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JPH09180644A - Color cathode-ray tube and its manufacture - Google Patents

Color cathode-ray tube and its manufacture

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Publication number
JPH09180644A
JPH09180644A JP33916495A JP33916495A JPH09180644A JP H09180644 A JPH09180644 A JP H09180644A JP 33916495 A JP33916495 A JP 33916495A JP 33916495 A JP33916495 A JP 33916495A JP H09180644 A JPH09180644 A JP H09180644A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
shadow mask
hole
shape
slot
ray tube
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP33916495A
Other languages
Japanese (ja)
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JP3353582B2 (en
Inventor
Tsutomu Tomono
務 伴野
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Renesas Semiconductor Manufacturing Co Ltd
Kansai Nippon Electric Co Ltd
Original Assignee
Renesas Semiconductor Manufacturing Co Ltd
Kansai Nippon Electric Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Renesas Semiconductor Manufacturing Co Ltd, Kansai Nippon Electric Co Ltd filed Critical Renesas Semiconductor Manufacturing Co Ltd
Priority to JP33916495A priority Critical patent/JP3353582B2/en
Publication of JPH09180644A publication Critical patent/JPH09180644A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP3353582B2 publication Critical patent/JP3353582B2/en
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  • Electrodes For Cathode-Ray Tubes (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To maintain the strength of a shadow mask and improve the transmitance of an electron beam by specifying the shape of the slot hole of the shadow mask. SOLUTION: The surface side of a shadow mask 1 is covered with a resist film 9, a back face resist pattern 8 is formed on the back face side, etching is applied, and holes having a bridge section cross section are formed. The shadow mask 1 is washed and dried, the etched back holes are buried with an etching blocking agent Q, the back face side is protected with the resist film 9, a surface resist pattern 7 is formed on the surface side, etching is applied, and the etching blocking agent Q is removed. The shadow mask 1 is washed and dried, the surface holes on a fluorescent screen side are formed into a trapezoidal shape having two substantially parallel sides perpendicular to the longitudinal direction of slot holes 3, and the back holes on an electron gun side have cross sectional shapes of the trapezoidal slot holes 3 and bridge sections 4 in the opposite direction to the surface hole shape in this shadow mask 1.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、スロット型シャドウマ
スクを有するカラー陰極線管に関し、特にシャドウマス
クのブリッジ部形状を工夫して、シャドウマスクの強度
を維持しつつ、電子ビームの透過率の向上を図ったカラ
ー陰極線管とに関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a color cathode ray tube having a slot type shadow mask, and in particular, the shape of the bridge portion of the shadow mask is devised to improve the electron beam transmittance while maintaining the strength of the shadow mask. The present invention relates to a color cathode ray tube.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来のカラー陰極線管の基本構造である
要部断面図を図6に示す。図6に示すように、一般にカ
ラー陰極線管11は、バルブ12の前面部を構成するフ
ェースパネル13の内面側より蛍光面14、シャドウマ
スク15が配設され、またバルブ12のネック部に配設
された電子銃16から放出される電子ビーム17を偏向
ヨーク18による磁界で偏向させ、シャドウマスク15
を介して蛍光面14を走査することにより、蛍光面上に
画像を表示するように構成されている。
2. Description of the Related Art FIG. 6 shows a cross-sectional view of a main part of a basic structure of a conventional color cathode ray tube. As shown in FIG. 6, in the color cathode-ray tube 11, generally, a fluorescent screen 14 and a shadow mask 15 are arranged from the inner surface side of a face panel 13 which constitutes the front surface of the bulb 12, and a neck portion of the bulb 12 is arranged. The electron beam 17 emitted from the generated electron gun 16 is deflected by the magnetic field generated by the deflection yoke 18, and the shadow mask 15
By scanning the fluorescent screen 14 via the screen, an image is displayed on the fluorescent screen.

【0003】画像表示装置としての基本性能すなわちコ
ントラストや輝度を向上させるため、フェースパネル1
3の内面に赤、緑、青の各色蛍光体発光画素の間を非発
光吸光性物質、例えば黒鉛で埋めたブラックマトリクス
膜(図示せず)を形成し、このブラックマトリクス膜と
一体的に形成した蛍光面14と、この蛍光面14とは遊
離した形で光を反射するアルミニウム膜からなるメタル
バック膜(図示せず)と、さらにシャドウマスク15を
配設した構造になっている。
In order to improve the basic performance of the image display device, that is, the contrast and the brightness, the face panel 1
On the inner surface of 3, a black matrix film (not shown) filled with non-light-absorbing substances such as graphite is formed between the red, green and blue phosphor light emitting pixels, and is integrally formed with this black matrix film. The fluorescent screen 14, a metal back film (not shown) made of an aluminum film that reflects light in a separated form, and a shadow mask 15 are further provided.

【0004】ここでは、本発明と対応させるため、カラ
ー陰極線管のシャドウマスクについてのみ説明する。シ
ャドウマスクは電子ビームを通過させる多数のスロット
孔を有している。図7は、シャドウマスクとして形成さ
れた多数個からなる矩形状の同一形状をしたスロット孔
配列の一領域を示す部分平面図である。一般に、シャド
ウマスクに配設された多数のスロット孔は、シャドウマ
スク素材の表面(蛍光面側)および裏面(電子銃側)
に、いずれも矩形状のレジストパターンを形成した後、
エッチングによって形成される。なお、このレジストパ
ターンは、画面の垂直軸方向に長径、水平軸方向に短径
を有した矩形である。
In order to correspond to the present invention, only the shadow mask of the color cathode ray tube will be described here. The shadow mask has a large number of slot holes through which the electron beam passes. FIG. 7 is a partial plan view showing a region of an array of rectangular identical slots formed as a shadow mask. Generally, a large number of slot holes provided in the shadow mask are used for the front surface (fluorescent surface side) and the back surface (electron gun side) of the shadow mask material.
After forming a rectangular resist pattern,
It is formed by etching. The resist pattern is a rectangle having a major axis in the vertical axis direction and a minor axis in the horizontal axis direction of the screen.

【0005】図7に示すように、シャドウマスク15に
はスロット孔23が形成されており垂直軸V方向に長
径、水平軸H方向に短径を有した矩形となっている。こ
のスロット孔23は、蛍光面側となる表面の矩形表孔2
3aと電子銃側となる裏面の矩形裏孔23bから構成さ
れる。また垂直V方向に並んだスロット孔23間に形成
される部分がブリッジ部24である。
As shown in FIG. 7, slot holes 23 are formed in the shadow mask 15, and the shadow mask 15 has a rectangular shape having a major axis in the vertical axis V direction and a minor axis in the horizontal axis H direction. The slot hole 23 is a rectangular surface hole 2 on the surface which is the phosphor screen side.
3a and a rectangular back hole 23b on the back surface on the electron gun side. The portion formed between the slot holes 23 arranged in the vertical V direction is the bridge portion 24.

【0006】図8は、図7のシャドウマスク15のスロ
ット孔23の中心におけるA−A線およびB−B線から
見たシャドウマスクの断面図であり、スロット孔23と
ブリッジ部24の断面形状を示している。これらの形状
はシャドウマスク15の中央部および周辺部とも同様形
状をしている。
FIG. 8 is a sectional view of the shadow mask as seen from the line AA and the line BB at the center of the slot hole 23 of the shadow mask 15 of FIG. 7, showing the sectional shapes of the slot hole 23 and the bridge portion 24. Is shown. These shapes are similar to the central portion and the peripheral portion of the shadow mask 15.

【0007】ところで、図6に示したように、電子銃1
6から発射され偏向ヨーク18によって偏向された電子
ビーム17は、スロット孔23を通過し蛍光面14を発
光させる。しかし、図9に示すように、ブリッジ部24
と入射角度θとによる電子ビームの透過率は、電子ビー
ム17がスロット孔23を通過するときに、ブリッジ部
24の影響をうけて蛍光面14上に射影が生じることか
ら低下する。
By the way, as shown in FIG.
The electron beam 17 emitted from 6 and deflected by the deflection yoke 18 passes through the slot hole 23 and causes the fluorescent screen 14 to emit light. However, as shown in FIG.
The transmittance of the electron beam due to the incident angle .theta. And the incident angle .theta. Is lowered because the electron beam 17 passes through the slot hole 23 and is projected on the phosphor screen 14 under the influence of the bridge portion 24.

【0008】この場合、スロット孔23の形状が同一形
状であり、シャドウマスク15の中央水平軸より垂直方
向に遠くなるほど、入射角度θが大きくなるため、各ス
ロット孔23に対する電子ビーム17は入射角度θに影
響されて蛍光面14に生じる射影幅を大きくする。すな
わち、画面上下辺部では、電子ビーム17をさえぎる実
質的な射影幅L1が画面中央部での射影幅L2より大き
くなる。これは電子ビーム17の入射方向に測った透過
率が中央水平軸より遠くなるほど低下することを意味し
ている。
In this case, the slot holes 23 have the same shape, and the incident angle θ increases as the distance from the central horizontal axis of the shadow mask 15 increases in the vertical direction. The projection width generated on the phosphor screen 14 under the influence of θ is increased. That is, in the upper and lower sides of the screen, the substantial projection width L1 that intercepts the electron beam 17 is larger than the projection width L2 in the center of the screen. This means that the transmittance measured in the incident direction of the electron beam 17 decreases as the distance from the central horizontal axis increases.

【0009】このような課題に対する改善策として、ブ
リッジ部24の形成手段として製造方法を検討した。例
えば、表面からのエッチングを深く入れることにより、
表面側のブリッジ部24の平坦部を無くし、かつこのブ
リッジ部24の板厚方向の高さを下げることを検討した
結果、シャドウマスク1の中央水平軸より垂直方向に遠
くなる画面周辺部ほど透過率が低下するという課題は改
善されたが、シャドウマスクの機械的強度が大幅に低下
する問題が生じて実用化までには至らなかった。
As a remedy for such a problem, a manufacturing method was studied as a means for forming the bridge portion 24. For example, by deeply etching from the surface,
As a result of studying eliminating the flat portion of the bridge portion 24 on the front side and lowering the height of the bridge portion 24 in the plate thickness direction, as a result, the peripheral portion of the screen that is farther in the vertical direction from the central horizontal axis of the shadow mask 1 is transparent. Although the problem that the rate was lowered was improved, the problem that the mechanical strength of the shadow mask was significantly decreased occurred, and it could not be put to practical use.

【0010】同様の問題に対し、特開昭50−1421
60号公報では、シャドウマスクの表孔と裏孔の位置関
係を電子ビーム入射角度に合わせてずらすことにより、
電子ビームの透過率を増加させ、蛍光面輝度を向上さ
せ、またはブリッジ部強度を向上させることが、開示さ
れている。しかし同公報ではあるべき姿は述べられてい
るものの、具体的な実現への記述はない。
To solve the same problem, JP-A-50-1421
In Japanese Patent Laid-Open No. 60, by shifting the positional relationship between the front hole and the back hole of the shadow mask in accordance with the electron beam incident angle,
It is disclosed that the transmittance of an electron beam is increased, the phosphor screen brightness is improved, or the bridge strength is improved. However, although the publication describes what it should be, there is no description of specific implementation.

【0011】また、シャドウマスク水平方向に対する電
子ビームの入射角度増大による透過率低下の問題は特開
平7−114885号公報に開示されているように、ス
ロット孔表孔の傾斜部を実質上十分大きくとることで改
善されている。
Further, as disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. 7-114885, there is a problem in that the transmittance decreases due to an increase in the incident angle of the electron beam with respect to the horizontal direction of the shadow mask. It has been improved by taking.

【0012】[0012]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述し
たように同一形状のブリッジ部24を有するシャドウマ
スク15では、電子ビーム17がシャドウマスク15に
配設された各スリット孔23を通過するときに、シャド
ウマスク15の中央水平軸より垂直方向に遠くなるほ
ど、ブリッジ部24による射影幅L1が大きくなる。す
なわち、各スロット孔23に対する電子ビーム17の入
射角度θが大きくなるにしたがって、電子ビーム17の
入射方向から測った透過率が低下していくという課題が
ある。
However, in the shadow mask 15 having the bridge portion 24 of the same shape as described above, when the electron beam 17 passes through each slit hole 23 provided in the shadow mask 15, The projection width L1 by the bridge portion 24 increases as the distance from the central horizontal axis of the shadow mask 15 increases in the vertical direction. That is, there is a problem that the transmittance measured from the incident direction of the electron beam 17 decreases as the incident angle θ of the electron beam 17 to each slot hole 23 increases.

【0013】そこで本発明は、上記問題点に鑑みて提案
されたもので、その目的とするところは電子ビームがス
ロット孔を透過するときにブリッジ部による射影幅を小
さくする手段、すなわち電子ビームのシャドウマスク垂
直方向成分に関して、入射角度増大に伴う入射方向から
測った透過率の低下を抑制したブリッジ形状およびその
製造方法を提供することによって、透過率を改善し色の
純度やコントラストを向上させたカラー陰極線管を提供
することにある。
Therefore, the present invention has been proposed in view of the above problems, and its object is to provide a means for reducing the projection width of the bridge portion when the electron beam passes through the slot hole, that is, With respect to the vertical component of the shadow mask, by providing a bridge shape that suppresses a decrease in the transmittance measured from the incident direction with an increase in the incident angle and a method for manufacturing the bridge shape, the transmittance is improved and the color purity and contrast are improved. It is to provide a color cathode ray tube.

【0014】[0014]

【課題を解決するための手段】本発明は、インライン配
列の電子銃と、この電子銃からの電子ビームの走査線に
対して垂直方向に縦長のスロット孔がブリッジ部を介し
て一定の縦ピッチで連なったスロット孔列を水平方向に
並設したシャドウマスクと、このシャドウマスクに対向
して配設され、かつ垂直方向に連続したストライプ状の
蛍光面とを具備したカラー陰極線管において、シャドウ
マスクに形成したスロット孔であって、蛍光面側の表孔
形状がスロット孔長手方向に直交する略平行な2辺を有
する台形状であり、かつ電子銃側の裏孔形状が表孔形状
とは逆方向の台形状となっているカラー陰極線管を提供
する。
SUMMARY OF THE INVENTION According to the present invention, an in-line array electron gun and a slot hole vertically long in a direction perpendicular to a scanning line of an electron beam from the electron gun have a constant vertical pitch via a bridge portion. In a color cathode ray tube having a shadow mask in which a row of slot holes connected in parallel in the horizontal direction are arranged, and a stripe-shaped fluorescent screen which is arranged so as to face the shadow mask and is continuous in the vertical direction, a shadow mask The front hole shape on the phosphor screen side is a trapezoidal shape having two substantially parallel sides orthogonal to the slot hole longitudinal direction, and the back hole shape on the electron gun side is the front hole shape. An inverted trapezoidal color cathode ray tube is provided.

【0015】また、スロット孔の表孔形状を形成した略
平行の2辺がシャドウマスク中央水平軸から遠い側の辺
がより長い辺であるカラー陰極線管を提供する。
Further, there is provided a color cathode ray tube in which two substantially parallel sides forming the front hole shape of the slot hole are longer sides on the side far from the horizontal axis of the shadow mask center.

【0016】また、スロット孔の表孔形状を形成した台
形状の略平行な2辺の長さの差がシャドウマスクの中央
水平軸から離れるほど大きくなるカラー陰極線管とその
製造方法を提供する。
Also provided is a color cathode ray tube in which the difference between the lengths of two substantially parallel sides of a trapezoid having the front hole shape of a slot hole increases with distance from the central horizontal axis of the shadow mask, and a manufacturing method thereof.

【0017】[0017]

【発明の実施の形態】一般に、カラー陰極線管のシャド
ウマスクは電子ビームを通過させる多数のスロット孔が
規則正しく配設されている。本発明の実施の形態につい
て図1〜図5を参照しながら説明する。各図において、
1はシャドウマスク、3はスロット孔、3aは台形状表
孔、3bは台形状裏孔、4はスロット孔間を連結するブ
リッジ部、5は電子ビーム、6は蛍光面、7および8は
スロット孔とブリッジ部を形成するための台形状の表面
および裏面のレジストパターンである。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS In general, a shadow mask of a color cathode ray tube has a large number of slot holes through which an electron beam passes, which are regularly arranged. An embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. In each figure,
1 is a shadow mask, 3 is a slot hole, 3a is a trapezoidal front hole, 3b is a trapezoidal back hole, 4 is a bridge portion connecting the slot holes, 5 is an electron beam, 6 is a fluorescent screen, and 7 and 8 are slots. It is a trapezoidal front and back side resist pattern for forming holes and bridges.

【0018】図1は、本発明によるシャドウマスクに形
成されているスロット孔配列の一領域を示す部分平面図
である。図1(a)は、上辺部付近のスロット孔配列で
あり、図1(b)は中央水平軸付近のスロット配列を示
している。図に示すように、シャドウマスク1に形成さ
れたスロット孔3は、スロット孔3が形成されるシャド
ウマスク1の垂直軸V方向に長辺、水平軸H方向に短辺
を有した矩形状となっている。このスロット孔3は蛍光
面側となる表面の台形状表孔3aと電子銃側となる裏面
の台形状裏孔3bから構成される。また、垂直軸V方向
に並ぶスロット孔3間をブリッジ部4と呼んでいる。な
お、図1(a)は上辺部付近のスロット孔3を示してい
るが、下辺部付近のスロット孔3は、中央水平軸に対し
て上辺部と線対称に形成される。
FIG. 1 is a partial plan view showing a region of a slot hole array formed in a shadow mask according to the present invention. FIG. 1A shows the slot hole arrangement near the upper side portion, and FIG. 1B shows the slot arrangement near the central horizontal axis. As shown in the figure, the slot hole 3 formed in the shadow mask 1 has a rectangular shape having a long side in the vertical axis V direction and a short side in the horizontal axis H direction of the shadow mask 1 in which the slot hole 3 is formed. Has become. The slot hole 3 is composed of a trapezoidal front hole 3a on the front side which is the phosphor screen side and a trapezoidal back hole 3b on the back side which is the electron gun side. Further, the space between the slot holes 3 arranged in the vertical axis V direction is called a bridge portion 4. Although FIG. 1A shows the slot hole 3 near the upper side portion, the slot hole 3 near the lower side portion is formed in line symmetry with the upper side portion with respect to the central horizontal axis.

【0019】図2は、図1のシャドウマスク1のスロッ
ト孔3の中心におけるY−Y線から見たシャドウマスク
の断面図である。図2は、エッチング後の台形状表孔3
aと台形状裏孔3bとによって形成されたスロット孔3
とブリッジ部4の出来上がり断面形状を示し、これらの
ブリッジ部4の断面形状は、シャドウマスク1の中央水
平部に対して垂直方向に離れるに従い、図5に示すよう
な電子ビーム5の入射角度θに合わせて徐々に傾むくよ
うに設計している。
FIG. 2 is a sectional view of the shadow mask as seen from the YY line at the center of the slot hole 3 of the shadow mask 1 of FIG. FIG. 2 shows a trapezoidal surface hole 3 after etching.
slot hole 3 formed by a and trapezoidal back hole 3b
And the completed cross-sectional shape of the bridge portion 4. The cross-sectional shape of these bridge portions 4 is such that the incident angle θ of the electron beam 5 as shown in FIG. It is designed to gradually incline according to.

【0020】図3は、本発明によるレジストパターンの
形状を示す平面図である。図3は、図2で示したよう
に、この断面形状のスリット孔3とブリッジ部4を形成
するために、例えば、シャドウマスク1の台形状表孔3
aと台形状裏孔3bを形成するための表面用レジストパ
ターン7と裏面用レジストパターン8である。図3
(a)は上辺部、図3(b)は中央水平軸近傍で、図3
(c)は下辺部のそれぞれのレジストパターン形状を示
している。なお、裏面用レジストパターン8は、表面用
レジストパターン7の向きを逆方向にした矩形状レジス
トパターンを有する。このように、本発明によるシャド
ウマスク1のスロット孔3とブリッジ部4の製造は、い
わゆる二段エッチング法によりエッチングをすることに
より形成される。
FIG. 3 is a plan view showing the shape of the resist pattern according to the present invention. As shown in FIG. 2, in FIG. 3, in order to form the slit hole 3 and the bridge portion 4 of this cross-sectional shape, for example, the trapezoidal front hole 3 of the shadow mask 1 is formed.
a is a front surface resist pattern 7 and a back surface resist pattern 8 for forming the trapezoidal back hole 3b. FIG.
3A is the upper side, FIG. 3B is the vicinity of the central horizontal axis, and FIG.
(C) shows each resist pattern shape on the lower side. The back surface resist pattern 8 has a rectangular resist pattern in which the direction of the front surface resist pattern 7 is reversed. As described above, the slot hole 3 and the bridge portion 4 of the shadow mask 1 according to the present invention are manufactured by etching by the so-called two-step etching method.

【0021】図4を参照しながら、特にシャドウマスク
1の上、下辺部の図を示して、より具体的に製造方法を
説明する。図4(a)に示すように、まず、シャドウマ
スク1の表面側をレジスト膜9で覆い、裏面側は裏面用
レジストパターン8を形成した後、エッチングを行う。
このときシャドウマスク1上に形成されたこの裏面用レ
ジストパターン8のうち、長い辺の近傍の方が短い辺の
近傍よりもエッチングの抵抗が少なく、より深く広くエ
ッチングが進行する。この結果として、図4(a)に示
すような断面形状にエッチングされた孔が形成される。
次に、洗浄乾燥後、図4(b)に示すように、エッチン
グされた裏孔をエッチング阻止材Qで埋め、裏面側はレ
ジスト膜9で保護し、表面側は表面用レジストパターン
7を形成し、エッチングを実施する。裏面エッチング時
と同様、表面用レジストパターン7の長い辺の近傍でエ
ッチングがより深く広く入るので、この断面形状は図4
(b)のようになる。
The manufacturing method will be described more specifically by referring to FIG. 4 and showing the upper and lower sides of the shadow mask 1, in particular. As shown in FIG. 4A, first, the front surface side of the shadow mask 1 is covered with a resist film 9, and the back surface side is formed with a back surface resist pattern 8, and then etching is performed.
At this time, in the backside resist pattern 8 formed on the shadow mask 1, the longer side has a lower etching resistance than the shorter side, and the etching proceeds deeper and wider. As a result, holes are etched which have a sectional shape as shown in FIG.
Next, after washing and drying, as shown in FIG. 4B, the etched back hole is filled with the etching stopper Q, the back surface side is protected by the resist film 9, and the front surface side is formed with the front surface resist pattern 7. Then, etching is performed. Similar to the case of the back surface etching, the etching enters deeper and wider in the vicinity of the longer side of the front surface resist pattern 7, so that this cross-sectional shape is shown in FIG.
(B).

【0022】例えば、上、下辺部のブリッジ部断面形状
の中央水平軸に近い傾斜部はその大部分は表孔エッチン
グ時の深く広いエッチングカーブで形成されており、同
じブリッジ部の中央水平軸から遠い傾斜部の大部分は裏
孔エッチング時の深く広いエッチングカーブが形成さ
れ、これら両深く広いエッチングカーブの傾きは、電子
ビーム入射角度と略平行になるように形成される。その
後、エッチング阻止剤Qを除去し洗浄乾燥すれば、図4
(c)に示すような形状のスロット孔3およびブリッジ
部4の断面形状を有するシャドウマスク1が完成する。
For example, most of the sloped portions of the cross-sectional shape of the bridge portion of the upper and lower sides near the central horizontal axis are formed with deep and wide etching curves at the time of surface hole etching, and from the central horizontal axis of the same bridge portion. Most of the distant inclined portion has a deep and wide etching curve formed during back hole etching, and the inclinations of these deep and wide etching curves are formed to be substantially parallel to the electron beam incident angle. After that, if the etching inhibitor Q is removed and washed and dried,
The shadow mask 1 having the cross-sectional shapes of the slot hole 3 and the bridge portion 4 as shown in (c) is completed.

【0023】さらに、台形状平行2辺の長さの差を、中
央水平軸から離れるにしたがって大きくすることによ
り,ブリッジ部の傾きを徐々により傾けることができ
る。なお、レジストパターン上の台形状の位置や形を調
整することでシャドウマスクのブリッジ部形状やスロッ
ト孔形状をコントロールすることが可能なのは言うまで
もない。
Further, by increasing the difference in length between the two sides of the trapezoid parallel to each other with increasing distance from the central horizontal axis, the inclination of the bridge portion can be gradually inclined. Needless to say, the shape of the bridge portion and the shape of the slot hole of the shadow mask can be controlled by adjusting the position and shape of the trapezoidal shape on the resist pattern.

【0024】この結果、ブリッジ部4における電子ビー
ムの射影幅は従来に比べ狭くなり、電子ビーム入射方向
に測った透過率が向上する。しかも表面、裏面ともブリ
ッジ部の平坦部は確保されているので、ブリッジ部4の
大幅な機械的強度の低下は生ぜず、十分な強度を維持し
たブリッジ部4が形成できる。
As a result, the projection width of the electron beam in the bridge portion 4 becomes narrower than in the conventional case, and the transmittance measured in the electron beam incident direction is improved. Moreover, since the flat portion of the bridge portion is secured on both the front surface and the back surface, the bridge portion 4 having sufficient strength can be formed without causing a significant decrease in mechanical strength of the bridge portion 4.

【0025】ここで、例えば画面の中央部と上辺部にお
いて電子ビーム入射角度θに対する相対透過率をシミュ
レーションして比較してみた。図5は、シャドウマスク
1に形成したブリッジ部4の形状と入射角度θに対する
透過率の説明図である。ブリッジ部4が無いときの透過
率を100とし、ブリッジ部4により何パーセント低下
するかを比較する。まず、シャドウマスク1の板厚が
0.1mm、スロット孔3の縦ピッチが0.5mm、シ
ャドウマスク1に平行な面へのブリッジ部4の正射影の
幅が0.1mmのとき、画面上辺部への電子ビーム5の
入射角度θの垂直方向成分は約20度であり、本発明の
場合、図5に示すように、ブリッジ部4による射影幅は
それぞれL1=0.07mm、L2=0.1mmとな
る。また、同様に同寸法の従来のシャドウマスクの場合
には、図7に示すようにL1=0.12mm、L2=
0.1mmとなる。この結果、本発明と従来例との相対
透過率を比較すれば、表1のようになり、画面上辺部で
は相対透過率で76%が86%となり10%をも向上さ
せ得る。なお、具体的には、画面上、下辺部のシャドウ
マスクのブリッジ部の形状寸法を適宜選んで、画面全体
の電子ビーム透過率の均一化を図るようにしてもよい。
Here, for example, the relative transmittance with respect to the electron beam incident angle θ at the central portion and the upper side portion of the screen was simulated and compared. FIG. 5 is an explanatory diagram of the shape of the bridge portion 4 formed on the shadow mask 1 and the transmittance with respect to the incident angle θ. The transmittance when there is no bridge portion 4 is set to 100, and what percentage is reduced by the bridge portion 4 is compared. First, when the plate thickness of the shadow mask 1 is 0.1 mm, the vertical pitch of the slot holes 3 is 0.5 mm, and the width of the orthogonal projection of the bridge portion 4 on the plane parallel to the shadow mask 1 is 0.1 mm, the upper side of the screen is displayed. The vertical component of the incident angle θ of the electron beam 5 on the section is about 20 degrees, and in the case of the present invention, as shown in FIG. 5, the projection widths by the bridge section 4 are L1 = 0.07 mm and L2 = 0, respectively. It becomes 1 mm. Similarly, in the case of the conventional shadow mask of the same size, as shown in FIG. 7, L1 = 0.12 mm, L2 =
It becomes 0.1 mm. As a result, when the relative transmittances of the present invention and the conventional example are compared, it is as shown in Table 1, and at the upper side of the screen, the relative transmittance of 76% is 86%, which can be improved by 10%. It should be noted that specifically, the shape and size of the bridge portion of the shadow mask on the lower side of the screen may be appropriately selected to make the electron beam transmittance of the entire screen uniform.

【0026】[0026]

【表1】 [Table 1]

【0027】[0027]

【発明の効果】上述したように、本発明のカラー陰極線
管によれば、シャドウマスクのスロット孔とブリッジ部
を形成するレジストパターンで、表孔用形状を中央水平
軸から遠い側をより長い辺をもつ台形状にし、裏孔用形
状を逆台形状とすることにより、ブリッジ部の高さを維
持したまま、ブリッジ部の傾きを電子ビームの入射角度
に好適にすることができた。この結果、シャドウマスク
強度を維持しつつ、電子ビームの入射方向に測った透過
率を画面の上下辺部で向上させたことによって、色の純
度輝度およびコントラストを向上させたカラー陰極線管
を実現した。
As described above, according to the color cathode ray tube of the present invention, in the resist pattern for forming the slot hole and the bridge portion of the shadow mask, the front hole shape has a longer side on the side far from the central horizontal axis. By making the trapezoidal shape with a square shape and the shape for the back hole an inverted trapezoidal shape, the inclination of the bridge portion can be made suitable for the incident angle of the electron beam while maintaining the height of the bridge portion. As a result, while maintaining the shadow mask strength, the transmittance measured in the incident direction of the electron beam was improved at the upper and lower sides of the screen to realize a color cathode ray tube with improved color purity and contrast. .

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】 本発明によるシャドウマスクのスロット孔配
列の一領域を示す部分平面図 (a)上辺部のスロット孔配列 (b)下辺部のスロット孔配列
FIG. 1 is a partial plan view showing an area of a slot hole arrangement of a shadow mask according to the present invention (a) a slot hole arrangement on an upper side portion (b) a slot hole arrangement on a lower side portion

【図2】 図1のY−Y線より見たシャドウマスクの断
面図
FIG. 2 is a cross-sectional view of the shadow mask as seen from the line YY of FIG.

【図3】 本発明によるレジストパターンの形状を示す
平面図 (a)表面用レジストパターン (b)裏面用レジストパターン
FIG. 3 is a plan view showing the shape of a resist pattern according to the present invention. (A) Front surface resist pattern (b) Back surface resist pattern

【図4】 本発明のスロット孔とブリッジ部の形成方法
を示す製造説明図 (a)表面側の形成方法 (b)裏面側の形成方法 (c)完成されたシャドウマスク
FIG. 4 is a manufacturing explanatory view showing a method for forming a slot hole and a bridge portion according to the present invention. (A) Front side forming method (b) Back side forming method (c) Finished shadow mask

【図5】 本発明による電子ビーム入射角度による透過
率の説明図 (a)上辺部におけるブリッジ部による射影幅 (b)中央部におけるブリッジ部による射影幅
FIG. 5 is an explanatory view of the transmittance according to the incident angle of the electron beam according to the present invention. (A) Projection width by the bridge portion at the upper side portion (b) Projection width by the bridge portion at the central portion

【図6】 カラー陰極線管の要部断面図FIG. 6 is a sectional view of a main part of a color cathode ray tube.

【図7】 従来のシャドウマスクスロット孔配列の一領
域を示す部分平面図
FIG. 7 is a partial plan view showing a region of a conventional shadow mask slot hole array.

【図8】 図7のA−A線、B−B線から見たシャドウ
マスクの断面図
FIG. 8 is a cross-sectional view of the shadow mask as seen from line AA and line BB in FIG.

【図9】 従来の電子ビーム入射角度による透過率の説
明図 (a)上辺部におけるブリッジ部による射影幅 (b)中央部におけるブリッジ部による射影幅
9A and 9B are explanatory diagrams of the transmittance according to a conventional electron beam incident angle. (A) Projection width by the bridge portion at the upper side portion (b) Projection width by the bridge portion at the central portion

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 シャドウマスク 3 スロット孔 3a 台形状表孔 3b 台形状裏孔 4 ブリッジ部 5 電子ビーム 6 蛍光面 7 表面レジストパターン 8 裏面レジストパターン L1 上辺部(下辺部)におけるブリッジ部射影幅 L2 中央部におけるブリッジ部射影幅 1 Shadow Mask 3 Slot Hole 3a Trapezoidal Front Hole 3b Trapezoidal Back Hole 4 Bridge Part 5 Electron Beam 6 Fluorescent Surface 7 Surface Resist Pattern 8 Backside Resist Pattern L1 Bridge Part Projection Width L2 at Upper Side (Lower Side) Bridge at Central Part Partial projection width

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】インライン配列の電子銃と、この電子銃か
らの電子ビームの走査線に対して垂直方向に縦長のスロ
ット孔がブリッジ部を介して一定の縦ピッチで連なった
スロット孔列を水平方向に並設したシャドウマスクと、
このシャドウマスクに対向して配設されかつ垂直方向に
連続したストライプ状の蛍光面とを具備したカラー陰極
線管において、前記スロット孔形状を、蛍光面側の表孔
をスロット孔長手方向に直交する略平行な2辺を有する
台形状とし、電子銃側の裏孔を表孔形状とは逆方向の台
形状としたことを特徴とするカラー陰極線管。
1. An in-line arrayed electron gun and a slot hole row in which vertically elongated slot holes are connected in a vertical direction with respect to a scanning line of an electron beam from the electron gun at a constant vertical pitch via a bridge portion. Shadow masks arranged side by side,
In a color cathode ray tube provided with a stripe-shaped phosphor screen which is arranged so as to face the shadow mask and is continuous in the vertical direction, the slot hole shape is such that the front hole on the phosphor screen side is orthogonal to the slot hole longitudinal direction. A color cathode ray tube having a trapezoidal shape having two sides that are substantially parallel to each other, and a back hole on the electron gun side having a trapezoidal shape in a direction opposite to a front hole shape.
【請求項2】前記スロット孔の表孔形状を形成した略平
行の2辺を、前記シャドウマスク中央水平軸から遠い側
の辺をより長い辺としたことを特徴とする請求項1記載
のカラー陰極線管。
2. The color according to claim 1, wherein two substantially parallel sides forming the front hole shape of the slot hole are longer sides on the side farther from the central horizontal axis of the shadow mask. Cathode ray tube.
【請求項3】前記スロット孔の表孔形状を形成した台形
状の略平行な2辺の長さの差を、前記シャドウマスクの
中央水平軸から離れるほど大きくしたことを特徴とする
請求項2記載のカラー陰極線管。
3. The difference between the lengths of two substantially parallel trapezoidal sides forming the front hole shape of the slot hole is increased as the distance from the central horizontal axis of the shadow mask increases. The described color cathode ray tube.
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