JPH0918140A - Production of printed wiring board - Google Patents
Production of printed wiring boardInfo
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- JPH0918140A JPH0918140A JP16128895A JP16128895A JPH0918140A JP H0918140 A JPH0918140 A JP H0918140A JP 16128895 A JP16128895 A JP 16128895A JP 16128895 A JP16128895 A JP 16128895A JP H0918140 A JPH0918140 A JP H0918140A
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、アルミニウム板をコア
とするプリント配線板の製造方法に関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for manufacturing a printed wiring board having an aluminum plate as a core.
【0002】[0002]
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】近年、
プリント配線板は電子機器の高機能化、軽薄短小化に伴
い、多層化や高密度化が急速に進んでいる。このため
に、電子部品からの発熱を放熱する必要性が高まってお
り、熱伝導性に優れるアルミニウム板をコアとして用い
たプリント配線板が提供されている。2. Description of the Related Art In recent years,
Printed wiring boards are rapidly becoming multilayered and highly densified as electronic devices have become more functional, lighter, thinner, smaller and smaller. For this reason, there is an increasing need to radiate heat generated from electronic components, and a printed wiring board using an aluminum plate having excellent thermal conductivity as a core is provided.
【0003】このようにプリント配線板のコアとしてア
ルミニウム板を用いる場合、プリント配線板に形成する
回路導通用のスルーホールとアルミニウム板との間の絶
縁性を確保する必要がある。このためにアルミニウム板
として貫通孔を設けたものを用いる等の工夫がなされて
いる。すなわち、図8(a)のように貫通孔1を設けた
アルミニウム板2に樹脂3を充填して孔埋めし、この状
態で図8(b)のようにアルミニウム板2にプリプレグ
4を介して銅箔5を重ね、これを加熱加圧成形して図8
(c)のようにアルミニウム板2にプリプレグ4による
絶縁接着層6を介して銅箔5を積層した後、図8(d)
のように樹脂3の箇所において貫通孔1の内周にスルー
ホール7を穿孔し、そしてスルーホール7の内周にスル
ーホールメッキ16aを施すと共に銅箔5をエッチング
加工して回路17を形成し、図8(e)のようなプリン
ト配線板Aを作製することができる。このように形成し
たスルーホール7は、貫通孔1に充填した樹脂3によっ
てアルミニウム板2との間の絶縁性を確保することがで
きるのである。When an aluminum plate is used as the core of the printed wiring board as described above, it is necessary to ensure insulation between the aluminum plate and the through hole formed in the printed wiring board for circuit conduction. For this purpose, various measures have been taken such as using an aluminum plate having a through hole. That is, as shown in FIG. 8A, the aluminum plate 2 having the through holes 1 is filled with the resin 3 to fill the holes, and in this state, the aluminum plate 2 is inserted through the prepreg 4 as shown in FIG. 8B. The copper foil 5 is overlaid, and this is heat-pressed and molded.
After laminating the copper foil 5 on the aluminum plate 2 via the insulating adhesive layer 6 by the prepreg 4 as shown in FIG. 8C, FIG.
As described above, the through hole 7 is bored in the inner periphery of the through hole 1 at the position of the resin 3, the through hole plating 16a is applied to the inner periphery of the through hole 7, and the copper foil 5 is etched to form the circuit 17. The printed wiring board A as shown in FIG. 8E can be manufactured. The through hole 7 thus formed can ensure the insulation between the aluminum plate 2 and the resin 3 with which the through hole 1 is filled.
【0004】しかしこのものにあって、アルミニウム板
2は表面を熱伝導性の低い樹脂による絶縁接着層6で覆
われており、しかもアルミニウム板2に設けた貫通孔1
もその内周が孔埋め用の樹脂3で覆われており、アルミ
ニウム板2から熱を放散させ難い構成になっている。従
って、熱伝導性に優れるアルミニウム板2をコアとして
用いているにもかかわらず、放熱効果が十分に得られな
いという問題があった。However, in this structure, the surface of the aluminum plate 2 is covered with an insulating adhesive layer 6 made of a resin having a low heat conductivity, and the through hole 1 formed in the aluminum plate 2 is used.
Also, the inner circumference of the aluminum plate 2 is covered with the resin 3 for filling holes, so that it is difficult to dissipate heat from the aluminum plate 2. Therefore, although the aluminum plate 2 having excellent thermal conductivity is used as the core, there is a problem that the heat radiation effect cannot be sufficiently obtained.
【0005】また、アルミニウム板2の貫通孔1の内周
面と孔埋め樹脂3との間の密着性や、アルミニウム板2
の表面と絶縁接着層6との密着性が十分でなく、高温加
熱が作用する熱衝撃付加時にアルミニウム板2の貫通孔
1と孔埋め用樹脂3との界面や、アルミニウム板2の表
面と絶縁接着層6との界面にマイクロクラック(通常の
肉視では確認できない程度の微小クラック)が発生し、
このマイクロクラックの発生が激しいとフクレや剥がれ
の発生に繋がるものであった。そこで、アルミニウム板
2の貫通孔1と孔埋め用樹脂3との間の密着性や、アル
ミニウム板2の表面と絶縁接着層6との密着性を高める
ために、アルミニウム板2を処理する各種の方法が検討
されている。Further, the adhesion between the inner peripheral surface of the through hole 1 of the aluminum plate 2 and the hole filling resin 3 and the aluminum plate 2
The adhesiveness between the surface of the aluminum plate 2 and the insulating adhesive layer 6 is not sufficient, and the surface of the aluminum plate 2 is insulated from the interface between the through hole 1 of the aluminum plate 2 and the filling resin 3 when a thermal shock is applied by high temperature heating. Micro cracks (fine cracks that cannot be confirmed by normal visual inspection) occur at the interface with the adhesive layer 6,
If the generation of microcracks is severe, it leads to blistering and peeling. Therefore, in order to improve the adhesion between the through hole 1 of the aluminum plate 2 and the hole filling resin 3 and the adhesion between the surface of the aluminum plate 2 and the insulating adhesive layer 6, various types of aluminum plates 2 are treated. Methods are being considered.
【0006】例えば特開平6−152089号公報等に
開示されている方法がアルミニウム板において有効であ
る。しかしこの方法では、脱脂、水洗、アルミニウム板
の表面エッチング(電解又は浸漬)、水洗、活性化、水
洗、亜鉛合金置換処理、水洗、ニッケルめっき(電解又
は無電解)、水洗、活性化、硫酸銅めっき、水洗、黒化
処理(8工程)、乾燥という多くの工程(合計22工
程)が必要であるという問題があり、しかも使用薬液も
フッ酸や硝酸等のような取り扱いの困難なものが必要
で、安全性や環境面での問題もあり、実用化には至って
いない。For example, the method disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. 6-152089 is effective for an aluminum plate. However, in this method, degreasing, water washing, surface etching of aluminum plate (electrolysis or immersion), water washing, activation, water washing, zinc alloy replacement treatment, water washing, nickel plating (electrolytic or electroless), water washing, activation, copper sulfate There is a problem that many steps (22 steps in total) of plating, washing with water, blackening treatment (8 steps), and drying are necessary, and the chemicals used are difficult to handle, such as hydrofluoric acid and nitric acid. However, due to safety and environmental issues, it has not been put to practical use.
【0007】[0007]
【発明が解決しようとする課題】本発明は上記の点に鑑
みてなされたものであり、アルミニウム板をコアとする
プリント配線板において、放熱性能を高めると共に耐熱
衝撃性を高めることを目的とするものである。SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above points, and it is an object of the present invention to improve heat dissipation performance and thermal shock resistance in a printed wiring board having an aluminum plate as a core. It is a thing.
【0008】[0008]
【課題を解決するための手段】本発明の請求項1に係る
プリント配線板の製造方法は、貫通孔1を設けたアルミ
ニウム板2を、浴温40〜90℃のアルカリ性溶液を用
いて電気量80〜250C/dm2 にて交流波形により
8〜30秒間の電解処理をし、貫通孔1に樹脂3を充填
して孔埋めした後、このアルミニウム板2に回路体13
を積層し、貫通孔1の樹脂3を充填した箇所においてス
ルーホール7を穿孔加工すると共に貫通孔1以外の箇所
においてアルミニウム板2を貫通するスルーホール15
を穿孔加工し、各スルーホール7,15の内周にスルー
ホールメッキ16a,16bを施すことを特徴とするも
のである。A method for manufacturing a printed wiring board according to claim 1 of the present invention is a method for producing an electric quantity of an aluminum plate 2 having a through hole 1 by using an alkaline solution having a bath temperature of 40 to 90 ° C. After electrolytic treatment is performed for 8 to 30 seconds with an AC waveform at 80 to 250 C / dm 2 , resin 3 is filled in the through hole 1 to fill the hole, and then the aluminum plate 2 is filled with the circuit body 13
Through holes 7 are formed by laminating the through holes 7 at positions where the resin 3 of the through holes 1 is filled and through the aluminum plate 2 at positions other than the through holes 1.
Is perforated and through-hole plating 16a, 16b is applied to the inner periphery of each through-hole 7, 15.
【0009】請求項2の発明は、アルミニウム板2を貫
通するように設けたスルーホール15の開口にランド1
8bを形成するようにしたことを特徴とするものであ
る。請求項3の発明は、アルミニウム板2を貫通するよ
うに設けたスルーホール15内を樹脂14で充填するこ
とを特徴とするものである。以下、本発明を詳細に説明
する。According to the second aspect of the present invention, the land 1 is formed in the opening of the through hole 15 provided so as to penetrate the aluminum plate 2.
8b is formed. The invention according to claim 3 is characterized in that the inside of the through hole 15 provided so as to penetrate the aluminum plate 2 is filled with the resin 14. Hereinafter, the present invention will be described in detail.
【0010】アルミニウム板2としては特に限定される
ものではないが、厚みが0.3〜2.0mmのものが好
ましい。またアルミニウム板2は純アルミニウムである
ことが望ましいが、Al以外の他元素、例えばMn,M
g,Zn,Cr,Fe,Si等の含有率が0.8重量%
以下のものであることが好ましい。これらAl以外の不
純物元素の含有率が0.8重量%を超えるアルミニウム
板2を用いると、後述の電解処理の際に、見掛け上は電
解処理が施されているように見えるが、局部的には処理
のムラが発生し、吸湿熱衝撃等の際にアルミニウム板2
と樹脂3との間に剥離が発生する原因となるおそれがあ
る。The aluminum plate 2 is not particularly limited, but preferably has a thickness of 0.3 to 2.0 mm. The aluminum plate 2 is preferably pure aluminum, but other elements than Al, such as Mn and M, are used.
The content of g, Zn, Cr, Fe, Si, etc. is 0.8% by weight.
The following are preferable. When the aluminum plate 2 in which the content of the impurity element other than Al exceeds 0.8% by weight is used, it seems that the electrolytic treatment is apparently performed at the time of the electrolytic treatment described later, but locally. Causes unevenness of treatment, and the aluminum plate
There is a risk of causing peeling between the resin and the resin 3.
【0011】そして先ず図2(a)に示すようにアルミ
ニウム板2の所要の箇所に貫通孔1を孔あけ加工する。
貫通孔1はスルーホール7を設ける箇所において形成さ
れるものであり、スルーホール7の直径よりも大きな直
径の孔として形成してある。このように貫通孔1を設け
たアルミニウム板2を電解処理する。この電解処理は特
開昭63−258674号公報で提供される「アルミニ
ウム板の下地処理方法」を改良した方法で行なうことが
できる。すなわち、浴温40〜90℃のアルカリ性溶液
を用いて、電気量80〜250C/dm2 にて交流波形
によりアルミニウム板2を8〜30秒間電解処理するも
のである。First, as shown in FIG. 2 (a), a through hole 1 is drilled in a desired portion of the aluminum plate 2.
The through hole 1 is formed at a place where the through hole 7 is provided, and is formed as a hole having a diameter larger than that of the through hole 7. The aluminum plate 2 provided with the through holes 1 in this manner is subjected to electrolytic treatment. This electrolytic treatment can be carried out by a method which is an improvement of the "aluminum plate surface treatment method" provided in JP-A-63-258674. That is, the aluminum plate 2 is electrolyzed for 8 to 30 seconds by an AC waveform with an electric quantity of 80 to 250 C / dm 2 using an alkaline solution having a bath temperature of 40 to 90 ° C.
【0012】ここで、電解処理に用いる電解液はアルカ
リ性溶液であればよく、その種類は特に限定されない
が、通常は炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、水酸化ナト
リウム、水酸化カリウム、リン酸ナトリウム等の水溶液
や、これらの2種以上の混合溶液を用いるのが好まし
く、また脱脂性を向上させるために表面活性剤を含んで
いてもよい。この電解液として使用されるアルカリ性溶
液のpHは9〜13が好ましい。pHが9未満であると
脱脂性が劣り、また浴電圧が上昇して不均一な電解が生
じ易く好ましくない。逆にpHが13を超えると溶解性
が強過ぎて必要な厚みの陽極酸化皮膜が得られなくなり
好ましくない。アルカリ性溶液の浴温は上記のように4
0〜90℃の範囲内であることが必要であり、40℃未
満の低温では脱脂・洗浄効果が十分に得られず、90℃
を超える場合には溶解性が強過ぎて必要な厚みの陽極酸
化皮膜が得られない。尚、40〜90℃の範囲内でも特
に60〜80℃の範囲が好ましい。Here, the electrolytic solution used for the electrolytic treatment may be any alkaline solution, and the kind thereof is not particularly limited, but usually an aqueous solution of sodium carbonate, potassium carbonate, sodium hydroxide, potassium hydroxide, sodium phosphate or the like. Alternatively, it is preferable to use a mixed solution of two or more of these, and a surfactant may be contained in order to improve the degreasing property. The pH of the alkaline solution used as this electrolytic solution is preferably 9 to 13. When the pH is less than 9, the degreasing property is poor, and the bath voltage is increased to cause non-uniform electrolysis, which is not preferable. On the other hand, if the pH exceeds 13, the solubility is too strong and an anodic oxide film having a required thickness cannot be obtained, which is not preferable. The bath temperature of the alkaline solution is 4 as above.
It is necessary to be in the range of 0 to 90 ° C, and at a low temperature of less than 40 ° C, the degreasing / cleaning effect cannot be sufficiently obtained.
When it exceeds, the solubility is too strong to obtain an anodized film having a required thickness. Even within the range of 40 to 90 ° C, the range of 60 to 80 ° C is particularly preferable.
【0013】また電解処理に用いる対極としてはアルミ
ニウム板、鉄板、黒鉛電極などを用いることができる。
さらに電解処理での電流波形は交流波形とする必要があ
る。交流波形を用いることによって、交番的なアノード
反応、カソード反応により強力な脱脂・洗浄効果が得ら
れると同時に、肌荒れが生じることなく大電流密度での
短時間の電解を行なうことができ、また耐蝕性も直流電
解の場合よりも優れたものとすることができるものであ
る。尚、交流波形は+側と−側に交番的に変化する波形
であればよく、必ずしも正弦波である必要はない。また
その交流は単相もしくは三相のいずれでもよい。As the counter electrode used for the electrolytic treatment, an aluminum plate, an iron plate, a graphite electrode or the like can be used.
Further, the current waveform in the electrolytic treatment needs to be an AC waveform. By using an AC waveform, a strong degreasing and cleaning effect can be obtained by alternating anodic reaction and cathodic reaction, and at the same time, electrolysis can be performed at a high current density for a short time without rough skin, and corrosion resistance. The property can also be made superior to that in the case of direct current electrolysis. The AC waveform need only be a waveform that alternates between the + side and the-side, and does not necessarily have to be a sine wave. The alternating current may be either single-phase or three-phase.
【0014】電解処理における電気量(電解開始から終
了までのトータル電気量)は上記のように80〜250
C/dm2 の範囲であることが必要である。80C/d
m2未満では十分な脱脂・洗浄効果が得られないと共に
必要な厚みの陽極酸化皮膜が得られず、一方250C/
dm2 を超えて大きな電気量を与えても、陽極酸化皮膜
はそれ以上成長せず経済的に無駄である。また、電解処
理における電解時間は8〜30秒である。電解時間が8
秒未満であると、電気量が上記範囲の下限に近い場合に
は十分な脱脂・洗浄効果が得られないと共に必要な膜厚
の陽極酸化皮膜を得ることができない。電解時間が30
秒を超えても陽極酸化皮膜はそれ以上成長しないので経
済的に無駄である。電流密度は上記の電気量および電解
時間から決定されるが、5〜15A/dm2 が好まし
い。電流密度が5A/dm2 未満では電解時間が長くな
り、また15A/dm2 を超えるとアルミニウム板2上
での部分的な発熱により表面荒れが生じるおそれがあ
る。The amount of electricity in the electrolytic treatment (total amount of electricity from the start to the end of electrolysis) is 80 to 250 as described above.
It must be in the range of C / dm 2 . 80 C / d
If it is less than m 2 , a sufficient degreasing / cleaning effect cannot be obtained, and an anodized film having a required thickness cannot be obtained.
Even if a large amount of electricity exceeding dm 2 is applied, the anodic oxide film does not grow any more and is economically useless. The electrolysis time in the electrolysis treatment is 8 to 30 seconds. Electrolysis time is 8
If it is less than a second, when the quantity of electricity is close to the lower limit of the above range, sufficient degreasing and cleaning effects cannot be obtained, and an anodized film having a required film thickness cannot be obtained. Electrolysis time is 30
Even if it exceeds the second, the anodic oxide film does not grow any more, which is economically wasteful. The current density is determined from the above-mentioned amount of electricity and electrolysis time, but is preferably 5 to 15 A / dm 2 . When the current density is less than 5 A / dm 2 , the electrolysis time becomes long, and when it exceeds 15 A / dm 2 , the surface of the aluminum plate 2 may be partially heated to cause surface roughness.
【0015】上記のように電解処理を施すことによっ
て、貫通孔1の内周面を含めてアルミニウム板2の表面
に0.01〜0.05μm程度の薄い膜厚の陽極酸化皮
膜を形成することができるものであり、この陽極酸化皮
膜は緻密で耐蝕性が高く、また陽極酸化皮膜で貫通孔1
の内周面を含めてアルミニウム板2の表面を凹凸粗面に
形成することができるものである。ここで、上記のよう
な電解処理をおこなうにあたっては、アルミニウム板2
の表面に油が付着しているときは予備脱脂した後、水洗
し、次にアルミニウム板2がMg等の不純物元素を含む
場合は酸洗して、水洗し、そして上記の電解処理をした
後に、イオン交換水で水洗すると共に、さらに100〜
130℃の温度で熱風乾燥することによって工程を完了
することができ、このように処理が7工程で済むことに
なり、従来の22工程に対して工程数を大幅に少なくす
ることができるものである。By performing the electrolytic treatment as described above, an anodized film having a thin film thickness of about 0.01 to 0.05 μm is formed on the surface of the aluminum plate 2 including the inner peripheral surface of the through hole 1. This anodic oxide film is dense and has high corrosion resistance.
The surface of the aluminum plate 2 including the inner peripheral surface can be formed into a rough uneven surface. Here, in performing the electrolytic treatment as described above, the aluminum plate 2
If oil adheres to the surface of the aluminum plate, it is pre-degreased, then washed with water, and then, if the aluminum plate 2 contains an impurity element such as Mg, it is pickled, washed with water, and after the above electrolytic treatment, , Wash with deionized water, and
The process can be completed by hot-air drying at a temperature of 130 ° C., and thus the process can be completed in 7 steps, and the number of steps can be significantly reduced compared to the conventional 22 steps. is there.
【0016】上記のようにして貫通孔1を設けたアルミ
ニウム板2を電解処理した後、図2(b)のように貫通
孔1に樹脂3を充填して孔埋めする。この樹脂3として
は熱硬化性樹脂が用いられるが、中でもエポキシアクリ
レート系の光硬化型樹脂や、エポキシ系の熱硬化型樹脂
を用いるのが好ましい。そしてこの樹脂3には無機質充
填剤を配合して用いるのが好ましい。無機質充填剤とし
ては、シリカ、アルミナ、雲母、硫酸カルシウム、ガラ
ス粉、タルク等の電気絶縁性を有するものであれば特に
制限されることなく使用することができるが、その粒径
は3〜70μmの範囲が好ましい。また無機充填剤の添
加量は樹脂3に対して30〜70重量%の範囲が好まし
い。そして貫通孔1に樹脂3を充填して孔埋めした後、
樹脂3を半硬化乃至硬化させるものである。After electrolytically treating the aluminum plate 2 having the through holes 1 formed as described above, the through holes 1 are filled with the resin 3 as shown in FIG. 2B. Although a thermosetting resin is used as the resin 3, it is preferable to use an epoxy acrylate-based photocurable resin or an epoxy-based thermosetting resin. It is preferable that the resin 3 be used by blending an inorganic filler. The inorganic filler can be used without particular limitation as long as it has electrical insulating properties such as silica, alumina, mica, calcium sulfate, glass powder, and talc, but the particle size thereof is 3 to 70 μm. Is preferred. The addition amount of the inorganic filler is preferably in the range of 30 to 70% by weight with respect to the resin 3. After filling the through hole 1 with the resin 3 to fill the hole,
The resin 3 is semi-cured or cured.
【0017】上記のようにして貫通孔1を樹脂3で孔埋
めした後、図2(c)に示すようにアルミニウム板2の
両面にプリプレグ4を介して回路体13を重ねる。図2
(c)の例では回路体13として銅箔5を用いるように
している。そしてこれを加熱加圧して積層成形すること
によって、図2(d)のようにアルミニウム板2の両面
にプリプレグ4による絶縁接着層6を介して回路体13
(銅箔5)を積層した積層板を得ることができる。After the through hole 1 is filled with the resin 3 as described above, the circuit body 13 is superposed on both surfaces of the aluminum plate 2 via the prepreg 4 as shown in FIG. 2 (c). FIG.
In the example of (c), the copper foil 5 is used as the circuit body 13. Then, this is heat-pressed and laminated to form a circuit body 13 on both surfaces of the aluminum plate 2 with an insulating adhesive layer 6 formed of a prepreg 4 interposed therebetween, as shown in FIG.
A laminated board in which (copper foil 5) is laminated can be obtained.
【0018】次に、図2(e)のように孔埋めした樹脂
3の部分において貫通孔1内を通る位置にスルーホール
7をNCドリルマシン等を用いて穿孔加工する。そして
本発明ではこのときに、このスルーホール7の他に、貫
通孔1以外の箇所においてアルミニウム板2を貫通する
ようにスルーホール15を穿孔加工するようにしてあ
る。従ってこのスルーホール15の内周にはアルミニウ
ム板2の一部が露出されるものである。Next, as shown in FIG. 2 (e), a through hole 7 is bored at a position passing through the through hole 1 in the portion of the resin 3 filled with the hole by using an NC drill machine or the like. Then, in the present invention, at this time, in addition to the through hole 7, the through hole 15 is drilled so as to penetrate the aluminum plate 2 at a position other than the through hole 1. Therefore, a part of the aluminum plate 2 is exposed on the inner periphery of the through hole 15.
【0019】この後、スルーホール7,15の内周に銅
メッキ等を行なってスルーホールメッキ16a,16b
を施し、さらに銅箔5をエッチング加工等することによ
って、絶縁接着層6の表面に回路17やランド18a,
18bを形成し、図1に示すようなプリント配線板Aに
仕上げることができるものである。ここで、貫通孔1を
通るように設けたスルーホール7のスルーホールメッキ
16aに接続させて作製したランド18aは回路17に
電気的に接続されており、このスルーホールメッキ16
aによって両面の回路17を導通接続させることができ
る。またアルミニウム板2を貫通するように設けたスル
ーホール15のスルーホールメッキ16bに接続される
ランド18bは回路17とは電気的に接続されていな
い。After that, copper plating or the like is performed on the inner circumferences of the through holes 7 and 15 to form the through holes 16a and 16b.
Then, the copper foil 5 is subjected to etching and the like, so that the circuit 17 and the lands 18a,
18b can be formed to finish the printed wiring board A as shown in FIG. Here, the land 18a produced by connecting to the through hole plating 16a of the through hole 7 provided so as to pass through the through hole 1 is electrically connected to the circuit 17.
The circuits 17 on both sides can be electrically connected by a. The land 18b connected to the through hole plating 16b of the through hole 15 provided so as to penetrate the aluminum plate 2 is not electrically connected to the circuit 17.
【0020】尚、図3は積層板の製造の他の態様を示す
ものであり、図3(a)の例では、アルミニウム板2の
表面に回路17を形成した後(回路17の形成は上記と
同様にして行なうことができる)、この両面にプリプレ
グ4を介して回路体13として銅箔5を積層するように
してある。また図3(b)の例では、内面に回路17を
形成すると共に外面に銅箔5を貼って作製した回路板1
9を回路体13として、プリプレグ4を介してアルミニ
ウム板2の両面に積層するようにしてある。この図3
(a)(b)のものでは4層回路構成の多層プリント配
線板を製造することができる。Incidentally, FIG. 3 shows another embodiment of the production of the laminated board. In the example of FIG. 3 (a), after the circuit 17 is formed on the surface of the aluminum plate 2 (the circuit 17 is formed as described above). It can be performed in the same manner as the above), but the copper foil 5 is laminated as the circuit body 13 on both sides of the prepreg 4 via the prepreg 4. Further, in the example of FIG. 3B, the circuit board 1 produced by forming the circuit 17 on the inner surface and sticking the copper foil 5 on the outer surface.
The circuit body 9 is laminated on both surfaces of the aluminum plate 2 via the prepreg 4. This figure 3
With (a) and (b), a multilayer printed wiring board having a four-layer circuit structure can be manufactured.
【0021】また、上記のようにスルーホール7,15
の内周にスルーホールメッキ16a,16bを施すにあ
たって、一般には化学銅メッキなど無電解メッキを行な
うことが多いが、無電解メッキの場合には強酸や強アル
カリを使用するために、スルーホール15の内周に露出
するアルミニウム板2が腐食されるおそれがある。そこ
でこのときには、カーボンブラックやグラファイトなど
の導電性物質の微粒子を表面活性剤で分散させた弱アル
カリ溶液を用い、この弱アルカリ溶液にスルーホール
7,15を加工した積層板を浸漬したり、あるいはスル
ーホール7,15を加工した積層板にこの弱アルカリ溶
液をスプレーしたりして、スルーホール7,15の内周
に導電性微粒子を付着させ、この後に、電気銅メッキ浴
などのメッキ浴に積層板を浸漬して導電性微粒子の層に
通電することによって、電気メッキによってスルーホー
ル7,15の内周に同時にスルーホールメッキ16a,
16bを施すようにすればよい。カーボンブラック微粒
子を表面活性剤で分散させた弱アルカリ溶液を用いるプ
ロセスは、日本マクダーミッド社の「ブラックホールプ
ロセス」として提供されており、またグラファイト微粒
子を表面活性剤で分散させた弱アルカリ溶液を用いるプ
ロセスはメック社の「Sプロセス」として提供されてい
る。Further, as described above, the through holes 7, 15
In general, electroless plating such as chemical copper plating is often performed when the through holes 16a and 16b are applied to the inner circumference of the through hole 15. However, in the case of electroless plating, a strong acid or a strong alkali is used. There is a risk that the aluminum plate 2 exposed on the inner periphery of the will be corroded. Therefore, at this time, a weak alkaline solution in which fine particles of a conductive substance such as carbon black or graphite are dispersed with a surface active agent is used, and the laminated plate having the through holes 7 and 15 processed is dipped in the weak alkaline solution, or The weak alkaline solution is sprayed onto the laminated plate having the through holes 7 and 15 processed so that the conductive fine particles are attached to the inner periphery of the through holes 7 and 15, and thereafter, a plating bath such as an electrolytic copper plating bath is applied. By immersing the laminated plate and energizing the layer of conductive fine particles, the inner periphery of the through holes 7, 15 is simultaneously plated with the through holes 16a, 16a by electroplating.
16b may be applied. The process of using a weak alkaline solution in which carbon black fine particles are dispersed with a surfactant is provided as "Black hole process" of Japan MacDermid Co., Ltd. Also, a weak alkaline solution in which graphite fine particles are dispersed with a surfactant is used. The process is provided as "S process" of MEC.
【0022】しかして図1のように製造したプリント配
線板Aにあって、貫通孔1を通るように設けたスルーホ
ール7は、貫通孔1に充填した樹脂3がアルミニウム板
2との間に介在するために、スルーホール7に形成した
スルーホールメッキ16aとアルミニウム板2との間の
電気絶縁を確保することができる。また、アルミニウム
板2を貫通するように設けたスルーホール15にアルミ
ニウム板2の一部が露出するために、アルミニウム板2
の熱はこのスルーホール15から良好に放熱される。し
かもこのスルーホール15の内周に設けたスルーホール
メッキ16bはアルミニウム板2に接触しているため
に、アルミニウム板2の熱はスルーホールメッキ16b
を伝わってさらに放熱されることになり、放熱を一層良
好に行なわせることができるものである。In the printed wiring board A manufactured as shown in FIG. 1, however, the through hole 7 provided so as to pass through the through hole 1 has the resin 3 filled in the through hole 1 between the aluminum plate 2 and the through hole 7. Due to the interposition, it is possible to ensure electrical insulation between the through hole plating 16a formed in the through hole 7 and the aluminum plate 2. Further, since a part of the aluminum plate 2 is exposed in the through hole 15 provided so as to penetrate the aluminum plate 2, the aluminum plate 2
Is radiated satisfactorily from the through hole 15. Moreover, since the through hole plating 16b provided on the inner circumference of the through hole 15 is in contact with the aluminum plate 2, the heat of the aluminum plate 2 is applied to the through hole plating 16b.
The heat is further dissipated through the heat transfer, and the heat dissipation can be further improved.
【0023】また、スルーホール15の開口にスルーホ
ールメッキ16bと接続されるランド18aを設けてい
る場合、図4に示すようにこのランド18aにICチッ
プ等の電子部品など発熱部品20を接触させるようにし
て発熱部品20をプリント配線板Aに実装すると、発熱
部品20から発熱される熱はスルーホールメッキ16b
を通してアルミニウム板2に電熱されると共にスルーホ
ール15から放熱されることになり、発熱部品20から
の放熱効果を向上させることができるものである。また
プリント配線板Aを組み込むケーシングにこのランド1
8aを接触させるようにすれば、アルミニウム板2から
スルーホールメッキ16bを通してケーシングに熱を伝
達させて放熱させることができるものである。このラン
ド18aは円形の場合は直径3mm以上、四角形の場合
は一辺3mm以上の大きさに形成するのが好ましい。When a land 18a connected to the through hole plating 16b is provided in the opening of the through hole 15, a heat generating component 20 such as an electronic component such as an IC chip is brought into contact with the land 18a as shown in FIG. When the heat-generating component 20 is mounted on the printed wiring board A in this manner, the heat generated from the heat-generating component 20 becomes through-hole plating 16b.
The aluminum plate 2 is electrically heated through the through hole 15 and is radiated from the through hole 15, so that the heat radiation effect from the heat generating component 20 can be improved. In addition, this land 1 is installed in the casing that incorporates the printed wiring board A.
By contacting 8a, heat can be transferred from the aluminum plate 2 through the through-hole plating 16b to the casing for heat dissipation. It is preferable that the land 18a has a diameter of 3 mm or more when it is circular, and has a side of 3 mm or more when it is quadrangular.
【0024】また、このスルーホール15の内周には図
5のように樹脂14を充填して孔埋めしておくのが好ま
しい。スルーホール15内が空洞であると気流による放
熱効果が期待できるが、スルーホール15の径は小さい
ために現実には気流による効果を期待することができな
い。一方、スルーホール15の内周に樹脂14を充填す
ると、スルーホール15内の熱容量が大きくなるために
この部分へのプリント配線板Aの各部からの熱伝導が集
中し、放熱性が高まるものである。また、このようにス
ルーホール15を樹脂14で充填して孔埋めすると、発
熱部品20がスルーホール15の空洞を通して腐食され
ることを防ぐこともできるものである。このスルーホー
ル15を孔埋めする樹脂14の具体例として、エポキシ
アクリレート樹脂(東京応化工業製「OPSR580
0」)100重量部にアルミナフィラーを120重量部
添加したものを挙げることができる。この樹脂14はス
ルーホール15内に充填した後、1Jの光量で紫外線硬
化させ、さらに150℃で15分間加熱して硬化させる
ようにする。またエポキシ樹脂(油化シェル社製「エピ
コートEp828」)100重量部にシリカを150重
量部添加したものも挙げることができる。この樹脂14
はスルーホール15内に充填した後、150℃で40分
間加熱して硬化させるようにする。Further, it is preferable that the inner periphery of the through hole 15 is filled with resin 14 as shown in FIG. If the inside of the through hole 15 is hollow, the heat radiation effect by the air flow can be expected, but in reality, the effect by the air flow cannot be expected because the diameter of the through hole 15 is small. On the other hand, if the inner periphery of the through hole 15 is filled with the resin 14, the heat capacity in the through hole 15 increases, so that the heat conduction from each part of the printed wiring board A concentrates on this part, and the heat dissipation is improved. is there. Further, by filling the through hole 15 with the resin 14 and filling the hole as described above, it is possible to prevent the heat generating component 20 from being corroded through the cavity of the through hole 15. As a specific example of the resin 14 that fills the through hole 15, an epoxy acrylate resin (“OPSR580 manufactured by Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd.”) is used.
0 ”) and 100 parts by weight of alumina filler added with 120 parts by weight. The resin 14 is filled in the through hole 15 and then cured by ultraviolet rays with a light amount of 1 J, and further heated at 150 ° C. for 15 minutes to be cured. Moreover, the thing which added 150 weight part of silica to 100 weight part of epoxy resins ("Epicoat Ep828" by Yuka Shell Co., Ltd.) can also be mentioned. This resin 14
After being filled in the through hole 15, it is heated at 150 ° C. for 40 minutes to be cured.
【0025】そして、アルミニウム板2には上記のよう
な電解処理が施してあるために、アルミニウム体2の表
面は貫通孔1の内周に陽極酸化皮膜が形成されており、
この陽極酸化皮膜によって貫通孔1の内周と孔埋め用の
樹脂3との間の密着性が高まると共にアルミニウム板2
の表面と絶縁接着層6の樹脂との間の密着性が高まり、
これらの界面にマイクロクラックが発生することを防ぐ
ことができる。従って、プリント配線板Aは高い耐熱性
を有するものである。Since the aluminum plate 2 has been subjected to the electrolytic treatment as described above, the surface of the aluminum body 2 has an anodized film formed on the inner periphery of the through hole 1.
This anodized film enhances the adhesion between the inner periphery of the through hole 1 and the resin 3 for filling the hole, and the aluminum plate 2
The adhesion between the surface of the and the resin of the insulating adhesive layer 6 is increased,
It is possible to prevent the generation of microcracks at these interfaces. Therefore, the printed wiring board A has high heat resistance.
【0026】[0026]
【実施例】次に、本発明を実施例を挙げて例証する。 (実施例1)0.8mm厚のアルミニウム板2に直径
1.5mmの貫通孔1をあけた。そして、ピロリン酸ナ
トリウム1重量%、水酸化ナトリウム1重量%、ノニオ
ン系界面活性剤1容量%を含有する電解液(pH11、
液中のAl3+イオン<0.3g/リットル)を50℃の
浴温に調整し、この電解液にアルミニウム板2を浸漬す
ると共に対極として黒鉛電極を用い、単相交流(正弦波
50Hz)によって電流密度8A/dm2 、電気量24
0C/dm2 の条件で30秒間、電解処理し、水洗して
乾燥した。EXAMPLES The present invention will now be illustrated by way of examples. (Example 1) A through hole 1 having a diameter of 1.5 mm was formed in an aluminum plate 2 having a thickness of 0.8 mm. Then, an electrolytic solution containing 1% by weight of sodium pyrophosphate, 1% by weight of sodium hydroxide, and 1% by volume of a nonionic surfactant (pH 11,
Al 3+ ions in the liquid <0.3 g / liter) were adjusted to a bath temperature of 50 ° C., the aluminum plate 2 was immersed in this electrolytic solution, and a graphite electrode was used as a counter electrode to form a single-phase alternating current (50 Hz sine wave). The current density is 8 A / dm 2 , and the quantity of electricity is 24
It was electrolyzed for 30 seconds under the condition of 0 C / dm 2 , washed with water and dried.
【0027】一方、テトラブロムビスフェノールA型エ
ポキシ樹脂(エポキシ当量500g/eq)100重量
部、ジシアンジアミド1.2重量部、2エチル4メチル
イミダゾール0.1重量部の配合組成でエポキシ樹脂ワ
ニスを調製し、この樹脂ワニスに無機質充填剤として平
均粒径3μmの雲母を樹脂分の30重量%添加し、孔埋
め用の樹脂3を調製した。そしてこの樹脂3を貫通孔1
に充填し、130℃で15分間保持して、樹脂3を半硬
化状態にした(図2(b))。On the other hand, an epoxy resin varnish was prepared with a compounding composition of 100 parts by weight of tetrabromobisphenol A type epoxy resin (epoxy equivalent of 500 g / eq), 1.2 parts by weight of dicyandiamide, and 0.1 parts by weight of 2 ethyl 4-methylimidazole. Mica having an average particle size of 3 μm was added to this resin varnish as an inorganic filler in an amount of 30% by weight of the resin content to prepare a resin 3 for filling holes. Then, this resin 3 is put through hole 1
And was held at 130 ° C. for 15 minutes to semi-harden the resin 3 (FIG. 2 (b)).
【0028】次に、この孔埋めしたアルミニウム板2の
上下両面に厚み0.1mmのエポキシ樹脂プリプレグ
(松下電工社製「R−1661J」)を2枚ずつ重ねる
と共にさらにその外側に厚み18μmの銅箔5を重ね、
温度170℃、圧力20kg/cm2 、時間90分の条
件で加熱加圧成形することによって、両面銅張り積層板
を得た(図2(d))。Next, two 0.1 mm thick epoxy resin prepregs ("R-1661J" manufactured by Matsushita Electric Works, Ltd.) were stacked on each of the upper and lower surfaces of the hole-filled aluminum plate 2, and copper having a thickness of 18 μm was further provided on the outside thereof. Stack foil 5
A double-sided copper-clad laminate was obtained by heat-press molding under conditions of a temperature of 170 ° C., a pressure of 20 kg / cm 2 , and a time of 90 minutes (FIG. 2 (d)).
【0029】次に、両面銅張り積層板について、貫通孔
1の中心の部分に直径0.35mmのスルーホール7を
穿孔加工すると共に貫通孔1以外の箇所においてアルミ
ニウム板2を貫通する直径3.5mmのスルーホール1
5を穿孔加工した(図2(e))。そしてこのスルーホ
ール7,15の内周に銅のスルーホールメッキ16a,
16bを施し、さらに銅箔5をエッチング加工してスル
ーホール7,15の周囲に直径3mmのランド18a,
18bを形成した。そしてソルダーレジストを表面に塗
布してプリント配線板Aを得た(図1)。Next, with respect to the double-sided copper-clad laminate, a through hole 7 having a diameter of 0.35 mm is punched at the center of the through hole 1 and the aluminum plate 2 having a diameter of 3. 5mm through hole 1
5 was perforated (FIG. 2 (e)). Then, on the inner periphery of the through holes 7 and 15, copper through hole plating 16a,
16b, and the copper foil 5 is further etched to form lands 18a with a diameter of 3 mm around the through holes 7 and 15,
18b was formed. Then, a solder resist was applied on the surface to obtain a printed wiring board A (FIG. 1).
【0030】(実施例2)実施例1と同様にして得たソ
ルダーレジストを塗布する前のプリント配線板Aについ
て、そのスルーホール15の内周に樹脂14を充填した
(図5参照)。この樹脂14としては、エポキシアクリ
レート樹脂(東京応化工業製「OPSR5800」)1
00重量部にアルミナフィラーを120重量部添加した
ものを用い、樹脂14を印刷にてスルーホール15内に
塗り込んだ後、1Jの光量で紫外線硬化させると共に1
50℃で30分間加熱して硬化させた。そしてソルダー
レジストを表面に塗布してプリント配線板Aを得た。Example 2 With respect to the printed wiring board A before applying the solder resist obtained in the same manner as in Example 1, the resin 14 was filled in the inner periphery of the through hole 15 (see FIG. 5). As the resin 14, an epoxy acrylate resin (“OPSR5800” manufactured by Tokyo Ohka Kogyo) 1
Using 100 parts by weight of alumina filler added to 120 parts by weight, the resin 14 is applied by printing into the through-holes 15 and then cured by UV with a light amount of 1 J and
It was cured by heating at 50 ° C. for 30 minutes. Then, a solder resist was applied on the surface to obtain a printed wiring board A.
【0031】(比較例1)アルミニウム板をコアとしな
い厚み1.6mmの両面銅張りエポキシ樹脂積層板(松
下電工社製「R−1705SX」)を用い、直径0.3
5mmのスルーホールを実施例1と同様にして穿孔加工
し、また実施例1と同様にしてスルーホールメッキを施
し、さらに実施例1と同様にしてランド形成をし、そし
てソルダーレジストを表面に塗布してプリント配線板を
得た。Comparative Example 1 A 1.6 mm thick double-sided copper-clad epoxy resin laminated plate (“R-1705SX” manufactured by Matsushita Electric Works, Ltd.) without an aluminum plate as a core was used, and the diameter was 0.3.
A 5 mm through hole was drilled in the same manner as in Example 1, through hole plating was performed in the same manner as in Example 1, land was formed in the same manner as in Example 1, and a solder resist was applied to the surface. Then, a printed wiring board was obtained.
【0032】(比較例2)アルミニウム板2を貫通する
スルーホール15を設けないようにした他は(従ってス
ルーホールメッキ16bやランド18bも設けない)、
実施例1と同様にしてプリント配線板Aを得た(図8
(e))。 (比較例3)実施例1による電解処理を行なわないアル
ミニウム板2を用いるようにした他は、実施例1と同様
にしてプリント配線板Aを得た(スルーホール15の孔
埋め無し)。(Comparative Example 2) Except that the through hole 15 penetrating the aluminum plate 2 is not provided (thus, the through hole plating 16b and the land 18b are not provided).
A printed wiring board A was obtained in the same manner as in Example 1 (FIG. 8).
(E)). (Comparative Example 3) A printed wiring board A was obtained in the same manner as in Example 1 except that the aluminum plate 2 which was not subjected to the electrolytic treatment according to Example 1 was used (without filling the through holes 15).
【0033】(比較例4)実施例1による電解処理を行
なわないアルミニウム板2を用いるようにした他は、実
施例2と同様にしてプリント配線板Aを得た(スルーホ
ール15の孔埋め有り)。図6(a)は実施例1、実施
例2で得たプリント配線板から作製した70mm×70
mmの大きさの試験片A1 を示すものであり、銅箔5を
21mm×18mmの寸法で片面のみに残し、貫通孔1
を通るスルーホール7が16個、アルミニウム板2を貫
通するスルーホール15が2個設けてあり、さらに銅箔
5の部分に直径3.5mmの取付用孔21(スルーホー
ルメッキ無し)が設けてある。また図6(b)は比較例
1、比較例2で得たプリント配線板から作製した試験片
A2を示すものであり、アルミニウム板2を貫通するス
ルーホール15を設けない他は図6(a)と同じであ
る。そしてこの試験片A1 ,A2 の銅箔5の上に発熱部
品20としてバイポーラパワートランジスタ(パッケー
ジタイプTO−3P、許容コレクタ損失Pc=50W
(Tc=25℃))を載せ、取付孔21に通したビス2
2によって固定し、ビス22の温度をΔVBE法(トラン
ジスタのベース−エミッタ間電圧の温度特性を利用し、
トランジスタの通電前後における電圧差で温度上昇を測
定する)で測定した。測定は、測定器として熱抵抗測定
器(桑原電機株式会社製「TH−155A」)を用い、
印加条件VCB=10(V),IE=0.3(A)でおこ
なった。そして測定温度上昇を実施例1,2、比較例
1,2で比較し、放熱性を比較例を100として評価し
た。結果を表1に示す。(Comparative Example 4) A printed wiring board A was obtained in the same manner as in Example 2 except that the aluminum plate 2 which was not subjected to the electrolytic treatment according to Example 1 was used (the through hole 15 was filled). ). FIG. 6A shows 70 mm × 70 manufactured from the printed wiring boards obtained in Example 1 and Example 2.
1 shows a test piece A 1 having a size of mm, a copper foil 5 having a size of 21 mm × 18 mm is left on only one surface, and a through hole 1
There are 16 through-holes 7 passing through and two through-holes 15 penetrating the aluminum plate 2, and a mounting hole 21 (without through-hole plating) having a diameter of 3.5 mm is provided in the copper foil 5. is there. Further, FIG. 6B shows a test piece A 2 produced from the printed wiring boards obtained in Comparative Example 1 and Comparative Example 2, except that the through hole 15 penetrating the aluminum plate 2 is not provided. Same as a). Then, a bipolar power transistor (package type TO-3P, allowable collector loss Pc = 50 W as a heat generating component 20 is provided on the copper foil 5 of each of the test pieces A 1 and A 2.
(Tc = 25 ° C)) and put the screw 2 through the mounting hole 21.
2. The temperature of the screw 22 is fixed by the ΔV BE method (using the temperature characteristic of the base-emitter voltage of the transistor,
The temperature rise is measured by the voltage difference before and after energization of the transistor). The measurement uses a thermal resistance measuring device ("TH-155A" manufactured by Kuwabara Electric Co., Ltd.) as a measuring device.
The application conditions were V CB = 10 (V) and IE = 0.3 (A). Then, the measured temperature rise was compared between Examples 1 and 2 and Comparative Examples 1 and 2, and the heat dissipation was evaluated as Comparative Example 100. The results are shown in Table 1.
【0034】また、実施例1,2及び比較例1〜4で得
たプリント配線板について、30mm×30mmに切断
して試験片を作製し、これを260℃の半田浴に10
秒間づつ2回浸漬する耐熱衝撃性試験をおこない、さら
に2時間煮沸した後、260℃の半田浴に10秒間ず
つ2回浸漬する耐熱衝撃性試験をおこない、アルミニウ
ム板と樹脂との間のマイクロクラックや剥離の発生状態
を観察した。各試験を5枚の試験片についておこない、
異常なしを「○」、マイクロクラック発生を「△」、ク
ラック大発生あるは剥離発生を「×」として評価した。
結果を表1に示す。Further, the printed wiring boards obtained in Examples 1 and 2 and Comparative Examples 1 to 4 were cut into 30 mm × 30 mm to prepare test pieces, which were placed in a solder bath at 260 ° C.
A thermal shock resistance test is conducted by immersing it twice for 2 seconds each, followed by boiling for 2 hours, and then a thermal shock resistance test is conducted by immersing it in a solder bath at 260 ° C twice for 10 seconds each time. Micro cracks between the aluminum plate and resin The state of occurrence of peeling and peeling was observed. Each test is performed on 5 test pieces,
No abnormality was evaluated as “◯”, occurrence of microcracks was evaluated as “Δ”, and occurrence of large cracks or occurrence of peeling was evaluated as “x”.
The results are shown in Table 1.
【0035】[0035]
【表1】 [Table 1]
【0036】表1の結果にみられるように、アルミニウ
ム板を貫通するスルーホールを設けた実施例1,2のも
のは放熱性が高いことが確認される。またアルミニウム
板を電解処理することによって、実施例1,2のように
耐熱性が向上することが確認される。As can be seen from the results shown in Table 1, it is confirmed that the heat dissipation properties of Examples 1 and 2 having through holes penetrating the aluminum plate are high. It is also confirmed that the electrolytic treatment of the aluminum plate improves the heat resistance as in Examples 1 and 2.
【0037】[0037]
【発明の効果】上記のように本発明は、貫通孔に樹脂を
充填して孔埋めした後、このアルミニウム板に回路体を
積層し、貫通孔の樹脂を充填した箇所においてスルーホ
ールを穿孔加工すると共に貫通孔以外の箇所においてア
ルミニウム板を貫通するスルーホールを穿孔加工し、各
スルーホールの内周にスルーホールメッキを施すように
したので、アルミニウム板を貫通するスルーホール及び
このスルーホールに設けたスルーホールメッキを通して
アルミニウム板の熱を放熱することができ、アルミニウ
ム板をコアとするプリント配線板の放熱性能を高めるこ
とができるものであり、しかも貫通孔を設けたアルミニ
ウム板を、浴温40〜90℃のアルカリ性溶液を用いて
電気量80〜250C/dm2 にて交流波形により8〜
30秒間の電解処理をするようにしたので、このような
電解処理によって処理の工数少なくアルミニウム板と樹
脂との密着性を向上させることができ、耐熱衝撃性を高
めることができるものである。As described above, according to the present invention, after the resin is filled in the through holes to fill the holes, the circuit board is laminated on the aluminum plate, and the through holes are drilled at the portions of the through holes filled with the resin. At the same time, the through holes that penetrate the aluminum plate are drilled at locations other than the through holes, and the through holes are plated on the inner circumference of each through hole. The heat of the aluminum plate can be radiated through the through-hole plating, and the heat radiation performance of the printed wiring board having the aluminum plate as the core can be improved. 8 ~ by AC waveform with electricity of 80 ~ 250 C / dm 2 using alkaline solution at ~ 90 ° C
Since the electrolysis treatment is performed for 30 seconds, the electrolysis treatment can improve the adhesion between the aluminum plate and the resin with a reduced number of treatment steps and enhance the thermal shock resistance.
【0038】また、アルミニウム板を貫通するように設
けたスルーホールの開口にランドを形成したので、この
ランドに発熱部品を接触させることによって、発熱部品
から発熱される熱をアルミニウム板に逃がすことがで
き、発熱部品の温度上昇を効果的に防ぐことができるも
のである。さらに、アルミニウム板を貫通するように設
けたスルーホール内を樹脂で充填するようにしたので、
放熱性を一層高めることができるものである。Further, since the land is formed in the opening of the through hole provided so as to penetrate the aluminum plate, the heat generated by the heat generating component can be released to the aluminum plate by bringing the heat generating component into contact with this land. Therefore, the temperature rise of the heat generating component can be effectively prevented. Furthermore, since the through hole provided so as to penetrate the aluminum plate is filled with resin,
The heat dissipation can be further enhanced.
【図1】本発明の実施の一態様のプリント配線板を示す
断面図である。FIG. 1 is a cross-sectional view showing a printed wiring board according to an embodiment of the present invention.
【図2】本発明の実施の一態様を示すものであり、
(a)〜(e)はそれぞれ製造の各工程の断面図であ
る。FIG. 2 shows an embodiment of the present invention,
(A)-(e) is sectional drawing of each process of manufacture, respectively.
【図3】本発明の実施の他の態様を示すものであり、
(a),(b)はそれぞれ断面図である。FIG. 3 illustrates another aspect of the practice of the invention,
(A), (b) is a sectional view, respectively.
【図4】本発明の実施の他の態様を示す一部の拡大した
断面図である。FIG. 4 is a partial enlarged cross-sectional view showing another embodiment of the present invention.
【図5】本発明の実施の他の態様を示す一部の拡大した
断面図である。FIG. 5 is a partial enlarged cross-sectional view showing another embodiment of the present invention.
【図6】試験片を示すものであり、(a),(b)はそ
れぞれ平面図である。FIG. 6 shows a test piece, and (a) and (b) are plan views, respectively.
【図7】試験を示す断面図である。FIG. 7 is a cross-sectional view showing a test.
【図8】従来例を示すものであり、(a)〜(e)はそ
れぞれ製造の各工程の断面図である。FIG. 8 shows a conventional example, and FIGS. 8A to 8E are cross-sectional views of respective manufacturing steps.
1 貫通孔 2 アルミニウム板 3 樹脂 7 スルーホール 13 回路体 14 樹脂 15 スルーホール 16a スルーホールメッキ 16b スルーホールメッキ 1 Through Hole 2 Aluminum Plate 3 Resin 7 Through Hole 13 Circuit Body 14 Resin 15 Through Hole 16a Through Hole Plating 16b Through Hole Plating
【手続補正書】[Procedure amendment]
【提出日】平成7年10月9日[Submission date] October 9, 1995
【手続補正1】[Procedure amendment 1]
【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement
【補正対象項目名】0011[Correction target item name] 0011
【補正方法】変更[Correction method] Change
【補正内容】[Correction contents]
【0011】そして先ず図2(a)に示すようにアルミ
ニウム板2の所要の箇所に貫通孔1を孔あけ加工する。
貫通孔1はスルーホール7を設ける箇所において形成さ
れるものであり、スルーホール7の直径よりも大きな直
径の孔として形成してある。このように貫通孔1を設け
たアルミニウム板2を電解処理する。この電解処理は次
の方法で行なうことができる。すなわち、浴温40〜9
0℃のアルカリ性溶液を用いて、電気量80〜250C
/dm2 にて交流波形によりアルミニウム板2を8〜3
0秒間電解処理するものである。First, as shown in FIG. 2 (a), a through hole 1 is drilled in a desired portion of the aluminum plate 2.
The through hole 1 is formed at a place where the through hole 7 is provided, and is formed as a hole having a diameter larger than that of the through hole 7. The aluminum plate 2 provided with the through holes 1 in this manner is subjected to electrolytic treatment. The electrolytic treatment is next
It can be carried out in a way. That is, the bath temperature is 40 to 9
Electricity of 80-250C using 0 ° C alkaline solution
Aluminum plate 2 8-3 by AC waveform at / dm 2
The electrolytic treatment is performed for 0 seconds.
【手続補正2】[Procedure amendment 2]
【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement
【補正対象項目名】0023[Correction target item name] 0023
【補正方法】変更[Correction method] Change
【補正内容】[Correction contents]
【0023】また、スルーホール15の開口にスルーホ
ールメッキ16bと接続されるランド18bを設けてい
る場合、図4に示すようにこのランド18bにICチッ
プ等の電子部品など発熱部品20を接触させるようにし
て発熱部品20をプリント配線板Aに実装すると、発熱
部品20から発熱される熱はスルーホールメッキ16b
を通してアルミニウム板2に電熱されると共にスルーホ
ール15から放熱されることになり、発熱部品20から
の放熱効果を向上させることができるものである。また
プリント配線板Aを組み込むケーシングにこのランド1
8bを接触させるようにすれば、アルミニウム板2から
スルーホールメッキ16bを通してケーシングに熱を伝
達させて放熱させることができるものである。このラン
ド18bは円形の場合は直径3mm以上、四角形の場合
は一辺3mm以上の大きさに形成するのが好ましい。Further, if provided with lands 18 b to be connected to the through-hole plating 16b to the opening of the through hole 15, the electronic components such as heat-generating components 20 such as an IC chip on this land 18 b as shown in FIG. 4 When the heat-generating component 20 is mounted on the printed wiring board A so as to be in contact with each other, the heat generated from the heat-generating component 20 is through-hole plated 16b.
The aluminum plate 2 is electrically heated through the through hole 15 and is radiated from the through hole 15, so that the heat radiation effect from the heat generating component 20 can be improved. In addition, this land 1 is installed in the casing that incorporates the printed wiring board A.
By contacting 8b , heat can be transferred from the aluminum plate 2 to the casing through the through-hole plating 16b to radiate heat. The land 18 b is a circular diameter of 3mm or more, in the case of a square preferably formed to a size of more than one side 3mm.
Claims (3)
40〜90℃のアルカリ性溶液を用いて電気量80〜2
50C/dm2 にて交流波形により8〜30秒間の電解
処理をし、貫通孔に樹脂を充填して孔埋めした後、この
アルミニウム板に回路体を積層し、貫通孔の樹脂を充填
した箇所においてスルーホールを穿孔加工すると共に貫
通孔以外の箇所においてアルミニウム板を貫通するスル
ーホールを穿孔加工し、各スルーホールの内周にスルー
ホールメッキを施すことを特徴とするプリント配線板の
製造方法。1. An aluminum plate having a through hole is charged with an electric quantity of 80 to 2 by using an alkaline solution having a bath temperature of 40 to 90 ° C.
Electrolytic treatment for 8 to 30 seconds with an alternating current waveform at 50 C / dm 2 , after filling the through holes with resin and filling the holes, the circuit board is laminated on this aluminum plate, and the portions of the through holes filled with the resin In the method of manufacturing a printed wiring board, the through hole is drilled, the through hole penetrating the aluminum plate at a position other than the through hole is drilled, and the through hole is plated on the inner circumference of each through hole.
スルーホールの開口にランドを形成することを特徴とす
る請求項1に記載のプリント配線板の製造方法。2. The method for manufacturing a printed wiring board according to claim 1, wherein a land is formed in an opening of a through hole provided so as to penetrate the aluminum plate.
スルーホール内を樹脂で充填することを特徴とする請求
項1又は2に記載のプリント配線板の製造方法。3. The method for manufacturing a printed wiring board according to claim 1, wherein the through hole provided so as to penetrate the aluminum plate is filled with resin.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP16128895A JPH0918140A (en) | 1995-06-27 | 1995-06-27 | Production of printed wiring board |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP16128895A JPH0918140A (en) | 1995-06-27 | 1995-06-27 | Production of printed wiring board |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0918140A true JPH0918140A (en) | 1997-01-17 |
Family
ID=15732267
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP16128895A Withdrawn JPH0918140A (en) | 1995-06-27 | 1995-06-27 | Production of printed wiring board |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0918140A (en) |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005183559A (en) * | 2003-12-18 | 2005-07-07 | Nec Corp | Printed wiring board and method for manufacturing the same |
WO2005087489A1 (en) * | 2004-03-16 | 2005-09-22 | Mitsui Mining & Smelting Co., Ltd. | Carrier foil-attached electrolytic copper foil proviuded with insulation layer forming resin layer, copper-clad laminated sheet, printed circuit board, production method for multilayer copper-clad laminated sheet and production method for printed circuit board |
JP2010000679A (en) * | 2008-06-20 | 2010-01-07 | Furukawa-Sky Aluminum Corp | Aluminum material and its manufacturing method |
JP2011021260A (en) * | 2009-07-17 | 2011-02-03 | Furukawa-Sky Aluminum Corp | Aluminum substrate and method of manufacturing the same |
JP2013089902A (en) * | 2011-10-21 | 2013-05-13 | Fujitsu Ltd | Wiring substrate and manufacturing method of the same |
JP2014182178A (en) * | 2013-03-18 | 2014-09-29 | Fuji Heavy Ind Ltd | Stereo camera unit |
-
1995
- 1995-06-27 JP JP16128895A patent/JPH0918140A/en not_active Withdrawn
Cited By (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005183559A (en) * | 2003-12-18 | 2005-07-07 | Nec Corp | Printed wiring board and method for manufacturing the same |
WO2005087489A1 (en) * | 2004-03-16 | 2005-09-22 | Mitsui Mining & Smelting Co., Ltd. | Carrier foil-attached electrolytic copper foil proviuded with insulation layer forming resin layer, copper-clad laminated sheet, printed circuit board, production method for multilayer copper-clad laminated sheet and production method for printed circuit board |
JP2005262506A (en) * | 2004-03-16 | 2005-09-29 | Mitsui Mining & Smelting Co Ltd | Electrolytic copper foil with carrier foil equipped with resin layer for forming insulating layer, copper clad laminated sheet, printed wiring board, manufacturing method of multilayered copper clad laminated sheet and printed wiring board manufacturing method |
JP4570070B2 (en) * | 2004-03-16 | 2010-10-27 | 三井金属鉱業株式会社 | Electrolytic copper foil with carrier foil provided with resin layer for forming insulating layer, copper-clad laminate, printed wiring board, method for producing multilayer copper-clad laminate, and method for producing printed wiring board |
US7883783B2 (en) | 2004-03-16 | 2011-02-08 | Mitsui Mining & Smelting Co., Ltd. | Electrodeposited copper foil with carrier foil on which a resin layer for forming insulating layer is formed, copper-clad laminate, printed wiring board, method for manufacturing multilayer copper-clad laminate, and method for manufacturing printed wiring board |
JP2010000679A (en) * | 2008-06-20 | 2010-01-07 | Furukawa-Sky Aluminum Corp | Aluminum material and its manufacturing method |
JP2011021260A (en) * | 2009-07-17 | 2011-02-03 | Furukawa-Sky Aluminum Corp | Aluminum substrate and method of manufacturing the same |
JP2013089902A (en) * | 2011-10-21 | 2013-05-13 | Fujitsu Ltd | Wiring substrate and manufacturing method of the same |
JP2014182178A (en) * | 2013-03-18 | 2014-09-29 | Fuji Heavy Ind Ltd | Stereo camera unit |
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