JPH0831327A - Electrode structure of plasma display panel - Google Patents
Electrode structure of plasma display panelInfo
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 電極と水系の感光液または現像液、あるいは
水系処理液が接触した際、該電極中の水溶性還元剤の溶
出による該電極と絶縁板との間の密着強度の低下を防止
できるプラズマディスプレイパネルの電極構造を提供す
る。
【構成】 プラズマディスプレイパネルの電極構造であ
って、該電極の下面または側面と、絶縁板の間にガラス
層を設け、あるいは該電極と該絶縁板の表出面にガラス
層を設け、該ガラス層を形成するガラス形成成分を電極
中に拡散させて該電極とガラス層を一体化した構成より
なる。ここで、該電極としては、例えば、ホウ素成分と
ニッケルを含有するニッケルペーストで形成した電極を
用いる。
(57) [Abstract] [Purpose] When an electrode comes into contact with an aqueous photosensitive solution or developer, or an aqueous processing solution, the adhesion strength between the electrode and the insulating plate due to the elution of the water-soluble reducing agent in the electrode Provided is an electrode structure of a plasma display panel, which can prevent the deterioration of the display. In an electrode structure of a plasma display panel, a glass layer is provided between a lower surface or a side surface of the electrode and an insulating plate, or a glass layer is provided on an exposed surface of the electrode and the insulating plate to form the glass layer. The glass forming component is dispersed in the electrode to integrate the electrode and the glass layer. Here, as the electrode, for example, an electrode formed of a nickel paste containing a boron component and nickel is used.
Description
【０００１】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、プラズマディスプレイ
パネル（以下、ＰＤＰという）の電極構造に係り、より
詳細には、電極と絶縁板との間の密着強度を補強、保持
させ、例えば、障壁をフォトリソグラフィ法で形成する
際に使用する現像液と電極との接触により、該電極から
の電極形成成分の溶出による電極の剥離、断線または抵
抗値の上昇等の原因を防止できるＰＤＰの電極構造に関
する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an electrode structure of a plasma display panel (hereinafter referred to as PDP), and more specifically, it reinforces and maintains the adhesion strength between an electrode and an insulating plate, for example, a barrier. Electrode structure of PDP capable of preventing the cause of electrode peeling, disconnection, increase in resistance value, etc. due to elution of electrode forming components from the electrode due to contact between the developer and the electrode used when forming Regarding
【０００２】[0002]
【従来の技術】ＰＤＰ、例えば、直流型ＰＤＰの場合、
その基本構造は、図５に示されるような構成とされてい
る。すなわち、直流型ＰＤＰは、一定の空間を隔てて絶
縁板よりなる前面板１と背面板２を配し、該両板１、２
間に相対向して交差するアノード電極群（陽極）３とカ
ソード電極群（陰極）４を設け、また両電極群３、４間
に、光のクロストークを防ぎ、放電空間を確保するため
の障壁５を設け、該障壁５により表示セル６と補助セル
７を形成し、両電極群３、４間に希ガスを封入した構成
とされ、また図示しないが、前面板１と背面板２の間に
は、必要に応じて、障壁５の他に、誘電体層や反射層等
の構造物が設けられている。そして、その電極構造は、
図６に示されるように、背面板２上の所定位置にスクリ
ーン印刷法を用いて形成され、この電極３、４として
は、空気中で焼成するタイプの還元剤として作用するホ
ウ素成分を含有するＮｉペーストがよく用いられてい
る。2. Description of the Related Art In the case of a PDP, for example, a DC type PDP,
Its basic structure is as shown in FIG. That is, in the DC PDP, a front plate 1 and a rear plate 2 made of an insulating plate are arranged with a certain space therebetween, and the both plates 1, 2 are arranged.
An anode electrode group (anode) 3 and a cathode electrode group (cathode) 4 which are opposed to and intersect each other are provided between the two electrode groups 3 and 4 to prevent light crosstalk and to secure a discharge space. A barrier 5 is provided, a display cell 6 and an auxiliary cell 7 are formed by the barrier 5, and a rare gas is sealed between the two electrode groups 3 and 4. Further, although not shown, the front plate 1 and the rear plate 2 are formed. In addition to the barrier 5, a structure such as a dielectric layer or a reflective layer is provided between them, if necessary. And the electrode structure is
As shown in FIG. 6, the electrodes 3 and 4 are formed at predetermined positions on the back plate 2 by using a screen printing method, and the electrodes 3 and 4 contain a boron component that acts as a reducing agent of a type that is fired in air. Ni paste is often used.
【０００３】この直流型ＰＤＰの発光は、補助セル７に
おける種火放電から荷電粒子などの供給をプライミング
パス１３を通じて受けながら表示セル６の内部に表示用
放電を起こして紫外線を発生させる。この紫外線によっ
て励起された蛍光面１４、１５、１６から可視光を得
る。The light emission of the DC type PDP causes display discharge inside the display cell 6 while receiving supply of charged particles and the like from the seed discharge in the auxiliary cell 7 through the priming path 13 to generate ultraviolet rays. Visible light is obtained from the fluorescent screens 14, 15, 16 excited by the ultraviolet rays.
【０００４】ところで、この直流型ＰＤＰにおいて、近
年、その障壁をフォトリソグラフィ法を用いて形成する
ことが提案されている（特開平２−１６５５３８号公報
参照）。すなわち、絶縁板（背面板）上の所定の箇所に
ネガ型感光性ペーストを塗布・乾燥した後、該ペースト
層の障壁形成部に選択的に紫外線を照射・露光し、更
に、これを必要により複数回繰り返して所望とする厚み
のペースト層の障壁形成部を得た後、アルカリ現像液を
用いて該ペースト層を均一に一括現像して得た障壁パタ
ーンを焼成し、該障壁パターン中の有機成分を揮散さ
せ、無機成分のみからなるガラス化した障壁を得る手法
が提案されている。By the way, in this DC type PDP, it has been recently proposed to form the barrier by a photolithography method (see Japanese Patent Laid-Open No. 165538/1990). That is, after coating and drying a negative photosensitive paste at a predetermined position on an insulating plate (back plate), the barrier forming portion of the paste layer is selectively irradiated with ultraviolet rays and exposed, and further, if necessary. After obtaining the barrier layer forming portion of the paste layer having a desired thickness by repeating a plurality of times, the barrier layer pattern obtained by uniformly developing the paste layer collectively with an alkali developing solution is baked, and the organic layer in the barrier pattern is formed. A method has been proposed in which the components are volatilized to obtain a vitrified barrier consisting of only inorganic components.
【０００５】そして、このフォトリソグラフィ法を用い
た場合、絶縁板上にファインパターンの障壁を形成で
き、表示セル、補助セルの形状バラツキをなくし、色滲
み等のないＰＤＰを得ることができる。When this photolithography method is used, it is possible to form a fine pattern barrier on the insulating plate, eliminate variations in the shapes of the display cells and the auxiliary cells, and obtain a PDP without color bleeding.
【０００６】[0006]
【発明が解決しようとする課題】しかし、前述したよう
な直流型ＰＤＰの電極構造の場合、例えば、ＰＤＰの製
造工程で絶縁板に電極を形成した後、アルカリ現像液で
現像処理する工程を有するフォトリソグラフィ法を用い
て障壁等の構造物を形成する際、 該電極が現像液や水と接触し、該電極を形成する導
電性ペースト中の水溶性還元剤が溶出し、該電極と絶縁
板との密着強度が著しく低下する。 該密着強度の低下によって、該電極が絶縁板から剥
離し易くなり、断線、または抵抗値が上昇する。という
課題がある。However, in the case of the electrode structure of the DC type PDP as described above, for example, there is a step of forming an electrode on the insulating plate in the manufacturing process of the PDP, and then performing a developing treatment with an alkali developing solution. When a structure such as a barrier is formed by using a photolithography method, the electrode comes into contact with a developing solution or water, the water-soluble reducing agent in the conductive paste forming the electrode is eluted, and the electrode and the insulating plate are The adhesion strength with Due to the decrease in the adhesion strength, the electrode is easily separated from the insulating plate, and the wire breakage or the resistance value increases. There is a problem.
【０００７】ところで、このような課題は、電極を形成
する導電性ペーストとして、少なくとも導電性金属と該
導電性金属の還元剤とを含有し、該還元剤が、前記構造
物をフォトリソグラフィ法で形成する際に使用する水系
の感光液または現像液、あるいは水系溶液を用いない方
法で形成された前記構造物を水系処理する際に使用する
水系処理液で溶出する水溶性還元剤である導電性ペース
トを用いた場合に生じる。そして、この種の導電性ペー
ストとしては、例えば、ホウ素成分を含有するＮｉペー
ストがある。By the way, such a problem is that, as a conductive paste for forming an electrode, at least a conductive metal and a reducing agent for the conductive metal are contained, and the reducing agent causes the structure to be formed by photolithography. Conductivity that is a water-soluble reducing agent that elutes in the water-based processing liquid used when forming the structure formed by a method that does not use the water-based photosensitive liquid or developing solution or the water-based solution used when forming It occurs when a paste is used. An example of this type of conductive paste is Ni paste containing a boron component.
【０００８】本発明は、上述した課題に対処して創作し
たものであって、その目的とする処は、電極と絶縁板と
の間の密着強度を補強、保持させ、例えば、フォトリソ
グラフィ法を用いて障壁等の構造物を形成する際に使用
する現像液と電極との接触により、該電極からの電極形
成成分の溶出による電極の剥離、断線または抵抗値の上
昇を防止するＰＤＰの電極構造を提供することにある。The present invention has been made in response to the above-mentioned problems, and its purpose is to reinforce and maintain the adhesion strength between an electrode and an insulating plate, for example, a photolithography method. Electrode structure of PDP for preventing peeling of the electrode, disconnection or increase in resistance value due to elution of electrode forming component from the electrode due to contact between the developer and the electrode used when forming a structure such as a barrier. To provide.
【０００９】[0009]
【課題を解決するための手段】そして、上記課題を解決
するための手段としての本発明の請求項１のＰＤＰの電
極構造は、一定の空間を隔てて一対の絶縁板を配し、該
両絶縁板間に複数の障壁等の構造物と、少なくとも導電
性金属と該導電性金属の還元剤とを含有し、該還元剤
が、該構造物をフォトリソグラフィ法により形成する際
に使用する水系の感光液または現像液、あるいは水系溶
液を用いない方法で形成された前記構造物を水系処理す
る際に使用する水系処理液で溶出する水溶性還元剤であ
る導電性ペーストで形成した複数の電極群を有し、かつ
前記障壁により表示セルを形成してなるプラズマディス
プレイパネルにおいて、該電極の下面または側面と、前
記絶縁板の間にガラス層を設け、あるいは該電極と該絶
縁板の表出面にガラス層を設け、該ガラス層を形成する
ガラス形成成分を電極中に拡散させて該電極とガラス層
を一体化し、該電極と前記水系の感光液または現像液、
あるいは水系処理液が接触した際、該電極中の水溶性還
元剤の溶出による該電極と前記絶縁板との間の密着強度
の低下を防止する構成としている。The electrode structure of the PDP according to claim 1 of the present invention as a means for solving the above-mentioned problems is such that a pair of insulating plates are arranged with a certain space therebetween. An aqueous system containing a structure such as a plurality of barriers between insulating plates, and at least a conductive metal and a reducing agent for the conductive metal, the reducing agent being used when the structure is formed by a photolithography method. , A plurality of electrodes formed of a conductive paste, which is a water-soluble reducing agent that is eluted with an aqueous processing solution used for aqueous processing of the structure formed by a method that does not use a photosensitive solution or a developing solution, or an aqueous solution In a plasma display panel having a group and forming a display cell by the barrier, a glass layer is provided between the lower surface or side surface of the electrode and the insulating plate, or glass is provided on the exposed surface of the electrode and the insulating plate. The layers provided by diffusing glass forming component for forming the glass layer in the electrode are integrated the electrode and the glass layer, photosensitive liquid or the developer liquid of the aqueous and the electrode,
Alternatively, when the water-based treatment liquid comes into contact with the electrode, the adhesion strength between the electrode and the insulating plate is prevented from lowering due to the elution of the water-soluble reducing agent in the electrode.
【００１０】また、本発明の請求項２のＰＤＰの電極構
造は、前記発明において、導電性ペーストが、ホウ素成
分とニッケルを含有するニッケルペーストである構成と
している。The PDP electrode structure according to a second aspect of the present invention is such that, in the above invention, the conductive paste is a nickel paste containing a boron component and nickel.
【００１１】[0011]
【作用】本発明のＰＤＰの電極構造は、電極の下面また
は側面と、前記絶縁板の間に、または該電極と該絶縁板
の表出面にガラス層を有し、該ガラス層を形成するガラ
ス層形成成分が電極中に拡散し、該電極とガラス層が一
体化しているので、該電極と絶縁体とがガラス層によっ
て補強・保持されるように作用する。ところで、該電極
が、フォトリソグラフィ法で障壁等の構造物を形成する
際に使用する現像液、感光液や、その他の水処理の水
（液）と接触すると、該電極の電極形成成分（例えば、
ホウ素成分）が溶出して、該電極と絶縁体との密着強度
が低下する。しかし、該電極は、その下面または側面、
あるいは表出面でガラス層と一体化しているため、ガラ
ス層を介して絶縁体に保持され、剥離等の現象の発生を
防止できるように作用する。The electrode structure of the PDP of the present invention has a glass layer formed between the lower surface or the side surface of the electrode and the insulating plate or on the exposed surface of the electrode and the insulating plate to form the glass layer. Since the component diffuses into the electrode and the electrode and the glass layer are integrated, the electrode and the insulator act so as to be reinforced and held by the glass layer. By the way, when the electrode comes into contact with a developing solution, a photosensitive solution used for forming a structure such as a barrier by a photolithography method, or water (liquid) for other water treatment, an electrode forming component of the electrode (for example, ,
The boron component) elutes, and the adhesion strength between the electrode and the insulator decreases. However, the electrode is
Alternatively, since it is integrated with the glass layer on the exposed surface, it is held by the insulator through the glass layer and acts to prevent the occurrence of phenomena such as peeling.
【００１２】[0012]
【実施例】以下、図面を参照しながら、本発明を具体化
した実施例について説明する。Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.
【００１３】−実施例１− 本実施例のＰＤＰは、前述した従来技術で説明し、かつ
図５に示すように、直流型ＰＤＰであって、一定の空間
を隔てて絶縁板よりなる前面板１と背面板２を配し、該
両板１、２間に相対向して交差するアノード電極３とカ
ソード電極４を設け、また両電極３、４間に、光のクロ
ストークを防ぎ、放電空間を確保するための障壁５を設
け、該障壁５により表示セル６と補助セル７を形成し、
かつ両電極３、４間に希ガスを封入した構成とし、その
電極構造は、図１に示すように、背面板２とアノード電
極３との間にガラス層８を有している。Embodiment 1 The PDP of the present embodiment is a DC type PDP as described in the above-mentioned prior art and shown in FIG. 5, which is a front plate made of an insulating plate with a certain space therebetween. 1 and a back plate 2 are arranged, an anode electrode 3 and a cathode electrode 4 which are opposed to and intersect with each other are provided between the both plates 1 and 2, and a crosstalk of light is prevented between the electrodes 3 and 4 to prevent discharge. A barrier 5 for securing a space is provided, and the display cell 6 and the auxiliary cell 7 are formed by the barrier 5,
In addition, a rare gas is sealed between the electrodes 3 and 4, and the electrode structure has a glass layer 8 between the back plate 2 and the anode electrode 3 as shown in FIG.
【００１４】前面板１と背面板２は、ガラス板等よりな
る絶縁基板であって、前面板１の内側には、カソード電
極４を平行に複数本設け、また背面板２の内側には、ア
ノード電極３が、カソード電極と直交するように複数本
設けられている。アノード電極３としては、Ｎｉペース
トで形成したＮｉ電極を用い、表示電極３ａと補助電極
３ｂからなる。またカソード電極４としては、酸化イン
ジウム、酸化スズを蒸着した透明電極を用いている。The front plate 1 and the rear plate 2 are insulating substrates made of a glass plate or the like. Inside the front plate 1, a plurality of cathode electrodes 4 are provided in parallel, and inside the rear plate 2, A plurality of anode electrodes 3 are provided so as to be orthogonal to the cathode electrodes. As the anode electrode 3, a Ni electrode formed of Ni paste is used, and is composed of a display electrode 3a and an auxiliary electrode 3b. As the cathode electrode 4, a transparent electrode formed by depositing indium oxide or tin oxide is used.
【００１５】障壁５は、アノード電極３に平行な三本の
縦障壁５ｂと、カソード電極４に平行で、縦障壁５ｂと
直交する複数本の横障壁５ａで形成し、縦障壁５ｂと横
障壁５ａにより区画された複数個の空間に、カソード電
極４と表示電極３ａにより表示セル６を形成している。
そして、この障壁５を、複数個並列に設け、隣接する障
壁５，５間の空間に、補助電極３ｂとカソード電極４に
より補助セル７を形成している。The barrier 5 is composed of three vertical barriers 5b parallel to the anode electrode 3 and a plurality of horizontal barriers 5a parallel to the cathode electrode 4 and orthogonal to the vertical barrier 5b. A display cell 6 is formed by the cathode electrode 4 and the display electrode 3a in a plurality of spaces partitioned by 5a.
A plurality of the barriers 5 are provided in parallel, and the auxiliary cell 7 is formed by the auxiliary electrode 3b and the cathode electrode 4 in the space between the adjacent barriers 5 and 5.
【００１６】ガラス層８は、背面板２とアノード電極３
との密着強度を補強するための電極補強層である。そし
て、そのガラス層形成成分がアノード電極３との接合部
分９に拡散され、ガラス層８とアノード電極３が一体化
し、アノード電極３がガラス層８によって背面板２の上
に密着している。すなわち、背面板２がガラス質の絶縁
板で形成されているので、背面板２とガラス層８とは、
その接合強度が強く、またガラス層８とアノード電極３
は、その接合部分９が一体化しているので、その接合強
度が強く、そのためアノード電極３は、ガラス層８によ
って背面板２上に強固に保持されている。The glass layer 8 includes a back plate 2 and an anode electrode 3.
It is an electrode reinforcing layer for reinforcing the adhesion strength with. Then, the glass layer forming component is diffused into the joint portion 9 with the anode electrode 3, the glass layer 8 and the anode electrode 3 are integrated, and the anode electrode 3 is adhered to the back plate 2 by the glass layer 8. That is, since the back plate 2 is formed of a glassy insulating plate, the back plate 2 and the glass layer 8 are
The bonding strength is strong, and the glass layer 8 and the anode electrode 3 are
Since the joint portion 9 is integrated, the joint strength is high, and therefore the anode electrode 3 is firmly held on the back plate 2 by the glass layer 8.
【００１７】本実施例のＰＤＰにおけるアノード電極３
は、背面板２の上に、ガラス層８を形成するためのガラ
ス層形成用ペーストをスクリーン印刷し、乾燥した後、
該乾燥したガラス層形成用ペースト上にアノード電極３
を形成するＮｉペーストをスクリーン印刷し、次に該ガ
ラス層形成用ペーストとＮｉペーストを、５６０℃で同
時焼成することで形成している。ここで、このＮｉペー
ストとしては、例えば、配合割合が、Ｎｉ：７４．０重
量％、Ｂ2 Ｏ3 ：２１．５重量％、ＰｂＯ：４．０重量
％、ＳｉＯ2 ：０．２５重量％、Ａｌ2 Ｏ3 ：０．２５
重量％、からなるペースト用いる。またガラス層形成用
ペーストとしては、配合割合が、ＰｂＯ：５７．０重量
％、Ｂ2 Ｏ3 ：１９．０重量％、ＳｉＯ2 ：２０．０重
量％、Ａｌ2 Ｏ3 ：４．０重量％、からなるペーストを
用いる。Anode electrode 3 in the PDP of this embodiment
After screen-printing a glass layer forming paste for forming the glass layer 8 on the back plate 2 and drying the paste,
Anode electrode 3 is formed on the dried paste for forming a glass layer.
Is formed by screen-printing the Ni paste for forming the above, and then simultaneously firing the glass layer forming paste and the Ni paste at 560 ° C. Here, as the Ni paste, for example, the compounding ratio is Ni: 74.0% by weight, B 2 O 3 : 21.5% by weight, PbO: 4.0% by weight, SiO 2 : 0.25% by weight. , Al 2 O 3 : 0.25
A paste consisting of wt% is used. The glass layer forming paste has a compounding ratio of PbO: 57.0 wt%, B 2 O 3 : 19.0 wt%, SiO 2 : 20.0 wt%, Al 2 O 3 : 4.0 wt%. %, Is used.
【００１８】そして、このようにして形成した電極構造
は、ガラス層形成用ペーストと電極形成用のＮｉペース
トを同時焼成した際、該ガラス層形成成分が、このＮｉ
ペースト中に拡散し、その接合部分９で、該焼成によっ
て形成されたガラス層８と一体化し、背面板２に強固
に、密着・保持状態となり、背面板２上のアノード電極
３が、障壁５を形成する際に使用する現像液と接触し
て、電極形成成分が溶出してもガラス層８と強固に密着
しているので、背面板２から剥離することかない。とこ
ろで、本実施例においては、ガラス層形成用ペースト
と、電極形成用のＮｉペーストを同時焼成した構成で説
明したが、別々に焼成し、ガラス層８の上に電極３を形
成するようにした構成としてもよい。そして、この場
合、該ガラス層形成用ペーストとしては、ガラス層８の
上に印刷したＮｉペーストを焼成する際、ガラス層８の
ガラス層形成成分が、このＮｉペースト中に拡散し、ガ
ラス層８と焼成によって形成された電極３が一体化する
ペーストを用いることが肝要である。In the electrode structure thus formed, when the glass layer forming paste and the electrode forming Ni paste are simultaneously fired, the glass layer forming component is
It diffuses in the paste, and at the joint portion 9 thereof, it is integrated with the glass layer 8 formed by the firing, and is firmly adhered and held to the back plate 2, and the anode electrode 3 on the back plate 2 becomes the barrier 5 Even when the electrode forming component is eluted by coming into contact with the developing solution used for forming the film, it is firmly adhered to the glass layer 8 and therefore does not peel off from the back plate 2. By the way, in the present embodiment, the glass layer forming paste and the electrode forming Ni paste were simultaneously fired, but they were fired separately to form the electrodes 3 on the glass layer 8. It may be configured. In this case, as the glass layer forming paste, when the Ni paste printed on the glass layer 8 is fired, the glass layer forming components of the glass layer 8 diffuse into the Ni paste, It is essential to use a paste in which the electrode 3 formed by firing and the electrode 3 are integrated.
【００１９】−実施例２− 本実施例のＰＤＰは、その電極構造が、図２に示すよう
に、背面板２の上に所定位置にアノード電極３を設け、
かつ隣接するアノード電極３間にガラス層８を設け、ア
ノード電極３の側面１０で、ガラス層８とアノード電極
３が接合・一体化した構造となっている。ここで、ガラ
ス層８とアノード電極３は、その接合部分９で、ガラス
層８のガラス層形成成分が、アノード電極３中に拡散
し、両者が強固に密着構造体を形成している。Example 2 The PDP of this example has an electrode structure in which an anode electrode 3 is provided at a predetermined position on a back plate 2 as shown in FIG.
Further, the glass layer 8 is provided between the adjacent anode electrodes 3, and the glass layer 8 and the anode electrode 3 are joined and integrated on the side surface 10 of the anode electrode 3. Here, the glass layer 8 and the anode electrode 3 at the joint portion 9 thereof, the glass layer forming component of the glass layer 8 diffuses into the anode electrode 3, and both firmly form an adhesion structure.
【００２０】本実施例のＰＤＰにおける電極構造は、具
体的には、背面板２の上の所定位置に、アノード電極３
を形成する電極形成用のＮｉペーストをスクリーン印刷
し、またこの隣接するアノード電極３を形成するＮｉペ
ースト間に、ガラス層８を形成するためのガラス層形成
用ペーストをスクリーン印刷し、両者を別々、または同
時焼成することにより、該焼成の際に、ガラス層形成用
ペーストをＮｉペースト中に拡散させ、両者を一体化構
造としている。ここで、ガラス層形成用ペースト、Ｎｉ
ペーストは、前述した実施例１の場合と同じペーストを
用いた。Specifically, the electrode structure of the PDP of this embodiment is such that the anode electrode 3 is provided at a predetermined position on the back plate 2.
A Ni paste for forming an electrode for forming a glass layer is screen-printed, and a paste for forming a glass layer for forming a glass layer 8 is screen-printed between the Ni pastes for forming the adjacent anode electrodes 3, and both are separately separated. , Or by co-firing, the paste for forming the glass layer is diffused into the Ni paste at the time of firing, so that both are integrated. Here, the glass layer forming paste, Ni
As the paste, the same paste as in the case of Example 1 described above was used.
【００２１】そして、このようにして形成した電極構造
は、ガラス層形成用ペーストと電極形成用のＮｉペース
トを同時焼成、または別々に焼成した際、該ガラス層形
成用ペースト中のガラス層形成成分が、このＮｉペース
ト中に拡散し、その接合部分９で、該焼成によって形成
されたガラス層８と一体化し、背面板２に強固に、密着
・保持状態となり、背面板２上のアノード電極３が、障
壁５を形成する際に使用する現像液と接触して、電極形
成成分が溶出してもガラス層８と強固に密着しているの
で、背面板２から剥離することがない。The electrode structure thus formed has a glass layer forming component in the glass layer forming paste when the glass layer forming paste and the electrode forming Ni paste are simultaneously or separately fired. Of the anode electrode 3 on the back plate 2 while being diffused in the Ni paste and being integrated with the glass layer 8 formed by the firing at the bonding portion 9 to be firmly adhered and held to the back plate 2. However, even if the electrode forming component is contacted with the developer used for forming the barrier 5 and the electrode forming component is eluted, the electrode layer forming component is firmly adhered to the glass layer 8 and therefore is not peeled off from the back plate 2.
【００２２】次に、前述した実施例１、２のＰＤＰの電
極構造の作用、効果を確認するために、上述した電極構
造を有する背面板２の上に、それぞれアルカリ性水溶液
現像タイプのネガ型感光性ペーストを用いて行うフォト
リソグラフィ法を用い、幅：５０μｍ、高さ：１５０μ
ｍの障壁５を形成した。ここで、該アルカリ現像液とし
ては、炭酸ナトリウム１％水溶液を用い、前記電極構造
を形成する電極形成用のＮｉペーストとしては、デュポ
ン社製のＮｉペースト（品番：９５３６Ｄ）を用い、ま
たガラス層形成用ペーストとして、ノリタケ社製のガラ
スペースト（品番：７９４７）を用いた。そして、この
障壁形成工程中、アノード電極３にアルカリ現像液が浸
かったが、このアノード電極３の剥離は全く認められ
ず、また電極の断線や抵抗値の上昇も認められなかっ
た。これは、前述したように、アノード電極３と背面板
２との密着強度が、ガラス層８によって補強され、前記
現像液とアノード電極３を形成する、例えば、Ｎｉペー
ストから、その還元剤としてのホウ素成分が若干、溶出
しても、密着状態を強固に保持できることによる。Next, in order to confirm the action and effect of the electrode structure of the PDPs of the above-mentioned Examples 1 and 2, on the rear plate 2 having the above-mentioned electrode structure, the negative photosensitive material of the alkaline aqueous solution developing type, respectively. Width: 50 μm, height: 150 μ by photolithography using a conductive paste
m barrier 5 was formed. Here, a 1% aqueous solution of sodium carbonate was used as the alkaline developer, a Ni paste (product number: 9536D) manufactured by DuPont was used as a Ni paste for forming an electrode for forming the electrode structure, and a glass layer was used. As the forming paste, a glass paste manufactured by Noritake Co. (product number: 7947) was used. Then, during this barrier forming step, the alkaline developing solution was immersed in the anode electrode 3, but no peeling of the anode electrode 3 was observed, and no breakage of the electrode or increase in resistance value was observed. This is because, as described above, the adhesion strength between the anode electrode 3 and the back plate 2 is reinforced by the glass layer 8 to form the developer and the anode electrode 3, for example, from Ni paste as a reducing agent thereof. This is because the adhered state can be firmly maintained even if the boron component is slightly eluted.
【００２３】なお、本発明は、上述した実施例に限定さ
れるものでなく、本発明の要旨を変更しない範囲内で変
形実施できる構成を含む。因に、図３、図４に示すよう
な電極構造としてもよい。すなわち、図３は、前述した
実施例１で示した電極構造の変形例であって、ガラス層
８が背面板２の全面に形成され、このガラス層８の上に
アノード電極３が所定位置に形成されている。そして、
このガラス層８とアノード電極３は、その電極形成の際
の焼成中に、ガラス層８のガラス層形成成分がアノード
電極中に拡散し、両者が一体化し、アノード電極３がガ
ラス層８を介して強固に密着している。It should be noted that the present invention is not limited to the above-described embodiment, but includes a configuration that can be modified and implemented without changing the gist of the present invention. Incidentally, an electrode structure as shown in FIGS. 3 and 4 may be used. That is, FIG. 3 is a modification of the electrode structure shown in the above-described first embodiment, in which the glass layer 8 is formed on the entire surface of the back plate 2, and the anode electrode 3 is placed on the glass layer 8 at a predetermined position. Has been formed. And
In the glass layer 8 and the anode electrode 3, the glass layer forming component of the glass layer 8 diffuses into the anode electrode during firing during the formation of the electrode, and both are integrated, and the anode electrode 3 interposes the glass layer 8 therebetween. And firmly adheres.
【００２４】また、図４は、前述した実施例２の変形例
であって、背面板２の上の所定位置に電極形成用ペース
トを印刷、焼成してアノード電極３を形成した後、背面
板２の上面にガラス層８を形成するガラス層形成用ペー
ストで、アノード電極３上に電極として作用する微小面
積１１を残してオーバーコート１２し、さらにこれを焼
成し、該焼成時にガラス層形成用ペーストをアノード電
極３中に拡散させ、両者を一体化し、アノード電極３を
背面板２に強固に密着した構成よりなる。そして、これ
らの電極構造にあっても、前述した実施例１、２と同様
に、アノード電極３と背面板２がガラス層８を介して密
着させているので、アノード電極３がガラス層８によっ
て補強・保持できる。従って、アノード電極３が現像液
等に浸かっても、背面板２から剥離することがなく、該
電極の断線や抵抗値の上昇が防止できる。FIG. 4 is a modification of the above-described second embodiment, in which an electrode forming paste is printed and fired at a predetermined position on the back plate 2 to form the anode electrode 3, and then the back plate. 2. A glass layer forming paste for forming a glass layer 8 on the upper surface of 2 is overcoated 12 on the anode electrode 3 leaving a minute area 11 acting as an electrode, and is further baked, and for the glass layer forming at the time of baking. The paste is diffused into the anode electrode 3, both are integrated, and the anode electrode 3 is firmly adhered to the back plate 2. Even in these electrode structures, the anode electrode 3 and the back plate 2 are in close contact with each other via the glass layer 8 as in the first and second embodiments described above. Can be reinforced and held. Therefore, even if the anode electrode 3 is dipped in a developing solution or the like, it is not peeled off from the back plate 2, and it is possible to prevent disconnection of the electrode and increase of the resistance value.
【００２５】更に、前述した各実施例においては、背面
板とアノード電極との密着強度をガラス層で補強する構
成で説明したが、前面板とカソード電極との密着強度を
補強する構成、すなわち、絶縁板の電極を形成する際、
ガラス層によって補強する構成についても同様にできる
ことは当然である。また、前述した各実施例において
は、ＰＤＰとして、ＰＤＰの製造工程で絶縁板に電極を
形成した後、アルカリ現像液で現像処理する工程を有す
るフォトリソグラフィ法を用いて障壁を形成した直流型
ＰＤＰの場合で説明したが、該フォトリソグラフィ法を
用いて、該障壁以外の構造物、例えば、前述した『従来
の技術』の項で述べた反射層や誘電体層を形成した場合
や、該構造物を水系溶液を用いない方法、例えば、構造
物形成用ペーストを厚膜法等で印刷し、該構造物を形成
した直流型ＰＤＰについても同様に適用できることは当
然である。Further, in each of the above-described embodiments, the structure in which the adhesion strength between the back plate and the anode electrode is reinforced by the glass layer has been described, but the structure in which the adhesion strength between the front plate and the cathode electrode is reinforced, that is, When forming the electrodes of the insulating plate,
It goes without saying that the same configuration can be applied to the configuration in which the glass layer is used for reinforcement. Further, in each of the above-described embodiments, as the PDP, a DC type PDP in which a barrier is formed by using a photolithography method including a step of forming an electrode on an insulating plate in a manufacturing process of the PDP, and then performing a developing treatment with an alkali developing solution. However, the structure other than the barrier, for example, the case where the reflection layer or the dielectric layer described in the above-mentioned “Prior Art” is formed by using the photolithography method, or the structure is described. It is needless to say that the same can be applied to a method in which an object does not use an aqueous solution, for example, a DC PDP in which the structure forming paste is printed by a thick film method and the structure is formed.
【００２６】更に、前述した各実施例においては、電極
形成用の導電性ペーストとして、ホウ素成分を含有する
Ｎｉペーストを用いた場合で説明したが、少なくとも導
電性金属と該導電性金属の還元剤とを含有し、該還元剤
が、該障壁等の構造物を形成する際に使用する水系現像
液、あるいは該構造物を水系処理する際に使用する水系
処理液で溶出する水溶性還元剤である導電性ペーストを
使用する場合は、本発明を適用できる。Further, in each of the above-described embodiments, the case where the Ni paste containing the boron component is used as the conductive paste for forming the electrode has been described, but at least the conductive metal and the reducing agent for the conductive metal are used. And a reducing agent which is a water-soluble reducing agent which is eluted in an aqueous developing solution used when forming a structure such as the barrier or an aqueous processing solution used when performing an aqueous treatment of the structure. The present invention can be applied when a certain conductive paste is used.
【００２７】更にまた、前述した実施例においては、直
流型ＰＤＰの場合で説明したが、交流型ＰＤＰについて
も同様に適用できることは当然である。この交流型ＰＤ
Ｐは、図７に示すような基本構造を有し、一定の空間を
隔ててガラス基板等からなる絶縁板（前面板２１と背面
板２２）を配し、両板２１、２２間に相対向して交差す
るＸ電極２３とＹ電極２４を設け、このＸ電極２３とＹ
電極２４を誘電体層（構造物）２５で覆い、かつその露
出表面をＭｇＯ等の保護層２６で被膜した構成を有す
る。ここで、電極２３、２４としては、ニッケル、クロ
ム、あるいはアルミニウムペーストで形成した電極を用
いている。そして、この交流型ＰＤＰの場合、誘電体層
２５を、アルカリ現像液で現像処理する工程を有するフ
ォトリソグラフィ法で形成する際、前記電極材料のうち
ニッケルペーストで形成した電極と該アルカリ現像液が
接触すると、該電極と前記絶縁板との密着強度が低下す
る。しかし、この交流型ＰＤＰにおいても、前述した実
施例の電極構造を適用し、例えば、図８に示すように、
背面板２２の上に所定位置にＸ電極２３を設け、かつ隣
接するＸ電極２３間にガラス層２７を設け、Ｘ電極２３
の側面２８で、ガラス層２７とＸ電極２３を接合・一体
化し、その表面にフォトリソグラフィ法で誘電体層２５
を設けた構成とすることにより、直流型ＰＤＰの場合と
同様に、電極と絶縁体との密着強度を補強できる。Furthermore, in the above-described embodiment, the case of the DC type PDP has been described, but it is needless to say that the same can be applied to the AC type PDP. This AC type PD
P has a basic structure as shown in FIG. 7, an insulating plate (a front plate 21 and a rear plate 22) made of a glass substrate or the like is arranged with a certain space therebetween, and the two plates 21 and 22 face each other. And an X electrode 23 and a Y electrode 24 that intersect each other are provided.
The electrode 24 is covered with a dielectric layer (structure) 25, and the exposed surface thereof is covered with a protective layer 26 such as MgO. Here, as the electrodes 23 and 24, electrodes made of nickel, chromium, or aluminum paste are used. Then, in the case of this AC PDP, when the dielectric layer 25 is formed by the photolithography method having a step of developing with an alkali developing solution, the electrode formed of nickel paste among the electrode materials and the alkali developing solution are When they come into contact with each other, the adhesion strength between the electrode and the insulating plate decreases. However, also in this AC type PDP, the electrode structure of the above-described embodiment is applied, and for example, as shown in FIG.
The X electrode 23 is provided at a predetermined position on the back plate 22, and the glass layer 27 is provided between the adjacent X electrodes 23.
The glass layer 27 and the X electrode 23 are bonded and integrated on the side surface 28 of the dielectric layer 25 by photolithography.
By providing the configuration, the adhesion strength between the electrode and the insulator can be reinforced as in the case of the DC PDP.
【００２８】[0028]
【発明の効果】以上の説明より明らかなように、本発明
の請求項１のＰＤＰの電極構造によれば、電極の下面ま
たは側面と、前記絶縁板の間にガラス層を有し、該ガラ
ス層を形成するガラス層形成成分が電極中に拡散し、該
電極とガラス層が一体化し、該電極と絶縁体とがガラス
層によって補強・保持されるので、該電極が、アルカリ
現像液等と接触したり、あるいは水系の処理が施される
際、該現像液等の水系処理液（水）との接触で、電極を
形成する電極形成成分である水溶性還元剤が溶出して
も、該電極が該絶縁板から剥離するのを防止でき、該電
極の断線や抵抗値の上昇を防止できるという効果を有す
る。As is clear from the above description, according to the electrode structure of the PDP of claim 1 of the present invention, a glass layer is provided between the lower surface or the side surface of the electrode and the insulating plate, and the glass layer is formed. The glass layer forming component to be formed diffuses into the electrode, the electrode and the glass layer are integrated, and the electrode and the insulator are reinforced and held by the glass layer. Or, even when a water-based treatment is performed, even if a water-soluble reducing agent that is an electrode-forming component that forms an electrode is eluted by contact with an aqueous treatment liquid (water) such as the developing solution, It is possible to prevent peeling from the insulating plate, and to prevent disconnection of the electrode and increase in resistance value.
【００２９】また、本発明の請求項２のＰＤＰの電極構
造によれば、電極形成用の導電性ペーストが、ホウ素成
分とニッケルを含有するニッケルペーストであるので、
前記効果に加えて、ＰＤＰ内に密封する不活性ガスの種
類等に関係なく使用できるという効果を有する。Further, according to the electrode structure of the PDP of claim 2 of the present invention, the conductive paste for electrode formation is a nickel paste containing a boron component and nickel.
In addition to the above effects, it has the effect that it can be used regardless of the type of inert gas sealed in the PDP.
【図１】 本発明の実施例を示し、ＰＤＰの電極構造の
斜視図である。FIG. 1 is a perspective view of an electrode structure of a PDP showing an embodiment of the present invention.
【図２】 本発明の他の実施例のＰＤＰの電極構造の斜
視図である。FIG. 2 is a perspective view of an electrode structure of a PDP according to another embodiment of the present invention.
【図３】 本発明の他の実施例のＰＤＰの電極構造の斜
視図である。FIG. 3 is a perspective view of an electrode structure of a PDP according to another embodiment of the present invention.
【図４】 本発明の他の実施例のＰＤＰの電極構造の斜
視図である。FIG. 4 is a perspective view of an electrode structure of a PDP according to another embodiment of the present invention.
【図５】 直流型ＰＤＰの模式図である。FIG. 5 is a schematic diagram of a DC PDP.
【図６】 従来例のＰＤＰの電極構造の斜視図である。FIG. 6 is a perspective view of an electrode structure of a conventional PDP.
【図７】 交流型ＰＤＰの模型図である。FIG. 7 is a model diagram of an AC PDP.
【図８】 交流型ＰＤＰに適用した本発明の実施例のＰ
ＤＰの電極構造の正面図である。FIG. 8 is a P of an embodiment of the present invention applied to an AC PDP.
It is a front view of an electrode structure of DP.
１・・・前面板、２・・・背面板、３・・・アノード電
極、３ａ・・・表示電極、３ｂ・・・補助電極、４・・
・カソード電極、５・・・障壁、５ａ・・・横障壁、５
ｂ・・・縦障壁、６・・・表示セル、７・・・補助セ
ル、８・・・ガラス層、９・・・接合部分、１０・・・
アノード電極の側面、１１・・・微小部分（放電用小
穴）、１２・・・オーバーコート、１３・・・プライミ
ングパス、１４，１５，１６・・・螢光体、２１・・・
前面板、２２・・・背面板、２３・・・Ｘ電極、２４・
・・Ｙ電極、２５・・・誘電体層（構造物）、２６・・
・保護層、２７・・・ガラス層、２８・・・Ｘ電極の側
面1 ... Front plate, 2 ... Back plate, 3 ... Anode electrode, 3a ... Display electrode, 3b ... Auxiliary electrode, 4 ...
・ Cathode electrode, 5 ... Barrier, 5a ... Horizontal barrier, 5
b ... Vertical barrier, 6 ... Display cell, 7 ... Auxiliary cell, 8 ... Glass layer, 9 ... Joined portion, 10 ...
Side surface of anode electrode, 11 ... Minute portion (small hole for discharge), 12 ... Overcoat, 13 ... Priming path, 14, 15, 16 ... Fluorescent material, 21 ...
Front plate, 22 ... Rear plate, 23 ... X electrode, 24 ...
..Y electrodes, 25 ... Dielectric layer (structure), 26 ...
・ Protective layer, 27 ... Glass layer, 28 ... Side surface of X electrode
フロントページの続き (72)発明者 加藤 俊宏 東京都世田谷区砧一丁目10番11号 日本放 送協会放送技術研究所内 (72)発明者 河井 貴志 東京都世田谷区砧一丁目10番11号 日本放 送協会放送技術研究所内 (72)発明者 村上 宏 東京都世田谷区砧一丁目10番11号 日本放 送協会放送技術研究所内Front page continuation (72) Inventor Toshihiro Kato 1-10-11 Kinuta, Setagaya-ku, Tokyo Inside the Japan Broadcasting Corporation Broadcasting Technology Laboratory (72) Inventor Takashi Kawai 1-10-11 Kinuta, Setagaya-ku, Tokyo Japan (72) Inventor Hiroshi Murakami 1-10-11 Kinuta, Setagaya-ku, Tokyo Inside Broadcast Technology Institute, Japan Broadcasting Corporation
Claims (2)
し、該両絶縁板間に複数の障壁等の構造物と、少なくと
も導電性金属と該導電性金属の還元剤とを含有し、該還
元剤が、該構造物をフォトリソグラフィ法により形成す
る際に使用する水系の感光液または現像液、あるいは水
系溶液を用いない方法で形成された前記構造物を水系処
理する際に使用する水系処理液で溶出する水溶性還元剤
である導電性ペーストで形成した複数の電極群を有し、
かつ前記障壁により表示セルを形成してなるプラズマデ
ィスプレイパネルにおいて、該電極の下面または側面
と、前記絶縁板の間にガラス層を設け、あるいは該電極
と該絶縁板の表出面にガラス層を設け、該ガラス層を形
成するガラス形成成分を電極中に拡散させて該電極とガ
ラス層を一体化し、該電極と前記水系の感光液または現
像液、あるいは水系処理液が接触した際、該電極中の水
溶性還元剤の溶出による該電極と前記絶縁板との間の密
着強度の低下を防止することを特徴とするプラズマディ
スプレイパネルの電極構造。1. A pair of insulating plates are arranged with a constant space therebetween, and a plurality of structures such as barriers are provided between the insulating plates, and at least a conductive metal and a reducing agent for the conductive metal are contained. , The reducing agent is used in aqueous treatment of the structure formed by a method not using an aqueous photosensitive solution or developer used when forming the structure by photolithography, or an aqueous solution Having a plurality of electrode groups formed of a conductive paste that is a water-soluble reducing agent that is eluted with an aqueous treatment liquid,
And in the plasma display panel in which a display cell is formed by the barrier, a glass layer is provided between the lower surface or side surface of the electrode and the insulating plate, or a glass layer is provided on the exposed surface of the electrode and the insulating plate, The glass-forming component forming the glass layer is diffused into the electrode to integrate the electrode with the glass layer, and when the electrode is brought into contact with the aqueous photosensitive solution or developer or the aqueous processing solution, the water-soluble component in the electrode is dissolved. An electrode structure for a plasma display panel, characterized in that the adhesion strength between the electrode and the insulating plate is prevented from lowering due to the elution of a sex reducing agent.
ルを含有するニッケルペーストである請求項１に記載の
プラズマディスプレイパネルの電極構造。2. The electrode structure of the plasma display panel according to claim 1, wherein the conductive paste is a nickel paste containing a boron component and nickel.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6190000A JPH0831327A (en) | 1994-07-19 | 1994-07-19 | Electrode structure of plasma display panel |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6190000A JPH0831327A (en) | 1994-07-19 | 1994-07-19 | Electrode structure of plasma display panel |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0831327A true JPH0831327A (en) | 1996-02-02 |
Family
ID=16250720
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6190000A Pending JPH0831327A (en) | 1994-07-19 | 1994-07-19 | Electrode structure of plasma display panel |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0831327A (en) |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008071736A (en) * | 2006-09-15 | 2008-03-27 | Samsung Sdi Co Ltd | Electrode forming composition and plasma display panel using electrode forming composition |
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1994
- 1994-07-19 JP JP6190000A patent/JPH0831327A/en active Pending
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