JPH08299860A - Spray fluxer - Google Patents
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- JPH08299860A JPH08299860A JP10671795A JP10671795A JPH08299860A JP H08299860 A JPH08299860 A JP H08299860A JP 10671795 A JP10671795 A JP 10671795A JP 10671795 A JP10671795 A JP 10671795A JP H08299860 A JPH08299860 A JP H08299860A
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、スプレーフラクサに関
するものである。FIELD OF THE INVENTION The present invention relates to a spray fluxer.
【0002】[0002]
【従来の技術】図2に示されるように、噴流式はんだ付
け装置は、ワークとしての部品実装基板を搬送するコン
ベヤ11に沿って、スプレーフラクサのノズル12、プリヒ
ータ13および噴流式はんだ槽14を配列したものである。
プリヒータ13および噴流式はんだ槽14は、チャンバ15に
より覆われている。2. Description of the Related Art As shown in FIG. 2, a jet type soldering apparatus has a nozzle 12 of a spray fluxer, a preheater 13 and a jet type solder bath 14 along a conveyor 11 which conveys a component mounting board as a work. Is an array of.
The preheater 13 and the jet solder bath 14 are covered with a chamber 15.
【0003】スプレーフラクサは、加圧タンク21内に収
納されたフラックスF中に管22を挿入し、この管22をノ
ズル12に連通し、空圧源20より加圧タンク21内に供給さ
れた圧縮空気によりフラックス面を加圧することによ
り、加圧タンク21内のフラックスFを管22を経てノズル
12に供給し、このノズル12よりフラックスミストfを部
品実装基板に噴霧し、フラックス塗布を行う。In the spray fluxer, a pipe 22 is inserted into the flux F contained in the pressure tank 21, the pipe 22 is connected to the nozzle 12, and the air is supplied from the air pressure source 20 into the pressure tank 21. By pressurizing the flux surface with compressed air, the flux F in the pressure tank 21 is passed through the pipe 22 and the nozzle.
It is supplied to the nozzle 12, the flux mist f is sprayed from the nozzle 12 to the component mounting board, and the flux is applied.
【0004】基板に塗布されなかったフラックスミスト
は、フード23およびダクト24を経て吸引し、集塵機25に
て回収する。The flux mist that has not been applied to the substrate is sucked through the hood 23 and the duct 24 and collected by the dust collector 25.
【0005】このようなはんだ付け装置において、前記
チャンバ15内を大気状態のままにして大気中ではんだ付
けを行う場合と、チャンバ15内に窒素を供給して窒素雰
囲気中ではんだ付けを行う場合とがある。In such a soldering apparatus, a case where soldering is performed in the atmosphere while leaving the chamber 15 in the atmosphere, and a case where nitrogen is supplied into the chamber 15 and soldering is performed in a nitrogen atmosphere There is.
【0006】大気中で噴流式はんだ槽14のはんだ噴流ノ
ズルより噴流される溶融はんだによりはんだ付けを行う
場合は、固形分8〜15%(例えば10%)のフラック
スFが適し、窒素雰囲気中で噴流される溶融はんだによ
りはんだ付けを行う場合は、固形分1〜5%(例えば5
%)のフラックスFが適する。In the case of performing soldering with molten solder jetted from the solder jet nozzle of the jet type solder bath 14 in the atmosphere, a flux F having a solid content of 8 to 15% (for example, 10%) is suitable, and in a nitrogen atmosphere. When soldering is performed with a jetted molten solder, the solid content is 1 to 5% (for example, 5%).
%) Flux F is suitable.
【0007】一方、窒素雰囲気中でのはんだ付けを大気
中でのはんだ付けに切換えた場合でも、窒素雰囲気用の
固形分5%のフラックスFをそのまま大気用として使用
する場合がある。この大気用の場合は、固形分が不足す
るため窒素雰囲気用の場合より多量のフラックスを塗布
する必要がある。On the other hand, even when the soldering in the nitrogen atmosphere is switched to the soldering in the air, the flux F having a solid content of 5% for the nitrogen atmosphere may be used as it is for the air. In the case of this atmosphere, since the solid content is insufficient, it is necessary to apply a larger amount of flux than in the case of nitrogen atmosphere.
【0008】[0008]
【発明が解決しようとする課題】このように多量のフラ
ックスを塗布した場合は、図3に示されるように、ワ
ークとしての部品実装基板Pの上面へ滲み上がったフラ
ックスFaにより、外観不良や実装部品Wの腐食などの信
頼性低下のおそれがあり、上昇傾斜状に搬送される基
板Pの後端より余剰フラックスFbがたれ落ちるため、フ
ラックスの無駄使いとなり、装置も汚れやすく、フラ
ックスの塗布厚にむらが生じやすく、多すぎるフラック
ス塗布部Fcにてはんだ付けに好ましくないなどの不具合
が発生する問題がある。When a large amount of flux is applied in this manner, as shown in FIG. 3, due to the flux Fa bleeding up onto the upper surface of the component mounting board P as a work, there is a poor appearance and mounting. There is a risk of reliability deterioration such as corrosion of the component W, and the excess flux Fb drops off from the rear end of the substrate P conveyed in an ascending slope, resulting in wasted flux, and the device is easily soiled. There is a problem that unevenness is likely to occur and problems such as unfavorable for soldering occur in too much flux application part Fc.
【0009】このため、従来はフラックス製造メーカに
て固形分が例えば10%、5%または3.3%などに予
め調製されたそれぞれのフラックスFを、ユーザが予め
購入して準備しておき、それらの中から適合するものを
選択して使用しているが、そのためのフラックス取換作
業は作業者にとって大きな負担になっている。For this reason, conventionally, the user has previously purchased and prepared the respective fluxes F which have been prepared in advance to have solid contents of 10%, 5% or 3.3% by the flux manufacturer. A suitable one is selected from these and used, but the flux replacement work for that purpose places a heavy burden on the operator.
【0010】なお、フラックスFは、フラックス原液と
希釈液との混合比率を調製することにより固形分の割合
を変えている。In the flux F, the solid content ratio is changed by adjusting the mixing ratio of the flux stock solution and the diluting solution.
【0011】本発明は、このような点に鑑みなされたも
ので、はんだ付け装置やワークに応じた適切な比率の固
形分を有するフラックスを自在に供給できるようにする
ことを目的とするものである。The present invention has been made in view of the above circumstances, and an object thereof is to make it possible to freely supply a flux having a solid content of an appropriate ratio according to a soldering apparatus or a work. is there.
【0012】[0012]
【課題を解決するための手段】本発明は、ノズルに供給
されたフラックスをノズルより噴霧してワークに塗布す
るスプレーフラクサにおいて、フラックス原液を収納し
た原液タンクと、希釈液を収納した希釈液タンクと、前
記原液タンクからフラックス原液を必要量だけ取出す原
液供給手段と、前記希釈液タンクから希釈液を必要量だ
け取出す希釈液供給手段と、前記原液供給手段および希
釈液供給手段より供給された各液を混合して設定比率の
フラックスを調製する調製タンクと、この調製タンクか
ら前記ノズルにわたって設けられたフラックス供給手段
とを具備した構成のスプレーフラクサである。According to the present invention, in a spray fluxer for spraying flux supplied to a nozzle from a nozzle and applying it to a work, a stock solution tank containing a stock solution of flux and a diluent solution containing a diluent solution are provided. A tank, a stock solution supply means for taking out a necessary amount of flux stock solution from the stock solution tank, a diluting solution supply means for taking out a necessary amount of diluting solution from the diluting solution tank, and a diluting solution supply means and a diluting solution supply means It is a spray fluxer having a configuration tank that mixes each liquid to prepare a flux of a preset ratio, and a flux supply means that is provided from the formulation tank to the nozzle.
【0013】[0013]
【作用】本発明は、原液タンクから原液供給手段により
フラックス原液を必要量だけ取出すとともに、希釈液タ
ンクから希釈液供給手段により希釈液を必要量だけ取出
し、これらの各液を調製タンク内で混合して設定された
比率のフラックスを調製し、この調製タンクからフラッ
クス供給手段によりノズルにフラックスを供給し、ノズ
ルよりフラックスミストを噴霧してワークに塗布する。According to the present invention, the required amount of the stock flux solution is taken out from the undiluted solution tank by the undiluted solution supply means, and the required amount of the diluted solution is taken out from the diluted solution tank by the diluted solution supply means, and these solutions are mixed in the preparation tank. Then, a flux having a ratio set by is prepared, and the flux is supplied from the preparation tank to the nozzle by the flux supply means, and the flux mist is sprayed from the nozzle and applied to the work.
【0014】[0014]
【実施例】以下、本発明を図1に示される一実施例を参
照しながら詳細に説明する。DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The present invention will be described in detail below with reference to the embodiment shown in FIG.
【0015】ロジンなどのフラックス原液Aを収納した
原液タンク31と、イソプロピルアルコールなどの希釈液
Bを収納した希釈液タンク32と、これらの原液タンク31
および希釈液タンク32より供給された各液A,Bを混合
して設定された比率のフラックスFを調製する調製タン
ク33とが設置されている。A stock solution tank 31 containing a stock solution A of flux such as rosin, a diluent solution tank 32 containing a solution B of diluent such as isopropyl alcohol, and these stock solution tanks 31.
And a preparation tank 33 for mixing the respective liquids A and B supplied from the diluting liquid tank 32 to prepare a flux F having a set ratio.
【0016】前記調製タンク33は、次の空圧回路によっ
て原液タンク31および希釈液タンク32よりフラックス原
液Aおよび希釈液Bの供給を受け、また、この調製タン
ク33内のフラックスFは、次の空圧回路によりスプレー
フラクサのノズル12a ,12bに供給され、これらのノズ
ル12a ,12b より噴霧されたフラックスミストfがワー
ク(部品実装基板)の下面に塗布される。The preparation tank 33 is supplied with the flux stock solution A and the dilution solution B from the stock solution tank 31 and the diluent solution tank 32 by the following pneumatic circuit, and the flux F in the preparation tank 33 is as follows. The air pressure circuit supplies the nozzles 12a and 12b of the spray fluxer, and the flux mist f sprayed from these nozzles 12a and 12b is applied to the lower surface of the work (component mounting board).
【0017】前記空圧回路を説明すると、空圧源20にバ
ルブ41およびフィルタ42を経て、フラックスミスト粒子
径を制御する霧化圧制御回路43と、フラックスミストf
の拡散形状を制御する形状圧制御回路44と、主として前
記ノズル12a ,12b の噴霧孔を開閉制御するニードル弁
を作動するための弁作動圧制御回路45と、主として前記
原液タンク31、希釈液タンク32および調製タンク33の各
タンク内を加圧して内部の液を押出すためのタンク加圧
制御回路46とが、それぞれ接続されている。Explaining the pneumatic circuit, the atomization pressure control circuit 43 for controlling the particle size of the flux mist through the valve 41 and the filter 42 in the pneumatic pressure source 20 and the flux mist f.
A shape pressure control circuit 44 for controlling the diffusion shape of the nozzles, a valve operating pressure control circuit 45 for mainly operating the needle valve for controlling the opening and closing of the spray holes of the nozzles 12a, 12b, and the stock solution tank 31, the diluent tank. A tank pressurization control circuit 46 for pressurizing the inside of each of the tanks 32 and 33 and extruding the liquid inside is connected to each tank.
【0018】前記霧化圧制御回路43は、減圧弁51および
圧力計52を経た管路53が電磁・空圧作動式3ポート切換
弁54の入力ポート54P に連通され、この切換弁54の出力
ポート54A が管路55を経てノズル12a ,12b の粒子径制
御用の霧化圧導入口に連通されている。In the atomizing pressure control circuit 43, a line 53 passing through a pressure reducing valve 51 and a pressure gauge 52 is connected to an input port 54P of a solenoid / pneumatically operated three-port switching valve 54, and the output of this switching valve 54. The port 54A communicates with the atomizing pressure introduction port for controlling the particle size of the nozzles 12a and 12b via the pipe 55.
【0019】前記形状圧制御回路44は、減圧弁56および
圧力計57を経た管路58が電磁・空圧作動式3ポート切換
弁59の入力ポート59P に連通され、この切換弁59の出力
ポート59A が管路60を経てノズル12a ,12b のミスト形
状制御用の形状圧導入口に連通されている。形状圧は、
フラックスミストfの側方から作用してミスト拡散形状
を楕円形に制御する。In the shape pressure control circuit 44, a line 58 passing through a pressure reducing valve 56 and a pressure gauge 57 is connected to an input port 59P of a solenoid / pneumatically operated three-port switching valve 59, and an output port of this switching valve 59. 59A communicates with the shape pressure introducing port for controlling the mist shape of the nozzles 12a and 12b via the pipe line 60. The shape pressure is
It acts from the side of the flux mist f to control the mist diffusion shape to be elliptical.
【0020】前記弁作動圧制御回路45は、減圧弁61およ
び圧力計62を経た主管路63から前記各切換弁54,59のパ
イロット部に切換パイロット圧をそれぞれ供給する二つ
のパイロット管路64,65が引出されるとともに、前記主
管路63が電磁・空圧作動式3ポート切換弁66の入力ポー
ト66P に連通され、この切換弁66の出力ポート66A がシ
ャトル弁67の一方の入口67inに連通され、シャトル弁67
の出口67out が管路68を経てノズル12a ,12b の弁作動
圧導入口に連通されている。The valve operating pressure control circuit 45 includes two pilot pipe lines 64, which supply the switching pilot pressures from the main pipe line 63 passing through the pressure reducing valve 61 and the pressure gauge 62 to the pilot portions of the switching valves 54, 59, respectively. When 65 is pulled out, the main pipe 63 is communicated with the input port 66P of the electromagnetic / pneumatically operated 3-port switching valve 66, and the output port 66A of this switching valve 66 is communicated with one inlet 67in of the shuttle valve 67. And the shuttle valve 67
An outlet 67out of the valve is communicated with a valve operating pressure introducing port of the nozzles 12a and 12b via a pipe line 68.
【0021】一方のノズル12a への管路中にはバルブ69
が設けられ、ワークとしての基板の幅寸法に応じてこの
ノズル12a の使用、不使用を選択することが可能であ
る。弁作動圧は、ノズル12a ,12b 内のニードル弁と一
体のピストンを作動する。A valve 69 is provided in the conduit to one nozzle 12a.
Is provided, and it is possible to select the use or non-use of the nozzle 12a according to the width dimension of the substrate as a work. The valve actuation pressure actuates the piston integrated with the needle valve in the nozzle 12a, 12b.
【0022】前記タンク加圧制御回路46は、減圧弁71お
よび圧力計72を経た主管路73から引出された二つの管路
74,75が逆止弁付き流量調整弁76,77を経て前記各切換
弁54,59の他方のポート54R ,59R にそれぞれ連通され
ている。The tank pressurization control circuit 46 includes two pipelines drawn from a main pipeline 73 passing through a pressure reducing valve 71 and a pressure gauge 72.
74 and 75 are connected to the other ports 54R and 59R of the switching valves 54 and 59 via the flow control valves with check valves 76 and 77, respectively.
【0023】さらに、このタンク加圧制御回路46の主管
路73は、前記原液タンク31からフラックス原液Aを必要
量だけ取出すための原液供給手段を構成する電磁作動式
3ポート切換弁78の入力ポート78P と、前記希釈液タン
ク32から希釈液Bを必要量だけ取出すための希釈液供給
手段を構成する電磁作動式3ポート切換弁79の入力ポー
ト79P とに連通され、各切換弁78,79の出力ポート78A
,79A は、それぞれに接続された管路81,82により原
液タンク31および希釈液タンク32の上部内に連通されて
いる。Further, the main pipe line 73 of the tank pressurizing control circuit 46 is an input port of an electromagnetically actuated three-port switching valve 78 which constitutes a stock solution supply means for taking out a necessary amount of the flux stock solution A from the stock solution tank 31. 78P and the input port 79P of the electromagnetically actuated three-port switching valve 79 that constitutes the diluent supply means for extracting the required amount of the diluent B from the diluent tank 32. Output port 78A
, 79A are communicated with the upper portions of the stock solution tank 31 and the diluting solution tank 32 by the pipe lines 81 and 82 connected to them, respectively.
【0024】前記原液供給手段および希釈液供給手段
は、前記各切換弁78,79を有するタンク加圧制御回路46
だけでなく、原液タンク31および希釈液タンク32の底部
近傍まで管83,84をそれぞれ挿入し、この各管83,84と
前記調製タンク33にそれぞれ挿入された管85,86とを管
路87,88によりそれぞれ連通し、この各管路87,88にフ
ラックス調製用の流量計91,92および逆流防止用の逆止
弁93,94をそれぞれ介在させた回路構成も含むものであ
る。The stock solution supply means and the diluting solution supply means are the tank pressurization control circuit 46 having the switching valves 78 and 79.
In addition, the pipes 83 and 84 are inserted to the vicinity of the bottoms of the stock solution tank 31 and the diluting solution tank 32, and the pipes 83 and 84 and the pipes 85 and 86 inserted into the preparation tank 33 are connected to the line 87. , 88, respectively, and a circuit configuration in which flowmeters 91, 92 for flux preparation and check valves 93, 94 for backflow prevention are interposed in the respective pipe lines 87, 88, respectively.
【0025】前記調製タンク33には、前記原液供給手段
および希釈液供給手段より供給された各液A,Bを調製
タンク33内で混合して設定された比率のフラックスFを
調製するためのフラックス調製手段として、前記流量計
91,92とともに、フラックスFの比重を測定するための
全没式浮子95を備えた比重計96と、調製タンク33内に原
液Aおよび希釈液Bを供給するときに調製タンク33内を
大気に開放するための電磁・空圧作動式3ポート切換弁
97とが設けられている。A flux for preparing the flux F in the preparation tank 33 by mixing the respective liquids A and B supplied from the undiluted solution supply means and the diluted solution supply means in the preparation tank 33 to prepare a flux F having a set ratio. As a preparation means, the flow meter
Along with 91 and 92, a hydrometer 96 equipped with a fully submerged float 95 for measuring the specific gravity of the flux F, and when the stock solution A and the diluting solution B are supplied to the preparation tank 33, the preparation tank 33 is exposed to the atmosphere. Electromagnetic / pneumatically operated 3-port switching valve for opening
97 and are provided.
【0026】前記比重計96は、フラックスFの比重に応
じて上下動する前記浮子95の高さレベルを可変抵抗器な
どの位置検出器により測定するもので、フラックスFの
比重を正確に測定することにより、原液タンク31および
希釈液タンク32より調製タンク33内に供給されて混合さ
れた比重の異なる2液A,Bの混合比率を検出すること
ができる。The pycnometer 96 measures the height level of the float 95 that moves up and down according to the specific gravity of the flux F by a position detector such as a variable resistor, and accurately measures the specific gravity of the flux F. Thus, it is possible to detect the mixing ratio of the two liquids A and B having different specific gravities that are supplied from the stock solution tank 31 and the diluting solution tank 32 into the preparation tank 33 and mixed.
【0027】さらに、前記調製タンク33から前記ノズル
12a ,12b にわたってフラックスFを供給するフラック
ス供給手段として、前記タンク加圧制御回路46と調製タ
ンク33の上部とが加圧管路98により連通されるととも
に、調製タンク33の底部近傍まで挿入された管99a が管
路99を介し前記ノズル12a ,12b のフラックス供給口に
連通されている。Further, from the preparation tank 33 to the nozzle
As a flux supply means for supplying the flux F over 12a and 12b, the tank pressurizing control circuit 46 and the upper part of the preparation tank 33 are connected by a pressurizing conduit 98, and a pipe inserted up to near the bottom of the preparation tank 33. 99a is connected to the flux supply ports of the nozzles 12a and 12b via a pipe line 99.
【0028】前記流量計91,92、比重計96から引出され
た検知信号ライン101 ,102 ,103がコントローラ104
の入力部に接続されている。このコントローラ104 は、
フラックスF中の固形分の割合を設定することによっ
て、フラックス原液Aと希釈液Bとの混合比率を制御す
るものであり、このコントローラ104 からの出力ライン
105 ,106 ,107 が、前記原液用の切換弁78、希釈液用
の切換弁79および開放用の切換弁97の各ソレノイドに接
続されている。なお、その他の切換弁54,59,66なども
コントローラ104 からの出力信号により制御するが、そ
の信号ラインは省略する。The detection signal lines 101, 102 and 103 drawn from the flowmeters 91 and 92 and the specific gravity meter 96 are connected to the controller 104.
Is connected to the input section. This controller 104
By setting the ratio of the solid content in the flux F, the mixing ratio of the flux stock solution A and the diluting solution B is controlled, and the output line from the controller 104 is set.
105, 106 and 107 are connected to respective solenoids of the stock solution switching valve 78, the diluent switching valve 79 and the opening switching valve 97. The other switching valves 54, 59, 66, etc. are also controlled by the output signals from the controller 104, but their signal lines are omitted.
【0029】次に、図1に示された実施例の作用を説明
する。Next, the operation of the embodiment shown in FIG. 1 will be described.
【0030】空圧源20から供給された空圧は霧化圧制御
回路43、形状圧制御回路44、弁作動圧制御回路45および
タンク加圧制御回路46にそれぞれ供給される。The air pressure supplied from the air pressure source 20 is supplied to the atomization pressure control circuit 43, the shape pressure control circuit 44, the valve actuation pressure control circuit 45 and the tank pressurization control circuit 46, respectively.
【0031】弁作動圧制御回路45から二つの切換弁54,
59のパイロット作用部に供給されたパイロット圧は各切
換弁54,59を上側経路に切換えるため、霧化圧制御回路
43および形状圧制御回路44の空圧が各切換弁54,59を経
てノズル12a ,12b にそれぞれ供給され、ノズル12a ,
12b における霧化圧および形状圧がそれぞれ制御され
る。From the valve operating pressure control circuit 45 to the two switching valves 54,
Since the pilot pressure supplied to the pilot action part of 59 switches each switching valve 54, 59 to the upper path, the atomization pressure control circuit
The air pressures of 43 and the shape pressure control circuit 44 are supplied to the nozzles 12a and 12b via the switching valves 54 and 59, respectively.
The atomization pressure and shape pressure in 12b are controlled respectively.
【0032】弁作動圧制御回路45に供給された空圧は切
換弁66に作用しているため、この切換弁66をソレノイド
駆動信号などにより上側経路に切換えることにより、切
換弁66からシャトル弁67を経てノズル12a ,12b 内のニ
ードル弁に弁作動圧を供給できる。一方、切換弁66を原
位置に戻すと、ノズル内リターンスプリングのバネ圧に
よりノズル内ニードル弁が復帰動作しながら、ノズル12
a ,12b 内の作動圧は、管路68を経てシャトル弁67の排
気口EXH より排気される。Since the pneumatic pressure supplied to the valve operating pressure control circuit 45 acts on the switching valve 66, the switching valve 66 is switched to the upper path by a solenoid drive signal or the like, so that the switching valve 66 is switched to the shuttle valve 67. The valve operating pressure can be supplied to the needle valves in the nozzles 12a and 12b via the valve. On the other hand, when the switching valve 66 is returned to its original position, the nozzle pressure of the return spring in the nozzle causes the needle valve in the nozzle to return and the nozzle 12
The working pressure in a and 12b is exhausted from the exhaust port EXH of the shuttle valve 67 via the pipe 68.
【0033】このようにして、ノズル12a ,12b の噴霧
孔を、この噴霧孔にて進退動作する上記ニードル弁によ
り開閉制御することで、フラックスミストfの連続噴霧
または間欠噴霧などを制御する。In this way, the spray holes of the nozzles 12a and 12b are controlled to be opened and closed by the needle valve that moves forward and backward through the spray holes, thereby controlling the continuous spraying or the intermittent spraying of the flux mist f.
【0034】タンク加圧制御回路46は、コントローラ10
4 からの制御信号により切換弁78を上側経路に切換える
ことにより原液タンク31内を加圧し、この加圧時間によ
り原液タンク31からフラックス原液Aを必要量だけ管路
87および流量計91を経て調製タンク33内に押出すことが
できる。The tank pressurization control circuit 46 includes the controller 10
The switching valve 78 is switched to the upper path by the control signal from 4 to pressurize the inside of the stock solution tank 31, and the pressurizing time allows the flux stock solution A to flow from the stock solution tank 31 by a necessary amount.
It can be extruded into the preparation tank 33 via 87 and the flow meter 91.
【0035】同様に、コントローラ104 からの制御信号
により切換弁79を上側経路に切換えることにより希釈液
タンク32内を加圧し、この加圧時間により希釈液タンク
32から希釈液Bを必要量だけ管路88および流量計92を経
て調製タンク33内に押出すことができる。Similarly, the diluting liquid tank 32 is pressurized by switching the switching valve 79 to the upper path in response to a control signal from the controller 104, and the diluting liquid tank 32 is pressurized by this pressurizing time.
The required amount of the diluent B can be extruded from 32 into the preparation tank 33 via the line 88 and the flow meter 92.
【0036】調製タンク33内に供給されたフラックス原
液Aおよび希釈液Bの絶対量は、それぞれ流量計91,92
で計測してコントローラ104 にて積算することができ
る。また、調製タンク33内に供給された2液A,Bの相
対的な混合比率は、前記比重計96により検出してコント
ローラ104 に入力する。The absolute amounts of the stock flux A and the diluent B supplied into the preparation tank 33 are respectively flowmeters 91 and 92.
And the controller 104 can add up. The relative mixing ratio of the two liquids A and B supplied into the preparation tank 33 is detected by the hydrometer 96 and input to the controller 104.
【0037】したがって、フラックス原液Aと希釈液B
との混合比率をコントローラ104 にて設定された割合に
調製することができ、フラックスF中の固形分の割合
を、はんだ付け装置やワークに応じて、例えば10%、
5%または3.3%などに調製することができる。Therefore, the flux stock solution A and the diluent solution B
Can be adjusted to a ratio set by the controller 104, and the ratio of the solid content in the flux F can be adjusted to, for example, 10% depending on the soldering device and the work.
It can be adjusted to 5% or 3.3%.
【0038】このようにして、フラックス原液Aおよび
希釈液Bを調製タンク33内に供給して、コントローラ10
4 にて設定された比率のフラックスFを調製するが、こ
のフラックス調製時は、前記調製タンク用の切換弁97を
上側の開放位置に切換えることにより、調製タンク33内
を大気に開放し、調製タンク33内の昇圧を防止する。調
製タンク33内が昇圧すると、原液タンク31や希釈液タン
ク32からの加圧供給を行えないからである。In this way, the flux stock solution A and the diluting solution B are supplied into the preparation tank 33, and the controller 10
The flux F having the ratio set in 4 is prepared. At the time of preparing the flux, the preparation tank 33 is opened to the atmosphere by switching the preparation tank switching valve 97 to the upper open position. Prevent pressure increase in the tank 33. This is because if the pressure in the preparation tank 33 rises, the pressurized supply from the stock solution tank 31 and the diluting solution tank 32 cannot be performed.
【0039】一方、この調製タンク33からノズル12a ,
12b にフラックスFを供給するときは、前記原液用およ
び希釈液用の切換弁78,79を下側位置に切換えて、原液
タンク31内および希釈液タンク32内を大気に開放するこ
とによりフラックス原液Aおよび希釈液Bの加圧供給を
停止するとともに、前記調製タンク用の切換弁97を閉止
位置に切換え、この切換弁97および前記逆止弁93,94に
より調製タンク33を密閉し、タンク加圧制御回路46から
管路98を経て調製タンク33内に空圧を供給して調製タン
ク33内を昇圧することにより、調製タンク33内のフラッ
クスFを管路99に押出してノズル12a ,12b に供給し、
このノズル12a ,12b よりフラックスミストfを噴霧し
てワークに塗布する。On the other hand, from the preparation tank 33 to the nozzle 12a,
When supplying the flux F to the flux 12b, the stock solution and diluting solution switching valves 78 and 79 are switched to the lower position, and the stock solution tank 31 and the diluting solution tank 32 are opened to the atmosphere. While stopping the pressurized supply of A and the diluent B, the switching valve 97 for the preparation tank is switched to the closed position, and the preparation tank 33 is closed by this switching valve 97 and the check valves 93, 94, and the tank is added. By supplying air pressure from the pressure control circuit 46 to the inside of the preparation tank 33 via the pipe 98 to increase the pressure inside the preparation tank 33, the flux F in the preparation tank 33 is extruded to the pipe 99 and is supplied to the nozzles 12a and 12b. Supply,
Flux mist f is sprayed from the nozzles 12a and 12b and applied to the work.
【0040】なお、上記実施例では空圧により各タンク
31,32,33から液を押出す給液方式を説明したが、本発
明は、この方式に限定されるものではなく、液圧ポンプ
により圧送する方式も含むものである。また、フラック
ス原液は、100%に近いものに限られず、ある程度希
釈された濃度のものであってもよい。In the above embodiment, each tank is pneumatically operated.
Although the liquid supply method of extruding the liquid from 31, 32, 33 has been described, the present invention is not limited to this method and includes a method of pressure feeding by a hydraulic pump. Further, the flux stock solution is not limited to a solution close to 100%, and may have a diluted concentration to some extent.
【0041】[0041]
【発明の効果】本発明によれば、原液タンクから原液供
給手段によりフラックス原液を必要量だけ取出すととも
に、希釈液タンクから希釈液供給手段により希釈液を必
要量だけ取出し、これらの各液を調製タンク内で混合し
て設定された比率のフラックスを調製するから、はんだ
付け装置やワークに応じて、フラックス中の固形分を適
切な比率に自在に調製して、この調製タンクからフラッ
クス噴霧用のノズルに供給できる。According to the present invention, the required amount of the flux stock solution is taken out from the stock solution tank by the stock solution supply means, and the necessary amount of the diluting solution is taken out from the diluting solution tank by the diluting solution supply means to prepare each of these solutions. The flux is mixed in the tank to prepare the set flux, so the solid content in the flux can be freely adjusted to an appropriate ratio according to the soldering equipment and work, and the flux for spraying flux from this preparation tank can be prepared. Can be supplied to the nozzle.
【図1】本発明に係るスプレーフラクサの一実施例を示
す空圧回路図である。FIG. 1 is a pneumatic circuit diagram showing an embodiment of a spray fluxer according to the present invention.
【図2】従来のスプレーフラクサが組込まれたはんだ付
け装置の概要図である。FIG. 2 is a schematic view of a soldering device incorporating a conventional spray fluxer.
【図3】従来の問題点を説明するための部品実装基板の
断面図である。FIG. 3 is a cross-sectional view of a component mounting board for explaining conventional problems.
F フラックス A フラックス原液 B 希釈液 12a ,12b ノズル 31 原液タンク 32 希釈液タンク 33 調製タンク 78 原液供給手段を構成する切換弁 79 希釈液供給手段を構成する切換弁 99 フラックス供給手段を構成する管路 F Flux A Flux stock solution B Diluted solution 12a, 12b Nozzle 31 Stock solution tank 32 Diluted solution tank 33 Preparation tank 78 Switching valve that constitutes the stock solution supply means 79 Switch valve that constitutes the solution supply means 99 Pipeline that forms the flux supply means
Claims (1)
より噴霧してワークに塗布するスプレーフラクサにおい
て、 フラックス原液を収納した原液タンクと、 希釈液を収納した希釈液タンクと、 前記原液タンクからフラックス原液を必要量だけ取出す
原液供給手段と、 前記希釈液タンクから希釈液を必要量だけ取出す希釈液
供給手段と、 前記原液供給手段および希釈液供給手段より供給された
各液を混合して設定比率のフラックスを調製する調製タ
ンクと、 この調製タンクから前記ノズルにわたって設けられたフ
ラックス供給手段とを具備したことを特徴とするスプレ
ーフラクサ。1. A spray fluxer for spraying a flux supplied from a nozzle from a nozzle to apply it to a work, a stock solution tank containing a stock solution of flux, a diluent tank containing a diluent solution, and a flux from the stock solution tank. A stock solution supply means for taking out a necessary amount of the stock solution, a diluting solution supply means for taking out a necessary amount of the diluting solution from the diluting solution tank, and a set ratio by mixing the respective solutions supplied from the stock solution supplying means and the diluting solution supplying means. 2. A spray fluxer comprising: a preparation tank for preparing the flux of 1. and a flux supply means provided from the preparation tank to the nozzle.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10671795A JPH08299860A (en) | 1995-04-28 | 1995-04-28 | Spray fluxer |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10671795A JPH08299860A (en) | 1995-04-28 | 1995-04-28 | Spray fluxer |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH08299860A true JPH08299860A (en) | 1996-11-19 |
Family
ID=14440714
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP10671795A Pending JPH08299860A (en) | 1995-04-28 | 1995-04-28 | Spray fluxer |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH08299860A (en) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2002026006A1 (en) * | 2000-09-25 | 2002-03-28 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Flux applying method, flow soldering method and devices therefor and electronic circuit board |
-
1995
- 1995-04-28 JP JP10671795A patent/JPH08299860A/en active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2002026006A1 (en) * | 2000-09-25 | 2002-03-28 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Flux applying method, flow soldering method and devices therefor and electronic circuit board |
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