JPH09147317A - 複合磁気ヘッド - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 ３．５吋のＦＤ（２ＭＢ／１．４４ＭＢ）の
記憶容量を確保した１．８吋のＦＤに対して、記録・再
生におけるヘッド出力が高出力で低ノイズの良質な信号
が得られる副ＧＰＵ磁気ヘッドを提供する。 【解決手段】 消去ヘッドコア２４とセンターコア２６
が形成する消去ギャップ３１と、記録再生ヘッドコア２
５とセンターコア２６が形成する記録再生ギャップ３３
との間のギャップ間距離Ｌｇ、及びヘッド部２１の各ギ
ャップ３１、３３形成外周面と底部外周面との間のヘッ
ド高さＨが、Ｈ≦０．０５７５０＋８．５７６２×Ｌｇ
及びＨ≦０．４０７６３＋５．９４１０×Ｌｇの関係
に有るように構成する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、パーソナルコンピ
ュータ、携帯情報端末装置などに利用され、回転するフ
レキシブル磁気ディスク（以下ＦＤと略す）上に磁気記
録によって情報を記憶し読み取る装置の複合磁気ヘッド
に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】ＦＤ上に情報を記憶し、ＦＤ上の情報を
読み取る複合磁気ヘッドとして特開昭６３−１６１５１
０号公報に記載されたものがある。図２６は、この従来
の磁気ヘッドの構造を示す斜視図（ａ）及び平面図
（ｂ）、図２７はその主要部を示す斜視図である。

【０００３】図２６及び図２７において、１は記録再生
ヘッド、２は貫通孔よりなる窓、３はガラスモールド
部、４ａ及び４ｂはフェライトなど磁気透磁率が高い材
料からなるヘッドコア、５は記録再生ギャップ、１５は
ヘッドコア４ａの窓２に巻回された記録再生コイルで、
ヘッドコア４ａ及び４ｂ間にＳｉＯ₂などの非磁性材料
をスパッタリングなどで設け、ヘッドコア４ａ及び４ｂ
を接合して記録再生ギャップ５を形成しガラスモールド
部３によって補強することによって記録再生ヘッド１が
製造される。また、６は消去ヘッド、７は貫通孔よりな
る窓、８はガラスモールド部、９ａ及び９ｂはヘッドコ
ア、１０は消去ギャップ、１１は非磁性板、１６はヘッ
ドコア９ａの窓７に巻回された消去コイルで、ヘッドコ
ア９ａ及び９ｂ間にＳｉＯ₂などの非磁性材料をスパッ
タリングなどで設け、ヘッドコア９ａ及び９ｂを接合し
て消去ギャップ１０を形成しガラスモールド部８によっ
て補強することによって消去ヘッド６が製造され、この
後、記録再生ヘッド１と消去ヘッド６は非磁性板１１を
介して接合され、記録再生ギャップ５と消去ギャップ１
０との距離がＬｇの複合磁気ヘッドが製造される。

【０００４】また、図２６において、１２及び１４はセ
ラミックスなどの非磁性材料からなり、記録再生ヘッド
１、消去ヘッド６及び非磁性板１１の両側面に接合され
たホルダ、１３はホルダ１４に設けた溝である。

【０００５】上記のように構成された複合磁気ヘッド
は、図２８に示すようにＦＤ１７の両面と密着させ、Ｆ
Ｄ１７に記録すべき情報はＦＤ１７表面に形成された磁
性層の磁化によって記録される。この磁化された磁性層
から空間に漏れる漏れ磁束は、記録再生ヘッド１のヘッ
ドコア４ａ及び４ｂに流入し記録再生コイル１５を叉交
し、この状態で矢印方向にＦＤ１７を回転させると、叉
交する漏れ磁束は時間的に変化し記録再生コイル１５の
両端には漏れ磁束の変化に比例した電圧が誘起され、こ
の誘起電圧を所定のアルゴリズムに従った回路で処理さ
れコンピュータに送られる。

【０００６】また、データを書き込む場合、消去コイル
１６に直流電流を流し、ＦＤ１７上に予め記録された情
報は消去ギャップ１０からＦＤ１７の磁性層に流れ込む
直流磁界によって消去される。

【０００７】また、消去ギャップ１０の後からトレース
する記録再生ギャップ５からは記録再生コイル１５に流
れる電流に応じて変化する磁束がＦＤ１７の磁性層に流
れ、この磁束に応じた磁化パターンが磁性層に形成され
る。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】近年、パーソナルコン
ピュータの小型化とともに、フレキシブル磁気ディスク
装置（以下ＦＤＤと略す）の小型化へのニーズが大きく
なっている。１．８吋サイズのＦＤに３．５吋サイズの
ＦＤと同じ記憶容量（２ＭＢ）を実現しようとした場
合、従来の複合磁気ヘッドを用いると下記のような問題
があった。

【０００９】図２９（ａ）に示すように、ＦＤ１７上に
はデータを記憶するために、同芯円上のトラック１８が
形成され、各トラック１８は図２９（ｂ）の部分拡大図
に示すようなセクタ１９に分割され、セクタ１９の数は
数十個に及ぶ。各セクタは、図３０に示すように、Ｉ
Ｄ，ＧＡＰ１，ＤＡＴＡ及びＧＡＰ２で構成される。Ｉ
Ｄには各セクタ１９を個々に識別するための情報を、Ｄ
ＡＴＡにはパーソナルコンピュータから送られたデータ
を格納し、ＧＡＰ１及びＧＡＰ２はＩＤとＤＡＴＡの間
に介在してＦＤＤの機械的バラツキを吸収する。

【００１０】パーソナルコンピュータから送られてきた
データを定められたセクタ１９のＤＡＴＡに記録するた
めには、以下に述べる手順に従って行われる。

【００１１】複合磁気ヘッドが所定のトラックに位置決
めされ、セクタ１９のＩＤが読み込まれ、データを格納
すべきセクタ１９であるかどうかが判断される。該当す
るセクタ１９であれば、直ちにデータを記録するために
図２６及び２７に示した記録再生コイル１５及び消去コ
イル１６に通電され、図３１（ａ）及び（ｂ）に示す電
流が各コイル１５及び１６に流れる。

【００１２】複合磁気ヘッドの消去ギャップはＤＡＴＡ
領域の古いデータは前もって完全に消去しなければなら
ないが、ＩＤをオーバライトして予め格納されたセクタ
１９に関するデータを破壊してはならない。従って、図
３０に示したように、セクタ１９識別を終えた複合磁気
ヘッドの記録再生ギャップがＩＤとＧＡＰ１との境界ｐ
１に位置している時、消去ギャップはＤＡＴＡ領域には
侵入せず、ＧＡＰ１の後端ｐ２に位置しなければならな
い。また、所定の情報を記録し終わった時点においては
記録再生ギャップ及び消去ギャップはそれぞれｐ３及び
ｐ４の位置になければならない。つまり、ＧＡＰ１及び
ＧＡＰ２の長さをＬｈ、複合磁気ヘッドの記録再生ギャ
ップと消去ギャップとの距離をＬｇとした時、Ｌｈ＞Ｌ
ｇの関係を満たさなければならない。

【００１３】１．８吋のＦＤで３．５吋のＦＤと同じア
ンフォーマット２ＭＢ、フォーマット１．４４ＭＢの記
憶容量を達成するためには、１．８吋のＦＤの径が３．
５吋のＦＤの径の約１／２（面積で１／４）と小径にな
るため、 （１）単位長さ当たりに記録するデータ密度、すなわち
線記録密度を増加する （２）トラック密度を増加する ことが必要になる。また、フォーマット容量を確保する
するためには、上記（１）及び（２）だけでは不十分
で、セクタ１９内のＩＤ、ＧＡＰ１及びＧＡＰ２が占め
る領域を増やさないようにすることが必要になる。ＦＤ
の最小トラック半径をｒ、ＧＡＰ１及びＧＡＰ２が占め
る容量をＢ、単位角度当たりの線記録密度をＤとした
時、ＧＡＰ１及びＧＡＰ２の長さＬｈは、Ｌｈ＝ｒ＊Ｂ
／Ｄで表せる。

【００１４】３．５吋から１．８吋になりＦＤ１７の半
径が小さくなる、すなわち最小トラック半径ｒが小さく
なるとＬｈは小さくなり、２ＭＢの容量を確保するため
に線記録密度Ｄを増加すると、さらにＬｈは小さくなる
ことが分かる。

【００１５】従って、記録再生ギャップと消去ギャップ
との間隔Ｌｈを小さくすることが必要になるが、図２
６、図２７に示したような従来の複合磁気ヘッドは、非
磁性板１１を介してヘッドコア９ｂ及び４ｂが設けられ
ているので、ヘッドコア９ｂ及び４ｂの厚さはさらに薄
くなり、機械的強度が低下し折損しやすくなるととも
に、ヘッドコア９ｂ、４ｂの磁気抵抗が増加してヘッド
出力が低下するという問題がある。

【００１６】また、非磁性板１１をなくして、ヘッドコ
ア９ｂ及び４ｂが一体となった単一のヘッドコア、いわ
ゆるセンターコア共有構造とすると、このセンターコア
の厚さが薄いため、記録再生ヘッド１と消去ヘッド６と
の間のクロストークによるノイズレベルの増加が問題と
なる。

【００１７】本発明は、かかる問題を解決するためにな
されたものであり、３．５吋のＦＤ（２ＭＢ／１．４４
ＭＢ）の記憶容量を確保した１．８吋のＦＤに対して、
記録・再生におけるヘッド出力が高出力で低ノイズの良
質な信号が得られる複合磁気ヘッドを提供するものであ
る。

【００１８】

【課題を解決するための手段】請求項１に係る発明は、
消去ヘッドコアと記録再生ヘッドコアとの間に非磁性材
料を介してセンターコアを接合し、接合部それぞれを消
去ギャップ及び記録再生ギャップとするヘッドチップ、
上記消去ヘッドコア及び上記記録再生ヘッドコアにそれ
ぞれ巻回した消去コイル及び記録再生コイル、上記消去
ヘッドコア及び上記記録再生ヘッドコアと上記センター
コアとの間を磁気的に接合するバックバーを備え、上記
消去ギャップと上記記録再生ギャップとの間の距離をギ
ャップ間距離Ｌｇ、上記ヘッドチップの上記消去ギャッ
プ及び記録再生ギャップを含む外周面と上記バックバー
の外周面との距離をヘッド高さＨとし、ギャップ間距離
Ｌｇとヘッド高さＨが、Ｈ≦０．０５８＋８．６×Ｌ
ｇ、かつＨ≦０．４１＋５．９×Ｌｇの関係にある複合
磁気ヘッドである。

【００１９】請求項２に係る発明は、消去ヘッドコアと
記録再生ヘッドコアとの間に非磁性材料を介してセンタ
ーコアを接合し、接合部それぞれを消去ギャップ及び記
録再生ギャップとするヘッドチップと、上記消去ヘッド
コア及び上記記録再生ヘッドコアにそれぞれ巻回した消
去コイル及び記録再生コイルと、上記消去ヘッドコア及
び上記記録再生ヘッドコアと上記センターコアとの間を
磁気的に接合するバックバーと、上記ヘッドチップをこ
の両側面から支持するホルダーとを有するヘッドスライ
ダ、このヘッドスライダを支持するジンバルバネを備
え、上記消去ギャップと上記記録再生ギャップとの間の
距離をギャップ間距離Ｌｇ、上記ヘッドチップの上記消
去ギャップ及び記録再生ギャップを含む外周面と上記バ
ックバーの外周面との距離をヘッド高さＨとし、ギャッ
プ間距離Ｌｇとヘッド高さＨが、Ｈ≦０．０５８＋８．
６×Ｌｇ、かつＨ≦０．４１＋５．９×Ｌｇの関係にあ
る複合磁気ヘッドである。

【００２０】請求項３に係る発明は、請求項１または２
記載の複合磁気ヘッドにおいて、ギャップ間距離Ｌｇが
０．２ｍｍ以下、ヘッド高さＨが１．６ｍｍ以下である
ものである。

【００２１】請求項４に係る発明は、請求項２記載の複
合磁気ヘッドにおいて、ホルダ、ヘッドチップ、バック
バー、消去コイル、記録再生コイル及びジンバルバネが
形成する空間をモールド樹脂でモールドしたものであ
る。

【００２２】請求項５に係る発明は、請求項４記載の複
合磁気ヘッドにおいて、モールド樹脂が、

【化３】

【化４】 上記化学構造式（５）ないし（８）で表される化合物か
ら選ばれた少なくとも１種を含有したエポキシ樹脂と、
酸無水物と、硬化促進剤と、エポキシシラン系カップリ
ング剤、フェニルアミノシラン系カップリング剤、メル
カプトシラン系カップリング剤及びチタネート系カップ
リング剤から選ばれた少なくとも１種のカップリング剤
と、平均粒子径が６０μｍ以下で粒子径が５μｍ以下の
粒子を５重量％以上含有したシリカ充填剤またはアルミ
ナ充填剤とを主成分とし、上記酸無水物の酸無水物基の
数と上記エポキシ樹脂のエポキシ基の数との比の値が
０．５〜１．５、上記硬化剤の配合量が上記エポキシ樹
脂の１００重量部に対して０．０５〜１０重量部、上記
カップリング剤の配合量が上記充填剤１００重量部に対
して０．０５〜５重量部、上記充填剤の含有量が３５〜
９５重量％であるエポキシ樹脂組成物であるものであ
る。

【００２３】請求項６に係る発明は、請求項２記載の複
合磁気ヘッドにおいて、ヘッドスライダのジンバルバネ
が支持する面の平面度が１０μｍ以下であるものであ
る。

【００２４】請求項７に係る発明は、請求項１または２
記載の複合磁気ヘッドにおいて、消去コイル及び記録再
生コイルの各コイルは、各コイルの形状の金属導体を絶
縁体を積層してなる絶縁板に一体形成し、上記各コイル
が電気的に連結されてなり、上記各コイルの中央及び上
記各コイルの中間に上記絶縁板を貫通する貫通穴を設け
たものである。

【００２５】請求項８に係る発明は、請求項７記載の複
合磁気ヘッドにおいて、各コイルは、絶縁体上のフォト
レジストに写真製版によって上記各コイルの形状を形成
し、この形状の金属導体を化学メッキあるいはエッチン
グによって形成したものである。

【００２６】請求項９に係る発明は、請求項１または２
記載の複合磁気ヘッドにおいて、バックバーは、非晶質
合金からなるものである。

【００２７】請求項１０に係る発明は、請求項９記載の
複合磁気ヘッドにおいて、非晶質合金は、厚さ１０〜５
０μｍのＣｏ、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｍｏ、Ｂ及びＳｉを主成分
とするものである。

【００２８】

【発明の実施の形態】

実施の形態１．図１は本発明の一実施例になる複合磁気
ヘッドを示す斜視図である。図において、２０は複合磁
気ヘッドの全体を示す。２１はヘッド部、２２及び２３
はそれぞれヘッド部２１の両側面に接着剤で接合したホ
ルダでチタン酸バリウムなどの非磁性セラミックスから
なる。２４は消去ヘッドコア、２５は記録再生ヘッドコ
ア、２６はセンターコアで、消去ヘッドコア２４と記録
再生ヘッドコア２５は磁気的にセンターコア２６によっ
て連結される構造になっている。３０は記録再ヘッドコ
ア２５に巻回された記録再生コイル、３１は消去ギャッ
プ、３３は記録再生ギャップ、３６はバネ用リン青銅板
などを化学エッチングなどによって加工したジンバルバ
ネ、３７はフレキシブルプリント基板（ＦＰＣ）で、Ｆ
ＰＣ３７はその一端がジンバルバネ３６裏面に貼られ、
記録再生コイル３０及び図示されていない消去コイル
（消去ヘッドコア２４に巻回されている）の各コイルの
巻き線を延長したリード線を介して電気的に結線され、
また、ＦＰＣ３７の他端は信号処理回路に接続されてい
る。Ｌｇは消去ギャップ３１と記録再生ギャップ３３と
の間の距離、すなわちギャップ間距離、Ｈはヘッド部２
１の高さであり、ギャップ間距離Ｌｇとヘッド高さＨと
は次式（１）及び（２）に示す関係を有する。

【００２９】 Ｈ≦０．０５８＋８．６×Ｌｇ ……（１） Ｈ≦０．４１＋５．９×Ｌｇ ……（２）

【００３０】図２はヘッド部を示す平面図（ａ）及び側
面図（ｂ）、図３はヘッド部の要部を拡大した平面図で
ある。図において、２７は消去ヘッドコア２４とセンタ
ーコア２６とを磁気的に結合する消去バックバー、２８
は記録再生ヘッドコア２５とセンターコア２６とを磁気
的に結合する記録再生バックバー、２９は消去ヘッドコ
ア２４に巻かれた消去コイル、３０は記録再生ヘッドコ
ア２５に巻かれた記録再生コイルで、消去ギャップ３１
はセンターコア２６と消去ヘッドコア２４間の接合面に
ＳｉＯ₂などの非磁性材料を蒸着あるいはスパッタなど
の加工法によって成膜し接合して形成される。３２は記
録再生ヘッドコア２５及びセンターコア２６の各接合面
にセンダスト（Ｆｅ−Ａｌ−Ｓｉ合金）を蒸着あるいは
スパッタなどの方法で成膜したセンダスト膜で、記録再
生ギャップ３３は各センダスト膜３２上にＳｉＯ₂を蒸
着あるいはスパッタなどの方法で成膜し接合して形成さ
れる。３４及び３５は消去ギャップ３１及び記録再生ギ
ャップ３３各々の両端に形成され、モールドガラスが充
填されたたトラック幅規制溝、Ｗｇは消去トラック幅、
Ｗｗは記録再生トラック幅で、消去トラック幅Ｗｇ＞記
録再生トラック幅Ｗｗの関係にある。

【００３１】図４はホルダ２２、２３を含めた消去ギャ
ップ３１及び記録再生ギャップ３３形成側表面Ｃの平面
度とその反対側のホルダ２２及びヘッド部２１の表面Ｄ
の平面度を示す。平面度は評価すべき表面を平行の二つ
の仮想平面間距離で評価し、表面Ｃの平面度は４０ｎｍ
以下、表面Ｄの平面度は１０μｍ以下にする。

【００３２】複合磁気ヘッド２０は、図５及び図６に示
した手順に従って組み立てられる。まず、図５に示すよ
うに、消去ヘッドコア２４、記録再生ヘッドコア２５及
びセンターコア２６を、トラック幅規制溝３４及び３５
にモールドガラスを充填して接合するとともに、消去ギ
ャップ３１及び記録再生ギャップ３３を形成して、ヘッ
ドチップ３８を構成する。この時、ギャップ間距離Ｌｇ
は、図３０に示したＦＤのセクタ１９内のＧＡＰ１及び
ＧＡＰ２の長さＬｈよりも小さくする。

【００３３】次に、ヘッドチップ３８をその両側からホ
ルダ２２及び２３によってサンドイッチ構造に接着剤で
接合して図６に示すヘッドスライダ３９を形成し、ヘッ
ドスライダの表面Ｃをラッピング装置で研磨する。この
後、図６に示すように、消去コイル２９及び記録再生コ
イル３０をそれぞれ消去ヘッドコア２４及び記録再生ヘ
ッドコア２５に挿入し、消去バックバー２７を消去ヘッ
ドコア２４とセンターコア２６とを接合するように設
け、記録再生バックバー２８を記録再生ヘッドコアとセ
ンターコア２６とを接続するように設けてそれぞれ磁気
回路を形成する。

【００３４】ヘッドスライダ３９の表面Ｃは図７に示す
ラッピング装置で研磨する。ヘッドスライダ３９を図８
及び図９に示すように、鋳鉄製の試料ホルダ４０にワッ
クス４１を使用して固定し、図７に示したラッピング装
置のラッププレート４２に載せ、ラッププレート４２を
回転させて研磨する。ラッププレート４２上には予め、
ＧＣ（グラファイトカーボン）あるいはダイアモンドな
どのコンパウンドを溶剤に混入させた研磨剤が表面に塗
布され、図９に示すように、ラッププレート４２が回転
中は研磨剤が適宜、滴下され供給される。図７に示した
ように、ラッププレート４２が回転するとヘッドスライ
ダ３９を固定した試料ホルダ４０が自転し、ヘッドスラ
イダ３９の表面とラッププレート４２表面間に介在する
研磨剤に含まれるコンパウンドによって研磨される。

【００３５】上記のようにして、研磨されたヘッドスラ
イダ３９の表面Ｃは極めてフラットに研磨されるが、ヘ
ッドスライダ３９を試料ホルダ４０から外すと、フラッ
トに研磨された表面Ｃの平面度が劣化することがある。
図１０は平面度の変化を非接触表面形状測定装置で計測
した一例を示す図で、（ａ）は研磨終了後試料ホルダか
ら外す前の表面形状、（ｂ）は試料ホルダから外した後
の表面形状を示す。図から分かるように、試料ホルダか
ら外した後のヘッドスライダ３９表面Ｃの形状（ｂ）は
試料ホルダから外す前（ａ）から大きく変化し平面度が
劣化している。この平面度の劣化の原因は、ヘッドスラ
イダ３９を試料ホルダに固定しているワックス４１の収
縮にあり、フラットに研磨されたヘッドスライダ３９を
試料ホルダから外すことによって、ワックス４１から加
わる応力から解放されて変形するものと考えられる。

【００３６】このような変形によってヘッドスライダ３
９の表面Ｃの平面度が劣化すると、ＦＤとこのＦＤに対
向する複合磁気ヘッド２０の面との間に空隙が生じ、ヘ
ッド出力が低下し、特に１．８吋ＦＤに対する複合磁気
ヘッドにおいては大きな問題となる。

【００３７】ヘッドスライダ３９の表面Ｃの上記変形の
問題を防止するには、試料ホルダ４０に固定するヘッド
スライダ３９の底面Ｄ（図４参照）と試料ホルダ４０と
の間のワックス４１の量を減らせばよく、底面Ｄを表面
Ｃと同様にフラットにすればよい。図１１はヘッドスラ
イダ３９の底面Ｄの平面度と表面Ｃの平面度との関係を
示す図である。ヘッドスライダ３９の表面ＣとＦＤとの
空隙による出力減衰の許容限は１０％で、この許容限１
０％を満たすには表面Ｃの平坦度を４０ｎｍ以下にする
必要がある。従って、図１１から、底面Ｄの平坦度を１
０μｍ以下にすればよいことが分かる。

【００３８】図５に示したように、消去コイル２９及び
及び記録再生コイル３０をそれぞれ消去ヘッドコア２４
及び記録再生ヘッドコア２５に挿入し、消去バックバー
２７を消去ヘッドコア２４とセンターコア２６とを接合
するように設け、記録再生バックバー２８を記録再生ヘ
ッドコアとセンターコア２６とを接続するように設けて
それぞれ磁気回路を形成した後、図１２に示すヘッドス
ライダ３９はホルダ２２の底面Ｄをジンバルバネ３６に
接着剤などで接合し、ジンバルバネ３６の裏面にＦＰＣ
３７を貼って消去コイル２９及び記録再生コイル３０の
延長をリード線としてＦＰＣ３７に半田付けする。

【００３９】上記のように製造した２個の複合磁気ヘッ
ド２０を対向させてＦＤに密着させる。ＦＤ上にデータ
を記録させる場合は、まずＦＤを回転させ、所定のトラ
ックに複合磁気ヘッド２０をアクセスさせる。その後、
消去コイル２９に図３１ａに示した直流電流を、また、
記録再生コイル３０に図３１ｂに示した記録すべき情報
を載せた矩形状の電流を流す。予めＦＤ上に記録されて
いた情報は、消去ギャップ３１からＦＤの磁性層に流れ
込む直流磁界によって消去され、消去ギャップ３１の後
からＦＤをトレースする記録再生ギャップ３３から記録
再生コイル３０に流れ込む電流に応じて変化する磁界が
ＦＤの磁性層に流れて、磁化パターンがＦＤの磁性層に
形成され記録される。この時、ギャップ間隔ＬｇはＦＤ
のセクタ内のＧＡＰ１及びＧＡＰ２の長さＬｈより小さ
くなっているので、データをセクタ内のＤＡＴＡ領域に
格納する際、ＩＤ領域をオーバライトしてデータを破損
することはない。

【００４０】図１３は再生時における動作を説明する図
で、４３はＦＤの磁性層の微小磁化、Φ５０１〜Φ５０
６は磁束を示す。図１３（ａ）は微小磁化４３が消去ギ
ャップ３１上にある場合、（ｂ）は微小磁化４３が記録
再生ギャップ３３上にある場合を示している。図１３
（ｂ）において、微小磁化４３から流れ出た磁束はΦ５
０１、Φ５０２、Φ５０３に分かれて流れ、Φ５０１＋
Φ５０２の磁束は記録再生コイル３０と叉交し、微小磁
化４３の変化に応じた電圧が記録再生コイル３０の両端
に発生する。図１３（ａ）の場合には、磁束はΦ５０
４、Φ５０５、Φ５０６に分かれて流れ、Φ５０５は消
去ヘッドコア２４、消去バックバー２７、記録再生バッ
クバー２８、記録再生ヘッドコア２５、記録再生ギャッ
プ３３を通り、また、Φ５０６はＦＤをも含む空間、記
録再生ヘッドコア２５、記録再生バックバー２８、セン
ターコア２６を通り、Φ５０５及びΦ５０６はいずれも
記録再生コイル３０と叉交する。この記録再生コイル３
０を叉交する磁束Φｒｗは、Φｒｗ＝Φ５０６−Φ５０
５となり、微小磁化４３による信号が記録再生コイル３
０に生じる。この信号は再生クロストークと呼ばれ、図
１４に示すような波形を示す。

【００４１】図１４において、４４は記録再生ギャップ
３３上に微小磁化４３が位置した場合の信号、４５は消
去ギャップ３１上に微小磁化４３が位置した場合の信号
を示す。信号４５は図１３において説明したΦ５０６及
びΦ５０５のバランス状態によって図１４（ａ）及び
（ｃ）に示すように極性が変わり、旨くバランスすると
図１４（ｂ）に示すように信号４５のレベルは極めて小
さくなる。つまり、信号４５のレベルは、磁束Φ５０５
が通る磁気抵抗と磁束Φ５０６が通る磁気抵抗によって
変化し、この磁気抵抗は各ヘッドコア２４、２５、２６
及び各バックバー２７、２８の構成材料であるフェライ
トの透磁率あるいは各ヘッドコア２４、２５、２６の長
さ（磁路長）によって変わることがわかる。

【００４２】図１５は、磁路長、すなわちヘッド高さＨ
を変数とし、ギャップ間距離Ｌｇをパラメータとして再
生クロストークのレベルを示したものであり、図１６
は、図１５に示した再生クロストークの限界値０．０５
（５％）におけるギャップ間距離Ｌｇとヘッド高さＨと
の関係を示した図で、図の曲線は次式（３）で示される
直線で近似され、式（３）で表される直線の下部の領域
Ａがクロストーク５％以下になるギャップ間距離Ｌｇと
ヘッド高さＨの条件を示す。

【００４３】 Ｈ≦０．０５８＋８．６×Ｌｇ ……（３）

【００４４】また、図１７は、ギャップ間距離Ｌｇとヘ
ッド出力の相対値との関係をヘッド高さＨをパラメータ
として示した図で、図１８は、図１７に示したヘッド出
力が０．９（９０％）におけるギャップ間距離Ｌｇとヘ
ッド高さＨとの関係を示した図で、図の曲線は次式
（４）で示される直線で近似され、式（４）で表される
直線の下部の領域Ｂがヘッド出力９０％以上になるギャ
ップ間距離Ｌｇとヘッド高さＨの条件を示す。

【００４５】Ｈ≦０．４１＋５．９×Ｌｇ ……（４）

【００４６】また、図１９は、図１６に示した式（３）
及び図１８に示した式（４）を合わせて示した図で、こ
の図から、式（３）の下部でかつ、式（４）の下部の領
域Ｅの条件を満たすギャップ間距離Ｌｇとヘッド高さＨ
によって、クロストークが５％以下でかつ、ヘッド出力
が９０％以上になる複合磁気ヘッドを提供できることが
分かる。

【００４７】以上のように、本実施例によれば、上記式
（３）及び式（４）の関係を満たすギャップ間距離Ｌｇ
及びヘッド高さＨを選択することによって、クロストー
クを５％以下、ヘッド出力を９０％以上にすることがで
き、３．５吋のＦＤ（２ＭＢ／１．４４ＭＢ）の記憶容
量を確保した１．８吋のＦＤに対して、記録・再生にお
ける出力が高出力で低ノイズの良質な信号が得られる複
合磁気ヘッド２０が得られる。

【００４８】また、図３に示したように、センダスト膜
３２を用いたＭＩＧ構造の採用によって、記録再生ギャ
ップ３３からＦＤの磁性層に発生する磁界は、図２０に
示すように、フェライトヘッドの１．７倍となり、例え
ばＨｃ＝１５００エルステッド、Ｂｒ＝２５００ガウス
のメタル塗布媒体にも十分書き込むことが可能になると
ともに、ヘッド端出力も実用的な大きな値を得ることが
でき、１．８吋ＦＤに対して十分小可能な複合磁気ヘッ
ドが得られる。

【００４９】３．５吋のＦＤで実現されている記憶容
量、すなわちアンフォーマット２ＭＢ、フォーマット
１．４４ＭＢを１．８吋のＦＤで達成するためには、一
例として、 ＩＤで使う容量 ＝２２バイト ＧＡＰ１で使う容量＝４１バイト ＤＡＴＡで使う容量＝５３０バイト ＧＡＰ２で使う容量＝８３バイト トラック密度 ＝２５４ＴＰＩ 線記録密度 ＝２６５２バイト／ｒａｄ シリンダ数 ＝６０ 最小トラック半径 ＝１３．５ｍｍ と試算される。この時、ＧＡＰの長さＬｈはＧＡＰ１の
長さの０．２ｍｍとなる。実際にはＦＤを駆動するモー
タの回転速度の変動を考慮すると、Ｌｈは０．１８ｍｍ
以下にするのが好ましい。

【００５０】すでに述べたように、ギャップ間距離Ｌｇ
はＧＡＰの長さＬｈより小さくするしなければならない
ので、ギャップ間距離Ｌｇ＜０．２ｍｍとする。図１９
から明かなように、再生クロストークを５％以下、ヘッ
ド出力を９０％以上にするためには、ギャップ間距離Ｌ
ｇ＜０．２ｍｍに対して、ヘッド高さＨ＜１．６ｍｍと
すればよい。

【００５１】以上のように、ギャップ間距離Ｌｇ＜０．
２ｍｍ、ヘッド高さＨ＜１．６ｍｍとすることによっ
て、クロストークを５％以下、ヘッド出力を９０％以上
にすることができ、３．５吋のＦＤ（２ＭＢ／１．４４
ＭＢ）の記憶容量を確保した１．８吋のＦＤに対して、
記録・再生における出力が高出力で低ノイズの良質な信
号が得られる複合磁気ヘッドが得られる。

【００５２】実施の形態２．図２１は、本発明の他の実
施例を示す断面図である。図において、２１はヘッド
部、２２及び２３はセラミックス材料からなるホルダ、
２７及び２８は消去バックバー及び記録再生バックバ
ー、２９及び３０は消去コイル及び記録再生コイル、３
６はジンバルバネ、３７はＦＰＣ、４６はホルダ２２及
び２３とジンバルバネ３６との間に充填し、消去バック
バー及び記録再生バックバー２７及び２８、並びに消去
コイル及び記録再生コイル２９及び３０をモールドした
モールド樹脂で、ホルダ２２及び２３、各バックバー２
７及び２８、各コイル２９及び３０の表面にはフッソ系
の離型剤がスプレーなどの手段によって厚さ約１μｍに
塗布されている。３９はヘッド部２１、ホルダ２２及び
２３から構成されたヘッドスライダ、Ｃはヘッドスライ
ダ表面を示す。

【００５３】次に、製造方法を説明する。ヘッド部２
１、ホルダ２２及び２３、消去コイル及び記録再生コイ
ル２９及び３０、消去バックバー及び記録再生バックバ
ー２７及び２８を実施の形態１と同様に順次組み立て、
ホルダ２２及び２３、各バックバー２７及び２８、各コ
イル２９及び３０の表面にフッソ系の離型剤を厚さ約１
μｍに塗布し、モールド樹脂４６を注入し硬化した後、
モールド樹脂４６とともにホルダ２２及び２３の底面Ｄ
を、実施の形態１と同様、平坦度１０μｍ以下に研磨
し、さらにヘッドスライダ表面Ｃの平坦度を４０ｎｍ以
下に研磨する。この後、ジンバルバネ３６、ＦＰＣ３７
を組み込み、各コイル２９及び３０の延長をリード線と
してＦＰＣ３７に半田付けする。

【００５４】モールド樹脂４６は、下記の化学構造式式
（９）ないし（１２）で表されるエポキシ樹脂の少なく
とも１種を含有したエポキシ樹脂、メチルテトラヒドロ
フタル酸またはメチルナジック酸などの酸無水物、γ―
グリシドキシプロピルトリメトキシシランなどのエポキ
シシラン型カップリング剤、平均粒径６０μｍ以下で粒
径５μｍ以下の粒子を５重量％以上含有したシリカある
いはアルミナなどの充填剤を混合し、２―エチル―４―
メチルイミダゾールなどの硬化促進剤を使用して硬化さ
せたものであり、酸無水物の酸無水物基の数とエポキシ
樹脂のエポキシ基の数との比（酸無水物基の数／エポキ
シ基の数）の値は０．５〜１．５、硬化促進剤の配合量
がエポキシ樹脂１００重量部に対して０．０５〜１０重
量部、カップリング剤の配合量が充填剤１００重量部に
対して０．０５〜５重量部、充填剤の含有量が３５〜９
５重量％である。

【００５５】

【化５】

【００５６】

【化６】

【００５７】また、離型剤にはダイキン工業（株）製フ
ッソ系離型剤（商品名ダイフリー）あるいはハイソール
（株）製のシリコン系離型剤（商品名ハイリリース）を
使用した。

【００５８】上記のように構成することによって、モー
ルド樹脂４６は硬質のパッキング材として機能し、ヘッ
ドスライダ３９の剛性が向上するので、ヘッドスライダ
表面Ｃの研磨加工による変形が大幅に緩和される。

【００５９】また、モールド樹脂４６の線膨張係数は１
１０×１０^-7／℃で、ヘッド部２１の材料の線膨張係数
は１０６×１０^-7／℃であるので、モールド樹脂４６と
ヘッド部２１との熱膨張係数の整合がとれ、しかも離型
剤を塗布しているので、モールド樹脂４６からヘッド部
２１に加わる応力は皆無に等しい。本発明者らの評価に
よれば、上記応力によるヘッド部２１の透磁率の劣化は
数％以下に抑制され、ヘッド出力の劣化はほとんど見ら
れない。さらに、モールド樹脂４６の線膨張係数は、ホ
ルダ２２及び２３の線膨張係数１１５×１０^-7／℃に近
く、整合がとれるので、モールド樹脂４６によるヘッド
スライダ３９の変形、特にヘッドスライダ表面Ｃ（摺動
面）の平面度を劣化させることがない。

【００６０】実施の形態３．図１及び図２１で説明した
ように、消去コイル２９及び記録再生コイル３０とＦＰ
Ｃ３７とを電気的に接続するためのリード線は、消去コ
イル２９及び記録再生コイル３０の巻き線をそのまま延
長したものであったため、図６に示したように、各コイ
ルをそれぞれ各ヘッドコア２４及び２５の脚部に挿入す
る作業、各バックバー２６及び２７を接合する作業、あ
るいは図２１に示したようにモールド樹脂４６をモール
ドする作業などにおいて、リード線が切断するという不
具合が発生し、特に、１．８吋ＦＤ用の小型の複合磁気
ヘッドにおいて問題となる。

【００６１】図２２及び図２３はそれぞれ本発明の板状
コイルを示す平面図及び部分断面図であり、図２４はそ
の結線図である。図において、４７は板状コイル、５８
は絶縁体、４８、４９及び５０は板状コイル４７の絶縁
体５８を貫通する角状穴、５１及び５２はそれぞれ角状
穴４８及び５０を中心に形成された同心状のコイルパタ
ーンで、銅メッキによって形成した幅約２０μｍ、厚さ
約１０μｍ導体５７からなる。５３及び５４はそれぞれ
コイルパターン５１の外周端及び内周端に接続され、絶
縁体５８表面に露出した端子、５５及び５６はそれぞれ
コイルパターン５２の外周端及び内周端に接続され、絶
縁体５８表面に露出した端子で、図２４に示すように、
コイルパターン５２の中央とコイルパターン５１の端子
５４とが接続されている。

【００６２】このように構成された板状コイル４７の角
状穴４８、４９及び５０にはそれぞれ図６に示したよう
にヘッドチップの消去コア２４、センターコア２６及び
記録再生コア２５の脚部を通し、その後、各バックバー
２７、２８を接合して磁気回路を閉じる。

【００６３】なお、コイルパターン５１及び５２は、絶
縁体（板状）５８にフォトレジストを塗布し、フォトレ
ジストに写真製版技術によってコイルパターンの形状を
形成し、コイルパターン部分に、無電解銅めっきあるい
はエッチングなどの方法で、図２３に示すように、導体
５７を形成し、この上に絶縁体を積層し、下層と上層の
導体５７をスルーホールを介して接合された導体５７を
形成する工程を繰り返すことによって得られる。

【００６４】本実施例によれば、板状コイル４７に形成
した角状穴４８、４９及び５０をそれぞれヘッドチップ
の消去コア２４、センターコア２６及び記録再生コア２
５の脚部に通し、その後、各バックバー２７、２８を接
合して磁気回路を閉じるようにしたので、リード線の切
断を完全に防止することができる。

【００６５】また、写真製版技術とめっきまたはエッチ
ングによってコイルパターン５１及び５２を形成するの
で、コイルの更なる薄型化ができ、さらに、ＦＰＣ３７
との一体化も可能になる。

【００６６】実施の形態４．図２５は本発明の他の実施
例になる複合磁気ヘッドを示す断面図である。図におい
て、５９は消去ヘッドコア２４、記録再生ヘッドコア２
５及びセンターコア２６に接着剤などで接合された磁性
板で、厚さ約３０μｍのＣｏ，Ｆｅ，Ｎｉ，Ｂ，Ｓｉを
主成分とする非晶質合金からなる。ヘッドチップ３８を
構成する消去コア２４、記録再生コア２５及びセンター
コア２６、消去コイル２９、記録再生コイル３０、ギャ
ップ間距離Ｌｇ、ヘッド高さＨは図１に示したものと同
じ構成である。

【００６７】磁性板５９は非晶質であるため、次に示す
（ａ）〜（ｃ）の特徴がある。 （ａ）結晶磁気異方性がないため、透磁率が高く、ヒス
テリシス損失が少ない。 （ｂ）電気抵抗が高く、渦電流損失が少ない。 （ｃ）塑性変形に強く、バネ性が大きい。また、磁性板
５８は金属磁性材料であるため、次に示す（ｄ）の特徴
がある。 （ｄ）透磁率がフェライトの２０〜５０倍と大きい。

【００６８】磁性板５９は上記（ａ）、（ｂ）、（ｄ）
の特徴を有するので、厚さが薄いにもかかわらず、図１
に示したフェライト製バックバー２７、２８と同じ磁気
抵抗であるので、ヘッド出力及び再生クロストークによ
るノイズレベルは実施の形態１で示した複合磁気ヘッド
と同じ性能が得られる。

【００６９】また、磁性板５９は金属箔であるのでフレ
キシビリティが高く、上記（ｃ）のようにバネ性が高い
ので、１０μｍ程度の平坦度を有するヘッドチップ３８
に対して密着して接合することが可能であるとともに、
実施の形態１で示したフェライト製の２本のバックバー
をヘッドチップ３８の側面にサンドイッチ状に貼るとい
う構造に比較して、極めて組立作業性が向上する。

【００７０】

【発明の効果】請求項１、２及び３に係る発明によれ
ば、ギャップ間距離Ｌｇ、ヘッド高さＨをＨ≦０．０５
８＋８．６×Ｌｇ、かつＨ≦０．４１＋５．９×Ｌｇの
関係を満たすようにすることによって、クロストークを
５％以下、ヘッド出力を９０％以上にすることができ、
３．５吋のＦＤ（２ＭＢ／１．４４ＭＢ）の記憶容量を
確保した１．８吋のＦＤに対して、記録・再生における
出力が高出力で低ノイズの良質な信号が得られる複合磁
気ヘッドが得られる。

【００７１】請求項４及び５に係る発明によれば、ホル
ダ、ヘッドチップ、バックバー、消去コイル、記録再生
コイル及びジンバルバネが形成する空間をモールド樹脂
でモールドしたので、ヘッドスライダの機械的強度が向
上し、上記ヘッドスライダ表面の研磨における変形を防
止し、ＦＤとの隙間を小さくし、この隙間によるヘッド
出力の劣化を防止することができる。

【００７２】請求項５に係る発明によれば、モールド樹
脂の線膨張係数をホルダ、ヘッドチップ及びバックバー
の線膨張係数に合わせることができるので、上記モール
ド樹脂と上記ホルダ、ヘッドチップ及びバックバーとの
膨張係数の差によって発生する応力をほぼ零にすること
ができ、上記応力による各ヘッドコアの磁気透磁率の低
下を防止し、ヘッド出力の低下を抑制することができ
る。

【００７３】請求項６に係る発明によれば、ヘッドスラ
イダのジンバルバネが支持する面の平面度が１０μｍ以
下であるので、この面を磁両ホルダに固定して上記ヘッ
ドスライダ表面を研磨することによって、上記ヘッドス
ライダ表面の平坦度を４０ｎｍ以下と極めて平坦にする
ことができ、ＦＤと上記ヘッドスライダとの隙間を小さ
くしてこの隙間によるヘッド出力の劣化を防止すること
ができる。

【００７４】請求項７に係る発明によれば、消去コイル
及び記録再生コイルの各コイルは、各コイルの形状の金
属導体を絶縁体を積層してなる絶縁板に一体形成し、上
記各コイルが電気的に連結されてなり、上記各コイルの
中央及び上記各コイルの中間に上記絶縁板を貫通する貫
通穴を設け、この貫通穴にヘッドチップの消去コア、セ
ンターコア及び記録再生コアの脚部を通し、その後、バ
ックバーを接合して磁気回路を閉じるようにしたので、
リード線の切断を完全に防止することができる効果があ
る。

【００７５】請求項８に係る発明によれば、各コイル
は、絶縁体上のフォトレジストに写真製版によって上記
各コイルの形状を形成し、この形状の金属導体を化学メ
ッキあるいはエッチングによって形成したので、コイル
の更なる薄型化ができ、さらに、ＦＰＣとの一体化も可
能になる。

【００７６】請求項９に係る発明によれば、バックバー
は、非晶質合金からなり、磁気抵抗が小さいので、薄い
箔状にすることができる。

【００７７】請求向１０に係る発明によれば、バックバ
ーはフレキシビリティが高いので、ヘッドチップに対し
て密着して接合することが可能であるとともに、フェラ
イト製のバックバーを上記ヘッドチップの側面にサンド
イッチ状に貼るという構造に比較して、極めて組立作業
性が向上する。

【図面の簡単な説明】

【図１】 本発明の一実施例になる複合磁気ヘッドを示
す斜視図である。

【図２】 本発明の一実施例になる複合磁気ヘッドのヘ
ッド部を示す平面図（ａ）及び側面図（ｂ）である。

【図３】 本発明の一実施例になる複合磁気ヘッドのヘ
ッド部要部を拡大した平面図である。

【図４】 本発明の一実施例になる複合磁気ヘッドの製
造方法を説明する斜視図である。

【図５】 本発明の一実施例になる複合磁気ヘッドの製
造方法を説明する斜視図である。

【図６】 本発明の一実施例になる複合磁気ヘッドの製
造方法を説明する斜視図である。

【図７】 本発明の一実施例になる複合磁気ヘッドの製
造装置を説明する斜視図である。

【図８】 本発明の一実施例になる複合磁気ヘッドの製
造方法を説明する斜視図である。

【図９】 本発明の一実施例になる複合磁気ヘッドの製
造方法を説明する斜視図である。

【図１０】 ヘッドスライダ表面の変化の測定結果を示
す斜視図である。

【図１１】 ヘッドスライダ表面及び底面の平面度の関
係を示す図である。

【図１２】 本発明の一実施例になる複合磁気ヘッドの
製造方法を説明する斜視図である。

【図１３】 本発明の一実施例になる複合磁気ヘッドの
動作を説明する図である。

【図１４】 再生クロストークの発生を説明する図であ
る。

【図１５】 本発明の一実施例になる複合磁気ヘッドの
再生クロストークを説明する図である。

【図１６】 本発明の一実施例になる複合磁気ヘッドの
再生クロストーク５％限界値を示す図である。

【図１７】 本発明の一実施例になる複合磁気ヘッドの
ヘッド出力を説明する図である。

【図１８】 本発明の一実施例になる複合磁気ヘッドの
ヘッド出力９０％限界値を示す図である。

【図１９】 本発明の一実施例になる複合磁気ヘッドの
再生クロストーク５％限界値及びヘッド出力９０％限界
値を示す図である。

【図２０】 ＭＩＧヘッドとフェライトヘッドの発生磁
界強度を比較する図である。

【図２１】 本発明の他の実施例になる複合磁気ヘッド
を示す断面図である。

【図２２】 本発明の複合磁気ヘッドの消去コイルと記
録再生コイルの構成を示す平面図である。

【図２３】 本発明の複合磁気ヘッドのコイルの断面図
である。

【図２４】 本発明の複合磁気ヘッドの消去コイルと記
録再生コイルの結線状態を示す図である。

【図２５】 本発明のその他の実施例になる複合磁気ヘ
ッドを示す断面図である。

【図２６】 従来の磁気ヘッドの構造を示す斜視図
（ａ）及び平面図（ｂ）である。

【図２７】 従来の磁気ヘッドの主要部を示す斜視図で
ある。

【図２８】 磁気ヘッドをＦＤに密着させた状態を示す
断面図である。

【図２９】 ＦＤのトラック及びトラック内のセクタを
説明する図である。

【図３０】 セクタの構成を説明する図である。

【図３１】 記録電流及び消去電流を示す図である。

【符号の説明】

１ 記録再生ヘッド、２及び７ 窓、３及び８ ガラス
モールド部、４ａ、４ｂ、９ａ及び９ｂ ヘッドコア、
５記録再生ギャップ、６ 消去ヘッド、１０ 消去ギャ
ップ、１１ 非磁性板、１２、１４、２２及び２３ ホ
ルダ、１３ 溝、１５ 記録再生コイル、１６ 消去コ
イル、１７ フレキシブル磁気ディスク（ＦＤ）、１８
トラック、１９ セクタ、２０複合磁気ヘッド、２１
ヘッド部、２４ 消去ヘッドコア、２４ 消去ヘッド
コア、２５ 記録再生ヘッドコア、２６ センターコ
ア、２７ 消去バックバー、２８ 記録再生バックバ
ー、２９消去コイル、３０ 記録再生コイル、３１ 消
去ギャップ、３３ 記録再生ギャップ、３６ ジンバル
バネ、３７ フレキシブルプリント基板（ＦＰＣ）、３
８ ヘッドチップ、３９ ヘッドスライダ、４０ 試料
ホルダ、４１ ワックス、４２ ラッププレート、４３
微小磁化、４４及び４５ 信号、４６ モールド樹
脂、４７ 板状コイル、４８、４９及び５０ 角状穴、
５１及び５２ コイルパターン、５３、５４、５５及び
５６ 端子、５７ 導体、５８ 絶縁体、５９ 磁性板

フロントページの続き (72)発明者 大村 祐司 東京都千代田区丸の内二丁目２番３号 三 菱電機株式会社内

Claims (10)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 消去ヘッドコアと記録再生ヘッドコアと
   の間に非磁性材料を介してセンターコアを接合し、接合
   部それぞれを消去ギャップ及び記録再生ギャップとする
   ヘッドチップ、上記消去ヘッドコア及び上記記録再生ヘ
   ッドコアにそれぞれ巻回した消去コイル及び記録再生コ
   イル、上記消去ヘッドコア及び上記記録再生ヘッドコア
   と上記センターコアとの間を磁気的に接合するバックバ
   ーを備え、上記消去ギャップと上記記録再生ギャップと
   の間の距離をギャップ間距離Ｌｇ、上記ヘッドチップの
   上記消去ギャップ及び記録再生ギャップを含む外周面と
   上記バックバーの外周面との距離をヘッド高さＨとし、
   ギャップ間距離Ｌｇとヘッド高さＨが、 Ｈ≦０．０５８＋８．６×Ｌｇ、かつＨ≦０．４１＋
   ５．９４×Ｌｇの関係にあることを特徴とする複合磁気
   ヘッド。
2. 【請求項２】 消去ヘッドコアと記録再生ヘッドコアと
   の間に非磁性材料を介してセンターコアを接合し、接合
   部それぞれを消去ギャップ及び記録再生ギャップとする
   ヘッドチップと、上記消去ヘッドコア及び上記記録再生
   ヘッドコアにそれぞれ巻回した消去コイル及び記録再生
   コイルと、上記消去ヘッドコア及び上記記録再生ヘッド
   コアと上記センターコアとの間を磁気的に接合するバッ
   クバーと、上記ヘッドチップをこの両側面から支持する
   ホルダーとを有するヘッドスライダ、このヘッドスライ
   ダを支持するジンバルバネを備え、上記消去ギャップと
   上記記録再生ギャップとの間の距離をギャップ間距離Ｌ
   ｇ、上記ヘッドチップの上記消去ギャップ及び記録再生
   ギャップを含む外周面と上記バックバーの外周面との距
   離をヘッド高さＨとし、ギャップ間距離Ｌｇとヘッド高
   さＨが、 Ｈ≦０．０５８＋８．６×Ｌｇ、かつＨ≦０．４１＋
   ５．９×Ｌｇの関係にあることを特徴とする複合磁気ヘ
   ッド。
3. 【請求項３】 ギャップ間距離Ｌｇが０．２ｍｍ以下、
   ヘッド高さＨが１．６ｍｍ以下であることを特徴とする
   請求項１または２記載の複合磁気ヘッド。
4. 【請求項４】 ホルダ、ヘッドチップ、バックバー、消
   去コイル、記録再生コイル及びジンバルバネが形成する
   空間をモールド樹脂でモールドしたことを特徴とする請
   求項２記載の複合磁気ヘッド。
5. 【請求項５】 モールド樹脂が、 【化１】 【化２】 上記化学構造式（１）〜（４）で表される化合物から選
   ばれた少なくとも１種を含有したエポキシ樹脂と、酸無
   水物と、硬化促進剤と、エポキシシラン系カップリング
   剤、フェニルアミノシラン系カップリング剤、メルカプ
   トシラン系カップリング剤及びチタネート系カップリン
   グ剤から選ばれた少なくとも１種のカップリング剤と、
   平均粒子径が６０μｍ以下で粒子径が５μｍ以下の粒子
   を５重量％以上含有したシリカ充填剤またはアルミナ充
   填剤とを主成分とし、上記酸無水物の酸無水物基の数と
   上記エポキシ樹脂のエポキシ基の数との比の値が０．５
   〜１．５、上記硬化剤の配合量が上記エポキシ樹脂の１
   ００重量部に対して０．０５〜１０重量部、上記カップ
   リング剤の配合量が上記充填剤１００重量部に対して
   ０．０５〜５重量部、上記充填剤の含有量が３５〜９５
   重量％であるエポキシ樹脂組成物であることを特徴とす
   る請求項４記載の複合磁気ヘッド。
6. 【請求項６】 ヘッドスライダのジンバルバネが支持す
   る面の平面度が１０μｍ以下であることを特徴とする請
   求項２記載の複合磁気ヘッド。
7. 【請求項７】 消去コイル及び記録再生コイルの各コイ
   ルは、各コイルの形状の金属導体を絶縁体を積層してな
   る絶縁板に一体形成し、上記各コイルが電気的に連結さ
   れてなり、上記各コイルの中央及び上記各コイルの中間
   に上記絶縁板を貫通する貫通穴を設けたことを特徴とす
   る請求項１または２記載の複合磁気ヘッド。
8. 【請求項８】 各コイルは、絶縁体上のフォトレジスト
   に写真製版によって上記各コイルの形状を形成し、この
   形状の金属導体を化学メッキあるいはエッチングによっ
   て形成したことを特徴とする請求項７記載の複合磁気ヘ
   ッド。
9. 【請求項９】 バックバーは、非晶質合金からなること
   を特徴とする請求項１または２記載の複合磁気ヘッド。
10. 【請求項１０】 非晶質合金は、厚さ１０〜５０μｍの
    Ｃｏ、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｍｏ、Ｂ及びＳｉを主成分とするこ
    とを特徴とする請求項９記載の複合磁気ヘッド。