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JPH09178452A - 表面観察光学系 - Google Patents

表面観察光学系

Info

Publication number
JPH09178452A
JPH09178452A JP33937995A JP33937995A JPH09178452A JP H09178452 A JPH09178452 A JP H09178452A JP 33937995 A JP33937995 A JP 33937995A JP 33937995 A JP33937995 A JP 33937995A JP H09178452 A JPH09178452 A JP H09178452A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
inspected
observation
reflected
reflected light
image
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP33937995A
Other languages
English (en)
Inventor
Shinichi Nagata
信一 永田
Noriyuki Kondo
教之 近藤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Original Assignee
Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd filed Critical Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Priority to JP33937995A priority Critical patent/JPH09178452A/ja
Publication of JPH09178452A publication Critical patent/JPH09178452A/ja
Pending legal-status Critical Current

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  • Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
  • Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
  • Testing Of Optical Devices Or Fibers (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 レンズなどの表面の検査において、非被検面
からの反射光の影響を受けずに被検面を観察することが
できる表面観察光学系を提供する。 【解決手段】 点光源部5から出射された照明光31を
検査対象である被検レンズ1に照射し、被検面10にお
いて反射した第1反射光を観察面20に入射させる。こ
のとき、被検面10と観察面20とを非共役な関係に配
置させることにより、観察面20に被検面10の魔鏡法
による像を形成させる。また、非被検面11において反
射した第2反射光32bを観察面20の一点に集光させ
るように光学系4を設定し、第2反射光32bが観察面
20に形成された被検面10の像に影響を与えないよう
にする。これにより、観察面20に形成された像を観察
して、非被検面11からの第2反射光32bの影響を受
けることなく被検面10上に存在する微小な凹凸や傷な
どを検出することができる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】この発明は、レンズなどの被
検面および非被検面を対向して有する透明な被検物体に
点光源からの照明光を照射し、被検物体において反射し
た反射光を被検面と非共役に配置されたスクリーンやカ
メラの受光部などの観察面上で受けて被検面の像を観察
面に形成する表面観察光学系に関する。
【0002】
【従来の技術】古来より、魔鏡と呼ばれる鏡に太陽光な
どを入射した場合、その鏡により反射された光が壁など
に導かれ、その壁面上で明暗の模様を有する像が観察さ
れることが知られている。この明暗の模様は、鏡の表面
に形成された微小な凹凸に対応したものである。
【0003】魔鏡による現象を利用して半導体ウェハな
どの表面に存在する微小な凹凸や傷などを検出する方法
(以下、「魔鏡法」という。)は従来より知られてお
り、例えば、特公昭63−19001号公報では、魔鏡
法を用いた表面の検査装置および表面の検査方法につい
て開示されている。この表面の検査装置および表面の検
査方法では、観察対象である平面状の被検面に平行光を
照射し、被検面からの平行光である反射光を集光レンズ
により観察面に導き、被検面の像を観察面に形成してい
る。ここで、被検面と観察面とを非共役な関係に配置す
ることにより、被検面上の微小な凹凸や傷などが観察面
に形成される被検面の像における明暗の模様に基づいて
検出可能となる。なぜならば、被検面上に存在する微小
な凹凸や傷などで反射した光は被検面からの反射光とは
平行ではなくなり、また、被検面と観察面とは非共役な
関係に配置されているため、被検面上に存在する微小な
凹凸や傷などで反射した光が観察面に形成される被検面
の像の反射位置に対応する部位に入射しないからであ
る。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】魔鏡法を用いた表面観
察光学系では、以上説明してきたように、被検面上の微
小な凹凸や傷などを観察面に形成される像の明暗の模様
から検出している。しかし、この魔鏡法による表面観察
光学系をレンズなどの相互に対向した被検面と非被検面
とを有する透明な被検物体に応用しようとした場合、被
検物体に照射された照明光は被検面のみならず非被検面
においても反射するため、観察面には被検面からの反射
光以外に非被検面からの反射光も入射し、観察面に被検
面の像と非被検面の像とが重なって形成されることとな
る。その結果、観察面に形成された像の明暗の模様を観
察することにより被検面上の微小な凹凸や傷などを検出
することが困難となる。
【0005】そこで、この発明の目的は、上記課題に鑑
み、非被検面からの反射光の影響を実質的に受けずに観
察面に形成された被検面の像を観察することができる表
面観察光学系を提供することである。
【0006】
【課題を解決するための手段】請求項1の発明は、透明
体からなり、その相互に対向する両面がそれぞれ被検面
および非被検面となっている被検物体に点光源からの照
明光を照射し、前記被検物体において反射した反射光を
前記被検面と非共役な観察面上で受けて前記被検面の像
を前記観察面に形成する表面観察光学系において、同一
の光軸に沿って、前記点光源からの照明光を前記被検物
体に導くとともに、前記被検面において反射した第1反
射光と、前記非被検面において反射した第2反射光とを
前記観察面に導く光学系を備え、前記第1反射光による
前記点光源の共役面を前記観察面から離れた位置に形成
する一方、前記第2反射光による前記点光源の共役面を
前記観察面に合致させる。
【0007】請求項2の発明は、透明体からなり、その
相互に対向する両面がそれぞれ被検面および非被検面と
なっている被検物体に点光源からの照明光を照射し、前
記被検物体において反射した反射光を前記被検面と非共
役な観察面上で受けて前記被検面の像を前記観察面に形
成する表面観察光学系において、同一の光軸に沿って、
前記点光源からの照明光を前記被検物体に導くととも
に、前記被検面において反射した第1反射光と、前記非
被検面において反射した第2反射光とを前記観察面に導
く光学系を備え、前記第1および第2反射光による前記
点光源の共役面をそれぞれ前記観察面から離れた位置に
形成し、しかも、前記第1反射光により前記観察面に形
成される前記被検面の像と当該像に対応する前記被検面
の部位との大きさの比をMとし、前記第2反射光により
前記観察面に形成される前記非被検面の像と当該像に対
応する前記非被検面の部位との大きさの比をRとしたと
き、次の不等式、 |R|>|M| を満足する。
【0008】請求項3の発明は、請求項2の表面観察光
学系において、次の不等式、 |R/M|≧2.5 を満足する。
【0009】
【発明の実施の形態】以下、この発明の実施の形態につ
いて図面を参照しながら説明する。
【0010】図1および図2はこの発明に係る表面観察
光学系の第1の実施の形態を示す図である。この表面観
察光学系は、凸形状の被検面10と平面形状の非被検面
11とを相互に対向して有する透明な被検物体である被
検レンズ1において、被検面10上に存在する微小な凹
凸や傷などを検出するものであり、点光源部5と光学系
4と観察面20とから構成される。
【0011】点光源部5は20Wのハロゲンランプであ
る光源50と、レンズ51と、直径0.06mmのピンホ
ール53が形成されたピンホール板52とで構成されて
いる。また、この点光源部5では、光源50とピンホー
ル板52とは光学的に共役な位置に配置されており、光
源50より出射された光はレンズ51を介してピンホー
ル53上に光源50の1/10の像(点光源)を形成す
る。こうして点光源が形成され、点光源からの照明光、
つまりピンホール53から出射される光が光学系4を介
して被検レンズ1に照射される。この光学系4は焦点距
離120mmで口径40mmのレンズ40と、ハーフミラー
41と、焦点距離160mmで口径40mmのレンズ42
と、焦点距離60mmで口径40mmのレンズ43とで構成
されている。この光学系4により、点光源部5からの光
はレンズ40により平行光となってハーフミラー41に
入射し、ハーフミラー41において反射した光束はレン
ズ42により集光され、光軸OAに沿って被検レンズ1
に開口数0.001の集光角で照明光31として入射
し、被検面10での照明範囲はφ7.6mmとなってい
る。また、被検レンズ1において反射した反射光は光軸
OAに沿ってレンズ42、ハーフミラー41を通過した
後、レンズ43を介して観察面20に導びかれる。この
ように当該実施の形態では、同一の光軸OAに沿って、
点光源部5からの照明光を被検レンズ1に導くとともに
被検レンズ1からの反射光を観察面20に導く落射照明
光学系を構成している。なお、反射光には被検面10に
おいて反射した反射光(以下、「第1反射光」という)
32aと、非被検面11において反射した反射光(以
下、「第2反射光」という)32bとが含まれるが、こ
れらについては後で分けて詳述する。この実施の形態で
は、観察面20はカメラ22の受光部21に設定されて
おり、被検レンズ1からの反射光により観察面20に形
成される像はモニタ23に映し出されるようになってい
る。なお、観察面20はレンズ43より72mmの位置に
配置する。このとき、被検面10と観察面20とは非共
役な関係の配置となり、ピンホール53より非被検面1
1を経由して観察面20に至る光路においてピンホール
53と観察面20とは共役な関係の配置となり、ピンホ
ール53より被検面10を経由して観察面20に至る光
路においてピンホール53と観察面10とは非共役な関
係の配置となる。
【0012】次に、上記のように構成された表面観察光
学系において被検レンズ1の被検面10および非被検面
11の像がそれぞれどのようにして観察面20に形成さ
れるかについて、被検面10の像と非被検面11の像に
分けて説明する。
【0013】図1は被検面10において反射した第1反
射光32aが観察面20に導かれる様子を示した図であ
る。点光源部5からの照明光31が被検レンズ1に照射
されると、照明光31の一部は被検レンズ1の被検面1
0において反射し、第1反射光32aとなって再び光軸
OAに沿ってレンズ42、ハーフミラー41およびレン
ズ43を介して観察面20にφ6mmで入射し、観察面2
0に被検面10の像を形成する。こうして形成された被
検面10の像の一例を図3に示す(ただし、70で示さ
れるスポットは後述するようにして非被検面11からの
第2反射光32bにより形成されるものである)。
【0014】ここで、被検面10の像が観察面20に形
成される理由は、被検面10上に微小な凹凸や傷などが
存在する場合、その領域において反射した反射光は、一
様に発散あるいは集束する第1反射光32aの規則性を
乱すからである。また、被検面10と観察面20とは非
共役な関係に配置されているため、被検面10上の微小
な凹凸や傷などで反射した反射光は観察面20に形成さ
れる被検面10の像の反射位置に対応する部位に入射し
ない。その結果、被検面10上の微小な凹凸や傷などは
観察面20に形成される被検面10の像に明暗の模様と
して観察されることとなる。例えば、図3に示す被検面
10の像の一例では、60、61、62および63がそ
れぞれ被検面10上の傷、塵、泡および研磨痕に対応し
た明暗の模様として観察される。
【0015】図2は非被検面11において反射した第2
反射光32bが観察面20に導かれる様子を示した図で
ある。光軸OAに沿って透明な被検レンズ1に入射する
照明光31のうち被検面10を通過した光は被検レンズ
1内部に入射し、その一部が非被検面11において反射
して第2反射光32bとなる。そして、第2反射光32
bは第1反射光32aと同様に光軸OAと同一の光軸に
沿ってレンズ42、ハーフミラー41およびレンズ43
を介して観察面20に入射する。この実施の形態では、
点光源とみなされるピンホール53はピンホール53よ
り非被検面11を経由して観察面20に至る光路におい
て観察面20と共役な関係に配置されているため、第2
反射光32bは観察面20の一点に集光し、ピンホール
53の像を形成することとなる。図3に示される観察面
20の像の一例においては、明るいスポット70として
第2反射光32bが一点に集光して形成するピンホール
53の像が示されている。
【0016】以上、図1および図2を用いて第1および
第2反射光が観察面20に入射する様子をそれぞれ説明
したが、このように第1および第2反射光を観察面20
に入射させるように光学系4を設定することにより次の
ような効果が得られる。第1および第2反射光はともに
観察面20に入射するが、第2反射光32bは一点のみ
に集光するため、第1反射光32aにより観察面20に
形成された被検面10の像には一点を除いて第2反射光
32bは影響しない。したがって、観察面20の一点以
外の領域には被検面10の像のみが鮮明に形成され、こ
の一点を除いて観察面20に形成された像を観察するこ
とにより被検面10上に存在する微小な凹凸や傷などを
検出することが可能となる。また、照明光31と第1反
射光32aとを同一の光軸OAに沿って導くため、被検
面10上に存在する微小な凹凸や傷などの方向による見
え方の違いを最小限に抑えることができる。
【0017】図4および図5はこの発明に係る表面観察
光学系の第2の実施の形態を示す図である。この表面観
察光学系は、平面形状の被検面10と凸形状の非被検面
11とを相互に対向して有する透明な被検物体である被
検レンズ1において、被検面10上に存在する微小な凹
凸や傷などを検出するものであり、点光源部5と光学系
4と観察面20とから構成される。
【0018】点光源部5は20Wのハロゲンランプであ
る光源50と、レンズ51と、直径0.06mmのピンホ
ール53が形成されたピンホール板52とからなり、第
1の実施の形態と同様に、光源50とピンホール板52
とを光学的に共役な位置に配置することで点光源を形成
し、ピンホール53からの光を光学系4を介して被検レ
ンズ1に照射している。この光学系は焦点距離120mm
で口径40mmのレンズ40と、ハーフミラー41と、焦
点距離160mmで口径40mmのレンズ42と、焦点距離
80mmで口径40mmのレンズ43とで構成されている。
この光学系4により、点光源部50からの光は、第1の
実施の形態と同様に、レンズ40、ハーフミラー41お
よびレンズ42を介して光軸OAに沿って被検レンズ1
に入射し、被検面10での照明範囲はφ8.0mmとな
っている。また、被検レンズ1において反射した(第1
および第2反射光32a,32b)は光軸OAに沿って
レンズ43、ハーフミラー41およびレンズ43を介し
て観察面20に導びかれる。
【0019】観察面20はレンズ43から50mmの位
置に配置されており、第1の実施の形態と同様に、カメ
ラ22の受光部21に設定されている。そして、被検レ
ンズ1からの反射光により観察面20に形成される像は
モニタ23に映し出されるようになっている。このよう
に構成された表面観察光学系では、被検面10と観察面
20とは非共役な関係の配置となり、ピンホール53よ
り非被検面11を経由して観察面20に至る光路におい
てピンホール53と観察面20とは非共役な関係の配置
となり、またピンホール53より被検面10を経由して
観察面20に至る光路においてもピンホール53と被検
面10とは非共役な関係の配置となる。
【0020】次に、上記のように構成された表面観察光
学系において被検レンズ1の被検面10および非被検面
11の像がそれぞれどのようにして観察面20に形成さ
れるかについて、被検面10の像と非被検面11の像に
分けて説明する。
【0021】図4は被検面10において反射した第1反
射光32aが観察面20に導かれる様子を示した図であ
る。点光源部5からの照明光が被検レンズ1に照射され
ると、第1の実施の形態と同様に、照明光31の一部は
被検レンズ1の被検面10において反射して第1反射光
32aとなり、照明光31が導かれた光軸OAと同一の
光軸に沿ってレンズ42、ハーフミラー41およびレン
ズ43を介して観察面20にφ6mmで入射し、観察面2
0に被検面10の像を形成する。こうして形成された被
検面10の像の一例を図6に示す(ただし、第2反射光
32bの影響については後述する)。
【0022】ここで、被検面10上に微小な凹凸や傷な
どが存在する場合、被検面10と観察面20とは非共役
な関係に配置されているため、第1の実施の形態と同様
の理由により、被検面10の像に明暗の模様が観察され
ることとなる。例えば、図6に示す被検面10の像の一
例では、60、61、62および63がそれぞれ被検面
10上の傷、塵、泡および研磨痕に対応した明暗の模様
として観察されている。
【0023】図5は非被検面11において反射した第2
反射光32bが観察面20に導かれる様子を示した図で
ある。透明な被検レンズ1を照明する照明光31のうち
第1反射光32aを通過した光は被検レンズ1内部に入
射し、非被検面11において反射して第2反射光32b
となる。第2反射光32bは第1反射光32aと同様に
照明光31が導かれた光軸OAに沿ってレンズ42、ハ
ーフミラー41およびレンズ43を介して観察面20に
φ18mmで入射する。
【0024】以上、図4および図5を用いて第1および
第2反射光が観察面20に入射する様子を説明したが、
このとき、図4および図5に示されるように第2反射光
32bが第1反射光32aに比べ発散した状態で観察面
20に入射するように光学系を設定すると次のような効
果が得られる。第1反射光32aにより観察面20に形
成される被検面10の像とこの像に対応する被検面10
の部位との大きさの比をM(以下、「被検面拡大率M」
という。)とし、第2反射光32bにより観察面20に
形成される非被検面11の像とこの像に対応する非被検
面11の部位との大きさの比をR(以下、「非被検面拡
大率R」という。)とした場合、被検面拡大率Mおよび
非被検面拡大率Rの値が大きければ大きい程それぞれ第
1および第2反射光は観察面20に発散した状態で入射
する。したがって、非被検面拡大率Rを被検面拡大率M
に比べ大きくすることにより、第2反射光32bは第1
反射光32aに比べ発散した状態で観察面20に入射
し、その結果、観察面20に形成される非被検面11の
像を被検面10の像に比べ暗くすることが可能である。
図6の例では、60、61、62および63がそれぞれ
被検面10上の傷、塵、泡および研磨痕に対応した明暗
の模様として第2反射光32bの影響を受けることなく
観察される。
【0025】以上、第1および第2の実施の形態につい
て説明したが、この発明は、上記実施の形態に限定され
るものではない。例えば、上記実施の形態において被検
物体として平凸レンズの場合を示したが、平凹レンズ、
両凸レンズ、両凹レンズ、同心でないメニスカスレン
ズ、厚い平行平面板などであっても検査が可能である。
ただし、薄い平行平面板や同心のメニスカスレンズなど
のように被検面の曲率中心と非被検面の曲率中心とが一
致する被検物体においては、この発明は利用不可能であ
る。なお、平行平板の被検面の曲率中心と非被検面の曲
率中心とは無限遠方において一致しているものとみな
す。
【0026】また、被検物体がシリンドリカルレンズや
トロイダルレンズなどであってもこの発明は利用可能で
ある。この場合、第1および第2の実施の形態において
レンズ42およびレンズ43にシリンドリカルレンズあ
るいはトロイダルレンズを用いて被検物体からの反射光
の発散および集束状態を調整することにより検査が可能
となる。
【0027】また上記第2の実施の形態では、被検面拡
大率Mおよび非被検面拡大率Rをそれぞれ0.075,
2.25に設定しているが、|R|>|M|が満足され
る限りにおいて上記第2の実施の形態と同様の効果が得
られる。また、種々の実験の結果、|R/M|≧2.5
に設定するのは望ましいことがわかった。
【0028】また、第1および第2の実施の形態におい
ては被検面10を非被検面11より光学系4に近い位置
に配置しているが、非被検面11を被検面10より光学
系4に近い配置にすることも可能である。この場合、被
検面10における第1反射光32aは非被検面11にお
いて屈折や散乱の影響を受けるが、被検物体内部の泡や
脈理などを観察面において被検面10の像に重ねて観察
できるという利点がある。
【0029】さらに、第1および第2の実施の形態にお
いては光学系4を固定しているが、被検物体(被検レン
ズ1)や観察面20を光軸に沿って移動可能にしてもよ
い。この場合、被検物体の形状の許容範囲が広がるとと
もに、観察面20に形成される像の大きさの調整ができ
るようなる。
【0030】
【発明の効果】請求項1記載の発明によれば、非被検面
において反射した第2反射光による点光源の共役面を観
察面に合致させているので、非被検面からの第2反射光
は観察面の一点のみに入射する。その結果、観察面のそ
の他の領域には非被検面からの第2反射光は全く入射し
ない。これにより、非被検面からの第2反射光の影響を
実質的に受けずに被検面からの第1反射光により観察面
に形成された被検面の像を観察することができる。
【0031】請求項2記載の発明によれば、非被検面拡
大率Rと被検面拡大率Mとの関係を|R|>|M|とし
ているので、非被検面からの第2反射光は被検面からの
第1反射光に比べ発散した状態で観察面に入射する。そ
の結果、観察面に形成される非被検面の像は被検面の像
に比べ暗くなる。これにより、非被検面からの第2の反
射光の影響を実質的に受けずに観察面に形成された被検
面の像を観察することができる。
【0032】請求項3記載の発明によれば、非被検面拡
大率Rと被検面拡大率Mとの関係を|R/M|≧2.5
としているので、請求項2記載の発明と同様の理由から
非被検面からの反射光の影響を実質的に受けずに観察面
に形成された被検面の像を観察することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】この発明にかかる表面観察光学系の第1の実施
の形態を示す図である。
【図2】この発明にかかる表面観察光学系の第1の実施
の形態を示す図である。
【図3】この発明にかかる表面観察光学系の第1の実施
の形態において観察面に形成される像を示す図である。
【図4】この発明にかかる表面観察光学系の第2の実施
の形態を示す図である。
【図5】この発明にかかる表面観察光学系の第2の実施
の形態を示す図である。
【図6】この発明にかかる表面観察光学系の第2の実施
の形態において観察面に形成される像を示す図である。
【符号の説明】
1 被検レンズ(被検物体) 4 光学系 5 点光源部 10 被検面 11 非被検面 20 観察面 31 照明光 32a 第1反射光 32b 第2反射光 41 ハーフミラー 50 光源 52 ピンホール板 OA 光軸

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 透明体からなり、その相互に対向する両
    面がそれぞれ被検面および非被検面となっている被検物
    体に点光源からの照明光を照射し、前記被検物体におい
    て反射した反射光を前記被検面と非共役な観察面上で受
    けて前記被検面の像を前記観察面に形成する表面観察光
    学系において、 同一の光軸に沿って、前記点光源からの照明光を前記被
    検物体に導くとともに、前記被検面において反射した第
    1反射光と、前記非被検面において反射した第2反射光
    とを前記観察面に導く光学系を備え、 前記第1反射光による前記点光源の共役面を前記観察面
    から離れた位置に形成する一方、前記第2反射光による
    前記点光源の共役面を前記観察面に合致させることを特
    徴とする表面観察光学系。
  2. 【請求項2】 透明体からなり、その相互に対向する両
    面がそれぞれ被検面および非被検面となっている被検物
    体に点光源からの照明光を照射し、前記被検物体におい
    て反射した反射光を前記被検面と非共役な観察面上で受
    けて前記被検面の像を前記観察面に形成する表面観察光
    学系において、 同一の光軸に沿って、前記点光源からの照明光を前記被
    検物体に導くとともに、前記被検面において反射した第
    1反射光と、前記非被検面において反射した第2反射光
    とを前記観察面に導く光学系を備え、 前記第1および第2反射光による前記点光源の共役面を
    それぞれ前記観察面から離れた位置に形成し、しかも、 前記第1反射光により前記観察面に形成される前記被検
    面の像と当該像に対応する前記被検面の部位との大きさ
    の比をMとし、前記第2反射光により前記観察面に形成
    される前記非被検面の像と当該像に対応する前記非被検
    面の部位との大きさの比をRとしたとき、次の不等式、 |R|>|M| が満足されていることを特徴とする表面観察光学系。
  3. 【請求項3】 請求項2において、次の不等式、 |R/M|≧2.5 が満足されていることを特徴とする表面観察光学系。
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008057983A (ja) * 2006-08-29 2008-03-13 Ulvac Japan Ltd レンズ研磨精度評価装置及び評価方法
JP2008249569A (ja) * 2007-03-30 2008-10-16 Fujifilm Corp 外観検査システム
CN109163887A (zh) * 2018-08-28 2019-01-08 北京市辐射中心 椭球型单毛细管x光透镜内表面形貌检测系统

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