0 ml /
min, holding time: 8.3 min). As a result of the measurement, almost no hexahydroxytriphenylene was confirmed, and production of hexaacetoxytriphenylene, which is an acetylated product of hexahydroxytriphenylene, was confirmed. 25
After warming up to 0 ℃, react at the same temperature for 2 hours, then 50ml
The mixture was allowed to react at 280 ° C. for 6 hours under a nitrogen gas flow of 1 minute to obtain a discotic liquid crystal material (Material 8). The isotropic transition temperature of this material was 283 ° C.

【0084】(調製例9)ヘキサヒドロキシトリフェニ
レン 50mmol、4−ヘキシル安息香酸 220m
mol、4−ヘプチル安息香酸 75mmol、アジピ
ン酸 5mmol、無水酢酸 1600mmolを用
い、実施例5と同様の方法で反応を行いディスコティッ
ク液晶材料(材料9)を得た。この材料のアイソトロピ
ック転移温度は277℃であった。
Preparation Example 9 Hexahydroxytriphenylene 50 mmol, 4-hexylbenzoic acid 220 m
mol, 4-heptylbenzoic acid 75 mmol, adipic acid 5 mmol, and acetic anhydride 1600 mmol were used to carry out a reaction in the same manner as in Example 5 to obtain a discotic liquid crystal material (material 9). The isotropic transition temperature of this material was 277 ° C.

【0085】(調製例10)ヘキサヒドロキシトリフェ
ニレン 50mmol、3−ヘプチルオキシ安息香酸
200mmol、6−ヘプチルオキシ−2−ナフトエ酸
100mmol、無水酢酸 1400mmolをメカ
ニカルスターラーを備えた容量500mlのガラス製容
器に仕込み、窒素雰囲気下まず120℃で1時間加熱し
た。続いて1時間かけて副生した酢酸および未反応無水
酢酸を留去しながら250℃まで昇温した。反応温度2
00℃付近で、反応物のサンプリングを行い、該反応物
を高速液体クロマトグラフィー(HPLC)で測定した
(カラム:DuPont社製Zorvax ODS
4.6×250mm、移動相:CH3 CN/H2 O/H
3PO4 =60/40/0.1、流速:1.0ml/m
in、保持時間:8.3min)。測定した結果、ヘキ
サヒドロキシトリフェニレンはほぼ確認されず、ヘキサ
ヒドロキシトリフェニレンのアセチル化物であるヘキサ
アセトキシトリフェニレンの生成が確認された。250
℃まで昇温した後、同温度で2時間反応後、50ml/
分の窒素気流下、280℃で6時間反応させディスコテ
ィック液晶材料(材料10)を得た。この材料のアイソ
トロピック転移温度は270℃であった。
Preparation Example 10 Hexahydroxytriphenylene 50 mmol, 3-heptyloxybenzoic acid
200 mmol, 6-heptyloxy-2-naphthoic acid 100 mmol, and acetic anhydride 1400 mmol were placed in a glass container having a capacity of 500 ml equipped with a mechanical stirrer, and first heated at 120 ° C. for 1 hour under a nitrogen atmosphere. Subsequently, the temperature was raised to 250 ° C. over 1 hour while distilling off the acetic acid by-produced and unreacted acetic anhydride. Reaction temperature 2
The reaction product was sampled at around 00 ° C., and the reaction product was measured by high performance liquid chromatography (HPLC) (column: DuPont Zorvax ODS).
4.6 × 250 mm, mobile phase: CH 3 CN / H 2 O / H
3 PO 4 = 60/40 / 0.1, flow rate: 1.0 ml / m
in, retention time: 8.3 min). As a result of the measurement, almost no hexahydroxytriphenylene was confirmed, and production of hexaacetoxytriphenylene, which is an acetylated product of hexahydroxytriphenylene, was confirmed. 250
After heating up to ℃, react at the same temperature for 2 hours, then 50ml /
A discotic liquid crystal material (Material 10) was obtained by reacting at 280 ° C. for 6 hours under a nitrogen stream for a minute. The isotropic transition temperature of this material was 270 ° C.

【0086】(調製例11)ヘキサヒドロキシトリフェ
ニレン 50mmol、6−ヘキシルオキシ−2−ナフ
トエ酸 250mmol、4−ヘプチルオキシ桂皮酸
50mmol、無水酢酸 1200mmolを用い、実
施例5と同様の方法で反応を行いディスコティック液晶
材料(材料11)を得た。材料11のアイソトロピック
転移温度は265℃であった。
Preparation Example 11 Hexahydroxytriphenylene 50 mmol, 6-hexyloxy-2-naphthoic acid 250 mmol, 4-heptyloxycinnamic acid
Using 50 mmol and 1200 mmol of acetic anhydride, a reaction was performed in the same manner as in Example 5 to obtain a discotic liquid crystal material (Material 11). Material 11 had an isotropic transition temperature of 265 ° C.

【0087】(ディスコティック液晶であることの証
明)上記の如くして得られたディスコティック液晶材料
は、ホットプレート上、偏光顕微鏡下の観察の結果、M
ol.Cryst.Liq.Cryst.,106,1
21−146,1984(C.Destradeら)に
写真で示されているものと同様なシュリーレンテクスチ
ャーを観察し、ディスコティックネマティック相の存在
を確認した。調整例1〜11で得られた全ての該液晶材
料は、ディスコティックネマティック相の状態からさら
に昇温したところで等方相となった。この温度をアイソ
トロピック転移温度とした。
(Proof of being a discotic liquid crystal) The discotic liquid crystal material obtained as described above was observed on a hot plate under a polarizing microscope, and as a result, M
ol. Cryst. Liq. Cryst. , 106 , 1
21-146, 1984 (C. Destrade et al.), A schlieren texture similar to that shown in the photograph was observed to confirm the presence of a discotic nematic phase. All the liquid crystal materials obtained in Preparation Examples 1 to 11 became an isotropic phase when the temperature was further raised from the state of the discotic nematic phase. This temperature was defined as the isotropic transition temperature.

【0088】(実施例1)材料1(5g)を45gのク
ロロホルムに溶解させ10重量%の溶液を調製した。こ
の溶液を30cm角のラビング処理をしたポリイミドフ
ィルムに印刷法により塗布した。次いで80℃のホット
プレート上で乾燥し、オーブンで230℃で20分間熱
処理した後、室温中に取り出して冷却して、まずポリイ
ミドフィルム上に材料1を配向固定化し補償板1を得
た。次いで紫外線硬化型の接着剤を補償板1の上に塗布
した後、透光性フィルムであるトリアセチルセルロース
フィルムでラミネートし、高圧水銀灯の光を照射して接
着剤を硬化させた。次にポリイミドフィルムを剥がして
除去した。補償板1は接着剤を介してトリアセチルセル
ロースフィルム上にあり、補償板1/接着剤/トリアセ
チルセルロースよりなる無色透明な積層体1を得た。エ
リプソメーターを用いて積層体1の偏光解析を行ったと
ころ、まず正面での見かけのリターデーション値は48
nmであった。見かけ上の進相軸は剥離前のポリイミド
フィルムのラビング方向と平行な補償板面内の方向にあ
った。次に直交した偏光子の間に積層体1を挟み、補償
板中の液晶のダイレクターの補償板面への投影ベクトル
と、偏光子の透過軸が45度の角度をなすように配置
し、積層体1をダイレクターの補償板面への投影ベクト
ル方向(ラビング方向に対応する方向と一致)にそって
傾け、みかけのリターデーション値を測定した。図4の
ようにリターデーション変化は左右で非対称であり、ま
た、極小値に於いてリターデーション値はゼロにはなっ
ておらず、これらのことから補償板中のディスコティッ
ク液晶は、図1の(c)のモデルで示したような、厚み
方向で配向方向の異なるハイブリッド配向をとっている
ことがわかった。また図2のリターデーション変化を計
算機によりシミュレーションし、平均チルト角52度と
いう結果を得た。なお、ディスコティック液晶の屈折率
は、no=1.64 ne=1.53であった。
Example 1 Material 1 (5 g) was dissolved in 45 g of chloroform to prepare a 10% by weight solution. This solution was applied to a 30 cm square rubbed polyimide film by a printing method. Then, it was dried on a hot plate at 80 ° C., heat-treated at 230 ° C. for 20 minutes in an oven, taken out at room temperature and cooled, and the material 1 was first orientation-fixed on the polyimide film to obtain a compensating plate 1. Next, an ultraviolet curable adhesive was applied on the compensator 1, laminated with a triacetyl cellulose film which is a translucent film, and irradiated with light from a high pressure mercury lamp to cure the adhesive. Next, the polyimide film was peeled off and removed. The compensator 1 was on the triacetyl cellulose film via an adhesive, and a colorless and transparent laminate 1 consisting of compensator 1 / adhesive / triacetyl cellulose was obtained. When the polarization analysis of the laminate 1 was performed using an ellipsometer, the apparent retardation value in the front was 48.
was nm. The apparent fast axis was in the in-plane direction of the compensation plate parallel to the rubbing direction of the polyimide film before peeling. Next, the laminated body 1 is sandwiched between the orthogonal polarizers, and the projection vector of the liquid crystal in the compensating plate on the compensating plate surface and the transmission axis of the polarizer are arranged at an angle of 45 degrees. The laminate 1 was tilted along the direction of the projection vector of the director on the compensating plate surface (corresponding to the direction corresponding to the rubbing direction), and the apparent retardation value was measured. As shown in FIG. 4, the change in retardation is asymmetrical to the left and right, and the retardation value does not become zero at the minimum value. From these facts, the discotic liquid crystal in the compensator is shown in FIG. It was found that a hybrid orientation in which the orientation direction differs in the thickness direction, as shown in the model (c), was adopted. Further, the change in retardation in FIG. 2 was simulated by a computer, and a result of an average tilt angle of 52 degrees was obtained. The refractive index of the discotic liquid crystal was no = 1.64 ne = 1.53.

【0089】(実施例2)材料2(500g)を4.5
kgのフェノール/テトラクロロエタン混合溶媒(重量
比6/4)に溶解させ10重量%の溶液を調製した。配
向基板としては幅40cm、長さ500mのポリエーテ
ルエーテルケトンフィルムを選び、このフィルムをフィ
ルム長手方向に沿ってラビングした。材料2の溶液をロ
ールコート法により、ラビング処理したポリエーテルエ
ーテルケトンフィルム上に連続的に塗布した。次いで8
0℃の温風で大部分の溶媒を除去した後、長さ10mの
220℃に設定された熱処理炉に1m/分の搬送速度で
送り出し(処理時間10分)、液晶を配向させ、室温中
で冷却して液晶配向を固定化させた。補償板2の厚みは
1.5μmであった。次いで熱硬化型の接着剤を補償板
の上に塗布した後、透光性フィルムであるトリアセチル
セルロースフィルムでラミネートし、90℃で1時間加
温し接着剤を硬化させた。次にポリエーテルエーテルケ
トンを剥して除去した。補償板2は接着剤を介してトリ
アセチルセルロースフィルム上にあり、補償板2/接着
剤/トリアセチルセルロースよりなる無色透明な積層体
2を得た。エリプソメーターを用いて補償板2の偏光解
析を行ったところ、まず正面での見かけのリターデーシ
ョン値は54nmであった。見かけ上の進相軸はフィル
ムの長手方向にあった。次に直交した偏光子の間に積層
体2を挟み、補償板中の液晶のダイレクターの補償板面
への投影ベクトルと、偏光子の透過軸が45度の角度を
なすように配置し、積層体2をダイレクターの補償板面
への投影ベクトル方向(ラビング方向に対応する方向と
一致)にそって傾け、みかけのリターデーション値を測
定した。図3の結果が得られ、ディスコティック液晶は
ハイブリッド配向をとっており、平均チルト角は23度
であった。次に積層体2を2枚用い、TNセル(90度
ねじれ、リターデーション480nm)に対する視野角
改良効果を調べた。図4に示した配置でTNセルの上下
偏光板間に積層体2を1枚ずつ挟みコントラストを測定
した。その結果図5に示したように、積層体2を用いた
液晶表示装置は、積層体2が無い場合に比べ、コントラ
スト比100以上の領域が大きく広がることがわかっ
た。
(Example 2) Material 2 (500 g) was added to 4.5
A 10 wt% solution was prepared by dissolving it in kg of a phenol / tetrachloroethane mixed solvent (weight ratio 6/4). As the orientation substrate, a polyether ether ketone film having a width of 40 cm and a length of 500 m was selected, and this film was rubbed along the longitudinal direction of the film. The solution of the material 2 was continuously coated on the rubbing-treated polyether ether ketone film by the roll coating method. Then 8
After removing most of the solvent with hot air at 0 ° C, the liquid crystal was aligned at a conveying speed of 1 m / min (processing time 10 minutes) into a heat treatment furnace having a length of 10 m and set at 220 ° C, and the liquid crystal was aligned at room temperature. The liquid crystal alignment was fixed by cooling with. The thickness of the compensation plate 2 was 1.5 μm. Then, a thermosetting adhesive was applied on the compensator, and then laminated with a transacetylation film, triacetyl cellulose film, and heated at 90 ° C. for 1 hour to cure the adhesive. Next, the polyether ether ketone was peeled off and removed. The compensator 2 was on the triacetyl cellulose film via an adhesive, and a colorless and transparent laminate 2 composed of compensator 2 / adhesive / triacetyl cellulose was obtained. When polarization analysis of the compensator 2 was performed using an ellipsometer, first, the apparent retardation value in the front was 54 nm. The apparent fast axis was in the longitudinal direction of the film. Next, the laminated body 2 is sandwiched between orthogonal polarizers, and the liquid crystal in the compensator is arranged so that the projection vector of the director on the compensator surface and the polarizer transmission axis form an angle of 45 degrees. The laminate 2 was tilted along the direction of the projection vector of the director on the compensating plate surface (corresponding to the direction corresponding to the rubbing direction), and the apparent retardation value was measured. The results of FIG. 3 were obtained, and the discotic liquid crystal had a hybrid orientation, and the average tilt angle was 23 degrees. Next, using two laminates 2, the effect of improving the viewing angle for a TN cell (90 degree twist, retardation 480 nm) was examined. The laminate 2 was sandwiched between the upper and lower polarizing plates of the TN cell in the arrangement shown in FIG. 4 to measure the contrast. As a result, as shown in FIG. 5, it was found that in the liquid crystal display device using the laminated body 2, the region having a contrast ratio of 100 or more spreads widely as compared with the case where the laminated body 2 is not provided.

【0090】(実施例3)材料3を10重量%含むキシ
レン溶液を調製し、ラビングポリイミド膜を有するガラ
ス基板(30cm角、厚み1.1mm)上に印刷法によ
り塗布した。次いで風乾し、200℃で30分熱処理し
た後、室温中で冷却・固定化させた。得られた補償板3
は透明で配向欠陥はなく、補償板の膜厚は3.2μmで
あった。屈折率測定により、液晶のダイレクターは配向
基板界面においては基板にほぼ垂直、空気界面側では基
板にほぼ平行であり、ne=1.65 no=1.55
であった。これよりnoとneの屈折率差は0.10で
あり、これと膜厚との積は320nmとなった。また面
内の見かけのリターデーション値は180nmで、遅相
軸はラビング方向と垂直な面内の方向にあった。また補
償板3を実施例1と同様にラビング方向に沿って傾けて
見かけのリターデーション値を測定し、平均チルト角が
41度という結果を得た。実施例1および2と同様に、
補償板3はTNセルに対し良好な視野角改良効果を発現
した。
Example 3 A xylene solution containing 10% by weight of Material 3 was prepared and applied on a glass substrate (30 cm square, thickness 1.1 mm) having a rubbing polyimide film by a printing method. Then, it was air-dried, heat-treated at 200 ° C. for 30 minutes, and then cooled and fixed at room temperature. Compensation plate 3 obtained
Was transparent and had no alignment defects, and the film thickness of the compensator was 3.2 μm. According to the refractive index measurement, the director of the liquid crystal is almost perpendicular to the substrate at the interface of the alignment substrate and substantially parallel to the substrate at the air interface side, and ne = 1.65 no = 1.55.
Met. From this, the refractive index difference between no and ne was 0.10, and the product of this and the film thickness was 320 nm. The in-plane apparent retardation value was 180 nm, and the slow axis was in the in-plane direction perpendicular to the rubbing direction. Further, the compensator 3 was tilted along the rubbing direction in the same manner as in Example 1 to measure the apparent retardation value, and the average tilt angle was 41 degrees. Similar to Examples 1 and 2,
The compensating plate 3 exhibited a good viewing angle improving effect on the TN cell.

【0091】(実施例4)材料4(8g)を92gのク
ロロホルムに溶かし8重量%の溶液を調製し、ラビング
ポリイミド膜を有する15cm角のガラス基板上にスピ
ンコート法により塗布し、次いで50℃のホットプレー
ト上で乾燥し、オーブンで250℃で15分間熱処理し
た後、室温中に取り出して冷却し、補償板4を得た。該
補償板4の膜厚は2.0μmであった。また屈折率測定
により複屈折は0.11であり、これと膜厚との積は2
20nmとなった。またエリプソメーターを用いて偏光
解析を行ったところ、まず正面での見かけのリターデー
ションは95nmであった。進相軸はラビング方向と8
°ずれたフィルム面内の方向にあった。実施例1および
2と同様に、補償板4はTNセルに対し良好な視野角改
良効果を発現した。
Example 4 Material 4 (8 g) was dissolved in 92 g of chloroform to prepare an 8 wt% solution, which was applied onto a 15 cm square glass substrate having a rubbing polyimide film by spin coating, and then at 50 ° C. After being dried on a hot plate of No. 1, heat-treated at 250 ° C. for 15 minutes in an oven, taken out at room temperature and cooled to obtain a compensating plate 4. The film thickness of the compensator 4 was 2.0 μm. The birefringence was 0.11 as measured by the refractive index, and the product of this and the film thickness was 2
It became 20 nm. When ellipsometer was used for ellipsometry, the apparent retardation in the front was 95 nm. The fast axis is the rubbing direction and 8
There was an in-plane direction of the film deviated. Similar to Examples 1 and 2, the compensator 4 exhibited a good viewing angle improving effect on the TN cell.

【0092】(実施例5)材料5(18g)を182g
のクロロホルムに溶かし9重量%の溶液を調製し、ラビ
ングポリイミド膜を有する15cm角のガラス基板上に
材料5溶液をスピンコート法により塗布した。次いで5
5℃のホットプレート上で乾燥し、オーブンで230℃
で20分間熱処理した後、室温中に取り出して冷却し、
補償板5を得た。補償板5の膜厚は、4.0μmであっ
た。また屈折率測定により複屈折は0.13であり、こ
れと膜厚との積は520nmとなった。またエリプソメ
ーターを用いて偏光解析を行ったところ、まず正面での
見かけのリターデーションは185nmであった。進相
軸はラビング方向と3°ずれた層面内の方向にあった。
また実施例1と同様にラビング方向に沿って傾けて見か
けのリターデーション値を測定し、平均チルト角が35
度という結果を得た。実施例1および2と同様に、補償
板5はTNセルに対し良好な視野角改良効果を発現し
た。
(Example 5) 182 g of the material 5 (18 g)
Was dissolved in chloroform to prepare a 9% by weight solution, and the material 5 solution was applied onto a 15 cm square glass substrate having a rubbing polyimide film by spin coating. Then 5
Dry on a hot plate at 5 ℃ and 230 ℃ in an oven.
After heat-treating for 20 minutes at room temperature, remove to room temperature and cool,
The compensator 5 was obtained. The film thickness of the compensator 5 was 4.0 μm. The birefringence was 0.13 as measured by the refractive index, and the product of this and the film thickness was 520 nm. When ellipsometer was used for ellipsometry, the apparent retardation in the front was 185 nm. The fast axis was in the in-plane direction deviated by 3 ° from the rubbing direction.
Also, as in Example 1, the apparent retardation value was measured by tilting along the rubbing direction, and the average tilt angle was 35.
I got the result. Similar to Examples 1 and 2, the compensator 5 exhibited a good viewing angle improving effect on the TN cell.

【0093】(実施例6)材料6(20g)を180g
のクロロホルムに溶かし、10重量%の溶液を調製し
た。次いで、ラビングポリイミド膜を有する15cm角
のガラス基板上に材料6溶液をスピンコート法により塗
布し、次いで65℃のホットプレート上で乾燥した。次
いでオーブンで226℃で25分間熱処理した後、室温
中に取り出して冷却し、透明な基板上に補償板6を得
た。該補償板6の膜厚は5.5μmであった。また屈折
率測定により複屈折は0.08であり、これと膜厚との
積は440nmとなった。またエリプソメーターを用い
て偏光解析を行ったところ、まず正面での見かけのリタ
ーデーションは35nmであった。進相軸はラビング方
向と2°ずれたフィルム面内の方向にあった。また実施
例1と同様にラビング方向に沿って傾けて見かけのリタ
ーデーション値を測定し、平均チルト角が15度という
結果を得た。実施例1および2と同様に、補償板6はT
Nセルに対し良好な視野角改良効果を発現した。
Example 6 180 g of Material 6 (20 g)
Was dissolved in chloroform to prepare a 10% by weight solution. Then, the material 6 solution was applied on a 15 cm square glass substrate having a rubbing polyimide film by a spin coating method, and then dried on a hot plate at 65 ° C. Then, after heat-treating at 226 ° C. for 25 minutes in an oven, it was taken out at room temperature and cooled to obtain a compensating plate 6 on a transparent substrate. The film thickness of the compensator 6 was 5.5 μm. The birefringence was 0.08 as measured by the refractive index, and the product of this and the film thickness was 440 nm. When ellipsometer was used for ellipsometry, the apparent retardation in the front was 35 nm. The fast axis was in the in-plane direction deviated from the rubbing direction by 2 °. Also, as in Example 1, the apparent retardation value was measured while tilting along the rubbing direction, and the result was that the average tilt angle was 15 degrees. As in the first and second embodiments, the compensator 6 has a T
A good viewing angle improving effect was exhibited for the N cell.

【0094】(実施例7)材料7(2.5g)を17.
5gのジメチルホルムアミドに溶かし12.5重量%の
溶液を調製した。次いで、ラビングポリイミド膜を有す
る15cm角のガラス基板上に材料7溶液をスピンコー
ト法により塗布し、次いで70℃のホットプレート上で
乾燥した。乾燥後、オーブンで235℃で18分間熱処
理した後、室温中に取り出して冷却し、補償板7を得
た。該補償板7の膜厚は3.8μmであった。また屈折
率測定により複屈折は0.11であり、これと膜厚との
積は420nmとなった。またエリプソメーターを用い
て偏光解析を行ったところ、まず正面での見かけのリタ
ーデーションは180nmであった。進相軸はラビング
方向と4°ずれたフィルム面内の方向にあった。また実
施例1と同様にラビング方向に沿って傾けて見かけのリ
ターデーション値を測定し、平均チルト角が40度とい
う結果を得た。実施例1および2と同様に、補償板7は
TNセルに対し良好な視野角改良効果を発現した。
Example 7 Material 7 (2.5 g) was added to 17.
The solution was dissolved in 5 g of dimethylformamide to prepare a 12.5% by weight solution. Then, the material 7 solution was applied onto a 15 cm square glass substrate having a rubbing polyimide film by spin coating, and then dried on a hot plate at 70 ° C. After drying, it was heat-treated in an oven at 235 ° C. for 18 minutes, taken out at room temperature and cooled to obtain a compensating plate 7. The film thickness of the compensator 7 was 3.8 μm. The birefringence was 0.11 as measured by the refractive index, and the product of this and the film thickness was 420 nm. When ellipsometer was used to perform ellipsometry, the apparent retardation in the front was 180 nm. The fast axis was in the in-plane direction, which was offset by 4 ° from the rubbing direction. Also, as in Example 1, the apparent retardation value was measured while tilting along the rubbing direction, and the average tilt angle was 40 degrees. Similar to Examples 1 and 2, the compensator 7 exhibited a good viewing angle improving effect on the TN cell.

【0095】(実施例8)材料8(5g)を95gのト
ルエンに溶かし5重量%の溶液を調製した。次いで、ラ
ビングポリイミド膜を有する15cm角のガラス基板上
に材料8溶液をスピンコート法により塗布し、次いで6
3℃のホットプレート上で乾燥した。乾燥後、オーブン
で215℃で15分間熱処理した後、室温中に取り出し
て冷却し、補償板8を得た。該補償板8の膜厚は0.8
μmであった。また屈折率測定により複屈折は0.10
であり、これと膜厚との積は80nmとなった。またエ
リプソメーターを用いて偏光解析を行ったところ、まず
正面での見かけのリターデーションは60nmであっ
た。進相軸とラビング方向は同一方向でフィルム面内の
方向にあった。また実施例1と同様にラビング方向に沿
って傾けて見かけのリターデーション値を測定し、平均
チルト角が60度という結果を得た。実施例1および2
と同様に、補償板8はTNセルに対し良好な視野角改良
効果を発現した。
Example 8 Material 8 (5 g) was dissolved in 95 g of toluene to prepare a 5% by weight solution. Then, the material 8 solution was applied by a spin coating method onto a 15 cm square glass substrate having a rubbing polyimide film, and then 6
It was dried on a hot plate at 3 ° C. After drying, it was heat-treated in an oven at 215 ° C. for 15 minutes, taken out at room temperature and cooled to obtain a compensating plate 8. The thickness of the compensator 8 is 0.8
μm. The birefringence is 0.10 according to the refractive index measurement.
And the product of this and the film thickness was 80 nm. When ellipsometer was used for ellipsometry, the apparent retardation on the front was 60 nm. The fast axis and the rubbing direction were the same direction and were in the in-plane direction of the film. Further, as in Example 1, the apparent retardation value was measured while tilting along the rubbing direction, and the result was that the average tilt angle was 60 degrees. Examples 1 and 2
Similarly, the compensator 8 exhibited a good effect of improving the viewing angle for the TN cell.

【0096】(実施例9)材料9(20g)を80gの
クロロホルムに溶かし、20重量%の溶液を調製した。
次いで、ラビングポリイミド膜を有する15cm角のガ
ラス基板上に材料9溶液をスピンコート法により塗布
し、次いで55℃のホットプレート上で乾燥した。乾燥
後、オーブンで226℃で35分間熱処理した後、室温
中に取り出して冷却し、補償板9を得た。該補償板9の
膜厚は11.0μmであった。また屈折率測定により複
屈折は0.09であり、これと膜厚との積は990nm
となった。次いでエリプソメーターを用いて補償板9の
偏光解析を行ったところ、まず正面での見かけのリター
デーションは35nmであった。進相軸はラビング方向
と1°ずれたフィルム面内の方向にあった。また実施例
1と同様にラビング方向に沿って傾けて見かけのリター
デーション値を測定し、平均チルト角が10度という結
果を得た。実施例1および2と同様に、補償板9はTN
セルに対し良好な視野角改良効果を発現した。
Example 9 Material 9 (20 g) was dissolved in 80 g of chloroform to prepare a 20% by weight solution.
Then, the material 9 solution was applied onto a 15 cm square glass substrate having a rubbing polyimide film by a spin coating method, and then dried on a hot plate at 55 ° C. After drying, it was heat-treated in an oven at 226 ° C. for 35 minutes, taken out at room temperature and cooled to obtain a compensating plate 9. The film thickness of the compensator 9 was 11.0 μm. The birefringence was 0.09 as measured by the refractive index, and the product of this and the film thickness was 990 nm.
It became. Next, when polarization analysis of the compensator 9 was performed using an ellipsometer, first, the apparent retardation on the front side was 35 nm. The fast axis was in the in-plane direction deviated from the rubbing direction by 1 °. Further, as in Example 1, the apparent retardation value was measured while tilting along the rubbing direction, and the average tilt angle was 10 degrees. As in the first and second embodiments, the compensator 9 is a TN.
A good viewing angle improving effect was exhibited for the cell.

【0097】(実施例10)材料10(4g)を96g
のクロロホルムに溶かし4重量%の溶液を調製した。次
いで、ラビングポリイミド膜を有する15cm角のガラ
ス基板上に材料10溶液をスピンコート法により塗布
し、次いで65℃のホットプレート上で乾燥した。乾燥
後、オーブンで210℃で10分間熱処理した後、室温
中に取り出して冷却し、補償板10を得た。該補償板1
0の膜厚は0.5μmであった。また屈折率測定により
複屈折は0.07であり、これと膜厚との積は35nm
となった。またエリプソメーターを用いて偏光解析を行
ったところ、まず正面での見かけのリターデーションは
20nmであった。進相軸はラビング方向と8°ずれた
フィルム面内の方向にあった。また実施例1と同様にラ
ビング方向に沿って傾けて見かけのリターデーション値
を測定し、平均チルト角が48度という結果を得た。実
施例1および2と同様に、補償板10はTNセルに対し
良好な視野角改良効果を発現した。
Example 10 96 g of the material 10 (4 g)
Was dissolved in chloroform to prepare a 4% by weight solution. Then, the material 10 solution was applied onto a 15 cm square glass substrate having a rubbing polyimide film by spin coating, and then dried on a hot plate at 65 ° C. After drying, it was heat-treated in an oven at 210 ° C. for 10 minutes, taken out at room temperature and cooled to obtain a compensating plate 10. Compensation plate 1
The film thickness of 0 was 0.5 μm. The birefringence was 0.07 as measured by the refractive index, and the product of this and the film thickness was 35 nm.
It became. Further, when polarization analysis was performed using an ellipsometer, the apparent retardation on the front side was 20 nm. The fast axis was in the in-plane direction, which was offset by 8 ° from the rubbing direction. Also, as in Example 1, the apparent retardation value was measured while tilting along the rubbing direction, and the average tilt angle was 48 degrees. Similar to Examples 1 and 2, the compensator 10 exhibited a good viewing angle improving effect on the TN cell.

【0098】(実施例11)材料11(7g)を93g
のクロロホルムに溶かし7重量%の溶液を調製した。次
いで、ラビングポリイミド膜を有する15cm角のガラ
ス基板上に材料11溶液をスピンコート法により塗布
し、次いで63℃のホットプレート上で乾燥した。乾燥
後、オーブンで235℃で15分間熱処理した後、室温
中に取り出して冷却し、補償板11を得た。該補償板1
1の膜厚は2.3μmであった。また屈折率測定により
複屈折は0.10であり、これと膜厚との積は230n
mとなった。またエリプソメーターを用いて偏光解析を
行ったところ、まず正面での見かけのリターデーション
は55nmであった。進相軸はラビング方向と5°ずれ
たフィルム面内の方向にあった。また実施例1と同様に
ラビング方向に沿って傾けて見かけのリターデーション
値を測定し、平均チルト角が28度という結果を得た。
実施例1および2と同様に、補償板11はTNセルに対
し良好な視野角改良効果を発現した。
Example 11 93 g of the material 11 (7 g)
Was dissolved in chloroform to prepare a 7% by weight solution. Next, the material 11 solution was applied on a 15 cm square glass substrate having a rubbing polyimide film by spin coating, and then dried on a hot plate at 63 ° C. After drying, it was heat-treated in an oven at 235 ° C. for 15 minutes, taken out at room temperature and cooled to obtain a compensating plate 11. Compensation plate 1
The film thickness of 1 was 2.3 μm. Further, the birefringence was 0.10 as measured by the refractive index, and the product of this and the film thickness was 230 n.
m. When ellipsometer was used for ellipsometry, the apparent retardation on the front was 55 nm. The fast axis was in the in-plane direction, which was offset by 5 ° from the rubbing direction. Also, as in Example 1, the apparent retardation value was measured while tilting along the rubbing direction, and the average tilt angle was 28 degrees.
Similarly to Examples 1 and 2, the compensator 11 exhibited a good viewing angle improving effect on the TN cell.

【0099】[0099]

【発明の効果】本発明の液晶表示素子補償板は、所望の
物性、例えば液晶転移点を任意に調整して得ることがで
きるディスコティック液晶材料を利用しているため、液
晶ディスプレイ分野において要求される、例えば熱安定
性、高温信頼性などの温度特性に優れた補償板を得るこ
とができる。また、所望の液晶材料を得ることができる
ことから、液晶ディスプレイの高性能化などに応じて、
その要求に応じた補償板を得ることができるなど技術的
価値が高い。
INDUSTRIAL APPLICABILITY The liquid crystal display element compensating plate of the present invention uses a discotic liquid crystal material which can be obtained by arbitrarily adjusting desired physical properties, for example, a liquid crystal transition point, and is therefore required in the field of liquid crystal displays. It is possible to obtain a compensator having excellent temperature characteristics such as thermal stability and high temperature reliability. In addition, since it is possible to obtain a desired liquid crystal material, according to the high performance of the liquid crystal display,
It has a high technical value, such as the ability to obtain a compensator that meets the requirements.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】ディスコティック液晶材料がとり得る配向形態
の模式図。図中の矢印がダイレクターを意味する。
(a)は、ダイレクターが補償板平面に垂直な負の一軸
性構造(ホメオトロピック配向)。(b)は、ダイレク
ターが補償板平面に対して一定角度チルトした負の一軸
性構造(チルト配向)。(c)は、ダイレクターが補償
板の厚み方向で変化したハイブリッド配向。
FIG. 1 is a schematic view of an alignment form that a discotic liquid crystal material can have. The arrow in the figure means the director.
(A) is a negative uniaxial structure in which the director is perpendicular to the plane of the compensator (homeotropic alignment). (B) is a negative uniaxial structure (tilt orientation) in which the director is tilted at a constant angle with respect to the compensator plane. (C) is a hybrid orientation in which the director changes in the thickness direction of the compensator.

【図2】実施例1で得られた、見かけのリターデーショ
ン値の測定結果。
FIG. 2 is a measurement result of an apparent retardation value obtained in Example 1.

【図3】実施例2で得られた、見かけのリターデーショ
ン値の測定結果。
FIG. 3 is a measurement result of an apparent retardation value obtained in Example 2.

【図4】実施例2で用いた液晶表示装置の斜視図。 1.偏光板 2.積層体2 3.配向固定化したディスコティック液晶材料層 4.接着層を有するトリアセチルセルロースフィルム 5.TN液晶セル 6.偏向板の透過軸 7.ポリエーテルエーテルケトンフィルムのラビング方
向に対応する方向 8.TN液晶セル基板のラビング方向
FIG. 4 is a perspective view of a liquid crystal display device used in Example 2. 1. Polarizing plate 2. Laminated body 2 3. Alignment-fixed discotic liquid crystal material layer 4. 4. Triacetyl cellulose film having an adhesive layer 5. TN liquid crystal cell 6. Transmission axis of deflector 7. Direction corresponding to rubbing direction of polyetheretherketone film 8. Rubbing direction of TN liquid crystal cell substrate

【図5】実施例2で得られた視野角特性。図中の曲線が
コントラスト100の等コントラスト曲線を示す。3つ
の同心円は、それぞれ視角θ=20度、40度および6
0度を表し、点線で示した十字は、方位角φ=0度、9
0度、180度および270度を表す。 (a)補償板を用いない場合 (b)補償板を用いた場合
5 is a view angle characteristic obtained in Example 2. FIG. The curves in the figure show isocontrast curves with a contrast of 100. The three concentric circles have viewing angles θ = 20 degrees, 40 degrees, and 6 degrees, respectively.
A cross that represents 0 degree and is indicated by a dotted line is an azimuth angle φ = 0 degree, 9
Represents 0 degrees, 180 degrees and 270 degrees. (A) When the compensator is not used (b) When the compensator is used

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 小堀 良浩 神奈川県横浜市中区千鳥町8番地 日本石 油株式会社中央技術研究所内 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (72) Inventor Yoshihiro Kobori 8th Chidori-cho, Naka-ku, Yokohama-shi, Kanagawa Nippon Petroleum Co., Ltd. Central Technology Research Institute

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 1分子中に6個以上のフェノール性ヒド
ロキシル基を有する1種もしくは複数種の平面状縮合環
化合物とアセチル化剤と炭素数6以上の複数種のカルボ
ン酸化合物とを反応系に供し、フェノール性ヒドロキシ
ル基のアセチル化反応を生起させると共に、該反応によ
って得られたアセチル基と反応系に共存するカルボン酸
化合物との脱酢酸反応を同一反応系内で進行せしめるこ
とによって得られた反応生成物より実質上構成されるデ
ィスコティック液晶材料を配向基板上に塗布し、次いで
熱処理し、冷却することを特徴とする液晶表示素子用補
償板の製造方法。
1. A reaction system comprising one or a plurality of planar condensed ring compounds having 6 or more phenolic hydroxyl groups in one molecule, an acetylating agent, and a plurality of carboxylic acid compounds having 6 or more carbon atoms. The acetylation reaction of the phenolic hydroxyl group is caused to occur, and the deacetic acid reaction between the acetyl group obtained by the reaction and the carboxylic acid compound coexisting in the reaction system is allowed to proceed in the same reaction system. A method for producing a compensator for a liquid crystal display device, which comprises applying a discotic liquid crystal material substantially composed of the reaction product on an alignment substrate, followed by heat treatment and cooling.
【請求項2】 ディスコティック液晶材料が、1分子中
に6個以上のフェノール性ヒドロキシル基を有する1種
もしくは複数種の平面状縮合環化合物とアセチル化剤と
炭素数6以上の複数種のカルボン酸化合物との反応にお
いて、反応開始時点から反応終了時点までの全反応時間
中の1/3〜9/10の後記反応時間においては、反応
条件を減圧下または不活性ガス気流下において反応を行
うことにより得られる反応生成物より実質上構成される
ことを特徴とする請求項1記載の液晶表示素子用補償板
の製造方法。
2. A discotic liquid crystal material comprising one or a plurality of planar condensed ring compounds having at least 6 phenolic hydroxyl groups in one molecule, an acetylating agent, and a plurality of carbon atoms having 6 or more carbon atoms. In the reaction with an acid compound, the reaction is carried out under reduced pressure or under an inert gas stream during the reaction time of 1/3 to 9/10 of the total reaction time from the reaction start time to the reaction end time. The method for producing a compensating plate for a liquid crystal display element according to claim 1, wherein the method comprises substantially the reaction product thus obtained.
【請求項3】 1分子中に6個以上のフェノール性ヒド
ロキシル基を有する平面状縮合環化合物が、2,3,
6,7,10,11−ヘキサヒドロキシトリフェニレン
であることを特徴とする請求項1または2記載の液晶表
示素子用補償板の製造方法。
3. A planar fused ring compound having 6 or more phenolic hydroxyl groups in one molecule is 2, 3,
The method for producing a compensating plate for a liquid crystal display device according to claim 1 or 2, which is 6,7,10,11-hexahydroxytriphenylene.
【請求項4】 炭素数6以上の複数種のカルボン酸化合
物が、1分子中に1個のカルボキシル基を有する化合物
および/または1分子中に2個以上のカルボキシル基を
有するカルボン酸化合物であることを特徴とする請求項
1乃至3のいずれか1項記載の液晶表示素子用補償板の
製造方法。
4. A plurality of carboxylic acid compounds having 6 or more carbon atoms are compounds having one carboxyl group in one molecule and / or carboxylic acid compounds having two or more carboxyl groups in one molecule. 4. The method for manufacturing a compensating plate for a liquid crystal display device according to claim 1, wherein the compensating plate is a liquid crystal display device.
【請求項5】 アセチル化剤が、無水酢酸であることを
特徴とする請求項1乃至4のいずれか1項記載の液晶表
示素子用補償板の製造方法。
5. The method for producing a compensating plate for a liquid crystal display device according to claim 1, wherein the acetylating agent is acetic anhydride.
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