JPH0852549A - 表面性状の優れた鋳片の製造方法 - Google Patents
表面性状の優れた鋳片の製造方法Info
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- JPH0852549A JPH0852549A JP21056994A JP21056994A JPH0852549A JP H0852549 A JPH0852549 A JP H0852549A JP 21056994 A JP21056994 A JP 21056994A JP 21056994 A JP21056994 A JP 21056994A JP H0852549 A JPH0852549 A JP H0852549A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 メニスカス部の溶湯の温度を上昇させると共
にその流速を上昇させて、表面性状の優れた鋳片の製造
方法を提供する。 【構成】 断面四角形の鋳型１０に左右両側に吐出口１
１を有する浸漬ノズル１２より溶湯を供給し鋳片を連続
して製造する方法において、浸漬ノズル１２よりやや下
位置の鋳型１０内に全幅方向に広がる略均等な磁束密度
の静磁界１３を発生させ、更に、浸漬ノズル１２の吐出
口１１を水平から上方１５度間に向けた。
にその流速を上昇させて、表面性状の優れた鋳片の製造
方法を提供する。 【構成】 断面四角形の鋳型１０に左右両側に吐出口１
１を有する浸漬ノズル１２より溶湯を供給し鋳片を連続
して製造する方法において、浸漬ノズル１２よりやや下
位置の鋳型１０内に全幅方向に広がる略均等な磁束密度
の静磁界１３を発生させ、更に、浸漬ノズル１２の吐出
口１１を水平から上方１５度間に向けた。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、普通鋼、ステンレス鋼
等の連続鋳造において、メニスカス部の溶鋼温度、流速
を上昇して表面性状の優れた鋳片を製造する方法に関す
る。
等の連続鋳造において、メニスカス部の溶鋼温度、流速
を上昇して表面性状の優れた鋳片を製造する方法に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】普通鋼、ステンレス鋼の連続鋳造におい
ては、タンディッシュに収納した溶湯を、その底部に接
続した浸漬ノズルを経由して連続鋳造用鋳型に導き、下
部から連続的に鋳片を製造することが行われている。そ
して、前記浸漬ノズルから鋳型内に注入される溶湯に
は、多数の気泡や介在物を含み、これらの介在物や気泡
が鋳片内に侵入すると欠陥となるので、例えば、特公平
２−２０３４９号公報においては、浸漬ノズルから注入
される溶融金属の流れに対してブレーキをかけ、溶湯中
の前記介在物が鋳型深くに侵入するのを防止する連続鋳
造モールド内の溶融金属の攪拌方法が提案されている。
また、特開平３−１４２０４９号公報においては、鋳型
の対向側壁の各背面の上下に各一対の磁極を配置し、下
部の磁極で浸漬ノズルからの吐出流による下降流の抑制
を行い、上部の磁極で反転流によるメニスカス部の溶湯
流速を低減することにより、介在物の侵入とメニスカス
部からパウダー巻き込みの抑制を行う静磁場を用いた鋼
の連続鋳造方法が提案されている。そして、特開平４−
４１０５８号公報においては、鋳型内で浸漬ノズルの吐
出口位置に鋳造方向に磁界が向いた静磁界を設けること
によって、吐出流起因の介在物の侵入を防止する鋳型内
溶融金属の流動制御装置が提案されている。
ては、タンディッシュに収納した溶湯を、その底部に接
続した浸漬ノズルを経由して連続鋳造用鋳型に導き、下
部から連続的に鋳片を製造することが行われている。そ
して、前記浸漬ノズルから鋳型内に注入される溶湯に
は、多数の気泡や介在物を含み、これらの介在物や気泡
が鋳片内に侵入すると欠陥となるので、例えば、特公平
２−２０３４９号公報においては、浸漬ノズルから注入
される溶融金属の流れに対してブレーキをかけ、溶湯中
の前記介在物が鋳型深くに侵入するのを防止する連続鋳
造モールド内の溶融金属の攪拌方法が提案されている。
また、特開平３−１４２０４９号公報においては、鋳型
の対向側壁の各背面の上下に各一対の磁極を配置し、下
部の磁極で浸漬ノズルからの吐出流による下降流の抑制
を行い、上部の磁極で反転流によるメニスカス部の溶湯
流速を低減することにより、介在物の侵入とメニスカス
部からパウダー巻き込みの抑制を行う静磁場を用いた鋼
の連続鋳造方法が提案されている。そして、特開平４−
４１０５８号公報においては、鋳型内で浸漬ノズルの吐
出口位置に鋳造方向に磁界が向いた静磁界を設けること
によって、吐出流起因の介在物の侵入を防止する鋳型内
溶融金属の流動制御装置が提案されている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前記公
報記載の方法は、主として浸漬ノズルから鋳型内に注入
される溶湯の流れを抑制して、介在物の侵入抑制、パウ
ダー巻き込みの低減を目的としたものであり、メニスカ
ス部の溶湯の流速上昇や、溶湯温度の上昇に対しては十
分な効果が得られない。そこで、本発明者は図４に示す
ように浸漬ノズル５０のやや下位置の鋳型５１内に全幅
方向に広がる略均等な磁束密度の静磁界５２を発生さ
せ、これによって下降する溶湯にブレーキを与え、メニ
スカス部５３の溶湯の流速を上昇し、更には上部の溶湯
の温度のタンディッシュ温度からの低下を抑制して、溶
湯中に含有する介在物等を浮上分離、パウダーの巻き込
み防止に有効に作用する鋳造方法を開発した。ところ
が、浸漬ノズル５０から吐出する溶湯の速度が速く、磁
場の大きさが大きい場合には浸漬ノズル５０から吐出す
る溶湯流５４に対向してＭＨＤ対向流５５が発生し、こ
れによって溶湯中に含まれるアルゴンガスの小気泡が中
央側に集まり、鋳型５１の側面に付着して、そのまま凝
固してピンホールが発生し易いという問題が生じた。ま
た、図５に示すように浸漬ノズル５０の溶湯の吐出角が
下を向いている等の理由からメニスカス部５３の溶湯の
温度が低い場合には、凝固シェル５６の先端が異常に成
長し、鋳片にオシレーションマーク乱れが発生し、圧延
疵（ヘゲ）が発生する場合があった。以上の欠陥はステ
ンレス鋼の場合には表面欠陥として顕著に現れるが、普
通鋼の鋳造においても同様に生じる問題点であった。本
発明はかかる事情に鑑みなされたもので、メニスカス部
の溶湯の温度を上昇させると共にその流速を上昇させ
て、表面性状の優れた鋳片の製造方法を提供することを
目的とする。
報記載の方法は、主として浸漬ノズルから鋳型内に注入
される溶湯の流れを抑制して、介在物の侵入抑制、パウ
ダー巻き込みの低減を目的としたものであり、メニスカ
ス部の溶湯の流速上昇や、溶湯温度の上昇に対しては十
分な効果が得られない。そこで、本発明者は図４に示す
ように浸漬ノズル５０のやや下位置の鋳型５１内に全幅
方向に広がる略均等な磁束密度の静磁界５２を発生さ
せ、これによって下降する溶湯にブレーキを与え、メニ
スカス部５３の溶湯の流速を上昇し、更には上部の溶湯
の温度のタンディッシュ温度からの低下を抑制して、溶
湯中に含有する介在物等を浮上分離、パウダーの巻き込
み防止に有効に作用する鋳造方法を開発した。ところ
が、浸漬ノズル５０から吐出する溶湯の速度が速く、磁
場の大きさが大きい場合には浸漬ノズル５０から吐出す
る溶湯流５４に対向してＭＨＤ対向流５５が発生し、こ
れによって溶湯中に含まれるアルゴンガスの小気泡が中
央側に集まり、鋳型５１の側面に付着して、そのまま凝
固してピンホールが発生し易いという問題が生じた。ま
た、図５に示すように浸漬ノズル５０の溶湯の吐出角が
下を向いている等の理由からメニスカス部５３の溶湯の
温度が低い場合には、凝固シェル５６の先端が異常に成
長し、鋳片にオシレーションマーク乱れが発生し、圧延
疵（ヘゲ）が発生する場合があった。以上の欠陥はステ
ンレス鋼の場合には表面欠陥として顕著に現れるが、普
通鋼の鋳造においても同様に生じる問題点であった。本
発明はかかる事情に鑑みなされたもので、メニスカス部
の溶湯の温度を上昇させると共にその流速を上昇させ
て、表面性状の優れた鋳片の製造方法を提供することを
目的とする。
【０００４】
【課題を解決するための手段】前記目的に沿う請求項１
記載の表面性状の優れた鋳片の製造方法は、断面四角形
の鋳型に左右両側に吐出口を有する浸漬ノズルより溶湯
を供給し鋳片を連続して製造する方法において、前記浸
漬ノズルよりやや下位置の前記鋳型内に全幅方向に広が
る略均等な磁束密度の静磁界を発生させ、更に、前記浸
漬ノズルの吐出口を水平から上方１５度間に向けて構成
されている。そして、請求項２記載の表面性状の優れた
鋳片の製造方法は、請求項１記載の方法において、前記
静磁界はその上端がメニスカス部から下方２００〜８０
０ｍｍの位置にあるように構成されている。なお、請求
項１又は２記載の表面性状の優れた鋳片の製造方法にお
いて、前記静磁界の磁束密度は０．１〜１Ｔの間にある
ようにするのが好ましい。
記載の表面性状の優れた鋳片の製造方法は、断面四角形
の鋳型に左右両側に吐出口を有する浸漬ノズルより溶湯
を供給し鋳片を連続して製造する方法において、前記浸
漬ノズルよりやや下位置の前記鋳型内に全幅方向に広が
る略均等な磁束密度の静磁界を発生させ、更に、前記浸
漬ノズルの吐出口を水平から上方１５度間に向けて構成
されている。そして、請求項２記載の表面性状の優れた
鋳片の製造方法は、請求項１記載の方法において、前記
静磁界はその上端がメニスカス部から下方２００〜８０
０ｍｍの位置にあるように構成されている。なお、請求
項１又は２記載の表面性状の優れた鋳片の製造方法にお
いて、前記静磁界の磁束密度は０．１〜１Ｔの間にある
ようにするのが好ましい。
【０００５】
【作用】請求項１及び２記載の表面性状の優れた鋳片の
製造方法においては、浸漬ノズルの吐出口よりやや下位
置の鋳型内に全幅方向に広がる略均等な磁束密度の静磁
界を発生させているので、浸漬ノズルの吐出口からやや
下位置にブレーキゾーンを設けたことになり、これによ
って浸漬ノズルから吐出する溶湯は水平方向からやや上
部方向に広がり側壁に沿って上昇し、上部のメニスカス
部では両側から内側に流れる溶湯の流速が増大する。こ
れによって、浸漬ノズルから吐出する溶湯の主部はブレ
ーキゾーンの上部のみを流れ、下方の冷却ゾーンに流れ
込み難いので、溶湯の温度が高く、これによって介在物
が浮上分離し易く、更にはパウダーの溶融層の厚みが拡
大し、スラグベアの発生が防止される。しかも溶湯の流
速が大きいので、溶湯の温度が均一になり、凝固シェル
の異常成長が抑制される。そして、浸漬ノズルの吐出口
の角度が水平から上向き１５度の範囲にあるので、下降
流が少なくなり、これによって下部の静磁界によって発
生するＭＨＤ対向流が減少し、結果として溶湯内の気泡
の集中がなくなる。そして、図２に示すように、浸漬ノ
ズルの吐出口が上向き１５度を超えるとパウダー巻き込
みが増加する。特に、請求項２記載の表面性状の優れた
鋳片の製造方法においては、静磁界の上端をメニスカス
部が２００〜８００ｍｍにしている。これは、図３に示
すように２００ｍｍより小さいと静磁界によって封じ込
められる体積が減少するので、パウダー巻き込みが発生
しやすく、８００ｍｍを超えると静磁界によって封じ込
められる体積が大き過ぎるので、その部分の温度偏差が
大きくなって、静磁界を設けた有効性が享受されないか
らである。
製造方法においては、浸漬ノズルの吐出口よりやや下位
置の鋳型内に全幅方向に広がる略均等な磁束密度の静磁
界を発生させているので、浸漬ノズルの吐出口からやや
下位置にブレーキゾーンを設けたことになり、これによ
って浸漬ノズルから吐出する溶湯は水平方向からやや上
部方向に広がり側壁に沿って上昇し、上部のメニスカス
部では両側から内側に流れる溶湯の流速が増大する。こ
れによって、浸漬ノズルから吐出する溶湯の主部はブレ
ーキゾーンの上部のみを流れ、下方の冷却ゾーンに流れ
込み難いので、溶湯の温度が高く、これによって介在物
が浮上分離し易く、更にはパウダーの溶融層の厚みが拡
大し、スラグベアの発生が防止される。しかも溶湯の流
速が大きいので、溶湯の温度が均一になり、凝固シェル
の異常成長が抑制される。そして、浸漬ノズルの吐出口
の角度が水平から上向き１５度の範囲にあるので、下降
流が少なくなり、これによって下部の静磁界によって発
生するＭＨＤ対向流が減少し、結果として溶湯内の気泡
の集中がなくなる。そして、図２に示すように、浸漬ノ
ズルの吐出口が上向き１５度を超えるとパウダー巻き込
みが増加する。特に、請求項２記載の表面性状の優れた
鋳片の製造方法においては、静磁界の上端をメニスカス
部が２００〜８００ｍｍにしている。これは、図３に示
すように２００ｍｍより小さいと静磁界によって封じ込
められる体積が減少するので、パウダー巻き込みが発生
しやすく、８００ｍｍを超えると静磁界によって封じ込
められる体積が大き過ぎるので、その部分の温度偏差が
大きくなって、静磁界を設けた有効性が享受されないか
らである。
【０００６】
【実施例】続いて、添付した図面を参照しつつ、本発明
を具体化した実施例につき説明し、本発明の理解に供す
る。ここに、図１は本発明の一実施例に係る表面性状の
優れた鋳片の製造方法の概略説明図である。
を具体化した実施例につき説明し、本発明の理解に供す
る。ここに、図１は本発明の一実施例に係る表面性状の
優れた鋳片の製造方法の概略説明図である。
【０００７】図１に本発明の一実施例に係る表面性状の
優れたステンレス鋳片の製造方法を示すが、図に示すよ
うに厚みが０．２５ｍ、幅が１．２ｍの連続鋳造用鋳型
１０を用い、両側の吐出口１１が水平方向に向いた浸漬
ノズル１２を、連続鋳造用鋳型１０の中央でメニスカス
部から吐出口１１の位置が２５０ｍｍの位置になるよう
に配置し、その１００ｍｍ下方の位置に電磁石からなる
幅約５０ｍｍの磁極１３を対向して配置し、金型内に約
０．３Ｔの静磁界を発生させ鋳造速度０．６ｍ／ｍｉｎ
で鋳造を行った。
優れたステンレス鋳片の製造方法を示すが、図に示すよ
うに厚みが０．２５ｍ、幅が１．２ｍの連続鋳造用鋳型
１０を用い、両側の吐出口１１が水平方向に向いた浸漬
ノズル１２を、連続鋳造用鋳型１０の中央でメニスカス
部から吐出口１１の位置が２５０ｍｍの位置になるよう
に配置し、その１００ｍｍ下方の位置に電磁石からなる
幅約５０ｍｍの磁極１３を対向して配置し、金型内に約
０．３Ｔの静磁界を発生させ鋳造速度０．６ｍ／ｍｉｎ
で鋳造を行った。
【０００８】これによって、メニスカス部の溶湯の温度
が上昇し、その流速も確保されたので、パウダー疵を防
止できると共に、ピンホールも防止でき圧延時の表面欠
陥の少ないステンレス鋳片を製造できた。
が上昇し、その流速も確保されたので、パウダー疵を防
止できると共に、ピンホールも防止でき圧延時の表面欠
陥の少ないステンレス鋳片を製造できた。
【０００９】比較実験のために、浸漬ノズルに溶湯の吐
出角が下向き１５度のものを用い、他の条件は前記実施
例と同一にして実験を行うと、メニスカス部の溶湯温度
は磁極１３を励磁しない場合より上昇したが、ＭＨＤ対
向流に伴う気泡が中央に多数発生し、ピンホールが多発
した。また、連続鋳造用鋳型１０内の幅方向の温度偏差
が大きくなって、オシレーションマークが乱れた鋳片と
なり、この鋳片を圧延したところ、すじ状の欠陥（ヘ
ゲ）が多発した。
出角が下向き１５度のものを用い、他の条件は前記実施
例と同一にして実験を行うと、メニスカス部の溶湯温度
は磁極１３を励磁しない場合より上昇したが、ＭＨＤ対
向流に伴う気泡が中央に多数発生し、ピンホールが多発
した。また、連続鋳造用鋳型１０内の幅方向の温度偏差
が大きくなって、オシレーションマークが乱れた鋳片と
なり、この鋳片を圧延したところ、すじ状の欠陥（ヘ
ゲ）が多発した。
【００１０】次に、前記磁極１３の励磁を弱めて、連続
鋳造用鋳型１０内の磁束密度を０．１Ｔにすると、ＭＨ
Ｄ対向流の減少に伴いピンホールは減少したが、鋳型内
のメニスカス部のパウダーが固化してスラグベアが発生
し、鋳片の圧延時にパウダー疵が発生した。これは、浸
漬ノズルの吐出角が下向き１５度であって、しかもブレ
ーキゾーンを形成する磁束密度も小さいので、下方にも
溶湯が流れ、結果としてメニスカス部の溶湯速度及び溶
湯温度が下がった結果と判断される。
鋳造用鋳型１０内の磁束密度を０．１Ｔにすると、ＭＨ
Ｄ対向流の減少に伴いピンホールは減少したが、鋳型内
のメニスカス部のパウダーが固化してスラグベアが発生
し、鋳片の圧延時にパウダー疵が発生した。これは、浸
漬ノズルの吐出角が下向き１５度であって、しかもブレ
ーキゾーンを形成する磁束密度も小さいので、下方にも
溶湯が流れ、結果としてメニスカス部の溶湯速度及び溶
湯温度が下がった結果と判断される。
【００１１】
【発明の効果】請求項１及び２記載の表面性状の優れた
鋳片の製造方法は以上の説明からも明らかなように、浸
漬ノズルから吐出する溶湯を有効に制動して、欠陥の極
めて少ない高清浄度鋼を安定して製造できる。
鋳片の製造方法は以上の説明からも明らかなように、浸
漬ノズルから吐出する溶湯を有効に制動して、欠陥の極
めて少ない高清浄度鋼を安定して製造できる。
【図１】本発明の一実施例に係る表面性状の優れた鋳片
の製造方法の概略説明図である。
の製造方法の概略説明図である。
【図２】パウダー巻き込み指数と浸漬ノズル上向き角度
との関係を示すグラフである。
との関係を示すグラフである。
【図３】パウダー巻き込み指数、溶鋼温度偏差及びメニ
スカス部から磁極上端位置までの距離との関係を示すグ
ラフである。
スカス部から磁極上端位置までの距離との関係を示すグ
ラフである。
【図４】鋳型の下部に静磁界を設けた場合の鋳造状況の
説明図である。
説明図である。
【図５】凝固シェルの異常成長状況を示す説明図であ
る。
る。
１０ 連続鋳造用鋳型 １１ 吐出口 １２ 浸漬ノズル １３ 磁極
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 久富 良一 福岡県北九州市戸畑区飛幡町１番１号 新 日本製鐵株式会社八幡製鐵所内
Claims (2)
- 【請求項１】 断面四角形の鋳型に左右両側に吐出口を
有する浸漬ノズルより溶湯を供給し鋳片を連続して製造
する方法において、 前記浸漬ノズルよりやや下位置の前記鋳型内に全幅方向
に広がる略均等な磁束密度の静磁界を発生させ、 更に、前記浸漬ノズルの吐出口を水平から上方１５度間
に向けたことを特徴とする表面性状の優れた鋳片の製造
方法。 - 【請求項２】 前記静磁界は、その上端がメニスカス部
から下方２００〜８００ｍｍの位置にある請求項１記載
の表面性状の優れた鋳片の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21056994A JPH0852549A (ja) | 1994-08-10 | 1994-08-10 | 表面性状の優れた鋳片の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21056994A JPH0852549A (ja) | 1994-08-10 | 1994-08-10 | 表面性状の優れた鋳片の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0852549A true JPH0852549A (ja) | 1996-02-27 |
Family
ID=16591496
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP21056994A Withdrawn JPH0852549A (ja) | 1994-08-10 | 1994-08-10 | 表面性状の優れた鋳片の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0852549A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP6129435B1 (ja) * | 2016-09-16 | 2017-05-17 | 日新製鋼株式会社 | 連続鋳造法 |
-
1994
- 1994-08-10 JP JP21056994A patent/JPH0852549A/ja not_active Withdrawn
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP6129435B1 (ja) * | 2016-09-16 | 2017-05-17 | 日新製鋼株式会社 | 連続鋳造法 |
| WO2018051483A1 (ja) * | 2016-09-16 | 2018-03-22 | 日新製鋼株式会社 | 連続鋳造法 |
| KR20190064593A (ko) * | 2016-09-16 | 2019-06-10 | 닛테츠 닛신 세이코 가부시키가이샤 | 연속 주조법 |
| CN110035844A (zh) * | 2016-09-16 | 2019-07-19 | 日新制钢株式会社 | 连续铸造法 |
| RU2718442C1 (ru) * | 2016-09-16 | 2020-04-06 | Ниппон Стил Стэйнлесс Стил Корпорейшн | Способ непрерывной разливки |
| US10751791B2 (en) | 2016-09-16 | 2020-08-25 | Nippon Steel Stainless Steel Corporation | Continuous casting method |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
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