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JPH08339776A - Electron beam microanalyzer - Google Patents

Electron beam microanalyzer

Info

Publication number
JPH08339776A
JPH08339776A JP7142800A JP14280095A JPH08339776A JP H08339776 A JPH08339776 A JP H08339776A JP 7142800 A JP7142800 A JP 7142800A JP 14280095 A JP14280095 A JP 14280095A JP H08339776 A JPH08339776 A JP H08339776A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
analysis
image
data
analytical
electron beam
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
JP7142800A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Akira Ogoshi
暁 大越
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Shimadzu Corp
Original Assignee
Shimadzu Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Shimadzu Corp filed Critical Shimadzu Corp
Priority to JP7142800A priority Critical patent/JPH08339776A/en
Publication of JPH08339776A publication Critical patent/JPH08339776A/en
Withdrawn legal-status Critical Current

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  • Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)

Abstract

PURPOSE: To facilitate recognition of an analytical position by storing a surface shape image of a secondary electron image, X-ray image, or the like of a sample as an image data, and sight-displaying coordinate position information and a comment correlated. CONSTITUTION: A CPU20 reads a surface shape image of a sample 4 detected by a secondary electron from a frame memory 14, to store an image data, displayed in a display device 22 to determine an analytical position, in an outside memory device 23, also to store a coordinate position data from a stage control part 7 and from a beam control part 8 and a comment input from an input device 21, in a coordinate position part. This operation is performed in a plurality of analytical positions, to prepare an analytical position table. Next from analytical position information, the analytical point is selected, to be stored in a memory device 24, and to from an analytic condition table for continuous analysis. The analysis is processed by successively reading respectively an analytical data, analytic point and a coordinate position, positioned, processed and stored in the memory device 23, and in the case of evaluating, it is performed by simultaneously displaying the analytical point and analytical data.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、電子線マイクロアナラ
イザに関し、特に、分析位置を表す情報の記憶,表示に
関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an electron beam microanalyzer, and more particularly to storage and display of information representing an analysis position.

【0002】[0002]

【従来の技術】電子線マイクロアナライザや走査電子顕
微鏡等の電子線を用いた装置によって試料の分析を行う
場合、分析位置を特定するために分析位置情報を記憶し
表示する必要がある。従来の装置では、試料が取り付け
られた試料ステージのX,Y,Z軸座標および必要に応
じて付せられたコメントを分析位置情報としている。そ
して、この分析位置情報をX,Y,Z軸座標とそのコメ
ントの一覧表示で表示し、該一覧表示を参照することに
よって定性分析や定量分析等の分析を行う際の分析位置
条件を設定している。また、これら分析位置情報を分析
データに付加することによって、分析データとともに分
析位置情報を参照する構成も従来知られている。
2. Description of the Related Art When a sample is analyzed by an apparatus using an electron beam such as an electron beam microanalyzer or a scanning electron microscope, it is necessary to store and display the analysis position information in order to specify the analysis position. In the conventional apparatus, the X, Y, and Z axis coordinates of the sample stage to which the sample is attached and the comment added as necessary are used as the analysis position information. Then, this analysis position information is displayed as a list display of X, Y, and Z axis coordinates and their comments, and by referring to the list display, analysis position conditions for performing analysis such as qualitative analysis and quantitative analysis are set. ing. Further, a configuration is also known in which the analysis position information is referred to together with the analysis data by adding the analysis position information to the analysis data.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
電子線マイクロアナライザでは、分析位置を容易に認識
することが困難であるという問題点がある。電子線マイ
クロアナライザによって試料分析を行う場合、分析位置
を決定する必要がある。分析位置の決定においては、二
次電子像や光学顕微鏡像といった表面形状像の観察を行
う必要がある。また、複数箇所の分析点について、連続
して分析を行う場合がある。このような連続分析では、
二次電子像や光学顕微鏡像を観察してあらかじめ分析位
置を決定して記憶しておき、その後、記憶した分析位置
に基づいて順次分析を行う。
However, the conventional electron beam microanalyzer has a problem that it is difficult to easily recognize the analysis position. When performing sample analysis with an electron beam microanalyzer, it is necessary to determine the analysis position. In determining the analysis position, it is necessary to observe a surface shape image such as a secondary electron image or an optical microscope image. Further, there are cases where analysis is performed continuously at a plurality of analysis points. In such a continuous analysis,
The secondary electron image or the optical microscope image is observed to determine and store the analysis position in advance, and then the analysis is sequentially performed based on the stored analysis position.

【0004】このような電子線マイクロアナライザによ
る複数分析点の連続分析では、昼夜にわたって長時間の
連続分析を行うな場合もあり、その場合の分析点数は数
十〜数百点に増大することになる。このような膨大な個
数の分析点について、従来の電子線マイクロアナライザ
のようにX,Y,Z座標やコメントのみの情報によって
分析点の指定を行うことは、操作性も悪く長時間を要す
ることになる。また、分析によって得られた定性分析や
定量分析等の分析データを解析する際、従来の分析デー
タに含まれる分析位置情報では不十分であって、正確な
分析位置を認識することができない。そのため、分析デ
ータに含まれる分析位置情報とは、別途に二次電子像等
の表面形状像の画像を記憶し、この画像を表示する必要
がある。そこで、本発明は前記した従来の電子線マイク
ロアナライザの問題点を解決し、分析位置を容易に認識
することができる電子線マイクロアナライザを提供する
ことを目的とする。
In such a continuous analysis of a plurality of analysis points by an electron beam microanalyzer, there is a case where a long-time continuous analysis is not performed all day and night, and in that case, the number of analysis points increases to several tens to several hundreds. Become. With respect to such a huge number of analysis points, it is not easy to operate and it takes a long time to specify the analysis points by using only the X, Y, Z coordinates and information such as a comment as in a conventional electron beam microanalyzer. become. Further, when analyzing analytical data such as qualitative analysis and quantitative analysis obtained by the analysis, the analytical position information included in the conventional analytical data is insufficient, and an accurate analytical position cannot be recognized. Therefore, it is necessary to separately store an image of a surface shape image such as a secondary electron image and display this image separately from the analysis position information included in the analysis data. Therefore, an object of the present invention is to solve the above-mentioned problems of the conventional electron beam microanalyzer and to provide an electron beam microanalyzer capable of easily recognizing an analysis position.

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段】本発明は、試料に電子線
を照射することによって試料分析を行う電子線マイクロ
アナライザにおいて、分析位置における表面形状像を検
出する像検出手段と、検出した表面形状像の画像を、分
析位置を表す分析位置指標として記憶する記憶手段と、
表面形状像の画像を表示する表示手段とを備えることに
よって、前記目的を達成する。本発明の電子線マイクロ
アナライザが備える像検出手段は、試料表面の表面形状
像を画像として検出する手段であって、例えば、二次電
子像を検出する二次電子検出器や、反射電子像を検出す
る反射電子検出器や、光学像を得る光学顕微鏡を適用す
ることができる。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention is an electron beam microanalyzer for analyzing a sample by irradiating the sample with an electron beam, and image detecting means for detecting a surface shape image at an analysis position, and the detected surface shape. Storage means for storing the image of the image as an analysis position index indicating the analysis position;
The above object is achieved by including a display unit for displaying an image of the surface shape image. The image detecting means included in the electron microanalyzer of the present invention is a means for detecting the surface shape image of the sample surface as an image, and, for example, a secondary electron detector for detecting a secondary electron image or a backscattered electron image. A backscattered electron detector for detection and an optical microscope for obtaining an optical image can be applied.

【0006】本発明の電子線マイクロアナライザは、種
々の分析位置を示す位置情報によって分析位置を表すこ
とができ、像検出手段が検出する二次元像は該分析位置
情報の一つであり、分析位置を示す指標として用いるこ
とができる。その他の分析位置情報としては、例えば、
分析点の分析位置を示すX,Y,Z座標や分析位置を示
す指標となるコメントを用いることができる。本発明の
記憶手段は、分析位置の位置情報や分析データを記憶す
る手段であり、分析位置を表す分析位置指標として表面
形状像の画像を記憶する。そして、この表面形状像の画
像を、その他の分析位置情報とともに表示することによ
って、分析位置の確認を容易とすることができる。
The electron beam microanalyzer of the present invention can represent an analysis position by position information indicating various analysis positions, and the two-dimensional image detected by the image detecting means is one of the analysis position information. It can be used as an index indicating the position. As other analysis position information, for example,
It is possible to use X, Y, Z coordinates indicating the analysis position of the analysis point and a comment serving as an index indicating the analysis position. The storage means of the present invention is means for storing position information and analysis data of an analysis position, and stores an image of a surface shape image as an analysis position index indicating the analysis position. By displaying the image of the surface shape image together with other analysis position information, it is possible to easily confirm the analysis position.

【0007】また、表面形状像の画像を、分析データと
ともに表示することによって、試料分析の解析を容易と
することができる。本発明の第1の実施態様は、表示手
段は表面形状像の画像とともにその他の分析位置情報や
分析データを一覧表示の形式で表示するものであり、こ
れによって、分析位置の認識を容易とし、また、分析点
にかかわる情報を一覧で確認することができる。本発明
の第2の実施態様は、表示手段は記憶手段に記憶してい
る表面形状像の画像データを画像圧縮して表示するもの
であり、これによって、表示数を増加させることができ
る。本発明の第3の実施態様は、分析点の分析位置を示
すX,Y,Z座標として、試料を支持するX,Y,Zス
テージやの電子ビーム走査制御部の制御信号から得られ
る座標データを用いるものであり、これによって、分析
点の分析位置を数値データとして得ることができる。
Further, by displaying the image of the surface shape image together with the analysis data, the analysis of the sample analysis can be facilitated. In the first embodiment of the present invention, the display means displays other analysis position information and analysis data together with the image of the surface shape image in the form of a list display, thereby facilitating the recognition of the analysis position, In addition, the information related to the analysis points can be confirmed in a list. In the second embodiment of the present invention, the display means performs image compression of the image data of the surface shape image stored in the storage means and displays it, whereby the number of displays can be increased. In the third embodiment of the present invention, coordinate data obtained from a control signal of an electron beam scanning controller of an X, Y, Z stage supporting a sample as X, Y, Z coordinates indicating an analysis position of an analysis point. Is used, whereby the analysis position of the analysis point can be obtained as numerical data.

【0008】[0008]

【作用】電子線マイクロアナライザは、試料に対して電
子線を照射し、この照射によって試料から放出される特
性X線を検出することによって試料の分析を行ってい
る。この試料分析を行う前に、試料上の分析点を決定す
る必要がある。そこで、試料に電子線を照射することに
より放出される二次電子像や、反射電子像や、あるいは
光学顕微鏡によって分析位置における表面形状像を求
め、この表面形状像を画像データとして記憶手段に記憶
する。この記憶手段は、表面形状像を画像データの他
に、試料を支持する試料ステージや電子ビーム走査部を
制御する制御信号から求めた試料のX,Y,Z軸の座標
位置やコメントを分析位置情報として記憶する。
The electron beam microanalyzer analyzes a sample by irradiating the sample with an electron beam and detecting characteristic X-rays emitted from the sample by this irradiation. Before performing this sample analysis, it is necessary to determine the analysis point on the sample. Therefore, a secondary electron image emitted by irradiating the sample with an electron beam, a backscattered electron image, or a surface shape image at the analysis position is obtained by an optical microscope, and this surface shape image is stored as image data in a storage means. To do. The storage means, in addition to the image data of the surface shape image, the X-, Y-, and Z-axis coordinate positions of the sample obtained from the control signal for controlling the sample stage supporting the sample and the electron beam scanning unit, and the analysis position. Store as information.

【0009】表示手段は、記憶手段に記憶されている画
像データや座標位置やコメント等の分析位置情報を一覧
表示する。この一覧表示で画像データを表示する場合に
は、記憶手段に記憶されている画像データを画像圧縮し
て表示を行うことができる。これによって、限られた表
示領域内における一定量の表示件数を確保することがで
きる。一覧表示された表面形状像やコメントを参照する
ことによって、試料上における分析点を選択する。複数
の分析点の連続分析を行う場合には、これによって、複
数の分析点を選択して設定を行う。その後、記憶手段か
ら、この設定した分析点について順にその座標位置を読
み出し、分析位置と電子線の照射位置を位置合わせし、
分析を行う。分析によって得られた分析データは、記憶
手段内に格納する。この記憶手段への分析データの格納
においては、表面形状像,座標位置,コメント等の分析
位置情報が記憶されている格納部分に格納したり、ある
いは該格納部分と関連付けて格納する。これによって、
分析データを分析位置情報とともに同時に表示すること
が可能となる。
The display means displays a list of image data and analysis position information such as coordinate positions and comments stored in the storage means. When displaying the image data in this list display, the image data stored in the storage means can be image-compressed and displayed. This makes it possible to secure a certain number of display items in the limited display area. The analysis point on the sample is selected by referring to the surface shape images and comments listed. When performing continuous analysis of a plurality of analysis points, a plurality of analysis points are selected and set by this. After that, from the storage means, the coordinate position is sequentially read for this set analysis point, and the analysis position and the irradiation position of the electron beam are aligned,
Perform an analysis. The analysis data obtained by the analysis is stored in the storage means. In the storage of the analysis data in the storage means, the analysis data is stored in a storage portion in which analysis position information such as a surface shape image, coordinate position, and comment is stored, or is stored in association with the storage portion. by this,
It becomes possible to simultaneously display analysis data together with analysis position information.

【0010】[0010]

【実施例】以下、本発明の実施例を図を参照しながら詳
細に説明する。 (本発明の実施例の構成)次に、本発明の一実施例の構
成例について、図1を用いて説明する。図1は本発明の
電子線マイクロアナライザ一実施例の構成を説明するブ
ロック図である。図1の電子線マイクロアナライザは、
電子銃1,電子ビーム走査部4,試料ステージ5,ステ
ージ操作部6,ステージ制御部7,電子ビーム走査制御
部8を備えており、試料4に対して電子ビーム2を照射
することによって、試料の分析を行う。ここで、試料ス
テージ5は、ステージ制御部7からの制御信号により制
御されるステージ操作部6によってX,Y,Z座標軸方
向に駆動され、また、電子ビーム2は、電子ビーム走査
制御部8からの制御信号によって走査される。
Embodiments of the present invention will now be described in detail with reference to the drawings. (Structure of Embodiment of the Present Invention) Next, a structure example of an embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. FIG. 1 is a block diagram illustrating the configuration of an embodiment of an electron beam microanalyzer of the present invention. The electron probe microanalyzer shown in FIG.
An electron gun 1, an electron beam scanning unit 4, a sample stage 5, a stage operating unit 6, a stage control unit 7, and an electron beam scanning control unit 8 are provided. By irradiating the sample 4 with the electron beam 2, Analyze. Here, the sample stage 5 is driven in the X-, Y-, and Z-coordinate axis directions by the stage operation unit 6 controlled by the control signal from the stage control unit 7, and the electron beam 2 is transmitted from the electron beam scanning control unit 8. Are scanned by the control signal.

【0011】また、試料分析を行う検出器としては、例
えば、試料4からのX線を分光して検出するX線検出器
10や、二次電子を検出する二次電子検出器12等を備
えることができる。X線検出器10によって検出された
X線強度は、X線信号処理部11で信号処理された後、
分析データとしてCPU20に入力される。また、二次
電子検出器12等によって検出された表面形状像のデー
タは、二次電子像処理部13で信号処理された後、画像
信号としてフレームメモリ14に格納される。さらに、
このフレームメモリ14はCPU20に接続されてい
る。
As the detector for analyzing the sample, for example, an X-ray detector 10 for spectrally detecting the X-rays from the sample 4 and a secondary electron detector 12 for detecting secondary electrons are provided. be able to. The X-ray intensity detected by the X-ray detector 10 is signal-processed by the X-ray signal processing unit 11,
It is input to the CPU 20 as analysis data. Further, the data of the surface shape image detected by the secondary electron detector 12 and the like is subjected to signal processing by the secondary electron image processing unit 13 and then stored in the frame memory 14 as an image signal. further,
The frame memory 14 is connected to the CPU 20.

【0012】CPU20には、前記したステージ制御部
7,電子ビーム走査制御部8,X線信号処理部11,お
よびフレームメモリ14の他に、入力装置21,表示装
置22,外部記憶装置23,および記憶装置24が接続
されている。入力装置21は、分析位置の指定や各種処
理の指令を行い、表示装置22は、分析点における表面
形状像や座標位置やコメント等の分析位置情報を一覧表
示したり、分析データを表示する。また、外部記憶装置
23は、一覧表示のための表面形状像や座標位置やコメ
ント等の分析位置情報や、分析データを記憶する。ま
た、記憶装置24は、選択した分析点や分析順等の分析
条件を記憶する。この分析条件は、分析条件テーブルの
形式で格納することができる。また、CPU20は、接
続した各部間の指令や信号の制御や、表面形状像の画像
データを一覧表示する際の画像圧縮処理を行う。
In addition to the stage controller 7, the electron beam scanning controller 8, the X-ray signal processor 11, and the frame memory 14, the CPU 20 includes an input device 21, a display device 22, an external storage device 23, and The storage device 24 is connected. The input device 21 designates an analysis position and commands various processing, and the display device 22 displays a list of analysis position information such as a surface shape image at the analysis point, coordinate positions, comments, and displays analysis data. Further, the external storage device 23 stores the surface shape image for displaying the list, the analysis position information such as the coordinate position and the comment, and the analysis data. The storage device 24 also stores analysis conditions such as selected analysis points and analysis order. This analysis condition can be stored in the form of an analysis condition table. The CPU 20 also controls commands and signals between the connected parts, and performs image compression processing when displaying a list of image data of surface shape images.

【0013】次に、本発明の外部記憶装置23が記憶す
るデータのデータ構造について、図2を用いて説明す
る。外部記憶装置23が記憶するデータは、分析位置情
報および分析データを含み、さらに分析位置情報は一覧
表示のための表面形状像,座標位置,およびコメント等
のデータを含んでいる。外部記憶装置23内でのデータ
構造は、例えば図2に示すように、関連するデータを一
つのファイルとして構成し、該ファイルにファイル番号
を付して特定するとともに、表面形状像を表すためのイ
メージデータ,座標位置を表すためのX,Y,Z座標の
位置データ,データの内容等を表すためのコメント,お
よび分析結果のデータをデータ内容とする。
Next, the data structure of the data stored in the external storage device 23 of the present invention will be described with reference to FIG. The data stored in the external storage device 23 includes analysis position information and analysis data, and the analysis position information includes data such as a surface shape image for displaying a list, coordinate positions, and comments. The data structure in the external storage device 23 is, for example, as shown in FIG. 2, configured with related data as a single file, and a file number is assigned to the file to specify the file, and a surface shape image is represented. Data contents are image data, X, Y, and Z coordinate position data for expressing coordinate positions, comments for expressing data contents, and analysis result data.

【0014】イメージデータは、二次電子検出器12に
よって得られた表面形状像のデータを画像処理して、例
えば500×500の画素について、各画素ごとに8ビ
ット,16ビット,あるいは32ビット等の深さ方向の
データの形式で格納することができ、これによって、表
面形状像を記憶することができる。なお、このイメージ
データは、二次電子検出器からのデータに限らず反射電
子検出器や光学顕微鏡から得られるデータを用いること
もできる。
The image data is obtained by subjecting the surface shape image data obtained by the secondary electron detector 12 to image processing and, for example, for 500 × 500 pixels, 8 bits, 16 bits, 32 bits, etc., for each pixel. Can be stored in the form of data in the depth direction, whereby the surface shape image can be stored. Note that this image data is not limited to data from the secondary electron detector, and data obtained from a backscattered electron detector or an optical microscope can also be used.

【0015】また、座標位置は、ステージ制御部7およ
び電子ビーム走査制御部8からの制御信号を基にして試
料4に対する位置データを求めることにより得られる。
なお、ステージ制御部7からのX,Y,Z座標のみを用
いて座標位置を求めることも、あるいはステージ制御部
7からのX,Y,Z座標と電子ビーム走査制御部8から
のX,Y方向のビームシフト量とを組み合わせてより正
確な座標位置を求めることもできる。なお、このビーム
シフト量は、試料の位置合わせにおける微調整量であ
る。
The coordinate position can be obtained by obtaining position data for the sample 4 based on control signals from the stage controller 7 and the electron beam scanning controller 8.
The coordinate position can be obtained using only the X, Y, Z coordinates from the stage controller 7, or the X, Y, Z coordinates from the stage controller 7 and the X, Y from the electron beam scanning controller 8 can be obtained. It is also possible to obtain a more accurate coordinate position by combining it with the beam shift amount in the direction. The beam shift amount is a fine adjustment amount for aligning the sample.

【0016】コメントは、試料の種類や、定量分析ある
いは定性分析等の分析の種類等の分析に関連する情報を
記憶することができる。なお、表面形状像,座標位置,
およびコメントの分析位置情報を表す部分を分析位置テ
ーブルとして区分することができる。また、分析データ
は、X線検出器10等によって得られた分析データであ
り、この分析データについては、図2に示すファイルデ
ータの領域内に格納することも、また、ファイルデータ
との関連性を持たせて他のデータ領域に格納することも
できる。次に、本発明の電子線マイクロアナライザが表
示する一覧表示の表示例について、図3を用いて説明す
る。
The comment can store information relating to analysis such as the type of sample and the type of analysis such as quantitative analysis or qualitative analysis. The surface shape image, coordinate position,
Also, the portion of the comment indicating the analysis position information can be divided as an analysis position table. Further, the analysis data is analysis data obtained by the X-ray detector 10 or the like, and the analysis data can be stored in the area of the file data shown in FIG. Can be stored in another data area. Next, a display example of the list display displayed by the electron beam microanalyzer of the present invention will be described with reference to FIG.

【0017】本発明の電子線マイクロアナライザは、試
料の分析点の選択等のために、分析位置情報を一覧表示
に形式で表示する。図3はこの一覧表示の表示例であ
る。前記図2に示したデータ構造のデータな中から分析
位置情報に関するデータを外部記憶装置23から読み出
し、表示装置22に表示することができる。表示装置2
2の表示部分には、複数個の分析点について、例えば、
その分析点を特定するファイル番号とともに、表面形状
像を表すイメージと座標位置とコメントを一覧で表示す
る。この一覧表示において表示されるイメージは、図2
中のイメージデータを画像圧縮して表示される。例え
ば、500×500の画素データを100×100の画
素データに画像圧縮して表示する。これによって、表示
件数の一定量確保を行う。また、このとき、深さ方向に
ついても画像圧縮して表示することもできる。
The electron beam microanalyzer of the present invention displays the analysis position information in the form of a list for selecting the analysis points of the sample and the like. FIG. 3 is a display example of this list display. Data relating to the analysis position information can be read from the external storage device 23 from the data having the data structure shown in FIG. 2 and displayed on the display device 22. Display device 2
In the display part of 2, for a plurality of analysis points, for example,
Along with the file number that specifies the analysis point, an image representing the surface shape image, coordinate positions, and comments are displayed in a list. The image displayed in this list display is shown in FIG.
The image data inside is compressed and displayed. For example, 500 × 500 pixel data is image-compressed into 100 × 100 pixel data and displayed. In this way, a certain amount of displayed items is secured. At this time, the image can be compressed and displayed in the depth direction.

【0018】また、このイメージ上において、分析点を
「×」の印で表示しておくこともできる。 (本発明の実施例の作用)次に、本発明の作用につい
て、図4〜図7の本発明の電子線マイクロアナライザの
動作を説明するための図を用いて説明する。なお、図4
〜図7では、図1に示した構成から説明に必要な部分の
みを抽出して示している。 (A)分析位置テーブルの形成:はじめに、分析位置情
報の一覧表示を行うための分析位置テーブルの形成を行
う。図4において、CPU20は、二次電子像を記憶し
ているフレームメモリ14から表面形状像のデータを読
み出して表示装置22に表示させる(図4中のa参
照)。表示された表面形状像を参照して分析位置を決定
する(図4中のd参照)とともに、フレームメモリ14
の画像データを外部記憶装置23内のイメージ部分に格
納し(図4中のb参照)、ステージ制御部7および電子
ビーム走査制御部8からの座標位置のデータを外部記憶
装置23内の座標位置部分に格納し(図4中のc参
照)、さらに、入力装置21から外部記憶装置23内の
座標位置部分にコメントを格納する(図4中のd参
照)。この処理を複数個の分析点について行って、分析
位置テーブルを形成する。
Further, on this image, the analysis point can be displayed by a mark "x". (Operation of the Embodiment of the Present Invention) Next, the operation of the present invention will be described with reference to FIGS. 4 to 7 for explaining the operation of the electron beam microanalyzer of the present invention. Note that FIG.
In FIG. 7, only the parts necessary for explanation are extracted and shown from the configuration shown in FIG. (A) Formation of analysis position table: First, an analysis position table for displaying a list of analysis position information is formed. In FIG. 4, the CPU 20 reads the surface shape image data from the frame memory 14 storing the secondary electron image and displays it on the display device 22 (see a in FIG. 4). The analysis position is determined by referring to the displayed surface shape image (see d in FIG. 4), and the frame memory 14
Image data is stored in the image portion of the external storage device 23 (see b in FIG. 4), and the coordinate position data from the stage control unit 7 and the electron beam scanning control unit 8 is stored in the external storage device 23. It is stored in the portion (see c in FIG. 4), and further, the comment is stored from the input device 21 to the coordinate position portion in the external storage device 23 (see d in FIG. 4). This processing is performed for a plurality of analysis points to form an analysis position table.

【0019】(B)分析条件テーブルの形成:次に、分
析点の連続分析を行うための分析条件テーブルの形成を
行う。図5において、CPU20は、外部記憶装置23
に記憶している分析位置テーブルから分析位置情報を読
み出し、表示装置22に一覧表示を行う。なお、このと
きイメージについては画像圧縮を行って表示する(図5
中のe参照)。表示装置22に表示された一覧表示を参
照して分析を行う分析点を選択し、この分析点を記憶装
置24中の格納して分析条件テーブルを形成する(図5
中のf参照)。
(B) Formation of analysis condition table: Next, an analysis condition table for performing continuous analysis of analysis points is formed. In FIG. 5, the CPU 20 has an external storage device 23.
The analysis position information is read from the analysis position table stored in the table, and a list is displayed on the display device 22. At this time, the image is displayed after being compressed.
(See e in the above). The analysis point to be analyzed is selected by referring to the list displayed on the display device 22, and the analysis point is stored in the storage device 24 to form the analysis condition table (FIG. 5).
(See f).

【0020】(C)分析データの形成:次に、分析点の
連続分析して分析データの形成を行う。図6において、
CPU20は記憶装置24の分析条件テーブルから分析
点を順に読み出し(図6中のg参照)、読み出した分析
点の座標位置を分析位置テーブルから読み出し、その座
標位置をステージ制御部7,電子ビーム走査制御部8に
送る(図6中のh参照)。これによって、試料上の分析
点の位置決めを行い、その後分析処理を行う。分析によ
って得られた分析データは、外部記憶装置23に格納し
て分析データを形成する(図6中のi参照)。
(C) Formation of analysis data: Next, analysis data is formed by continuous analysis of analysis points. In FIG.
The CPU 20 sequentially reads the analysis points from the analysis condition table of the storage device 24 (see g in FIG. 6), reads the coordinate position of the read analysis point from the analysis position table, and the coordinate position is read by the stage controller 7 and the electron beam scanning. It is sent to the control unit 8 (see h in FIG. 6). As a result, the analysis point on the sample is positioned, and then the analysis process is performed. The analysis data obtained by the analysis is stored in the external storage device 23 to form the analysis data (see i in FIG. 6).

【0021】(D)分析データの評価:次に、得られた
分析データの評価を行う。図7において、入力装置21
から外部記憶装置23に対して分析点を指定し(図7中
のj参照)、その分析点の一覧表示および分析データを
表示装置22に同時に表示し(図7中のk参照)、分析
データの評価を行う。 (実施例の効果)分析データとともに分析位置情報とし
ての二次元画像を一覧表示することができる。そして、
この一覧表示において、画像圧縮を行うことによって表
示件数の増大を図ることができる。また、分析データと
分析位置情報とを一つのファイルに記憶したり、あるい
は関連付けて記憶することによって、分析データと分析
位置情報を同時に表示することができる。
(D) Evaluation of analytical data: Next, the obtained analytical data is evaluated. In FIG. 7, the input device 21
Specify an analysis point to the external storage device 23 (see j in FIG. 7), and display a list of the analysis points and analysis data on the display device 22 at the same time (see k in FIG. 7). Evaluate. (Effect of Embodiment) A two-dimensional image as analysis position information can be displayed in a list together with analysis data. And
In this list display, the number of display items can be increased by performing image compression. Further, by storing the analysis data and the analysis position information in one file, or by storing them in association with each other, it is possible to simultaneously display the analysis data and the analysis position information.

【0022】[0022]

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
分析位置を容易に認識することができる電子線マイクロ
アナライザを提供することができる。
As described above, according to the present invention,
An electron beam microanalyzer capable of easily recognizing an analysis position can be provided.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の電子線マイクロアナライザ一実施例の
構成を説明するブロック図である。
FIG. 1 is a block diagram illustrating a configuration of an embodiment of an electron beam microanalyzer of the present invention.

【図2】本発明の外部記憶装置が記憶するデータのデー
タ構造を説明する図である。
FIG. 2 is a diagram illustrating a data structure of data stored in an external storage device of the present invention.

【図3】本発明の一覧表示の表示例である。FIG. 3 is a display example of a list display of the present invention.

【図4】本発明の分析位置テーブルの形成を説明する図
である。
FIG. 4 is a diagram illustrating formation of an analysis position table according to the present invention.

【図5】本発明の分析条件テーブルの形成を説明する図
である。
FIG. 5 is a diagram illustrating formation of an analysis condition table of the present invention.

【図6】本発明の分析データの形成を説明する図であ
る。
FIG. 6 is a diagram illustrating formation of analysis data according to the present invention.

【図7】本発明の分析データの評価を説明する図であ
る。
FIG. 7 is a diagram illustrating evaluation of analysis data according to the present invention.

【符号の説明】 1…電子銃、2…電子ビーム、3…電子ビーム走査部、
4…試料、5…試料ステージ、6…ステージ操作部、7
…ステージ制御部、8…電子ビーム走査制御部10…X
線検出器、11…X線信号処理部、12…二次電子検出
器、13…二次電子像処理部、14…フレームメモリ、
20…CPU、21…入力装置、22…表示装置、23
…外部記憶装置、24…記憶装置。
[Explanation of Codes] 1 ... Electron gun, 2 ... Electron beam, 3 ... Electron beam scanning unit,
4 ... Sample, 5 ... Sample stage, 6 ... Stage operation unit, 7
... Stage control unit, 8 ... Electron beam scanning control unit 10 ... X
Line detector, 11 ... X-ray signal processing unit, 12 ... Secondary electron detector, 13 ... Secondary electron image processing unit, 14 ... Frame memory,
20 ... CPU, 21 ... Input device, 22 ... Display device, 23
... external storage device, 24 ... storage device.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 試料に電子線を照射することによって試
料分析を行う電子線マイクロアナライザにおいて、分析
位置における表面形状像を検出する像検出手段と、前記
表面形状像の画像を、分析位置を表す分析位置指標とし
て記憶する記憶手段と、前記表面形状像の画像を表示す
る表示手段とを備えたことを特徴とする電子線マイクロ
アナライザ。
1. An electron beam micro-analyzer for analyzing a sample by irradiating the sample with an electron beam, the image detecting means for detecting a surface shape image at an analysis position, and an image of the surface shape image representing an analysis position. An electron beam microanalyzer, comprising: storage means for storing as an analysis position index; and display means for displaying an image of the surface shape image.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007093343A (en) * 2005-09-28 2007-04-12 Shimadzu Corp X-ray inspection device

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007093343A (en) * 2005-09-28 2007-04-12 Shimadzu Corp X-ray inspection device
JP4742782B2 (en) * 2005-09-28 2011-08-10 株式会社島津製作所 X-ray inspection equipment

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