JPH09128412A - Element library preparing method - Google Patents
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- JPH09128412A JPH09128412A JP7279351A JP27935195A JPH09128412A JP H09128412 A JPH09128412 A JP H09128412A JP 7279351 A JP7279351 A JP 7279351A JP 27935195 A JP27935195 A JP 27935195A JP H09128412 A JPH09128412 A JP H09128412A
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、プリント回路基板
設計のノイズ解析に必要な電気特性データを持つ素子ラ
イブラリの作成方法に関し、特に、素子ライブラリの自
動生成及び、編集に関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method of creating an element library having electric characteristic data necessary for noise analysis of a printed circuit board design, and more particularly to automatic generation and editing of the element library.
【0002】[0002]
【従来の技術】従来の素子ライブラリ作成方法は、論理
素子のトランジスタ回路をSPICE等の回路シミュレ
ーション結果、又は、実験のグラフ等から、ノイズ解析
に必要なパラメータを人手で読み取り、図12に示すよ
うに、OSが提供しているTEXTエディタ(例えば、
UNIXのviエディタ等)を用いて電気特性データの
登録編集を行って、素子データファイルを作成してい
た。2. Description of the Related Art In a conventional element library creating method, a parameter required for noise analysis is manually read from a circuit simulation result such as SPICE of a logic element transistor circuit or an experimental graph, and as shown in FIG. The TEXT editor provided by the OS (for example,
The device data file was created by registering and editing the electrical characteristic data using a UNIX vi editor or the like).
【0003】また、素子データファイルには、図13に
示すように、ノイズシミュレーションの用途によってス
クリーニング用とプリ/ポストレイアウトシミュレーシ
ョン用の2種類があった。As shown in FIG. 13, there are two types of device data files, one for screening and one for pre / post layout simulation, depending on the purpose of noise simulation.
【0004】[0004]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
素子ライブラリ作成方法では、同一素子データにも関わ
らず、シミュレーションの用途によって2種類の素子デ
ータファイルを作成しなければならないため、多くの作
成工数及び、期間が必要となるという問題点があった。
また、回路シミュレータの解析結果より得られる電気特
性を人手でデータ化して素子データファイルを作成して
いるため、人為的ミスの発生率が高くなり、編集したデ
ータが正当性に欠け、また、多くの作成工数及び、期間
が必要となるという問題点があった。However, in the conventional device library creating method, two kinds of device data files have to be created depending on the purpose of the simulation even though the same device data is used. However, there was a problem that a period was required.
In addition, since the element data file is created by manually converting the electrical characteristics obtained from the analysis results of the circuit simulator into human data, the rate of human error increases, the edited data lacks validity, and many There was a problem that the number of man-hours and the period required were required.
【0005】[0005]
【課題を解決するための手段】本発明に係る素子ライブ
ラリ作成方法は、プリント回路基板及びノイズ解析にお
けるスクリーニング及びプリ/ポストレイアウトシミュ
レーションに必要な素子ライブラリを作成する素子ライ
ブラリ作成方法において、回路解析結果データ又は業界
標準フォーマットデータを読み込み、その読み込んだデ
ータに基づいて、スクリーニング及びプリ/ポストレイ
アウトシミュレーション用の素子ライブラリを2つ同時
に自動作成するものである。A device library creating method according to the present invention is a device library creating method for creating a device library required for screening and pre / post layout simulation in a printed circuit board and noise analysis. Data or industry standard format data is read, and two device libraries for screening and pre / post layout simulation are automatically created simultaneously based on the read data.
【0006】[0006]
【発明の実施の形態】図1は、本発明の一実施形態に係
る素子ライブラリ作成方法を示すフローチャートであ
る。図において、10は素子ライブラリ自動生成、11
は素子ライブラリ編集であり、素子ライブラリ自動生成
10は回路解析データからの生成及び業界標準フォーマ
ット(以下、IBISという)ファイルからの生成を行
っている。1 is a flowchart showing a device library creating method according to an embodiment of the present invention. In the figure, 10 is automatic generation of element library, 11
Is an element library edit, and the element library automatic generation 10 performs generation from circuit analysis data and generation from an industry standard format (hereinafter referred to as IBIS) file.
【0007】ここで、素子ライブラリ自動生成10の回
路解析データからの生成では、回路シミュレータの解析
結果の波形データが記述されたファイルから自動的に素
子ライブラリを生成しており、素子ライブラリ自動生成
10のIBISファイルからの生成では、IBISファ
イルのデバイスモデルから自動的に素子ライブラリを生
成している。また、素子ライブラリ編集11では、回路
解析データ、IBISファイルからは得られないデータ
の追加や、データブックからのライブラリ登録を行うた
めに、ウィンドウ・メニューより素子ライブラリの登
録、変更、削除等の編集を行っている。Here, in the generation from the circuit analysis data of the element library automatic generation 10, the element library is automatically generated from the file in which the waveform data of the analysis result of the circuit simulator is described. In the generation from the IBIS file, the element library is automatically generated from the device model of the IBIS file. In addition, in the device library edit 11, in order to add circuit analysis data and data that cannot be obtained from the IBIS file, and to register the library from the data book, edits such as registration, change and deletion of the device library from the window menu. It is carried out.
【0008】次に、この実施形態の動作について説明す
る。まず、素子ライブラリを読み込み(S100)、オ
ペレータなどによる操作により選択されている処理が、
素子ライブラリ自動生成か素子ライブラリ編集かを判断
する(S101)。そして、S101の判断結果によ
り、それぞれの処理を行う。Next, the operation of this embodiment will be described. First, the device library is read (S100), and the process selected by the operator or the like is
It is determined whether the device library is automatically generated or the device library is edited (S101). Then, each processing is performed according to the determination result of S101.
【0009】まず、S101で素子ライブラリ自動生成
10の処理と判断されると、オペレータなどによる操作
により選択されている処理が、回路解析結果による自動
生成の処理かIBISによる自動生成の処理かを判断す
る(S102)。そして、S102で回路解析結果によ
る自動生成の処理と判断されると、回路シミュレータの
回路解析結果ファイルを読み込む(S103)。First, when it is determined in S101 that the device library automatic generation process 10 is performed, it is determined whether the process selected by the operator or the like is the automatic generation process based on the circuit analysis result or the IBIS process. Yes (S102). Then, when it is determined in S102 that the automatic generation processing is performed based on the circuit analysis result, the circuit analysis result file of the circuit simulator is read (S103).
【0010】そして、読み込んだ回路解析データをもと
に素子データ(High/Lowレベル入力電圧、Hi
gh/Lowレベル出力電圧、立ち上がり/立ち下がり
時間、High/Lowレベル入力インピーダンス、H
igh/Lowレベル出力インピーダンス)を求める
(S104)。Then, based on the read circuit analysis data, element data (High / Low level input voltage, Hi
gh / Low level output voltage, rise / fall time, High / Low level input impedance, H
High / Low level output impedance) is obtained (S104).
【0011】ここで、これらの素子データの求め方の具
体例について説明する。 (a)High/Lowレベル入力電圧 図2は回路シミュレータの回路解析結果ファイル(例え
ば、SPICEデータファイル)のデータに基づいたレ
シーバ側の入出力電圧特性を示した図である。図2に示
すような回路シミュレータで求めた素子のレシーバ側の
DC解析結果データからHigh/Lowレベル入力電
圧を求める。Here, a concrete example of how to obtain these element data will be described. (A) High / Low level input voltage FIG. 2 is a diagram showing the input / output voltage characteristics on the receiver side based on the data of the circuit analysis result file (for example, SPICE data file) of the circuit simulator. The High / Low level input voltage is obtained from the DC analysis result data on the receiver side of the element obtained by the circuit simulator as shown in FIG.
【0012】まず、一般的に出力電圧の20%がLow
レベルのスレッシュホルド電圧で、80%がHighレ
ベルのスレッシュホールド電圧となっており、出力電圧
(80%)に対応する入力電圧をHighレベル入力電
圧の最小値、出力電圧(20%)に対応する入力電圧を
Lowレベル入力電圧の最大値とする。但し、スレッシ
ュホルド電圧に於ける出力電圧のパーセンテージは、パ
ラメータより変更可能である。First, 20% of the output voltage is generally low.
The threshold voltage of the level is 80%, and the threshold voltage of the High level is 80%. The input voltage corresponding to the output voltage (80%) corresponds to the minimum value of the High level input voltage and the output voltage (20%). The input voltage is the maximum value of the low level input voltage. However, the percentage of the output voltage in the threshold voltage can be changed by the parameter.
【0013】ここで、図2に示したレシーバ側の入出力
電圧特性による例を示す。まず、出力電圧の20%−8
0%を求める。 出力電圧(20)=3.3[V]×0.2=0.66[V] 出力電圧(80)=3.3[V]×0.8=2.64[V] 従って、これらに対応する入力電圧は、 Lowレベル入力電圧=0.90[V] Highレベル入力電圧=2.40[V] と、求まる。An example based on the input / output voltage characteristic on the receiver side shown in FIG. 2 will be shown. First, 20% of output voltage-8
We ask for 0%. Output voltage (20) = 3.3 [V] × 0.2 = 0.66 [V] Output voltage (80) = 3.3 [V] × 0.8 = 2.64 [V] Therefore, The corresponding input voltage is obtained as Low level input voltage = 0.90 [V] High level input voltage = 2.40 [V].
【0014】同様に、High/Lowレベル出力電圧
ついても回路シミュレータで求めた素子のドライバ側の
DC解析結果データから求める。また、対応電圧がデー
タ上に存在しない場合にはスプライン補間を用いて対応
電圧を求める。例えば、90%の出力電圧値が2.97
[V]の場合、入力電圧はスプライン補間を用いて求め
る。Similarly, the High / Low level output voltage is also obtained from the DC analysis result data on the driver side of the element obtained by the circuit simulator. If the corresponding voltage does not exist in the data, the corresponding voltage is obtained using spline interpolation. For example, a 90% output voltage value is 2.97.
In the case of [V], the input voltage is obtained using spline interpolation.
【0015】(b)立ち上がり/立ち下がり時間 図3は回路シミュレータの回路解析結果ファイル(例え
ば、SPICEデータファイル)のデータに基づいた時
間−電圧特性を示した図である。図3に示すような回路
シミュレータで求めた素子のドライバ側の時間−電圧特
性の過渡解析結果データから立ち上がり/立ち下がり時
間を求める。(B) Rise / fall time FIG. 3 is a diagram showing time-voltage characteristics based on the data of the circuit analysis result file (for example, SPICE data file) of the circuit simulator. The rise / fall time is obtained from the transient analysis result data of the time-voltage characteristic of the driver side of the element obtained by the circuit simulator as shown in FIG.
【0016】まず、立ち上がりのスレッシュホルドは最
大出力電圧の80%であり、立ち上がり開始時間からこ
のスレッシュホルド電圧に達するまでが、立ち上がり時
間(Tr)である。また、立ち下がりのスレッシュホル
ドは最大出力電圧の20%であり、立ち下がり開始時間
からこのスレッシュホルド電圧に達するまでが、立ち下
がり時間(Tf)である。但し、電圧のパーセンテージ
は、パラメータより変更可能である。また、対応時間が
データ上に存在しない場合にはスプライン補間を用いて
対応時間を求める。First, the rising threshold is 80% of the maximum output voltage, and the rising time (Tr) is from the rising start time to the threshold voltage. Further, the falling threshold is 20% of the maximum output voltage, and the falling time (Tf) is from the falling start time to the reaching of this threshold voltage. However, the voltage percentage can be changed by a parameter. If the corresponding time does not exist on the data, the corresponding time is obtained using spline interpolation.
【0017】ここで、図3に示した時間−電圧特性によ
る例を示す。まず、電圧の20%−80%を求める。
(スレッシュホルド電圧) 電圧(20)=3.3[V]×0.2=0.66[V] 電圧(80)=3.3[V]×0.8=2.64[V] したがって、これらに対応する時間より、 立ち上がり時間=13.0−5.0=8.0[ns] 立ち下がり時間=43.0−35.0=8.0[ns] と求まる。Here, an example based on the time-voltage characteristic shown in FIG. 3 will be shown. First, 20% -80% of the voltage is obtained.
(Threshold voltage) Voltage (20) = 3.3 [V] × 0.2 = 0.66 [V] Voltage (80) = 3.3 [V] × 0.8 = 2.64 [V] Therefore From these corresponding times, rise time = 13.0-5.0 = 8.0 [ns] fall time = 43.0-35.0 = 8.0 [ns].
【0018】(c)入出力インピーダンス <プリ/ポストレイアウトSim用>図4は回路シミュ
レータの回路解析結果ファイル(例えば、SPICEデ
ータファイル)のデータに基づいた電流−電圧特性(I
−V特性)を示した図である。図4に示すような回路シ
ミュレータで求めた素子のレシーバ側のI−V特性デー
タから、I−Vカーブの折れ線近似を最小自乗法(m個
のデータの組み合わせを1本の直線に近似するものであ
る)によりI−Vカーブを複数の直線に分割近似を行
い、インピーダンスモデルは、電圧Xi[V]からXi
+1[V]の範囲(傾き)をYi[Ω]のインピーダン
ス定義し、これを繰り返すことにより素子の入力インピ
ーダンスモデルを自動生成する。(C) Input / output impedance <for pre / post layout Sim> FIG. 4 shows a current-voltage characteristic (I) based on the data of the circuit analysis result file (for example, SPICE data file) of the circuit simulator.
It is a figure showing -V characteristic). From the IV characteristic data on the receiver side of the element obtained by the circuit simulator as shown in FIG. 4, the polygonal line approximation of the IV curve is approximated by the least square method (a combination of m data is approximated to one straight line). The I-V curve is divided into a plurality of straight lines by approximation, and the impedance model is calculated from the voltage Xi [V] to Xi [V].
The range (slope) of +1 [V] is defined as the impedance of Yi [Ω], and this is repeated to automatically generate the input impedance model of the element.
【0019】同様に出力側のHigh,LowのI−V
特性により出力インピーダンスモデルを生成する。この
ように生成された入出力インピーダンスモデルの例を図
5に示す。Similarly, High and Low IV on the output side
An output impedance model is generated according to the characteristics. An example of the input / output impedance model thus generated is shown in FIG.
【0020】<スクリーニングSim用>図6は回路シ
ミュレータの回路解析結果ファイル(例えば、SPIC
Eデータファイル)のデータに基づいた電流−電圧特性
(I−V特性)を示した図である。図6に示すような回
路シミュレータで求めた素子のレシーバ側の結果から、
指定された電圧(ユーザーによるある区間の電圧指定)
に対応する電流を求める。但し、対応電流がデータ上に
存在しない場合にはスプライン補間を用いて対応電流を
求める。そして、この電流電圧の傾きを入力インピーダ
ンスとする。<For Screening Sim> FIG. 6 is a circuit analysis result file (for example, SPIC) of a circuit simulator.
It is the figure which showed the electric current-voltage characteristic (IV characteristic) based on the data of E data file. From the result on the receiver side of the element obtained by the circuit simulator as shown in FIG.
Specified voltage (Voltage specified by the user in a certain section)
Find the current corresponding to. However, if the corresponding current does not exist in the data, the corresponding current is obtained using spline interpolation. Then, the slope of this current voltage is used as the input impedance.
【0021】ここで、図6に示した電流−電圧特性によ
る例を示す。まず、指定された電圧を、 電圧(s)=0.68[V] 電圧(e)=1.00[V] とする。Here, an example based on the current-voltage characteristics shown in FIG. 6 will be shown. First, the designated voltage is set to voltage (s) = 0.68 [V] voltage (e) = 1.00 [V].
【0022】また、これらに対応する電流は、 電流(s)=15.0[mA] 電流(e)=18.5[mA] となる。The currents corresponding to these are: current (s) = 15.0 [mA] current (e) = 18.5 [mA]
【0023】したがって、入力インピーダンスは、 (1.00−0.68)/(0.0185−0.01
5) となり、約91.43[Ω]と求まる。同様に出力側の
High,LowのI−V特性により出力インピーダン
スを作成する。Therefore, the input impedance is (1.00-0.68) / (0.0185-0.01).
5), which is approximately 91.43 [Ω]. Similarly, the output impedance is created by the High and Low IV characteristics of the output side.
【0024】そして、S104で素子データが求められ
るとそのデータを素子ライブラリに書き込む(S20
0)。ここで、素子ライブラリの構成について説明す
る。素子ライブラリはシミュレーションの用途によって
スクリーニング用とプリ/ポストレイアウトシミュレー
ション用の2つの素子データによって構成されており、
以下にその素子ライブラリの例を示す。When element data is obtained in S104, the data is written in the element library (S20).
0). Here, the configuration of the element library will be described. The element library consists of two element data for screening and pre / post layout simulation depending on the purpose of simulation.
An example of the device library is shown below.
【0025】<プリ/ポストレイアウトSim用>図7
に示すように生成された入力バッファモデル及び出力バ
ッファモデルから求められるものであり、 GC_NETCLASS:モデル名 GC_VOL:Lowレベル出力電圧 GC_VOH:Highレベル出力電圧 GC_TR:立ち上がり時間 GC_TF:立ち下がり時間 として、それぞれのモデルについて、以下のような内容
となっている。<For Pre / Post Layout Sim> FIG. 7
Is obtained from the input buffer model and the output buffer model generated as shown in FIG. The contents of the model are as follows.
【0026】 GC_NETCLASS=LS32 GC_VOL=2.500000E−01 GC_VOH=3.850000E+00 GC_TR=6.0000E−09 GC_TF=6.0000E−09 : :GC_NETCLASS = LS32 GC_VOL = 2.50000E-01 GC_VOH = 3.80000E + 00 GC_TR = 6.00000E-09 GC_TF = 6.00000E-09 ::
【0027】 <スクーリニングSim用> MODELNAME:モデル名 VOLTAGE_OUT_LO:Lowレベル出力電圧の最大最小値 VOLTAGE_OUT_HI:Highレベル出力電圧の最大最小値 VOLTAGE_IN_LO:Lowレベル入力電圧の最大最小値 VOLTAGE_IN_HI:Highレベル入力電圧の最大最小値 RISETIME:立ち上がり時間 FALLTIME:立ち下がり時間 ROUT:出力インピーダンス として、それぞれのモデルについて、以下のような内容
となっている。<For Screening Sim> MODELNAME: Model name VOLTAGE_OUT_LO: Maximum / minimum value of Low level output voltage VOLTAGE_OUT_HI: Maximum / minimum value of High level output voltage VOLTAGE_IN_LO: Maximum / minimum value of Low level input voltage VOLTAGE_IN_INH level of maximum input voltage: Minimum value RISETIME: rise time FALLTIME: fall time ROUT: output impedance The contents of each model are as follows.
【0028】 MODELNAME=LS32 VOLTAGE_OUT_LO=0.0000mV,500.00mV VOLTAGE_OUT_HI=2700.0mV,5000.0mV VOLTAGE_IN_LO=0.0000mV,800.00mV VOLTAGE_IN_HI=2000.0mV,5000.0mV RISETIME=4.0000nS,8.0000nS FALLTIME=4.0000nS,8.0000nS ROUT=91.43Ω : :MODELNAME = LS32 VOLTAGE_OUT_LO = 0.0000 mV, 500.00 mV VOLTAGE_OUT_HI = 2700.0 mV, 5000.0 mV VOLTAGE_IN_LO = 0.0000 mV, 800.00 mV VOLTAGE_IN_HI = 2000.0 mV, 0.00.0 mV, 2000.0 mV. 0000nS FALLTIME = 4.0000nS, 8.0000nS ROUT = 91.43Ω ::
【0029】また、S102でIBISによる自動生成
の処理と判断されると、IBISファイルを読み込む
(S105)。そして、IBISファイルの電気特性デ
ータをもとに素子データ(High/Lowレベル入力
電圧、High/Lowレベル出力電圧、立ち上がり/
立ち下がり時間、入出力インピーダンス)を求める(S
106)。If it is determined in S102 that the process is automatic generation by IBIS, the IBIS file is read (S105). Then, based on the electrical characteristic data of the IBIS file, element data (High / Low level input voltage, High / Low level output voltage, rising /
Calculate the fall time and input / output impedance (S
106).
【0030】ここで、これらの素子データの求め方の具
体例について説明する。 (a)High/Lowレベル入力電圧 図8は、IBISファイルに格納されたレシーバ側の入
出力電圧特性を示した図である。図8に示すようなレシ
ーバ側の入出力電圧データから、回路解析による生成と
同様にHigh/Lowレベル入力電圧の最小、最大値
それぞれについて求める。同様に、High/Lowレ
ベル出力電圧についてもドライバ側の入出力電圧データ
から求める。Here, a specific example of how to obtain these element data will be described. (A) High / Low Level Input Voltage FIG. 8 is a diagram showing the input / output voltage characteristics on the receiver side stored in the IBIS file. From the input / output voltage data on the receiver side as shown in FIG. 8, the minimum and maximum values of the High / Low level input voltage are obtained as in the case of generation by circuit analysis. Similarly, the High / Low level output voltage is also obtained from the input / output voltage data on the driver side.
【0031】(b)立ち上がり/立ち下がり時間 図9は、IBISファイルに格納された立ち上がり/立
ち下がり時間のデータを示した図である。図9に示すよ
うなIBISファイルの立ち上がり/立ち下がり時間を
そのまま用いる。(B) Rise / fall time FIG. 9 is a diagram showing rise / fall time data stored in the IBIS file. The rise / fall time of the IBIS file as shown in FIG. 9 is used as it is.
【0032】(c)入出力インピーダンス 図10は、IBISファイルに格納された電流−電圧デ
ータを示した図である。図10に示すようなIBISフ
ァイルの電流−電圧データから、回路解析からの生成と
同様に入出力インピーダンスの最小、最大値それぞれに
ついて求める。(C) Input / Output Impedance FIG. 10 is a diagram showing current-voltage data stored in the IBIS file. From the current-voltage data of the IBIS file as shown in FIG. 10, the minimum and maximum values of the input / output impedance are obtained similarly to the generation from the circuit analysis.
【0033】そして、S106で素子データが求められ
ると、そのデータを素子ライブラリに書き込む(S20
0)。When the element data is obtained in S106, the data is written in the element library (S20).
0).
【0034】また、S101で素子ライブラリ編集11
の処理と判断されると、図11に示すようなウィンドウ
・メニューを表示し、データブックからのデータ登録
や、すでにライブラリ登録してある素子データを、ウィ
ンドウ・メニューの入力フィールドにキー入力すること
によって登録編集を行う(S107)。そして、入力し
た素子データの正当性チェックを行い、正常なデータで
あるか確認する(S108)。Further, in step S101, the device library is edited 11
If it is determined that the process is performed, the window menu as shown in FIG. 11 is displayed, and the data registration from the data book or the device data already registered in the library is input by keying in the input field of the window menu. The registration is edited by (S107). Then, the validity of the input element data is checked to confirm whether it is normal data (S108).
【0035】ここで、正当性チェック内容の一例につい
て説明する。 1.データの存在チェック モデル名のような必要不可欠なデータがキー入力されて
いるかチェックを行う。 2.データの使用可能文字チェック 各データに不当な文字が存在しないかチェックを行う。
例えば、電圧値などに数字以外(「.」、「−」は除
く)の文字が存在しないかチェックを行う。 3.各素子データ値の大小チェック 各素子データ(最小、標準、最大値)の大小関係が不当
でないかチェックを行う。例えば、最小値が最大値より
小さいかチェックを行う。 4.データの重複チェック 同一データが存在しないかチェックを行う。Here, an example of the contents of the validity check will be described. 1. Existence check of data Check if essential data such as model name is keyed in. 2. Check usable characters of data Check whether there is any illegal character in each data.
For example, it is checked whether there are any characters other than numbers (excluding "." And "-") in the voltage value and the like. 3. Check the magnitude of each element data value Check whether the magnitude relationship of each element data (minimum, standard, maximum) is not incorrect. For example, it is checked whether the minimum value is smaller than the maximum value. 4. Data duplication check Checks if the same data exists.
【0036】そして、S108でこれらのチェックがす
べて正当と判断されれば、その編集データを素子ライブ
ラリに書き込む(S200)。If all of these checks are judged to be valid in S108, the edited data is written in the element library (S200).
【0037】この実施形態では、スクリーニングとプリ
/ポストレイアウトシミュレーションの素子ライブラリ
が同時に作成するようにし、また、回路解析結果データ
及び業界標準フォーマット(IBIS等)から素子ライ
ブラリを自動的に生成するので、人為的ミスの発生率が
低下し、素子データの正当性に優れ、作成工数、及び期
間の短縮が可能となる。また、ウィンドウ・メニューに
よる素子ライブラリの編集を行うようにしたので、素子
データ変更の容易性の向上と、OSのTEXTエディタ
に比べて素子データの正当性を向上することが可能とな
る。In this embodiment, the device libraries for screening and pre / post layout simulation are created at the same time, and the device library is automatically generated from the circuit analysis result data and the industry standard format (IBIS etc.). The occurrence rate of human error is reduced, the validity of element data is excellent, and the number of preparation steps and the period can be shortened. Further, since the element library is edited by the window menu, it becomes possible to improve the easiness of changing the element data and improve the validity of the element data as compared with the TEXT editor of the OS.
【0038】[0038]
【発明の効果】以上のように本発明によれば、回路解析
結果データ又は業界標準フォーマットデータを読み込
み、その読み込んだデータに基づいて、スクリーニング
及びプリ/ポストレイアウトシミュレーション用の素子
ライブラリを2つ同時に自動作成するようにしたので、
スクリーニングとプリ/ポストレイアウトシミュレーシ
ョンの素子ライブラリが同時に作成できることになり、
作成工数、及び期間の短縮をすることができるという効
果を有する。が期待できる。As described above, according to the present invention, circuit analysis result data or industry standard format data is read, and two device libraries for screening and pre / post layout simulation are simultaneously read based on the read data. Since it is automatically created,
Device libraries for screening and pre / post layout simulation can be created at the same time,
This has an effect that the number of preparation steps and the period can be shortened. Can be expected.
【図1】本発明の一実施形態に係る素子ライブラリ作成
方法を示すフローチャートである。FIG. 1 is a flowchart showing a device library creating method according to an embodiment of the present invention.
【図2】レシーバ側の入出力電圧特性を示した図であ
る。FIG. 2 is a diagram showing input / output voltage characteristics on the receiver side.
【図3】時間−電圧特性を示した図である。FIG. 3 is a diagram showing time-voltage characteristics.
【図4】電流−電圧特性(I−V特性)を示した図であ
る。FIG. 4 is a diagram showing current-voltage characteristics (IV characteristics).
【図5】入出力インピーダンスモデルの例を示した図で
ある。FIG. 5 is a diagram showing an example of an input / output impedance model.
【図6】電流−電圧特性(I−V特性)を示した図であ
る。FIG. 6 is a diagram showing current-voltage characteristics (IV characteristics).
【図7】プリ/ポストレイアウトSim用の素子データ
を説明するための説明図である。FIG. 7 is an explanatory diagram illustrating element data for pre / post layout Sim.
【図8】入出力電圧特性を示した図である。FIG. 8 is a diagram showing input / output voltage characteristics.
【図9】立ち上がり/立ち下がり時間のデータを示した
図である。FIG. 9 is a diagram showing rise / fall time data.
【図10】電流−電圧をデータ示した図である。FIG. 10 is a diagram showing current-voltage data.
【図11】ウィンドウ・メニューを説明するための説明
図である。FIG. 11 is an explanatory diagram illustrating a window menu.
【図12】従来の素子ライブラリ作成方法を説明するた
めの説明図である。FIG. 12 is an explanatory diagram for explaining a conventional element library creating method.
【図13】シミュレーションの種類を説明するための説
明図である。FIG. 13 is an explanatory diagram for explaining types of simulations.
10 素子ライブラリ自動生成 11 素子ライブラリ編集 10 Element library automatic generation 11 Element library edit
Claims (2)
るスクリーニング及びプリ/ポストレイアウトシミュレ
ーションに必要な素子ライブラリを作成する素子ライブ
ラリ作成方法において、 回路解析結果データ又は業界標準フォーマットデータを
読み込み、その読み込んだデータに基づいて、スクリー
ニング及びプリ/ポストレイアウトシミュレーション用
の素子ライブラリを2つ同時に自動作成することを特徴
とする素子ライブラリ作成方法。1. A device library creating method for creating a device library required for screening and pre / post layout simulation in a printed circuit board and noise analysis, wherein circuit analysis result data or industry standard format data is read, and the read data is read. An element library creating method characterized by automatically creating two element libraries for screening and pre / post layout simulation simultaneously.
ラリ編集用ウィンドウ・メニューを表示させ、その、ウ
ィンドウ・メニューに基づいて、編集データを入力させ
ることを特徴とする請求項1記載の素子ライブラリ作成
方法。2. The element library creating method according to claim 1, wherein a window menu for element library editing is displayed at the time of editing the element library, and edit data is input based on the window menu. .
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7279351A JPH09128412A (en) | 1995-10-26 | 1995-10-26 | Element library preparing method |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7279351A JPH09128412A (en) | 1995-10-26 | 1995-10-26 | Element library preparing method |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH09128412A true JPH09128412A (en) | 1997-05-16 |
Family
ID=17609967
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP7279351A Pending JPH09128412A (en) | 1995-10-26 | 1995-10-26 | Element library preparing method |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH09128412A (en) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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KR20140001578A (en) * | 2012-06-27 | 2014-01-07 | 삼성전자주식회사 | Semiconductor integrated circuit, method of designing the same, and method of fabricating the same |
-
1995
- 1995-10-26 JP JP7279351A patent/JPH09128412A/en active Pending
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