JPH08330154A - Chip type coil and its manufacture - Google Patents
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Landscapes
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】この発明は、チップ型コイルおよ
びその製造方法に関するもので、特に、端子電極の構成
およびその形成方法の改良に関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a chip coil and a method for manufacturing the same, and more particularly to improvements in the structure of a terminal electrode and a method for forming the same.
【0002】[0002]
【従来の技術】図1には、この発明にとって興味あるチ
ップ型コイル1が一部破断されて斜視図で示されてい
る。このようなチップ型コイル1は、たとえば、数百M
Hz以上の高周波帯域で使用されるものであって、イン
ダクタンス値が数百nH以下とされている。2. Description of the Related Art FIG. 1 is a partially cutaway perspective view of a chip coil 1 which is of interest to the present invention. Such a chip type coil 1 is, for example, several hundred M
It is used in a high frequency band of Hz or more and has an inductance value of several hundreds nH or less.
【0003】図1を参照して、チップ型コイル1は、電
気絶縁性の基板2を備える。基板2上には、スパイラル
状に延びるコイル導体3が形成される。コイル導体3の
一方端部4は、基板2の端縁にまで延びる。コイル導体
3の他方端部5には、ジャンプ導体6が接続され、この
ジャンプ導体6は、コイル導体3の一部を覆う電気絶縁
パッチ7上に形成されながら基板2のもう一方の端縁に
まで延びる。Referring to FIG. 1, a chip type coil 1 includes an electrically insulating substrate 2. A coil conductor 3 extending in a spiral shape is formed on the substrate 2. The one end 4 of the coil conductor 3 extends to the edge of the substrate 2. A jump conductor 6 is connected to the other end portion 5 of the coil conductor 3, and the jump conductor 6 is formed on an electrically insulating patch 7 that covers a part of the coil conductor 3 and at the other end edge of the substrate 2. Extend to.
【0004】また、基板2上には、コイル導体3および
ジャンプ導体6を覆うように電気絶縁層8が形成され
る。そして、基板2の両端部には、1対の端子電極9お
よび10が形成される。コイル導体3の一方端部4は、
一方の端子電極9に電気的に接続され、同じく他方端部
5は、ジャンプ導体6を介して、他方の端子電極10に
電気的に接続される。An electric insulation layer 8 is formed on the substrate 2 so as to cover the coil conductor 3 and the jump conductor 6. Then, a pair of terminal electrodes 9 and 10 are formed on both ends of the substrate 2. The one end 4 of the coil conductor 3 is
It is electrically connected to one terminal electrode 9, and the other end 5 is also electrically connected to the other terminal electrode 10 via the jump conductor 6.
【0005】従来、端子電極9および10は、スパッタ
リングまたは真空蒸着のような乾式めっきによって形成
されていた。これは、電気絶縁パッチ7および電気絶縁
層8の材料として、たとえばポリイミド等の樹脂を使用
していたため、端子電極9および10を、従来からある
高温焼付け(700〜1000℃)タイプの銀ペースト
のような金属ペーストの焼付けにより形成しようとした
場合、絶縁パッチ7および絶縁層8の材料となる樹脂が
焼付けの際の温度に耐えられないことが理由である。そ
のため、乾式めっきによる端子電極9および10の形成
が必要となっていた。Conventionally, the terminal electrodes 9 and 10 have been formed by dry plating such as sputtering or vacuum evaporation. This is because a resin such as polyimide was used as the material of the electrically insulating patch 7 and the electrically insulating layer 8, so that the terminal electrodes 9 and 10 were made of a conventional high temperature baking (700 to 1000 ° C.) type silver paste. The reason is that when attempting to form it by baking such a metal paste, the resin used as the material of the insulating patch 7 and the insulating layer 8 cannot withstand the temperature during baking. Therefore, it is necessary to form the terminal electrodes 9 and 10 by dry plating.
【0006】[0006]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、端子電
極9および10を乾式めっきにより形成しようとする場
合、乾式めっきを施すべき箇所を限定するためのマスク
へのチップの出し入れに伴う労務費、マスクの製作に要
する費用、ならびに高価な乾式めっき装置を使用するこ
とによる設備費、等が高くなり、これらがチップ型コイ
ル1のコスト高の原因となっている。However, when the terminal electrodes 9 and 10 are to be formed by dry plating, the labor cost associated with putting the chips in and out of the mask for limiting the places to be dry-plated and the mask The cost required for manufacturing, the facility cost due to the use of an expensive dry plating apparatus, and the like are high, which causes the high cost of the chip coil 1.
【0007】また、マスクを介してチップに乾式めっき
を施そうとするとき、特に基板2の端面部分では、金属
原子の回り込みによってめっき膜が形成されるにすぎな
いので、基板2が厚くなればなるほど、この部分でめっ
き膜を比較的厚く形成することがより困難になる。その
結果、たとえば、端子電極9および10の下地層をニッ
ケル・クロム合金で形成し、同じく表面層を銀で形成し
た場合、下地のニッケル・クロム合金が露出することが
あり、端子電極9および10の半田付け性あるいは半田
耐熱性を悪くしてしまうことがある。Further, when the chip is subjected to dry plating through the mask, especially at the end face portion of the substrate 2, since the plating film is only formed by the wraparound of metal atoms, if the substrate 2 becomes thicker. Indeed, it becomes more difficult to form the plating film relatively thick in this portion. As a result, for example, when the underlayer of the terminal electrodes 9 and 10 is made of a nickel-chromium alloy and the surface layer is also made of silver, the nickel-chromium alloy of the underlayer may be exposed and the terminal electrodes 9 and 10 may be exposed. The solderability or solder heat resistance may deteriorate.
【0008】また、マスクによって与えられる端子電極
9および10のパターンの境界線がぼやけることもあ
る。この場合には、得られたチップ型コイル1のインダ
クタンス値が所望の値からずれるという不都合を招く。
そこで、この発明の目的は、上述したような端子電極が
乾式めっきにより形成される場合に遭遇した種々の問題
を解決し得る、チップ型コイルおよびその製造方法を提
供しようとすることである。Further, the boundary line between the patterns of the terminal electrodes 9 and 10 given by the mask may be blurred. In this case, the resulting inductance value of the chip coil 1 deviates from a desired value.
Therefore, an object of the present invention is to provide a chip type coil and a method for manufacturing the same, which can solve various problems encountered when the above-mentioned terminal electrode is formed by dry plating.
【0009】[0009]
【課題を解決するための手段】この発明は、電気絶縁性
の基板と、前記基板の両端部に形成される1対の端子電
極と、前記基板上に形成されかつ前記端子電極に各端部
がそれぞれ電気的に接続されるコイル導体と、前記コイ
ル導体を覆うように前記基板上に形成される電気絶縁層
とを備える、チップ型コイルに向けられるものであっ
て、上述した技術的課題を解決するため、前記端子電極
が、低温焼付けタイプの焼付け金属からなる層を含むこ
とを特徴としている。According to the present invention, there is provided an electrically insulating substrate, a pair of terminal electrodes formed at both ends of the substrate, and an end portion formed on the substrate and at each end of the terminal electrode. Is provided with a coil conductor electrically connected to each other, and an electrical insulating layer formed on the substrate so as to cover the coil conductor, and is directed to a chip-type coil. To solve the problem, the terminal electrode is characterized by including a layer made of a low temperature baking type baking metal.
【0010】前記焼付け金属は、好ましくは、銀を含
む。また、銀に代えて、銅を用いてもよい。また、前記
端子電極は、前記焼付け金属からなる層の表面に形成さ
れる湿式めっきによるバリア金属膜をさらに備えていて
もよい。バリア金属膜は、電気めっきまたは無電解めっ
きのいずれによって形成されてもよい。また、バリア金
属膜は、たとえば、下地をニッケル、表面を錫で形成し
たり、下地をニッケル、表面を半田で形成したり、さら
には、下地を銅、表面を錫で形成したりすることができ
る。The baked metal preferably contains silver. Further, copper may be used instead of silver. The terminal electrode may further include a barrier metal film formed by wet plating on the surface of the layer made of the baked metal. The barrier metal film may be formed by either electroplating or electroless plating. Further, the barrier metal film may be formed, for example, with a base of nickel and a surface of tin, a base of nickel and a surface of solder, and a base of copper and a surface of tin. it can.
【0011】前記基板は、好ましくは、セラミックから
構成され、あるいは樹脂を含むもので構成されてもよ
い。前記コイル導体は、湿式めっきにより形成された金
属膜を加工したものであってもよく、また、乾式めっき
により形成された金属膜を加工したものであってもよ
い。The substrate is preferably made of ceramic or may contain resin. The coil conductor may be a processed metal film formed by wet plating, or may be a processed metal film formed by dry plating.
【0012】前記電気絶縁層は、好ましくは、エポキシ
系樹脂やポリイミド樹脂のような樹脂から構成される。
この発明は、また、上述したチップ型コイルの製造方法
にも向けられる。この発明に係るチップ型コイルの製造
方法は、複数のチップ型コイルのための複数の前記基板
を互いに直交する各複数の第1および第2の分割線に沿
う分割によって取り出すためのマザー基板を用意する工
程と、前記マザー基板上に前記コイル導体および前記電
気絶縁層を形成する工程と、その後、前記マザー基板を
前記第1の分割線に沿って分割することによって、前記
1対の端子電極が形成されるべき端部を長手方向に延び
る両縁部に沿って配列させたスティック状の構造物を得
る工程と、前記スティック状の構造物の前記長手方向に
延びる両縁部に、低温焼付けタイプの金属ペーストを付
与する工程と、前記金属ペーストを焼き付けて前記端子
電極とする工程と、その後、前記スティック状の構造物
を前記第2の分割線に沿って分割して個々のチップ型コ
イルを得る工程とを備えることを特徴としている。The electric insulation layer is preferably made of a resin such as an epoxy resin or a polyimide resin.
The present invention is also directed to the above-described method for manufacturing the chip coil. In the method for manufacturing a chip-type coil according to the present invention, a mother substrate for preparing a plurality of substrates for a plurality of chip-type coils by dividing them along a plurality of first and second dividing lines that are orthogonal to each other is prepared. And a step of forming the coil conductor and the electrical insulating layer on the mother substrate, and then dividing the mother substrate along the first dividing line, thereby forming the pair of terminal electrodes. A step of obtaining a stick-shaped structure in which end portions to be formed are arranged along both edges extending in the longitudinal direction, and a low temperature baking type is applied to both edges extending in the longitudinal direction of the stick-shaped structure. The step of applying the metal paste, the step of baking the metal paste to form the terminal electrode, and thereafter dividing the stick-shaped structure along the second dividing line. It is characterized by comprising the step of obtaining the individual chip-type coil.
【0013】低温焼付けタイプの金属ペーストは、たと
えば、導電性材料として、銀または銅の粉末を含み、固
着材料として、フェノール系樹脂またはエポキシ系樹脂
を含むもので、200℃程度の温度で焼き付けが可能で
ある。The low temperature baking type metal paste contains, for example, a silver or copper powder as a conductive material and a phenol resin or an epoxy resin as a fixing material, and is baked at a temperature of about 200.degree. It is possible.
【0014】[0014]
【作用】この発明では、端子電極に備える焼付け金属か
らなる層は、200℃程度といった比較的低温で焼付け
が可能なものであるので、チップ型コイルに備える他の
要素が高い耐熱性を有している必要はない。そのため、
従来、前述した耐熱性の問題のため、あえてコスト高を
引き起こす乾式めっきにより端子電極を形成しなければ
ならなかったが、この発明によれば、このような乾式め
っきを用いる必要性を回避できる。According to the present invention, since the layer made of the baked metal provided in the terminal electrode can be baked at a relatively low temperature of about 200 ° C., other elements provided in the chip coil have high heat resistance. You don't have to. for that reason,
Conventionally, because of the heat resistance problem described above, it was necessary to form the terminal electrodes by dry plating, which causes a high cost, but according to the present invention, the need to use such dry plating can be avoided.
【0015】[0015]
【発明の効果】したがって、この発明によれば、安価に
端子電極を形成することができ、チップ型コイルのコス
トダウンを図ることができる。また、この発明によれ
ば、乾式めっきによる場合のように、チップ型コイルの
厚み(t寸法)に制約ができたり、境界線が不明瞭にな
ったりすることがなく、端子電極を常に確実に適正なも
のとすることができる。Therefore, according to the present invention, the terminal electrode can be formed at low cost, and the cost of the chip type coil can be reduced. Further, according to the present invention, unlike the case of dry plating, the thickness (t dimension) of the chip type coil is not restricted and the boundary line is not obscured. It can be appropriate.
【0016】焼付け金属として、銀または銅を用いる
と、端子電極において、比較的安価で高い導電性を確保
することができる。端子電極において、バリア金属層を
さらに備えていると、このバリア金属層によって、端子
電極に良好な半田付け性や半田耐熱性を与えることを容
易にできる。When silver or copper is used as the baking metal, it is possible to ensure high conductivity at a relatively low cost in the terminal electrode. If the terminal electrode is further provided with a barrier metal layer, it is possible to easily provide the terminal electrode with good solderability and solder heat resistance by the barrier metal layer.
【0017】基板がセラミックから構成されると、たと
えばコイル導体の形成をスパッタリングのような比較的
高温にさらされる方法によって行なうなど、基板の耐熱
性を考慮する煩わしさに遭遇することなく、以後の工程
を実施することができる。なお、基板に用いるセラミッ
クは、誘電率の低い(εが10以下)ものが好ましい。When the substrate is made of ceramic, the coil conductor is formed by a method of exposing to a relatively high temperature such as sputtering, without the trouble of considering the heat resistance of the substrate being encountered. The steps can be carried out. The ceramic used for the substrate preferably has a low dielectric constant (ε is 10 or less).
【0018】基板がガラス・エポキシ基板またはポリイ
ミド基板のような樹脂を含む基板であるとき、特にこの
発明の意義が高められる。すなわち、この発明では、端
子電極に備える焼付け金属が低温で焼付け可能であるの
で、基板に高い耐熱性が要求されず、基板に樹脂を問題
なく用いることができる。また、樹脂はセラミックに比
べて基板をより安価に提供できる。The significance of the present invention is particularly enhanced when the substrate is a resin-containing substrate such as a glass / epoxy substrate or a polyimide substrate. That is, in the present invention, since the baking metal provided in the terminal electrode can be baked at a low temperature, the substrate does not need to have high heat resistance, and the resin can be used for the substrate without any problem. Further, the resin can provide the substrate at a lower cost than the ceramic.
【0019】コイル導体が湿式めっきにより形成される
と、スパッタリングのような乾式めっきで形成される場
合に比べて、設備費、材料費、労務費、等の点でコスト
ダウンを図ることができる。電気絶縁層がエポキシ系の
ような樹脂で構成されると、セラミックで構成される場
合に比べて安価に電気絶縁層を形成することができる。
特にエポキシ樹脂を用いた場合、電気絶縁層をスクリー
ン印刷のような印刷により所望のパターンで容易に形成
することができる。When the coil conductor is formed by wet plating, the cost can be reduced in terms of equipment cost, material cost, labor cost, etc., as compared with the case where it is formed by dry plating such as sputtering. When the electric insulation layer is made of an epoxy resin, the electric insulation layer can be formed at a lower cost than when it is made of ceramic.
In particular, when an epoxy resin is used, the electric insulation layer can be easily formed in a desired pattern by printing such as screen printing.
【0020】上述したように、コイル導体が湿式めっき
により形成され、かつ電気絶縁層が樹脂で構成されなが
ら、端子電極が低温焼付けタイプの焼付け金属をもって
与えられると、この発明に係るチップ型コイルを製造す
る工程をすべて200℃程度の温度で実施することがで
きる。そのため、チップ型コイルに備える各要素に高い
耐熱性が要求されず、各要素の材料選択の幅が広げられ
るとともに、各要素を形成するための方法に関して、種
々の方法の展開が可能となる。As described above, when the terminal conductor is provided with the low temperature baking type baking metal while the coil conductor is formed by the wet plating and the electric insulating layer is made of resin, the chip type coil according to the present invention is obtained. All manufacturing steps can be performed at a temperature of about 200 ° C. Therefore, high heat resistance is not required for each element provided in the chip-type coil, the range of material selection for each element is widened, and various methods can be developed for forming each element.
【0021】また、この発明に係るチップ型コイルの製
造方法によれば、端子電極を形成するため、低温焼付け
タイプの金属ペーストを用いながら、マザー基板を第1
の分割線のみに沿って分割しただけのスティック状の構
造物の段階で、その長手方向に延びる両縁部に金属ペー
ストを付与して焼き付けた後、このスティック状の構造
物を第2の分割線に沿って分割しているので、端子電極
の形成を能率的にかつ単純で安価な設備で行なえ、結果
として、チップ型コイルのコストダウンを図ることがで
きる。Further, according to the method of manufacturing the chip type coil according to the present invention, since the terminal electrode is formed, the mother substrate is first formed using the low temperature baking type metal paste.
At the stage of the stick-shaped structure which is divided only along the dividing line, the metal paste is applied to both edges extending in the longitudinal direction and baked, and then the stick-shaped structure is divided into the second division. Since the electrodes are divided along the line, the terminal electrodes can be efficiently formed with simple and inexpensive equipment, and as a result, the cost of the chip type coil can be reduced.
【0022】[0022]
【実施例】図1に示したチップ型コイル1は、この発明
の一実施例によるチップ型コイルにも相当する。前述し
たように、チップ型コイル1は、電気絶縁性の基板2を
備える。基板2上には、スパイラル状に延びるコイル導
体3が形成される。コイル導体3の一方端部4は、基板
2の端縁にまで延びる。コイル導体3の他方端部5に
は、ジャンプ導体6が接続され、このジャンプ導体6
は、コイル導体3の一部を覆う電気絶縁パッチ7上に形
成されながら基板2のもう一方の端縁にまで延びる。DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The chip type coil 1 shown in FIG. 1 also corresponds to a chip type coil according to an embodiment of the present invention. As described above, the chip coil 1 includes the electrically insulating substrate 2. A coil conductor 3 extending in a spiral shape is formed on the substrate 2. The one end 4 of the coil conductor 3 extends to the edge of the substrate 2. A jump conductor 6 is connected to the other end 5 of the coil conductor 3, and the jump conductor 6
Is formed on the electrically insulating patch 7 that covers a part of the coil conductor 3 and extends to the other edge of the substrate 2.
【0023】また、基板2上には、コイル導体3および
ジャンプ導体6を覆うように電気絶縁層8が形成され
る。そして、基板2の両端部には、1対の端子電極9お
よび10が形成される。コイル導体3の一方端部4は、
一方の端子電極9に電気的に接続され、同じく他方端部
5は、ジャンプ導体6を介して、他方の端子電極10に
電気的に接続される。An electric insulating layer 8 is formed on the substrate 2 so as to cover the coil conductor 3 and the jump conductor 6. Then, a pair of terminal electrodes 9 and 10 are formed on both ends of the substrate 2. The one end 4 of the coil conductor 3 is
It is electrically connected to one terminal electrode 9, and the other end 5 is also electrically connected to the other terminal electrode 10 via the jump conductor 6.
【0024】このチップ型コイル1は、たとえば、次の
ように製造される。図2には、チップ型コイル1の製造
方法に含まれるいくつかの代表的な工程が平面図で示さ
れている。まず、図2(1)に示すように、基板2が用
意される。この基板2は、たとえば、アルミナ、その
他、低誘電率(εが10以下)のセラミック、もしくは
ガラスから構成され、あるいは、ガラス・エポキシ基
板、ポリイミド基板等のように、樹脂を含む基板で構成
されてもよい。The chip type coil 1 is manufactured, for example, as follows. FIG. 2 is a plan view showing some typical steps included in the method for manufacturing the chip coil 1. First, the substrate 2 is prepared as shown in FIG. The substrate 2 is made of, for example, alumina, a ceramic having a low dielectric constant (ε is 10 or less), or glass, or a substrate containing a resin such as a glass / epoxy substrate or a polyimide substrate. May be.
【0025】次に、同じく図2(1)に示すように、基
板2上に、たとえば、銀、金あるいは銅のような良導電
性の金属からなる導体膜11が形成される。導体膜11
の形成には、たとえば、スパッタリングのような乾式め
っき、または電気めっきあるいは無電解めっきのような
湿式めっきが適用される。乾式めっきが適用されると
き、比較的高温にさらされるため、基板2はセラミック
から構成されることが好ましい。湿式めっきが適用され
るときには、前述した任意の材料をもって基板2を構成
することができる。Next, as also shown in FIG. 2A, a conductor film 11 made of a metal of good conductivity such as silver, gold or copper is formed on the substrate 2. Conductor film 11
For the formation of, for example, dry plating such as sputtering, or wet plating such as electroplating or electroless plating is applied. Substrate 2 is preferably composed of a ceramic because it is exposed to relatively high temperatures when dry plating is applied. When wet plating is applied, the substrate 2 can be composed of any of the materials described above.
【0026】次に、図2(2)に示すように、導体膜1
1がパターニングされ、スパイラル状のコイル導体3と
される。パターニング方法としては、たとえば、スクリ
ーン印刷により、導体膜11上にコイル導体3と同じパ
ターンでレジストを付与し、乾燥させ、湿式エッチング
により余分な導体膜11を除去した後、レジストを剥離
することにより、所望のパターンのコイル導体3を得る
方法を適用することができる。これに代えて、フォトレ
ジストを用い、これをスピンコーター等により導体膜1
1上に塗布し、コイル導体3のパターンに基づき露光
し、現像した後、エッチングすることによりパターニン
グする、といったフォトリソグラフィ技術が適用されて
もよい。後者の場合には、コイル導体3の細線化(たと
えばライン・アンド・スペースが20〜30μm )を容
易に図ることができる。Next, as shown in FIG. 2B, the conductor film 1
1 is patterned to form a spiral coil conductor 3. As a patterning method, for example, by applying a resist on the conductor film 11 in the same pattern as the coil conductor 3 by screen printing, drying, and removing the excess conductor film 11 by wet etching, the resist is peeled off. The method of obtaining the coil conductor 3 having a desired pattern can be applied. Instead of this, a photoresist is used.
A photolithography technique may be applied in which it is applied on the substrate 1, exposed based on the pattern of the coil conductor 3, developed, and then patterned by etching. In the latter case, the coil conductor 3 can be easily thinned (for example, the line and space is 20 to 30 μm).
【0027】なお、当初から所望のパターンを有するコ
イル導体3を、基板2上に、たとえば印刷により形成し
てもよい。また、転写技術を用いて、所望のパターンを
有するコイル導体3を基板2上に形成するようにしても
よい。次に、図2(3)に示すように、コイル導体3の
一部を覆うように、電気絶縁パッチ7が形成される。絶
縁パッチ7は、たとえば、エポキシ系樹脂をスクリーン
印刷により所望のパターンで付与し、焼き付けることに
より形成される。エポキシ系樹脂に代えて、ポリイミド
系樹脂が用いられてもよい。The coil conductor 3 having a desired pattern may be formed on the substrate 2 from the beginning by printing, for example. Further, the coil conductor 3 having a desired pattern may be formed on the substrate 2 by using a transfer technique. Next, as shown in FIG. 2C, the electrically insulating patch 7 is formed so as to cover a part of the coil conductor 3. The insulating patch 7 is formed, for example, by applying an epoxy resin in a desired pattern by screen printing and baking. A polyimide resin may be used instead of the epoxy resin.
【0028】次に、図2(4)に示すように、絶縁パッ
チ7上に、ジャンプ導体6が形成される。ジャンプ導体
6の形成には、前述したコイル導体3の形成と基本的に
同じ材料および方法を適用することができる。すなわ
ち、まず湿式めっきまたは乾式めっきにより導体膜を形
成した後、レジストを用いたエッチングによりパターニ
ングされ、所望のパターンのジャンプ導体6とされる。
なお、ジャンプ導体6の形成に際しては、通常、前述し
たコイル導体3の形成が繰り返され、それによって、コ
イル導体3の厚みがその実質的部分で増すようにされ
る。Next, as shown in FIG. 2 (4), the jump conductor 6 is formed on the insulating patch 7. The jump conductor 6 can be formed by using the same material and method as those for forming the coil conductor 3 described above. That is, first, a conductor film is formed by wet plating or dry plating, and then patterned by etching using a resist to obtain a jump conductor 6 having a desired pattern.
When the jump conductor 6 is formed, the above-described formation of the coil conductor 3 is usually repeated, so that the thickness of the coil conductor 3 is increased at a substantial portion thereof.
【0029】次に、図2(5)に示すように、コイル導
体3およびジャンプ導体6を覆うように、電気絶縁層8
が基板2上に形成される。絶縁層8は、たとえば、エポ
キシ系樹脂をスクリーン印刷により基板2上に付与し、
焼き付けることによって形成される。エポキシ系樹脂に
代えて、ポリイミド系樹脂が用いられてもよい。また、
このような樹脂ではなく、絶縁層8が、セラミックペー
ストを基板2上に付与し、焼き付けることによって形成
されてもよい。Next, as shown in FIG. 2 (5), the electric insulating layer 8 is formed so as to cover the coil conductor 3 and the jump conductor 6.
Are formed on the substrate 2. The insulating layer 8 is formed by applying an epoxy resin onto the substrate 2 by screen printing,
It is formed by baking. A polyimide resin may be used instead of the epoxy resin. Also,
Instead of such a resin, the insulating layer 8 may be formed by applying a ceramic paste onto the substrate 2 and baking it.
【0030】次に、図2(6)に示すように、基板2の
両端部に端子電極9および10が形成され、所望のチッ
プ型コイル1が得られる。これら端子電極9および10
の形成方法を、図3に示した一方の端子電極9に関して
説明する。図3を参照して、端子電極9は、低温焼付け
タイプの焼付け金属からなる層12とその表面に形成さ
れるバリア金属膜13とを備える。Next, as shown in FIG. 2 (6), the terminal electrodes 9 and 10 are formed on both ends of the substrate 2, and the desired chip type coil 1 is obtained. These terminal electrodes 9 and 10
The method of forming the above will be described with reference to the one terminal electrode 9 shown in FIG. Referring to FIG. 3, the terminal electrode 9 includes a layer 12 made of low temperature baking type baking metal and a barrier metal film 13 formed on the surface thereof.
【0031】焼付け金属層12は、低温焼付けタイプの
金属ペーストを基板2の端部に付与し、焼き付けて形成
されたものであって、200〜300℃の比較的低温で
焼き付けることができる。金属ペーストに含まれる導電
性材料すなわち金属材料としては、たとえば銀粉末また
は銅粉末が用いられ、固着材料としては、たとえばフェ
ノール系樹脂、エポキシ系樹脂等が用いられ、これらが
混練されることにより、金属ペーストとされる。なお、
固着材料としては、溶融半田によって溶けたり、悪影響
が及ぼされないものであれば、どのような樹脂を用いて
もよい。The baked metal layer 12 is formed by applying a low temperature baking type metal paste to the end portion of the substrate 2 and baking it, and can be baked at a relatively low temperature of 200 to 300 ° C. As the conductive material, that is, the metal material contained in the metal paste, for example, silver powder or copper powder is used, and as the fixing material, for example, phenol resin, epoxy resin, or the like is used, and by kneading these, It is a metal paste. In addition,
As the fixing material, any resin may be used as long as it is not melted by the molten solder or adversely affected.
【0032】バリア金属膜13は、電気めっきまたは無
電解めっきのような湿式めっきにより形成されるもので
あって、必要に応じて、端子電極9に良好な半田付け性
および/または半田耐熱性を与えるために形成される。
図3では示していないが、バリア金属膜13は、たとえ
ば2層をもって形成され、下地がニッケル、表面が錫と
されたり、下地がニッケル、表面が半田とされたり、さ
らには、下地が銅、表面が錫とされたりすることができ
る。The barrier metal film 13 is formed by wet plating such as electroplating or electroless plating, and has good solderability and / or solder heat resistance for the terminal electrode 9 as required. Formed to give.
Although not shown in FIG. 3, the barrier metal film 13 is formed with, for example, two layers, and the base is nickel and the surface is tin, the base is nickel and the surface is solder, and the base is copper. The surface can be tin.
【0033】再び図2を参照して、その(1)ないし
(5)において、基板2がこれら複数のものを分割によ
って取り出されるマザー基板によって与えられること
を、破線によって示している。通常、チップ型コイルの
工場規模での生産にあたっては、多数のチップ型コイル
を能率的に製造するため、図2(1)ないし(5)に示
す各工程は、マザー基板の状態を維持しながら、複数の
基板2に対して並行して進められ、(5)の工程を終え
た段階で、個々のチップ型コイル1のためのチップを得
るべく、マザー構造物がたとえばチョコレートブレーク
またはダイシングにより分割される。Referring again to FIG. 2, in (1) to (5) thereof, it is indicated by broken lines that the substrate 2 is provided by a mother substrate obtained by dividing these plural ones. Normally, in manufacturing a chip-type coil on a factory scale, a large number of chip-type coils are efficiently manufactured. Therefore, the steps shown in FIGS. 2 (1) to (5) are performed while maintaining the state of the mother substrate. , The mother structure is divided by, for example, chocolate break or dicing so as to obtain chips for the individual chip type coils 1 when the step (5) is completed in parallel with respect to the plurality of substrates 2. To be done.
【0034】上述のようなチップ型コイル1の能率的な
製造方法に関して、より好ましくは、図4に示すように
実施される。図4(1)には、図2(5)に示した工程
を終えた段階にある、マザー基板を備えるマザー構造物
14が示されている。このマザー構造物14は、まず、
複数の第1の分割線15に沿って分割され、これによっ
て、図4(2)に示すようなスティック状構造物16と
される。このスティック状構造物16では、その長手方
向に延びる両縁部17および18に沿って、1対の端子
電極9および10が形成されるべき基板2の端部をそれ
ぞれ配列させている。The efficient manufacturing method of the chip type coil 1 as described above is more preferably carried out as shown in FIG. FIG. 4 (1) shows a mother structure 14 including a mother substrate at a stage where the process shown in FIG. 2 (5) has been completed. This mother structure 14 is
It is divided along a plurality of first dividing lines 15 to form a stick-shaped structure 16 as shown in FIG. 4 (2). In this stick-shaped structure 16, the ends of the substrate 2 on which the pair of terminal electrodes 9 and 10 are to be formed are arranged along both edges 17 and 18 extending in the longitudinal direction.
【0035】このスティック状構造物16は、次いで、
図4(3)に示すように、その状態のままで、低温焼付
けタイプの金属ペーストの塗布工程に付され、その長手
方向に延びる両縁部17および18に当該金属ペースト
が付与され、焼き付けられて、端子電極9および10と
される。次に、スティック状構造物16は、前述した第
1の分割線15と直交する複数の第2の分割線19に沿
って分割され、図4(4)に示すように、複数のチップ
型コイル1とされる。This stick-shaped structure 16 is then
As shown in FIG. 4C, in that state, the metal paste is subjected to a low temperature baking type metal paste application step, and the metal paste is applied to both edge portions 17 and 18 extending in the longitudinal direction and baked. To form the terminal electrodes 9 and 10. Next, the stick-shaped structure 16 is divided along a plurality of second dividing lines 19 which are orthogonal to the above-mentioned first dividing line 15, and as shown in FIG. It is assumed to be 1.
【0036】なお、端子電極9および10の表面にバリ
ア金属膜13が形成される場合には、個々のチップ型コ
イル1の状態とされてから、その形成を行なっても、あ
るいは、スティック状構造物16の段階で、その形成を
行なってもよい。以上、この発明を、好ましい実施例に
関連して説明したが、この発明の範囲内において、その
他種々の変形例が可能である。When the barrier metal film 13 is formed on the surface of the terminal electrodes 9 and 10, it may be formed after the individual chip-type coils 1 are formed, or the stick-shaped structure may be formed. The formation may be performed at the stage of the object 16. Although the present invention has been described above with reference to the preferred embodiments, various other modifications are possible within the scope of the present invention.
【0037】たとえば、図示の実施例では、チップ型コ
イル1は、コイル導体3の一方の端部5がジャンプ導体
6を介して、関連の端子電極10に電気的に接続された
ものであったが、このようなジャンプ導体を備えず、基
板上に単に平面的にコイル導体が形成されているにすぎ
ないチップ型コイルに対しても、この発明を適用するこ
とができる。For example, in the illustrated embodiment, the chip coil 1 is one in which one end 5 of the coil conductor 3 is electrically connected to the associated terminal electrode 10 via the jump conductor 6. However, the present invention can also be applied to a chip-type coil that does not include such a jump conductor and has a coil conductor simply formed on the substrate in a planar manner.
【図1】この発明の一実施例によるチップ型コイル1を
一部破断して示す斜視図である。FIG. 1 is a partially cutaway perspective view of a chip coil 1 according to an embodiment of the present invention.
【図2】図1に示したチップ型コイル1の製造方法に含
まれる代表的な工程を順次示す平面図である。2A to 2C are plan views sequentially showing representative steps included in the method for manufacturing the chip coil 1 shown in FIG.
【図3】図1に示したチップ型コイル1の、端子電極9
が形成された端部を拡大して示す断面図である。FIG. 3 is a terminal electrode 9 of the chip coil 1 shown in FIG.
It is sectional drawing which expands and shows the edge part in which was formed.
【図4】図1に示した端子電極9および10を形成する
ための好ましい方法に含まれる工程を順次示す平面図で
ある。4 is a plan view sequentially showing steps included in a preferred method for forming the terminal electrodes 9 and 10 shown in FIG. 1. FIG.
1 チップ型コイル 2 基板 3 コイル導体 4,5 コイル導体の端部 6 ジャンプ導体 7 電気絶縁パッチ 8 電気絶縁層 9,10 端子電極 12 焼付け金属層 13 バリア金属膜 14 マザー構造物 15 第1の分割線 16 スティック状構造物 17,18 スティック状構造物の縁部 19 第2の分割線 1 Chip type coil 2 Substrate 3 Coil conductor 4, 5 Coil conductor end 6 Jump conductor 7 Electrical insulation patch 8 Electrical insulation layer 9, 10 Terminal electrode 12 Baking metal layer 13 Barrier metal film 14 Mother structure 15 First division Line 16 Stick-like structure 17,18 Edge of stick-like structure 19 Second dividing line
Claims (8)
に形成される1対の端子電極と、前記基板上に形成され
かつ前記端子電極に各端部がそれぞれ電気的に接続され
るコイル導体と、前記コイル導体を覆うように前記基板
上に形成される電気絶縁層とを備える、チップ型コイル
において、 前記端子電極は、低温焼付けタイプの焼付け金属からな
る層を含むことを特徴とする、チップ型コイル。1. An electrically insulating substrate, a pair of terminal electrodes formed at both ends of the substrate, and terminal ends formed on the substrate and electrically connected to the terminal electrodes, respectively. In a chip-type coil comprising a coil conductor and an electric insulating layer formed on the substrate so as to cover the coil conductor, the terminal electrode includes a layer made of a low temperature baking type baking metal. A chip coil.
請求項1に記載のチップ型コイル。2. The baked metal contains silver or copper,
The chip-type coil according to claim 1.
る層の表面に形成される湿式めっきによるバリア金属膜
をさらに備える、請求項1または2に記載のチップ型コ
イル。3. The chip coil according to claim 1, wherein the terminal electrode further comprises a barrier metal film formed by wet plating on the surface of the layer made of the baked metal.
項1ないし3のいずれかに記載のチップ型コイル。4. The chip-type coil according to claim 1, wherein the substrate is made of ceramic.
し3のいずれかに記載のチップ型コイル。5. The chip-type coil according to claim 1, wherein the substrate contains a resin.
成されたものである、請求項1ないし5のいずれかに記
載のチップ型コイル。6. The chip type coil according to claim 1, wherein the coil conductor is formed by wet plating.
項1ないし6のいずれかに記載のチップ型コイル。7. The chip coil according to claim 1, wherein the electrical insulation layer is made of resin.
に形成される1対の端子電極と、前記基板上に形成され
かつ前記端子電極に各端部がそれぞれ電気的に接続され
るコイル導体と、前記コイル導体を覆うように前記基板
上に形成される電気絶縁層とを備える、チップ型コイル
の製造方法であって、 複数のチップ型コイルのための複数の前記基板を互いに
直交する各複数の第1および第2の分割線に沿う分割に
よって取り出すためのマザー基板を用意し、 前記マザー基板上に前記コイル導体および前記電気絶縁
層を形成し、その後、前記マザー基板を前記第1の分割
線に沿って分割することによって、前記1対の端子電極
が形成されるべき端部を長手方向に延びる両縁部に沿っ
て配列させたスティック状の構造物を得、 前記スティック状の構造物の前記長手方向に延びる両縁
部に、低温焼付けタイプの金属ペーストを付与し、 前記金属ペーストを焼き付けて前記端子電極とし、その
後、 前記スティック状の構造物を前記第2の分割線に沿って
分割して個々のチップ型コイルを得る、各工程を備える
ことを特徴とする、チップ型コイルの製造方法。8. An electrically insulating substrate, a pair of terminal electrodes formed on both ends of the substrate, and an end formed on the substrate and electrically connected to the terminal electrodes. A method for manufacturing a chip coil, comprising: a coil conductor; and an electrical insulating layer formed on the substrate so as to cover the coil conductor, wherein the plurality of substrates for the plurality of chip coils are orthogonal to each other. A mother substrate for taking out by dividing along each of the plurality of first and second dividing lines is prepared, the coil conductor and the electrical insulating layer are formed on the mother substrate, and then the mother substrate is divided into By dividing along one division line, a stick-like structure is obtained in which the end portions where the pair of terminal electrodes are to be formed are arranged along both edge portions extending in the longitudinal direction, and the stick-like structure is obtained. of A low temperature baking type metal paste is applied to both edges of the structure extending in the longitudinal direction, the metal paste is baked to form the terminal electrode, and then the stick-like structure is formed on the second dividing line. A method for manufacturing a chip-type coil, characterized by comprising the steps of dividing along each side to obtain individual chip-type coils.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP13760195A JPH08330154A (en) | 1995-06-05 | 1995-06-05 | Chip type coil and its manufacture |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP13760195A JPH08330154A (en) | 1995-06-05 | 1995-06-05 | Chip type coil and its manufacture |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH08330154A true JPH08330154A (en) | 1996-12-13 |
Family
ID=15202515
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP13760195A Pending JPH08330154A (en) | 1995-06-05 | 1995-06-05 | Chip type coil and its manufacture |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH08330154A (en) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6329715B1 (en) | 1996-09-20 | 2001-12-11 | Tdk Corporation | Passive electronic parts, IC parts, and wafer |
-
1995
- 1995-06-05 JP JP13760195A patent/JPH08330154A/en active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6329715B1 (en) | 1996-09-20 | 2001-12-11 | Tdk Corporation | Passive electronic parts, IC parts, and wafer |
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