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JPH09206296A - X-ray photographing device - Google Patents

X-ray photographing device

Info

Publication number
JPH09206296A
JPH09206296A JP1728296A JP1728296A JPH09206296A JP H09206296 A JPH09206296 A JP H09206296A JP 1728296 A JP1728296 A JP 1728296A JP 1728296 A JP1728296 A JP 1728296A JP H09206296 A JPH09206296 A JP H09206296A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
scintillator
light
image pickup
shielding plate
light shielding
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP1728296A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP3339285B2 (en
Inventor
Yasuichi Oomori
康以知 大森
Toshiyoshi Yamamoto
敏義 山本
Yoshihiro Ino
芳浩 井野
Yasuhiko Makaji
康彦 眞梶
Yuji Matsuda
祐二 松田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Matsushita Electric Industrial Co Ltd filed Critical Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority to JP1728296A priority Critical patent/JP3339285B2/en
Publication of JPH09206296A publication Critical patent/JPH09206296A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP3339285B2 publication Critical patent/JP3339285B2/en
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Expired - Fee Related legal-status Critical Current

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  • Measurement Of Radiation (AREA)
  • Apparatus For Radiation Diagnosis (AREA)
  • Solid State Image Pick-Up Elements (AREA)
  • Light Receiving Elements (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To convert X-rays directly into electric signals, to enhance resolution and detecting efficiency, and to allow easy manufacture. SOLUTION: A unit picture element on the photographic side of a CCD (image sensing device) 1 consists of stepped light-sensing and -blocking parts 2, 5, and scintillator crystals that convert radiation into visible rays are developed directly on a photographic surface by a crystal developing means such as deposition. The columnar crystals 7a, 7b of the scintillator grow from independent nuclei according to the unevenness of the photographic surface, so that a photodiode part 2 that detects light is spatially isolated from other parts.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、医療用のX線画像
撮影装置、特に歯科診療において使用されるX線画像撮
影装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a medical X-ray imaging apparatus, and more particularly to an X-ray imaging apparatus used in dental practice.

【0002】[0002]

【従来の技術】人体の透過X線写真の撮影は医科及び歯
科の診断方法として広く行われてきた。例えば歯科にお
ける歯牙部の口腔内撮影は口腔外にX線発生装置を配置
し、口腔内の歯牙裏面にフィルムを指先で当接支持し、
フィルムをX線発生装置から放射され被写体である歯牙
部を透過したX線で感光させX線写真を得る。またパノ
ラマ撮影では固定された患者の周囲をX線源とフィルム
とを同期的にフィルムの移動を伴いながら回転しつつ、
スリット状のX線を照射してフィルムにX線写真を撮影
する。
2. Description of the Related Art Transmission X-ray photography of a human body has been widely performed as a medical and dental diagnostic method. For example, for intraoral radiography of a tooth part in dentistry, an X-ray generator is placed outside the oral cavity, and a film is brought into contact with and supported by a fingertip on the back surface of the tooth in the oral cavity,
An X-ray photograph is obtained by exposing the film to X-rays emitted from an X-ray generator and transmitted through a tooth portion which is a subject. In panoramic photography, the X-ray source and the film are synchronously rotated around the fixed patient while the film is moved,
An X-ray photograph is taken on the film by irradiating slit-shaped X-rays.

【0003】しかしながら、フィルムによるX線写真の
撮影は、X線照射後に、フィルムの現像、定着、水洗等
の手間と時間がかかるとともに、フィルムの保管や管理
も容易でない。
However, taking an X-ray photograph with a film takes time and labor for developing, fixing, washing with water, etc. after the X-ray irradiation, and it is not easy to store and manage the film.

【0004】また、X線フィルムの感度が低いためにX
線照射時間が比較的長く、口腔内の歯牙撮影では手指の
動き、またパノラマ撮影においては頭部の動きによるぶ
れが生じやすく診断に影響を及ぼすことがある。
In addition, since the sensitivity of X-ray film is low, X
The ray irradiation time is relatively long, and blurring due to finger movements in intraoral radiography or head movements in panoramic radiography is likely to occur, which may affect the diagnosis.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】X線フィルムの代わり
にX線を直接電気信号に変換する固体撮像素子を用いれ
ば、撮影画像を電気信号として保管できるため保管や管
理が容易になる。
If a solid-state image sensor that directly converts X-rays into electric signals is used instead of the X-ray film, the photographed image can be stored as an electric signal, which facilitates storage and management.

【0006】X線撮影用の固体撮像素子としてCCDの
受光面側の全面にシンチレータを設けシンチレーでX線
を可視光であるシンチレーション光に変換し、CCDに
て検出するものがあるが、シンチレーション光には指向
性がないので画素間でのクロストークが起こり、解像度
が低下する欠点がある。またX線の検出効率をあげるに
はシンチレータを厚くする必要があるが、厚くするほど
シンチレータ内のクロストークが増え解像度が低下する
のでシンチレータの厚さが制限され検出効率の向上が困
難であった。この欠点を克服するものとしてCCDの各
画素ごとに分割してシンチレータを設けた構成が特開平
5−93780号公報に提案されている。以下特開平5
−93780号に公示された例について図面を参照しな
がら説明する。図11はX線撮像用の固体撮像素子の構
成を示すもの110は固体撮像素子、111は撮像素子
の各画素ごとに分割して設けられたシンチレータの柱状
結晶、200はガラス基板である。この従来例において
は固体撮像素子110の各画素ごとにSiO2の凸状パ
ターンが形成され、凸状パターンの上面にシンチレータ
の柱状結晶111が結晶成長されている。このような構
成ではシンチレータが固体撮像素子の画素に対応して分
割されているのでクロストークは少ないが新たに設けた
前記凸状パターンによりシンチレーション光の一部が吸
収され撮像素子の検出効率が低下する。
As a solid-state image pickup device for X-ray photography, a scintillator is provided on the entire surface of the CCD on the light-receiving surface side to convert X-rays into scintillation light, which is visible light, by a scintillation, and the CCD detects the light. Has no directivity, so that crosstalk occurs between pixels and the resolution is reduced. Further, in order to increase the detection efficiency of X-rays, it is necessary to make the scintillator thicker, but the thicker it is, the more crosstalk in the scintillator increases and the resolution deteriorates. . To overcome this drawback, Japanese Patent Laid-Open No. 5-93780 proposes a structure in which a scintillator is provided for each pixel of the CCD. The following JP-A-5
The example disclosed in No. 93780 will be described with reference to the drawings. FIG. 11 shows the structure of a solid-state image sensor for X-ray imaging. 110 is a solid-state image sensor, 111 is a columnar crystal of a scintillator provided separately for each pixel of the image sensor, and 200 is a glass substrate. In this conventional example, a convex pattern of SiO 2 is formed for each pixel of the solid-state imaging device 110, and columnar crystals 111 of a scintillator are crystal-grown on the upper surface of the convex pattern. In such a configuration, since the scintillator is divided corresponding to the pixels of the solid-state image sensor, there is little crosstalk, but part of the scintillation light is absorbed by the newly provided convex pattern and the detection efficiency of the image sensor is reduced. To do.

【0007】またCCDの撮像面の光電変換領域以外の
部分に光露光工程及びリフトオフ法により金属被膜を形
成し、メッキ電極としメッキ電極の上にメッキにより金
属壁を形成した後にシンチレータを塗布しシンチレータ
を金属壁で分離した例があるがシンチレータユニットの
製造工程が複雑であること、同製造工程にてCCDが化
学的に処理されるので劣化のおそれがあること。また、
画素サイズを小さくするとシンチレータの厚さが画素よ
り大きくなり製造が困難になる。従ってX線の検出効率
が高くかつ画素サイズが小さく解像度の良い撮像装置を
提供することはできない。
Further, a metal film is formed on a portion other than the photoelectric conversion region of the image pickup surface of the CCD by a light exposure process and a lift-off method, and a scintillator is applied after forming a metal wall by plating on the plating electrode as a plating electrode. There is an example in which the metal wall is used for separation, but the manufacturing process of the scintillator unit is complicated, and the CCD is chemically treated in the manufacturing process, which may cause deterioration. Also,
When the pixel size is reduced, the scintillator becomes thicker than the pixel, which makes manufacturing difficult. Therefore, it is impossible to provide an image pickup apparatus having a high X-ray detection efficiency, a small pixel size, and a high resolution.

【0008】本発明は上記従来の問題を解決するもの
で、X線を直接電気信号に変換でき、解像度及び検出効
率の高く、しかも製造しやすいX線撮像装置を提供する
ことを目的としたものである。
The present invention solves the above-mentioned conventional problems, and an object thereof is to provide an X-ray imaging apparatus which can directly convert X-rays into an electric signal, has high resolution and detection efficiency, and is easy to manufacture. Is.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】この目的を達成するため
に本発明の第1の手段は、撮像素子の撮像側の表面に放
射線を可視光に変換するシンチレータの結晶を直接成長
させることにより、シンチレータの柱状結晶が撮像素子
表面の凹凸に応じて別個の核から成長し、光を検出する
受光部と他の部分が空間的に分離したものである。
To achieve this object, the first means of the present invention is to directly grow a crystal of a scintillator for converting radiation into visible light on a surface of an image pickup side of an image pickup device, The columnar crystals of the scintillator grow from separate nuclei according to the unevenness of the surface of the image pickup device, and the light receiving part for detecting light and other parts are spatially separated.

【0010】また、本発明の第2の手段は、撮像素子の
画素間にシンチレータの厚さより低い遮光壁を形成し、
シンチレータの一部を分割したものである。
According to a second aspect of the present invention, a light shielding wall having a thickness smaller than that of the scintillator is formed between pixels of the image pickup device,
A part of the scintillator is divided.

【0011】さらに、本発明の第3手段は、遮光板に撮
像素子の画素ピッチに対応した格子状の穴を設け、この
穴にシンチレータを充填することにより画素毎に独立し
たシンチレータを配置したものである。
Further, according to a third aspect of the present invention, a grid-like hole corresponding to the pixel pitch of the image pickup device is provided in the light-shielding plate, and the scintillator is filled in this hole to arrange an independent scintillator for each pixel. Is.

【0012】また、本発明の第4の手段は、遮光板に撮
像素子の画像ピッチに対応した格子状の貫通孔を設け、
この貫通孔にシンチレータを充填することにより画素毎
に独立したシンチレータを配置したものである。
Further, a fourth means of the present invention is to provide a grid-like through hole corresponding to the image pitch of the image pickup element in the light shielding plate,
By filling a scintillator in this through hole, an independent scintillator is arranged for each pixel.

【0013】さらに、本発明の第5の手段は、反射板に
粘着剤を介してシンチレータ柱を形成し、遮光板の格子
状の貫通孔に前記シンチレータ柱を挿入し、シンチレー
タを構成したものである。
Further, a fifth means of the present invention is to form a scintillator by forming a scintillator column on a reflecting plate via an adhesive and inserting the scintillator column into a grid-like through hole of a light shielding plate. is there.

【0014】[0014]

【発明の実施の形態】本発明の第1の手段は、撮像素子
の各画素の受光部にそれぞれ独立してシンチレータの柱
状結晶を成長させたもので、各画素は光学的に分割さ
れ、一つの画素の柱状結晶にて変換された可視光が隣接
する画素に漏れることがきわめて少なくなる作用を有す
る。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION A first means of the present invention is that a columnar crystal of a scintillator is independently grown on a light receiving portion of each pixel of an image pickup device, and each pixel is optically divided. Visible light converted by the columnar crystals of one pixel has the effect of being extremely reduced from leaking to adjacent pixels.

【0015】また、本発明の第2の手段は遮光壁により
少なくとも画素部に近接する部分のシンチレータは画素
毎に分離されるので前記シンチレータで発生した可視光
の隣接画素への漏れが少なくなる作用を有する。さらに
本発明の第3の手段は、遮光板によりシンチレータの厚
みをましても遮光板の無い場合に比し可視光の漏れは抑
制される作用を有する。
In the second means of the present invention, since the scintillator at least in the vicinity of the pixel portion is separated for each pixel by the light shielding wall, the visible light generated by the scintillator is less likely to leak to the adjacent pixel. Have. Furthermore, the third means of the present invention has the effect of suppressing the leakage of visible light even when the thickness of the scintillator is increased by the light shielding plate as compared with the case where the light shielding plate is not provided.

【0016】また本発明の第4の手段は、画素間が遮光
板および反射板により完全に分離されるのでシンチレー
タで発生した可視光の隣接画素への漏れは防止される作
用を有する。
Further, the fourth means of the present invention has the effect of preventing the visible light generated by the scintillator from leaking to the adjacent pixels because the pixels are completely separated by the light shielding plate and the reflecting plate.

【0017】本発明の第5の手段は、反射板に粘着剤を
利用してシンチレータ柱を形成し、遮光板の格子状の貫
通孔に前記シンチレータ柱を挿入したことにより、シン
チレータからの可視光は反射板で反射し、遮光板により
可視光が隣接する画素へ漏れは抑制される作用を有す
る。
The fifth means of the present invention is to form a scintillator column on the reflection plate by using an adhesive and insert the scintillator column into the grid-like through holes of the light-shielding plate so that the visible light from the scintillator is visible. Is reflected by the reflection plate, and the light shielding plate has an effect of suppressing the leakage of visible light to the adjacent pixel.

【0018】(実施の形態1)以下本発明の実施の形態
1について、図1を参照しながら説明する。図1におい
て、1はCCDで、このCCD1の単位画素は基本的に
は光ダイオード2と垂直CCD3からなる。4はゲート
電極、5は遮光部で、この遮光部5は合成樹脂にAl、
C、Ti、Pb等が混合されている。6は絶縁層、7
a、7bはシンチレータで、シンチレータ7aはCCD
1の光ダイオード2の上に、また前記シンチレータ7b
は遮光部5の上にそれぞれ分離独立して設けたものであ
る。
(Embodiment 1) Hereinafter, Embodiment 1 of the present invention will be described with reference to FIG. In FIG. 1, reference numeral 1 is a CCD, and the unit pixel of this CCD 1 basically comprises a photodiode 2 and a vertical CCD 3. 4 is a gate electrode, 5 is a light-shielding portion, and this light-shielding portion 5 is made of synthetic resin of
C, Ti, Pb, etc. are mixed. 6 is an insulating layer, 7
a and 7b are scintillators, and scintillator 7a is a CCD
On top of the photodiode 2 and also on the scintillator 7b.
Are separately and independently provided on the light shielding portion 5.

【0019】この構成のX線撮像装置では、X線または
放射線が入射すると、分離独立して設けられたシンチレ
ータ7a、7bにてそれぞれシンチレーション光に変換
される。そして、CCD1の光ダイオード2上のシンチ
レータ7aで変換されたシンチレーション光はシンチレ
ータ7a中を伝搬し光ダイオード2に到達し、この光ダ
イオード2で電荷に変換され、垂直CCD3に移され蓄
積される。つぎにゲート電極4の操作により転送され映
像情報として出力される。また、シンチレータ7bにて
変換されたシンチレーション光は遮光部5にて遮断され
る。シンチレータ7bはシンチレータ7aと空間で分離
されているのでシンチレータ7bで変換されたシンチレ
ーション光が隣接するシンチレータ7aを経て光ダイオ
ード2に到達する割合は非常に少なく、また遮光膜5の
働きにより光ダイオード2へ直接入射することもない。
さらに遮光部5を隔てた隣の画素の光ダイオード2に設
けられたシンチレータ7aで変換されたシンチレーショ
ン光が到達することも、より多くの空間で分離されてい
るのでない。したがってCCD1を構成する画素間の光
のクロストークはなく、解像度の高いX線撮像装置が提
供される。またシンチレータ7a、7bの表面がシンチ
レーション光の反射面として働くので検出効率が向上す
る。さらにシンチレータ7a、7bの上面にA1やCr
の反射膜8を設けることにより光ダイオード2の反対側
に向かうシンチレーション光の成分も反射により光ダイ
オード2に到達し検出されるので、さらに検出効率が向
上する。
In the X-ray image pickup apparatus having this structure, when X-rays or radiation is incident, they are converted into scintillation light by scintillators 7a and 7b provided separately. Then, the scintillation light converted by the scintillator 7a on the photo diode 2 of the CCD 1 propagates through the scintillator 7a, reaches the photo diode 2, is converted into electric charge by the photo diode 2, and is transferred to the vertical CCD 3 and accumulated. Next, it is transferred by the operation of the gate electrode 4 and output as video information. Further, the scintillation light converted by the scintillator 7b is blocked by the light shielding unit 5. Since the scintillator 7b is separated from the scintillator 7a by a space, the proportion of the scintillation light converted by the scintillator 7b reaching the photodiode 2 via the adjacent scintillator 7a is very small. There is no direct incidence on.
Furthermore, the arrival of scintillation light converted by the scintillator 7a provided in the photodiode 2 of the pixel adjacent to the light shielding part 5 is not separated in a larger space. Therefore, there is no crosstalk of light between pixels forming the CCD 1, and an X-ray imaging device having high resolution is provided. Further, since the surfaces of the scintillators 7a and 7b act as a reflection surface of scintillation light, the detection efficiency is improved. Further, A1 and Cr are provided on the upper surfaces of the scintillators 7a and 7b
By providing the reflection film 8 of (1), the component of scintillation light traveling to the opposite side of the photodiode 2 also reaches the photodiode 2 by reflection and is detected, so that the detection efficiency is further improved.

【0020】つぎに、実施の形態1の製造工程について
図2を参照しながら説明する。図2(a)(b)は実施
の形態1のシンチレータ部の製造工程を示す断面図であ
る。図2(a)は加工前を示し、図2(b)は加工後を
示す。図2(a)に示すようにCCD1の撮像面は光ダ
イオード2が凹に、遮光部5が凸になって段差が形成さ
れる。蒸着または気相成長等によりシンチレータ例えば
CsIを撮像面に結晶成長させると、凹の光ダイオード
2と凸の遮光部5から柱状結晶が別個に成長し、図2
(b)に示すように分離したシンチレータ7a、7bが
得られる。このシンチレータ7a、7bの上面に蒸着に
より反射膜8を設ける。このように実施の形態2によれ
ば簡単に高解像度で変換効率の高いX線撮像装置が得ら
れる。
Next, the manufacturing process of the first embodiment will be described with reference to FIG. 2A and 2B are cross-sectional views showing the manufacturing process of the scintillator portion according to the first embodiment. FIG. 2A shows a state before processing, and FIG. 2B shows a state after processing. As shown in FIG. 2A, on the image pickup surface of the CCD 1, the photodiode 2 is concave and the light-shielding portion 5 is convex to form a step. When a scintillator, for example, CsI, is crystal-grown on the imaging surface by vapor deposition or vapor phase growth, columnar crystals are separately grown from the concave photodiode 2 and the convex light-shielding portion 5.
The separated scintillators 7a and 7b are obtained as shown in (b). A reflective film 8 is provided on the upper surfaces of the scintillators 7a and 7b by vapor deposition. As described above, according to the second embodiment, it is possible to easily obtain an X-ray imaging apparatus having high resolution and high conversion efficiency.

【0021】なお、シンチレータ7a、7bをCsIと
して説明したが同様な作用のある輝尽性シンチレータ等
でも良い。また反射膜8をA1及びCrで説明したが、
これに限定されるものではない。
Although the scintillators 7a and 7b have been described as CsI, they may be photostimulable scintillators having similar functions. Further, although the reflective film 8 has been described with A1 and Cr,
It is not limited to this.

【0022】(実施の形態2)以下本発明の実施の形態
2について、図3を参照しながら説明する。図3におい
て30は遮光壁、31はシンチレータである。なお図1
と同じ構成部分については同じ符号で示し、同様にCC
D1の単位画素は基本的に光ダイオード2と垂直CCD
3からなる。実施の形態2では垂直CCD3を覆う遮光
部5上に遮光壁30が設けられ、各単位画素間を分割す
る。そして、シンチレータ31は撮像面全体に設けられ
ておりシンチレータ31の厚みは遮光壁30より厚い。
(Second Embodiment) The second embodiment of the present invention will be described below with reference to FIG. In FIG. 3, 30 is a light shielding wall and 31 is a scintillator. FIG. 1
The same components as those shown in FIG.
The unit pixel of D1 is basically a photodiode 2 and a vertical CCD.
Consists of three. In the second embodiment, the light shielding wall 30 is provided on the light shielding portion 5 that covers the vertical CCD 3 and divides each unit pixel. The scintillator 31 is provided on the entire image pickup surface, and the scintillator 31 is thicker than the light shielding wall 30.

【0023】この構成のX線撮像装置について以下その
動作を説明する。X線がシンチレータ31に入射すると
シンチレーション光に変換される。このシンチレーショ
ン光は光ダイオード2に到達し実施の形態1と同様の過
程を経て映像情報が出力される。そして、X線はシンチ
レーション光に変換されると指向性を失う。したがって
シンチレーション光の成分の内でX線が入射した位置の
光ダイオード2に到達する以外に隣の画素の光ダイオー
ド2に到達する成分もある。これがクロストークとな
る。この実施の形態2では画素間に遮光壁30が設けら
れているので、シンチレーション光の隣の画素の光ダイ
オード2へのクロストークが防がれる。遮光壁30の高
さはシンチレータ31の厚さより低く遮光は十分ではな
いが遮光壁30の無い場合に比してクロストークの量は
大幅に低減される。遮光壁30の高さがシンチレータ3
1より低い利点としては印刷にて遮光壁が形成できる点
にある。一般に印刷でこのような構成の遮光壁30を形
成する場合、遮光壁30の高さを高めることが難しい。
一方、シンチレータ31はX線を効率良く吸収、変換す
るためにある程度厚さが必要である。実施の形態2はこ
のような制約を満たすものでX線を検出するのに適当な
シンチレータ31の厚さがあり、かつ遮光壁30が簡単
に形成できることである。また遮光壁30にPbやTi
等のX線の吸収効率が良い実行原子番号の大きな材料の
粉末を混入すればシンチレータ31を通り抜けて垂直C
CD3に飛び込むX線の量を抑制でき、垂直CCD3へ
のX線の入射による画像上の悪影響も低下する。実施の
形態2によれば、シンチレーション光のクロストークが
少ない高解像度でかつX線の検出効率の高いX線撮像装
置が得られる。
The operation of the X-ray imaging apparatus having this structure will be described below. When the X-ray enters the scintillator 31, it is converted into scintillation light. The scintillation light reaches the photodiode 2 and the image information is output through the same process as in the first embodiment. Then, the X-ray loses directivity when converted into scintillation light. Therefore, among the components of the scintillation light, there is a component that reaches the photodiode 2 of the adjacent pixel in addition to the component that reaches the photodiode 2 at the position where the X-ray is incident. This becomes crosstalk. In the second embodiment, since the light shielding wall 30 is provided between the pixels, crosstalk of the scintillation light to the photodiode 2 of the adjacent pixel can be prevented. The height of the light shielding wall 30 is lower than the thickness of the scintillator 31, and the light shielding is not sufficient, but the amount of crosstalk is significantly reduced as compared with the case where the light shielding wall 30 is not provided. The height of the light shielding wall 30 is the scintillator 3
An advantage lower than 1 is that a light shielding wall can be formed by printing. Generally, when the light shielding wall 30 having such a structure is formed by printing, it is difficult to increase the height of the light shielding wall 30.
On the other hand, the scintillator 31 needs to have a certain thickness in order to efficiently absorb and convert X-rays. The second embodiment satisfies the above constraints, and has a thickness of the scintillator 31 suitable for detecting X-rays, and the light shielding wall 30 can be easily formed. In addition, Pb and Ti are applied to the light shielding wall 30.
If a powder of a material having a large atomic number is mixed, it will pass through the scintillator 31 and a vertical C
The amount of X-rays that jump into the CD 3 can be suppressed, and the adverse effect on the image due to the incidence of X-rays on the vertical CCD 3 is also reduced. According to the second embodiment, it is possible to obtain an X-ray imaging apparatus that has high resolution and low crosstalk of scintillation light and high X-ray detection efficiency.

【0024】つぎに、実施の形態2について図4(a)
(b)(c)を参照しながら説明する。図2において図
2(a)は加工前図2(b)、(c)は加工中、後を示
す。以下工程順に説明する。まず、図2(a)に示すC
CD1の撮像面の遮光部5の上に遮光材料を混合した合
成樹脂をパターン印刷すると、図2(b)に示すように
画素間に遮光壁30が形成される。遮光成分は前記P
b、Ti、C、Cr、Al等の金属及び金属化合物の粉
末である。つぎにシンチレータを印刷すると、図3
(c)に示すようにシンチレータ31が画素間で遮光壁
30で分割された構造が得られる。実施の形態2によれ
ば簡単な製造工程にて高解像度で検出効率の高いX線撮
像装置が提供される。
Next, FIG. 4A shows the second embodiment.
Description will be made with reference to (b) and (c). In FIG. 2, FIG. 2A shows before processing, and FIGS. 2B and 2C show during processing and after processing. The steps will be described below in order. First, C shown in FIG.
By pattern-printing a synthetic resin mixed with a light-shielding material on the light-shielding portion 5 on the image pickup surface of the CD 1, a light-shielding wall 30 is formed between pixels as shown in FIG. 2B. The light-shielding component is the P
Powders of metals and metal compounds such as b, Ti, C, Cr and Al. Next, when printing the scintillator,
As shown in (c), a structure in which the scintillator 31 is divided between the pixels by the light shielding wall 30 is obtained. According to the second embodiment, an X-ray imaging device having high resolution and high detection efficiency is provided by a simple manufacturing process.

【0025】なお、撮像素子をCCDとして説明したが
他のイメージセンサであっても良い。また遮光材料とし
てPb、Ti、C、Al、Niの例をあげたが他の金属
材料及びその化合物も考えられる。
Although the image pickup device has been described as a CCD, it may be another image sensor. Although examples of Pb, Ti, C, Al, and Ni are given as the light-shielding material, other metal materials and their compounds are also conceivable.

【0026】(実施の形態3)以下、実施の形態3につ
いて、図5を参照しながら説明する。図5において50
は遮光板、51は接着剤である。なお図1と同じ構成部
分については同じ符号で示した。また、同様にCCD1
の単位画素は基本的に光ダイオード2と垂直CCD3か
らなる。実施の形態3では遮光板50に格子状に穴が設
けられ、穴にはシンチレータ31が充填される。遮光板
50とCCD1は遮光板50の穴とCCD1の各単位画
素の光ダイオード2が相対するように接着剤51にて接
着固定したものである。
(Third Embodiment) The third embodiment will be described below with reference to FIG. 50 in FIG.
Is a light shielding plate, and 51 is an adhesive. The same components as those in FIG. 1 are designated by the same reference numerals. Similarly, CCD1
The unit pixel of is basically composed of the photodiode 2 and the vertical CCD 3. In the third embodiment, holes are provided in the light shielding plate 50 in a lattice shape, and the holes are filled with the scintillator 31. The light shielding plate 50 and the CCD 1 are bonded and fixed with an adhesive 51 so that the hole of the light shielding plate 50 and the photodiode 2 of each unit pixel of the CCD 1 face each other.

【0027】この構成のX線撮像装置について以下その
動作を説明する。図5の上部より照射されたX線は遮光
板50の穴に充填されたシンチレータ31に入射しシン
チレーション光に変換される。このシンチレーション光
は接着剤51を透過してCCD1の各単位画素の光ダイ
オード2に入射し実施の形態1と同様の過程を経て映像
情報として出力される。この構成ではシンチレータ31
が遮光板50により画素間で完全に分割されており、シ
ンチレーション光の画素間のクロストークはなくなる。
The operation of the X-ray imaging apparatus having this structure will be described below. The X-rays emitted from the upper part of FIG. 5 enter the scintillator 31 filled in the holes of the light shielding plate 50 and are converted into scintillation light. The scintillation light passes through the adhesive 51, enters the photodiode 2 of each unit pixel of the CCD 1, and is output as image information through the same process as in the first embodiment. In this configuration, the scintillator 31
Is completely divided between pixels by the light shielding plate 50, and crosstalk between pixels of scintillation light is eliminated.

【0028】つぎに、実施の形態3のX線撮像装置の製
造工程を図6を参照しながら説明する。図6において5
2は黒色ポリイミドフィルム、53パターンマスク、5
4はエキシマレーザ光、55は穴である。他の符号につ
いて図5と同様であり説明は省略する。図6(a)に示
すように黒色のポリイミドフィルム52に格子状のパタ
ーンマスク53を介してエキシマレーザ光54を照射す
る。そして図6(b)に示すようにレーザ光54の照射
された部分が噴出しポリイミドフィルム52に格子状の
穴55が形成される。つぎに図6(c)に示すように、
この格子状の穴55が設けられた面にシンチレータ31
を塗布し塗布面からプレスすると、図6(d)に示すよ
うに穴55にシンチレータ31が充填されたシンチレー
タユニットが形成される。つぎに、このシンチレータユ
ニットの穴55とCCD1の各画素の光ダイオード2が
相対するように向かい合わせ接着すると、図6(e)に
示すように、シンチレータ31が画素単位で分割された
X線撮像装置が製造される。図7に格子状の穴55の別
の形成法を示す。黒色ポリイミドフィルム55に光露光
工程により格子枠71を形成した後、格子枠71を保護
膜として上面よりシリカ粒子72をふきつけると格子状
の穴55が形成される。実施の形態3によれば簡単な製
造工程にて高解像度で検出効率の高いX線撮像装置が得
られる。
Next, the manufacturing process of the X-ray imaging apparatus according to the third embodiment will be described with reference to FIG. In FIG. 6, 5
2 is a black polyimide film, 53 pattern mask, 5
4 is an excimer laser beam, and 55 is a hole. Other reference numerals are the same as those in FIG. 5, and description thereof will be omitted. As shown in FIG. 6A, the black polyimide film 52 is irradiated with excimer laser light 54 through a grid pattern mask 53. Then, as shown in FIG. 6B, the portion irradiated with the laser beam 54 is ejected to form the lattice-shaped holes 55 in the polyimide film 52. Next, as shown in FIG.
The scintillator 31 is attached to the surface provided with the lattice-shaped holes 55.
6 is applied and pressed from the application surface, a scintillator unit having holes 55 filled with scintillator 31 is formed as shown in FIG. 6D. Next, when the holes 55 of the scintillator unit and the photodiodes 2 of the pixels of the CCD 1 face each other and are bonded to each other, as shown in FIG. 6 (e), the scintillator 31 is divided into pixel units for X-ray imaging. The device is manufactured. FIG. 7 shows another method of forming the grid-shaped holes 55. After the lattice frame 71 is formed on the black polyimide film 55 by the light exposure process, the lattice frame 71 is used as a protective film and the silica particles 72 are wiped from the upper surface to form the lattice holes 55. According to the third embodiment, an X-ray imaging apparatus with high resolution and high detection efficiency can be obtained by a simple manufacturing process.

【0029】なお、実施の形態3では遮光板50を黒色
ポリイミドを用いて加工したが、黒色PETフィルム等
の遮光性を持った素材でれば良い。また、穴加工をほど
こすレーザ光をエキシマレーザとして説明したが微細加
工が可能な他のレーザ光であっても良い。また、撮像素
子をCCDとして説明したが他のイメージセンサであっ
ても良い。またシンチレータを遮光板の穴一杯に充填し
たが、一部に充填されていても良い。
Although the light shielding plate 50 is processed using black polyimide in the third embodiment, a material having a light shielding property such as a black PET film may be used. Further, the laser light for performing hole processing has been described as an excimer laser, but other laser light capable of fine processing may be used. Further, although the image pickup element is described as a CCD, another image sensor may be used. Further, although the scintillator is filled in the holes of the light shielding plate, it may be partially filled.

【0030】(実施の形態4)以下実施の形態4につい
て、図8を参照しながら説明する。図8において80は
反射板、81は反射膜である。なお、実施の形態4でも
CCD1の単位画素は基本的に光ダイオード2と垂直C
CD4からなる。実施の形態4では遮光板50に格子状
に貫通孔が設けられ、この貫通孔にはシンチレータ31
が充填される。遮光板50の上面に反射板80が設けら
れ、実施の形態3と同様に遮光板50の孔とCCD1の
各単位画素の光ダイオード2が相対するように接着剤5
1にて固定したものである。
(Embodiment 4) Hereinafter, Embodiment 4 will be described with reference to FIG. In FIG. 8, reference numeral 80 is a reflecting plate, and 81 is a reflecting film. Also in the fourth embodiment, the unit pixel of the CCD 1 is basically the photodiode 2 and the vertical C
It consists of CD4. In the fourth embodiment, through holes are provided in the light shielding plate 50 in a grid pattern, and the scintillator 31 is provided in the through holes.
Is filled. The reflection plate 80 is provided on the upper surface of the light shielding plate 50, and the adhesive 5 is provided so that the hole of the light shielding plate 50 and the photodiode 2 of each unit pixel of the CCD 1 face each other as in the third embodiment.
It was fixed at 1.

【0031】以上のように構成されたX線撮像装置につ
いて以下その動作を説明する。図8の上部より照射され
たX線は遮光板50の孔に充填されたシンチレータ31
に入射しシンチレーション光に変換される。このシンチ
レーション光は接着剤51を透過してCCD1の各単位
画素の光ダイオード2に入射し実施の形態1と同様の過
程を経て映像情報として出力される。この構成ではシン
チレータ31が遮光板50により画素間で完全に分割さ
れており、シンチレーション光の画素間でのクロストー
クはなくなる。さらに反射板80により光ダイオード2
の反対側に向かうシンチレーション光も反射により光ダ
イオード2に到達し検出されるので検出効率が向上す
る。また、貫通孔の内面に反射膜81を設けると遮光壁
が反射面として働くので検出効率がさらに向上する。
The operation of the X-ray imaging apparatus configured as above will be described below. The X-rays emitted from the upper part of FIG.
And is converted into scintillation light. The scintillation light passes through the adhesive 51, enters the photodiode 2 of each unit pixel of the CCD 1, and is output as image information through the same process as in the first embodiment. In this configuration, the scintillator 31 is completely divided between the pixels by the light shielding plate 50, and crosstalk between the pixels of scintillation light is eliminated. Furthermore, the reflector 2 allows the photodiode 2
Since the scintillation light traveling toward the opposite side of the light also reaches the photodiode 2 by reflection and is detected, the detection efficiency is improved. Further, when the reflection film 81 is provided on the inner surface of the through hole, the light shielding wall functions as a reflection surface, so that the detection efficiency is further improved.

【0032】つぎに、実施の形態4の製造工程について
図9を参照しながら説明する。図9は実施の形態4にお
けるシンチレータ部の製造工程を示す断面図である。図
9において80は反射板、90は貫通孔である。以下工
程順に説明する。まず、図9(a)に示すように黒色の
ポリイミドフィルム52に格子状のパターンマスク53
を介してエキシマレーザ光54を照射する。つぎに、図
9(b)に示すようにレーザ光54の照射された部分が
噴出しポリイミドフィルム52に格子状の貫通孔90が
形成される。そして図9(c)に示すように、この格子
状の貫通孔90が設けられた面にシンチレータ31を塗
布し塗布面からプレスすると、図9(d)に示す貫通孔
90にシンチレータ31が充填されたシンチレータユニ
ットが形成される。さらに、このユニットの貫通孔90
とCCD1の各画素の光ダイオード2が相対するように
接着し、遮光板50の上面に反射板80を接着すると、
図9(e)に示すシンチレータ31が画素単位で分割さ
れたX線撮像装置が製造される。ここで実施の形態3と
同様、粉体吹き付けによっても貫通孔90は形成でき
る。実施の形態4によれば簡単な製造工程にて高解像度
で検出効率の高いX線撮像装置が得られる。
Next, the manufacturing process of the fourth embodiment will be described with reference to FIG. FIG. 9 is a cross-sectional view showing the manufacturing process of the scintillator portion in the fourth embodiment. In FIG. 9, reference numeral 80 is a reflector and 90 is a through hole. The steps will be described below in order. First, as shown in FIG. 9A, a grid pattern mask 53 is formed on a black polyimide film 52.
The excimer laser light 54 is irradiated via the. Next, as shown in FIG. 9B, the portion irradiated with the laser beam 54 is ejected to form the lattice-shaped through holes 90 in the polyimide film 52. Then, as shown in FIG. 9C, when the scintillator 31 is applied to the surface on which the grid-like through holes 90 are provided and pressed from the applied surface, the through holes 90 shown in FIG. 9D are filled with the scintillator 31. The scintillator unit thus formed is formed. Furthermore, the through hole 90 of this unit
And the photodiode 2 of each pixel of the CCD 1 are bonded so as to face each other, and the reflection plate 80 is bonded to the upper surface of the light shielding plate 50,
An X-ray imaging device in which the scintillator 31 shown in FIG. 9E is divided in pixel units is manufactured. Here, similarly to the third embodiment, the through holes 90 can be formed by powder spraying. According to the fourth embodiment, an X-ray imaging device having high resolution and high detection efficiency can be obtained by a simple manufacturing process.

【0033】なお、実施の形態4では反射板80はAl
等の反射作用のある板であれば良い。
In the fourth embodiment, the reflector 80 is made of Al.
Any plate having a reflective action such as

【0034】(実施の形態5)以下、実施の形態5につ
いて、図面10を参照しながら説明する。図10におい
て、100は粘着フィルムで加熱により接着剤が溶解し
粘着性を持つ。以下工程順に説明する。まず、図10
(a)に示すように反射板80上に粘着フィルム100
を介してシンチレータ31の粉末を配置する。つぎに格
子状のパターンマスク53を介してエキシマレーザ光5
4を照射するとエキシマレーザが照射された部分のみ接
着剤が溶解し、シンチレータ31が固定される。さらに
振動手段により未固定のシンチレータを取り除くと図1
0(b)に示すような独立したシンチレータ柱101が
形成される。ここでシンチレータ柱101のピッチは、
後ほど貼り付けるCCD1の画素ピッチと同一である。
さらに図10(c)に示すように実施の形態4と同様の
方法にて貫通孔90を形成したポリイミドフィルムより
なる遮光板50に反射板80をそれぞれのシンチレータ
柱が貫通孔90内に挿入されるように接着固定する。こ
こでシンチレータ柱101の高さは黒色ポリイミドフィ
ルム50の厚さより低くて良い。さらに、実施の形態4
と同様にCCD1の撮像面と貼り合わせるとCCD1の
各画素に対応して独立したシンチレータ31が設けられ
たX線撮像装置が製造される。この実施の態様5におい
ても画素間は遮光板50にて分離されており、シンチレ
ーション光のクロストークが防止される。また実施の形
態4と同様に反射板80の働きにより検出効率が向上す
る。さらに貫通孔90の内面に反射膜を設けると遮光板
80が反射面として働くので検出効率がさらに向上する
ものである。以上のように実施の形態5によれば解像度
及び検出効率が高いX線撮像装置が提供される。
(Fifth Embodiment) The fifth embodiment will be described below with reference to FIG. In FIG. 10, reference numeral 100 denotes an adhesive film, which has an adhesive property by being melted by heating. The steps will be described below in order. First, FIG.
As shown in (a), the adhesive film 100 is formed on the reflection plate 80.
The powder of the scintillator 31 is placed via the. Next, the excimer laser light 5 is passed through the lattice-shaped pattern mask 53.
When 4 is irradiated, the adhesive dissolves only in the portion irradiated with the excimer laser, and the scintillator 31 is fixed. Furthermore, when the unfixed scintillator is removed by the vibrating means, FIG.
An independent scintillator column 101 as shown in 0 (b) is formed. Here, the pitch of the scintillator columns 101 is
It is the same as the pixel pitch of the CCD 1 to be attached later.
Further, as shown in FIG. 10C, a light-shielding plate 50 made of a polyimide film in which a through hole 90 is formed by the same method as that of the fourth embodiment has a reflecting plate 80 and each scintillator column is inserted into the through hole 90. Adhesive fixing Here, the height of the scintillator column 101 may be lower than the thickness of the black polyimide film 50. Furthermore, the fourth embodiment
Similarly to the above, when bonded to the image pickup surface of the CCD 1, an X-ray image pickup device in which an independent scintillator 31 is provided corresponding to each pixel of the CCD 1 is manufactured. Also in the fifth embodiment, the pixels are separated by the light shielding plate 50, and crosstalk of scintillation light is prevented. Further, similarly to the fourth embodiment, the function of the reflection plate 80 improves the detection efficiency. Further, if a reflection film is provided on the inner surface of the through hole 90, the light shielding plate 80 functions as a reflection surface, so that the detection efficiency is further improved. As described above, according to the fifth embodiment, an X-ray imaging apparatus having high resolution and high detection efficiency is provided.

【0035】なお、実施の形態5では遮光板50を黒色
ポリイミドフィルムとしたが黒色PETフィルム等の遮
光性を持った素材であれば良い。また、反射板80をA
1としたが反射作用のある板であれば良い。レーザ光を
エキシマレーザとして説明したが微細加工が可能な他の
レーザ光であっても良い。また、撮像素子はCCDとし
て説明したが他のイメージセンサであっても良い。
In the fifth embodiment, the light shielding plate 50 is a black polyimide film, but any material having a light shielding property such as a black PET film may be used. In addition, the reflector 80
Although it is set to 1, any plate having a reflecting action may be used. Although the laser light has been described as an excimer laser, it may be another laser light capable of fine processing. Further, although the image pickup element has been described as a CCD, it may be another image sensor.

【0036】[0036]

【発明の効果】以上のように本発明のX線撮像装置は、
X線をシンチレーション光に変換するシンチレータと、
シンチレーション光を検出し映像情報として出力する撮
像素子を有し、前記シンチレータが柱状結晶で撮像素子
の各単位画素毎に独立して設けられるか、前記シンチレ
ータの画素間が遮光壁にて分離されるのでシンチレーシ
ョン光のクロストークが抑制でき、解像度及び検出効率
の高いX線撮像装置を提供できる。
As described above, the X-ray imaging apparatus of the present invention is
A scintillator that converts X-rays into scintillation light;
The scintillator has an image sensor that detects scintillation light and outputs it as image information, and the scintillator is a columnar crystal and is provided independently for each unit pixel of the image sensor, or the pixels of the scintillator are separated by a light shielding wall. Therefore, crosstalk of scintillation light can be suppressed, and an X-ray imaging device with high resolution and high detection efficiency can be provided.

【0037】また、前記撮像素子の単位画素毎に独立し
て設けられたシンチレータの柱状結晶は撮像面の凹凸を
利用して蒸着等の結晶成長手段により簡単に形成でき、
また遮光壁を撮像素子の撮像面に印刷するか遮光板にレ
ーザ加工により穴もしくは貫通孔を設け前記穴または貫
通孔にシンチレータを充填し撮像素子の各画素と相対す
るように固定することで前記シンチレータの画素間を分
離する遮光壁が形成されるので、解像度及び検出効率の
高いX線撮像装置が容易に実現できる。
Further, the columnar crystal of the scintillator provided independently for each unit pixel of the image pickup device can be easily formed by crystal growth means such as vapor deposition utilizing the unevenness of the image pickup surface,
Further, by printing a light shielding wall on the image pickup surface of the image pickup device or providing a hole or a through hole in the light shield plate by laser processing, the hole or the through hole is filled with a scintillator and fixed so as to face each pixel of the image pickup device. Since the light shielding wall that separates the pixels of the scintillator is formed, it is possible to easily realize an X-ray imaging device having high resolution and high detection efficiency.

【0038】従って本発明のX線撮像装置ではX線撮影
の時間を短縮でき患者の動きによる画像のぶれも少なく
鮮明なX線画像が撮影できることや撮像素子から映像信
号が電気信号として出力されるので光磁気ディスク等の
記憶媒体へ容易に保管でき、撮影画像管理が容易となる
優れた効果を奏するものである。
Therefore, in the X-ray imaging apparatus of the present invention, the X-ray imaging time can be shortened, a clear X-ray image can be captured with less blurring of the image due to the movement of the patient, and a video signal is output as an electric signal from the imaging device. Therefore, it has an excellent effect that it can be easily stored in a storage medium such as a magneto-optical disk and the captured images can be easily managed.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の実施の形態1におけるX線撮像装置の
一部断面図
FIG. 1 is a partial sectional view of an X-ray imaging apparatus according to a first embodiment of the present invention.

【図2】(a)同X線撮像装置のシンチレータの形成前
の状態を示す一部断面図 (b)同X線撮像装置のシンチレータの形成状態を示す
一部断面図
FIG. 2A is a partial cross-sectional view showing a state before forming a scintillator of the X-ray imaging apparatus, and FIG. 2B is a partial cross-sectional view showing a formation state of the scintillator of the X-ray imaging apparatus.

【図3】本発明の実施の形態2におけるX線撮像装置の
一部断面図
FIG. 3 is a partial sectional view of an X-ray imaging apparatus according to a second embodiment of the present invention.

【図4】(a)同X線撮像装置の遮光壁の形成前の状態
を示す一部断面図 (b)同X線撮像装置の遮光壁の形成状態を示す一部断
面図 (c)同X線撮像装置のシンチレータの形成状態を示す
一部断面図
FIG. 4A is a partial cross-sectional view showing a state before forming a light-shielding wall of the X-ray imaging apparatus, and FIG. 4B is a partial cross-sectional view showing a state of forming a light-shielding wall of the X-ray imaging apparatus. Partial sectional view showing the formation state of the scintillator of the X-ray imaging apparatus.

【図5】本発明の実施の形態3におけるX線撮像装置の
一部断面図
FIG. 5 is a partial sectional view of an X-ray imaging apparatus according to a third embodiment of the present invention.

【図6】(a)同X線撮像装置の遮光板の形成工程を示
す一部略断面図 (b)同X線撮像装置の遮光板の略断面図 (c)同X線撮像装置のシンチレータの形成工程を示す
一部略断面図 (d)同X線撮像装置のシンチレータの形成状態を示す
一部略断面図 (e)同X線撮像装置の概略断面図
6A is a partial schematic cross-sectional view showing a step of forming a light-shielding plate of the X-ray imaging apparatus, FIG. 6B is a schematic cross-sectional view of a light-shielding plate of the X-ray imaging apparatus, and FIG. 6C is a scintillator of the X-ray imaging apparatus. (D) Partial schematic sectional view showing a formation state of a scintillator of the X-ray imaging apparatus (e) Schematic sectional view of the same X-ray imaging apparatus

【図7】(a)同X線撮像装置の遮光板の別の形成工程
を示す一部略断面図 (b)同X線撮像装置の遮光板の状態を示す一部略断面
FIG. 7A is a partial schematic cross-sectional view showing another step of forming a light shield plate of the X-ray imaging apparatus, and FIG. 7B is a partial schematic cross-sectional view showing the state of the light shield plate of the X-ray imaging apparatus.

【図8】本発明の実施の形態4におけるX線撮像装置の
一部断面図
FIG. 8 is a partial sectional view of an X-ray imaging apparatus according to a fourth embodiment of the present invention.

【図9】(a)同X線撮像装置の遮光板の形成工程を示
す一部略断面図 (b)同X線撮像装置の遮光板の形成状態を示す一部略
断面図 (c)同X線撮像装置のシンチレータの形成工程を示す
一部略断面図 (d)同X線撮像装置のシンチレータの形成状態を示す
一部略断面図 (e)同X線撮像装置の概略断面図
9A is a partial schematic cross-sectional view showing a step of forming a light shielding plate of the X-ray imaging apparatus, FIG. 9B is a partial schematic cross-sectional view showing a formation state of the light shielding plate of the X-ray imaging apparatus, and FIG. (D) Partial schematic cross-sectional view showing the scintillator formation step of the X-ray imaging apparatus (d) Partial schematic cross-sectional view showing the scintillator formation state of the X-ray imaging apparatus (e) Schematic cross-sectional view of the X-ray imaging apparatus

【図10】(a)同実施の形態5におけるX線撮像装置
のシンチレータの形成工程を示す一部略断面図 (b)同X線撮像装置のシンチレータの形成状態を示す
一部略断面図 (c)同X線撮像装置の概略断面図
10A is a partial schematic cross-sectional view showing a scintillator forming step of the X-ray imaging apparatus according to the fifth embodiment, and FIG. 10B is a partial schematic cross-sectional view showing a formation state of the scintillator of the X-ray imaging apparatus. c) Schematic sectional view of the X-ray imaging apparatus

【図11】従来のX線撮像装置の斜視図FIG. 11 is a perspective view of a conventional X-ray imaging apparatus.

【符号の説明】 1 CCD(撮像素子) 2 光ダイオード 3 垂直CCD 5 遮光部 6 絶縁層 7a、7b シンチレータ 8 反射膜 30 遮光壁 31 シンチレータ 50 遮光板 51 接着剤 53 パターンマスク 54 エキシマレーザ光 55 穴 71 格子枠 72 シリカ粒子(粉体) 80 反射板 81 反射膜 90 貫通孔 100 粘着フィルム(粘着剤) 101 シンチレータ柱[Explanation of reference numerals] 1 CCD (imaging device) 2 Photo diode 3 Vertical CCD 5 Light-shielding part 6 Insulating layers 7a, 7b Scintillator 8 Reflective film 30 Light-shielding wall 31 Scintillator 50 Light-shielding plate 51 Adhesive 53 Pattern mask 54 Excimer laser light 55 Hole 71 Lattice Frame 72 Silica Particles (Powder) 80 Reflector 81 Reflective Film 90 Through Hole 100 Adhesive Film (Adhesive) 101 Scintillator Column

フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 H01L 31/09 H01L 31/00 A (72)発明者 眞梶 康彦 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 (72)発明者 松田 祐二 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内Continuation of front page (51) Int.Cl. 6 Identification number Office reference number FI Technical display location H01L 31/09 H01L 31/00 A (72) Inventor Yasuhiko Majiji 1006 Kadoma, Kadoma-shi, Osaka Matsushita Electric Industrial Incorporated (72) Inventor Yuji Matsuda 1006 Kadoma, Kadoma, Osaka Prefecture Matsushita Electric Industrial Co., Ltd.

Claims (20)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】X線または放射線を可視光に変換する手段
としてのシンチレータと可視光を映像信号に変換する撮
像素子から構成され、シンチレータが柱状結晶であり、
撮像素子の撮像面の各単位画素に絶縁層を介して少なく
とも1個の柱状結晶を独立して設けたX線撮像装置。
1. A scintillator as a means for converting X-rays or radiation into visible light and an image sensor for converting visible light into an image signal, wherein the scintillator is a columnar crystal,
An X-ray imaging device in which at least one columnar crystal is independently provided on each unit pixel on the imaging surface of an imaging element via an insulating layer.
【請求項2】撮像素子がCCDである請求項1記載のX
線撮像装置。
2. The X according to claim 1, wherein the image pickup device is a CCD.
Line imaging device.
【請求項3】撮像素子の撮像面の単位画素が少なくとも
段差を持った受光部と遮光部とを有し、前記受光部と前
記遮光部の段差を利用して蒸着等の結晶成長手段により
柱状結晶を分離して形成し、シンチレータを撮像面に形
成した請求項1記載のX線撮像装置。
3. A unit pixel on an image pickup surface of an image pickup device has a light-receiving portion and a light-shielding portion having at least a step, and a columnar shape is formed by crystal growth means such as vapor deposition utilizing the step between the light-receiving portion and the light-shielding portion. The X-ray imaging apparatus according to claim 1, wherein the crystal is formed separately and the scintillator is formed on the imaging surface.
【請求項4】柱状結晶がCsIである請求項1記載のX
線撮像装置。
4. The X according to claim 1, wherein the columnar crystal is CsI.
Line imaging device.
【請求項5】X線または放射線を可視光に変換するシン
チレータと、可視光を映像信号に変換する撮像素子と、
撮像素子の撮像面の各画素の受光部間にその高さがシン
チレータの厚さより低い遮光壁を形成し、前記撮像素子
の撮像面の各単位画素に絶縁層を介してシンチレータを
設けたX線撮像装置。
5. A scintillator for converting X-rays or radiation into visible light, and an image sensor for converting visible light into a video signal.
An X-ray in which a light-shielding wall whose height is lower than the thickness of the scintillator is formed between the light receiving portions of each pixel on the image pickup surface of the image pickup device, and the scintillator is provided on each unit pixel on the image pickup surface of the image pickup device via an insulating layer. Imaging device.
【請求項6】遮光壁が合成樹脂に遮光材料を混合したも
のである請求項5記載のX線撮像装置。
6. The X-ray imaging apparatus according to claim 5, wherein the light shielding wall is made of a synthetic resin mixed with a light shielding material.
【請求項7】遮光材料がPbやTi等の実行原子番号が
高い元素やその化合物である請求項6記載のX線撮像装
置。
7. The X-ray imaging apparatus according to claim 6, wherein the light shielding material is an element having a high effective atomic number such as Pb or Ti or a compound thereof.
【請求項8】シンチレータの厚さより低い遮光壁を印刷
手段により撮像素子の撮像面に形成し請求項5記載のX
線撮像装置。
8. The X according to claim 5, wherein a light shielding wall having a thickness smaller than that of the scintillator is formed on the image pickup surface of the image pickup device by a printing means.
Line imaging device.
【請求項9】撮像素子がCCDである請求項5記載のX
線撮像装置。
9. The X according to claim 5, wherein the image pickup device is a CCD.
Line imaging device.
【請求項10】X線または放射線を可視光に変換するシ
ンチレータと、格子状に穴が設けられた遮光板と、撮像
素子を有し、前記遮光板の格子状の穴に前記シンチレー
タを充填し、前記撮像素子の撮像面の各画素と前記遮光
板の格子状の穴がそれぞれ相対するように配置したX線
撮像装置。
10. A scintillator for converting X-rays or radiation into visible light, a light-shielding plate provided with holes in a grid pattern, and an image sensor, wherein the scintillator is filled in the grid-like holes of the light shielding plate. An X-ray imaging device arranged such that each pixel on the imaging surface of the imaging element and the lattice-shaped hole of the light shielding plate face each other.
【請求項11】遮光板に格子状に設けられた穴に、シン
チレータを一杯に充填した請求項10記載のX線撮像装
置。
11. The X-ray imaging apparatus according to claim 10, wherein the holes formed in the light-shielding plate in a grid pattern are filled with scintillators.
【請求項12】遮光板に格子状に設けられた穴の一部
に、シンチレータを充填した請求項10記載のX線撮像
装置。
12. The X-ray imaging apparatus according to claim 10, wherein a part of the holes formed in the light shielding plate in a grid pattern is filled with a scintillator.
【請求項13】X線または放射線を可視光に変換するシ
ンチレータと、格子状に貫通孔が設けられた遮光板と、
撮像素子を有し、前記シンチレータを前記遮光板の格子
状の貫通孔に充填し、かつ遮光板の一方の面に反射板を
設け、前記撮像素子の撮像面の各画素と前記遮光板の格
子状の貫通孔とを相対するように配置したX線撮像装
置。
13. A scintillator for converting X-rays or radiation into visible light, and a light-shielding plate provided with through holes in a grid pattern.
An image pickup device, the scintillator is filled in a grid-like through hole of the light shielding plate, and a reflecting plate is provided on one surface of the light shielding plate, and each pixel on the image pickup surface of the image pickup device and the lattice of the light shielding plate. X-ray imaging device arranged so as to face the through hole.
【請求項14】遮光板の格子状の貫通孔にシンチレータ
を一杯に充填し、前記シンチレータを撮像素子の撮像面
と相対させた請求項13記載のX線撮像装置。
14. The X-ray imaging apparatus according to claim 13, wherein a scintillator is filled in the grid-like through holes of the light shielding plate so that the scintillator faces the imaging surface of the imaging device.
【請求項15】遮光板の格子状の貫通孔の一部にシンチ
レータを充填し、前記シンチレータを撮像素子の撮像面
と相対させた請求項13記載のX線撮像装置。
15. The X-ray imaging apparatus according to claim 13, wherein a part of the grid-like through holes of the light shielding plate is filled with a scintillator, and the scintillator is opposed to the imaging surface of the imaging device.
【請求項16】貫通孔の内表面に反射層を設けた請求項
13記載のX線撮像装置。
16. The X-ray imaging apparatus according to claim 13, wherein a reflection layer is provided on the inner surface of the through hole.
【請求項17】遮光板にレーザ加工にて穴もしくは貫通
孔を設けた請求項10または15記載のX線撮像装置。
17. The X-ray imaging apparatus according to claim 10, wherein the light shielding plate is provided with a hole or a through hole by laser processing.
【請求項18】遮光板に粉体を吹き付けることにより穴
もしくは貫通孔を設けた請求項10または15記載のX
線撮像装置。
18. The X according to claim 10 or 15, wherein holes or through holes are provided by spraying powder on the light shielding plate.
Line imaging device.
【請求項19】X線または放射線を可視光に変換するシ
ンチレータと、格子状に貫通孔が設けられた遮光板と、
撮像素子を有し、反射板に粘着剤を利用してシンチレー
タ柱を形成し、遮光板の貫通孔に前記シンチレータ柱を
挿入したX線撮像装置。
19. A scintillator for converting X-rays or radiation into visible light, and a light-shielding plate provided with through holes in a grid pattern.
An X-ray imaging apparatus having an image pickup element, wherein a scintillator column is formed on a reflecting plate by using an adhesive, and the scintillator column is inserted into a through hole of a light shielding plate.
【請求項20】撮像素子がCCDである請求項19記載
のX線撮像装置。
20. The X-ray image pickup device according to claim 19, wherein the image pickup element is a CCD.
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