JPH08329439A - Magnetic head slider - Google Patents
Magnetic head sliderInfo
- Publication number
- JPH08329439A JPH08329439A JP13299095A JP13299095A JPH08329439A JP H08329439 A JPH08329439 A JP H08329439A JP 13299095 A JP13299095 A JP 13299095A JP 13299095 A JP13299095 A JP 13299095A JP H08329439 A JPH08329439 A JP H08329439A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- region
- film
- slider
- dlc
- air
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Adjustment Of The Magnetic Head Position Track Following On Tapes (AREA)
Abstract
Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は高密度記録に対応する磁
気ヘッドスライダーに関し、特に低浮上あるいは接触記
録にも対応可能な磁気ヘッドスライダーに関するもので
ある。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a magnetic head slider applicable to high density recording, and more particularly to a magnetic head slider applicable to low flying or contact recording.
【0002】[0002]
【従来の技術】『薄膜トライボロジー』(榎本祐嗣、三
宅正二朗著、東京大学出版会)p.51〜53には薄膜
の摩擦係数に与える膜厚の効果について述べられてい
る。定性的な説明としてここではPb薄膜の例が述べら
れており、膜厚が0.1〜1μmの範囲で摩擦係数が最
小となり、膜厚が0.1μmより薄い領域では薄膜の破
断が起こり基板の金属の突起どうしが接触し、摩擦係数
が大きくなる。また1μmより厚い領域では膜が塑性流
動し、その結果真実接触面積が増えて摩擦係数が大きく
なると説明されている。2. Description of the Related Art "Thin film tribology" (Yuji Tsutomu Enomoto, Shojiro Miyake, The University of Tokyo Press) p. 51-53 describe the effect of film thickness on the coefficient of friction of thin films. An example of a Pb thin film is described here as a qualitative explanation. The friction coefficient becomes the minimum in the range of the film thickness of 0.1 to 1 μm, and the thin film breaks in the region where the film thickness is less than 0.1 μm. The metal protrusions come into contact with each other, increasing the friction coefficient. Further, it is explained that in a region thicker than 1 μm, the film plastically flows, and as a result, the true contact area increases and the friction coefficient increases.
【0003】また同書p203〜205には磁気テープ
の保護膜について述べられており、0から0.4μmの
範囲では保護膜の厚さが厚くなるほど耐久性は向上する
ことが示されている。Further, in the same p. 203-205, a protective film of a magnetic tape is described, and it is shown that the durability is improved as the thickness of the protective film increases in the range of 0 to 0.4 μm.
【0004】本発明では、硬質膜として主にダイヤモン
ドライクカーボン(以下DLCと記す)膜について記述
するが、DLC膜の摩擦摩耗の挙動は現象として、上記
Pbの例と異なるが、膜厚の効果は同様の傾向を示す。
密着性、硬さ、荷重により異なるが、概略膜厚が0.0
1μm程度の極薄膜で摩擦が起こる場合は下地である基
板の変形がおこり、膜の破断が起こりやすくなり、摩擦
係数は大きくなる。また膜厚が数μmをこえる場合は膜
の内部応力が大きくなり、DLCと下地の界面での密着
性が不足し、荷重が加わった付近では剥離が発生しやす
くなり、その結果として摩擦係数が大きくなる。In the present invention, a diamond-like carbon (hereinafter referred to as DLC) film is mainly described as a hard film. The behavior of friction and wear of the DLC film is different from the above example of Pb as a phenomenon, but the effect of film thickness. Indicates a similar trend.
Although it depends on the adhesion, hardness, and load, the approximate film thickness is 0.0
When friction occurs in an ultra-thin film of about 1 μm, the base substrate is deformed, the film is easily broken, and the friction coefficient is increased. Further, when the film thickness exceeds several μm, the internal stress of the film becomes large, the adhesion at the interface between the DLC and the base becomes insufficient, and peeling easily occurs in the vicinity of a load, resulting in a friction coefficient. growing.
【0005】本発明では、硬質膜としてDLCを適用し
た例を上げるが、従来言葉の定義がされていないのであ
らかじめここで定義しておく。DLC膜は膜中にカーボ
ン原子がsp3 結合をしたダイヤモンド構造をもつ領域
と、sp2 結合をしたグラファイト構造をもつ領域から
なり、またその内部に水素や非結合電子対(ダングリン
グボンド)を含んだ膜であり、短範囲では結晶性を有す
るが、長範囲ではそれがくずれアモルファス構造を有し
ているものを意味している。また同膜は高硬度、低摩
擦、高耐食性を有した膜である。従来磁気ヘッドの摺動
面にカーボン膜をコートする技術は多く知られている
が、このカーボン膜の他の呼称として、硬質カーボン
膜、アモルファス水素添加炭素膜等があり、これらはD
LC膜と同義と考えることができる。In the present invention, an example in which DLC is applied as a hard film is given, but since the definition of words is not made conventionally, it is defined here in advance. The DLC film is composed of a region having a diamond structure in which carbon atoms are sp 3 bonded and a region having a graphite structure in which sp 2 is bonded in the film, and hydrogen or a non-bonded electron pair (dangling bond) is contained therein. It is a film that includes a film, and has a crystallinity in the short range, but a long range means that it has a collapsed amorphous structure. The film has high hardness, low friction and high corrosion resistance. Conventionally, many techniques for coating a carbon film on the sliding surface of a magnetic head are known, but other names of this carbon film include a hard carbon film and an amorphous hydrogenated carbon film.
It can be considered as synonymous with the LC film.
【0006】従来、磁気ヘッドの浮上面あるいは摺動面
にDLC等の硬質膜を形成することにより、耐摩耗性あ
るいは露出した磁気ヘッド素子材料の耐食性を向上させ
る技術はよく知られている。特開平5−282646号
公報には磁気ヘッドの浮上面に耐摩耗性保護膜を形成す
ることが開示されている。本報においては耐摩耗性保護
膜を10〜20nmの厚さで形成することでCSS耐久
性が向上していることが示されている。また本報にはス
ライダー材料とカーボン層との密着性を改善するためT
iまたはCrからなる密着層を導入することが提案され
ている。しかしながら磁気素子部分における膜厚とスペ
ーシングロスによる電磁変換特性への影響等が述べられ
ていない。Conventionally, a technique for improving wear resistance or corrosion resistance of an exposed magnetic head element material by forming a hard film such as DLC on the air bearing surface or sliding surface of a magnetic head is well known. Japanese Unexamined Patent Publication No. 5-282646 discloses forming a wear-resistant protective film on the air bearing surface of a magnetic head. In this report, it is shown that the CSS durability is improved by forming the wear-resistant protective film with a thickness of 10 to 20 nm. Also, in this report, in order to improve the adhesion between the slider material and the carbon layer, T
It has been proposed to introduce an adhesion layer consisting of i or Cr. However, the influence of the film thickness and spacing loss in the magnetic element portion on the electromagnetic conversion characteristics is not described.
【0007】また、その他の従来技術としては特開平4
−276367号公報においては、製造方法とともにD
LC(アモルファス水素添加炭素被膜と記載)の密着層
としてSiを用いることが提案されている。本報につい
ては図13を用いて説明する。本従来例では密着層20
\保護層21\マスキング層22の3層から構成される
保護膜が提案されている。具体的にはSi\DLC\S
iO23層構造の保護膜について述べられ、最上層のS
iO2は、Siがその後の酸素プラズマエッチング工程
でSiO2に変質すると記載されている。Further, as another conventional technique, Japanese Patent Laid-Open No. Hei 4
In the publication No. -276367, D
It has been proposed to use Si as an adhesion layer for LC (described as an amorphous hydrogenated carbon film). This report will be described with reference to FIG. In this conventional example, the adhesion layer 20
A protective film composed of three layers of \ protective layer 21 \ masking layer 22 has been proposed. Specifically, Si \ DLC \ S
A protective film having a three-layer structure of iO 2 was described, and the uppermost S
iO 2 is described that Si is transformed into SiO 2 in a subsequent oxygen plasma etching step.
【0008】さらに特開昭62−116767号公報に
おいては金属材料にDLCを形成する際、密着性を改良
する方法としてCrまたはTiを主体とする下層とSi
またはGeを主体とする上層からなる中間層を介在させ
ることが開示されている。Further, in Japanese Unexamined Patent Publication No. 62-116767, as a method of improving adhesion when forming DLC on a metal material, a lower layer mainly containing Cr or Ti and Si are used.
Alternatively, it is disclosed that an intermediate layer composed of an upper layer mainly containing Ge is interposed.
【0009】一方、特開平5−151735号公報には
ヘッドと磁気ディスクの界面に液体潤滑剤を用い、図1
4に示すようにヘッドの摺動面に滑走脚30、31、3
2を有し、脚30の近くに磁気素子3が形成された磁気
ヘッドスライダーが開示されている。本報では空気中で
も真空中でも同様な効果が得られるとして脚はエアベア
リングではないとしており、これは脚では浮力が生じな
いことを意味している。脚の構成材料はスライダー材料
と同一であり、イオンミリング等のエッチング法で形成
する。深さは数千オングストローム程度が望ましいとし
ている。On the other hand, in JP-A-5-151735, a liquid lubricant is used at the interface between the head and the magnetic disk.
As shown in FIG. 4, the sliding legs 30, 31, 3 are attached to the sliding surface of the head.
2, a magnetic head slider having a magnetic element 3 formed near the leg 30 is disclosed. In this report, the leg is not an air bearing because the same effect can be obtained in air or vacuum, which means that the leg does not have buoyancy. The leg material is the same as the slider material, and is formed by an etching method such as ion milling. It is said that the desired depth is about several thousand angstroms.
【0010】更に本出願人が出願した特願平7−320
69の実施例2に記載のスライダーがある。本スライダ
ーのディスクに対向する面には空気流入側に空気が入り
やすい様テーパーが形成され、空気流入側パッドで浮力
が生じる構成となっている。素子部パッドは十分小さい
ためここでの浮力の発生は十分小さな大きさであり、こ
の先に磁気ヘッド素子が配設されている。Further, Japanese Patent Application No. 7-320 filed by the applicant.
There are 69 sliders described in Example 2. A taper is formed on the surface of the slider facing the disk so that air easily enters the air inflow side, and buoyancy is generated at the air inflow side pad. Since the element pad is sufficiently small, the buoyancy generated here is sufficiently small, and the magnetic head element is disposed ahead of this.
【0011】また本出願人が出願した実願平5ー665
61にはレール面がDLC等の高硬度の膜からなる構成
について記載されているが、素子上の膜がもたらすスペ
ーシングロス等の電磁変換特性への影響については考慮
されていなかった。[0011] Moreover, the Japanese Patent Application No. 5-665 filed by the present applicant.
Although 61 describes a structure in which the rail surface is made of a film of high hardness such as DLC, the influence of the film on the element on electromagnetic conversion characteristics such as spacing loss was not considered.
【0012】[0012]
【発明が解決しようとする課題】しかし前述の従来技術
においては、磁気ヘッドの摺動面あるいは浮上面に保護
膜として硬質膜を適用する場合、全面同じ厚さで被覆す
ることになる。その時の耐摺動性は基材であるスライダ
ー材料と硬質膜の密着性が十分確保されている限りは、
膜厚が厚いほど優れた耐摺動特性を示す。しかしながら
従来技術の構成においてはこの膜は電磁変換を行う磁気
ヘッド素子上にも付着する事になり、この非磁性の材料
の存在はスペーシングロスとなり、膜厚が厚くなるほど
記録再生能力が著しく減少することになる。従って実際
に硬質膜を磁気ヘッドの摺動面あるいは浮上面に形成す
る場合の膜厚は、記録再生特性から設計されたスペーシ
ングロスの許容値より決定されており、従って浮上量に
対して十分に小さな値、例えば浮上量100nmに対し
て硬質膜の膜厚が10nm以下というような極薄膜が採
用されているのが実態である。すなわちそのような状況
ではDLC等の硬質膜の高硬度、低摩擦特性、耐摩耗性
といった本来の膜質を十分に生かしきっていない。However, in the above-mentioned prior art, when a hard film is applied as a protective film to the sliding surface or the air bearing surface of the magnetic head, the entire surface is coated with the same thickness. The sliding resistance at that time, as long as the adhesion between the slider material as the base material and the hard film is sufficiently secured,
The thicker the film, the better the sliding resistance. However, in the structure of the prior art, this film also adheres to the magnetic head element that performs electromagnetic conversion, and the presence of this non-magnetic material causes a spacing loss, and as the film thickness increases, the recording / reproducing capability remarkably decreases. Will be done. Therefore, the film thickness when a hard film is actually formed on the sliding surface or air bearing surface of the magnetic head is determined by the allowable spacing loss designed from the recording / reproducing characteristics, and is therefore sufficient for the flying height. In reality, a very small value such as a hard film thickness of 10 nm or less for a flying height of 100 nm is adopted. That is, in such a situation, the original film quality such as high hardness, low frictional property, and wear resistance of the hard film such as DLC is not fully utilized.
【0013】[0013]
【課題を解決するための手段】磁気ディスクと対向する
エアベアリング面である下面には硬質膜が形成されてな
る磁気ヘッドスライダ−であって、下面には磁気素子が
形成されている第一の領域と圧力を発生させるための第
二の領域とに分割され、該第一の領域には0.01μm
以下の硬質膜が形成され、該第二の領域には0.02μ
m乃至3μmの硬質膜が形成され、かつ第一の領域と第
二の領域との高低差が0.25μm以下であることを特
徴とする磁気ヘッドスライダーである。A magnetic head slider having a hard film formed on a lower surface which is an air bearing surface facing a magnetic disk, wherein a magnetic element is formed on the lower surface. The first region is divided into a region and a second region for generating a pressure of 0.01 μm.
The following hard film is formed and 0.02μ is formed in the second area.
The magnetic head slider is characterized in that a hard film having a thickness of 3 to 3 μm is formed, and a height difference between the first region and the second region is 0.25 μm or less.
【0014】[0014]
【作用】したがって本発明の構成によれば実際に摺動が
おこなわれる領域は、硬質膜を厚く形成した第二の領域
であり、十分な耐久性を有している。また浮上動作時に
は空気流出端側の磁気素子部が磁気ディスクから最も近
い位置になるように動作し、ここは第一の領域に含ま
れ、DLC膜の厚さは浮上量に対しても十分小さな値で
ありスペーシングロスはわずかである。またこの膜厚差
による第一の領域と第二の領域の高低差が0.25μm
以下と小さく浮上量に悪影響を与えることもない。Therefore, according to the structure of the present invention, the region where the sliding is actually performed is the second region where the hard film is thickly formed and has sufficient durability. Further, during the levitation operation, the magnetic element portion on the air outflow end side operates so as to be located closest to the magnetic disk, which is included in the first region, and the thickness of the DLC film is sufficiently small with respect to the flying height. This is a value and the spacing loss is slight. The difference in height between the first region and the second region due to this film thickness difference is 0.25 μm.
It is as small as below and does not adversely affect the flying height.
【0015】[0015]
【実施例】 (実施例1) 本発明の概要を図1を用いて説明する。
本発明のスライダーは磁気ディスクと対向するエアベア
リング面である下面に、硬質膜8を形成している。図1
は上記エアベアリング面の上面図と動作させるときの断
面図を示している。スライダーのエアベアリング面は第
一の領域、第二の領域に分割される。圧力を発生させる
第二の領域の空気流入端側には従来のスライダーと同様
にテーパー形状にチャンファー部6が形成されており、
磁気ディスク10が回転することで空気流れが生じ、空
気流入端5から空気が流入しやすい形状をしている。ス
ライダの背面はピボット7の位置でバネ材に接着されて
おり、スライダーはピボットを支点として自由度をもっ
ている。EXAMPLES Example 1 The outline of the present invention will be described with reference to FIG.
In the slider of the present invention, the hard film 8 is formed on the lower surface which is the air bearing surface facing the magnetic disk. FIG.
Shows a top view of the air bearing surface and a cross-sectional view when operating. The air bearing surface of the slider is divided into a first area and a second area. A chamfered portion 6 is formed in a tapered shape on the air inflow end side of the second region for generating pressure, like the conventional slider,
The rotation of the magnetic disk 10 causes an air flow, and the air is easily introduced from the air inflow end 5. The back surface of the slider is bonded to the spring material at the position of the pivot 7, and the slider has a degree of freedom with the pivot as a fulcrum.
【0016】スライダーの長手方向の寸法をLとしたと
き、前記第一の領域1は磁気素子3を含み、その一端が
空気流出端4であり、他端は空気流出端4からL/4の
位置より空気流入端側であり、かつピボット位置より空
気流出端側にある。また第二の領域2は前記チャンファ
部6を有し、残りの空気流入端5から3L/4より小さ
な領域である。前記第一の領域には0.01μm以下
(図中a)の硬質膜を、第二の領域には0.02から3
μmの範囲(図中b)の厚い硬質膜を付着させ、かつ第
一の領域と第二の領域の高低差を0.25μm以下(図
中c)に抑えた構成となっている。When the dimension of the slider in the longitudinal direction is L, the first region 1 includes a magnetic element 3, one end of which is an air outflow end 4 and the other end is from the air outflow end 4 to L / 4. It is on the air inflow end side of the position and on the air outflow end side of the pivot position. The second region 2 has the chamfered portion 6 and is a region smaller than 3L / 4 from the remaining air inflow end 5. A hard film of 0.01 μm or less (a in the figure) is formed in the first region, and 0.02 to 3 in the second region.
A thick hard film in the range of μm (b in the figure) is attached, and the height difference between the first region and the second region is suppressed to 0.25 μm or less (c in the diagram).
【0017】次にこのスライダーの動作を図2(a)、
(b)を用いて説明する。図2(a)、(b)は本発明
の磁気ヘッドスライダーを断面方向から観察した概略図
であり、図2(a)が磁気ディスク10の静止時および
低速回転時、図2(b)が高速回転時のスライダーの姿
勢、磁気ディスクとの位置関係を示している。磁気ディ
スク静止時および低速回転時は硬質膜8が厚く付けられ
た、スライダー中央部にある第二の領域が磁気ディスク
と接触し、磁気素子3は磁気ディスクからは離隔された
状態にあり、磁気素子へのダメージは小さい。ディスク
の回転数が大きくなってくると、より大量の空気がテー
パー形状のチャンファ部6より流入し、主に第二の領域
で浮力を得て浮上する。この場合磁気素子3を有する空
気流出端4が磁気ディスクから最も近接した位置とな
る。磁気素子は第一の領域内に位置し、ここでの硬質膜
の厚さは十分に小さいため電磁変換特性としてのスライ
ダーにまつわるスペーシングロスは十分小さな値であ
る。Next, the operation of this slider is shown in FIG.
This will be described with reference to FIG. 2 (a) and 2 (b) are schematic views of the magnetic head slider of the present invention observed from the cross-sectional direction. FIG. 2 (a) shows the magnetic disk 10 at rest and at low speed rotation, and FIG. The posture of the slider and the positional relationship with the magnetic disk during high-speed rotation are shown. When the magnetic disk stands still and rotates at low speed, the hard film 8 is thickly attached, and the second area in the center of the slider contacts the magnetic disk, and the magnetic element 3 is separated from the magnetic disk. Damage to the device is small. As the number of rotations of the disk increases, a larger amount of air flows in from the chamfered portion 6 having a tapered shape, and buoyancy is obtained mainly in the second region to float. In this case, the air outflow end 4 having the magnetic element 3 is located closest to the magnetic disk. Since the magnetic element is located in the first region and the thickness of the hard film here is sufficiently small, the spacing loss associated with the slider as an electromagnetic conversion characteristic is a sufficiently small value.
【0018】(実施例2) 次に本発明を従来の2レー
ルスライダーに適用した例を図3を用いて説明する。同
図は上記スライダーの斜視図であり、本スライダーは磁
気ディスクと対向するエアベアリング面に、従来と同様
にスライダー長手方向に平行な2本のレールを有してお
り、各々のレールは、スライダーの長手方向の寸法をL
としたとき、磁気素子3を含む空気流出端4からL/4
の第一の領域1と残りの空気流入端5から3L/4の第
二の領域2に分割される。硬質膜としてはDLC膜を用
いた。第一の領域には後述の密着性を確保するための中
間層を含むDLC膜を10nm、第二の領域には更にそ
の上にDLC膜100nmが付着してある。従って前記
第一の領域と第二の領域の高低差(段差)は100nm
である。また前記第二の領域の空気流入端5側にはテー
パー形状にチャンファー部6が形成されている。(Embodiment 2) Next, an example in which the present invention is applied to a conventional two-rail slider will be described with reference to FIG. This figure is a perspective view of the slider. This slider has two rails parallel to the longitudinal direction of the slider on the air bearing surface facing the magnetic disk as in the conventional case. Each rail is a slider. The longitudinal dimension of L
, L / 4 from the air outflow end 4 including the magnetic element 3
The first region 1 and the remaining air inflow end 5 are divided into the second region 2 of 3L / 4. A DLC film was used as the hard film. In the first region, a DLC film including an intermediate layer for ensuring the adhesion described later is 10 nm, and in the second region, a DLC film 100 nm is further deposited thereon. Therefore, the height difference (step) between the first region and the second region is 100 nm.
Is. A chamfered portion 6 is formed in a tapered shape on the air inflow end 5 side of the second region.
【0019】次にこのスライダーの製造方法について述
べる。従来の薄膜磁気ヘッドの製造方法と同じくウェハ
ー上に形成された磁気ヘッドはローと呼ばれる素子が横
一列に配列した長板上に切断加工される。ローは従来知
られるように機械加工によって両面ラップ後、2本のレ
ール加工、溝加工、チャンファ加工、クラウン加工、ポ
ールハイト加工等を行った後、DLC膜をABS面全体
に一様に10nm成膜した。この状態で第一の領域1が
形成されたことになる。Next, a method of manufacturing this slider will be described. Similar to the conventional method of manufacturing a thin film magnetic head, a magnetic head formed on a wafer is cut and processed on a long plate in which elements called rows are arranged in a horizontal row. As is conventionally known, after performing double-side lapping by mechanical processing, Rho processes two rails, grooves, chamfers, crowns, pole heights, etc., and then forms a DLC film uniformly over the ABS surface to a thickness of 10 nm. Filmed In this state, the first region 1 is formed.
【0020】続いて第二の領域2を作製する。本実施例
では第二の領域はDLC膜のみで構成されており、その
製造方法を図4、図5を用いて説明する。図4、図5は
ローの中の一つのスライダーのエアベアリング面上に作
製する第二の領域部分の断面図であり、下面はDLCで
あり、前記第一の領域と同一高さにある。図4ではあら
かじめ第二の領域以外の部分に、すなわち反転パターン
でレジスト11をパターニングし(a)、その状態でC
VD法でDLC膜を所望の膜厚、本実施例では0.1μ
m成膜し、第二の領域2を形成した(b)。この工程で
はすでに母材にDLC膜が被覆されているため中間層は
必要ない。従って第二の領域におけるDLC膜の総膜厚
は0.11μmとなっている。Then, the second region 2 is formed. In the present embodiment, the second region is composed of only the DLC film, and its manufacturing method will be described with reference to FIGS. 4 and 5 are cross-sectional views of a second region portion formed on the air bearing surface of one slider in the row, and the lower surface is the DLC, which is at the same height as the first region. In FIG. 4, the resist 11 is patterned in advance in a portion other than the second region, that is, in a reverse pattern (a), and C is applied in that state.
The DLC film is formed to a desired film thickness by the VD method, which is 0.1 μm in this embodiment.
Then, a second region 2 was formed (b). In this step, the base material has already been covered with the DLC film, so that no intermediate layer is required. Therefore, the total thickness of the DLC film in the second region is 0.11 μm.
【0021】本実施例ではDLC膜はDCのCVD法で
形成しており、絶縁膜であるレジスト上にはDLC膜は
形成されず、エッジでは角が丸まった形状に膜が成長し
ていることがわかった。平坦な部分では180度方向か
ら反応種が飛んでくるのに対してパターンエッジでは壁
で方位が遮られるため膜減りするものと考えられる。そ
の後、アセトン等の有機溶剤でレジストを剥離し、第二
の領域が完成する(c)。In this embodiment, the DLC film is formed by the DC CVD method, the DLC film is not formed on the resist which is the insulating film, and the film grows in a shape with rounded corners at the edges. I understood. It is considered that the reactive species fly from the direction of 180 degrees in the flat portion, whereas the wall is obstructed by the wall at the pattern edge, so that the film is reduced. Then, the resist is peeled off with an organic solvent such as acetone to complete the second region (c).
【0022】図5は第二の領域を作製するもう一つの方
法を示す。第二の領域2形成部に対応した穴が形成され
た80μm厚のメタルマスク13を位置合わせしてロー
上に固定した後DLC膜を0.1μmを形成した
(a)。メタルマスクにもDLCが付着するため、DL
Cを更に厚く成膜したい場合には剥離が生じてパッド部
に剥離した破片が混入してしまうため、メタルマスク上
にも予めSi等の密着層を付着しておくことが望まし
い。この方法の場合もエッジでは角が取れた様な形状で
膜が成長することが確認された。メタルマスクのように
付着させる膜厚に対し十分大きな厚みを有するマスクを
用いる場合はマスクの側面にも膜が形成し、単位面積あ
たりの成膜速度が同じであることからパターンエッジで
は膜減りしているものと考えられる。また付着した第二
の領域のパターンは、マスクに対してわずかに小さくな
る傾向が見られた。これはプラズマシースの影響による
ものと考えられる。その後、メタルマスクを除去し第二
の領域が完成する(b)。FIG. 5 illustrates another method of making the second region. An 80 μm thick metal mask 13 having holes corresponding to the second region 2 formation portion was aligned and fixed on the row, and then a DLC film having a thickness of 0.1 μm was formed (a). DL is attached to the metal mask, so DL
When C is desired to be formed in a thicker film, peeling occurs and the peeled pieces are mixed in the pad portion. Therefore, it is desirable to deposit an adhesion layer such as Si on the metal mask in advance. In the case of this method as well, it was confirmed that the film grows in a shape with the corners removed. When using a mask with a thickness that is sufficiently larger than the thickness to be deposited, such as a metal mask, a film is also formed on the side surface of the mask, and since the film formation rate per unit area is the same, the film decreases at the pattern edge. It is considered that Further, the pattern of the attached second region tended to be slightly smaller than that of the mask. This is considered to be due to the influence of the plasma sheath. After that, the metal mask is removed to complete the second region (b).
【0023】上記いずれかの方法でローにおける各スラ
イダーのエアベアリング面に第二の領域が形成され、そ
の後ローからピースに分離され本実施例の磁気スライダ
ーが完成する。本実施例において形成された第二の領域
の高低差は0.1μmである。A second region is formed on the air bearing surface of each slider in the row by any of the above methods, and then separated from the row into pieces to complete the magnetic slider of this embodiment. The height difference of the second region formed in this example is 0.1 μm.
【0024】次にDLC膜の形成方法について説明す
る。本実施例ではスライダー材料としてはAl203−T
iCを使用したが、これにDLCを形成する場合、密着
性を十分確保するため中間層としてTi(2nm)\S
i(2nm)を用いた。スライダー材料としてAl203
−TiC、SiC等のセラミック材料を用いた場合、中
間層としてのTi\SiあるいはCr\Si積層膜はT
i単層やSi単層より密着力を有していることが確認さ
れている。このTiとSiについては成膜前にArプラ
ズマで基材をエッチングクリーニングした後、RFスパ
ッタリング法でArガス雰囲気中で形成した。またDL
CはプラズマCVD法で6nm形成した。真空チャンバ
内を5×10-6Torr以下に排気したのち、CH4 等
の炭化水素系のガスを導入し、排気側のバルブの開閉度
を調整し、0.1Torrで安定させる。被膜する基板
がDC電源のマイナス電位側に接続された電極に保持
し、ここに−600Vの電位を印加してプラズマを発生
させDLC膜が基板上に堆積する。Next, a method of forming the DLC film will be described. Al 2 As the slider material in this embodiment 0 3 -T
iC was used, but when DLC is formed on it, Ti (2nm) \ S is used as an intermediate layer to secure sufficient adhesion.
i (2 nm) was used. Al 2 O 3 as slider material
-When a ceramic material such as TiC or SiC is used, the Ti \ Si or Cr \ Si laminated film as the intermediate layer is T
It has been confirmed that the i-layer and the Si-layer have an adhesive force. The Ti and Si were formed in an Ar gas atmosphere by RF sputtering after etching and cleaning the base material with Ar plasma before film formation. Also DL
C was formed to a thickness of 6 nm by the plasma CVD method. After exhausting the inside of the vacuum chamber to 5 × 10 −6 Torr or less, a hydrocarbon-based gas such as CH 4 is introduced, and the opening / closing degree of the exhaust side valve is adjusted to stabilize at 0.1 Torr. The substrate to be coated is held by an electrode connected to the negative potential side of the DC power source, and a potential of −600 V is applied to generate an plasma, and the DLC film is deposited on the substrate.
【0025】このように形成したDLC薄膜はその膜厚
が中間層を含む10nmという極薄膜であっても高い耐
食性を示す。MRヘッド等で使用されるFeMn等の腐
食性の高い材料が表面に露出したようなヘッドに、10
nmの厚さでDLC薄膜を被覆し、80℃、相対湿度9
0%、48時間保管させた耐食性の加速評価でもFeM
n膜の変質は認められなかった。これはCVD法で成膜
したDLC膜が緻密であり、またピンホールも無く、1
0nmという薄膜であってもFeMn膜が完全に被覆保
護されているためと考えられる。The DLC thin film thus formed exhibits high corrosion resistance even if the film thickness is an extremely thin film of 10 nm including the intermediate layer. For heads with highly corrosive materials such as FeMn used in MR heads exposed on the surface,
DLC thin film with a thickness of nm, 80 ℃, relative humidity 9
FeM even in accelerated evaluation of corrosion resistance stored at 0% for 48 hours
No alteration of the n film was observed. This is because the DLC film formed by the CVD method is dense and has no pinholes.
It is considered that the FeMn film is completely covered and protected even with a thin film of 0 nm.
【0026】(実施例3) 実施例2で記載のスライダ
ー(図3、サンプルC)を用いて摺動性を見るためコン
タクトスタートストップ(CSS)テストを行った。比
較のため何もコーティングしていない2レールテーパー
フラット型スライダ(サンプルA)と、サンプルAのレ
ール面全面に一様にDLCを約10nmと薄くコーティ
ングしたスライダ(サンプルB)を同一条件でテストし
た。対向する磁気ディスクはガラスディスクを使用し、
磁気記録表面層上にはスパッタリングにより形成したD
LC10nmおよび有機潤滑剤であるパーフロロポリエ
ーテル3nmをコーティングしたものを用いた。CSS
テスト条件は図7に示す様にCSSの1サイクルの時間
は8秒であり、そのうち停止から一定回転数(速度換算
で5.65m/sec)までの加速時間2秒、一定回転
数で1秒、その後停止するまでの減速時間約2秒で、残
りの3秒が停止時間とし、このサイクルを繰り返し行っ
た。Example 3 A contact start stop (CSS) test was conducted using the slider described in Example 2 (FIG. 3, sample C) to check slidability. For comparison, a two-rail taper flat type slider (sample A) which is not coated with anything and a slider (sample B) in which DLC is thinly coated to a thickness of about 10 nm uniformly on the entire rail surface of sample A were tested under the same conditions. . The opposite magnetic disk uses a glass disk,
D formed by sputtering on the magnetic recording surface layer
What was coated with LC 10 nm and perfluoropolyether 3 nm which is an organic lubricant was used. CSS
As shown in FIG. 7, the test condition is that the time for one cycle of CSS is 8 seconds, of which the acceleration time from stop to constant rotation speed (5.65 m / sec in terms of speed) is 2 seconds and constant rotation speed is 1 second. Then, the deceleration time until stopping was about 2 seconds, and the remaining 3 seconds was the stopping time, and this cycle was repeated.
【0027】図8にCSSテストの結果を示す。横軸に
CSS回数、縦軸に最大の動摩擦係数(μmax)をプ
ロットしている。初期にサンプルAのμmaxが0.3
5前後と多少高めの値を示したのに対し、サンプルBお
よびCのμmaxは0.3以下と小さな値を示した。こ
れは従来の実施例の通りDLCを形成することで摩擦が
低減されていることを示している。CSS回数が増加す
るにつれサンプルAの摩擦係数の増加は著しく、7万回
でμmaxは0.8を超え、小型のHDDではスピンド
ルモーターで回転するには負荷が大きすぎる値となって
しまったため、途中で実験を中止した。これに比較して
サンプルBおよびCは比較的良好な結果を示したが、サ
ンプルBはCSS8万回以降徐々にμmax値が増加す
る傾向にある。これに対しサンプルCはCSS10万回
までわずかにμmax値が増加する程度であり、十分な
CSS耐久性を有していることが確かめられた。これは
CSS時の摺動部のDLCの膜厚差、本実施例ではサン
プルBの10nmとサンプルCの0.11μm、に起因
しているものと考えることができる。FIG. 8 shows the result of the CSS test. The abscissa plots the number of CSSs, and the ordinate plots the maximum dynamic friction coefficient (μmax). Initially, μmax of sample A is 0.3
The values of μmax of Samples B and C were as small as 0.3 or less, while the values were slightly higher at around 5. This indicates that the friction is reduced by forming the DLC as in the conventional example. As the number of CSS increases, the friction coefficient of Sample A increased remarkably, and μmax exceeded 0.8 at 70,000 times, and the load was too large for the spindle motor to rotate in a small HDD. The experiment was stopped on the way. Compared with this, Samples B and C showed relatively good results, but Sample B tends to have a gradually increasing μmax value after CSS 80,000 times. On the other hand, Sample C had a slightly increased μmax value up to 100,000 times of CSS, and was confirmed to have sufficient CSS durability. It can be considered that this is due to the difference in the DLC film thickness of the sliding portion during CSS, which is 10 nm for sample B and 0.11 μm for sample C in this example.
【0028】(実施例4) 次に本発明のその他の実施
例を図9を用いて説明する。本スライダーの磁気ディス
クに対向する面の空気流入端5側には空気が入りやすい
様テーパー形状のチャンファ部6が形成され、空気流入
側パッド42で浮力が生じる構成となっている。素子部
パッド41は十分小さいためここでの浮力の発生は十分
小さな大きさであり、この先に磁気ヘッド素子3が配設
されている。また素子部パッドは第一の領域、空気流入
側パッドは第二の領域内にある。すなわちスライダーの
長手寸法をL1とすると空気流入側パッドの領域は空気
流入端から3(L1)/4より小さなパターンである。(Embodiment 4) Next, another embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. A chamfered portion 6 having a taper shape is formed on the air inflow end 5 side of the surface of the slider facing the magnetic disk so that air can easily enter, and buoyancy is generated in the air inflow side pad 42. Since the element portion pad 41 is sufficiently small, the buoyancy generated here is sufficiently small, and the magnetic head element 3 is disposed ahead of this. The element pad is in the first region, and the air inflow side pad is in the second region. That is, when the longitudinal dimension of the slider is L1, the area of the air inflow side pad is a pattern smaller than 3 (L1) / 4 from the air inflow end.
【0029】パッドの形成方法は以下の通りに行った。
チャンファー加工、ポールハイト加工まで終了したロー
の各スライダーにおいて空気流入側パッドおよび素子部
パッドのパターン形状でレジストを形成し、イオンミリ
ング等でパッド以外の領域を約2μmエッチングした
後、レジストを剥離し、その後エアベアリング面全体に
実施例1で記載したのと同様にTi\Si\DLCを2
nm\2nm\6nmの膜厚で形成した。更にこの後空
気流入側パッド以外の部分にレジストでパターン形成
し、空気流入側パッド部のみにDLCを約0.2μm形
成した。その後ローからピースに切断しスライダーが完
成する。The method for forming the pad was as follows.
A resist is formed with the pattern shape of the air inflow side pad and the element pad on each slider of the low that has completed the chamfer processing and pole height processing, and the area other than the pad is etched by about 2 μm by ion milling etc., and then the resist is peeled off. Then, Ti \ Si \ DLC is added to the entire air bearing surface in the same manner as described in Example 1.
It was formed with a film thickness of nm \ 2 nm \ 6 nm. After that, a pattern was formed with a resist on a portion other than the air inflow side pad, and DLC was formed in a thickness of about 0.2 μm only on the air inflow side pad portion. After that, the rod is cut into pieces to complete the slider.
【0030】本実施例のヘッドスライダーの動作は図2
(a)、(b)を用いて上記で説明した、実施例1で記
載のものと同様であり、磁気ディスク静止時および低速
回転時はDLCが厚く付けられた第二の領域に含まれる
空気流入側パッドが磁気ディスクと接触し、素子部のあ
る素子部パッドは磁気ディスクから離隔された状態とな
っている。ディスクの回転数が大きくなってくると、よ
り多くの空気がチャンファ部より流入し、空気流入側パ
ッドで浮力を得て浮上する。素子側パッドは十分に小さ
いため浮上特性には影響はない。安定した浮上姿勢を有
する状態に達したとき、磁気素子を有する空気流出端が
最も低い位置となり、電磁変換特性としてのスライダー
にまつわるスペーシングロスは第一の領域内の素子側パ
ッド上のDLCの膜厚10nmのみであり、十分小さな
値である。The operation of the head slider of this embodiment is shown in FIG.
Air that is similar to that described in the first embodiment described above using (a) and (b), and that is included in the second region where the DLC is thickly attached when the magnetic disk is stationary and at low speed rotation. The inflow side pad is in contact with the magnetic disk, and the element section pad having the element section is separated from the magnetic disk. As the number of rotations of the disk increases, more air flows in from the chamfer portion, and buoyancy is obtained at the air inflow side pad to float. Since the device side pad is sufficiently small, it does not affect the floating characteristics. When the state of having a stable floating posture is reached, the air outflow end having the magnetic element is at the lowest position, and the spacing loss associated with the slider as the electromagnetic conversion characteristic is the DLC film on the element side pad in the first region. The thickness is only 10 nm, which is a sufficiently small value.
【0031】本スライダーを実施例3で記載したと同様
にCSSテストを行ったところ、パッド全面に一様に1
0nmのDLCを付着させたスライダーに比較して優れ
た耐摺動性が確認された。これもDLCの膜厚差による
ものである。A CSS test was performed on this slider in the same manner as described in Example 3, and it was found that 1 was uniformly applied to the entire surface of the pad.
Excellent sliding resistance was confirmed as compared with the slider to which 0 nm DLC was attached. This is also due to the difference in film thickness of DLC.
【0032】(実施例5) 次に本発明のスライダーに
おいて第一の領域と第二の領域の高低差が浮上量、浮上
姿勢に与える影響について説明する。図3に示した従来
の2レールテーパーフラット型スライダーに適用した例
において、スライダーの浮上量および浮上姿勢につい
て、第一の領域と第二の領域の高低差を変えて調べた。
本実施例では第二の領域はDLC膜から構成されてお
り、DLCの膜厚が第二の領域における段差と一致す
る。(Embodiment 5) Next, the influence of the height difference between the first region and the second region on the flying height and the flying posture in the slider of the present invention will be described. In the example applied to the conventional two-rail taper flat type slider shown in FIG. 3, the flying height and the flying posture of the slider were examined by changing the height difference between the first region and the second region.
In this embodiment, the second region is composed of the DLC film, and the film thickness of the DLC matches the step in the second region.
【0033】その結果を図10に示す。図中実線データ
はあるジンバル、ピボット位置で作製したヘッドジンバ
ルアセンブリの浮上特性で、DLCの膜厚のみを変更し
た場合の磁気素子のギャップ位置での浮上量測定データ
をプロットしている。ディスクの周速は4m/secで
あり、DLCの膜厚が0.1μm以下の領域では浮上量
は110nm付近で、段差の無いスライダーと変わらず
影響ないが、DLCが厚くなるに従って指数的に浮上量
が上昇した。DLCの膜厚が1μm程度では600nm
と大きく影響を受けることがわかった。浮上量の仕様値
が110±10nmの場合、DLCの膜厚範囲は0.1
μm以下ということになる。そこでピボット位置を可能
な範囲で空気流出端側にずらすことでピッチ角を大きく
する、あるいはエアベアリング面の形状等を最適設計す
ることで、ギャップ位置の浮上量への影響を小さくする
ことができる。図中一点鎖線はそれらを調整後の値であ
り、これによりDLCを0.25μmの厚さまで形成可
能であることがわかった。The results are shown in FIG. The solid line data in the figure is the flying characteristic of the head gimbal assembly manufactured at a certain gimbal and pivot position, and the flying height measurement data at the gap position of the magnetic element when only the thickness of the DLC is changed is plotted. The peripheral speed of the disk is 4 m / sec, and in the region where the DLC film thickness is 0.1 μm or less, the flying height is around 110 nm, which is the same as a slider without steps, but does not rise exponentially as the DLC becomes thicker. The amount rose. 600 nm when the DLC film thickness is about 1 μm
It was found to be greatly affected. When the flying height specification is 110 ± 10 nm, the DLC film thickness range is 0.1
It means that it is less than μm. Therefore, the influence of the gap position on the flying height can be reduced by increasing the pitch angle by shifting the pivot position to the air outflow end side within the possible range or by optimally designing the shape of the air bearing surface. . In the figure, the alternate long and short dash line is the value after adjusting them, and it was found that DLC can be formed to a thickness of 0.25 μm.
【0034】上記の様な第一の領域と第二の領域の高低
差が磁気素子位置の浮上量に与える影響、さらにピボッ
ト位置の変更やレールパターンの設計変更による調整は
当然そのスライダーのレール形状等により微妙に異なる
が、DLCの厚みは浮上量の仕様値から限定され、概略
0.25μmと見積もられる。The influence of the height difference between the first area and the second area on the flying height of the magnetic element position as described above, as well as the adjustment of the pivot position and the design of the rail pattern, is of course the slider rail shape. The thickness of the DLC is limited to the specification value of the flying height, and is estimated to be approximately 0.25 μm, although it is slightly different depending on the situation.
【0035】またスライダーの長手方向の寸法をLとし
たとき、第二の領域が空気流入端から3/4Lを超える
ようなパターンでは、浮上時に第二の領域の流出端側の
位置が、磁気素子位置よりも磁気ディスクと近接してし
まい、磁気素子部のスペーシングロスが大きくなってし
まうため第一の領域と第二の領域の高低差を付けられな
いことがわかった。従って本発明のスライダーにおい
て、第二の領域の許容範囲は空気流入端より3/4L以
下であり、よって空気流出端が一端である第一の領域の
他端は空気流出端からL/4の位置より空気流入端側で
なければならない。When the dimension of the slider in the longitudinal direction is L, and the second region exceeds 3/4 L from the air inflow end, the position of the second region on the outflow end side during the flying is magnetic. It was found that the height difference between the first region and the second region cannot be provided because the magnetic disk is closer to the magnetic disk than the element position and the spacing loss of the magnetic element portion is large. Therefore, in the slider of the present invention, the allowable range of the second region is 3/4 L or less from the air inflow end, and thus the other end of the first region whose one end is the air outflow end is L / 4 from the air outflow end. It must be closer to the air inflow end than the position.
【0036】また前記第一の領域の他端がピボット位置
より空気流入端側にある場合は図2(a)において荷重
がかかり、回転の支点になるピボット7の位置において
磁気素子3が磁気ディスク10に近づく方向にモーメン
トがかかり、特にディスク低速回転時に磁気素子と磁気
ディスクが接触してしまう恐れがあり、望ましくない。
従って前記第一の領域の他端はピボット位置より空気流
出端側になければならない。When the other end of the first area is located on the air inflow end side of the pivot position, a load is applied in FIG. 2A, and the magnetic element 3 is placed on the magnetic disk 3 at the position of the pivot 7, which is the fulcrum of rotation. A moment is applied in the direction of approaching 10, and the magnetic element may come into contact with the magnetic disk particularly when the disk rotates at a low speed, which is not desirable.
Therefore, the other end of the first region must be closer to the air outflow end side than the pivot position.
【0037】(実施例6) その他のレール形状を有す
る本発明の磁気ヘッドスライダーを図11および図12
を用いて説明する。図11は磁気ディスクと対向するエ
アベアリング面に分離された複数個、本実施例では3個
のレールを有する磁気スライダーである。空気流出端4
側に磁気素子3を配設し、空気流入端5側にチャンファ
部6を有しており、素子側パッド51と空気流入側パッ
ド52、53を有している。ここにおいて素子側パッド
51が本発明における第一の領域、空気流入側パッド5
2、53が第二の領域に含まれる。素子側パッドにはD
LCを10nm、空気流入側パッドには110nmが被
覆してある。本スライダーの動作、効果ともに前記実施
例のものと同様であった。(Embodiment 6) A magnetic head slider of the present invention having another rail shape is shown in FIGS. 11 and 12.
Will be explained. FIG. 11 shows a magnetic slider having a plurality of, in the present embodiment, three rails separated on the air bearing surface facing the magnetic disk. Air outflow end 4
The magnetic element 3 is disposed on the side, the chamfer portion 6 is provided on the air inflow end 5 side, and the element side pad 51 and the air inflow side pads 52 and 53 are provided. Here, the element side pad 51 is the first region in the present invention, the air inflow side pad 5
2, 53 are included in the second region. D on the element side pad
The LC is coated with 10 nm, and the air inflow side pad is coated with 110 nm. The operation and effect of this slider were the same as those of the above-mentioned embodiment.
【0038】また図12は本発明の他の実施例のスライ
ダーの斜視図であり、磁気ディスクと対向するエアベア
リング面の短手方向の両端に二本62、63、さらに中
央部に空気を両端側に分流させるようなテーパー形状を
有する一本61、合計三本のレールを有するスライダー
の斜視図である。本スライダーにおいては三本のレール
上に三点で支持するよう三個のパッド64、65、66
がDLC膜で形成されており、いずれも第二の領域内に
位置している。各パッドのDLC膜の厚さは2μmであ
るがレールとパッドの段差は0.2μm以下に抑えてあ
る。FIG. 12 is a perspective view of a slider according to another embodiment of the present invention. Two sliders 62 and 63 are provided at both ends in the lateral direction of the air bearing surface facing the magnetic disk, and air is provided at both ends at the center. FIG. 11 is a perspective view of a slider having a total of three rails, one having a taper shape for diverting to the side. In this slider, three pads 64, 65, 66 are provided to support three rails at three points.
Are formed of a DLC film, and both are located in the second region. The thickness of the DLC film of each pad is 2 μm, but the step between the rail and the pad is suppressed to 0.2 μm or less.
【0039】このスライダーの作製方法を説明する。チ
ャンファー加工、ポールハイト加工まで終了したローの
各スライダーにおいて前記三本のレールパターン形状で
レジストを形成し、イオンミリング等でパッド以外の領
域を約5μmエッチングした後、レジストを剥離する。
その後さらに三個のパッド部分をエッチングする。図6
はローの中の一つのスライダーの前記三本のレール面上
にパッドを作製する部分の断面図であり、まず、パッド
の反転パターンでレジスト11を形成する(a)。その
後イオンミリングによりAl203−TiCを1.8μm
エッチングした(b)。続いてレジストを剥離し、レー
ル面全体に実施例2で記載したのと同様にTi\Si\
DLCを2nm\2nm\6nmの膜厚で形成した(図
示せず)。更にこの後パッド以外の部分にレジストをパ
ターン形成し、DLCを約2μm形成した。その後レジ
ストを剥離し、ローからピースに切断しスライダーが完
成する。本スライダーではレール上の各パッド部分はレ
ール面から0.2μm突きだした形となっているが、浮
上量への影響はほとんどない。A method of manufacturing this slider will be described. A resist is formed in the above-described three rail pattern shapes on each slider of the row which has been subjected to chamfer processing and pole height processing, and the area other than the pad is etched by about 5 μm by ion milling or the like, and then the resist is peeled off.
After that, three pad portions are further etched. Figure 6
FIG. 4A is a cross-sectional view of a portion where a pad is formed on the three rail surfaces of one slider in a row. First, a resist 11 is formed in a reverse pattern of the pad (a). Then, by ion milling, Al 2 O 3 -TiC was added to 1.8 μm.
Etched (b). Subsequently, the resist was peeled off, and Ti \ Si \ was formed on the entire rail surface in the same manner as described in Example 2.
DLC was formed with a film thickness of 2 nm \ 2 nm \ 6 nm (not shown). Further, after this, a resist was patterned on a portion other than the pad to form a DLC of about 2 μm. After that, the resist is peeled off, and the row is cut into pieces to complete the slider. In this slider, each pad portion on the rail protrudes 0.2 μm from the rail surface, but there is almost no effect on the flying height.
【0040】また本実施例のスライダーはディスク静止
時および低速回転時において前記三個のパッドのみで磁
気ディスクと接触する点と第二の領域の一部にDLCを
厚く付着させた領域を有している点が前記実施例と異な
るが、その効果は前記実施例のものよりもさらに優れた
CSS特性を示した。これは耐摩擦耐久性への効果はD
LCの総膜厚で決定されることを意味している。Further, the slider of this embodiment has a point where the DLC is thickly attached to a part of the second area and a point where the slider contacts the magnetic disk only when the disk is stationary and at low speed rotation. However, the effect was more excellent than that of the above-mentioned examples in the CSS characteristics. This has an effect on abrasion resistance D
It means that it is determined by the total film thickness of LC.
【0041】上記プロセスを用いれば第一の領域と第二
の領域の高低差は浮上量に影響の無い0.25μm以下
とすることが可能であり、かつ摺動部である第二の領域
のDLC厚さとしては、耐久性に優れた厚さ、望ましく
は1から3μm程度の膜厚を確保できる。3μm以上の
膜厚では中間層の膜厚を十分とることが必要となり、第
一の領域のスペーシングロスが大きくなるため望ましく
ない。By using the above process, the height difference between the first region and the second region can be set to 0.25 μm or less which does not affect the flying height, and in the second region which is the sliding portion. As the DLC thickness, it is possible to secure a thickness excellent in durability, preferably a thickness of about 1 to 3 μm. When the film thickness is 3 μm or more, it is necessary to make the film thickness of the intermediate layer sufficient, and the spacing loss in the first region increases, which is not desirable.
【0042】[0042]
【発明の効果】本発明によれば、磁気ディスクの低速回
転時には、DLCを厚く形成した低摩擦で耐摩耗性に優
れた第二の領域が摺動し、高速回転時には浮上してDL
Cが薄く被覆された第一の領域の空気流出端にある磁気
素子が磁気ディスクからもっとも近い位置にくる様なス
ライダーを提供することにより摩擦耐久性に優れしかも
スペーシングロスが小さく高密度記録に適用可能な磁気
ヘッドスライダーを提供する。According to the present invention, when the magnetic disk rotates at a low speed, the second region formed of a thick DLC and having low friction and excellent wear resistance slides, and when the magnetic disk rotates at a high speed, it floats and DL
By providing a slider so that the magnetic element at the air outflow end of the first region where C is thinly coated comes to the position closest to the magnetic disk, it has excellent friction durability and has a small spacing loss for high density recording. An applicable magnetic head slider is provided.
【図1】本発明の磁気ヘッドスライダの概観図である。FIG. 1 is a schematic view of a magnetic head slider of the present invention.
【図2】本発明の磁気ヘッドスライダの動作を示す断面
図である。FIG. 2 is a cross-sectional view showing the operation of the magnetic head slider of the present invention.
【図3】本発明の一つの実施例の磁気ヘッドスライダの
斜視図である。FIG. 3 is a perspective view of a magnetic head slider according to an embodiment of the present invention.
【図4】第二の領域を形成する一つの方法を示す断面図
である。FIG. 4 is a cross-sectional view showing one method of forming the second region.
【図5】第二の領域を形成する他の方法を示す断面図で
ある。FIG. 5 is a cross-sectional view showing another method of forming the second region.
【図6】第二の領域を形成するその他の方法を示す断面
図である。FIG. 6 is a cross-sectional view showing another method of forming the second region.
【図7】実施例で行ったCSSテスト条件を示すチャー
ト図である。FIG. 7 is a chart showing CSS test conditions performed in an example.
【図8】本発明と従来の磁気ヘッドスライダのCSSテ
ストの結果を示す図である。FIG. 8 is a diagram showing the results of a CSS test of the magnetic head slider of the present invention and the conventional magnetic head slider.
【図9】本発明の他の実施例の磁気ヘッドスライダの斜
視図である。FIG. 9 is a perspective view of a magnetic head slider according to another embodiment of the present invention.
【図10】本発明の一実施例におけるスライダにおいて
第二の領域の段差が浮上量に与える影響を示した図であ
る。FIG. 10 is a diagram showing the influence of the step in the second region on the flying height in the slider according to the embodiment of the present invention.
【図11】本発明の他の実施例における磁気ヘッドスラ
イダの斜視図である。FIG. 11 is a perspective view of a magnetic head slider according to another embodiment of the present invention.
【図12】本発明の他の実施例における磁気ヘッドスラ
イダの斜視図である。FIG. 12 is a perspective view of a magnetic head slider according to another embodiment of the present invention.
【図13】従来の磁気ヘッドスライダーの断面図であ
る。FIG. 13 is a sectional view of a conventional magnetic head slider.
【図14】従来の磁気ヘッドスライダーの上面図であ
る。FIG. 14 is a top view of a conventional magnetic head slider.
1 第一の領域 2 第二の領域 3 磁気素子 4 空気流出端 5 空気流入端 6 チャンファ部 7 ピボット 8 硬質膜 10 磁気ディスク 1 1st area | region 2 2nd area | region 3 magnetic element 4 air outflow end 5 air inflow end 6 chamfer part 7 pivot 8 hard film 10 magnetic disk
Claims (2)
面である下面には硬質膜が形成されてなる磁気ヘッドス
ライダ−であって、下面には磁気素子が形成されている
第一の領域と圧力を発生させるための第二の領域とに分
割され、該第一の領域には0.01μm以下の硬質膜が
形成され、該第二の領域には0.02μm乃至3μmの
硬質膜が形成され、かつ第一の領域と第二の領域との高
低差が0.25μm以下であることを特徴とする磁気ヘ
ッドスライダー。1. A magnetic head slider having a hard film formed on a lower surface which is an air bearing surface facing a magnetic disk, wherein a pressure is applied to a first area where a magnetic element is formed on the lower surface. A second region for generating, a hard film of 0.01 μm or less is formed in the first region, and a hard film of 0.02 μm to 3 μm is formed in the second region, A magnetic head slider having a height difference between the first region and the second region of 0.25 μm or less.
徴とする請求項1に記載の磁気ヘッドスライダー。2. The magnetic head slider according to claim 1, wherein the hard film is a DLC film.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP13299095A JPH08329439A (en) | 1995-05-31 | 1995-05-31 | Magnetic head slider |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP13299095A JPH08329439A (en) | 1995-05-31 | 1995-05-31 | Magnetic head slider |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH08329439A true JPH08329439A (en) | 1996-12-13 |
Family
ID=15094211
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP13299095A Pending JPH08329439A (en) | 1995-05-31 | 1995-05-31 | Magnetic head slider |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH08329439A (en) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7495856B2 (en) | 2004-10-29 | 2009-02-24 | Hitachi Global Storage Technologies Netherlands B.V. | Disk drive slider design for thermal fly-height control and burnishing-on-demand |
-
1995
- 1995-05-31 JP JP13299095A patent/JPH08329439A/en active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7495856B2 (en) | 2004-10-29 | 2009-02-24 | Hitachi Global Storage Technologies Netherlands B.V. | Disk drive slider design for thermal fly-height control and burnishing-on-demand |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US6728069B2 (en) | Magnetic head slider having protrusions with high abrasion resistance provided on the medium-facing surface and manufacturing method therefor | |
US20080062568A1 (en) | Process for fabricating a slider or head for a data storage device | |
JP2743851B2 (en) | Magnetic head | |
US5903969A (en) | Floating magnetic head and method for producing same | |
US7619857B2 (en) | Silicon-made magnetic head slider and method of producing the same | |
JP2803651B2 (en) | Magnetic head slider and method of manufacturing the same | |
US5436047A (en) | Thin film magnetic recording disk comprising a metallic disk blank, a substantially non-magnetic Ni-Cr-O film having a textured surface and a magnetic film | |
JPH08180407A (en) | Manufacture of textured magnetic storage disk | |
US6491798B2 (en) | Magnetic recording medium and magnetic storage apparatus | |
US6477011B1 (en) | Magnetic recording device having an improved slider | |
Yamamoto et al. | Stiction free slider for lightly textured disks | |
JPH08329439A (en) | Magnetic head slider | |
US20020054459A1 (en) | Method of producing magnetic head | |
JP3539225B2 (en) | Magnetic head and magnetic disk drive | |
JPH05282646A (en) | Floating type magnetic head | |
JP3547935B2 (en) | Thin film head and manufacturing method thereof | |
US7270897B2 (en) | Magnetic recording medium, method of manufacturing the same medium and magnetic disc drive | |
JPH08249637A (en) | Magnetic disk, method of manufacturing the same, and magnetic disk device | |
JPH01133274A (en) | Floating magnetic head and its manufacture | |
JPH1049850A (en) | Magnetic disk recording device | |
JPH10247367A (en) | Thin film magnetic head and method of manufacturing the same | |
JP2000030390A (en) | Magnetic head, method of manufacturing the same, and magnetic disk drive | |
JPH0887733A (en) | Magnetic head slider with protective film and magnetic recorder with same | |
JPH07296350A (en) | Floating magnetic head | |
JPS61294638A (en) | Production of magnetic disk |