JPH0863968A - Sram device - Google Patents
Sram deviceInfo
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- JPH0863968A JPH0863968A JP6195225A JP19522594A JPH0863968A JP H0863968 A JPH0863968 A JP H0863968A JP 6195225 A JP6195225 A JP 6195225A JP 19522594 A JP19522594 A JP 19522594A JP H0863968 A JPH0863968 A JP H0863968A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- memory cell
- sram device
- cell array
- gates
- bit lines
- Prior art date
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- Withdrawn
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- Static Random-Access Memory (AREA)
Abstract
Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、一括書き込みが可能な
SRAM(スタティック型ランダムアクセスメモリ)装
置に関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an SRAM (static type random access memory) device capable of batch writing.
【0002】[0002]
【従来の技術】図6は、従来のSRAM装置の概要を示
すブロック図である。同図に示すように、SRAM装置
は、メモリセルがマトリックス状に配列されたメモリセ
ルアレイ1と、アドレス信号に基づいて任意のメモリセ
ルを選択する行デコーダ2及び列デコーダ4と、ビット
線に出力されるデータ信号を増幅するセンスアンプ3
と、データ信号の入出力を行う入出力回路等とを備えて
いる。図7を参照してより詳細に説明する。メモリセル
アレイ1はメモリセル(M11, M12,M13,…、M21,
M22,M23,…)がマトリックス状に配列されている。
行方向の各メモリセルの選択線が共通接続されてワード
線51,52,…に接続され、列方向のメモリセル
M11,M21,M31, M41…はビット線D1,D2に接続
されている。一対のビット線D1,D2の夫々は列選択
トランジスタT11,T12, …に夫々接続され、センスア
ンプ30 ,31 …に接続されている。2. Description of the Related Art FIG. 6 is a block diagram showing an outline of a conventional SRAM device. As shown in the figure, the SRAM device has a memory cell array 1 in which memory cells are arranged in a matrix, a row decoder 2 and a column decoder 4 for selecting arbitrary memory cells based on an address signal, and outputs to a bit line. Amplifier 3 for amplifying the data signal to be reproduced
And an input / output circuit for inputting / outputting a data signal. A more detailed description will be given with reference to FIG. 7. The memory cell array 1 includes memory cells (M 11 , M 12 , M 13 , ..., M 21 ,
M 22 , M 23 , ...) Are arranged in a matrix.
The selection lines of the memory cells in the row direction are commonly connected and connected to the word lines 51, 52, ..., And the memory cells M 11 , M 21 , M 31, M 41, ... In the column direction are connected to the bit lines D1, D2. Has been done. The respective pair of bit lines D1, D2 column selection transistors T 11, T 12, ... are respectively connected to, and is connected sense amplifier 3 0, 3 1 ... to.
【0003】行デコーダ2はANDゲート21,22,
…から構成され、アドレス信号A0,A0*,A1,A
1*(*は反転を意味する)によって所定のワード線が
選択される。列デコーダ4はANDゲート41〜44と
列選択トランジスタT11〜T 14,T21〜T24,…から構
成され、列デコーダ4に入力されるアドレス信号B0,
B0*,B1,B1*によって任意の列選択トランジス
タが選択され、任意の一対のビット線D1,D2が選択
され、任意のメモリセルがセンスアンプ3と接続され、
読み出し・書き込みがなされる。The row decoder 2 has AND gates 21, 22, 22.
And address signals A0, A0 *, A1, A
By 1 * (* means inversion) a given word line
To be selected. The column decoder 4 includes AND gates 41 to 44.
Column selection transistor T11~ T 14, Ttwenty one~ Ttwenty four, ... from
Address signal B0, which is generated and input to the column decoder 4,
Any column selection transistor by B0 *, B1, B1 *
Data is selected, and any pair of bit lines D1 and D2 are selected
And any memory cell is connected to the sense amplifier 3,
Read / write is performed.
【0004】次に、図8を参照してSRAM装置の書き
込み動作について、メモリセルM11に「0」データを書
き込む場合について説明する。先ず、書き込み信号(ラ
イトイネーブル)WE*(“L”レベル)がインバータ
を介して夫々インバータIとバッファA2に印加され、
インバータIとバッファA2は動作状態となる。一方、
読み出し信号(アウトプットイネーブル)OE*が
“H”レベルに維持されており、“L”レベルの信号が
インバータを介してバッファA1に供給される。バッフ
ァA1は遮断状態に保持されるので、比較器CMPから
なるセンスアンプ30 は遮断状態に維持される。Next, the write operation of the SRAM device will be described with reference to FIG. 8 when writing "0" data to the memory cell M 11 . First, a write signal (write enable) WE * (“L” level) is applied to the inverter I and the buffer A2 via the inverter,
The inverter I and the buffer A2 are in operation. on the other hand,
The read signal (output enable) OE * is maintained at "H" level, and the "L" level signal is supplied to the buffer A1 via the inverter. Since buffer A1 is held in the cutoff state, the sense amplifier 3 0 consisting of the comparator CMP is maintained in the cutoff state.
【0005】上記のような状態に設定され、データ入力
端子からは「0」データが入力され、バッファA2とイ
ンバータIに夫々供給され、バッファA2の出力は
“L”レベルであり、インバータIは“H”レベルの信
号が出力される。バッファA2の出力(“L”レベル)
は列選択トランジスタT11を介してビット線D1に印加
される。インバータIの出力(“H”レベル)が列デコ
ーダ4の列選択トランジスタT11を介してビット線D2
に印加される。一方、行デコーダ2のANDゲート21
を介して“H”レベルの信号がメモリセルM11のワード
線51に印加されている。メモリセルM11の転送トラン
ジスタQ3,Q4はオン状態となり、ビット線D1に
“L”レベルが印加され、ビット線D2に“H”レベル
が印加されているので、駆動トランジスタQ1はオン状
態となり、駆動トランジスタQ2はオフ状態となる。記
憶ノードN1の電位は“L”レベルに、記憶ノードN2
の電位は“H”レベルとなり、メモリセルM11に「0」
データが書き込まれる。又、データ入力端子から「1」
データが入力されると、ビット線D1の電位は“H”レ
ベルとなり、ビット線D2の電位は“L”レベルとな
る。従って、記憶ノードN1の電位は“H”レベルに、
記憶ノードN2の電位は“L”レベルとなり、メモリセ
ルM11に「1」データが書き込まれたことになる。In the above-described state, "0" data is input from the data input terminal and supplied to the buffer A2 and the inverter I respectively, the output of the buffer A2 is at "L" level, and the inverter I is An "H" level signal is output. Output of buffer A2 (“L” level)
Is applied to the bit line D1 via the column select transistor T11. The output (“H” level) of the inverter I is transmitted through the column selection transistor T11 of the column decoder 4 to the bit line D2.
Is applied to On the other hand, the AND gate 21 of the row decoder 2
An “H” level signal is applied to the word line 51 of the memory cell M 11 via the. Transfer transistors Q3, Q4 of the memory cell M 11 is turned on to "L" level is applied to the bit lines D1, since "H" level to the bit line D2 is applied, the driving transistor Q1 is turned on, The drive transistor Q2 is turned off. The potential of the storage node N1 is set to the "L" level, and the storage node N2
Potential becomes "H" level and "0" is applied to the memory cell M 11.
Data is written. Also, "1" from the data input terminal
When data is input, the potential of the bit line D1 becomes "H" level and the potential of the bit line D2 becomes "L" level. Therefore, the potential of the storage node N1 becomes "H" level,
The potential of the storage node N2 becomes the "L" level, so that "1" data is written into the memory cell M 11.
【0006】[0006]
【発明が解決しようとする課題】上述のように、従来の
SRAMでは、図6のメモリセルアレイ1の全てのメモ
リセルに同一データをアクセスする場合には、各ワード
線それぞれに対しビット線を順番に選択して各メモリセ
ルにデータを書き込まなければならない。従って、SR
AM装置は、同一データの書き込みに時間がかかる欠点
があり、その用途を限定する欠点がある。また、SRA
M装置は、同一データの書き込みに高速動作が要求され
る場合には、フラッシュメモリと比較すると不利となる
欠点がある。本発明は、上述のような課題に鑑みなされ
たものであって、同一データの一括書き込みが可能なS
RAM装置を提供することを目的とするものである。As described above, in the conventional SRAM, when the same data is accessed in all the memory cells of the memory cell array 1 of FIG. 6, the bit lines are sequentially arranged for each word line. The data must be written in each memory cell by selecting. Therefore, SR
The AM device has a drawback that it takes time to write the same data, and has a drawback that its application is limited. Also, SRA
The M device has a disadvantage that it is disadvantageous as compared with the flash memory when high speed operation is required to write the same data. The present invention has been made in view of the above problems, and it is possible to perform batch writing of the same data in an S
It is an object to provide a RAM device.
【0007】[0007]
【課題を解決するための手段】上述の課題を解決するた
めに、本発明に係る第1のSRAM装置は、マトリック
ス状に配列されたメモリセルアレイの行方向のメモリセ
ルにワード線、列方向にビット線が夫々設けられてお
り、前記ワード線の全てに書き込み電圧を印加する電圧
供給手段と、前記ビット線を順次選択する選択手段とを
具備し、前記電圧供給手段と前記選択手段によって前記
メモリセルアレイの各メモリセルに同一データを書き込
むことを特徴とするSRAM装置である。又、本発明に
係る第2のSRAM装置は、マトリックス状に配列され
たメモリセルアレイの行方向のメモリセルにワード線、
列方向にビット線が夫々設けられており、前記ビット線
の全てを選択状態とする選択手段と、前記ワード線に書
き込み電圧を順次印加する電圧供給手段とを具備し、前
記電圧供給手段と前記選択手段によって前記メモリセル
アレイの各メモリセルに同一データを書き込むことを特
徴とするSRAM装置である。In order to solve the above-mentioned problems, the first SRAM device according to the present invention has a memory cell array arranged in a matrix in which the memory cells in the row direction are arranged in the word lines and in the column direction. Bit lines are provided respectively, each of which is provided with a voltage supply means for applying a write voltage to all of the word lines and a selection means for sequentially selecting the bit lines. The voltage supply means and the selection means enable the memory. The SRAM device is characterized in that the same data is written in each memory cell of the cell array. The second SRAM device according to the present invention has word lines in the memory cells arranged in a matrix in the row direction of the memory cell array.
Bit lines are provided in the column direction, respectively, and each of the bit lines is provided with a selection means for selecting all of the bit lines and a voltage supply means for sequentially applying a write voltage to the word line. The SRAM device is characterized in that the same data is written in each memory cell of the memory cell array by the selection means.
【0008】又、本発明に係る第3のSRAM装置は、
マトリックス状に配列されたメモリセルアレイの行方向
にワード線、列方向にビット線が夫々設けられており、
前記ワード線の全てに書き込み電圧を供給する電圧供給
手段と、前記ビット線の全てを選択状態とする設定手段
と、を具備することを特徴とするSRAM装置である。
又、前記電圧供給手段又は前記設定手段の何れか一方を
順次作動させて同一データの書き込みを行うタイミング
設定手段を具備することを特徴とする第3のSRAM装
置である。Further, a third SRAM device according to the present invention is
Word lines are provided in the row direction and bit lines are provided in the column direction of the memory cell array arranged in a matrix,
An SRAM device comprising: a voltage supply unit that supplies a write voltage to all of the word lines; and a setting unit that sets all of the bit lines to a selected state.
A third SRAM device is provided with a timing setting unit that sequentially operates one of the voltage supply unit and the setting unit to write the same data.
【0009】[0009]
【作用】本発明のSRAM装置は、メモリセルアレイに
接続された各ワード線とビット線の何れか一方を全て選
択した状態とし、各行又は各列毎のメモリセルを一括し
て同一データを全てのメモリセルに短時間に書き込むよ
うにしたものである。又、本発明のSRAM装置は、ワ
ード線の全てに信号を供給する電圧供給手段と、ビット
線を選択する列選択トランジスタの全てを選択状態とす
る設定手段とを備えることによって、同一データを一括
して書き込みするか、又は、同一データの書き込み時間
を短縮するものである。又、チップ選択信号に応じてチ
ップ毎に上記のような一括書き込みを行うものである。In the SRAM device of the present invention, one of the word lines and the bit lines connected to the memory cell array is all selected, and the memory cells of each row or each column are collectively loaded with the same data. The memory cells are written in a short time. In addition, the SRAM device of the present invention includes the voltage supply means for supplying a signal to all the word lines and the setting means for setting all the column selection transistors for selecting the bit lines to the same data at once. Then, the time for writing the same data is shortened. Further, the batch writing as described above is performed for each chip according to the chip selection signal.
【0010】[0010]
【実施例】以下、本発明の実施例について、図を参照し
て説明する。 (実施例1)図1は、本発明のSRAM装置の一実施例
を示す回路図である。同図に於いて、1はSRAMセル
からなるマトリックス状に配列されたメモリセルアレイ
であり、行方向にメモリセル(M11,M12,M13,…),
( M21,M22,M23,…),…が配列され、列方向にメモ
リセル(M11,M21,M31,…),( M 12,M22,M32,
…),…が配列されている。行方向のメモリセル(M11,
M12,M13,…),( M21,M22,M23,…),…は、行毎
にワード線51〜56…に接続され、ワード線51〜5
6…はORゲート71〜76の出力端子に接続されてい
る。ORゲート71〜76の夫々の一方の入力端子には
行デコーダ21のANDゲート21〜26…の出力端子
が接続され、他方の入力端子は共通接続されて一括書込
制御端子C1に接続されている。ORゲート71〜76
は一括書込制御回路7を形成している。Embodiments of the present invention will now be described with reference to the drawings.
Explain. (Embodiment 1) FIG. 1 shows an embodiment of the SRAM device of the present invention.
It is a circuit diagram showing. In the figure, 1 is an SRAM cell
Memory cell array arranged in a matrix
And the memory cells (M11, M12, M13,…),
(Mtwenty one, Mtwenty two, Mtwenty three,…),… Are arranged, and memos are written in the column direction.
Resel (M11, Mtwenty one, M31,…), (M 12, Mtwenty two, M32,
…),… Are arranged. Memory cells in the row direction (M11,
M12, M13,…), (Mtwenty one, Mtwenty two, Mtwenty three,…),… Are line by line
To the word lines 51 to 56 ...
6 are connected to the output terminals of the OR gates 71 to 76
It One input terminal of each of the OR gates 71 to 76
Output terminals of the AND gates 21 to 26 of the row decoder 21
, And the other input terminals are commonly connected and write all at once
It is connected to the control terminal C1. OR gates 71 to 76
Form a collective write control circuit 7.
【0011】列方向のメモリセル(M11,M21,M31,
…)はビット線D1,D2間に接続され、メモリセル
(M12,M22,M32,…)も同様に隣のビット線D1,
D2間に接続されている。一対のビット線D1,D2は
夫々列選択トランジスタ(T11,T21),(T12,
T22)…に接続されてセンスアンプ30 ,31 に接続さ
れている。列選択トランジスタ(T11,T21),
(T12,T22)…の夫々のゲート電極はANDゲート4
1,42,43…の出力端子に接続されている。行デコ
ーダ2にはアドレス信号A0,A0*,A1,A1*は
入力され、列デコーダ4にはアドレス信号B1*,B
1,B0*,B0が入力される。The memory cells in the column direction (M 11 , M 21 , M 31 ,
...) is connected between the bit lines D1 and D2, and the memory cells (M 12 , M 22 , M 32 , ...) Also have adjacent bit lines D1 and D1.
It is connected between D2. The pair of bit lines D1 and D2 are respectively connected to column selection transistors (T 11 , T 21 ), (T 12 ,
T 22) is connected ... to and is connected to the sense amplifier 3 0, 3 1. Column select transistors (T 11 , T 21 ),
The gate electrodes of (T 12 , T 22 ) ... Are AND gates 4
Are connected to the output terminals of 1, 42, 43, .... Address signals A0, A0 *, A1, A1 * are input to the row decoder 2, and address signals B1 *, B are input to the column decoder 4.
1, B0 *, B0 are input.
【0012】図2は図1の要部を示す回路図である。同
図に於いて、1は駆動トランジスタQ1,Q2と転送ト
ランジスタQ3,Q4及び負荷抵抗R1,R2からなる
SRAMメモリセルである。転送トランジスタQ3,Q
4の制御ゲートはワード線51に接続されている。ビッ
ト線D1,D2は転送トランジスタQ3,Q4の夫々の
ドレイン電極に接続されて、列選択トランジスタT11
の第1電極に接続される。列選択トランジスタT11の
ゲート電極はANDゲート41の出力端子に接続され
る。列選択トランジスタT11の夫々の第2電極は、比
較器CPMの入力端子に夫々接続され、その出力端子が
バッファ回路A1の入力端子に接続されている。更に、
列選択トランジスタT11の夫々の第2電極は、バッフ
ァ回路A2とインバータIの出力端子に接続され、バッ
ファ回路A2とインバータIの入力端子及びバッファ回
路A1の出力端子が共通接続されている。FIG. 2 is a circuit diagram showing a main part of FIG. In the figure, reference numeral 1 is an SRAM memory cell including drive transistors Q1 and Q2, transfer transistors Q3 and Q4, and load resistors R1 and R2. Transfer transistors Q3, Q
The control gate of 4 is connected to the word line 51. The bit lines D1 and D2 are connected to the drain electrodes of the transfer transistors Q3 and Q4, respectively.
Connected to the first electrode of. The gate electrode of the column selection transistor T11 is connected to the output terminal of the AND gate 41. Each second electrode of the column selection transistor T11 is connected to the input terminal of the comparator CPM, and its output terminal is connected to the input terminal of the buffer circuit A1. Furthermore,
Each second electrode of the column selection transistor T11 is connected to the buffer circuit A2 and the output terminal of the inverter I, and the buffer circuit A2 and the input terminal of the inverter I and the output terminal of the buffer circuit A1 are commonly connected.
【0013】次に、図1の要部を示す図2を参照して一
括書き込み動作について説明する。行デコーダ2にアド
レス信号が印加され、行デコーダ2のANDゲート21
の出力が“H”レベルであれば、ORゲート71を介し
て“H”レベルの信号がワード線51に印加される。
又、ANDゲート21の出力が“L”レベルであればO
Rゲート71の出力は“L”レベルのままである。さ
て、ANDゲート21の出力が“L”レベルであったと
しても、一括制御信号(“H”レベル)が制御端子C1
を介してORゲート71の他方の入力端子に印加される
と、ORゲート71の出力は“H”レベルとなる。即
ち、ワード線51が“H”レベルになる。メモリセルM
11の転送トランジスタQ3,Q4のゲートに“H”レベ
ルの電圧が印加されてオン状態となる。一方、書き込み
信号(ライトイネーブル信号)WE*が“L”レベルで
あるとすると、インバータを介してバッファA2及びイ
ンバータIは動作状態となる。読み出し信号(アウトプ
ットイネーブル信号)OE*は“H”レベルに保持され
ており、インバータを介してバッファA1は遮断状態に
設定されている。Next, the collective write operation will be described with reference to FIG. 2 showing the main part of FIG. An address signal is applied to the row decoder 2 and the AND gate 21 of the row decoder 2
When the output of is at "H" level, the "H" level signal is applied to the word line 51 through the OR gate 71.
Also, if the output of the AND gate 21 is at "L" level, it becomes O
The output of the R gate 71 remains at "L" level. Now, even if the output of the AND gate 21 is at "L" level, the collective control signal ("H" level) is at the control terminal C1.
When applied to the other input terminal of the OR gate 71 via, the output of the OR gate 71 becomes "H" level. That is, the word line 51 becomes "H" level. Memory cell M
An "H" level voltage is applied to the gates of the 11 transfer transistors Q3 and Q4 to turn them on. On the other hand, assuming that the write signal (write enable signal) WE * is at "L" level, the buffer A2 and the inverter I are in the operating state via the inverter. The read signal (output enable signal) OE * is held at "H" level, and the buffer A1 is set to the cutoff state via the inverter.
【0014】このような状態に設定した後、データ入出
力端子に「0」データが入力されたとすると、バッファ
A2から“L”レベルの信号が列選択トランジスタT1
1を介して転送トランジスタQ3のドレインに印加され
る。又、インバータIから列選択トランジスタT11を
介して“H”レベルの信号が転送トランジスタQ4のド
レインに印加される。駆動トランジスタQ1はオン状態
となり、駆動トランジスタQ2がオフ状態となる。記憶
ノードN1の電位は“L”レベル、記憶ノードN2の電
位は“H”レベルとなり、メモリセルM11には「0」デ
ータが書き込まれる。If "0" data is input to the data input / output terminal after setting in such a state, a "L" level signal is output from the buffer A2 to the column selection transistor T1.
1 is applied to the drain of the transfer transistor Q3. Further, an "H" level signal is applied to the drain of the transfer transistor Q4 from the inverter I via the column selection transistor T11. The drive transistor Q1 is turned on and the drive transistor Q2 is turned off. The potential of the storage node N1 is "L" level, the potential of the storage node N2 becomes the "H" level, the memory cell M 11 "0" data is written.
【0015】図1の実施例で説明すれば、行デコーダ2
からワード線51〜56に入力されるアドレス信号がど
のような状態であったとしても、制御端子C1を介して
一括制御信号S1が入力されると、ORゲート71〜7
6の出力は、全て“H”レベルとなり、ワード線51〜
56に印加される。各メモリセルM11, M12…,M21 ,
M22…の転送トランジスタはオン状態にセットされる。
一方、列デコーダ4の各列選択トランジスタ(T11,
T21),(T12,T22),(T13, T23)…
が順次選択され、順次メモリセルに同一の「0」データ
が書き込まれる。In the embodiment of FIG. 1, the row decoder 2
When the collective control signal S1 is input via the control terminal C1, no matter what the state of the address signals input from the word lines 51 to 56 to the OR gates 71 to 7 is.
The outputs of 6 are all at "H" level, and the word lines 51 to
56 is applied. Each memory cell M 11, M 12, ..., M 21 ,
The transfer transistors of M 22 ... Are set to the ON state.
On the other hand, each column selection transistor (T11,
T21), (T12, T22), (T13, T23) ...
Are sequentially selected, and the same "0" data is sequentially written to the memory cells.
【0016】更に、図3の実施例では、図1の実施例に
おけるORゲート71〜74…の夫々の一方の入力端子
側に遅延回路81〜83が接続されたものである。一括
制御信号S1が印加されると、順次、ORゲート71〜
74から一点のタイミングで“H”レベルの信号が出力
されてワード線が順次選択される。このような遅延回路
は、タイミング設定手段であり、ワード線に順番に
“H”レベルの信号が印加され、書き込み動作が所定の
時間内に達成されるように付加されたものでり、配線に
電流集中が発生するのを解消することができる。比較的
大きな電流が流れても溶断しないような電源線にすれ
ば、遅延回路81〜83は必ずしも設ける必要はない。
又、上述のように遅延回路を用いることなく、タイミン
グ発生手段としてリングカウンタ等の論理回路を用いて
もよい。その場合は、パルス状の一括制御信号を印加す
ることによって、順次、ORゲート71〜74に“H”
レベルの信号を高速に印加してワード線51,52,5
3…の電位を“H”レベルとし、各メモリセルに同一デ
ータの書き込みを短時間に行うことができる。Further, in the embodiment of FIG. 3, delay circuits 81 to 83 are connected to one input terminal side of each of the OR gates 71 to 74 ... In the embodiment of FIG. When the collective control signal S1 is applied, the OR gates 71 to
The "H" level signal is output from 74 at the timing of one point, and the word lines are sequentially selected. Such a delay circuit is a timing setting means, which is added so that the "H" level signal is sequentially applied to the word lines and the write operation is accomplished within a predetermined time. It is possible to eliminate the occurrence of current concentration. The delay circuits 81 to 83 do not necessarily have to be provided as long as the power supply line is not blown even if a relatively large current flows.
Further, a logic circuit such as a ring counter may be used as the timing generating means without using the delay circuit as described above. In that case, by applying a pulse-shaped collective control signal, “H” is sequentially applied to the OR gates 71 to 74.
Applying the level signal at high speed, the word lines 51, 52, 5
By setting the potentials of 3 ... to "H" level, the same data can be written to each memory cell in a short time.
【0017】(実施例2)図4は、本発明に係るSRA
M装置の他の実施例を示すものである。図4に示すよう
に、図1の実施例とは異なり、本実施例では列デコーダ
側に一括制御する為の一括制御回路9が設けられてい
る。同図に於いて、列デコーダ4には、ANDゲート4
1〜44と列選択トランジスタ(T11,T21),
(T12,T22),(T13, T23),(T14,
T24)のゲート間にORゲート91〜94からなる一
括制御回路9が設けられている。ORゲート91〜94
の一方の入力端子は共通接続されて制御端子C2に接続
され、ORゲート91〜94の他方の入力端子はAND
ゲート41〜44の出力端子に接続されている。ORゲ
ート91〜94の出力端子は、列選択トランジスタ(T
11,T21),(T12,T22),(T13, T2
3),(T14,T24)の夫々の共通接続されたゲー
トに接続されている。(Embodiment 2) FIG. 4 shows an SRA according to the present invention.
9 shows another embodiment of the M device. As shown in FIG. 4, unlike the embodiment of FIG. 1, in this embodiment, a collective control circuit 9 for collective control is provided on the column decoder side. In the figure, the column decoder 4 includes an AND gate 4
1 to 44 and column selection transistors (T11, T21),
(T12, T22), (T13, T23), (T14,
A collective control circuit 9 including OR gates 91 to 94 is provided between the gates of T24). OR gates 91 to 94
One input terminal is commonly connected to the control terminal C2, and the other input terminals of the OR gates 91 to 94 are ANDed.
It is connected to the output terminals of the gates 41 to 44. The output terminals of the OR gates 91 to 94 are column selection transistors (T
11, T21), (T12, T22), (T13, T2
3) and (T14, T24) are connected to the commonly connected gates, respectively.
【0018】図1の実施例と同様に、行デコーダ2はA
NDゲート21〜26で構成され、その出力端子はワー
ド線51〜56と接続されている。又、一対のビット線
D1,D2の夫々は、列選択トランジスタ(T11〜T
14),(T21〜T24)のそれらの第1電極に夫々
接続され、それらの第2電極はセンスアンプ30 ,3 1
…に接続されている。次に、その動作を簡単に説明する
と、制御端子C2に一括制御信号S1が印加されると、
ORゲート91〜94を介して“H”レベルの信号が列
選択トランジスタ(T11〜T14),(T21〜T2
4)…の全てのゲートに入力されてオン状態となる。こ
のように入力データが書き込みできる状態として、行デ
コーダ2からの出力によって、ワード線51〜56に順
次書き込み信号(“H”レベルの信号)を入力して、順
次メモリセルに同一データの書き込みがなされる。各メ
モリセルの書き込み動作は図1の実施例と略同じ動作に
よってなされる。As in the embodiment of FIG. 1, the row decoder 2 is A
ND gates 21 to 26, whose output terminals are
Connected to the power lines 51 to 56. Also, a pair of bit lines
Each of D1 and D2 is a column selection transistor (T11 to T2).
14) and (T21 to T24) on their first electrodes, respectively.
Their second electrodes are connected to the sense amplifier 30, 3 1
…It is connected to the. Next, its operation will be briefly explained.
When the collective control signal S1 is applied to the control terminal C2,
An “H” level signal is output through the OR gates 91 to 94.
Select transistors (T11 to T14), (T21 to T2
4) All gates of ... Are input and turned on. This
The input data can be written like
Depending on the output from the coder 2, the word lines 51 to 56 are ordered.
Input the next write signal (“H” level signal), and
The same data is written in the next memory cell. Each
The write operation of the memory cell is almost the same as that of the embodiment of FIG.
Done by
【0019】(実施例3)図5は、本発明に係るSRA
M装置の他の実施例を示すものである。同図に於いて、
行デコーダ2とメモリセル1間にORゲート71〜76
からなる一括制御回路7とタイミング設定回路10が接
続されている。列デコーダ4にはORゲート91〜94
からなる一括制御回路9が設けられている。一括制御回
路7,9の接続は上記の実施例と同一であるので、その
説明は省略する。次に、その書き込み動作について簡単
に説明する。制御端子C1に制御信号S1が印加される
と、行,列方向の全てのメモリセルが選択し得る状態に
設定される。制御端子C3には制御信号S2が印加さ
れ、タイミング設定回路10が作動して順次ワード線5
1〜56を選択して同一データの書き込みがなされる。
また、制御信号S2を印加しない場合は、タイミング設
定回路10は、スルー状態に設定され、アドレス信号に
応じた信号が各ワード線に入力される。(Embodiment 3) FIG. 5 shows an SRA according to the present invention.
9 shows another embodiment of the M device. In the figure,
OR gates 71 to 76 are provided between the row decoder 2 and the memory cell 1.
The collective control circuit 7 and the timing setting circuit 10 are connected. The column decoder 4 has OR gates 91 to 94.
A collective control circuit 9 is provided. Since the connection of the collective control circuits 7 and 9 is the same as that of the above-mentioned embodiment, the description thereof will be omitted. Next, the write operation will be briefly described. When the control signal S1 is applied to the control terminal C1, all memory cells in the row and column directions are set to a selectable state. The control signal S2 is applied to the control terminal C3, the timing setting circuit 10 is operated, and the word line 5 is sequentially operated.
The same data is written by selecting 1 to 56.
When the control signal S2 is not applied, the timing setting circuit 10 is set to the through state, and the signal according to the address signal is input to each word line.
【0020】尚、タイミング設定回路10は列側に設け
てもよく、また、タイミング設定回路10を用いる代わ
りに図3の実施例の遅延回路を用いてもよいことは明ら
かである。更に、図5の実施例において、一括書込回路
7からタイミング設定回路10を介することなく、直接
ワード線に書き込み信号(“H”レベル)を印加して、
メモリセルアレイ1の全てのメモリセルを一括して同一
データの書き込みを行ってもよい。その場合には、動作
電流として比較的大きな電流が流れるので、電源線等の
配線が溶断しない十分な容量を有する配線とする必要が
ある。上記実施例では、メモリセルアレイが集積された
チップ単位で説明しているが、各チップ単位のメモリセ
ルアレイにはチップ選択信号CE*が入力される端子を
備えており、複数のチップを用いる場合には、チップ選
択信号CE*に同期させて上記実施例に説明した同一デ
ータを書き込みを行えばよい。It is obvious that the timing setting circuit 10 may be provided on the column side, and the delay circuit of the embodiment of FIG. 3 may be used instead of using the timing setting circuit 10. Further, in the embodiment of FIG. 5, the write signal (“H” level) is directly applied to the word line from the collective write circuit 7 without passing through the timing setting circuit 10.
The same data may be written to all the memory cells of the memory cell array 1 at once. In that case, since a relatively large current flows as an operating current, it is necessary to use a wiring having a sufficient capacity so that a wiring such as a power supply line does not melt. In the above embodiment, the description has been made on a chip unit basis in which the memory cell array is integrated. However, each chip unit memory cell array has a terminal to which the chip selection signal CE * is input, and when a plurality of chips are used. The same data described in the above embodiment may be written in synchronization with the chip selection signal CE *.
【0021】[0021]
【発明の効果】上述のように、本発明のSRAM装置
は、行、列デコーダに入力されるアドレス信号にかかわ
りなく、強制的な書き込み信号をメモリセルアレイの各
メモリセルに入力して一括或いは短時間に全てのメモリ
セルに同一データを書き込むようにしたものであり、S
RAM装置の用途拡大に極めて効果的であるとともに、
高速動作に寄与するものである。又、請求項1または2
に於けるSRAM装置は、メモリセルアレイに接続され
た各ワード線とビット線の何れか一方を全て選択した状
態とし、各行又は各列毎のメモリセルを一括して同一デ
ータを全てのメモリセルに短時間に書き込むことができ
る利点がある。又、請求項3に於けるSRAM装置は、
ワード線の全てに信号を供給する電圧供給手段と、ビッ
ト線を選択する列選択トランジスタの全てを選択状態と
する設定手段とを備えることによって、同一データを一
括して書き込みするか、又は、同一データの書き込み時
間を短縮することができる利点がある。又、請求項4に
於けるSRAM装置は、タイミング設定回路を備えるこ
とにより配線幅を従来と同じにできるので、配線長の増
大を解消できる利点がある。As described above, in the SRAM device of the present invention, a forced write signal is input to each memory cell of the memory cell array irrespective of the address signal input to the row and column decoders, either collectively or shortly. The same data is written in all the memory cells in time, and S
It is extremely effective for expanding the applications of RAM devices, and
This contributes to high-speed operation. Also, claim 1 or 2
In the SRAM device, the word line and the bit line connected to the memory cell array are all selected, and the memory cells in each row or column are collectively loaded with the same data in all the memory cells. There is an advantage that writing can be done in a short time. The SRAM device according to claim 3 is
By providing voltage supply means for supplying a signal to all of the word lines and setting means for setting all of the column selection transistors for selecting the bit lines, the same data can be collectively written or the same data can be written. There is an advantage that the data writing time can be shortened. In addition, the SRAM device according to the fourth aspect has the advantage that the increase in the wiring length can be eliminated because the wiring width can be made the same as the conventional one by including the timing setting circuit.
【図1】本発明に係るSRAM装置の一実施例を示す回
路図である。FIG. 1 is a circuit diagram showing an embodiment of an SRAM device according to the present invention.
【図2】図1のSRAM装置の要部を示す回路図であ
る。FIG. 2 is a circuit diagram showing a main part of the SRAM device of FIG.
【図3】遅延回路により書き込みタイミングを制御する
実施例を示す回路図である。FIG. 3 is a circuit diagram showing an embodiment in which a write timing is controlled by a delay circuit.
【図4】本発明に係るSRAM装置の他の実施例を示す
回路図である。FIG. 4 is a circuit diagram showing another embodiment of the SRAM device according to the present invention.
【図5】本発明に係るSRAM装置の他の実施例を示す
回路図である。FIG. 5 is a circuit diagram showing another embodiment of the SRAM device according to the present invention.
【図6】従来のSRAM装置のブロック図である。FIG. 6 is a block diagram of a conventional SRAM device.
【図7】従来のSRAM装置の一例を示す回路図であ
る。FIG. 7 is a circuit diagram showing an example of a conventional SRAM device.
【図8】図7のSRAM装置の要部を示す回路図であ
る。8 is a circuit diagram showing a main part of the SRAM device of FIG.
1 メモリセルアレイ 2 行デコーダ 3,30 ,31 センスアンプ 4 列デコーダ 7,9 一括制御回路 10 タイミング設定回路 21〜26,41〜44 ANDゲート 51〜56 ワード線 71〜76,91〜94 ORゲート T11〜T14,T21〜T24 列選択トランジスタ1 memory cell array 2 row decoder 3, 3 0 , 3 1 sense amplifier 4 column decoder 7, 9 batch control circuit 10 timing setting circuit 21-26, 41-44 AND gate 51-56 word line 71-76, 91-94 OR gate T 11 ~T 14, T 21 ~T 24 column selecting transistors
Claims (4)
アレイの行方向にワード線、列方向にビット線が夫々設
けられたSRAM装置に於いて、 前記ワード線の全てに書き込み電圧を印加する電圧供給
手段と、 前記ビット線を順次選択する選択手段とを具備し、 前記電圧供給手段と前記選択手段によって前記メモリセ
ルアレイの各メモリセルに同一データを書き込むことを
特徴とするSRAM装置。1. In an SRAM device in which word lines are provided in a row direction and bit lines are provided in a column direction of a memory cell array arranged in a matrix, a voltage supply means for applying a write voltage to all of the word lines. And a selecting means for sequentially selecting the bit lines, wherein the same data is written in each memory cell of the memory cell array by the voltage supplying means and the selecting means.
アレイの行方向にワード線、列方向にビット線が夫々設
けられたSRAM装置に於いて、 前記ビット線の全てを選択状態とする選択手段と、 前記ワード線に書き込み電圧を順次印加する電圧供給手
段とを具備し、 前記電圧供給手段と前記選択手段によって前記メモリセ
ルアレイの各メモリセルに同一データを書き込むことを
特徴とするSRAM装置。2. An SRAM device in which word lines are provided in the row direction and bit lines are provided in the column direction of a memory cell array arranged in a matrix, and a selection means for bringing all of the bit lines into a selected state, A SRAM device comprising: a voltage supply unit that sequentially applies a write voltage to the word line, wherein the same data is written to each memory cell of the memory cell array by the voltage supply unit and the selection unit.
アレイの行方向にワード線、列方向にビット線が夫々設
けられてなるSRAM装置に於いて、 前記ワード線の全てに書き込み電圧を供給する電圧供給
手段と、 前記ビット線の全てを選択状態とする設定手段と、 を具備することを特徴とするSRAM装置。3. An SRAM device in which word lines are provided in a row direction and bit lines are provided in a column direction of a memory cell array arranged in a matrix, and a voltage supply for supplying a write voltage to all of the word lines is provided. An SRAM device comprising: means and setting means for setting all of the bit lines to a selected state.
れか一方を順次作動させて同一データの書き込みを行う
タイミング設定手段を具備することを特徴とする請求項
3に記載のSRAM装置。4. The SRAM device according to claim 3, further comprising a timing setting unit that sequentially operates one of the voltage supply unit and the setting unit to write the same data.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6195225A JPH0863968A (en) | 1994-08-19 | 1994-08-19 | Sram device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6195225A JPH0863968A (en) | 1994-08-19 | 1994-08-19 | Sram device |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0863968A true JPH0863968A (en) | 1996-03-08 |
Family
ID=16337555
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP6195225A Withdrawn JPH0863968A (en) | 1994-08-19 | 1994-08-19 | Sram device |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0863968A (en) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006202397A (en) * | 2005-01-20 | 2006-08-03 | Fujitsu Ltd | Semiconductor memory |
US12153808B2 (en) | 2022-02-23 | 2024-11-26 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Memory device and data initialization method of the same |
-
1994
- 1994-08-19 JP JP6195225A patent/JPH0863968A/en not_active Withdrawn
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006202397A (en) * | 2005-01-20 | 2006-08-03 | Fujitsu Ltd | Semiconductor memory |
US12153808B2 (en) | 2022-02-23 | 2024-11-26 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Memory device and data initialization method of the same |
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