JPH09162219A - ワイヤボンディング方法および装置 - Google Patents
ワイヤボンディング方法および装置Info
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- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 26
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims abstract description 29
- 238000002844 melting Methods 0.000 claims 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 claims 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 14
- 241000587161 Gomphocarpus Species 0.000 description 5
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 4
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 2
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000155 melt Substances 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 230000000630 rising effect Effects 0.000 description 1
- 230000000087 stabilizing effect Effects 0.000 description 1
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- H01L2224/78—Apparatus for connecting with wire connectors
- H01L2224/7825—Means for applying energy, e.g. heating means
- H01L2224/783—Means for applying energy, e.g. heating means by means of pressure
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- H01L2224/80—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 ワイヤ長に拘束されることなく、また、ルー
プのネック部にダメージを与えることなく低ループ化を
実現できるワイヤボンディング方法を提供する。 【解決手段】 半導体チップ10上の接続電極10aと
リード15との間をボンディングワイヤ13で接続する
キャピラリ5を、ボンディングワイヤ13の先端を接続
電極10aに接続する第1の動作()、接続電極10
aからほぼ真上に上昇する第2の動作()、接続電極
10aに向かって下降する第3の動作()、そして、
横方向に移動してボンディングワイヤ13の所定位置を
リード15に接続する第4の動作()、の順に動作さ
せるワイヤボンディング方法である。
プのネック部にダメージを与えることなく低ループ化を
実現できるワイヤボンディング方法を提供する。 【解決手段】 半導体チップ10上の接続電極10aと
リード15との間をボンディングワイヤ13で接続する
キャピラリ5を、ボンディングワイヤ13の先端を接続
電極10aに接続する第1の動作()、接続電極10
aからほぼ真上に上昇する第2の動作()、接続電極
10aに向かって下降する第3の動作()、そして、
横方向に移動してボンディングワイヤ13の所定位置を
リード15に接続する第4の動作()、の順に動作さ
せるワイヤボンディング方法である。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明はワイヤボンディング
方法および装置に関し、特に、ワイヤボンディングにお
いてネック部にダメージを与えることなく低ループ化を
実現することのできるワイヤボンディングに適用して有
効な技術に関する。
方法および装置に関し、特に、ワイヤボンディングにお
いてネック部にダメージを与えることなく低ループ化を
実現することのできるワイヤボンディングに適用して有
効な技術に関する。
【0002】
【従来の技術】近年のVLSIロジックデバイスなどの
パッケージは多ピン化、薄型化へと進んでおり、たとえ
ば薄型プラスチックパッケージを実現するために、低い
ループを形成する技術・装置の開発やワイヤ材料の開発
が要求されてきている。
パッケージは多ピン化、薄型化へと進んでおり、たとえ
ば薄型プラスチックパッケージを実現するために、低い
ループを形成する技術・装置の開発やワイヤ材料の開発
が要求されてきている。
【0003】ボンディングワイヤの低ループ化を実現す
るにあたり、現在ではワイヤ材料の開発によるところが
大きく、ネイルヘッドボンディングでは、ワイヤを溶融
してボールを形成する際の放電電流の熱影響によりボー
ル直上のネック部が再結晶化してネック部の長さによっ
てループ高さが決まるため、放電電流を制御すると同時
に再結晶化し難い添加元素を入れてネック部が短くなる
ようなワイヤの開発が進められている。
るにあたり、現在ではワイヤ材料の開発によるところが
大きく、ネイルヘッドボンディングでは、ワイヤを溶融
してボールを形成する際の放電電流の熱影響によりボー
ル直上のネック部が再結晶化してネック部の長さによっ
てループ高さが決まるため、放電電流を制御すると同時
に再結晶化し難い添加元素を入れてネック部が短くなる
ようなワイヤの開発が進められている。
【0004】また、ワイヤボンディングのプロセス的に
は、ループ高さが安定するループ形成技術が開発されて
きており、たとえばループ高さを低くするためにクラン
パを制御してキャピラリ(ボンディングツール)から引
き出されるボンディングワイヤの量を少なくすることに
より、ループをある程度低くしてボンディングを実現し
ているものと考えられる。
は、ループ高さが安定するループ形成技術が開発されて
きており、たとえばループ高さを低くするためにクラン
パを制御してキャピラリ(ボンディングツール)から引
き出されるボンディングワイヤの量を少なくすることに
より、ループをある程度低くしてボンディングを実現し
ているものと考えられる。
【0005】ここで、公知とされたものではないが本発
明者が検討したワイヤボンディング装置では、キャピラ
リ自体をZ軸方向に移動可能とし、且つ、このキャピラ
リが搭載されるXYテーブルをX軸およびY軸方向に移
動可能としており、キャピラリおよびXYテーブルの動
作制御により半導体チップ上の接続電極とリードとがボ
ンディングワイヤによって接続されるようになってい
る。
明者が検討したワイヤボンディング装置では、キャピラ
リ自体をZ軸方向に移動可能とし、且つ、このキャピラ
リが搭載されるXYテーブルをX軸およびY軸方向に移
動可能としており、キャピラリおよびXYテーブルの動
作制御により半導体チップ上の接続電極とリードとがボ
ンディングワイヤによって接続されるようになってい
る。
【0006】なお、このようなワイヤボンディングに関
する技術を詳しく記載している例としては、たとえば、
オーム社発行、「LSIハンドブック」(昭和59年11月
30日発行)、P406〜P411がある。
する技術を詳しく記載している例としては、たとえば、
オーム社発行、「LSIハンドブック」(昭和59年11月
30日発行)、P406〜P411がある。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】前記のような放電電流
の制御、ワイヤ材料の開発、クランパの制御技術によっ
ては、ある程度低ループ化を実現することはできるもの
の、特に、ワイヤ長が長くなると必然的にループ高さが
高くなり、低ループ化には限界がある。
の制御、ワイヤ材料の開発、クランパの制御技術によっ
ては、ある程度低ループ化を実現することはできるもの
の、特に、ワイヤ長が長くなると必然的にループ高さが
高くなり、低ループ化には限界がある。
【0008】また、低ループでは、ワイヤがボールの部
分から直ちにリードに向かって折れ曲がる形状になるた
めにループのネック部にダメージが加わり、このダメー
ジが低減できないためにワイヤの引っ張り強度がとれ
ず、ワイヤボンディング後のモールド時に断線を引き起
こす要因となっている。
分から直ちにリードに向かって折れ曲がる形状になるた
めにループのネック部にダメージが加わり、このダメー
ジが低減できないためにワイヤの引っ張り強度がとれ
ず、ワイヤボンディング後のモールド時に断線を引き起
こす要因となっている。
【0009】そこで、本発明の目的は、ワイヤ長に拘束
されることなく低ループ化を実現することのできるワイ
ヤボンディングについての技術を提供することにある。
されることなく低ループ化を実現することのできるワイ
ヤボンディングについての技術を提供することにある。
【0010】本発明の他の目的は、ループのネック部に
ダメージを与えることなく低ループ化を実現することの
できるワイヤボンディングについての技術を提供するこ
とにある。
ダメージを与えることなく低ループ化を実現することの
できるワイヤボンディングについての技術を提供するこ
とにある。
【0011】本発明の前記ならびにその他の目的と新規
な特徴は、本明細書の記述および添付図面から明らかに
なるであろう。
な特徴は、本明細書の記述および添付図面から明らかに
なるであろう。
【0012】
【課題を解決するための手段】本願において開示される
発明のうち、代表的なものの概要を簡単に説明すれば、
以下のとおりである。
発明のうち、代表的なものの概要を簡単に説明すれば、
以下のとおりである。
【0013】すなわち、本発明によるワイヤボンディン
グ方法は、半導体チップ上の接続電極とリードとの間を
ボンディングワイヤで接続するボンディングツールを、
ボンディングワイヤの先端を接続電極に接続する第1の
動作、接続電極からほぼ真上に上昇する第2の動作、接
続電極に向かって下降する第3の動作、そして、横方向
に移動してボンディングワイヤの所定位置をリードに接
続する第4の動作、の順に動作させるものである。
グ方法は、半導体チップ上の接続電極とリードとの間を
ボンディングワイヤで接続するボンディングツールを、
ボンディングワイヤの先端を接続電極に接続する第1の
動作、接続電極からほぼ真上に上昇する第2の動作、接
続電極に向かって下降する第3の動作、そして、横方向
に移動してボンディングワイヤの所定位置をリードに接
続する第4の動作、の順に動作させるものである。
【0014】このワイヤボンディング方法における第3
の動作では、ボンディングツールの先端を接続電極の直
上、たとえば半導体チップの表面から約100μmの高
さまで下降させるようにすることが望ましい。
の動作では、ボンディングツールの先端を接続電極の直
上、たとえば半導体チップの表面から約100μmの高
さまで下降させるようにすることが望ましい。
【0015】また、本発明によるワイヤボンディング装
置は、放電電流によってボンディングワイヤの先端部を
溶融してボールを形成する電気トーチと、引き出される
ボンディングワイヤでボールを半導体チップの接続電極
に接続して半導体チップとリードとを電気的に接続する
ボンディングツールと、ボンディングワイヤを接続電極
とリードとに接続するときのボンディングツールの動作
軌跡を、接続電極からほぼ真上に上昇してから該接続電
極に向かって下降し、その後横方向に移動してリードに
至るように制御する動作制御手段とを有するものであ
る。
置は、放電電流によってボンディングワイヤの先端部を
溶融してボールを形成する電気トーチと、引き出される
ボンディングワイヤでボールを半導体チップの接続電極
に接続して半導体チップとリードとを電気的に接続する
ボンディングツールと、ボンディングワイヤを接続電極
とリードとに接続するときのボンディングツールの動作
軌跡を、接続電極からほぼ真上に上昇してから該接続電
極に向かって下降し、その後横方向に移動してリードに
至るように制御する動作制御手段とを有するものであ
る。
【0016】これによれば、ワイヤループのループ高さ
をほぼボンディングツールの第3の動作における下降位
置とすることができるので、ワイヤ長に拘束されること
なく超低ループを実現することが可能になる。
をほぼボンディングツールの第3の動作における下降位
置とすることができるので、ワイヤ長に拘束されること
なく超低ループを実現することが可能になる。
【0017】また、ボンディングワイヤは半導体チップ
の表面から垂直に立ち上がってからリードに向かう形状
に形成されてループのネック部にダメージが加わること
がないので、低ループ化によってもワイヤの引っ張り強
度が十分に確保されてモールド時における断線のおそれ
もない。
の表面から垂直に立ち上がってからリードに向かう形状
に形成されてループのネック部にダメージが加わること
がないので、低ループ化によってもワイヤの引っ張り強
度が十分に確保されてモールド時における断線のおそれ
もない。
【0018】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図面
に基づいて詳細に説明する。
に基づいて詳細に説明する。
【0019】図1は本発明の一実施の形態であるワイヤ
ボンディング装置の一例を示す外観斜視図、図2は本実
施の形態のワイヤボンディング装置におけるキャピラリ
の動作を連続して示す説明図、図3はキャピラリの動作
軌跡とワイヤのループ状態の一例を示す説明図、図4は
本実施の形態と比較検討した技術におけるキャピラリと
ワイヤとの要部関係を示す断面図である。
ボンディング装置の一例を示す外観斜視図、図2は本実
施の形態のワイヤボンディング装置におけるキャピラリ
の動作を連続して示す説明図、図3はキャピラリの動作
軌跡とワイヤのループ状態の一例を示す説明図、図4は
本実施の形態と比較検討した技術におけるキャピラリと
ワイヤとの要部関係を示す断面図である。
【0020】本実施の形態のワイヤボンディング装置
は、たとえば金(Au)線であるボンディングワイヤを
用いた熱圧着法によるネイルヘッドボンディングが採用
されたもので、図1に示すように、半導体チップがダイ
ボンディングされた基板の供給を行うローダ部1と、こ
の基板を搬送し、かつ所定の位置で停止させてワイヤボ
ンディングを行うフィーダ部2と、ワイヤボンディング
された基板の収納を行うアンローダ部3と、X軸、Y軸
およびZ軸方向に駆動して半導体チップ上の接続電極と
基板上の外部引き出し用端子であるリードとの間のワイ
ヤボンディングを行うボンディングヘッド部4とから構
成されている。
は、たとえば金(Au)線であるボンディングワイヤを
用いた熱圧着法によるネイルヘッドボンディングが採用
されたもので、図1に示すように、半導体チップがダイ
ボンディングされた基板の供給を行うローダ部1と、こ
の基板を搬送し、かつ所定の位置で停止させてワイヤボ
ンディングを行うフィーダ部2と、ワイヤボンディング
された基板の収納を行うアンローダ部3と、X軸、Y軸
およびZ軸方向に駆動して半導体チップ上の接続電極と
基板上の外部引き出し用端子であるリードとの間のワイ
ヤボンディングを行うボンディングヘッド部4とから構
成されている。
【0021】ボンディングヘッド部4は、ボンディング
ワイヤを通すキャピラリ(ボンディングツール)5、キ
ャピラリ5が取り付けられたツールホルダ6、X軸およ
びY軸方向へ移動するXYテーブル7、半導体チップと
基板との位置を検出するカメラ8などから構成され、先
端にキャピラリ5が取り付けられているツールホルダ6
が上下に動かされ、このボンディングヘッド部4が載る
XYテーブル7との動作制御により、ボンド間にボンデ
ィングワイヤが接続されてループが形成され、このとき
にボンディングヘッド部4に搭載されたカメラ8によ
り、基板とその上にダイボンディングされた半導体チッ
プとの相対位置が検出され、所定の箇所にボンディング
ワイヤが接続されるようになっている。
ワイヤを通すキャピラリ(ボンディングツール)5、キ
ャピラリ5が取り付けられたツールホルダ6、X軸およ
びY軸方向へ移動するXYテーブル7、半導体チップと
基板との位置を検出するカメラ8などから構成され、先
端にキャピラリ5が取り付けられているツールホルダ6
が上下に動かされ、このボンディングヘッド部4が載る
XYテーブル7との動作制御により、ボンド間にボンデ
ィングワイヤが接続されてループが形成され、このとき
にボンディングヘッド部4に搭載されたカメラ8によ
り、基板とその上にダイボンディングされた半導体チッ
プとの相対位置が検出され、所定の箇所にボンディング
ワイヤが接続されるようになっている。
【0022】また、ボンディングヘッド部4には、キャ
ピラリ5が取り付けられているツールホルダ6と、この
ボンディングヘッド部4が載るXYテーブル7との相対
動作制御により、キャピラリ5の動作軌跡を制御するた
めの制御部(動作制御手段)9が接続されており、ボン
ディングワイヤの先端を半導体チップ上の接続電極に接
続したキャピラリ5の動作を後述するように制御して一
連のワイヤボンディング動作を実行させるようになって
いる。
ピラリ5が取り付けられているツールホルダ6と、この
ボンディングヘッド部4が載るXYテーブル7との相対
動作制御により、キャピラリ5の動作軌跡を制御するた
めの制御部(動作制御手段)9が接続されており、ボン
ディングワイヤの先端を半導体チップ上の接続電極に接
続したキャピラリ5の動作を後述するように制御して一
連のワイヤボンディング動作を実行させるようになって
いる。
【0023】ここで、制御部9によって制御されるキャ
ピラリ5によるボンディング動作を図2に基づいて説明
する。
ピラリ5によるボンディング動作を図2に基づいて説明
する。
【0024】まず、ローダ部1から供給された半導体チ
ップ10がダイボンディングされた基板11をフィーダ
部2により搬送し、このフィーダ部2上の所定の位置で
停止させてワイヤボンディング位置に位置決めする。こ
れと同時に、ボンディングヘッド部4のキャピラリ5も
半導体チップ10上の所定の接続電極10aの位置に位
置決めする。
ップ10がダイボンディングされた基板11をフィーダ
部2により搬送し、このフィーダ部2上の所定の位置で
停止させてワイヤボンディング位置に位置決めする。こ
れと同時に、ボンディングヘッド部4のキャピラリ5も
半導体チップ10上の所定の接続電極10aの位置に位
置決めする。
【0025】次に、ワイヤスプール12よりボンディン
グワイヤ13を供給し、キャピラリ5に通されたボンデ
ィングワイヤ13の先端を電気トーチ、ガス炎などのボ
ール形成用トーチ14で溶融してボールを形成する(図
2(a))。そして、キャピラリ5でボールを基板11
上にダイボンディングされた半導体チップ10上の接続
電極10aに圧着して接続する(図2(b))。
グワイヤ13を供給し、キャピラリ5に通されたボンデ
ィングワイヤ13の先端を電気トーチ、ガス炎などのボ
ール形成用トーチ14で溶融してボールを形成する(図
2(a))。そして、キャピラリ5でボールを基板11
上にダイボンディングされた半導体チップ10上の接続
電極10aに圧着して接続する(図2(b))。
【0026】接続後、キャピラリ5を接続電極10aか
らほぼ真上に、たとえば150μm程度上昇させる(図
2(c))。これにより、ボンディングワイヤ13はボ
ールの部分で直ちにリード15に向かって折れ曲がる形
状ではなく、この部分から半導体チップ10の表面に対
して垂直に立ち上がる形状に規制される。そして、再び
接続電極10aの直上、たとえば半導体チップ10の表
面から約100μmの高さにまで下降させる(図2
(d))。なお、ここでのキャピラリ5の下降位置がル
ープ高さを決定することになるので、低ループ化のため
には、本実施の形態のように、これをできるだけ接続電
極10aの近くまで下降させることが望ましいが、特に
低ループとしない場合には、所望の適当な高さにまで下
降させればよい。
らほぼ真上に、たとえば150μm程度上昇させる(図
2(c))。これにより、ボンディングワイヤ13はボ
ールの部分で直ちにリード15に向かって折れ曲がる形
状ではなく、この部分から半導体チップ10の表面に対
して垂直に立ち上がる形状に規制される。そして、再び
接続電極10aの直上、たとえば半導体チップ10の表
面から約100μmの高さにまで下降させる(図2
(d))。なお、ここでのキャピラリ5の下降位置がル
ープ高さを決定することになるので、低ループ化のため
には、本実施の形態のように、これをできるだけ接続電
極10aの近くまで下降させることが望ましいが、特に
低ループとしない場合には、所望の適当な高さにまで下
降させればよい。
【0027】そして、キャピラリ5を横方向に移動させ
てボンディングワイヤ13をリード15に導き、キャピ
ラリ5のエッジでボンディングワイヤ13の所定位置を
リード15上に圧着して接続する(図2(e))。その
後、クランパ16でボンディングワイヤ13を挟んで引
っ張り、これを切断する。
てボンディングワイヤ13をリード15に導き、キャピ
ラリ5のエッジでボンディングワイヤ13の所定位置を
リード15上に圧着して接続する(図2(e))。その
後、クランパ16でボンディングワイヤ13を挟んで引
っ張り、これを切断する。
【0028】これにより、1回のボンディングが終了
し、以降は上記の基本動作を半導体チップ10上の全て
の接続電極10aとリード15とに対して繰り返すこと
により1個の基板11のワイヤボンディングが完了す
る。
し、以降は上記の基本動作を半導体チップ10上の全て
の接続電極10aとリード15とに対して繰り返すこと
により1個の基板11のワイヤボンディングが完了す
る。
【0029】そして、ワイヤボンディングが完了した基
板11をフィーダ部2により搬送し、このワイヤボンデ
ィングされた基板11をアンローダ部3に収納する。以
上の動作をローダ部1に収納されている全ての基板11
に対して繰り返して行う。
板11をフィーダ部2により搬送し、このワイヤボンデ
ィングされた基板11をアンローダ部3に収納する。以
上の動作をローダ部1に収納されている全ての基板11
に対して繰り返して行う。
【0030】続いて、本実施の形態の特徴であるワイヤ
ボンディング時におけるキャピラリ5の動作軌跡につい
て図3により説明する。なお、図3において、実線がキ
ャピラリ5の先端の動作軌跡を示し、この動作軌跡にお
ける数字〜が動作順序となっている。また、破線が
ボンディングの完了したボンディングワイヤ13のルー
プ形状を示している。
ボンディング時におけるキャピラリ5の動作軌跡につい
て図3により説明する。なお、図3において、実線がキ
ャピラリ5の先端の動作軌跡を示し、この動作軌跡にお
ける数字〜が動作順序となっている。また、破線が
ボンディングの完了したボンディングワイヤ13のルー
プ形状を示している。
【0031】まず、第1の動作で、下降してボールの形
成されたボンディングワイヤ13の先端を半導体チップ
10上の接続電極10aに接続し()、続いて、第2
の動作で、この接続位置からほぼ真上に上昇させる
()。そして、第3の動作で、接続電極10aに向か
って再び下降させる()。
成されたボンディングワイヤ13の先端を半導体チップ
10上の接続電極10aに接続し()、続いて、第2
の動作で、この接続位置からほぼ真上に上昇させる
()。そして、第3の動作で、接続電極10aに向か
って再び下降させる()。
【0032】そして、第4の動作で、たとえば弧状の軌
跡を描いてリード15の位置まで横方向に移動させ
()、リード15へボンディングワイヤ13を接続す
るために位置決め動作を行う(〜)。これにより、
ボンディングワイヤ13の所定位置がリード15に接続
される。
跡を描いてリード15の位置まで横方向に移動させ
()、リード15へボンディングワイヤ13を接続す
るために位置決め動作を行う(〜)。これにより、
ボンディングワイヤ13の所定位置がリード15に接続
される。
【0033】この一連のキャピラリ5の動作において
は、第3の動作による下降位置でワイヤループのループ
高さがほぼ決定され、たとえば、本実施の形態の場合に
は半導体チップ10の表面から約100μmの高さにま
で下降することとされているので、ループ高さはおよそ
100μmとなる。なお、前述のように、第3の動作に
よる下降位置をより高い位置とし、一点鎖線で示す´
の軌跡で動作させることも可能である。
は、第3の動作による下降位置でワイヤループのループ
高さがほぼ決定され、たとえば、本実施の形態の場合に
は半導体チップ10の表面から約100μmの高さにま
で下降することとされているので、ループ高さはおよそ
100μmとなる。なお、前述のように、第3の動作に
よる下降位置をより高い位置とし、一点鎖線で示す´
の軌跡で動作させることも可能である。
【0034】このように、本実施の形態のワイヤボンデ
ィング装置によれば、半導体チップ10上の接続電極1
0aとリード15とをボンディングワイヤ13で電気的
に接続するためのキャピラリ5の動作軌跡を、前記した
第1〜第4の動作に制御することにより、ワイヤループ
のループ高さをほぼキャピラリ5の第3の動作における
下降位置とすることができるので、該キャピラリ5の先
端を接続電極10aの直上まで下降させることでワイヤ
長とは無関係に大幅な低ループ化が可能になり、たとえ
ば約100μm程度といった超低ループを実現すること
ができる。
ィング装置によれば、半導体チップ10上の接続電極1
0aとリード15とをボンディングワイヤ13で電気的
に接続するためのキャピラリ5の動作軌跡を、前記した
第1〜第4の動作に制御することにより、ワイヤループ
のループ高さをほぼキャピラリ5の第3の動作における
下降位置とすることができるので、該キャピラリ5の先
端を接続電極10aの直上まで下降させることでワイヤ
長とは無関係に大幅な低ループ化が可能になり、たとえ
ば約100μm程度といった超低ループを実現すること
ができる。
【0035】また、ボンディングワイヤ13は半導体チ
ップ10の表面から垂直に立ち上がってからリード15
に向かう形状に形成されてループのネック部にダメージ
が加わることがないので、ワイヤの引っ張り強度が十分
に確保されてモールド時における断線のおそれもない。
ップ10の表面から垂直に立ち上がってからリード15
に向かう形状に形成されてループのネック部にダメージ
が加わることがないので、ワイヤの引っ張り強度が十分
に確保されてモールド時における断線のおそれもない。
【0036】たとえば、本実施の形態と比較検討される
技術では、接続電極10aの位置から上昇したキャピラ
リ5を、一旦接続するリード15と反対方向に戻すリバ
ースモード動作を折り込んで低ループ化が達成される。
しかし、この技術では、ボンディングワイヤ13がリバ
ース動作によりキャピラリ5から出されるときに、図4
に示すように、ラディアスチャンファー17で擦れてネ
ック部にダメージが残ることになるが、本実施の形態の
ワイヤボンディング技術ではこのようなダメージは発生
しない。
技術では、接続電極10aの位置から上昇したキャピラ
リ5を、一旦接続するリード15と反対方向に戻すリバ
ースモード動作を折り込んで低ループ化が達成される。
しかし、この技術では、ボンディングワイヤ13がリバ
ース動作によりキャピラリ5から出されるときに、図4
に示すように、ラディアスチャンファー17で擦れてネ
ック部にダメージが残ることになるが、本実施の形態の
ワイヤボンディング技術ではこのようなダメージは発生
しない。
【0037】以上、本発明者によってなされた発明を実
施の形態に基づき具体的に説明したが、本発明は前記実
施の形態に限定されるものではなく、その要旨を逸脱し
ない範囲で種々変更可能であることはいうまでもない。
施の形態に基づき具体的に説明したが、本発明は前記実
施の形態に限定されるものではなく、その要旨を逸脱し
ない範囲で種々変更可能であることはいうまでもない。
【0038】たとえば、本実施の形態のワイヤボンディ
ング装置は、熱圧着によりボンディングワイヤ13を接
続するネイルヘッドボンディングのワイヤボンディング
装置であるが、本発明はこれに限定されるものではな
く、超音波併用熱圧着法によるネイルヘッドボンディン
グ、さらに超音波法によるウェッジボンディングによる
ワイヤボンディング装置についても広く適用することが
可能である。
ング装置は、熱圧着によりボンディングワイヤ13を接
続するネイルヘッドボンディングのワイヤボンディング
装置であるが、本発明はこれに限定されるものではな
く、超音波併用熱圧着法によるネイルヘッドボンディン
グ、さらに超音波法によるウェッジボンディングによる
ワイヤボンディング装置についても広く適用することが
可能である。
【0039】ここで、超音波法によるウェッジボンディ
ングにおいては、ボンディングワイヤ13をウェッジと
呼ばれるボンディングツールで半導体チップ10上の接
続電極10aおよびリード15に超音波を加えながら圧
着する方法であり、常温で接合可能なこと、ネイルヘッ
ドボンディングに比べて電極の微細ピッチ化に向いてい
ることが特徴となる。
ングにおいては、ボンディングワイヤ13をウェッジと
呼ばれるボンディングツールで半導体チップ10上の接
続電極10aおよびリード15に超音波を加えながら圧
着する方法であり、常温で接合可能なこと、ネイルヘッ
ドボンディングに比べて電極の微細ピッチ化に向いてい
ることが特徴となる。
【0040】また、ウェッジボンディングでボンディン
グワイヤ13にアルミニウム線を用いた場合には、アル
ミニウム線の引っ張り強度が弱く、腐食もし易いため、
気密封止によるセラミックパッケージに適用することが
望ましい。
グワイヤ13にアルミニウム線を用いた場合には、アル
ミニウム線の引っ張り強度が弱く、腐食もし易いため、
気密封止によるセラミックパッケージに適用することが
望ましい。
【0041】
【発明の効果】本願において開示される発明のうち、代
表的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば、
以下のとおりである。
表的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば、
以下のとおりである。
【0042】(1).本発明のワイヤボンディング技術によ
れば、ボンディングツールの動作軌跡を前記した第1〜
第4の動作に制御することにより、ワイヤループのルー
プ高さをほぼボンディングツールの第3の動作における
下降位置とすることができるので、ワイヤ長に拘束され
ることなく、たとえばループ高さ約100μmといった
超低ループを実現することが可能になる。
れば、ボンディングツールの動作軌跡を前記した第1〜
第4の動作に制御することにより、ワイヤループのルー
プ高さをほぼボンディングツールの第3の動作における
下降位置とすることができるので、ワイヤ長に拘束され
ることなく、たとえばループ高さ約100μmといった
超低ループを実現することが可能になる。
【0043】(2).また、ボンディングワイヤは半導体チ
ップの表面から垂直に立ち上がってからリードに向かう
形状に形成されてループのネック部にダメージが加わる
ことがないので、低ループ化によってもワイヤの引っ張
り強度が十分に確保されてモールド時における断線のお
それもない。
ップの表面から垂直に立ち上がってからリードに向かう
形状に形成されてループのネック部にダメージが加わる
ことがないので、低ループ化によってもワイヤの引っ張
り強度が十分に確保されてモールド時における断線のお
それもない。
【図1】本発明の一実施の形態によるワイヤボンディン
グ装置の一例を示す外観斜視図である。
グ装置の一例を示す外観斜視図である。
【図2】(a)〜(e)は、本実施の形態のワイヤボン
ディング装置におけるキャピラリの動作を連続して示す
説明図である。
ディング装置におけるキャピラリの動作を連続して示す
説明図である。
【図3】キャピラリの動作軌跡とワイヤのループ状態の
一例を示す説明図である。
一例を示す説明図である。
【図4】本実施の形態と比較検討した技術におけるキャ
ピラリとワイヤとの要部関係を示す断面図である。
ピラリとワイヤとの要部関係を示す断面図である。
1 ローダ部 2 フィーダ部 3 アンローダ部 4 ボンディングヘッド部 5 キャピラリ(ボンディングツール) 6 ツールホルダ 7 XYテーブル 8 カメラ 9 制御部(動作制御手段) 10 半導体チップ 10a 接続電極 11 基板 12 ワイヤスプール 13 ボンディングワイヤ 14 ボール形成用トーチ 15 リード 16 クランパ 17 ラディアスチャンファー
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 阪谷 信雄 東京都青梅市藤橋3丁目3番地2 日立東 京エレクトロニクス株式会社内 (72)発明者 木村 稔 東京都小平市上水本町5丁目20番1号 株 式会社日立製作所半導体事業部内 (72)発明者 紺野 順平 東京都小平市上水本町5丁目20番1号 株 式会社日立製作所半導体事業部内
Claims (4)
- 【請求項1】 半導体チップ上の接続電極とリードとの
間をボンディングツールから引き出されるボンディング
ワイヤで接続するワイヤボンディング方法であって、前
記ボンディングツールを、 前記ボンディングワイヤの先端を前記接続電極に接続す
る第1の動作、 前記接続電極からほぼ真上に上昇する第2の動作、 前記接続電極に向かって下降する第3の動作、 横方向に移動して前記ボンディングワイヤの所定位置を
前記リードに接続する第4の動作、の順に動作させるこ
とを特徴とするワイヤボンディング方法。 - 【請求項2】 請求項1記載のワイヤボンディング方法
であって、前記第3の動作では、前記ボンディングツー
ルの先端が前記接続電極の直上まで下降することを特徴
とするワイヤボンディング方法。 - 【請求項3】 請求項2記載のワイヤボンディング方法
であって、前記ボンディングツールの先端は前記半導体
チップの表面から約100μmの高さまで下降すること
を特徴とするワイヤボンディング方法。 - 【請求項4】 放電電流によってボンディングワイヤの
先端部を溶融してボールを形成する電気トーチと、 引き出されるボンディングワイヤで前記ボールを半導体
チップの接続電極に接続して前記半導体チップとリード
とを電気的に接続するボンディングツールと、 前記ボンディングワイヤを前記接続電極と前記リードと
に接続するときの前記ボンディングツールの動作軌跡
を、前記接続電極からほぼ真上に上昇してから該接続電
極に向かって下降し、その後横方向に移動してリードに
至るように制御する動作制御手段とを有することを特徴
とするワイヤボンディング装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7317645A JPH09162219A (ja) | 1995-12-06 | 1995-12-06 | ワイヤボンディング方法および装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7317645A JPH09162219A (ja) | 1995-12-06 | 1995-12-06 | ワイヤボンディング方法および装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH09162219A true JPH09162219A (ja) | 1997-06-20 |
Family
ID=18090461
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP7317645A Pending JPH09162219A (ja) | 1995-12-06 | 1995-12-06 | ワイヤボンディング方法および装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH09162219A (ja) |
-
1995
- 1995-12-06 JP JP7317645A patent/JPH09162219A/ja active Pending
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