JPH09211440A - 液晶表示装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 液晶表示パネルの周辺部の液晶層のギャップ
長を均一化して、液晶表示パネルの表示品質を向上させ
た液晶表示パネルを提供する。 【解決手段】 一対の電極基板（１００，１１０）と、
前記一対の電極基板間に注入封止される液晶層（１０）
とを有する液晶パネルを具備する液晶表示装置であっ
て、前記液晶表示パネルが、点灯領域（Ｓ１）と、点灯
領域の外周に形成される非点灯領域（Ｓ２）とを有する
液晶表示装置において、前記一対の電極基板のいずれか
一方の電極基板（１００）の非点灯領域に１色のダミー
のカラーフィルタ（３４ａ）を設ける。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、液晶表示装置に係
わり、特に、表示品質を向上させた液晶表示装置に関す
る。

【０００２】

【従来の技術】図５は、従来のカラーＳＴＮ（Ｓｕｐｅ
ｒ Ｔｗｉｓｔｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）方式の単純マト
リクス型液晶表示装置に使用される液晶表示パネルの概
略構成を示す斜視図である。

【０００３】図６は、図５に示す液晶表示パネルを図中
Ｂ−Ｂ’線で切断した概略断面構造を示す断面図であ
る。

【０００４】図５または図６に示すように、従来のカラ
ーＳＴＮ方式の単純マトリクス型液晶表示装置に使用さ
れる液晶表示パネルにおいては、液晶層１０を基準にし
て、ガラス基板１側には、帯状の透明導電膜（ＩＴＯ）
からなる複数のセグメント電極１３が形成され、ガラス
基板２側には、帯状の透明導電膜（ＩＴＯ）からなる複
数のコモン電極１４が形成される。

【０００５】ガラス基板１の内側（液晶層１０側）に
は、複数のセグメント電極１３、配向膜７とが順次積層
され、ガラス基板２の内側（液晶層１０側）には、カラ
ーフィルタ（４ａ，４ｂ，４ｃ）および遮光膜３、保護
膜５、複数のコモン電極１４、配向膜６とが順次積層さ
れる。

【０００６】また、ガラス基板１の外側には、偏光板１
１および位相差板１５が形成され、ガラス基板２の外側
には、偏光板１２が形成される。

【０００７】図６に示すコモン電極１４とセグメント電
極１３とは、互いに直交しており、また、セグメント電
極１３は、それぞれＲ（赤色），Ｇ（緑色），Ｂ（青
色）用のセグメント電極（１３ａ，１３ｂ，１３ｃ）か
ら構成され、コモン電極１４と、セグメント電極（１３
ａ，１３ｂ，１３ｃ）との交点が１画素を構成する。

【０００８】また、カラーフィルタ（４ａ，４ｂ，４
ｃ）を取り巻くように、格子状の遮光膜３が形成されて
おり、したがって、格子状の遮光膜３は、コモン電極１
４の間、および、セグメント電極１３の間に対向する位
置に配置される。

【０００９】さらに、図６に示すように、液晶層１０に
は、液晶層１０の厚さを均一に保つためのスペーサ８が
封入される。

【００１０】図５に示すように、従来の液晶表示パネル
においては、実際に画像が表示される点灯領域（Ｓ１）
と、前記点灯領域（Ｓ１）の外周に形成され、画像が表
示されることのない非点灯領域（Ｓ２）に分割される。

【００１１】なお、図５中の一点鎖線で囲った領域（Ｓ
３）は、枠上のフレーム（カバー）を配置したときの表
示領域で、実際にユーザーの目に入る領域である有効表
示領域を表している。

【００１２】図６に示すように、コモン電極基板１００
の非点灯領域（Ｓ２）には、ダミーのカラーフィルタ
（３４ａ，３４ｂ，３４ｃ）、遮光膜３３およびダミー
電極（図示せず）が、また、セグメント電極基板１１０
の非点灯領域（Ｓ２）には、ダミー電極３５が設けられ
る。

【００１３】この非点灯領域（Ｓ２）は、点灯領域（Ｓ
１）の周辺部の液晶層１０のギャップ長（液晶層１０の
厚さ）を均一にするために設けられる領域であり、この
非点灯領域（Ｓ２）は、３ないし１０画素分の大きさを
有する。

【００１４】図７は、図６に示す液晶表示パネルのカラ
ーフィルタ、ダミーのカラーフィルタおよび遮光膜の配
置関係を説明するための図であり、図５のＡの領域にお
ける点灯領域（Ｓ１）のカラーフィルタ（４ａ，４ｂ，
４ｃ）、非点灯領域（Ｓ２）のダミーのカラーフィルタ
（３４ａ，３４ｂ，３４ｃ）および遮光膜（３，３３）
の配置関係を示している。

【００１５】コモン電極基板１００の点灯領域（Ｓ１）
の遮光膜３および非点灯領域（Ｓ２）の遮光膜３３は格
子上に形成され、また、コモン電極基板１００の点灯領
域（Ｓ１）のカラーフィルタ（４ａ，４ｂ，４ｃ）およ
び非点灯領域（Ｓ２）のダミーのカラーフィルタ（３４
ａ，３４ｂ，３４ｃ）は、一の方向（図７に示す例で
は、縦方向）には同一色で、一方向と直交する他の方向
（図７に示す例では、横方向）にはＲ（赤色）→Ｇ（緑
色）→Ｂ（青色）の順に形成される。

【００１６】ここで、点灯領域（Ｓ１）のカラーフィル
タ（４ａ，４ｂ，４ｃ）、および、非点灯領域（Ｓ２）
のダミーのカラーフィルタ（３４ａ，３４ｂ，３４ｃ）
は、ガラス基板２の基板端より３ｍｍ程度内側に方形状
に形成される。

【００１７】なお、前記ガラス基板２、遮光膜（３，３
３）、カラーフィルタ（４ａ，４ｂ，４ｃ）、ダミーの
カラーフィルタ（３４ａ，３４ｂ，３４ｃ）、保護膜
５、電極（複数のコモン電極１４およびダミー電極）、
配向膜６、偏光板１２が、コモン電極基板１００を構成
し、また、ガラス基板１、電極（複数のセグメント電極
１３およびダミー電極３５）、配向膜７、偏光板１１、
位相差板１５が、セグメント電極基板１１０を構成す
る。

【００１８】図５または図６に示す液晶表示パネルは、
例えば、以下の工程により製造される。

【００１９】（１）工程１ ガラス基板２上に、遮光膜（３，３３）、カラーフィル
タ（４ａ，４ｂ，４ｃ）、ダミーのカラーフィルタ（３
４ａ，３４ｂ，３４ｃ）、保護膜５、電極（コモン電極
１４およびダミー電極）、配向膜６を形成して、コモン
電極基板１００を製造する。

【００２０】同じように、ガラス基板２上に、電極（セ
グメント電極１３およびダミー電極３５）、配向膜７を
形成して、セグメント電極基板１１０を製造する。

【００２１】（２）工程２ コモン電極基板１００の周囲にシール材９を形成し、シ
ール材９の内側にスペーサ８を配置する。

【００２２】（３）工程３ コモン電極基板１００とセグメント電極基板１１０との
パターン面を合わせ、コモン電極基板１００とセグメン
ト電極基板１１０との外面を加圧した状態で加熱しシー
ル材９を硬化させ、コモン電極基板１００とセグメント
電極基板１１０とを接着シールする。

【００２３】（４）工程４ シール材の開口部から液晶層１０を注入し、開口部をエ
ポキシ樹脂等で封止し、最後に、ガラス基板（１，２）
の上に、位相差板１５および偏光板（１４，１５）を貼
り付ける。

【００２４】図８、図９は、図５または図６に示す液晶
表示パネルにおける、コモン電極基板１００の遮光膜
（３，３３）、カラーフィルタ（４ａ，４ｂ，４ｃ）、
ダミーのカラーフィルタ（３４ａ，３４ｂ，３４ｃ）、
保護膜５、電極（コモン電極１４およびダミー電極）の
製造工程の一例を示す図である。

【００２５】図８、図９に示すように、図５または図６
に示す液晶表示パネルにおける、コモン電極基板１００
の遮光膜（３，３３）、カラーフィルタ（４ａ，４ｂ，
４ｃ）、ダミーのカラーフィルタ（３４ａ，３４ｂ，３
４ｃ）、保護膜５、電極（コモン電極１４およびダミー
電極）はフォトリソグラフィにより形成される。

【００２６】（１１）工程１１ ガラス基板２上に、黒色顔料を分散したネガ型感光性樹
脂膜からなるレジスト膜５１を塗布する（図８の
（ａ））。

【００２７】（１２）工程１２ 前記レジスト膜５１上に、遮光膜パターンが形成されて
いるフォトマスク５２を用いて紫外線５３を照射し、前
記レジスト膜５１に遮光膜パターンを露光する（図８の
（ｂ））。

【００２８】（１３）工程１３ 前記レジスト膜５１に現像処理を施して、前記ガラス基
板２上に遮光膜（３，３３）を形成する（図８の
（ｃ））。

【００２９】（１４）工程１４ 前記遮光膜（３，３３）が形成されたガラス基板２上
に、赤色顔料を分散したネガ型感光性樹脂膜からなるレ
ジスト膜５４を塗布する（図８の（ｄ））。

【００３０】（１５）工程１５ 前記レジスト膜５４上に、Ｒ（赤色）のフィルタパター
ンが形成されているフォトマスク５５を用いて紫外線５
３を照射し、前記レジスト膜５４にＲ（赤色）のフィル
タパターンを露光する（図８の（ｅ））。

【００３１】（１６）工程１６ 前記レジスト膜５４に現像処理を施して、前記ガラス基
板２上で、かつ、遮光膜（３，３３）の間にＲ（赤色）
のカラーフィルタ４ａ、および、Ｒ（赤色）のダミーの
カラーフィルタ３４ａを形成する（図９の（ｆ））。

【００３２】（１７）工程１７ 同様な工程により、前記ガラス基板２上で、かつ、遮光
膜（３，３３）の間にＧ（緑色）のカラーフィルタ４
ｂ、Ｇ（緑色）のダミーのカラーフィルタ３４ｂ、Ｂ
（青色）のカラーフィルタ４ｃ、Ｂ（青色）のダミーの
カラーフィルタ３４ｃを形成する（図９の（ｇ））。

【００３３】（１８）工程１８ 保護膜５を形成する（図９の（ｈ））。

【００３４】（１９）工程１９ 保護膜５上に、透明導電膜（ＩＴＯ膜）を蒸着（あるい
はスパッタ）により形成し、その上にレジスト膜を塗布
し、電極（コモン電極１４およびダミー電極）の電極パ
ターンが形成されたフォトマスクを用いて、露光・現像
・エッチングを施して、電極（コモン電極１４およびダ
ミー電極）を形成する（図９の（ｉ））。

【００３５】この場合に、低コスト、高耐熱性を利点と
する顔料分散方式の遮光膜（３，３３）、カラーフィル
タ（４ａ，４ｂ，４ｃ）およびダミーのカラーフィルタ
（３４ａ，３４ｂ，３４ｃ）のレジスト膜の塗布には、
効率がよく、省レジスト性の高いレジスト膜の塗布を可
能にするロッドコーティング方式が使用されている。

【００３６】図１０は、ロッドコーティング方式による
レジスト膜の塗布方法を説明するための図であり、図１
０（ａ）は、ロッドコーティング方式の主要部を示す断
面図であり、図１０（ｂ）は、その塗布方法の概略を示
す図である。

【００３７】図１０に示すように、ロッドコーティング
方式は、ワイヤ７３が巻かれたロッドバー７０と抑えロ
ーラ７１とでガラス基板１を挟持し、ロッドバー７０と
抑えローラ７１とを回転させてガラス基板２上にレジス
ト膜７２を塗布していく方式である。

【００３８】

【発明が解決しようとする課題】図１１は、図６または
図７に示す液晶表示パネルの保護膜５、カラーフィルタ
（４ａ，４ｂ，４ｃ）、ダミーのカラーフィルタ（３４
ａ，３４ｂ，３４ｃ）および遮光膜（３，３３）との配
置関係を、より詳細に説明するための図である。

【００３９】図６または図７に示すカラー液晶表示パネ
ルにおいては、遮光膜（３，３３）の上に、カラーフィ
ルタ（４ａ，４ｂ，４ｃ）およびダミーのカラーフィル
タ（３４ａ，３４ｂ，３４ｃ）を形成する場合、光漏れ
防止等の理由により、遮光膜（３，３３）と、カラーフ
ィルタ（４ａ，４ｂ，４ｃ）およびダミーのカラーフィ
ルタ（３４ａ，３４ｂ，３４ｃ）とを重ね合わせるよう
にしている。

【００４０】したがって、図１１に示すように、遮光膜
（３，３３）と、カラーフィルタ（４ａ，４ｂ，４ｃ）
およびダミーのカラーフィルタ（３４ａ，３４ｂ，３４
ｃ）とを重ね合わせた部分と、カラーフィルタ（４ａ，
４ｂ，４ｃ）だけの部分およびダミーのカラーフィルタ
（３４ａ，３４ｂ，３４ｃ）だけの部分とでは段差２５
が生じることになり、この段差２５は、保護膜５により
平坦化を行うことになる。

【００４１】しかしながら、一般に、例えば、前記図８
または図９に示す方法により形成されたカラーフィルタ
（４ａ，４ｂ，４ｃ）およびダミーのカラーフィルタ
（３４ａ，３４ｂ，３４ｃ）の膜厚は、Ｒ（赤色）、Ｇ
（緑色）、Ｂ（青色）の各顔料の材質の違い等により、
Ｒ（赤色）、Ｇ（緑色）、Ｂ（青色）の各色のカラーフ
ィルタ毎に相違する。

【００４２】さらに、ホトリソグラフィによりＲ（赤
色）、Ｇ（緑色）、Ｂ（青色）の各色のカラーフィルタ
を形成する場合に、例えば、ロッドコーティング方式に
よりレジスト膜を塗布するときのレジスト膜の塗布量の
ばらつきにより、Ｒ（赤色）、Ｇ（緑色）、Ｂ（青色）
の各カラーフィルタ（４ａ，４ｂ，４ｃ）でも、その膜
厚にばらつきが生じる。

【００４３】そのため、前記段差２５のガラス基板２か
らの距離（高さ）は各段差２５毎に異なり、即ち、各段
差２５毎にガラス基板２からの距離（高さ）にばらつき
が生じ、カラーフィルタ（４ａ，４ｂ，４ｃ）およびダ
ミーのカラーフィルタ（３４ａ，３４ｂ，３４ｃ）の平
坦性を悪化させる。

【００４４】したがって、このようなガラス基板２から
の距離（高さ）がそれぞれ異なる、カラーフィルタ（４
ａ，４ｂ，４ｃ）およびダミーのカラーフィルタ（３４
ａ，３４ｂ，３４ｃ）に生じる各段差２５を保護膜５に
より平坦化をおこなったとしても、ＳＴＮ（Ｓｕｐｅｒ
Ｔｗｉｓｔｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）型液晶で必要とされ
る０．０５μｍ以下の平坦度を得ることは困難であり、
保護膜５の表面に凹凸２７が発生する。

【００４５】前記保護膜５の表面に発生する凹凸２７
は、コモン電極基板１００とセグメント電極基板１１０
との間に注入封止される液晶層１０のギャップ長のばら
つきの原因となる。

【００４６】そして、ＳＴＮ型液晶表示パネルにおける
光の透過率は液晶層１０の厚さに依存するため、即ち、
前記液晶層１０のギャップ長のばらつきにより液晶層１
０のしきい値電圧が異なるため、液晶表示パネルの表示
画面に色むら等の表示むらが生じ、カラー液晶表示パネ
ルの表示品質を低下させるという問題点があった。

【００４７】特に、液晶表示パネルの非点灯領域（Ｓ
２）に形成されるダミーのカラーフィルタ（３４ａ，３
４ｂ，３４ｃ）の平坦性が悪化し、非点灯領域（Ｓ２）
の保護膜５の表面に凹凸２７が生じると、液晶表示パネ
ルの点灯領域（Ｓ１）の液晶層１０のギャップ長が不均
一となり、液晶表示パネルの点灯領域（Ｓ１）の周辺部
に色むら等の表示むらが生じ、液晶表示パネルの表示品
質を著しく損なわせるという問題点があった。

【００４８】本発明は、前記従来技術の問題点を解決す
るためになされたものであり、本発明の目的は、液晶表
示装置において、液晶表示パネルの周辺部の液晶層のギ
ャップ長を均一化して、液晶表示パネルの表示品質を向
上させることが可能となる技術を提供することにある。

【００４９】本発明の前記目的並びにその他の目的及び
新規な特徴は、本明細書の記載及び添付図面によって明
らかにする。

【００５０】

【課題を解決するための手段】本願において開示される
発明のうち、代表的なものの概要を簡単に説明すれば、
下記の通りである。

【００５１】（１）一対の電極基板と、前記一対の電極
基板間に注入封止される液晶層とを有する液晶パネルを
具備する液晶表示装置であって、前記液晶表示パネル
が、点灯領域と、点灯領域の外周に形成される非点灯領
域とを有する液晶表示装置において、前記一対の電極基
板のいずれか一方の電極基板の非点灯領域に１色のダミ
ーのカラーフィルタを設けたことを特徴とする。

【００５２】前記手段によれば、液晶表示パネルを構成
する一対の電極基板の一方の電極基板の非点灯領域に１
色のカラーフィルタからなるダミーのカラーフィルタを
設け、液晶表示パネルの非点灯領域におけるダミーのカ
ラーフィルタの平坦性を向上させるようにしたので、液
晶表示パネルの点灯領域の周辺部の液晶層のギャップ長
を均一化することができ、これにより、液晶表示パネル
の点灯領域の周辺部の表示品質を向上させることが可能
となる。

【００５３】

【発明の実施の形態】以下、本発明をカラーＳＴＮ方式
の単純マトリクス型液晶表示装置に適用した発明の実施
の形態を図面を参照して詳細に説明する。

【００５４】なお、発明の実施の形態を説明するための
全図において、同一機能を有するものは同一符号を付
け、その繰り返しの説明は省略する。

【００５５】本発明の一発明の実施の形態であるカラー
ＳＴＮ方式の単純マトリクス型液晶表示装置に使用され
る液晶表示パネルの概略構成は、前記図５に示す従来の
液晶表示パネルと同じである。

【００５６】図１は、本発明の一発明の実施の形態であ
るカラーＳＴＮ方式の単純マトリクス型液晶表示装置に
使用される液晶表示パネルの概略断面構造を示す断面図
である。

【００５７】図２は、図１に示す液晶表示パネルの点灯
領域（Ｓ１）のカラーフィルタ、非点灯領域（Ｓ２）の
ダミーのカラーフィルタおよび遮光膜の配置関係を説明
するための図である。

【００５８】なお、図１は、本発明の実施の形態の液晶
表示パネルを、前記図５中Ｂ−Ｂ’線と同じ切断線で切
断した概略断面構造を示す断面図であり、図２は、本発
明の実施の形態の液晶表示パネルにおける、前記図５の
Ａの領域と同じ領域の点灯領域（Ｓ１）のカラーフィル
タ、非点灯領域（Ｓ２）のダミーのカラーフィルタおよ
び遮光膜との配置関係を示している。

【００５９】本発明の実施の形態の液晶表示パネルは、
コモン電極基板１００の非点灯領域（Ｓ２）に、Ｒ（赤
色）の１色のダミーのカラーフィルタ３４ａを形成する
ようにした点で、前記図５に示す従来の液晶表示パネル
と相違する。

【００６０】即ち、本発明の実施の形態の液晶表示パネ
ルでは、図１または図２に示すように、コモン電極基板
１００の非点灯領域（Ｓ２）には、１色のＲ（赤色）の
ダミーのカラーフィルタ３４ａが形成され、また、コモ
ン電極基板１００の点灯領域（Ｓ１）には、Ｒ（赤
色），Ｇ（緑色），Ｂ（青色）の３色のカラーフィルタ
（４ａ，４ｂ，４ｃ）が形成され、このＲ（赤色），Ｇ
（緑色），Ｂ（青色）の３色のカラーフィルタ（４ａ，
４ｂ，４ｃ）は、一の方向（図７に示す例では、縦方
向）には同一色で、一方向と直交する他の方向（図７に
示す例では、横方向）にはＲ（赤色）→Ｇ（緑色）→Ｂ
（青色）の順に形成される。

【００６１】したがって、本発明の実施の形態の液晶表
示パネルでは、ガラス基板２の内側（液晶層１０側）
に、カラーフィルタ（４ａ，４ｂ，４ｃ）、ダミーのカ
ラーフィルタ３４ａおよび遮光膜３、保護膜５、電極
（複数のコモン電極１４およびダミー電極）、配向膜６
とが順次積層される。

【００６２】なお、ガラス基板１の内側（液晶層１０
側）には、従来の液晶表示パネルと同様、電極（複数の
セグメント電極１３およびダミー電極３５）、配向膜７
とが順次積層され、また、ガラス基板１の外側には、偏
光板１１および位相差板１５が形成され、ガラス基板２
の外側には、偏光板１２が形成される。

【００６３】本発明の実施の形態の液晶表示パネルにお
いても、前記ガラス基板２、遮光膜（３，３３）、カラ
ーフィルタ（４ａ，４ｂ，４ｃ）、ダミーのカラーフィ
ルタ３４ａ、保護膜５、電極（コモン電極１４およびダ
ミー電極）、配向膜６、偏光板１２が、コモン電極基板
１００を構成し、また、ガラス基板１、電極（複数のセ
グメント電極１３およびダミー電極３５）、配向膜７、
偏光板１１、位相差板１５が、セグメント電極基板１１
０を構成する。

【００６４】このように、本発明の実施の形態の液晶表
示パネルにおいては、コモン電極基板１００の非点灯領
域（Ｓ２）に、１色のＲ（赤色）のダミーのカラーフィ
ルタ３４ａを形成するようにしたので、ダミーのカラー
フィルタ３４ａに生じる各段差２５の、ガラス基板２か
らの距離（高さ）をほぼ同一とすることができる。

【００６５】また、ダミーのカラーフィルタ３４ａを形
成する際の、レジスト膜の塗布量のばらつきより生じる
ダミーのカラーフィルタ３４ａの膜厚のばらつきも、従
来の液晶表示パネルに比して軽減することが可能とな
る。

【００６６】この場合に、前記ダミーのカラーフィルタ
の膜厚のばらつきは、カラーフィルタ（４ａ，４ｂ，４
ｃ）の製造工程において、レジスト膜の塗布量のばらつ
きが少ないカラーフィルタを使用することにより、さら
に、前記ダミーのカラーフィルタの膜厚のばらつきを軽
減することが可能である。

【００６７】したがって、本発明の実施の形態の液晶表
示パネルにおいては、非点灯領域（Ｓ２）に形成される
ダミーのカラーフィルタの平坦性を向上させて、保護膜
５の表面に発生する凹凸２７を小さく、即ち、保護膜５
の平坦性を向上させることができ、これにより、液晶表
示パネルの点灯領域（Ｓ１）の周辺部の液晶層１０のギ
ャップ長を均一化して、液晶表示パネルの点灯領域（Ｓ
１）の周辺部の液晶層１０のギャップ長のばらつきによ
り生じる色むら等の表示むらの発生を抑止して、液晶表
示パネルの表示品質を向上させることが可能となる。

【００６８】さらに、近年、液晶表示パネルの狭額縁化
が進み、非点灯領域（Ｓ２）に形成されるダミーのカラ
ーフィルタの平坦性を向上させることが必須となってい
るが、本発明の実施の形態の液晶表示パネルにおいて
は、非点灯領域（Ｓ２）におけるダミーのカラーフィル
タの平坦性を向上させることができるので、液晶表示パ
ネルを容易に狭額縁化することが可能である。

【００６９】本発明の実施の形態の液晶表示パネルの、
カラーフィルタ（４ａ，４ｂ，４ｃ，３４ａ）は、例え
ば、前記図８または図９に示すホトリソグラフィにより
形成することができる。

【００７０】この場合に、図８の（ｅ）に示すフォトマ
スク５５として、図３または図４に示すカラーフィルタ
パターンのフォトマスクを用いる必要がある。

【００７１】図３、図４は、本発明の実施の形態の液晶
表示パネルの、カラーフィルタ（４ａ，４ｂ，４ｃ）お
よびダミーのカラーフィルタ３４ａの製造工程に使用さ
れるフォトマスクのフィルタパターンを示す模式図であ
る。

【００７２】図３、図４において、５５ａ，５５ｂはそ
れぞれフォトマスクであり、６１は紫外線が透過する光
透過部、６２は紫外線が透過しない光遮光部である。

【００７３】図３に示すフォトマスク５５ａを用いて、
コモン電極基板１００の点灯領域（Ｓ１）および非点灯
領域（２）に、Ｒ（赤色）のカラーフィルタ４ａおよび
Ｒ（赤色）のダミーのカラーフィルタ３４ａを形成し、
図４に示すフォトマスク５５ｂを用いて、コモン電極基
板１００の点灯領域（Ｓ１）に、Ｇ（緑色）のカラーフ
ィルタ４ｂ、Ｂ（青色）のカラーフィルタ４ｃを形成す
る。

【００７４】なお、図１または図２に示す液晶表示パネ
ルにおいて、コモン電極１４あるいはセグメント電極１
３を２つに分割、例えば、上下方向、あるいは、左右方
向に分割することも可能である また、前記発明の実施の形態では、本発明を、カラーＳ
ＴＮ方式の単純マトリクス型液晶表示装置の液晶表示パ
ネルに適用した場合について説明したが、これに限定さ
れず、本発明は、カラーＴＦＴ（Ｔｈｉｎ Ｆｉｌｍ
Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ）方式のアクティブマトリクス型
液晶表示装置の液晶表示パネルにも適用可能であること
は言うまでもない。

【００７５】以上、本発明を発明の実施の形態に基づき
具体的に説明したが、本発明は、前記発明の実施の形態
に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲
で種々変更し得ることは言うまでもない。

【００７６】

【発明の効果】本願において開示される発明のうち代表
的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば、下
記の通りである。

【００７７】（１）本発明によれば、液晶表示装置にお
いて、液晶表示パネルの非点灯領域に形成されるダミー
のカラーフィルタの平坦性を向上させることできるの
で、液晶表示パネルの点灯領域の周辺部の液晶層のギャ
ップ長を均一にして、液晶表示パネルの点灯領域の周辺
部の液晶層のギャップ長のばらつきにより生じる色むら
等の表示むらの発生を抑止することが可能となる。

【００７８】（２）本発明によれば、液晶表示装置にお
いて、液晶表示パネルの非点灯領域に形成されるダミー
のカラーフィルタの平坦性を向上させることできるの
で、液晶表示パネルを容易に狭額縁化することが可能と
なる。

【００７９】（３）本発明によれば、液晶表示装置にお
いて、液晶表示パネルの表示品質を向上させることが可
能となる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一発明の実施の形態であるカラーＳＴ
Ｎ（Ｓｕｐｅｒ Ｔｗｉｓｔｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）方
式の単純マトリクス型液晶表示装置に使用される液晶表
示パネルの概略断面構造を示す断面図である。

【図２】図１に示す液晶表示パネルの点灯領域（Ｓ１）
のカラーフィルタ、非点灯領域（Ｓ２）のダミーのカラ
ーフィルタおよび遮光膜の配置関係を説明するための図
である。

【図３】本発明の実施の形態の液晶表示パネルの、カラ
ーフィルタの製造工程に使用されるフォトマスクのフィ
ルタパターンを示す模式図である。

【図４】本発明の実施の形態の液晶表示パネルの、カラ
ーフィルタの製造工程に使用されるフォトマスクのフィ
ルタパターンを示す模式図である。

【図５】従来のカラーＳＴＮ方式の単純マトリクス型液
晶表示装置に使用される液晶表示パネルの概略構成を示
す斜視図である。

【図６】図５に示す液晶表示パネルを図中Ｂ−Ｂ’線で
切断した概略断面構造を示す断面図である。

【図７】図６に示す液晶表示パネルのカラーフィルタ、
ダミーのカラーフィルタおよび遮光膜の配置関係を説明
するための図である。

【図８】図５または図６に示す液晶表示パネルにおけ
る、コモン電極基板の遮光膜、カラーフィルタ、ダミー
のカラーフィルタ、保護膜、電極の製造工程の一例を示
す図である。

【図９】図５または図６に示す液晶表示パネルにおけ
る、コモン電極基板の遮光膜、カラーフィルタ、ダミー
のカラーフィルタ、保護膜、電極の製造工程の一例を示
す図である。

【図１０】ロッドコーティング方式によるレジスト膜の
塗布方法を説明するための図である。

【図１１】図６または図７に示す液晶表示パネルの保護
膜、カラーフィルタ、ダミーのカラーフィルタおよび遮
光膜との配置関係を、より詳細に説明するための図であ
る。

【符号の説明】

１，２…ガラス基板、３，３３…遮光膜、４ａ，４ｂ，
４ｃ…Ｒ（赤色），Ｇ（緑色），Ｂ（青色）のカラーフ
ィルタ、５…保護膜、６，７…配向膜、８…スぺーサ、
９…シール材、１０…液晶層、１１，１２…偏光板、１
３…セグメント電極、１４…コモン電極、１５…位相差
板、２５…段差、２７…凹凸、３４ａ，３４ｂ，３４ｃ
…ダミーのカラーフィルタ、５１，５４，７２…レジス
ト膜、５２，５５，５５ａ，５５ｂ…フォトマスク、５
３…紫外線、７０…ロッドバー、７１…抑えローラ、７
３…ワイヤ、１００…コモン電極基板、１１０…セグメ
ント電極基板。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 星野 登 千葉県茂原市早野3300番地 株式会社日立 製作所電子デバイス事業部内

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 一対の電極基板と、前記一対の電極基板
   間に注入封止される液晶層とを有する液晶パネルを具備
   する液晶表示装置であって、前記液晶表示パネルが、点
   灯領域と、点灯領域の外周に形成される非点灯領域とを
   有する液晶表示装置において、前記一対の電極基板のい
   ずれか一方の電極基板の非点灯領域に１色のダミーのカ
   ラーフィルタを設けたことを特徴とする液晶表示装置。