JPH09142809A - オゾン吸脱着方法および装置 - Google Patents
オゾン吸脱着方法および装置Info
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- JPH09142809A JPH09142809A JP29800095A JP29800095A JPH09142809A JP H09142809 A JPH09142809 A JP H09142809A JP 29800095 A JP29800095 A JP 29800095A JP 29800095 A JP29800095 A JP 29800095A JP H09142809 A JPH09142809 A JP H09142809A
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Landscapes
- Oxygen, Ozone, And Oxides In General (AREA)
- Solid-Sorbent Or Filter-Aiding Compositions (AREA)
- Devices And Processes Conducted In The Presence Of Fluids And Solid Particles (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 シリカゲルの粒径を小さくして流動現象を発
生させ、冷却、吸着、および脱着オゾン濃度の均一化を
図る。 【解決手段】 円筒本体１２内に開口を有する支持材１
３を設け、この上に第１フィルタ１４を配置し、この第
１フィルタ１４上に細粒なシリカゲル１８を充填しガス
入口１２ａより吸着時はオゾンと酸素を流入し、脱着時
はキャリアガスを流入し、シリカゲル１８を流動状態に
する。
生させ、冷却、吸着、および脱着オゾン濃度の均一化を
図る。 【解決手段】 円筒本体１２内に開口を有する支持材１
３を設け、この上に第１フィルタ１４を配置し、この第
１フィルタ１４上に細粒なシリカゲル１８を充填しガス
入口１２ａより吸着時はオゾンと酸素を流入し、脱着時
はキャリアガスを流入し、シリカゲル１８を流動状態に
する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は発生したオゾンを吸
着して蓄積し、この蓄積したオゾンを脱着して放出する
オゾン吸脱着方法および装置に関する。
着して蓄積し、この蓄積したオゾンを脱着して放出する
オゾン吸脱着方法および装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】紙やパルプ等の漂白用として、環境への
悪影響がないオゾンの使用が広まってきている。オゾン
は放電や紫外線、または電気分解などの方法により酸素
を原料としてオゾン発生器によって発生される。このよ
うにして発生したオゾンは一旦オゾン吸着筒に吸着させ
て蓄積し濃縮される。吸着は低温加圧下で行われる。次
に供給先へ供給するため、まず大気圧とし常温にして脱
着させ窒素や乾燥空気などのキャリアガスとともに供給
先へ送出する。
悪影響がないオゾンの使用が広まってきている。オゾン
は放電や紫外線、または電気分解などの方法により酸素
を原料としてオゾン発生器によって発生される。このよ
うにして発生したオゾンは一旦オゾン吸着筒に吸着させ
て蓄積し濃縮される。吸着は低温加圧下で行われる。次
に供給先へ供給するため、まず大気圧とし常温にして脱
着させ窒素や乾燥空気などのキャリアガスとともに供給
先へ送出する。
【０００３】図４は従来用いられている吸着筒の一例を
示す。筒本体２２は円筒形で底面にガス入口２２ａがあ
り、頂部にガス出口２２ｂが設けられている。筒本体２
２の下部で底面と間隙を設けて支持材２３が設けられ、
この支持材２３にはガスを通過するが、シリカゲル２６
の通過は阻止する多数の開口が設けられている。筒本体
２２の外周には冷媒管２４が螺旋状に巻かれ内部のシリ
カゲル２６を冷却し、オゾンの吸着を促進させる。冷媒
管２４の下側には冷媒入口２４ａが設けられ、上側に冷
媒出口２４ｂが設けられている。筒本体２２と冷媒管２
４を覆って断熱材２５が保冷用に設けられている。支持
材２３の上面にはシリカゲル２６が充填されている。
示す。筒本体２２は円筒形で底面にガス入口２２ａがあ
り、頂部にガス出口２２ｂが設けられている。筒本体２
２の下部で底面と間隙を設けて支持材２３が設けられ、
この支持材２３にはガスを通過するが、シリカゲル２６
の通過は阻止する多数の開口が設けられている。筒本体
２２の外周には冷媒管２４が螺旋状に巻かれ内部のシリ
カゲル２６を冷却し、オゾンの吸着を促進させる。冷媒
管２４の下側には冷媒入口２４ａが設けられ、上側に冷
媒出口２４ｂが設けられている。筒本体２２と冷媒管２
４を覆って断熱材２５が保冷用に設けられている。支持
材２３の上面にはシリカゲル２６が充填されている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】従来、使用されている
シリカゲル２６は粒径が２〜３ｍｍ以上のものである。
このように粒径が大きいと筒本体２２に充填した場合、
間隙率が大きくバルク比重（体積あたりの比重）が小さ
くなり、吸着筒の体積当たりのオゾン吸着量が少ない。
また、吸着筒の半径方向では冷却が均一に行われず、オ
ゾンの吸着も均一に行われていなかった。このためオゾ
ン吸着効率が低くなり、この結果吸着筒を大きくしなけ
ればならなかった。また、脱着時のオゾン濃度も均一に
ならなかった。
シリカゲル２６は粒径が２〜３ｍｍ以上のものである。
このように粒径が大きいと筒本体２２に充填した場合、
間隙率が大きくバルク比重（体積あたりの比重）が小さ
くなり、吸着筒の体積当たりのオゾン吸着量が少ない。
また、吸着筒の半径方向では冷却が均一に行われず、オ
ゾンの吸着も均一に行われていなかった。このためオゾ
ン吸着効率が低くなり、この結果吸着筒を大きくしなけ
ればならなかった。また、脱着時のオゾン濃度も均一に
ならなかった。
【０００５】本発明は上述の問題に鑑みてなされたもの
で、シリカゲルの粒径を微細にして間隙率を小さくし、
さらに供給するガスの流量を調整して筒内で流動現象を
起こすようにして冷却、吸着、および脱着オゾン濃度の
均一化を図ることを目的とする。
で、シリカゲルの粒径を微細にして間隙率を小さくし、
さらに供給するガスの流量を調整して筒内で流動現象を
起こすようにして冷却、吸着、および脱着オゾン濃度の
均一化を図ることを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、請求項１の発明では、下部にガス入口を有し上部に
出口を有する容器の内部底面との間に間隙を有してガス
が流通可能な支持材を設け、その上に粒径３００μｍ以
下のシリカゲルを充填し、オゾンと酸素の混合ガスをガ
ス入口より流入し、シリカゲルを流動化してオゾン吸着
を行い、また前記ガス入口よりキャリアガスを流入し、
シリカゲルを流動化してオゾン脱着を行う。
め、請求項１の発明では、下部にガス入口を有し上部に
出口を有する容器の内部底面との間に間隙を有してガス
が流通可能な支持材を設け、その上に粒径３００μｍ以
下のシリカゲルを充填し、オゾンと酸素の混合ガスをガ
ス入口より流入し、シリカゲルを流動化してオゾン吸着
を行い、また前記ガス入口よりキャリアガスを流入し、
シリカゲルを流動化してオゾン脱着を行う。
【０００７】かかる構成により、オゾン吸着時下部ガス
入口から流入したオゾンと酸素は容器の内部底面と支持
材との間の間隙で容器の断面に均一に広がり、支持材を
抜けて上昇し、シリカゲルを流動化して均一な分布と
し、冷却温度の均一化、および吸着の均一化を図る。こ
れにより全体としてのオゾン吸着量を増やすことができ
る。またオゾン脱着時は下部ガス入口からキャリアガス
を流入し、シリカゲルを流動化するので脱着オゾン濃度
の均一性が向上する。オゾン吸着時または脱着時、シリ
カゲルの粒径を３００μｍ以下、望ましくは２００μｍ
以下で２０μｍ以上とすると流動化が促進される。な
お、粒径は小さい程全体としてシリカゲルの表面積が大
きくなり、オゾン吸着や脱着量が増加するが、あまり細
いと舞い上がったシリカゲルがなかなか落下せず、流動
化が充分なされない。このため下限値を目安として与え
る。
入口から流入したオゾンと酸素は容器の内部底面と支持
材との間の間隙で容器の断面に均一に広がり、支持材を
抜けて上昇し、シリカゲルを流動化して均一な分布と
し、冷却温度の均一化、および吸着の均一化を図る。こ
れにより全体としてのオゾン吸着量を増やすことができ
る。またオゾン脱着時は下部ガス入口からキャリアガス
を流入し、シリカゲルを流動化するので脱着オゾン濃度
の均一性が向上する。オゾン吸着時または脱着時、シリ
カゲルの粒径を３００μｍ以下、望ましくは２００μｍ
以下で２０μｍ以上とすると流動化が促進される。な
お、粒径は小さい程全体としてシリカゲルの表面積が大
きくなり、オゾン吸着や脱着量が増加するが、あまり細
いと舞い上がったシリカゲルがなかなか落下せず、流動
化が充分なされない。このため下限値を目安として与え
る。
【０００８】請求項２の発明では、下部にガス入口を有
し、上部にガス出口を有する容器と、この容器の内部底
面との間に間隙を有して設けられたガス流通可能な支持
材と、この支持材上に充填された粒径３００μｍ以下の
シリカゲルと、このシリカゲルと前記支持材の間に設け
られシリカゲルの落下を防止する第１フィルタと、容器
頂部内面で上部出口を覆うように設けられシリカゲルの
通過を阻止する第２フィルタと、容器の外面に設けられ
容器内のシリカゲルを冷却する冷媒管とを備える。
し、上部にガス出口を有する容器と、この容器の内部底
面との間に間隙を有して設けられたガス流通可能な支持
材と、この支持材上に充填された粒径３００μｍ以下の
シリカゲルと、このシリカゲルと前記支持材の間に設け
られシリカゲルの落下を防止する第１フィルタと、容器
頂部内面で上部出口を覆うように設けられシリカゲルの
通過を阻止する第２フィルタと、容器の外面に設けられ
容器内のシリカゲルを冷却する冷媒管とを備える。
【０００９】容器下面と支持材の間に流入したガスは容
器断面に一様に広がり第１フィルタを通過してシリカゲ
ルを流動化して均一な分布とする。第２フィルタはシリ
カゲル上部出口からガスと共に流出するのを防止する。
オゾン吸着時にはオゾンと酸素ガスがガス入口より流入
し、シリカゲルを均一な分布にし、その冷却温度を均一
にして、オゾンを均一に吸着させる。オゾン脱着時には
キャリアガスをガス入口より流入し、シリカゲルを流動
化させ均一な分布にし、脱着オゾン濃度を均一化する。
なお、シリカゲルの粒径を３００μｍ以下とし、ガス入
口より流入するガスの流速を調整することにより流動化
が充分行われ、シリカゲルが均一な分布となる。
器断面に一様に広がり第１フィルタを通過してシリカゲ
ルを流動化して均一な分布とする。第２フィルタはシリ
カゲル上部出口からガスと共に流出するのを防止する。
オゾン吸着時にはオゾンと酸素ガスがガス入口より流入
し、シリカゲルを均一な分布にし、その冷却温度を均一
にして、オゾンを均一に吸着させる。オゾン脱着時には
キャリアガスをガス入口より流入し、シリカゲルを流動
化させ均一な分布にし、脱着オゾン濃度を均一化する。
なお、シリカゲルの粒径を３００μｍ以下とし、ガス入
口より流入するガスの流速を調整することにより流動化
が充分行われ、シリカゲルが均一な分布となる。
【００１０】請求項３の発明では、前記第１フィルタお
よび第２フィルタをガラス繊維を用いて構成する。ガラ
ス繊維の間隙がメッシュの働きをしてフィルタを構成す
る。
よび第２フィルタをガラス繊維を用いて構成する。ガラ
ス繊維の間隙がメッシュの働きをしてフィルタを構成す
る。
【００１１】請求項４の発明では、前記シリカゲルとし
て純度９９％〜１００％のＳｉＯ2が用いられる。Ｓｉ
Ｏ2 ９９％〜１００％の高純度シリカゲルを用いること
により、ＳｉＯ2 ９０％程度の一般のシリカゲルを用い
る場合に比べ１０倍程度オゾン吸着率が向上する。
て純度９９％〜１００％のＳｉＯ2が用いられる。Ｓｉ
Ｏ2 ９９％〜１００％の高純度シリカゲルを用いること
により、ＳｉＯ2 ９０％程度の一般のシリカゲルを用い
る場合に比べ１０倍程度オゾン吸着率が向上する。
【００１２】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て図面を参照して説明する。図１は本実施の形態を用い
るオゾン供給装置の構成を示すブロック図である。オゾ
ン発生器１は放電等により酸素Ｏ2 よりオゾンＯ3 を発
生し、酸素と共に排出する。ポンプ2 はこのオゾンと酸
素の混合ガスをオゾン吸着容器３に供給する。オゾン吸
着容器３はこの混合ガスの内オゾンを吸着する。またこ
の吸着したオゾンを脱着して放出する。冷凍機４はオゾ
ン吸着容器３がオゾンを吸着するときシリカゲルを冷却
する冷媒（ブライン）を供給する。希釈タンク５は脱着
したオゾンを所定濃度に希釈するタンクで反応塔６はオ
ゾンを使用して漂白や殺菌などの処理を行う装置であ
る。止め弁７ａ，７ｂはオゾン吸着作用を行うループを
形成する時開とし、オゾン脱着作用を行う時閉となる止
め弁である。止め弁８ａ，８ｂ，８ｃはオゾンを脱着
し、希釈して反応塔６へ供給するときのラインを構成す
る止め弁で、オゾン脱着時開となり、オゾン吸着時閉と
なる。流量制御弁９ａ，９ｂはキャリアガスとしての窒
素Ｎ2 またはドライエアの流量を調整し、流量制御弁9c
はオゾンとキャリアガスの混合気体の流量を制御する。
圧力調整弁１０は脱着したオゾンとキャリアガスの圧力
を調整する。
て図面を参照して説明する。図１は本実施の形態を用い
るオゾン供給装置の構成を示すブロック図である。オゾ
ン発生器１は放電等により酸素Ｏ2 よりオゾンＯ3 を発
生し、酸素と共に排出する。ポンプ2 はこのオゾンと酸
素の混合ガスをオゾン吸着容器３に供給する。オゾン吸
着容器３はこの混合ガスの内オゾンを吸着する。またこ
の吸着したオゾンを脱着して放出する。冷凍機４はオゾ
ン吸着容器３がオゾンを吸着するときシリカゲルを冷却
する冷媒（ブライン）を供給する。希釈タンク５は脱着
したオゾンを所定濃度に希釈するタンクで反応塔６はオ
ゾンを使用して漂白や殺菌などの処理を行う装置であ
る。止め弁７ａ，７ｂはオゾン吸着作用を行うループを
形成する時開とし、オゾン脱着作用を行う時閉となる止
め弁である。止め弁８ａ，８ｂ，８ｃはオゾンを脱着
し、希釈して反応塔６へ供給するときのラインを構成す
る止め弁で、オゾン脱着時開となり、オゾン吸着時閉と
なる。流量制御弁９ａ，９ｂはキャリアガスとしての窒
素Ｎ2 またはドライエアの流量を調整し、流量制御弁9c
はオゾンとキャリアガスの混合気体の流量を制御する。
圧力調整弁１０は脱着したオゾンとキャリアガスの圧力
を調整する。
【００１３】オゾンを発生させこれをオゾン吸着容器３
のオゾン吸着剤に吸着されるオゾン吸着作用の場合、止
め弁７ａ，７ｂを開とし、止め弁８ａ，８ｂ，８ｃを閉
としてオゾン発生器１から発生したオゾンと未反応の酸
素の混合ガスを排出し、これをポンプ２でオゾン吸着容
器３へ送り、オゾン吸着容器３ではオゾンを吸着して酸
素はオゾン発生器１へ戻す。
のオゾン吸着剤に吸着されるオゾン吸着作用の場合、止
め弁７ａ，７ｂを開とし、止め弁８ａ，８ｂ，８ｃを閉
としてオゾン発生器１から発生したオゾンと未反応の酸
素の混合ガスを排出し、これをポンプ２でオゾン吸着容
器３へ送り、オゾン吸着容器３ではオゾンを吸着して酸
素はオゾン発生器１へ戻す。
【００１４】オゾンをオゾン吸着容器３から取り出し反
応塔６へ供給するオゾン脱着作用の場合は、止め弁７
ａ，７ｂを閉とし、止め弁８ａ，８ｂ，８ｃを開とす
る。オゾン脱着時は窒素またはドライエアなどをキャリ
アガスとしてオゾン吸着容器３に送り、シリカゲルから
脱着したオゾンとキャリアガスを希釈タンク５に入れ
る。希釈タンク５ではさらにキャリアガスで所定の濃度
にオゾンを希釈し反応塔６に送出する。
応塔６へ供給するオゾン脱着作用の場合は、止め弁７
ａ，７ｂを閉とし、止め弁８ａ，８ｂ，８ｃを開とす
る。オゾン脱着時は窒素またはドライエアなどをキャリ
アガスとしてオゾン吸着容器３に送り、シリカゲルから
脱着したオゾンとキャリアガスを希釈タンク５に入れ
る。希釈タンク５ではさらにキャリアガスで所定の濃度
にオゾンを希釈し反応塔６に送出する。
【００１５】図２は本実施の形態におけるオゾン吸着容
器３の縦断面図を示し、図３は支持材１３の平面図を示
す。円筒本体１２は底板１２ｃにガス入口１２ａを有
し、頂板１２ｄにガス出口１２ｂを有する細長円筒より
なる。支持材１３は図３に示す平面形状を有し、多数の
ガス通過用の開口１３ａを有し、円筒本体１２の底板１
２ｃより所定の間隙を有して円筒本体１２の内周に水平
に取り付けられている。この支持材１３と円筒本体１２
の底板１２ｃとの間が入口空間１２ｅを構成し、ガス入
口１２ａから流入したガスを支持材１３の開口１３ａに
均一に供給する。
器３の縦断面図を示し、図３は支持材１３の平面図を示
す。円筒本体１２は底板１２ｃにガス入口１２ａを有
し、頂板１２ｄにガス出口１２ｂを有する細長円筒より
なる。支持材１３は図３に示す平面形状を有し、多数の
ガス通過用の開口１３ａを有し、円筒本体１２の底板１
２ｃより所定の間隙を有して円筒本体１２の内周に水平
に取り付けられている。この支持材１３と円筒本体１２
の底板１２ｃとの間が入口空間１２ｅを構成し、ガス入
口１２ａから流入したガスを支持材１３の開口１３ａに
均一に供給する。
【００１６】第１フィルタ１４はガラス繊維よりなり、
支持材１３上に設置され、充填された微細なシリカゲル
１８を支持する。第２フィルタ１５はガラス繊維よりな
り、頂板１２ｄの内面に取り付けられ、ガス出口１２ｂ
より放出される、吸着時における酸素ガス、脱着時にお
けるオゾンとキャリアガスと共にシリカゲル１８が放出
されるのを防止する。冷媒管１６は円筒本体１２の胴部
に螺旋状に巻かれ、内部のシリカゲル１８を冷却する。
冷媒入口１６ａは冷媒管１６の下側に設けられ、冷媒出
口１６ｂは上側に設けられている。断熱材１７が円筒本
体１２の全外面に設けられ冷媒管１６を覆い吸着時円筒
本体１２と冷媒管１６を保冷する。シリカゲル１８は第
１フィルタ１４より、第２フィルタ１５の下面から所定
の間隙を有する高さまで充填される。シリカゲル１８の
上面と第２フィルタ１５の下面間の空間を出口空間１２
ｆとし、この出口空間１２ｆで円筒本体１２内を流れる
ガスはガス出口１２ｂに絞られる。
支持材１３上に設置され、充填された微細なシリカゲル
１８を支持する。第２フィルタ１５はガラス繊維よりな
り、頂板１２ｄの内面に取り付けられ、ガス出口１２ｂ
より放出される、吸着時における酸素ガス、脱着時にお
けるオゾンとキャリアガスと共にシリカゲル１８が放出
されるのを防止する。冷媒管１６は円筒本体１２の胴部
に螺旋状に巻かれ、内部のシリカゲル１８を冷却する。
冷媒入口１６ａは冷媒管１６の下側に設けられ、冷媒出
口１６ｂは上側に設けられている。断熱材１７が円筒本
体１２の全外面に設けられ冷媒管１６を覆い吸着時円筒
本体１２と冷媒管１６を保冷する。シリカゲル１８は第
１フィルタ１４より、第２フィルタ１５の下面から所定
の間隙を有する高さまで充填される。シリカゲル１８の
上面と第２フィルタ１５の下面間の空間を出口空間１２
ｆとし、この出口空間１２ｆで円筒本体１２内を流れる
ガスはガス出口１２ｂに絞られる。
【００１７】シリカゲル１８は微細な粉末よりなり、最
大でも３００μｍとし、好ましくは２００μｍ以下で２
０μｍ以上のものを用いる。シリカゲルの粒子を小さく
すれば、全粒子の表面面積の合計値は大きくなるが、自
重で落下するような大きさとする。
大でも３００μｍとし、好ましくは２００μｍ以下で２
０μｍ以上のものを用いる。シリカゲルの粒子を小さく
すれば、全粒子の表面面積の合計値は大きくなるが、自
重で落下するような大きさとする。
【００１８】このように構成されたオゾン吸着容器３の
動作について説明する。まずオゾン吸着時、および脱着
時のオゾン吸着容器３内の条件の一例を示す。オゾン吸
着時の温度は−１０℃、ゲージ圧力は８ｋｇ／ｃｍ2 で
あり、オゾン脱着自時は温度は２５℃、圧力は大気圧で
ある。オゾン吸着時にはガス入口１２ａよりオゾンと酸
素が流入し、入口空間１２ｅで円筒本体１２の断面に広
がり、支持材１３の開口１３ａを通り、第１フィルタ１
４の繊維の間隙を通り上昇する。ガス入口１２ａより流
入するオゾンと酸素の流量を調整することによりシリカ
ゲル１８は粒径が微細なことから流動現象が発生する。
オゾン吸着時には冷凍機４からの冷媒が冷媒管１６内を
循環してシリカゲル１８を冷却しているが、この流動現
象によりシリカゲル１８の均一な冷却が行われる。この
均一な冷却と流動現象によりシリカゲル１８へのオゾン
の吸着が均一となる。このようにしてオゾンはシリカゲ
ル１８に吸着され、酸素はオゾン発生器１へ戻され、オ
ゾンの原料となる。
動作について説明する。まずオゾン吸着時、および脱着
時のオゾン吸着容器３内の条件の一例を示す。オゾン吸
着時の温度は−１０℃、ゲージ圧力は８ｋｇ／ｃｍ2 で
あり、オゾン脱着自時は温度は２５℃、圧力は大気圧で
ある。オゾン吸着時にはガス入口１２ａよりオゾンと酸
素が流入し、入口空間１２ｅで円筒本体１２の断面に広
がり、支持材１３の開口１３ａを通り、第１フィルタ１
４の繊維の間隙を通り上昇する。ガス入口１２ａより流
入するオゾンと酸素の流量を調整することによりシリカ
ゲル１８は粒径が微細なことから流動現象が発生する。
オゾン吸着時には冷凍機４からの冷媒が冷媒管１６内を
循環してシリカゲル１８を冷却しているが、この流動現
象によりシリカゲル１８の均一な冷却が行われる。この
均一な冷却と流動現象によりシリカゲル１８へのオゾン
の吸着が均一となる。このようにしてオゾンはシリカゲ
ル１８に吸着され、酸素はオゾン発生器１へ戻され、オ
ゾンの原料となる。
【００１９】脱着時はガス入口１２ａから窒素またはド
ライエアなどがキャリアガスとして流入し、この流入速
度を調整することにより微細なシリカゲル１８に流動現
象を発生させ、シリカゲル１８からの脱着オゾン濃度の
均一性が向上する。
ライエアなどがキャリアガスとして流入し、この流入速
度を調整することにより微細なシリカゲル１８に流動現
象を発生させ、シリカゲル１８からの脱着オゾン濃度の
均一性が向上する。
【００２０】シリカゲルとしては、ＳｉＯ2 ９０％の普
通のものを用いてもよいが、ＳｉＯ 2 ９９％〜１００％
の高純度のものを用いると、オゾン吸着率が普通のもの
より１０倍程度向上する。また、ＮａをＨ置換したゼオ
ライト（Ｈ型ＺＳＭ−５）を用いてもよい。
通のものを用いてもよいが、ＳｉＯ 2 ９９％〜１００％
の高純度のものを用いると、オゾン吸着率が普通のもの
より１０倍程度向上する。また、ＮａをＨ置換したゼオ
ライト（Ｈ型ＺＳＭ−５）を用いてもよい。
【００２１】
【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明
はシリカゲルの粒径を微細にして流入ガスの流量を調整
することにより、シリカゲルに流動現象を起こさせる。
シリカゲルを微細にするため、バルク比重が大きくなり
シリカゲルを格納する円筒の単位体積当たりのオゾン吸
着量を増大することができる。また流動現象によりシリ
カゲルの冷却およびオゾンの吸着を均一にでき、吸着筒
全体としてのオゾン吸着量を増大することができる。さ
らに脱着時にも流動化を起こすことにより脱着オゾン濃
度の均一性を向上させることができる。また、高純度の
シリカゲルを用いることによりオゾン吸着率を大幅に向
上することができる。これらのオゾン吸着率の向上によ
りオゾン吸着容器の大きさを小さくすることができる。
はシリカゲルの粒径を微細にして流入ガスの流量を調整
することにより、シリカゲルに流動現象を起こさせる。
シリカゲルを微細にするため、バルク比重が大きくなり
シリカゲルを格納する円筒の単位体積当たりのオゾン吸
着量を増大することができる。また流動現象によりシリ
カゲルの冷却およびオゾンの吸着を均一にでき、吸着筒
全体としてのオゾン吸着量を増大することができる。さ
らに脱着時にも流動化を起こすことにより脱着オゾン濃
度の均一性を向上させることができる。また、高純度の
シリカゲルを用いることによりオゾン吸着率を大幅に向
上することができる。これらのオゾン吸着率の向上によ
りオゾン吸着容器の大きさを小さくすることができる。
【図１】オゾン吸着筒を含むオゾン供給設備の構成を示
すブロック図である。
すブロック図である。
【図２】実施の形態のオゾン吸着容器の詳細図である。
【図３】オゾン吸着容器の支持材の平面図である。
【図４】従来のオゾン吸着筒の詳細図である。
１ オゾン発生器 ２ ポンプ ３ オゾン吸着容器 ４ 冷凍機 ５ 希釈タンク ６ 反応塔 ７ａ，７ｂ，８ａ，８ｂ，８ｃ 止め弁 ９ａ，９ｂ，９ｃ 流動制御弁 １０ 圧力調整弁 １２ 円筒本体 １２ａ ガス入口 １２ｂ ガス出口 １２ｃ 底板 １２ｄ 頂板 １２ｅ 入口空間 １２ｆ 出口空間 １３ 支持材 １３ａ 開口 １４ 第１フィルタ １５ 第２フィルタ １６ 冷媒管 １６ａ 冷媒入口 １６ｂ 冷媒出口 １７ 断熱材 １８ シリカゲル
Claims (4)
- 【請求項１】 下部にガス入口を有し上部に出口を有す
る容器の内部底面との間に間隙を有してガスが流通可能
な支持材を設け、その上に粒径３００μｍ以下のシリカ
ゲルを充填し、オゾンと酸素の混合ガスをガス入口より
流入し、シリカゲルを流動化してオゾン吸着を行い、ま
た前記ガス入口よりキャリアガスを流入し、シリカゲル
を流動化してオゾン脱着を行うことを特徴とするオゾン
吸脱着方法。 - 【請求項２】 下部にガス入口を有し、上部にガス出口
を有する容器と、この容器の内部底面との間に間隙を有
して設けられたガス流通可能な支持材と、この支持材上
に充填された粒径３００μｍ以下のシリカゲルと、この
シリカゲルと前記支持材の間に設けられシリカゲルの落
下を防止する第１フィルタと、容器頂部内面で上部出口
を覆うように設けられシリカゲルの通過を阻止する第２
フィルタと、容器の外面に設けられ容器内のシリカゲル
を冷却する冷媒管とを備えたことを特徴とするオゾン吸
脱着装置。 - 【請求項３】 前記第１フィルタおよび第２フィルタを
ガラス繊維を用いて構成したことを特徴とする請求項２
記載のオゾン吸脱着装置。 - 【請求項４】 前記シリカゲルとして純度９９％〜１０
０％のＳｉＯ2 が用いられることを特徴とする請求項２
または３記載のオゾン吸脱着装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29800095A JP3709591B2 (ja) | 1995-11-16 | 1995-11-16 | オゾン吸脱着方法および装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29800095A JP3709591B2 (ja) | 1995-11-16 | 1995-11-16 | オゾン吸脱着方法および装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09142809A true JPH09142809A (ja) | 1997-06-03 |
| JP3709591B2 JP3709591B2 (ja) | 2005-10-26 |
Family
ID=17853838
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP29800095A Expired - Fee Related JP3709591B2 (ja) | 1995-11-16 | 1995-11-16 | オゾン吸脱着方法および装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3709591B2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH1192110A (ja) * | 1997-09-12 | 1999-04-06 | Ishikawajima Harima Heavy Ind Co Ltd | オゾン吸脱着装置とその温度制御方法 |
| JP2010042331A (ja) * | 2008-08-11 | 2010-02-25 | Kyuchaku Gijutsu Kogyo Kk | 圧力スイング吸着法によるオゾン製造装置を搭載したバラスト水処理装置 |
| WO2014092046A1 (ja) * | 2012-12-14 | 2014-06-19 | インテグリス・インコーポレーテッド | 気体浄化フィルターユニット |
-
1995
- 1995-11-16 JP JP29800095A patent/JP3709591B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH1192110A (ja) * | 1997-09-12 | 1999-04-06 | Ishikawajima Harima Heavy Ind Co Ltd | オゾン吸脱着装置とその温度制御方法 |
| JP2010042331A (ja) * | 2008-08-11 | 2010-02-25 | Kyuchaku Gijutsu Kogyo Kk | 圧力スイング吸着法によるオゾン製造装置を搭載したバラスト水処理装置 |
| WO2014092046A1 (ja) * | 2012-12-14 | 2014-06-19 | インテグリス・インコーポレーテッド | 気体浄化フィルターユニット |
| JPWO2014092046A1 (ja) * | 2012-12-14 | 2017-01-12 | インテグリス・インコーポレーテッド | 気体浄化フィルターユニット |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3709591B2 (ja) | 2005-10-26 |
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