JPH0880492A - Treatment of waste water - Google Patents
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、第４級アンモニウム化
合物を含む排水の処理方法に関する。TECHNICAL FIELD The present invention relates to a method for treating wastewater containing a quaternary ammonium compound.
【０００２】[0002]
【従来の技術】第４級アンモニウム化合物は、従来から
有機合成試薬、触媒、表面改質剤等として広く用いられ
てきたが、近年、浸透性が強い、洗浄時の残留性が少な
い、容易に高純度品が得られる等の性質が注目され、半
導体製造工程において現像液や洗浄液として多用されて
いる。2. Description of the Related Art Quaternary ammonium compounds have been widely used as organic synthesis reagents, catalysts, surface modifiers, etc. in recent years, but in recent years, they have strong penetrability, little residual property at the time of washing, and can be easily used. Attention has been paid to its properties such as high-purity products, and it is often used as a developing solution or a cleaning solution in the semiconductor manufacturing process.
【０００３】最近では、半導体生産量の増加や製造プロ
セスの複雑化により、水酸化テトラメチルアンモニウム
（ＴＭＡＨ）やコリン([HOCH2 CH2 N(CH3 ）3 ] + O
H- ）等の第４級アンモニウム化合物の使用量が急増し
ており、これに伴って第４級アンモニウム化合物を含む
排水も増加している。第４級アンモニウム化合物は窒素
を含有し、河川等にそのまま放流すると湖沼や海洋の富
栄養化を引起こす可能性があるため、何等かの処理を施
す必要がある。Recently, due to an increase in semiconductor production and a complicated manufacturing process, tetramethylammonium hydroxide (TMAH) and choline ([HOCH 2 CH 2 N (CH 3 ) 3 ] + O) are produced.
The amount of quaternary ammonium compounds such as H − ) is rapidly increasing, and accompanying this, the amount of wastewater containing quaternary ammonium compounds is also increasing. The quaternary ammonium compound contains nitrogen, and if it is directly discharged into a river or the like, it may cause eutrophication of lakes and oceans, and therefore some treatment is required.
【０００４】上述したような第４級アンモニウム化合物
を含む排水の処理方法としては、活性汚泥法といった微
生物を用いた処理方法や濃縮して焼却する方法等が知ら
れている。しかし、前者の方法は、プロセスが複雑で設
備が過大となるほか、処理反応が遅いために排水の迅速
処理ができない、微生物を取扱うために排水の組成や濃
度等の運転管理に十分に注意しなければならない等とい
った問題を有している。また、後者の方法では、逆浸透
膜やイオン交換樹脂等を用いて排水を濃縮した後に焼却
処理するため、処理費用がかさむほか、焼却時に発生す
るガスの処理も必要となる等の問題を有している。As a method for treating the wastewater containing the quaternary ammonium compound as described above, there are known a treatment method using microorganisms such as an activated sludge method and a method of concentrating and incinerating. However, in the former method, the process is complicated and the equipment is too large, and the wastewater cannot be swiftly treated because the treatment reaction is slow.Because microorganisms are handled, pay close attention to the operational management of the wastewater composition and concentration. It has problems such as having to do it. In the latter method, wastewater is concentrated using a reverse osmosis membrane, ion exchange resin, etc., and then incinerated.Therefore, the treatment cost is high, and the gas generated during incineration must be treated. are doing.
【０００５】[0005]
【発明が解決しようとする課題】上述したように、従来
の第４級アンモニウム化合物を含む排水の処理方法にお
いて、活性汚泥法等は処理設備が過大となると共に処理
速度が遅く、さらに運転管理が繁雑等といった問題を有
しており、また焼却処理方法は処理費用がかさむと共
に、ガス処理も必要となる等の問題を有していた。As described above, in the conventional method for treating wastewater containing a quaternary ammonium compound, the activated sludge method has an excessive amount of treatment equipment and a low treatment speed, and the operation management is further difficult. There are problems such as complexity, and the incineration method has problems that the processing cost is high and gas processing is also required.
【０００６】本発明は、このような課題に対処するため
になされたもので、簡易な処理設備で、短時間で効率よ
く、かつ周囲の環境等に影響を与えることなく、第４級
アンモニウム化合物を安定に分解処理することを可能に
した排水の処理方法を提供することを目的としている。The present invention has been made in order to solve such a problem, and it is a quaternary ammonium compound, which can be efficiently processed in a short time with simple processing equipment and without affecting the surrounding environment. It is an object of the present invention to provide a method for treating wastewater, which enables stable decomposition treatment of wastewater.
【０００７】[0007]
【課題を解決するための手段と作用】本発明の排水の処
理方法において、請求項１記載の排水の処理方法は、第
４級アンモニウム化合物を含む排水を処理するにあた
り、前記排水に過酸化物および硫黄を含む酸素酸を添加
した後、紫外線を照射することにより、前記第４級アン
モニウム化合物を分解することを特徴としている。ここ
で、硫黄を含む酸素酸とは、中心原子が硫黄である酸素
酸を指し、少なくともその分子構造に硫黄原子を含む酸
素酸を有するものである。In the method for treating wastewater according to the present invention, the method for treating wastewater according to claim 1, wherein the wastewater containing the quaternary ammonium compound is treated with peroxide. After the addition of oxygen acid containing sulfur and sulfur, the quaternary ammonium compound is decomposed by irradiating with ultraviolet rays. Here, the oxygen acid containing sulfur refers to an oxygen acid whose central atom is sulfur, and has an oxygen acid containing a sulfur atom in at least its molecular structure.
【０００８】また、請求項３記載の排水の処理方法は、
上記排水の処理方法において、前記第４級アンモニウム
化合物の分解により生じた含窒素有機化合物を含む排水
に、亜硝酸類および次亜塩素酸類の少なくとも一方を添
加し、前記含窒素有機化合物を分解して、窒素分を窒素
ガスとして除去することを特徴としている。The method for treating wastewater according to claim 3 is
In the above wastewater treatment method, at least one of nitrites and hypochlorous acid is added to wastewater containing a nitrogen-containing organic compound generated by the decomposition of the quaternary ammonium compound to decompose the nitrogen-containing organic compound. The nitrogen content is removed as nitrogen gas.
【０００９】本発明の排水の処理方法は、第４級アンモ
ニウム化合物を含む排水を処理する方法であり、処理対
象となる第４級アンモニウム化合物としては、例えば水
酸化テトラメチルアンモニウム（ＴＭＡＨ）、水酸化テ
トラブチルアンモニウム、コリン([HOCH2 CH2 N(CH3 ）
3 ] + OH- ）等の水酸化第４級アンモニウムや、その硫
酸塩、塩酸塩、硝酸塩等の無機塩類、酢酸塩等の有機塩
類等が挙げられる。処理対象の第４級アンモニウム化合
物は、排水中に単独で存在していてもよいし、また 2種
以上の混合物として存在していてもよい。The wastewater treatment method of the present invention is a method of treating wastewater containing a quaternary ammonium compound, and examples of the quaternary ammonium compound to be treated include tetramethylammonium hydroxide (TMAH) and water. Tetrabutylammonium oxide, choline ([HOCH 2 CH 2 N (CH 3 )
3] + OH -) or a quaternary ammonium hydroxide such as, the sulfates, hydrochlorides, inorganic salts nitrate, and organic salts such as acetate salts. The quaternary ammonium compound to be treated may be present alone in the wastewater, or may be present as a mixture of two or more kinds.
【００１０】排水中の第４級アンモニウム化合物の濃度
は、 100〜 2000mg/dm3 の範囲であることが好ましい。
特に、第４級アンモニウム化合物の濃度が低すぎると処
理効率が低下し、処理設備と処理費用の増大を招くた
め、例えば逆浸透膜のような分離膜やイオン交換樹脂等
を用いて、上記濃度範囲まで濃縮することが好ましい。
また、第４級アンモニウム化合物の濃度があまり高すぎ
ても、処理効率の低下を招くおそれがあるため、他の排
水等で希釈することが好ましい。The concentration of the quaternary ammonium compound in the waste water is preferably in the range of 100 to 2000 mg / dm 3 .
In particular, when the concentration of the quaternary ammonium compound is too low, the treatment efficiency is lowered and the treatment equipment and the treatment cost are increased. Therefore, for example, a separation membrane such as a reverse osmosis membrane or an ion exchange resin is used, and the above concentration is increased. It is preferred to concentrate to a range.
Further, if the concentration of the quaternary ammonium compound is too high, the treatment efficiency may be deteriorated, so it is preferable to dilute the quaternary ammonium compound with other waste water or the like.
【００１１】なお、本発明により処理する排水中には、
上記第４級アンモニウム化合物以外の成分、例えばアル
コール等の有機溶剤、インデンカルボン酸のような感光
性樹脂に由来する化合物等が共存していてもよく、同時
に分解可能である場合もあるが、それら他の成分が第４
級アンモニウム化合物の分解処理を妨げる場合には、予
め除去することが好ましい。In the wastewater treated according to the present invention,
Components other than the quaternary ammonium compound, for example, organic solvents such as alcohol, compounds derived from a photosensitive resin such as indenecarboxylic acid may coexist, and in some cases, they may be decomposed at the same time. Other ingredients are fourth
If it interferes with the decomposition treatment of the quaternary ammonium compound, it is preferably removed in advance.
【００１２】本発明の排水の処理方法においては、上述
したような第４級アンモニウム化合物を含む排水に、過
酸化物および硫黄を含む酸素酸を添加する。ここで、本
発明で用いる過酸化物としては、酸素−酸素結合を有し
ているものであればよく、例えば過酸化水素(H2 O
2 ）、ペルオキソ二硫酸カリウム(K2 S 2 O 8 ）等が
挙げられ、特に過酸化水素が安価で処理後の排水に悪影
響を及ぼさないこと等から好ましく用いられる。硫黄を
含む酸素酸としては、硫酸(H2 SO4 ）、カロ酸(H2 S
O5 ）、二硫酸(H2 S 2 O 7 ）等が例示される。また、
硫酸カリウムのような硫酸塩と塩酸等の他の酸との混合
物も、機能的には硫黄を含む酸素酸として働くため、本
発明で用いることができる。これらのうち、特に硫酸が
入手が容易で安価であること等から好ましく用いられ
る。In the wastewater treatment method of the present invention, an oxygen acid containing peroxide and sulfur is added to the wastewater containing the quaternary ammonium compound as described above. Here, the peroxide used in the present invention may be one having an oxygen-oxygen bond, for example, hydrogen peroxide (H 2 O
2 ), potassium peroxodisulfate (K 2 S 2 O 8 ), and the like, and hydrogen peroxide is particularly preferable because it is inexpensive and does not adversely affect the wastewater after treatment. Oxygen acids containing sulfur include sulfuric acid (H 2 SO 4 ), caroic acid (H 2 S
O 5 ), disulfuric acid (H 2 S 2 O 7 ) and the like are exemplified. Also,
A mixture of a sulfate salt such as potassium sulfate and another acid such as hydrochloric acid can also be used in the present invention since it functionally acts as an oxygen acid containing sulfur. Of these, sulfuric acid is particularly preferably used because it is easily available and inexpensive.
【００１３】次に、過酸化物および硫黄を含む酸素酸を
添加した排水に紫外線を照射する。この紫外線照射によ
り、過酸化物は酸化反応に富む活性種を生成し、この活
性種が排水中の第４級アンモニウム化合物を含めて有機
物を酸化分解する。ここで、排水中に過酸化物のみを添
加した場合、添加した過酸化物の全てが活性種を生成す
るわけではなく、かなりの部分が自己分解し、例えば過
酸化水素であれば酸素、水素、水等になってしまい、有
機物を効率よく分解することができない。特に、ＴＭＡ
Ｈやコリン等の第４級アンモニウム化合物を含む排水
は、一般に強アルカリ性であり、過酸化物の自己分解は
このような強アルカリ性溶液において著しい。Next, ultraviolet rays are applied to the waste water to which the peroxide and the oxygen acid containing sulfur are added. By this ultraviolet irradiation, the peroxide produces active species rich in oxidation reaction, and these active species oxidatively decompose organic substances including the quaternary ammonium compound in the waste water. Here, when only peroxide is added to the wastewater, not all of the added peroxide produces active species, but a considerable part self-decomposes. However, it becomes water, etc., and the organic substances cannot be decomposed efficiently. Especially TMA
Wastewater containing quaternary ammonium compounds such as H and choline is generally strongly alkaline, and the self-decomposition of peroxide is remarkable in such strongly alkaline solution.
【００１４】そこで、本発明においては、排水に過酸化
物と共に硫黄を含む酸素酸を添加する。硫黄を含む酸素
酸は、排水のpHを弱アルカリ性から酸性の範囲にして過
酸化物の自己分解を抑制すると共に、それ自体が過酸化
物の自己分解抑制機能を有しているため、過酸化物から
生成された活性種を効率よく第４級アンモニウム化合物
の分解に使用することが可能となる。さらに、硫黄を含
む酸素酸は、その一部が活性種を生成し、この活性種も
排水中の第４級アンモニウム化合物の分解に寄与する。Therefore, in the present invention, an oxygen acid containing sulfur is added to the waste water together with the peroxide. Oxygen acid containing sulfur suppresses the self-decomposition of peroxides by adjusting the pH of wastewater to a range from weak alkaline to acidic, and also has the function of suppressing the self-decomposition of peroxides. The active species generated from the product can be efficiently used for decomposing the quaternary ammonium compound. Furthermore, a part of the oxygen acid containing sulfur produces active species, and this active species also contributes to the decomposition of the quaternary ammonium compound in the waste water.
【００１５】硫黄を含む酸素酸は、添加後の排水のpHが
0〜 9の範囲となるように添加することが好ましい。添
加後のpHが 9を超えていると、過酸化物の自己分解を十
分に抑制することができない。より好ましい硫黄を含む
酸素酸の添加によるpHは 0〜7の範囲であり、添加後のp
Hを 7以下とすることによって、上記硫黄を含む酸素酸
からの活性種濃度を高くすることができる。さらに望ま
しいpH値は 0〜 5の範囲である。Oxygen acid containing sulfur has a pH of wastewater after addition.
It is preferable to add it in a range of 0 to 9. If the pH after addition exceeds 9, the self-decomposition of peroxide cannot be sufficiently suppressed. The more preferable pH by addition of sulfur-containing oxyacid is in the range of 0 to 7,
By setting H to be 7 or less, the concentration of active species from the oxygen acid containing sulfur can be increased. A more desirable pH value is in the range of 0-5.
【００１６】また、過酸化物の添加量は、上記硫黄を含
む酸素酸による効果を考慮した上で、排水中のＴＯＣ
（Total Organic Carbon：全炭素量）値に対して0.01〜
20当量の範囲とすることが好ましい。排水中のＴＯＣ値
に対する過酸化物の添加量が0.01当量未満であると、第
４級アンモニウム化合物を十分に分解することができ
ず、また20当量を超えると過酸化物の自己分解が生じや
すくなる。より好ましい過酸化物の添加量は0.01〜 5当
量の範囲であり、 5当量以下とすることによって、より
一層過酸化物の自己分解を抑制することができる。な
お、排水中に予め過酸化物が含まれている場合には、そ
の量を考慮して添加量を決定することが好ましい。The amount of peroxide added should be determined by taking into consideration the effect of the oxygen acid containing sulfur, and the TOC in the waste water.
0.01 to the (Total Organic Carbon) value
It is preferably in the range of 20 equivalents. If the amount of peroxide added to the TOC value in the wastewater is less than 0.01 equivalent, the quaternary ammonium compound cannot be sufficiently decomposed, and if it exceeds 20 equivalents, the self-decomposition of the peroxide tends to occur. Become. The more preferable addition amount of the peroxide is in the range of 0.01 to 5 equivalents, and by setting it to 5 equivalents or less, the self decomposition of the peroxide can be further suppressed. When the wastewater contains a peroxide in advance, it is preferable to determine the addition amount in consideration of the amount.
【００１７】過酸化物および硫黄を含む酸素酸の排水に
対する添加は、同時に添加してもよいし、また個別に添
加してもよいが、まず排水に過酸化物を添加した後に硫
黄を含む酸素酸を添加することが好ましい。これによ
り、容易にpH調整ができ、処理操作の簡素化が可能とな
る。また、過酸化物や硫黄を含む酸素酸は、他の半導体
製造工程等から使用済廃液として排出されたものを用い
てもよいが、それらの濃度に応じて上記条件を満足する
ように添加量を設定することが好ましい。The peroxide and the oxygen acid containing sulfur may be added to the wastewater at the same time or separately. However, the peroxide is first added to the wastewater and then the oxygen containing sulfur is added. It is preferable to add an acid. As a result, the pH can be easily adjusted and the processing operation can be simplified. Further, as the oxygen acid containing peroxide and sulfur, those discharged as used waste liquid from other semiconductor manufacturing processes may be used, but the amount added so that the above conditions are satisfied depending on their concentrations. Is preferably set.
【００１８】上述したように、第４級アンモニウム化合
物を含む排水に、過酸化物と硫黄を含む酸素酸を添加し
た後、紫外線例えば紫外線ランプ光を照射することによ
って、過酸化物から酸化反応に富む活性種が生成され、
主にこの活性種により排水中の第４級アンモニウム化合
物が分解される。As described above, after adding the oxygen acid containing peroxide and sulfur to the wastewater containing the quaternary ammonium compound, the peroxide is subjected to an oxidation reaction by irradiating with ultraviolet rays, for example, ultraviolet lamp light. Rich active species are generated,
The active species mainly decompose the quaternary ammonium compound in the wastewater.
【００１９】以上のようにして、排水中の第４級アンモ
ニウム化合物は、主にモノメチルアミンのような低分子
量のアミン類、アンモニア等の含窒素化合物や、メタノ
ール等の低級アルコール等に分解される。場合によって
は、このまま放流することも可能であるが、さらに上記
含窒素化合物の分解処理等を行って、排水中の窒素分を
低減することが好ましい。As described above, the quaternary ammonium compound in the waste water is mainly decomposed into low molecular weight amines such as monomethylamine, nitrogen-containing compounds such as ammonia, and lower alcohols such as methanol. . In some cases, it can be discharged as it is, but it is preferable to further decompose the nitrogen-containing compound to reduce the nitrogen content in the waste water.
【００２０】上記含窒素化合物の分解処理としては、亜
硝酸類（亜硝酸およびその塩）および次亜塩素酸類（次
亜塩素酸およびその塩）の少なくとも一方を用いて行う
ことが好ましい。例えば、上記紫外線照射後の排水は、
pH 0〜 7程度の酸性状態であるため、ここに例えば亜硝
酸ナトリウムのような亜硝酸塩を添加すると、反応が起
こって亜硝酸が生成する。この亜硝酸は、モノメチルア
ミン等の低分子量アミン類を分解し、窒素ガス、低級ア
ルコール、水等を生成する。同様に、例えば次亜塩素酸
ナトリウムのような次亜塩素酸塩を添加すると、アンモ
ニアが酸化分解されて窒素ガス等が生成する。The decomposition treatment of the nitrogen-containing compound is preferably carried out using at least one of nitrous acid (nitrous acid and its salt) and hypochlorous acid (hypochlorous acid and its salt). For example, the wastewater after the ultraviolet irradiation is
Since the pH is in an acidic state of about 0 to 7, when a nitrite such as sodium nitrite is added thereto, a reaction occurs and nitrous acid is produced. This nitrous acid decomposes low molecular weight amines such as monomethylamine to produce nitrogen gas, lower alcohol, water and the like. Similarly, when a hypochlorite such as sodium hypochlorite is added, ammonia is oxidatively decomposed to generate nitrogen gas and the like.
【００２１】第４級アンモニウム化合物の分解により生
じる生成物は、低分子量アミン類とアンモニアを主とす
るため、亜硝酸類と次亜塩素酸類を共に添加することが
好ましい。また、亜硝酸類と次亜塩素酸類の添加は、同
時に行ってもよいが、別々に行うことが好ましい。亜硝
酸類や次亜塩素酸類の添加量は、第４級アンモニウム化
合物の分解により生じた低分子量アミン類やアンモニア
に対して 2〜25当量程度とすることが好ましい。Since the products produced by the decomposition of the quaternary ammonium compound are mainly low molecular weight amines and ammonia, it is preferable to add nitrites and hypochlorous acid together. Further, the nitrites and the hypochlorous acid may be added at the same time, but it is preferable to add them separately. The addition amount of nitrites and hypochlorous acid is preferably about 2 to 25 equivalents with respect to low molecular weight amines and ammonia generated by decomposition of the quaternary ammonium compound.
【００２２】上記亜硝酸類や次亜塩素酸類により生成し
た窒素ガスは、自然脱気により除去するようにしてもよ
いが、例えば空気によるバブリング等の曝気を行うこと
によって、排水中から速かに除去することも可能であ
る。The nitrogen gas generated by the above nitrites and hypochlorous acid may be removed by natural deaeration, but by aeration such as bubbling with air, the nitrogen gas can be quickly removed from the wastewater. It is also possible to remove it.
【００２３】[0023]
【実施例】次に、本発明の実施例について説明する。EXAMPLES Next, examples of the present invention will be described.
【００２４】実施例１ この実施例による排水の処理工程を、図１に従って説明
する。この実施例では、シリコンウエハの現像工程で使
用されたＴＭＡＨを主として含む半導体製造工程排水を
処理対象とした。この排水の性状は、ＴＭＡＨ濃度=105
0mg/dm3 、全窒素濃度= 130mg/dm3 、 pH=10.5であっ
た。また、この排水中には、ＴＭＡＨ以外に感光性樹脂
に由来すると思われる有機物や2-プロパノール等が含ま
れており、ＴＯＣ値は850mg/dm3 であった。Example 1 The process of treating wastewater according to this example will be described with reference to FIG. In this example, wastewater in the semiconductor manufacturing process mainly containing TMAH used in the developing process of the silicon wafer was treated. The property of this drainage is TMAH concentration = 105
The concentration was 0 mg / dm 3 , total nitrogen concentration = 130 mg / dm 3 , and pH = 10.5. In addition to TMAH, the wastewater also contained organic substances, such as 2-propanol, which are considered to be derived from the photosensitive resin, and had a TOC value of 850 mg / dm 3 .
【００２５】まず、 500mlの上記被処理排水１を紫外線
分解槽２に導入した。紫外線分解槽２の内部には、出力
20Wの低圧水銀ランプが設置されており、主波長 254nm
の紫外線を照射することができるようになっている。被
処理排水に過酸化水素(35%)を 1ml（被処理排水中のＴ
ＯＣ値に対して 1.2当量に相当）添加し、さらに硫酸を
用いて排水のpHを 2に調節した後、被処理排水を撹拌し
ながら上記紫外線を 2時間照射した。First, 500 ml of the treated waste water 1 was introduced into the ultraviolet decomposition tank 2. Output inside the UV decomposition tank 2
A 20 W low-pressure mercury lamp is installed and the main wavelength is 254 nm.
It can be irradiated with ultraviolet rays. 1 ml of hydrogen peroxide (35%) in the treated wastewater (T in the treated wastewater
(Equivalent to 1.2 equivalent to OC value) was added, and the pH of the wastewater was adjusted to 2 with sulfuric acid, and then the above-mentioned ultraviolet rays were irradiated for 2 hours while stirring the wastewater to be treated.
【００２６】次に、過酸化水素および硫酸で処理された
被処理排水を化学脱窒槽３に移し、亜硝酸ナトリウム5g
を添加した後、空気でバブリングしながら撹拌した。約
15分間のバブリングの後、処理済排水４を化学脱窒槽３
から排出した。Next, the treated wastewater treated with hydrogen peroxide and sulfuric acid is transferred to the chemical denitrification tank 3, and 5 g of sodium nitrite is added.
Was added, and the mixture was stirred while bubbling with air. about
After bubbling for 15 minutes, the treated wastewater 4 is treated with a chemical denitrification tank 3
Discharged from.
【００２７】このようにして処理した処理済排水の性状
を、イオンクロマトグラフィ等を用いて調べた。その結
果、ＴＭＡＨ濃度は150mg/dm3 と処理前の濃度に対して
約15%となっていた。また、全窒素濃度は 40mg/dm
3 で、処理前の濃度に対して約30%であり、窒素分が減
少していることを確認した。The properties of the treated effluent treated in this manner were examined by using ion chromatography or the like. As a result, the TMAH concentration was 150 mg / dm 3 , which was about 15% of the concentration before treatment. The total nitrogen concentration is 40 mg / dm
In 3 , it was confirmed that the concentration was about 30% of the concentration before the treatment, and the nitrogen content was reduced.
【００２８】実施例２ 上記実施例１における過酸化水素(35%) に代えて、他の
半導体製造工程で用いた過酸化水素と硫酸との混合廃液
を用いた。混合廃液における過酸化水素濃度は35%以下
であったが、過酸化水素の絶対添加量が実施例１と等し
くなるように添加量を設定した。さらに、硫酸を用いて
pHを 5に調整したが、硫酸の添加量は実施例１に比べて
はるかに少ない量とすることができた。これら以外の処
理条件は、実施例１と同一条件とした。Example 2 Instead of hydrogen peroxide (35%) in Example 1 above, a mixed waste liquid of hydrogen peroxide and sulfuric acid used in another semiconductor manufacturing process was used. The hydrogen peroxide concentration in the mixed waste liquid was 35% or less, but the addition amount was set so that the absolute addition amount of hydrogen peroxide was equal to that in Example 1. Furthermore, with sulfuric acid
Although the pH was adjusted to 5, the addition amount of sulfuric acid could be made much smaller than that in Example 1. The other processing conditions were the same as in Example 1.
【００２９】上記したような条件下で、実施例１と同一
の被処理排水を処理したところ、処理済排水のＴＭＡＨ
濃度および全窒素濃度は、処理前のそれに比べて約 20%
および約 35%と低減することができた。これらの値は実
施例１よりは高いものの、第４級アンモニウム化合物の
処理結果としては十分であり、また混合廃液を再利用し
ていることから処理コストの低減には有効であった。When the same treated wastewater as in Example 1 was treated under the above-mentioned conditions, TMAH of the treated wastewater was obtained.
Concentration and total nitrogen concentration are about 20% compared to before treatment
And could be reduced to about 35%. Although these values are higher than those in Example 1, they are sufficient as the treatment result of the quaternary ammonium compound, and since the mixed waste liquid is reused, it was effective in reducing the treatment cost.
【００３０】実施例３ 化学脱窒槽３において、亜硝酸ナトリウム5gを添加し、
空気でバブリングしながら約15分間撹拌した後、さらに
次亜塩素酸ナトリウム5gを添加し、空気でバブリングし
ながら約15分間撹拌する以外は、実施例１と同一条件下
で、同一の被処理排水を処理した。Example 3 In a chemical denitrification tank 3, 5 g of sodium nitrite was added,
After stirring for about 15 minutes while bubbling with air, 5 g of sodium hypochlorite was further added, and the same treated wastewater was treated under the same conditions as in Example 1 except that stirring was performed for about 15 minutes while bubbling with air. Was processed.
【００３１】このようにして処理した処理済排水のＴＭ
ＡＨ濃度および全窒素濃度は、処理前のそれに比べて約
15%および約 12%であった。実施例１による処理結果と
比較すると、ＴＭＡＨ濃度は同じであるが、全窒素濃度
が減少しており、次亜塩素酸ナトリウムによりアンモニ
ア類の分解処理がなされたことを確認した。TM of the treated wastewater treated in this way
The AH concentration and total nitrogen concentration are about the same as before treatment.
15% and about 12%. Compared with the treatment results according to Example 1, it was confirmed that the TMAH concentration was the same, but the total nitrogen concentration was decreased, and the decomposition treatment of ammonia was performed with sodium hypochlorite.
【００３２】なお、上記実施例においては、ＴＭＡＨを
主として含む排水の処理を例として説明したが、それ以
外の第４級アンモニウム化合物を含む排水についても、
同様な処理が可能であった。また、紫外線による分解以
降の処理については、生物処理等を適用することも可能
であるが、処理設備、処理費用、処理効率等の点から、
上記各実施例で示したように、亜硝酸類や次亜塩素酸類
を用いた化学処理を行うことが好ましい。In the above embodiments, the treatment of wastewater mainly containing TMAH has been described as an example, but the wastewater containing other quaternary ammonium compounds is also treated as follows.
Similar processing was possible. Further, for the treatment after decomposition by ultraviolet rays, biological treatment and the like can be applied, but in terms of treatment equipment, treatment cost, treatment efficiency, etc.,
As shown in each of the above examples, it is preferable to perform a chemical treatment using nitrous acid or hypochlorous acid.
【００３３】[0033]
【発明の効果】以上説明したように、請求項１記載の排
水の処理方法によれば、簡易な処理設備・装置で、第４
級アンモニウム化合物を効率よく、また周囲の環境等に
影響を与えることなく、安定かつ安価に分解処理するこ
とが可能となる。また、請求項３記載の排水の処理方法
によれば、さらに排水中の窒素分を効率よくかつ安定し
て除去することができるため、水質の重要な指標の一つ
である全窒素濃度を極めて低くすることができ、よって
安全に河川等に放流することが可能となる。As described above, according to the wastewater treatment method of the first aspect, a simple treatment facility / apparatus can be used.
It is possible to decompose the quaternary ammonium compound efficiently and stably and inexpensively without affecting the surrounding environment. Further, according to the wastewater treatment method of claim 3, since the nitrogen content in the wastewater can be further efficiently and stably removed, the total nitrogen concentration, which is one of the important indicators of water quality, is extremely high. It can be lowered and thus can be safely discharged to rivers and the like.
【図１】 本発明の一実施例による排水の処理工程を示
す図である。FIG. 1 is a diagram showing a wastewater treatment process according to an embodiment of the present invention.
１……被処理排水 ２……紫外線分解槽 ３……化学脱窒槽 ４……処理済排水 1 ... Treated wastewater 2 ... UV decomposition tank 3 ... Chemical denitrification tank 4 ... Treated wastewater
Claims (3)
処理するにあたり、 前記排水に過酸化物および硫黄を含む酸素酸を添加した
後、紫外線を照射することにより、前記第４級アンモニ
ウム化合物を分解することを特徴とする排水の処理方
法。1. When treating wastewater containing a quaternary ammonium compound, the quaternary ammonium compound is decomposed by irradiating with ultraviolet rays after adding an oxygen acid containing peroxide and sulfur to the wastewater. A method for treating wastewater, which comprises:
て、 前記過酸化物を前記排水中のＴＯＣ値に対して0.01〜20
当量となるように添加すると共に、前記硫黄を含む酸素
酸を前記排水のpHが 0〜 9の範囲となるように添加する
ことを特徴とする排水の処理方法。2. The method for treating wastewater according to claim 1, wherein the peroxide is 0.01 to 20 relative to the TOC value in the wastewater.
A method for treating wastewater, which is characterized in that the oxygen acid containing sulfur is added in an equivalent amount so that the pH of the wastewater is in the range of 0 to 9.
理方法において、 前記第４級アンモニウム化合物の分解により生じた含窒
素有機化合物を含む排水に、亜硝酸類および次亜塩素酸
類の少なくとも一方を添加し、前記含窒素有機化合物を
分解して、窒素分を窒素ガスとして除去することを特徴
とする排水の処理方法。3. The method for treating wastewater according to claim 1, wherein the wastewater containing the nitrogen-containing organic compound produced by the decomposition of the quaternary ammonium compound is at least nitrous acid and hypochlorous acid. A method for treating wastewater, characterized in that one of them is added to decompose the nitrogen-containing organic compound to remove a nitrogen content as nitrogen gas.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21975394A JPH0880492A (en) | 1994-09-14 | 1994-09-14 | Treatment of waste water |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21975394A JPH0880492A (en) | 1994-09-14 | 1994-09-14 | Treatment of waste water |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0880492A true JPH0880492A (en) | 1996-03-26 |
Family
ID=16740467
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP21975394A Withdrawn JPH0880492A (en) | 1994-09-14 | 1994-09-14 | Treatment of waste water |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0880492A (en) |
-
1994
- 1994-09-14 JP JP21975394A patent/JPH0880492A/en not_active Withdrawn
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