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JPH0869696A - Semiconductor memory device - Google Patents

Semiconductor memory device

Info

Publication number
JPH0869696A
JPH0869696A JP20618294A JP20618294A JPH0869696A JP H0869696 A JPH0869696 A JP H0869696A JP 20618294 A JP20618294 A JP 20618294A JP 20618294 A JP20618294 A JP 20618294A JP H0869696 A JPH0869696 A JP H0869696A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
word lines
array
page
read
memory cell
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP20618294A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Yasushi Sakui
康司 作井
Takeshi Takeuchi
健 竹内
Kazunori Ouchi
和則 大内
Fujio Masuoka
富士雄 舛岡
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toshiba Corp filed Critical Toshiba Corp
Priority to JP20618294A priority Critical patent/JPH0869696A/en
Publication of JPH0869696A publication Critical patent/JPH0869696A/en
Pending legal-status Critical Current

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Landscapes

  • Read Only Memory (AREA)
  • Semiconductor Memories (AREA)
  • Non-Volatile Memory (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】 ページリードとランダムリードを可能とし、
特に円滑なページリードと高速な書き込みを可能とした
半導体記憶装置を提供すること。 【構成】 互いに直交する複数本ずつのワード線WLと
ビット線BLとが配設され、これらワード線WLとビッ
ト線BLとの各交差部に書き替え可能なメモリセルMが
配置されたアレイを2つのサブアレイl,rに分割した
半導体記憶装置において、読み出し動作では、アレイ分
割されたワード線WLを1本ずつ順次選択し、書き込み
動作では、アレイ分割されたワード線WLの2本を同時
に選択することを特徴とする。
(57) [Summary] [Purpose] Enables page read and random read,
To provide a semiconductor memory device capable of particularly smooth page reading and high-speed writing. An array in which a plurality of word lines WL and a plurality of bit lines BL orthogonal to each other are arranged, and a rewritable memory cell M is arranged at each intersection of the word lines WL and the bit lines BL is provided. In a semiconductor memory device divided into two sub-arrays 1 and r, an array-divided word line WL is sequentially selected one by one in a read operation, and two array-divided word lines WL are simultaneously selected in a write operation. It is characterized by doing.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、ランダムリードとペー
ジリードを可能とした半導体記憶装置に係わり、特に読
み出し動作と書き込み動作で選択されるワード線の本数
を変えた半導体記憶装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor memory device capable of random read and page read, and more particularly to a semiconductor memory device in which the number of word lines selected in a read operation and a write operation is changed.

【0002】[0002]

【従来の技術】電気的書き替え可能とした不揮発性半導
体装置(EEPROM)の中で高集積化可能なものとし
て、NAND型EEPROMが知られている。このEE
PROMでは、1つのメモリセルは基板上に絶縁膜を介
して浮遊ゲートと制御ゲートが積層されたFETMOS
構造を有し、複数個のメモリセルが隣接するもの同士で
そのソース,ドレインを共有する形で直列接続されてN
ANDセルを構成している。
2. Description of the Related Art Among electrically rewritable non-volatile semiconductor devices (EEPROMs), a NAND type EEPROM is known as one that can be highly integrated. This EE
In a PROM, one memory cell is a FETMOS in which a floating gate and a control gate are laminated on a substrate with an insulating film interposed.
A plurality of memory cells having a structure are connected in series in such a manner that their sources and drains are shared by adjacent ones.
It constitutes an AND cell.

【0003】NANDセルの一端側ドレインは選択ゲー
トを介してビット線に接続され、他端側ソースはやはり
選択ゲートを介して共通ソース線に接続される。メモリ
セルの制御ゲートは、行方向に連続的に接続されてワー
ド線となる。通常、同一ワード線につながるメモリセル
の集合を1ページと呼び、1組のドレイン側及びソース
側の選択ゲートによって挟まれたページの集合を1NA
NDブロック又は単に1ブロックと呼ぶ。メモリセルア
レイは通常、n型半導体基板に形成されたp型ウエル内
に形成される。
The drain on one end side of the NAND cell is connected to the bit line via the select gate, and the source on the other end side is also connected to the common source line via the select gate. The control gates of the memory cells are continuously connected in the row direction to form word lines. Usually, a set of memory cells connected to the same word line is called a page, and a set of pages sandwiched by a set of drain side and source side select gates is 1NA.
It is called an ND block or simply one block. The memory cell array is usually formed in a p-type well formed in an n-type semiconductor substrate.

【0004】NAND型EEPROMの動作は、次の通
りである。データ書き込みは、ビット線から遠い方のメ
モリセルから順に行う。選択されたメモリセルの制御ゲ
ートには昇圧された書き込み電位Vpp(=20V程度)
を印加し、他の非選択メモリセルの制御ゲート及び選択
ゲートには中間電位(=10V程度)を印加し、ビット
線にはデータに応じて0V(“0”書き込み)又は中間
電位(“1”書き込み)を印加する。このとき、ビット
線の電位は選択メモリセルに伝達される。データ“0”
の時は、選択メモリセルの浮遊ゲートと基板間に高電圧
がかかり、基板から浮遊ゲートに電子がトンネル注入さ
れてしきい値が正方向に移動する。データ“1”のとき
はしきい値は変化しない。
The operation of the NAND type EEPROM is as follows. Data writing is performed in order from the memory cell farther from the bit line. The boosted write potential Vpp (= about 20V) is applied to the control gate of the selected memory cell.
Is applied to the control gates and select gates of the other non-selected memory cells, and an intermediate potential (= about 10V) is applied to the bit lines. “Write” is applied. At this time, the potential of the bit line is transmitted to the selected memory cell. Data “0”
At this time, a high voltage is applied between the floating gate of the selected memory cell and the substrate, and electrons are tunnel-injected from the substrate to the floating gate to shift the threshold value in the positive direction. When the data is "1", the threshold value does not change.

【0005】データ消去は、NANDセル内の全てのメ
モリセルに対してほぼ同時に行われる。即ち、全ての制
御ゲート,選択ゲートを0Vとし、p型ウエル及びn型
基板に昇圧された消去電位VppE (20V程度)を印加
する。これにより、全てのメモリセルにおいて浮遊ゲー
トの電子がウエルに放出され、しきい値が負方向に移動
する。
Data erasing is performed on all the memory cells in the NAND cell almost at the same time. That is, all control gates and select gates are set to 0V, and the boosted erase potential VppE (about 20V) is applied to the p-type well and the n-type substrate. As a result, in all the memory cells, electrons in the floating gate are emitted to the well, and the threshold value moves in the negative direction.

【0006】データ読み出しは、選択されたメモリセル
の制御ゲートを0Vとし、それ以外のメモリセルの制御
ゲート及び選択ゲートを電源電位Vccとして、選択メモ
リセルで電流が流れるか否かを検出することにより行わ
れる。
For data reading, the control gate of the selected memory cell is set to 0 V, and the control gate and the selection gate of the other memory cells are set to the power supply potential Vcc to detect whether or not a current flows in the selected memory cell. Done by.

【0007】NAND型EEPROMでは、メモリセル
を直列に接続しているためにセル電流が小さく、ビット
線の放電には数μs要する。よって、ランダムリードに
は約10μsかかる。データは1ページ分、センスアン
プ兼データラッチ回路にラッチされる。ページリード
は、このラッチデータを読み出すだけであるから約10
0nsで読める。例えば、ページ長が256バイトのも
ので、1ページのデータを読み出すためには、ランダム
リード1回とページリード255回で 10+0.1×255〜35μs の時間を要する。よって、複数のページにわたるデータ
を読み出す場合には、ページの切り替え部で10μsの
ランダムリード動作を必要とする。
In the NAND type EEPROM, since the memory cells are connected in series, the cell current is small and it takes several μs to discharge the bit line. Therefore, random read takes about 10 μs. Data for one page is latched by the sense amplifier / data latch circuit. Page read only reads this latched data, so about 10
It can be read in 0 ns. For example, if the page length is 256 bytes, it takes 10 + 0.1 × 255 to 35 μs for one random read and 255 page reads to read one page of data. Therefore, when reading the data over a plurality of pages, the page switching unit requires a random read operation of 10 μs.

【0008】ページ切り替え時のランダムリード動作を
なくして見かけ上ページリードのサイクルで複数ページ
のデータを読み出す方法として、例えばメモリセルアレ
イとセンスアンプ兼ラッチ回路を2分割してランダムリ
ードとページリードを同時に行う方法がある(特願平4
−157831号)。この方法では、2分割したメモリ
セルアレイの一方でページ読み出し動作をしている間
に、他方でランダムリード動作を行うことによって、ペ
ージの切り替わり点でランダムリード動作を挟むことな
く、ページリードのタイミングを保ったまま複数のペー
ジにわたるデータを読み出すことができる。
As a method of eliminating the random read operation at the time of page switching and reading data of a plurality of pages in an apparent page read cycle, for example, the memory cell array and the sense amplifier / latch circuit are divided into two, and the random read and the page read are simultaneously performed. There is a way to do it (Japanese Patent Application No. 4)
-157831). In this method, the page read operation is performed while the page read operation is performed on the one side of the memory cell array divided into two, and the random read operation is not performed at the switching point of the pages by performing the random read operation on the other side. It is possible to read data over multiple pages while maintaining the same.

【0009】このように、メモリセルアレイを複数個の
サブアレイに分割し、ページ切り替え時の無駄時間をな
くすことによって、円滑なシリアル読み出しが実現でき
る。従って、半導体記憶装置の高密度が進むに従って、
高速かつ円滑な読み出しを実現するためには、サブアレ
イ化を進め、ワード線を分割し、ページサイズを縮小し
ていく方向にある。
Thus, by dividing the memory cell array into a plurality of sub-arrays and eliminating the dead time at the time of page switching, smooth serial reading can be realized. Therefore, as the density of semiconductor memory devices increases,
In order to realize high-speed and smooth reading, there is a trend toward promoting sub-arraying, dividing word lines, and reducing page size.

【0010】しかしながら、ページサイズを縮小化する
と、書き込みに時間がかかる問題が生じる。例えば、ペ
ージ長が256バイトのNAND型EEPROMをペー
ジ長256バイトの場合と64バイトずつの4分割にし
た場合とで、1バイト当たりの書き込み時間を比較す
る。
However, when the page size is reduced, there is a problem that writing takes time. For example, the write time per byte is compared between a case where the NAND type EEPROM having a page length of 256 bytes has a page length of 256 bytes and a case where the page length is divided into four 64 bytes.

【0011】まず、ページ長256バイトの場合、デー
タロード時間に 50ns×256=12.8μs かかり、書き込み確認読み出しを含んだワード線選択の
書き込み時間を300μsとすると、1ページ256バ
イトの書き込み時間は、 12.8+300=312.8μs となり、1バイト当りの書き込み時間は、1.22μs
となる。
First, if the page length is 256 bytes, the data load time is 50 ns × 256 = 12.8 μs, and if the write time for word line selection including the write confirmation read is 300 μs, the write time for 256 bytes per page is , 12.8 + 300 = 312.8 μs, and the write time per byte is 1.22 μs.
Becomes

【0012】しかし、1ページを4分割に64バイトず
つにすると、データロード時間に 50ns×64=3.2μs かかり、書き込み確認読み出しを含んだワード線選択の
書き込み時間に300μsかかる。この書き込み確認読
み出しを含んだワード線選択の書き込み時間が300μ
sとページサイズによらず同一なのは1ページ一括で書
き込みと、書き込み確認読み出しを行っているためであ
る。従って、1ページ64バイトの書き込み時間は 3.2+300=303.2μs となり、1バイト当りの書き込み時間は、4.74μs
となる。
However, if one page is divided into 4 bytes by 64 bytes, the data load time is 50 ns × 64 = 3.2 μs, and the write time for word line selection including the write confirmation read is 300 μs. Write time for word line selection including this write confirmation read is 300μ
s and the page size are the same regardless of the page size because writing and reading confirmation are performed collectively for one page. Therefore, the write time per page of 64 bytes is 3.2 + 300 = 303.2 μs, and the write time per byte is 4.74 μs.
Becomes

【0013】上記のように、ページサイズを分割してい
くと、その分割数に応じて、1バイト当りの書き込み時
間が長くなり、例えばページサイズが4分割されると、
1バイト当りの書き込み時間は約4倍となる問題があっ
た。
As described above, when the page size is divided, the writing time per byte becomes longer according to the number of divisions. For example, when the page size is divided into 4,
There was a problem that the writing time per byte was about four times.

【0014】[0014]

【発明が解決しようとする課題】このように従来の半導
体記憶装置においては、ページ切り替え時のランダムリ
ード時間中にもシリアルリードが途切れることなく、円
滑に行われるようにするために、メモリセルアレイを複
数のサブアレイに分割し、1つのサブアレイでページ読
み出し動作をしている間に、他のサブアレイでランダム
リード動作を行うようにしている。しかし、メモリセル
アレイを複数のサブアレイに分割することにより、同時
に書き込みのページサイズが短くなり、1バイト当りの
書き込み時間が増加するという問題があった。
As described above, in the conventional semiconductor memory device, the memory cell array is arranged so that the serial read can be smoothly performed without interruption during the random read time at the time of page switching. It is divided into a plurality of sub-arrays, and while one sub-array is performing a page read operation, another sub-array is performing a random read operation. However, by dividing the memory cell array into a plurality of sub-arrays, there is a problem that the page size for writing is shortened at the same time and the writing time per byte increases.

【0015】本発明は、上記の問題に鑑みてなされたも
ので、その目的とするところは、ページリードとランダ
ムリードを可能とし、特に円滑なページリードと高速な
書き込みを可能とした半導体記憶装置を提供することに
ある。
The present invention has been made in view of the above problems, and an object of the present invention is to enable a page read and a random read, and in particular, a semiconductor memory device capable of smooth page read and high-speed writing. To provide.

【0016】[0016]

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に本発明は、次のような構成を採用している。即ち本発
明は、互いに交差する複数本ずつのワード線とビット線
が配設され、これらワード線とビット線の各交差部に書
き替え可能なメモリセルが配置されたアレイを複数のサ
ブアレイに分割した半導体記憶装置において、読み出し
動作と書き込み動作とで、選択されるワード線の本数を
異ならせたことを特徴とする。より具体的には、読み出
し動作と書き込み動作とで、1回の動作で選択されるワ
ード線の本数、即ちページサイズを変更する手段を備え
たことを特徴とする。
In order to solve the above problems, the present invention employs the following configurations. That is, according to the present invention, an array in which a plurality of word lines and a plurality of bit lines intersect each other are arranged, and a rewritable memory cell is arranged at each intersection of these word lines and bit lines is divided into a plurality of sub-arrays. In the semiconductor memory device described above, the number of selected word lines is different between the read operation and the write operation. More specifically, it is characterized in that a means for changing the number of word lines selected in one operation, that is, the page size, is provided for the read operation and the write operation.

【0017】ここで、本発明の望ましい実施態様として
は、次のものがあげられる。 (1) 読み出し動作若しくは書き込み動作で、1回の動作
で選択されるワード線の本数は各サブアレイにおいて最
大で1本であること。 (2) 読み出し動作で選択されるワード線の本数よりも、
書き込み動作で選択されるワード線の本数を多くしたこ
と。つまり、読み出し動作のページサイズよりも書き込
み動作のページサイズの方を大きくしたこと。 (3) 読み出し動作では、アレイ分割されたワード線を1
本ずつ順次選択し、書き込み動作では、アレイ分割され
たワード線の複数本を同時に選択すること。 (4) 書き替え可能なメモリセルは、トンネル電流で書き
込みできる不揮発性メモリセルであること。 (5) 電気的書き替え可能な不揮発性メモリセルは、複数
個ずつ直列接続されてNANDセルを構成しているこ
と。
The preferred embodiments of the present invention are as follows. (1) The number of word lines selected in one operation during the read operation or the write operation must be at most one in each sub-array. (2) More than the number of word lines selected by the read operation,
Increasing the number of word lines selected in write operation. In other words, the page size for write operation is larger than the page size for read operation. (3) In read operation, the array-divided word line is set to 1
Select the lines one by one, and in the write operation, simultaneously select a plurality of array-divided word lines. (4) The rewritable memory cell must be a non-volatile memory cell that can be written with a tunnel current. (5) A plurality of electrically rewritable nonvolatile memory cells are connected in series to form a NAND cell.

【0018】[0018]

【作用】本発明によれば、読み出し動作時には、アレイ
分割されたワード線が順次選択されるため、複数ページ
分のデータの連続読み出しに際し、ページの切り替えで
のランダムリード時間が見かけ上無駄とならず、これに
より円滑なページ読み出しが実現できる。また、書き込
み動作時には、アレイ分割された複数本のワード線を同
時に選択するため、書き込み動作時のページサイズが読
み出し動作時のページサイズより長くなり、これにより
高速書き込みが実現できる。
According to the present invention, since word lines divided into arrays are sequentially selected during a read operation, random read time during page switching is apparently wasted when continuously reading data for a plurality of pages. As a result, smooth page reading can be realized. Further, since a plurality of array-divided word lines are selected at the same time during the write operation, the page size during the write operation becomes longer than the page size during the read operation, which allows high-speed writing.

【0019】[0019]

【実施例】以下、本発明の実施例を図面を参照して説明
する。 (実施例1)図1は、本発明の一実施例に係わる半導体
記憶装置のメモリアレイのブロック図である。同図中、
WL1l〜WLml、WL1r〜WLmrはワード線、R/D1
〜R/Dm はロウデコーダ、M11l 〜Mmnl ,M11r 〜
Mmnr はメモリセル、LA1l〜LAnl,LA1r〜LAnr
はセンスアンプ兼データラッチ回路であり、メモリセル
アレイはサブアレイl、サブアレイrの2分割されてい
る。また、図には示さないが、ワード線WLと直交する
方向にビット線BLが配置されており、各々のビット線
BLにセンスアンプ兼データラッチ回路LAが接続され
ている。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. (Embodiment 1) FIG. 1 is a block diagram of a memory array of a semiconductor memory device according to an embodiment of the present invention. In the figure,
WL1l to WLml, WL1r to WLmr are word lines, R / D1
-R / Dm is a row decoder, M11l-Mmnl, M11r-
Mmnr is a memory cell, LA1l to LAnl, LA1r to LAnr
Is a sense amplifier and data latch circuit, and the memory cell array is divided into two subarrays l and r. Although not shown in the figure, bit lines BL are arranged in a direction orthogonal to the word lines WL, and a sense amplifier / data latch circuit LA is connected to each bit line BL.

【0020】メモリセルMとしては、1トランジスタ/
1キャパシタのDRAMやスタティックRAMを用いる
ことができ、また制御ゲートと浮遊ゲートを有する不揮
発性ROM、更にはこれを直列接続したNANDセルを
用いることも可能である。ここでは、DRAMとして説
明する。
The memory cell M has one transistor /
A one-capacitor DRAM or a static RAM can be used, a non-volatile ROM having a control gate and a floating gate, and a NAND cell in which these are connected in series can also be used. Here, a DRAM will be described.

【0021】図2は、図1のメモリセルアレイの読み出
し動作を示しているが、最初にワード線WL1lが選択さ
れると、WL1lに関してランダムリードが行われ、メモ
リセルM11l 〜M1nl の記憶データがセンスアンプ兼デ
ータラッチ回路LA1l〜LAnlに転送される。次に、セ
ンスアンプ兼データラッチ回路に転送されたデータが順
次ページリードされている間に、次のワード線WL1rが
選択され、WL1rに関してランダムリードが行われ、メ
モリセルM11r 〜M1nr の記憶データがセンスアンプ兼
データラッチ回路LA1r〜LAnrに転送され、LA1l〜
LAnlのページリードが終わると連続的にLA1r〜LA
nrのページリードが行われる。
FIG. 2 shows the read operation of the memory cell array of FIG. 1. When the word line WL1l is first selected, random read is performed on WL1l and the stored data of the memory cells M11l to M1nl are sensed. The data is transferred to the amplifier / data latch circuits LA1l to LAnl. Next, while the data transferred to the sense amplifier / data latch circuit is sequentially page-read, the next word line WL1r is selected, the random read is performed with respect to WL1r, and the storage data of the memory cells M11r to M1nr are stored. The data is transferred to the sense amplifier / data latch circuits LA1r to LAnr and LA1l to LAnr.
When LAnl page read ends, LA1r to LA are continuously
Nr page read is performed.

【0022】そして、次にワード線WL2l、その次にW
L2rと選択され、サブアレイlとサブアレイrとのペー
ジデータが交互に途中間断なくシリアル読み出しされ
る。また、ページとページの切り替え時に、図3に示し
たようにワード線選択のためのロウアドレスRAを入力
してもよい。この場合、例えば最初にワード線WL(m-
1)lが選択され、次にWL1r,WL3l,WL(m-2)rとい
うように、サブアレイlとサブアレイrとのページデー
タは交互にシリアル読み出しが行われるが、サブアレイ
内のワード線の選択は入力するロウアドレスに応じて行
われる。
Then, the word line WL2l and then W
L2r is selected, and the page data of the sub-array 1 and the sub-array r are alternately read serially without interruption. Further, when switching between pages, a row address RA for selecting a word line may be input as shown in FIG. In this case, for example, first the word line WL (m-
1) 1 is selected, and then page data of sub-array 1 and sub-array r are alternately read serially, such as WL1r, WL3l, and WL (m-2) r, but word lines in the sub-array are selected. Is performed according to the input row address.

【0023】また、図4に示したように、ワード線選択
のためのロウアドレスRAの入力は、ページとページの
切り替え時に行わず、読み出し時の最初にまとめて行っ
てもよい。
Further, as shown in FIG. 4, the row address RA for selecting the word line may not be input at the time of switching between pages, but may be collectively input at the beginning of reading.

【0024】図5は、図1のメモリセルアレイの書き込
み動作を示しているが、最初に2分割されたサブアレイ
lとサブアレイrの両方のセンスアンプ兼データラッチ
回路LA1l〜LAnlとLA1r〜LAnrに2ページ分のデ
ータがロードされる。次に、例えば、ワード線WL1lと
WL1rとが同時に選択されると、メモリセルM11l 〜M
1nl とM11r 〜M1nr にセンスアンプ兼データラッチ回
路LA1l〜LAnlとLA1r〜LAnrにロードされたデー
タが同時に書き込まれる。
FIG. 5 shows a write operation of the memory cell array of FIG. Pages of data are loaded. Next, for example, when the word lines WL1l and WL1r are selected at the same time, the memory cells M11l to M11l
The data loaded in the sense amplifier / data latch circuits LA1l-LAnl and LA1r-LAnr are simultaneously written in 1nl and M11r-M1nr.

【0025】この場合、サブアレイlとサブアレイrと
に関して、選択されるワード線はWL1lとWL1rとであ
るように、書き込み時に入力されるロウアドレスが、例
えば“1”番地のみで、サブアレイlとサブアレイrと
を区別するロウアドレスがなくても、ロウデコーダR/
D1 で対のワード線WL1lとWL1rとが選択されること
になる。
In this case, regarding the sub-array 1 and the sub-array r, the selected word lines are WL1l and WL1r, so that the row address input at the time of writing is only "1" address, for example. Even if there is no row address for distinguishing from r, the row decoder R /
The pair of word lines WL1l and WL1r is selected by D1.

【0026】また、図6に示したように、サブアレイl
とサブアレイrとに関して、それぞれ任意の1本のワー
ド線をロウアドレスRA入力によって選択してもよい。
この場合、サブアレイlに関しては、“3l”番地、サ
ブアレイrに関しては“(m−2)r”番地が入力さ
れ、2分割されたサブアレイlとサブアレイrの両方の
センスアンプ兼データラッチ回路LA1l〜LAnlとLA
1r〜LAnrに2ページ分のデータがロードされると、ワ
ード線WL3lとWL(m-2)rとが同時に選択され、メモリ
セルM31l〜M3nlとM(m-2)1r 〜M(m-2)nr にセンス
アンプ兼データラッチ回路LA1l〜LAnlとLA1r〜L
Anrにロードされたデータが同時に書き込まれる。
Further, as shown in FIG. 6, the sub-array l
For the sub-array r and the sub-array r, any one word line may be selected by inputting the row address RA.
In this case, the address "3l" is input to the sub-array l and the address "(m-2) r" is input to the sub-array r. LAnl and LA
When two pages of data are loaded into 1r to LAnr, the word lines WL3l and WL (m-2) r are simultaneously selected, and the memory cells M31l to M3nl and M (m-2) 1r to M (m- 2) nr is a sense amplifier and data latch circuit LA1l to LAnl and LA1r to L
The data loaded in Anr is written at the same time.

【0027】このように本実施例によれば、メモリセル
アレイを2つのサブアレイl,rに分割し、複数ページ
分のデータの連続読み出しに際し、アレイ分割されたワ
ード線WLを順次選択することにより、ページの切り替
えでのランダムリード時間が見かけ上無駄とならず、こ
れにより円滑なページ読み出しを行うことができる。し
かも、書き込み動作時には、アレイ分割された2本のワ
ード線WLを同時に選択するため、書き込み動作時のペ
ージサイズが読み出し動作時のページサイズより長くな
り、これにより高速書き込みを行うことができる。 (実施例2)図7には、メモリセルアレイが4分割され
た場合を示している。図中の1はサブアレイ、2はセン
スアンプ兼データラッチ回路、3はロウデコーダ、4は
カラムデコーダ、5はデータ入出力バッファを示してい
る。メモリセルアレイをA〜Dの4つのサブアレイ1に
分割し、各々のサブアレイ1(A〜D)毎にセンスアン
プ兼データラッチ回路2(A〜D),カラムデコーダ4
(A〜D)が設けられている。ロウデコーダ3はサブア
レイA,B間とサブアレイC,D間に設けられている。
As described above, according to the present embodiment, the memory cell array is divided into two sub-arrays l and r, and the array-divided word lines WL are sequentially selected during continuous reading of data for a plurality of pages. Random read time when switching pages is apparently not wasted, which allows smooth page reading. In addition, since two array-divided word lines WL are selected at the same time during the write operation, the page size during the write operation becomes longer than the page size during the read operation, which allows high-speed writing. (Embodiment 2) FIG. 7 shows a case where the memory cell array is divided into four. In the figure, 1 is a sub array, 2 is a sense amplifier / data latch circuit, 3 is a row decoder, 4 is a column decoder, and 5 is a data input / output buffer. The memory cell array is divided into four subarrays A to D, and a sense amplifier / data latch circuit 2 (A to D) and a column decoder 4 are provided for each subarray 1 (A to D).
(A to D) are provided. The row decoder 3 is provided between the sub arrays A and B and between the sub arrays C and D.

【0028】この実施例の場合も、読み出し時には、ワ
ード線が1本ずつ選択される。例えば、図8に示したよ
うにワード線A,B,C,Dが入力したロウアドレスR
Aに応じて順次選択され、円滑なシリアル読み出しが行
われる。
Also in this embodiment, word lines are selected one by one at the time of reading. For example, as shown in FIG. 8, the row address R input by the word lines A, B, C, D is input.
It is sequentially selected according to A, and smooth serial reading is performed.

【0029】また、図9に示したように書き込み時に、
書き込みデータがセンスアンプ兼データラッチ回路A〜
Dにロードされた後、4本のワード線A〜Dが入力した
ロウアドレスRAに応じて同時に選択され、ワード線A
〜Dに関するメモリセルにセンスアンプ兼データラッチ
回路A〜Dにロードされたデータが書き込まれる。
Further, as shown in FIG. 9, at the time of writing,
The write data is sense amplifier and data latch circuit A to
After being loaded into D, four word lines A to D are simultaneously selected according to the input row address RA,
The data loaded in the sense amplifier / data latch circuits A to D are written in the memory cells related to D to D.

【0030】従って、ロウデコーダAB,ロウデコーダ
CDにより、読み出し時にはワード線Aとワード線B、
及びワード線Cとワード線Dとをそれぞれ別々に選択で
き、書き込み時にはワード線A〜Dを同時に選択でき
る。 (実施例3)以上は、DRAM,SRAMを含む一般的
な書き替え可能なメモリについて実施例を説明してきた
が、本発明はこれに限らず、制御ゲートと浮遊ゲート
(電荷蓄積層)を有する不揮発性メモリに適用すること
もできる。但し、長いページに渡ってアクセスすること
を考えると、トンネル電流で書き込みができるものが望
ましい。また、メモリセルを複数個接続してなるメモリ
セルユニットは、メモリセルを直列接続したNAND
型、メモリセルを複数個並列接続したOR型、メモリセ
ルを複数個並列接続し、その両端に選択ゲートを設けた
AND型、メモリセルを複数個並列接続し、その一方の
端に選択ゲートを設けたDINOR型であってもよい。
Therefore, by the row decoder AB and the row decoder CD, the word line A and the word line B,
Also, the word line C and the word line D can be selected separately, and the word lines A to D can be simultaneously selected at the time of writing. (Embodiment 3) The embodiment has been described with respect to a general rewritable memory including DRAM and SRAM, but the present invention is not limited to this, and has a control gate and a floating gate (charge storage layer). It can also be applied to a non-volatile memory. However, considering access over a long page, it is desirable to be able to write with a tunnel current. A memory cell unit formed by connecting a plurality of memory cells is a NAND cell in which memory cells are connected in series.
Type, OR type in which a plurality of memory cells are connected in parallel, AND type in which a plurality of memory cells are connected in parallel, and select gates are provided at both ends thereof, a plurality of memory cells are connected in parallel, and a select gate is provided at one end thereof. It may be a DINOR type provided.

【0031】これらのフラッシュEEPROMにおけ
る、読み出し及び書き込みのワード線電圧は、それぞれ
のデバイスに従う。例えば、NAND型EEPROMの
場合、読み出し時に、選択されたメモリセルのワード線
(制御ゲート)を0Vとし、それ以外のメモリセルのワ
ード線及び選択ゲートを電源電位Vccとして、選択メモ
リセルで電流が流れるか否かを検出することにより行わ
れる。
The read and write word line voltages in these flash EEPROMs depend on the respective devices. For example, in the case of a NAND type EEPROM, at the time of reading, the word line (control gate) of the selected memory cell is set to 0V, the word lines and select gates of the other memory cells are set to the power supply potential Vcc, and a current flows in the selected memory cell. It is carried out by detecting whether or not it flows.

【0032】また、書き込み時には、選択されたメモリ
セルのワード線(制御ゲート)には昇圧された書き込み
電位Vpp(=20V程度)を印加し、他の非選択メモリ
セルの制御ゲート及び選択ゲートには中間電位(=10
V程度)を印加し、ビット線にはデータに応じて0V
(“0”書き込み)又は中間電位(“1”書き込み)を
印加する。このとき、ビット線の電位は選択メモリセル
に伝達される。
At the time of writing, the boosted write potential Vpp (= about 20 V) is applied to the word line (control gate) of the selected memory cell, and is applied to the control gate and the select gate of other non-selected memory cells. Is an intermediate potential (= 10
(Approx. V) is applied, and 0 V is applied to the bit line according to the data.
(“0” writing) or intermediate potential (“1” writing) is applied. At this time, the potential of the bit line is transmitted to the selected memory cell.

【0033】そして、データ“0”の時は、選択メモリ
セルの浮遊ゲートと基板間に高電圧がかかり、基板から
浮遊ゲートに電子がトンネル注入されてしきい値が正方
向に移動する。データ“1”のときはしきい値は変化し
ない。
When the data is "0", a high voltage is applied between the floating gate of the selected memory cell and the substrate, electrons are tunnel-injected from the substrate to the floating gate, and the threshold value moves in the positive direction. When the data is "1", the threshold value does not change.

【0034】データ消去は、NANDセル内の全てのメ
モリセルに対してほぼ同時に行われる。即ち、全ての制
御ゲート,選択ゲートを0Vとし、p型ウエル及びn型
基板に昇圧された消去電位VppE (20V程度)を印加
する。これにより、全てのメモリセルにおいて浮遊ゲー
トの電子がウエルに放出され、しきい値が負方向に移動
する。
Data erasing is performed on all the memory cells in the NAND cell almost at the same time. That is, all control gates and select gates are set to 0V, and the boosted erase potential VppE (about 20V) is applied to the p-type well and the n-type substrate. As a result, in all the memory cells, electrons in the floating gate are emitted to the well, and the threshold value moves in the negative direction.

【0035】このような実施例であっても第1の実施例
と同様の効果が得られるが、複数本のワード線を同時に
選択して書き込みを行う動作は、NAND型EEPRO
Mのように、書き込み確認読み出しを含んだワード線選
択の書き込み時間が長いものにあって特に有効である。
Even in such an embodiment, the same effect as that of the first embodiment can be obtained, but the operation of simultaneously selecting and writing a plurality of word lines is a NAND type EEPRO.
This is particularly effective for a word line selection time such as M that has a long write time for word line selection.

【0036】なお、本発明は上述した実施例に限定され
るものではない。メモリセルアレイの分割数は2個や4
個に限るものではなく、仕様に応じて適宜変更可能であ
る。また、1回の動作で選択されるワード線の本数は、
各々のサブアレイにおいて最大で1本であり、読み出し
動作で選択されるワード線の本数よりも、書き込み動作
で選択されるワード線の本数を多くすればよい。一般的
には、読み出し動作では、アレイ分割されたワード線を
1本ずつ順次選択し、書き込み動作では、アレイ分割さ
れたワード線の複数本を同時に選択すればよい。その
他、本発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々変形して実
施することができる。
The present invention is not limited to the above embodiment. The number of divisions of the memory cell array is 2 or 4.
The number is not limited to one, and can be changed appropriately according to the specifications. The number of word lines selected in one operation is
The number of word lines selected in the write operation is larger than the number of word lines selected in the read operation, which is a maximum of one in each sub-array. Generally, in the read operation, the array-divided word lines may be sequentially selected one by one, and in the write operation, the array-divided word lines may be simultaneously selected. In addition, various modifications can be made without departing from the scope of the present invention.

【0037】[0037]

【発明の効果】以上詳述したように本発明によれば、読
み出し動作時には、アレイ分割されたワード線が順次選
択されるため、複数ページ分のデータの連続読み出しに
際し、ページの切り替えでのランダムリード時間が見か
け上無駄とならず、円滑なページ読み出しが実現でき
る。また、書き込み動作時には、アレイ分割された複数
本のワード線を同時に選択するため、書き込み動作時の
ページサイズが読み出し動作時のページサイズより長く
なり、高速書き込みが実現できる。
As described in detail above, according to the present invention, since the array-divided word lines are sequentially selected during the read operation, the random read is performed by switching the page when the data for a plurality of pages is continuously read. The read time is apparently not wasted, and smooth page reading can be realized. In addition, since a plurality of array-divided word lines are selected at the same time during the write operation, the page size during the write operation becomes longer than the page size during the read operation, and high-speed write can be realized.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】第1の実施例に係わる半導体記憶装置の基本構
成を示すブロック図。
FIG. 1 is a block diagram showing a basic configuration of a semiconductor memory device according to a first embodiment.

【図2】図1のメモリセルアレイの読み出し動作を示す
信号波形図。
FIG. 2 is a signal waveform diagram showing a read operation of the memory cell array of FIG.

【図3】図1のメモリセルアレイの読み出し動作を示す
信号波形図。
FIG. 3 is a signal waveform diagram showing a read operation of the memory cell array of FIG.

【図4】図1のメモリセルアレイの読み出し動作を示す
信号波形図。
FIG. 4 is a signal waveform diagram showing a read operation of the memory cell array of FIG.

【図5】図1のメモリセルアレイの書き込み動作を示す
信号波形図。
5 is a signal waveform diagram showing a write operation of the memory cell array of FIG.

【図6】図1のメモリセルアレイの書き込み動作を示す
信号波形図。
FIG. 6 is a signal waveform diagram showing a write operation of the memory cell array of FIG.

【図7】第2の実施例に係わる半導体記憶装置の基本構
成を示すブロック図。
FIG. 7 is a block diagram showing a basic configuration of a semiconductor memory device according to a second embodiment.

【図8】図7のメモリセルアレイの読み出し動作を示す
信号波形図。
FIG. 8 is a signal waveform diagram showing a read operation of the memory cell array of FIG.

【図9】図7のメモリセルアレイの書き込み動作を示す
信号波形図。
9 is a signal waveform diagram showing a write operation of the memory cell array of FIG. 7.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1,l,r…サブアレイ 2,LA1l〜LAnl,LA1r〜LAnr…センスアンプ兼
データラッチ回路 3,R/D1 〜R/Dm …ロウデコーダ 4…カラムデコーダ 5…データ入出力バッファ WL1l〜WLml,WL1r〜WLmr…ワード線 M11l 〜Mmnl ,M11r 〜Mmnr …メモリセル
1, l, r ... Sub-array 2, LA1l to LAnl, LA1r to LAnr ... Sense amplifier / data latch circuit 3, R / D1 to R / Dm ... Row decoder 4 ... Column decoder 5 ... Data input / output buffer WL1l to WLml, WL1r -WLmr ... Word line M11l-Mmnl, M11r-Mmnr ... Memory cell

フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 H01L 29/788 29/792 H01L 27/10 434 29/78 371 (72)発明者 舛岡 富士雄 神奈川県川崎市幸区小向東芝町1番地 株 式会社東芝研究開発センター内Continuation of the front page (51) Int.Cl. 6 Identification number Reference number within the agency FI Technical indication location H01L 29/788 29/792 H01L 27/10 434 29/78 371 (72) Inventor Fujio Masuoka Kawasaki City, Kanagawa Prefecture Komukai-Toshiba-cho 1-ku, Toshiba Research & Development Center

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】互いに交差する複数本ずつのワード線とビ
ット線が配設され、これらワード線とビット線の各交差
部に書き替え可能なメモリセルが配置されたアレイを複
数のサブアレイに分割した半導体記憶装置において、 読み出し動作と書き込み動作とで、選択されるワード線
の本数を異ならせたことを特徴とする半導体記憶装置。
1. An array in which a plurality of word lines and a plurality of bit lines intersecting each other are arranged, and a rewritable memory cell is arranged at each intersection of the word lines and the bit lines is divided into a plurality of sub-arrays. In the semiconductor memory device described above, the number of selected word lines is different between the read operation and the write operation.
【請求項2】前記読み出し動作若しくは書き込み動作
で、1回の動作で選択されるワード線の本数は前記各サ
ブアレイにおいて最大で1本であることを特徴とする請
求項1記載の半導体記憶装置。
2. The semiconductor memory device according to claim 1, wherein in the read operation or the write operation, the number of word lines selected in one operation is one at a maximum in each sub-array.
【請求項3】前記読み出し動作で選択されるワード線の
本数よりも、前記書き込み動作で選択されるワード線の
本数を多くしたことを特徴とする請求項1又は2に記載
の半導体記憶装置。
3. The semiconductor memory device according to claim 1, wherein the number of word lines selected in the write operation is larger than the number of word lines selected in the read operation.
【請求項4】前記読み出し動作では、アレイ分割された
ワード線を1本ずつ順次選択し、前記書き込み動作で
は、アレイ分割されたワード線の複数本を同時に選択す
ることを特徴とする請求項1記載の半導体記憶装置。
4. The read operation sequentially selects the array-divided word lines one by one, and the write operation simultaneously selects a plurality of array-divided word lines. The semiconductor memory device described.
【請求項5】前記書き替え可能なメモリセルは、トンネ
ル電流で書き込みできる不揮発性メモリセルであること
を特徴とする請求項1,2,3又は4に記載の半導体記
憶装置。
5. The semiconductor memory device according to claim 1, wherein the rewritable memory cell is a non-volatile memory cell capable of being written by a tunnel current.
【請求項6】前記電気的書き替え可能な不揮発性メモリ
セルは、複数個ずつ直列接続されてNANDセルを構成
していることを特徴とする請求項5記載の半導体記憶装
置。
6. The semiconductor memory device according to claim 5, wherein a plurality of electrically rewritable nonvolatile memory cells are connected in series to form a NAND cell.
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