JPH08297835A

JPH08297835A - 磁気記録媒体の製造方法

Info

Publication number: JPH08297835A
Application number: JP13871896A
Authority: JP
Inventors: Hiroo Inami; 博男稲波; Kiyomi Ejiri; 清美江尻
Original assignee: Fuji Photo Film Co Ltd
Current assignee: Fujifilm Holdings Corp
Priority date: 1996-05-31
Filing date: 1996-05-31
Publication date: 1996-11-12

Abstract

(57)【要約】【課題】出力、Ｃ／Ｎ比等の電磁変換特性の優れた磁
気記録媒体を製造する方法、さらにその上ヘッド当たり
が良くかつ保存安定性が良好な薄層磁気記録媒体を製造
する方法を提供すること。【解決手段】平均一次粒子径が０．０８μｍ以下の粉
末を、好ましくはモース硬度４以上の無機粉体を、結合
剤中に分散させた非記録層塗布液と、結晶サイズ１００
〜４５０オングストロームの強磁性粉末を結合剤中に分
散させた記録層塗布液をそれぞれ調製し、支持体上に非
記録層塗布液を塗布・乾燥した後、乾燥厚みが１．０μ
ｍ以下になるように塗布液を塗布する磁気記録媒体の製
造方法。好ましくは、記録層のＨｃが１２００〜３００
０Ｏｅである磁気記録媒体の製造方法。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は磁気記録媒体の製造方
法、特に磁性層が１．０μ以下の非常に薄層な磁気記録
媒体の製造方法に関し、更に、詳しくは非常に電磁変換
特性に優れた磁気記録媒体に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来、ビデオテープ、オーディオテー
プ、磁気ディスク等の磁気記録媒体としては、強磁性酸
化鉄、Ｃｏ変性酸化鉄、ＣｒＯ₂、強磁性合金粉末等を
結合剤中に分散した磁性層を非磁性支持体に塗設したも
のが広く用いられている。近年、記録の高密度化と共に
記録波長が短くなる傾向があり、磁性層の厚さが厚いと
出力が低下する等の記録再生時の厚み損失の問題が大き
くなっている。このため磁性層を薄くすることが行われ
ているが、磁性層を約２μｍ以下に薄くすると磁性層表
面に支持体の表面性の影響が現れ易くなり、電磁変換特
性が悪化する傾向があった。

【０００３】そのため、非磁性支持体表面に非磁性の厚
い下層を設けてから磁性層を上層に設けることにより、
前記した支持体の表面粗さによる問題を解消すると共に
磁性層を薄層とすることによって、厚み減磁を減らし高
出力を達成しようとする試みが提案された。例えば、特
開昭５９−１４２７４１号公報では非磁性支持体表面に
０．０３〜０．３μｍの厚さの下塗層を施こし、該下塗
層中に平均粒子サイズが０．８μｍ以下のＳｎＯ₂系の
粉末を含有せしめて、該下塗層の導電性を向上させ、か
つその下塗層の上に塗設する磁性層との密着性を良くし
て耐久性の良い塗布型の磁性層を有する、電磁変換特性
の良い磁気記録媒体が記載されている。該特開昭５９−
１４２７４１号公報に記載の磁気記録媒体の磁性層の厚
みはその実施例の記載によれば５μｍであり、磁性粉の
短軸長は０．０５μｍ、Ｈｃは４００Ｏｅであると記載
されている。

【０００４】又、特開昭６１−２０４８２７号公報では
磁気記録媒体の製造中に非磁性支持体表面にスジ状のケ
ズレが発生するのを防止し、仕上がり製品の品質、特に
ドロップアウトの発生を防ぐために、可撓性基板上に、
重合性のバインダーと平均粒径が５０〜１５００オング
ストロ−ムの微粒子顔料とを含有する被覆層を設け、さ
らに好ましくは該被覆層に潤滑剤を添加し、さらに帯電
防止剤を加えてなる磁気記録媒体用ベースフィルムを提
供することが記載されている。この特開昭６１−２０４
８２７号公報に記載の技術においては、該磁気記録媒体
用ベースフィルムの上に２μｍの厚さの、含まれる磁性
粉の短軸が０．５μｍ、磁性粉のＨｃが１２００Ｏｅの
磁性粉を含む磁性層を設けた、耐久性の良い塗布型の磁
性層を有する磁気記録媒体が記載されている。

【０００５】又、特開平２−２５７４２４号公報には、
電磁変換特性に優れ、摺動ノイズやドロップアウト発生
の少ない磁気記録媒体を提供するために、非磁性支持体
の上に非磁性層を設け、その非磁性層中に平均粒径が５
０ｍμ以上のフィラーを含有させ、該非磁性層の上に複
数の磁性層を設け、最上磁性層の厚みを１．５μｍ以下
とする磁気記録媒体が記載されている。該磁気記録媒体
の実施例に記載されている磁性層は２層で、最上層以外
の磁性層の厚みは３．２μｍ、最上磁性層の厚みは０．
８μｍ、最上磁性層に使用されている磁性体は、ＢＥＴ
値５０ｍ²／ｇ、Ｈｃ１２００Ｏｅのものである。前記
特開昭５９−１４２７４１号公報、特開昭６１−２０４
８２７号公報および特開平２−２５７４２４号公報に記
載の磁気記録媒体の磁性層の厚みは２μｍ以上であり記
録波長が短い高密度記録用に用いた場合良い電磁変換特
性が得られない。

【０００６】特開昭６２−１５４２２５号公報では磁性
層の厚さを０．５μｍ以下にするとともに磁性層の表面
電気抵抗が高くなるのを防止するため、磁性層と基体と
の間に導電性微粉末を含む厚さが磁性層の厚さ以上の下
塗り層を設けた磁気記録媒体が提案されている。又、特
開昭６２−２２２４２７号公報には支持体と支持体上に
設けられ、平均粒径が０．５〜３μｍの研磨剤を含有す
る下塗り層と、下塗り層の上に設けられた強磁性粉末を
含有した膜厚１μｍ以下の磁性層を具備した磁気記録媒
体が提案されているが、これは下塗り層中の研磨剤の一
部分が磁性層に突き出しているので、磁気記録媒体の磁
気ヘッドクリーニング作用を併せ持つようにしたもので
ある。

【０００７】従来の技術では、磁性層を薄くして高密度
記録を達成し、同時に下層非磁性層に帯電防止を図るた
め、カーボンブラックを含めたり、クリニーング特性や
耐久性を向上するために研磨材を添加したりしている。
特開昭６３−３１７９２６号公報には、磁性層を薄くし
ても十分な耐久性を維持するために、磁性層中に高級脂
肪酸あるいはその誘導体、フッ素オイル、シリコンオイ
ル等の潤滑剤を含有させたり、モース硬度７以上の非磁
性無機粉末などを単独あるいは複合させた状態で含有さ
せる他、磁気記録媒体の支持体と磁性層の間に、その最
大粒径が膜厚みを越えない粒径の酸化チタンやカーボン
ブラック等の非磁性粉末とニトロセルローズ樹脂、溶解
性パラメータが９．０〜９．５のポリウレタン樹脂及び
低分子イソシアネート化合物からなる下塗層を設けるこ
とが提案されている。下塗層に入れる酸化チタンやカー
ボンブラック等の非磁性粉末の粒径は０．２５μｍ、磁
性層の厚みは１μｍ以下、磁性体のＨｃは６５０Ｏｅで
ある。

【０００８】又、特開昭６３−１８７４１８号公報に
は、磁性層の厚みを０．５μｍ以下と薄くし、磁性層を
薄くしても十分な耐久性を維持するために下塗層を設
け、下塗層に０．００１〜１．０μｍの粒径の無機粉体
（ただし、実施例には無機粉体のサイズは記載されてい
ない。）を含有させ、磁性体のＨｃ１２００Ｏｅを使用
した磁気記録媒体が記載されているが、テープ走行耐久
性を向上させるにはテープエッジダメージを少なくする
ことが必要であり、該磁気記録媒体では不十分である。

【０００９】さらに又従来の技術は、非磁性支持体に先
ず下層非磁性層を塗布し、乾燥してから場合によって、
カレンダー処理をしてから上層磁性層を設けているため
以下のような問題があった。すなわち、磁性層を薄層化
するためには、塗布量を減らすことかもしくは磁性塗布
液に溶剤を多量に加えて濃度を薄くすることが考えられ
る。前者を取る場合、塗布量を減らすと塗布後に十分な
レベリングの時間がなく、乾燥が始まるために、塗布欠
陥、例えばスジや刻印のパターンが残るといった問題が
発生する。後者の方法を取った場合、磁性塗布液の濃度
が希薄であると、できあがった塗膜に空隙が多く、十分
な強磁性粉末の充填度が得られないこと、また、空隙が
多いために塗膜の強度が不十分であること等、種々の弊
害をもたらす。これらの問題を解決する一つの手段に、
特開昭６３−１９１３１５号公報に記載されているよう
に、同時重層塗布方式を用いて下層に非磁性の層を設
け、濃度の高い磁性塗布液を薄く塗布する方法が提案さ
れた。

【００１０】この同時重層塗布方式又は逐次湿潤塗布方
式による場合、即ち下層が湿潤状態にある間に上層を同
時又は逐次に塗布するいわゆるＷｅｔｏｎＷｅｔ塗
布方式の場合は、すでに重層の磁性層では様々な検討が
為されている。しかしながら下層非磁性層にこの技術を
応用しても同じように良好な結果が得られなかった。つ
まり、ＷｅｔｏｎＷｅｔにより下層非磁性層と上層
磁性層を設けると、これら両者の界面において乱れが生
じ、ピンホールが生じたり、磁性層のハジキを生じたり
した。そこで、本発明者らは、これら下層非磁性層の組
成と塗布方式との関係について鋭意検討した結果、レオ
ロジー特性にポイントがあることを見出し本発明に至っ
た。

【００１１】

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、出
力、Ｃ／Ｎ比等の電磁変換特性の優れた薄層磁気記録媒
体を提供することであり、またヘッド当りが良好でかつ
保存安定性が良好な薄層磁気記録媒体を提供することで
ある。

【００１２】

【課題を解決するための手段】本発明の上記目的は本発
明の磁気記録媒体の製造方法によって達成される。すな
わち、（１）粉末を結合剤中に分散させた下層非記録層用塗布
液と、強磁性粉末を結合剤中に分散させた上層記録層用
塗布液をそれぞれ調製し、支持体上に前記下層非記録層
用塗布液を塗布し、続いて前記上層記録層用塗布液を塗
布する磁気記録媒体の製造方法において、前記上層記録
層用塗布液は結晶子サイズは４５０〜１００オングスト
ロ−ムの強磁性粉末を含み、前記下層非記録層用塗布液
は粉末として平均一次粒子径が０．０８μｍ以下である
非磁性無機粉末を含み、かつ前記支持体上に前記下層非
記録層用塗布液を塗布した後、得られた下層非記録層が
乾燥した後、前記上層記録層の乾燥厚みが１．０μｍ以
下になるように上層記録層用塗布液を塗布することを特
徴とする磁気記録媒体の製造方法である。

【００１３】なお、本発明の磁気記録媒体の製造方法の
好ましい態様は次の通りである。（２）前記上層記録層のＨｃが１２００〜３０００Ｏｅ
であることを特徴とする前記（１）に記載の磁気記録媒
体の製造方法。（３）前記下層非記録層用塗布液がチキソトロピ−性を
有することを特徴とする前記（１）に記載の磁気記録媒
体の製造方法。（４）前記上層記録層用塗布液の強磁性粉末はＦｅまた
はＮｉまたはＣｏを主成分とする強磁性合金粉末で、こ
れら原子以外にＡｌ，Ｓｉ，Ｓ，Ｓｃ，Ｔｉ，Ｖ，Ｃ
ｒ，Ｃｕ，Ｙ，Ｍｏ，Ｒｈ，Ｐｄ，Ａｇ，Ｓｎ，Ｓｂ，
Ｔｅ，Ｂａ，Ｔａ，Ｗ，Ｒｅ，Ａｕ，Ｐｂ，Ｂｉ，Ｌ
ａ，Ｃｅ，Ｐｒ，Ｎｄ，Ｐ，Ｃｏ，Ｍｎ，Ｚｎ，Ｎｉ，
Ｓｒ，Ｂから選ばれた少なくとも１種の原子を含むこと
を特徴とする前記（１）に記載の磁気記録媒体の製造方
法。

【００１４】（５）前記下層非記録層用塗布液は粉末と
してモ−ス硬度４以上の無機粉体を含むことを特徴とす
る前記（１）に記載の磁気記録媒体の製造方法。（６）前記下層非記録層用塗布液の粉末としてα化率９
０％以上のα−アルミナ、β−アルミナ、γ−アルミ
ナ、炭化ケイ素、酸化クロム、酸化セリウム、α−酸化
鉄、コランダム、窒化珪素、チタンカ−バイト、酸化チ
タン、二酸化珪素、酸化タングステン、酸化ジルコニウ
ム、窒化ホウ素、酸化亜鉛、炭酸カルシウム、硫酸カル
シウム、硫酸バリウム、２硫化モリブデンから選ばれた
少なくとも１種の無機粉末を含むことを特徴とする前記
（１）に記載の磁気記録媒体の製造方法。

【００１５】（７）前記下層非記録層の粉末が磁気記録
が不可能な磁性粉末を含むことを特徴とする前記（１）
に記載の磁気記録媒体の製造方法。（８）前記下層非記録層用塗布液の粉末として磁性粉末
を含み、かつ前記下層非記録層のＢｍが５００ガウス以
下であることを特徴とする前記（１）に記載の磁気記録
媒体の製造方法。（９）前記支持体の弾性率は１００〜２０００Ｋｇ／ｍ
ｍ²であることを特徴とする前記（１）に記載の磁気記
録媒体の製造方法。（１０）前記支持体はポリエチレンテレフタレ−ト、ポ
リエチレンナフタレ−トのポリエステル類、ポリオレフ
ィン類、セルロ−ストリアセテ−ト、ポリカ−ボネ−
ト、ポリアミド、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリ
スルフォン、アラミド、芳香族ポリアミドから選ばれた
少なくとも１種であることを特徴とする前記（１）に記
載の磁気記録媒体の製造方法。

【００１６】すなわち本発明は上記構成をとることによ
り上層記録層用塗布液も下層非記録層用塗布液もともに
チキソトロピ−性を有するようになり、ヘッド当たりも
共に改良できることを見出したものである。すなわち、
本発明は乾燥後の下層非記録層に適度な弾性と親和性が
生じ、上層記録層の乾燥厚みが１．０μｍ以下に塗布し
やすくなるというものである。チキソトロピー性とはシ
キソトロピーともいい、応力による物体の軟化現象のう
ち回復を伴うものをいうが、物体のヒズミを増加させる
ことによって、軟化を起こすものである。磁性塗料は典
型的なチキソトロピー性を示し、例えば撹拌を与えると
次第に内部構造が破壊して軟化し、流動性を増すもので
ある。磁性塗料を支持体上に塗布し、磁場配向をする
と、強磁性粉末が回転するが、その時には内部構造を破
壊されてかなり流動性を増した状態になる。

【００１７】従来の下層非記録層の分散液はチキソトロ
ピー性を示さないか、またはあっても非常に小さいか、
あるいはカーボンブラックを含む液の如く極めて強いチ
キソトロピー性を示すものが用いられていた。本発明者
はこの両液のチキソトロピー性に着目し、下層非記録層
用塗布液と上層記録層用塗布液が同一か又は近似したチ
キソトロピー性を示す塗布液とすると驚くべきことに界
面での乱れが生じなかった。ここで、同一又は近似した
チキソトロピー性とは、支持体上に下層非記録層用塗布
液を塗布し、得られた下層非記録層が乾燥した後、上層
記録層の乾燥厚みが１．０μｍ以下になるように上層記
録層用塗布液を塗布し、磁気配向させた時に上層記録層
内の強磁性体の回転によっても下層非記録層と上層記録
層の界面において乱れが生じない程度に両液のチキソト
ロピー性が近似していることをいう。

【００１８】本発明においては、上記下層非記録層用塗
布液について上記構成をとることにより、前記粉末を結
合剤中に分散してなる下層分散液が、チキソトロピー性
を持ち、剪断速度１０⁴ｓｅｃ^{- 1}での剪断応力Ａ１０
⁴と剪断速度１０ｓｅｃ^{- 1}での剪断応力Ａ１０との
比Ａ１０⁴／Ａ１０が１００≧Ａ１０⁴／Ａ１０≧３で
ある様にすることである。前記分散液のＡ１０⁴／Ａ１
０の比を一定の範囲にすることにより上層磁性塗料に対
し近似したチキソトロピー性を有し、界面での乱れが生
じなかった。

【００１９】このように本発明の基本思想は、下層非記
録層用塗布液に０．０８μｍ以下の微粒子の非磁性無機
粉末を用い、かつ上層記録層用塗布液に結晶子サイズ４
５０〜１００オングストロームの強磁性粉末を用いるこ
とにより、さらに下層非記録層用塗布液と上層記録層用
塗布液を前記の好ましい態様の構成をとることにより塗
設時に互いに同一もしくは近似したチキソトロピー性を
有するように調製できる。これにより塗布欠陥をなく
し、耐久性、出力向上等の電磁変換特性を改善すること
ができるものである。

【００２０】また、下層非記録層形成のための塗布液
は、レオロジー特性、即ち、剪断速度１０⁴ｓｅｃ^{- 1}
での剪断応力Ａ１０⁴と剪断速度１０ｓｅｃ^{- 1}での
剪断応力Ａ１０との比Ａ１０⁴／Ａ１０が１００≧Ａ
１０⁴／Ａ１０≧３に調整することが好ましい。従っ
て、上層記録層の磁性塗料のレオロジー特性も上記範囲
を基準として考えることができる。

【００２１】ここで、剪断速度に対する剪断応力は、粘
度計、例えば、ＨＡＡＫＥ社製Ｒｏｔｏｖｉｓｃｏ粘度
計ＲＶ−ＩＩ等の同軸円筒型粘度計において測定され、
剪断速度は内筒と外筒との直径、クリアランスと回転数
で決まる。剪断速度とみかけ粘度と剪断応力には以下の
関係がある。

【００２２】Ａ＝η・Ｄ（Ａ：剪断応力、η：粘度、Ｄ：剪断速度）Ｄ＝ｄｖ／ｄｒ（ｖ：周速、ｒ：半径）従って、Ａ１０、Ａ１０⁴は、各々Ａ＝１０η、Ａ＝１
０⁴ηを指すが、Ａ１０⁴／Ａ１０の比はチキソトロピ
ーの程度を表し、大きい程チキソトロピー性が小さく、
その比が小さい程チキソトロピー性が大きいことを示
す。従来、非磁性分散液では弱いチキソトロピー性しか
なく、Ａ１０⁴／Ａ１０が２００〜５００程度であっ
た。Ａ１０⁴／Ａ１０の値が大きいと分散液がニュート
ン流体に近い性質のものとなり、Ａ１０⁴／Ａ１０の値
が低すぎると、チキソトロピー性が強すぎて塗布が可能
な粘度と送液が可能な粘度との両立が出来にくくなる。

【００２３】即ち本発明の磁気記録媒体の製造方法は、
分散される非金属無機粉末の粒径を小さくすることによ
り分散液のチキソトロピー性を調整できる。磁性塗料は
強磁性粉末同士の磁気的吸引力が働くために、磁性塗料
中で構造粘性を持つために非常に強いチキソトロピー性
を有する。それに対して下層非記録層用分散液は磁気的
な吸引力がないため、従来、弱いチキソトロピー性しか
有しなかった。この状態で重層塗布を行うと下層非記録
層が乾燥してから上層記録層塗布液を逐次塗布する場合
においても上層記録層と下層非記録層とが界面付近で著
しく混合したり、また、塗布後配向する時に激しい凝集
スジを発生し、充分な表面性を得ることができなかっ
た。しかして、本発明はこのような問題を解決するため
に平均一次粒子径を０．０８μｍ以下に特定した非金属
無機粉末を使用するものである。なお、別の好ましい態
様として、本発明は、非金属無機粉末を主体としてカー
ボンブラックを併用することもできる。

【００２４】また、下層非記録層の粉末が磁気記録が不
可能な磁性粉末を含ませることによってチキソトロピー
性を調整できる。このため、下層非記録層の飽和最大磁
束密度Ｂｍを５００ガウス以下とすることが好ましく、
３０〜５００ガウスにするのが更に好ましい。具体的に
はＡ１０⁴／Ａ１０を満足するかまたは、磁気記録が不
可能で、上層記録層に悪影響を与えないような磁性粉末
を用いてチキソトロピー性を調整した分散液を使用す
る。下層非記録層を５００ガウス以下、好ましくは３０
〜５００ガウスに設定するためには飽和磁化( σ_S) が
低い磁性体を用いたり、下層非記録層における磁性体の
充填比率を減らした分散液を調製することにより達成さ
れる。

【００２５】本発明は、Ａ１０⁴／Ａ１０を前記範囲に
調整するための好適な手段を示したものであるが、これ
らは、例えば、下記の因子とも互いに関係（重複した記
載も含む）があり、種々選定することにより、所望のＡ
１０⁴／Ａ１０を有する分散液、磁性塗料を得、ひいて
は所期の特性を有する磁気記録媒体を製造することがで
きる。

【００２６】該因子としては、例えば、分散される無機
粉末あるいは磁性粉末に関しては、（１）粒子サイズ
（比表面積、平均一次粒子径等）、（２）構造（吸油
量、粒子形態等）、（３）粉体表面の性質（ｐＨ、加熱
減量等）、（４）粒子の吸引力（σ_S等) 等、結合剤に
関しては、（１）分子量、（２）官能基の種類等、溶剤
に関しては（１）種類（極性等）、（２）結合剤溶解
性、（３）溶剤処方量等、含水率等が挙げられる。

【００２７】即ち、Ａ１０⁴／Ａ１０の比は、例えば、
結合剤の分子量、構造、溶剤との親和性、含水率等種々
のパラメーターが関与するが、最も寄与が大きいのは充
填する粉体であり、分散粉体の表面性質、粒子サイズ、
吸油量、溶剤との親和性などが関係する。粒子サイズが
小さい程チキソトロピー性が強くなる。また、吸油量が
大きい、ストラクチャーに富むカーボンブラックは非常
にチキソトロピー性が強くなる。また、磁性粒子は粒子
自体に磁気吸引力があるために強い構造粘性を示し、通
常チキソトロピー性が強い。即ち、本発明はこのよう
な、性質を利用して各下層非記録層用塗布液、上層記録
層用磁性塗料のチキソトロピー性を所定範囲に調整する
ものである。

【００２８】次に本発明において好ましい態様を以下説
明する。本発明に関しては、磁性塗料および分散液にポ
リイソシアネートを含むことが好ましい。また、平均一
次粒子径が０．０３μｍ以下、更に好ましくは０．０２
３μｍ以下のカーボンブラックを無機粉末に対して重量
比で無機粉末：カーボンブラック＝９９：１〜７０：３
０の範囲で使用することができる。特に好ましくは、９
５：５〜８０：２０である。カーボンブラックが１重量
％以下であると実質的に含まないことと同じになり、所
望するチキソトロピー性が得られにくくなる。また、３
０重量％以上にすると得られた磁気記録媒体の表面性が
不十分になりやすい。

【００２９】該無機粉末としては、特にＳｉ０₂、Ｔｉ
Ｏ₂、αアルミナ、α−Ｆｅ₂Ｏ₃、窒化硼素、酸化錫
が好ましい。該無機粉末の平均一次粒子径は０．０８μ
ｍ以下であるが、必要に応じてこのサイズ以外の無機粉
末を種々組合せたり、単独の無機粉末でも粒径分布を広
くして同様の効果をもたせることもできる。該無機粉末
のタップ密度は０．０５〜２ｇ／ｃｃ、好ましくは０．
２〜１．５ｇ／ｃｃ、含水率は０．１〜５％、好ましく
は０．２〜３％、ｐＨは２〜１１、比表面積は１〜１０
０ｍ²／ｇ、好ましくは５〜５０ｍ²／ｇ、更に好まし
くは７〜４０ｍ ²／ｇである。結晶子サイズは０．０１
μ〜２μが好ましい。ＤＢＰを用いた吸油量は５〜１０
０ｍｌ／１００ｇ、好ましくは１０〜８０ｍｌ／１００
ｇ、更に好ましくは２０〜６０ｍｌ／１００ｇである。
比重は２〜８である。形状は針状、球状、サイコロ状、
のいずれでも良い。上記の無機粉末は必ずしも１００％
純粋である必要はなく、目的に応じて表面を他の化合物
で処理してもよい。その際、純度は７０％以上であれば
効果を減ずることにはならない。例えば、酸化チタンを
用いる場合、表面をアルミナで処理することが一般的に
用いられている。強熱減量は２０％以下であることが好
ましい。上記無機粉体のモース硬度は４以上のものが好
ましい。本発明において無機粉末にカーボンブラックは
含まないが、併用することは出来る。

【００３０】併用出来るカーボンブラックの比表面積は
１００〜５００、好ましくは１５０〜４００ｍ²／ｇＤ
ＢＰ吸油量は２０〜４００ｍｌ／１００ｇ、好ましくは
３０〜２００ｍｌ／１００ｇである。粒子径は５ｍμ〜
１３０ｍμが好ましく、１０〜５０ｍμがさらに好まし
く、１０〜４０ｍμが特に好ましい。ｐＨは２〜１０、
含水率は０．１〜１０％、タップ密度は０．１〜１ｇ／
ｃｃ、が好ましい。これらの非磁性粉末は、結合剤に対
して、重量比率で２０〜０．１、好ましくは１０〜０．
５、更に好ましくは８〜１であり、体積比率で１０〜
０．２の範囲で用いられる。

【００３１】本発明に関しては、下層非記録層を５００
ガウス以下、好ましくは３０〜５００ガウスに設定する
ためには飽和磁化( σ_S) が低い磁性体を用いたり、下
層非記録層における磁性体の充填比率を減らすことによ
り達成される。この場合、該磁性体１００重量部に対し
て非磁性物は１００重量部以上が好ましく、１００〜５
０００重量部であることがさらに好ましい。該非磁性物
としては結合剤の他に非磁性粉体を含むことが好ましく
無機粉末、カーボンブラック等が好ましい。該磁性体と
しては、例えば、Ｃｏ−γ−Ｆｅ₂Ｏ₃磁性体が好まし
く、その抗磁力に特に制限はないが、１５００Ｏｅ以下
が好ましく、４００Oe〜１５００Oe程度がさらに好まし
い。また、下層非記録層に六方晶バリウムフェライトを
用いることもできる。その際の有機質粉末Ｈｃにも制限
はないが、Ｂａ−Ｆｅを用いる場合は８００Ｏｅ以上４
５００Ｏｅ以下が好ましい。また、上層記録層のＨｃは
１２００Ｏｅ〜３０００Ｏｅ、Ｂｍは２００〜４５００
ガウスであることが好ましい。

【００３２】本発明において、他に使用できる非磁性粉
末としては、有機質粉末、例えば、アクリルスチレン系
樹脂粉末、ベンゾグアナミン樹脂粉末、メラミン系樹脂
粉末、フタロシアニン系顔料が挙げられるが、ポリオレ
フィン系樹脂、ポリエステル系樹脂粉末、ポリアミド系
樹脂粉末、ポリイミド系樹脂粉末、ポリフッ化エチレン
樹脂が使用される。その製法は特開昭６２−１８５６４
号、特開昭６０−２５５８２７号、特開昭６０−２５５
８２７号に記載されているようなものが使用できる。こ
れらの非磁性粉末は、結合剤に対して、重量比率で０．
１〜１０、体積比率で１０〜０．２の範囲で用いられ
る。

【００３３】以下、本発明に共通する一般的事項につき
説明する。本発明に使用できる無機粉末としては、具体
的には金属酸化物、金属炭酸塩、金属硫酸塩、金属窒化
物、金属炭化物、金属硫化物、等の無機質化合物粉末で
ある。無機化合物としては例えばα化率９０％以上のα
−アルミナ、β−アルミナ、γ−アルミナ、炭化ケイ
素、酸化クロム、酸化セリウム、α−酸化鉄、コランダ
ム、窒化珪素、チタンカーバイト、酸化チタン、二酸化
珪素、酸化スズ、酸化タングステン、酸化ジルコニウ
ム、窒化ホウ素、酸化亜鉛、炭酸カルシウム、硫酸カル
シウム、硫酸バリウム、２硫化モリブデンなどが単独ま
たは組合せで使用される。

【００３４】本発明に用いられる無機粉末の具体的な例
としては、住友化学製：ＡＫＰ−２０、ＡＫＰ−３０、
ＡＫＰ−５０、ＨＩＴ−５０、ＨｉＴ−１００、日本化
学工業社製：Ｇ５、Ｇ７、Ｓ−１、戸田工業社製：ＴＦ
−１００、ＴＦ−１２０、ＴＦ−１４０、石原産業製：
ＴＴＯ−５５、ＦＴ−１０００、ＦＴ−２０００、ＦＴ
Ｌ−１００、ＦＴＬ−２００、Ｍ−１、Ｓ−１、ＳＮ−
１００、チタン工業製：ＥＣＴ−５２、ＳＴＴ−４Ｄ、
ＳＴＴ−３０、ＳＴＴ−６５Ｃ、Ｙ−ＬＯＰ、Ｙ−ＬＯ
Ｐから得られたα−ヘマタイト、三菱金属製：Ｔ−１、
日本触媒：ＮＳ−Ｏ、ＮＳ−３Ｙ、ＮＳ−８Ｙなどがあ
げられる。

【００３５】本発明に用いられるカーボンブラックとし
てはゴム用ファーネス、ゴム用サーマル、カラー用ブラ
ック、アセチレンブラック、等を用いることができる。
本発明に用いられるカーボンブラックの具体的な例とし
てはキャボット社製：ＢＬＡＣＫＰＥＡＲＬＳ２００
０、１３００、１０００、９００、８００、８８０、７
００、ＶＵＬＣＡＮＸＣ−７２、三菱化成工業社製：
♯３２５０Ｂ、♯９５０、♯６５０Ｂ、♯９７０Ｂ、♯
８５０Ｂ、コロンビアンカーボン社製：ＣＯＮＤＵＣＴ
ＥＸＳＣ、ＲＡＶＥＮ８８００、８０００、７００
０、５７５０、５２５０、３５００、２１００、２００
０、１８００、１５００、１２５５、１２５０、アクゾ
ー社製：ケッチェンブラックＥＣなどがあげられる。カ
ーボンブラックを分散剤などで表面処理したり、樹脂で
グラフト化して使用しても、表面の一部をグラファイト
化したものを使用してもかまわない。また、カーボンブ
ラックを磁性塗料に添加する前にあらかじめ結合剤で分
散してもかまわない。これらのカーボンブラックは単
独、または組合せで使用することができる。本発明で使
用できるカーボンブラックは例えば「カーボンブラック
便覧」（カーボンブラック協会編）を参考にすることが
できる。

【００３６】本発明の上層記録層に使用する強磁性粉末
としてはγ−ＦｅＯｘ（ｘ＝１．３３〜１．５）、Ｃｏ
変性γ−ＦｅＯｘ（ｘ＝１．３３〜１．５）、Ｆｅまた
はＮｉまたはＣｏを主成分（７５％以上）とする強磁性
合金微粉末、バリウムフエライト、ストロンチウムフエ
ライトなど公知の強磁性粉末が使用できる。これらの強
磁性粉末には所定の原子以外にＡｌ、Ｓｉ、Ｓ、Ｓｃ、
Ｔｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ｃｕ、Ｙ、Ｍｏ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ａｇ、
Ｓｎ、Ｓｂ、Ｔｅ、Ｂａ、Ｔａ、Ｗ、Ｒｅ、Ａｕ、Ｐ
ｂ、Ｂｉ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｐ、Ｃｏ、Ｍｎ、
Ｚｎ、Ｎｉ、Ｓｒ、Ｂなどの原子を含んでもかまわな
い。これらの強磁性微粉末にはあとで述べる分散剤、潤
滑剤、界面活性剤、帯電防止剤などで分散前にあらかじ
め処理を行ってもかまわない。具体的には、特公昭４４
−１４０９０号、特公昭４５−１８３７２号、特公昭４
７−２２０６２号、特公昭４７−２２５１３号、特公昭
４６−２８４６６号、特公昭４６−３８７５５号、特公
昭４７−４２８６号、特公昭４７−１２４２２号、特公
昭４７−１７２８４号、特公昭４７−１８５０９号、特
公昭４７−１８５７３号、特公昭３９−１０３０７号、
特公昭４８−３９６３９号、米国特許第３０２６２１５
号、同３０３１３４１号、同３１００１９４号、同３２
４２００５号、同３３８９０１４号などに記載されてい
る。

【００３７】上記強磁性粉末の中で強磁性合金微粉末に
ついては少量の水酸化物、または酸化物を含んでもよ
い。強磁性合金微粉末の公知の製造方法により得られた
ものを用いることができ、下記の方法をあげることがで
きる。複合有機酸塩（主としてシュウ酸塩）と水素など
の還元性気体で還元する方法、酸化鉄を水素などの還元
性気体で還元してＦｅあるいはＦｅ−Ｃｏ粒子などを得
る方法、金属カルボニル化合物を熱分解する方法、強磁
性金属の水溶液に水素化ホウ素ナトリウム、次亜リン酸
塩あるいはヒドラジンなどの還元剤を添加して還元する
方法、金属を低圧の不活性気体中で蒸発させて微粉末を
得る方法などである。このようにして得られた強磁性合
金粉末は公知の徐酸化処理、すなわち有機溶剤に浸漬し
たのち乾燥させる方法、有機溶剤に浸漬したのち酸素含
有ガスを送り込んで表面に酸化膜を形成したのち乾燥さ
せる方法、有機溶剤を用いず酸素ガスと不活性ガスの分
圧を調整して表面に酸化皮膜を形成する方法のいずれを
施したものでも用いることができる。

【００３８】本発明の上層記録層の強磁性粉末をＢＥＴ
法による比表面積で表せば２５〜８０ｍ²／ｇであり、
好ましくは３５〜６０ｍ²／ｇである。２５ｍ²／ｇ以
下ではノイズが高くなり、８０以上では表面性が得にく
く好ましくない。本発明の上層記録層の強磁性粉末の結
晶子サイズは４５０〜１００オングストロームであり、
好ましくは３５０〜１５０オングストロームである。酸
化鉄磁性粉末のσ_Sは５０ｅｍｕ／ｇ以上、好ましくは
７０ｅｍｕ／ｇ以上であり、強磁性金属微粉末の場合は
１００ｅｍｕ／ｇ以上が好ましい。

【００３９】強磁性粉末のｒ１５００は１．５以下であ
ることが好ましい。さらに好ましくはｒ１５００は１．
０以下である。ｒ１５００とは磁気記録媒体を飽和磁化
したのち反対の向きに１５００Ｏｅの磁場をかけたとき
反転せずに残っている磁化量の％を示すものである。強
磁性粉末の含水率は０．０１〜２％とするのが好まし
い。結合剤の種類によって強磁性粉末の含水率は最適化
するのが好ましい。γ酸化鉄のタップ密度は０．５ｇ／
ｃｃ以上が好ましく、０．８ｇ／ｃｃ以上がさらに好ま
しい。

【００４０】γ酸化鉄を用いる場合、２価の鉄の３価の
鉄に対する比は好ましくは０〜２０％であり、さらに好
ましくは５〜１０％である。また鉄原子に対するコバル
ト原子の量は０〜１５％、好ましくは２〜８％である。

【００４１】強磁性粉末のｐＨは用いる結合剤との組合
せにより最適化することが好ましい。その範囲は４〜１
２であるが、好ましくは６〜１０である。強磁性粉末は
必要に応じ、Ａｌ、Ｓｉ、Ｐまたはこれらの酸化物など
で表面処理を施してもかまわない。その量は強磁性粉末
に対し０．１〜１０％であり表面処理を施すと脂肪酸な
どの潤滑剤の吸着が１００ｍｇ／ｍ²以下になり好まし
い。強磁性粉末には可溶性のＮａ、Ｃａ、Ｆｅ、Ｎｉ、
Ｓｒなどの無機イオンを含む場合があるが、５００ｐｐ
ｍ以下であれば特に特性に影響を与えない。

【００４２】また、本発明に用いられる強磁性粉末は空
孔が少ないほうが好ましくその値は２０容量％以下、さ
らに好ましくは５容量％以下である。また形状について
は先に示した粒子サイズについての特性を満足すれば針
状、粒状、米粒状、板状いずれでもかまわない。強磁性
粉末のＳＦＤ０．６以下を達成するためには、強磁性粉
末のＨｃの分布を小さくする必要がある。そのために
は、ゲータイトの粒度分布をよくする、γ−ヘマタイト
の焼結を防止する、コバルト変性の酸化鉄についてはコ
バルトの被着速度を従来より遅くするなどの方法があ
る。

【００４３】本発明にはまた、板状六方晶フエライトと
してバリウムフエライト、ストロンチウムフエライト、
六方晶Ｃｏ粉末が使用できる。バリウムフエライトを用
いる場合、その粒子サイズは０．００１〜１μの直径で
厚みが直径の１／２〜１／２０である。比重は４〜６ｇ
／ｃｃで、比表面積は１〜６０ｍ²／ｇである。

【００４４】本発明に使用される結合剤としては従来公
知の熱可塑系樹脂、熱硬化系樹脂、反応型樹脂やこれら
の混合物が使用される。熱可塑系樹脂としては、ガラス
転移温度が−１００〜１５０℃、数平均分子量が１００
０〜２０００００、好ましくは１００００〜１００００
０、重合度が約５０〜１０００程度のものである。この
ような例としては、塩化ビニル、酢酸ビニル、ビニルア
ルコール、マレイン酸、アクリル酸、アクリル酸エステ
ル、塩化ビニリデン、アクリロニトリル、メタクリル
酸、メタクリル酸エステル、スチレン、ブタジエン、エ
チレン、ビニルブチラール、ビニルアセタール、ビニル
エーテル、等を構成単位として含む重合体または共重合
体、ポリウレタン樹脂、各種ゴム系樹脂がある。また、
熱硬化性樹脂または反応型樹脂としてはフエノール樹
脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン硬化型樹脂、尿素樹
脂、メラミン樹脂、アルキド樹脂、アクリル系反応樹
脂、ホルムアルデヒド樹脂、シリコーン樹脂、エポキシ
−ポリアミド樹脂、ポリエステル樹脂とイソシアネート
プレポリマーの混合物、ポリエステルポリオールとポリ
イソシアネートの混合物、ポリウレタンとポリイソシア
ネートの混合物等があげられる。

【００４５】これらの樹脂については朝倉書店発行の
「プラスチックハンドブック」に詳細に記載されてい
る。また、公知の電子線硬化型樹脂を第一層、または第
二層に使用することも可能である。これらの例とその製
造方法については特開昭６２−２５６２１９号に詳細に
記載されている。以上の樹脂は単独または組合せて使用
できるが、好ましいものとして塩化ビニル樹脂、塩化ビ
ニル酢酸ビニル樹脂、塩化ビニル酢酸ビニルビニルアル
コール樹脂、塩化ビニル酢酸ビニル無水マレイン酸共重
合体の群から選ばれる少なくとも１種とポリウレタン樹
脂の組合せ、またはこれらにポリイソシアネートを組合
せたものがあげられる。

【００４６】ポリウレタン樹脂の構造はポリエステルポ
リウレタン、ポリエーテルポリウレタン、ポリエーテル
ポリエステルポリウレタン、ポリカーボネートポリウレ
タン、ポリエステルポリカーボネートポリウレタン、ポ
リカプロラクトンポリウレタンなど公知のものが使用で
きる。ここに示したすべての結合剤について、より優れ
た分散性と耐久性を得るためには必要に応じ、ＣＯＯ
Ｍ、ＳＯ₃Ｍ、ＯＳＯ₃Ｍ、Ｐ＝Ｏ（ＯＭ）₂、Ｏ−Ｐ
＝Ｏ（ＯＭ）₂、（以上につきＭは水素原子、またはア
ルカリ金属塩基）、ＯＨ、ＮＲ₂、Ｎ⁺Ｒ₃、Ｒは炭化
水素基）、エポキシ基、ＳＨ、ＣＮ、などから選ばれる
少なくとも一つ以上の極性基を共重合または付加反応で
導入したものを用いることが好ましい。このような極性
基の量は１０^-1〜１０^-8モル／ｇであり、好ましくは１
０^-2〜１０^-6モル／ｇである。

【００４７】本発明に用いられるこれらの結合剤の具体
的な例としてはユニオンカーバイト社製：ＶＡＧＨ、Ｖ
ＹＨＨ、ＶＭＣＨ、ＶＡＧＦ、ＶＡＧＤ、ＶＲＯＨ、Ｖ
ＹＥＳ、ＶＹＮＣ、ＶＭＣＣ、ＸＹＨＬ、ＸＹＳＧ、Ｐ
ＫＨＨ、ＰＫＨＪ、ＰＫＨＣ、ＰＫＦＥ、日信化学工業
社製：ＭＰＲ−ＴＡ、ＭＰＲ−ＴＡ５、ＭＰＲ−ＴＡ
Ｌ、ＭＰＲ−ＴＳＮ、ＭＰＲ−ＴＭＦ、ＭＰＲ−ＴＳ、
ＭＰＲ−ＴＭ、電気化学社製：１０００Ｗ、ＤＸ８０、
ＤＸ８１、ＤＸ８２、ＤＸ８３、日本ゼオン社製：ＭＲ
１１０、ＭＲ１００、４００Ｘ１１０Ａ、日本ポリウレ
タン社製：ニッポランＮ２３０１、Ｎ２３０２、Ｎ２３
０４、大日本インキ社製：パンデックスＴ−５１０５、
Ｔ−Ｒ３０８０、Ｔ−５２０１、バーノックＤ−４０
０、Ｄ−２１０−８０、クリスボン６１０９、７２０
９、東洋紡社製：バイロンＵＲ８２００、ＵＲ８３０
０、ＲＶ５３０、ＲＶ２８０、大日精化社製：ダイフエ
ラミン４０２０、５０２０、５１００、５３００、９０
２０、９０２２、７０２０、三菱化成社製：ＭＸ５００
４、三洋化成社製：サンプレンＳＰ−１５０、旭化成社
製：サランＦ３１０、Ｆ２１０などがあげられる。

【００４８】本発明の上層磁性層に用いられる結合剤は
強磁性粉末に対し、５〜５０重量％の範囲、好ましくは
１０〜３０重量％の範囲で用いられる。塩化ビニル系樹
脂を用いる場合は、５〜３０重量％、ポリウレタン樹脂
合を用いる場合は２〜２０重量％、ポリイソシアネート
は２〜２０重量％の範囲でこれらを組合せて用いるのが
好ましい。

【００４９】本発明において、ポリウレタン樹脂を用い
る場合はガラス転移温度が−５０〜１００℃、破断伸び
が１００〜２０００％、破断応力は０．０５〜１０Ｋｇ
／ｃｍ²、降伏点は０．０５〜１０Ｋｇ／ｃｍ²が好ま
しい。本発明の磁気記録媒体は二層からなる。従って、
結合剤量、結合剤中に占める塩化ビニル系樹脂、ポリウ
レタン樹脂、ポリイソシアネート、あるいはそれ以外の
樹脂の量、磁性層を形成する各樹脂の分子量、極性基
量、あるいは先に述べた樹脂の物理特性などを必要に応
じ中間層と上層磁性層とで変えることはもちろん可能で
ある。

【００５０】本発明に用いるポリイソシアネートとして
は、トリレンジイソシアネート、４，４′−ジフエニル
メタンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネ
ート、キシリレンジイソシアネート、ナフチレン−１，
５−ジイソシアネート、ｏ−トルイジイソシアネート、
イソホロンジイソシアネート、トリフエニルメタントリ
イソシアネート等のイソシアネート類、また、これらの
イソシアネート類とポリアルコールとの生成物、また、
イソシアネート類の縮合によって生成したポリイソシア
ネート等を使用することができる。これらのイソシアネ
ート類の市販されている商品名としては、日本ポリウレ
タン社製：コロネートＬ、コロネートＨＬ、コロネート
２０３０、コロネート２０３１、ミリオネートＭＲ、ミ
リオネートＭＴＬ、武田薬品社製：タケネートＤ−１０
２、タケネートＤ−１１０Ｎ、タケネートＤ−２００、
タケネートＤ−２０２、住友バイエル社製：デスモジュ
ールＬ、デスモジュールＩＬ、デスモジュールＮ、デス
モジュールＨＬ等があり、これらを単独または硬化反応
性の差を利用して二つもしくはそれ以上の組合せで下層
非記録層、上層記録層ともに用いることができる。

【００５１】本発明の上層記録層、即ち磁性層に使用さ
れるカーボンブラックはゴム用フアーネス、ゴム用サー
マル、カラー用ブラック、アセチレンブラック、等を用
いることができる。比表面積は５〜５００ｍ²／ｇ、Ｄ
ＢＰ吸油量は１０〜４００ｍｌ／１００ｇ、粒子径は５
ｍμ〜３００ｍμ、ｐＨは２〜１０、含水率は０．１〜
１０％、タップ密度は０．１〜１ｇ／ｃｃが好ましい。
本発明に用いられるカーボンブラックの具体的な例とし
てはキャボット社製：ＢＬＡＣＫＰＥＡＲＬＳ２００
０、１３００、１０００、９００、８００、７００、Ｖ
ＵＬＣＡＮＸＣ−７２、旭カーボン社製：♯８０、♯
６０、♯５５、♯５０、♯３５、三菱化成工業社製：♯
２４００Ｂ、♯２３００、♯９００、♯１０００、♯３
０、♯４０、♯１０Ｂ、コロンビアンカーボン社製：Ｃ
ＯＮＤＵＣＴＥＸＳＣ、ＲＡＶＥＮ１５０、５０，
４０，１５などがあげられる。カーボンブラックを分散
剤などで表面処理したり、樹脂でグラフト化して使用し
ても、表面の一部をグラフアイト化したものを使用して
もかまわない。また、カーボンブラックを磁性塗料に添
加する前にあらかじめ結合剤で分散してもかまわない。
これらのカーボンブラックは単独、または組合せで使用
することができる。カーボンブラックを使用する場合は
強磁性粉末に対する量の０．１〜３０％で用いることが
好ましい。カーボンブラックは磁性層の帯電防止、摩擦
係数低減、遮光性付与、膜強度向上などの働きがあり、
これらは用いるカーボンブラックにより異なる。従って
本発明に使用されるこれらのカーボンブラックは第一
層、即ち、下層非記録層、第二層、即ち上層記録層でそ
の種類、量、組合せを変え、粒子サイズ、吸油量、電導
度、ｐＨなどの先に示した諸特性をもとに目的に応じて
使い分けることはもちろん可能である。例えば、下層非
記録層に導電性の高いカーボンブラックを用いることに
より帯電を防止し、上層記録層に粒子径の大きいカーボ
ンブラックを用い摩擦係数を下げるなどがあげられる。
本発明の上層記録層で使用できるカーボンブラックは例
えば「カーボンブラック便覧」（カーボンブラック協会
編）を参考にすることができる。

【００５２】本発明の上層記録層に用いられる研磨剤と
してはα化率９０％以上のα−アルミナ、β−アルミ
ナ、炭化ケイ素、酸化クロム、酸化セリウム、α−酸化
鉄、コランダム、人造ダイアモンド、窒化珪素、炭化珪
素、チタンカーバイト、酸化チタン、二酸化珪素、窒化
ホウ素、など主としてモース硬度６以上の公知の材料が
単独または組合せで使用される。また、これらの研磨剤
どうしの複合体（研磨剤を他の研磨剤で表面処理したも
の）を使用してもよい。これらの研磨剤には主成分以外
の化合物または元素が含まれる場合もあるが主成分が９
０％以上であれば効果にかわりはない。これら研磨剤の
粒子サイズは０．０１〜２μｍが好ましいが、必要に応
じて粒子サイズの異なる研磨剤を組合せたり、単独の研
磨剤でも粒径分布を広くして同様の効果をもたせること
もできる。タップ密度は０．３〜２ｇ／ｃｃ、含水率は
０．１〜５％、ｐＨは２〜１１、比表面積は１〜３０ｍ
²／ｇ、が好ましい。本発明に用いられる研磨剤の形状
は針状、球状、サイコロ状、のいずれでも良いが、形状
の一部に角を有するものが研磨性が高く好ましい。

【００５３】本発明に用いられる研磨剤の具体的な例と
しては、住友化学社製：ＡＫＰ−２０，ＡＫＰ−３０，
ＡＫＰ−５０，ＨＩＴ−５０、日本化学工業社製：Ｇ
５，Ｇ７，Ｓ−１、戸田工業社製：１００ＥＤ，１４０
ＥＤ、などがあげられる。本発明に用いられる研磨剤は
第一層、第二層で種類、量および組合せを変え、目的に
応じて使い分けることはもちろん可能である。これらの
研磨剤はあらかじめ結合剤で分散処理したのち磁性塗料
中に添加してもかまわない。本発明の磁気記録媒体の上
層記録層表面および上層記録層端面に存在する研磨剤は
５個／１００μｍ²以上が好ましい。

【００５４】本発明に使用される、添加剤としては潤滑
効果、帯電防止効果、分散効果、可塑効果、などをもつ
ものが使用される。二硫化モリブデン、二硫化タングス
テン、グラフアイト、窒化ホウ素、フッ化黒鉛、シリコ
ーンオイル、極性基をもつシリコーン、脂肪酸変性シリ
コーン、フッ素含有シリコーン、フッ素含有アルコー
ル、フッ素含有エステル、ポリオレフイン、ポリグリコ
ール、アルキル燐酸エステルおよびそのアルカリ金属
塩、アルキル硫酸エステルおよびそのアルカリ金属塩、
ポリフエニルエーテル、フッ素含有アルキル硫酸エステ
ルおよびそのアルカリ金属塩、炭素数１０〜２４の一塩
基性脂肪酸（不飽和結合を含んでも、また分岐していて
もかまわない）、および、これらの金属塩（Ｌｉ，Ｎ
ａ，Ｋ，Ｃｕなど）または、炭素数１２〜２２の一価、
二価、三価、四価、五価、六価アルコール（不飽和結合
を含んでも、また分岐していてもかまわない）、炭素数
１２〜２２のアルコキシアルコール、炭素数１０〜２４
の一塩基性脂肪酸（不飽和結合を含んでも、また分岐し
ていてもかまわない）と炭素数２〜１２の一価、二価、
三価、四価、五価、六価アルコールのいずれか一つ（不
飽和結合を含んでも、また分岐していてもかまわない）
とからなるモノ脂肪酸エステルまたはジ脂肪酸エステル
またはトリ脂肪酸エステル、アルキレンオキシド重合物
のモノアルキルエーテルの脂肪酸エステル、炭素数８〜
２２の脂肪酸アミド、炭素数８〜２２の脂肪族アミン、
などが使用できる。これらの具体例としてはラウリン
酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、ベヘ
ン酸、ステアリン酸ブチル、オレイン酸、リノール
酸、リノレン酸、エライジン酸、ステアリン酸オクチ
ル、ステアリン酸アミル、ステアリン酸イソオクチル、
ミリスチン酸オクチル、ステアリン酸ブトキシエチル、
アンヒドロソルビタンモノステアレート、アンヒドロソ
ルビタンジステアレート、アンヒドロソルビタントリス
テアレート、オレイルアルコール、ラウリルアルコー
ル、があげられる。

【００５５】また、アルキレンオキサイド系、グリセリ
ン系、グリシドール系、アルキルフエノールエチレンオ
キサイド付加体、等のノニオン界面活性剤、環状アミ
ン、エステルアミド、第四級アンモニウム塩類、ヒダン
トイン誘導体、複素環類、ホスホニウムまたはスルホニ
ウム類、等のカチオン系界面活性剤、カルボン酸、スル
フォン酸、燐酸、硫酸エステル基、燐酸エステル基、な
どの酸性基を含むアニオン界面活性剤、アミノ酸類、ア
ミノスルホン酸類、アミノアルコールの硫酸または燐酸
エステル類、アルキルベダイン型、等の両性界面活性剤
等も使用できる。これらの界面活性剤については、「界
面活性剤便覧」（産業図書株式会社発行）に詳細に記載
されている。これらの潤滑剤、帯電防止剤等は必ずしも
１００％純粋ではなく、主成分以外に異性体、未反応
物、副反応物、分解物、酸化物、等の不純分が含まれて
もかまわない。これらの不純分は３０％以下が好まし
く、さらに好ましくは１０％以下である。

【００５６】本発明で使用されるこれらの潤滑剤、界面
活性剤は下層非記録層、上層記録層でその種類、量を必
要に応じ使い分けることができる。例えば、下層非記録
層、上層記録層で融点の異なる脂肪酸を用い表面へのに
じみ出しを制御する、沸点や極性の異なるエステル類を
用い表面へのにじみ出しを制御する、界面活性剤量を調
節することで塗布の安定性を向上させる、潤滑剤の添加
量を下層非記録層で多くして潤滑効果を向上させるなど
が考えられ、無論ここに示した例のみに限られるもので
はない。

【００５７】また本発明で用いられる添加剤のすべてま
たはその一部は、磁性塗料製造のどの工程で添加しても
かまわない、例えば、混練工程前に強磁性粉末と混合す
る場合、強磁性粉末と結合剤と溶剤による混練工程で添
加する場合、分散工程で添加する場合、分散後に添加す
る場合、塗布直前に添加する場合などがある。本発明で
使用されるこれら潤滑剤の商品例としては、日本油脂社
製：ＮＡＡ−１０２，ＮＡＡ−４１５，ＮＡＡ−３１
２，ＮＡＡ−１６０，ＮＡＡ−１８０，ＮＡＡ−１７
４，ＮＡＡ−１７５，ＮＡＡ−２２２，ＮＡＡ−３４，
ＮＡＡ−３５，ＮＡＡ−１７１，ＮＡＡ−１２２，ＮＡ
Ａ−１４２，ＮＡＡ−１６０，ＮＡＡ−１７３Ｋ，ヒマ
シ硬化脂肪酸，ＮＡＡ−４２，ＮＡＡ−４４，カチオン
ＳＡ，カチオンＭＡ，カチオンＡＢ，カチオンＢＢ，ナ
イミーンＬ−２０１，ナイミーンＬ−２０２，ナイミー
ンＳ−２０２，ノニオンＥ−２０８，ノニオンＰ−２０
８，ノニオンＳ−２０７，ノニオンＫ−２０４，ノニオ
ンＮＳ−２０２，ノニオンＮＳ−２１０，ノニオンＨＳ
−２０６，ノニオンＬ−２，ノニオンＳ−２，ノニオン
Ｓ−４，ノニオンＯ−２，ノニオンＬＰ−２０Ｒ，ノニ
オンＰＰ−４０Ｒ，ノニオンＳＰ−６０Ｒ，ノニオンＯ
Ｐ−８０Ｒ，ノニオンＯＰ−８５Ｒ，ノニオンＬＴ−２
２１，ノニオンＳＴ−２２１，ノニオンＯＴ−２２１，
モノグリＭＢ，ノニオンＤＳ−６０，アノンＢＦ，アノ
ンＬＧ，ブチルステアレート，ブチルラウレート，エル
カ酸、関東化学社製：オレイン酸、竹本油脂社製：ＦＡ
Ｌ−２０５，ＦＡＬ−１２３、新日本理化社製：エヌジ
ェルブＬＯ，エヌジェルブＩＰＭ，サンソサイザーＥ４
０３０、信越化学社製：ＴＡ−３，ＫＦ−９６，ＫＦ−
９６Ｌ，ＫＦ−９６Ｈ，ＫＦ４１０，ＫＦ４２０，ＫＦ
９６５，ＫＦ５４，ＫＦ５０，ＫＦ５６，ＫＦ−９０
７，ＫＦ−８５１，Ｘ−２２−８１９，Ｘ−２２−８２
２，ＫＦ−９０５，ＫＦ−７００，ＫＦ−３９３，ＫＦ
−８５７，ＫＦ−８６０，ＫＦ−８６５，Ｘ−２２−９
８０，ＫＦ−１０１，ＫＦ−１０２，ＫＦ−１０３，Ｘ
−２２−３７１０，Ｘ−２２−３７１５，ＫＦ−９１
０，ＫＦ−３９３５、ライオンアーマー社製：アーマイ
ドＰ，アーマイドＣ，アーモスリップＣＰ、ライオン油
脂社製：デュオミンＴＤＯ、日清製油社製：ＢＡ−４１
Ｇ、三洋化成社製：プロフアン２０１２Ｅ，ニューポー
ルＰＥ６１，イオネットＭＳ−４００，イオネットＭＯ
−２００，イオネットＤＬ−２００，イオネットＤＳ−
３００，イオネットＤＳ−１０００，イオネットＤＯ−
２００などがあげられる。

【００５８】本発明で用いられる有機溶媒は任意の比率
でアセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケ
トン、ジイソブチルケトン、シクロヘキサノン、イソホ
ロン、テトラヒドロフラン、等のケトン類、メタノー
ル、エタノール、プロパノール、ブタノール、イソブチ
ルアルコール、イソプロピルアルコール、メチルシクロ
ヘキサノール、などのアルコール類、酢酸メチル、酢酸
ブチル、酢酸イソブチル、酢酸イソプロピル、乳酸エチ
ル、酢酸グリコール等のエステル類、グリコールジメチ
ルエーテル、グリコールモノエチルエーテル、ジオキサ
ン、などのグリコールエーテル系、ベンゼン、トルエ
ン、キシレン、クレゾール、クロルベンゼン、などの芳
香族炭化水素類、メチレンクロライド、エチレンクロラ
イド、四塩化炭素、クロロホルム、エチレンクロルヒド
リン、ジクロルベンゼン、等の塩素化炭化水素類、Ｎ，
Ｎ−ジメチルホルムアミド、ヘキサン等のものが使用で
きる。これら有機溶媒は必ずしも１００％純粋ではな
く、主成分以外に異性体、未反応物、副反応物、分解
物、酸化物、水分等の不純分がふくまれてもかまわな
い。これらの不純分は３０％以下が好ましく、さらに好
ましくは１０％以下である。本発明で用いる有機溶媒は
必要ならば上層記録層と下層非記録層でその種類、量を
変えてもかまわない。下層非記録層に揮発性の高い溶媒
を用い表面性を向上させる、上層記録層に表面張力の高
い溶媒（シクロヘキサノン、ジオキサンなど）を用い塗
布の安定性をあげる、上層記録層の溶解性パラメータの
高い溶媒を用い充填度を上げるなどがその例としてあげ
られるがこれらの例に限られたものではないことは無論
である。

【００５９】本発明の磁気記録媒体の厚み構成は支持体
が１〜１００μｍ、好ましくは４〜８０μｍ、下層非記
録層が０．５μｍ〜１０μｍ、好ましくは１〜５μｍ、
上層記録層は好ましくは０．０５μｍ以上１．０μｍ以
下、さらに好ましくは０．０５μｍ以上０．６μｍ以
下、特に好ましくは０．０５μｍ以上、０．３μｍ以下
である。上層記録層と下層非記録層を合わせた厚みは支
持体の厚みの１／１００〜２倍の範囲で用いられる。ま
た、支持体と下層非記録層の間に密着性向上のための下
塗り層を設けてもかまわない。これらの厚みは０．０１
〜２μｍ、好ましくは０．０５〜０．５μｍである。ま
た、支持体の磁性層側と反対側にバックコート層を設け
てもかまわない。この厚みは０．１〜２μｍ、好ましく
は０．３〜１．０μｍである。これらの下塗り層、バッ
クコート層は公知のものが使用できる。

【００６０】本発明に用いられる支持体は非磁性である
ことが好ましく、ポリエチレンテレフタレート、ポリエ
チレンナフタレート、等のポリエステル類、ポリオレフ
イン類、セルローストリアセテート、ポリカーボネー
ト、ポリアミド、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリ
スルフオン、アラミド、芳香族ポリアミドなどの公知の
フイルムが使用できる。これらの支持体にはあらかじめ
コロナ放電処理、プラズマ処理、易接着処理、熱処理、
除塵処理、などをおこなっても良い。本発明の目的を達
成するには、支持体として中心線平均表面粗さが０．０
３μｍ以下、好ましくは０．０２μｍ以下、さらに好ま
しくは０．０１μｍ以下のものを使用する必要がある。
また、これらの支持体は単に中心線平均表面粗さが小さ
いだけではなく、１μｍ以上の粗大突起がないことが好
ましい。また表面の粗さ形状は必要に応じて支持体に添
加されるフイラーの大きさと量により自由にコントロー
ルされるものである。これらのフイラーとしては一例と
してはＣａ，Ｓｉ，Ｔｉなどの酸化物や炭酸塩の他、ア
クリル系などの有機微粉末があげられる。本発明に用い
られる非磁性支持体のテープ走行方向のＦ−５値は好ま
しくは５〜５０Ｋｇ／ｍｍ²、テープ幅方向のＦ−５値
は好ましくは３〜３０Ｋｇ／ｍｍ²であり、テープ長手
方向のＦ−５値がテープ幅方向のＦ−５値より高いのが
一般的であるが、特に幅方向の強度を高くする必要があ
るときはその限りでない。

【００６１】また、支持体のテープ走行方向および幅方
向の１００℃３０分での熱収縮率は好ましくは３％以
下、さらに好ましくは１．５％以下、８０℃３０分での
熱収縮率は好ましくは１％以下、さらに好ましくは０．
５％以下である。破断強度は両方向とも５〜１００Ｋｇ
／ｍｍ²、弾性率は１００〜２０００Ｋｇ／ｍｍ²が好
ましい。

【００６２】本発明の磁気記録媒体の磁性塗料を製造す
る工程は、少なくとも混練工程、分散工程、およびこれ
らの工程の前後に必要に応じて設けた混合工程からな
る。個々の工程はそれぞれ２段階以上にわかれていても
かまわない。本発明に使用する強磁性粉末、結合剤、カ
ーボンブラック、研磨剤、帯電防止剤、潤滑剤、溶剤な
どすべての原料はどの工程の最初または途中で添加して
もかまわない。また、個々の原料を２つ以上の工程で分
割して添加してもかまわない。例えば、ポリウレタンを
混練工程、分散工程、分散後の粘度調整のための混合工
程で分割して投入してもよい。

【００６３】本発明の目的を達成するためには、従来の
公知の製造技術を一部の工程として用いることができる
ことはもちろんであるが、混練工程では連続ニーダや加
圧ニーダなど強い混練力をもつものを使用することによ
り本発明の磁気記録媒体の高いＢｒを得ることができ
る。連続ニーダまたは加圧ニーダを用いる場合は強磁性
粉末と結合剤のすべてまたはその一部（ただし全結合剤
の３０％以上が好ましい）および強磁性粉末１００部に
対し１５〜５００部の範囲で混練処理される。これらの
混練処理の詳細については特開平１−１０６３３８号、
特開昭６４−７９２７４号に記載されている。

【００６４】本発明では、以下の塗布方式を用いること
により、より効率的に生産することができる。本発明の
ような重層構成の磁気記録媒体を塗布する装置、方法の
例として以下のような構成を提案できる。１．磁性塗料
の塗布で一般的に用いられるグラビア塗布、ロール塗
布、ブレード塗布、エクストルージョン塗布装置等によ
り、まず下層非記録層を塗布し、下層非記録層が乾燥し
た後、特公平１−４６１８６号や特開昭６０−２３８１
７９号、特開平２−２６５６７２号に開示されている支
持体加圧型エクストルージョン塗布装置により上層記録
層を塗布する。

【００６５】本発明の媒体を得るためには強力な配向を
行う必要がある。１０００Ｇ以上のソレノイドと２００
０Ｇ以上のコバルト磁石を併用することが好ましく、さ
らには乾燥後の配向性が最も高くなるように配向前に予
め適度の乾燥工程を設けることが好ましい。

【００６６】さらに、カレンダ処理ロールとしてエポキ
シ、ポリイミド、ポリアミド、ポリイミドアミド等の耐
熱性のあるプラスチックロールを使用する。また、金属
ロール同志で処理することもできる。処理温度は、好ま
しくは７０℃以上、さらに好ましくは８０℃以上であ
る。線圧力は好ましくは２００ｋｇ／ｃｍ、さらに好ま
しくは３００ｋｇ／ｃｍ以上であり、その速度は２０ｍ
／分以上７００ｍ／分以下の範囲である。

【００６７】本発明の磁気記録媒体の上層記録層面およ
びその反対面のＳＵＳ４２０Ｊに対する摩擦係数は好ま
しくは０．５以下、さらに０．３以下、表面固有抵抗は
好ましくは１０^-5〜１０^-12オーム／ｓｑ、上層記録層
の０．５％伸びでの弾性率は走行方向、幅方向とも好ま
しくは１００〜２０００Ｋｇ／ｍｍ²、破断強度は好ま
しくは１〜３０Ｋｇ／ｃｍ²、磁気記録媒体の弾性率は
走行方向、長手方向とも好ましくは１００〜１５００Ｋ
ｇ／ｍｍ²、残留のびは好ましくは０．５％以下、１０
０℃以下のあらゆる温度での熱収縮率は好ましくは１％
以下、さらに好ましくは０．５％以下、もっとも好まし
くは０．１％以下である。

【００６８】上層記録層中に含まれる残留溶媒は好まし
くは１００ｍｇ／ｍ²以下、さらに好ましくは１０ｍｇ
／ｍ²以下であり、上層記録層に含まれる残留溶媒が下
層非記録層に含まれる残留溶媒より少ないほうが好まし
い。

【００６９】本発明の磁気記録媒体の磁気特性は磁場５
ＫＯｅで測定した場合、テープ走行方向の角形比は０．
７０以上であり、好ましくは０．８０以上さらに好まし
くは０．９０以上である。テープ走行方向に直角な二つ
の方向の角型比は走行方向の角型比の８０％以下となる
ことが好ましい。磁性層のＳＦＤは０．６以下であるこ
とが好ましい。

【００７０】本発明の磁気記録媒体は上層記録層と下層
非記録層を有するが、目的に応じ下層非記録層と上層記
録層でこれらの物理特性を変えることができるのは容易
に推定されることである。例えば、上層記録層の弾性率
を高くし、走行耐久性を向上させると同時に下層非記録
層の弾性率を上層記録層より低くして磁気記録媒体のヘ
ッドへの当たりを良くするなどである。

【００７１】

【実施例】以下、本発明の具体的実施例を説明するが、
本発明はこれにより限定されるものではない。尚、
「部」は重量部を示す。

【００７２】以下、本発明の具体的実施例を説明する。実施例１下層非記録層無機粉末ＴｉＯ₂（石原産業製ＴＴＯ−５５Ａ）１００部平均一次粒子径０．０５μ ＢＥＴによる比表面積１８ｍ²／ｇｐＨ７カーボンブラック２０部平均一次粒子径１８ｍμ ＤＢＰ吸油量８０ｍｌ／１００ｇｐＨ８．０ＢＥＴ法による比表面積２５０ｍ²／ｇ揮発分１．５％塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアルコール共重合体１２部 −Ｎ (CH₃) ₃ ⁺Cl^-の極性基を５×１０^-6eq/g含む組成比８６：１３：１重合度４００ポリエステルポリウレタン樹脂５部ネオペンチルグリコール／カプロラクトンポリオール／ＭＤＩ＝０．９／２．６／１ −SO₃Na基１×１０^-4eq/g含有ブチルステアレート１部ステアリン酸１部メチルエチルケトン２００部上層記録層強磁性金属微粉末組成Ｆｅ／Ｚｎ／Ｎｉ＝９２／４／４１００部Ｈｃ１６００Ｏｅ、ＢＥＴ法による比表面積６０ｍ²／ｇ結晶子サイズ１９５Å 粒子サイズ（長軸径）０．２０μ、針状比１０ σ_S：１３０ｅｍｕ／ｇ塩化ビニル系共重合体１２部 −ＳＯ₃Ｎａ含有量：１×１０^-4eq/g 重合度３００ポリエステルポリウレタン樹脂３部ネオペンチルグリコール／カプロラクトンポリオール／ＭＤＩ＝０．９／２．６／１ −ＳＯ₃Ｎａ基１×１０^-4eq/g含有 α−アルミナ（粒子サイズ０．３μｍ）２部カーボンブラック（粒子サイズ０．１０μｍ）０．５部ブチルステアレート１部ステアリン酸２部メチルエチルケトン２００部上記２つの塗料のそれぞれについて、各成分を連続ニー
ダで混練したのち、サンドミルをもちいて分散させた。
得られた分散液にポリイソシアネートを下層非記録層塗
布液には１部、上層記録層塗布液には３部を加え、さら
にそれぞれに酢酸ブチル４０部を加え、１μｍの平均孔
径を有するフイルターを用いて濾過し、下層非記録層形
成用および上層記録層用の塗布液をそれぞれ調製した。
なお、表１に下層非記録層用塗布液のＡ１０⁴／Ａ１０
比を示した。

【００７３】得られた下層非記録層用塗布液を、厚さ７
μｍで中心線表面粗さが０．０１μのポリエチレンテレ
フタレート支持体上に乾燥後の厚さが、２．０μｍにな
るように塗布を行い、乾燥後巻取り、カレンダー処理を
行った。その後、８０℃２４時間かけて硬化処理を行っ
た後、上層磁性層記録層の厚さが０．３μｍになるよう
に塗布し、３０００Ｇの磁力をもつコバルト磁石と１５
００Ｇの磁力をもつソレノイドにより配向させ乾燥後、
金属ロールのみから構成される７段のカレンダで温度９
０℃にて処理を行い、８ｍｍの幅にスリットし、８ｍｍ
ビデオテープ（試料＃：実施例１）を製造した。

【００７４】比較例１−１〜１−３実施例１において、無機粉末の種類、その平均一次粒子
径、カーボンブラックを使用した場合、上層記録層およ
び下層非記録層の各厚さ等を表１に記した条件で行い、
得られた上記下層非記録層Ａ用塗布液を、乾燥後の厚さ
が３μｍになるように、さらにその直後に、その上に上
記上層記録層Ａ用塗布液を、乾燥後の厚さが０．２μｍ
になるように、厚さ７μｍで中心線表面粗さが０．０１
μのポリエチレンテレフタレート支持体上に同時重層塗
布を行い、両層が湿潤状態にあるうちに３０００Ｇの磁
力をもつコバルト磁石と１５００Ｇの磁力をもつソレノ
イドにより配向させ乾燥後、金属ロールのみから構成さ
れる７段のカレンダで温度９０℃にて処理を行い、８ｍ
ｍの幅にスリットし、８ｍｍビデオテープ（試料＃：比
較例１−１〜１−３）を製造した。

【００７５】評価方法電磁変換特性７ＭＨｚ出力富士写真フイルム（株）製ＦＵＪＩＸ８、８ｍｍビデオ
デッキを用いて７ＭＨｚ信号を記録し、この信号を再生
したときの７ＭＨｚ信号再生出力をオシロスコープで測
定した。

【００７６】

【表１】

【００７７】表１の結果より明らかな如く、実施例１の
試料は７ＭＨｚの出力が良好であった。一方、上層記録
層の厚みが１μｍより厚い比較例１−１、Ａ１０⁴／Ａ
１０の値が大きい比較例１−２、また下層にカーボンブ
ラックのみを含む比較例１−３はいずれも７ＭＨｚの出
力が低かった。

【００７８】

【発明の効果】本発明は、下層非記録層に０．０８μｍ
以下の無機粉を用いた塗布液および上層記録層用塗布液
の各チキソトロピー性を特に下層非記録層用塗布液のチ
キソトロピー性を調整すること、非磁性または磁性粉末
の物性、組成等を規定することにより調整して乾燥後塗
布により磁性層を薄膜化し得る耐久性、電磁変換特性の
優れた磁気記録媒体を容易に提供できる。

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】粉末を結合剤中に分散させた下層非記録
層用塗布液と、強磁性粉末を結合剤中に分散させた上層
記録層用塗布液をそれぞれ調製し、支持体上に前記下層
非記録層用塗布液を塗布し、続いて前記上層記録層用塗
布液を塗布する磁気記録媒体の製造方法において、前記
上層記録層用塗布液は結晶子サイズは４５０〜１００オ
ングストロ−ムの強磁性粉末を含み、前記下層非記録層
用塗布液は粉末として平均一次粒子径が０．０８μｍ以
下である非磁性無機粉末を含み、かつ前記支持体上に前
記下層非記録層用塗布液を塗布した後、得られた下層非
記録層が乾燥した後、前記上層記録層の乾燥厚みが１．
０μｍ以下になるように上層記録層用塗布液を塗布する
ことを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
【請求項２】前記上層記録層のＨｃが１２００〜３０
００Ｏｅであることを特徴とする請求項１に記載の磁気
記録媒体の製造方法。
【請求項３】前記下層非記録層用塗布液がチキソトロ
ピ−性を有することを特徴とする請求項１に記載の磁気
記録媒体の製造方法。
【請求項４】前記上層記録層用塗布液の強磁性粉末は
ＦｅまたはＮｉまたはＣｏを主成分とする強磁性合金粉
末で、これら原子以外にＡｌ，Ｓｉ，Ｓ，Ｓｃ，Ｔｉ，
Ｖ，Ｃｒ，Ｃｕ，Ｙ，Ｍｏ，Ｒｈ，Ｐｄ，Ａｇ，Ｓｎ，
Ｓｂ，Ｔｅ，Ｂａ，Ｔａ，Ｗ，Ｒｅ，Ａｕ，Ｐｂ，Ｂ
ｉ，Ｌａ，Ｃｅ，Ｐｒ，Ｎｄ，Ｐ，Ｃｏ，Ｍｎ，Ｚｎ，
Ｎｉ，Ｓｒ，Ｂから選ばれた少なくとも１種の原子を含
むことを特徴とする請求項１に記載の磁気記録媒体の製
造方法。
【請求項５】前記下層非記録層用塗布液は粉末として
モ−ス硬度４以上の無機粉体を含むことを特徴とする請
求項１に記載の磁気記録媒体の製造方法。
【請求項６】前記下層非記録層用塗布液の粉末として
α化率９０％以上のα−アルミナ、β−アルミナ、γ−
アルミナ、炭化ケイ素、酸化クロム、酸化セリウム、α
−酸化鉄、コランダム、窒化珪素、チタンカ−バイト、
酸化チタン、二酸化珪素、酸化タングステン、酸化ジル
コニウム、窒化ホウ素、酸化亜鉛、炭酸カルシウム、硫
酸カルシウム、硫酸バリウム、２硫化モリブデンから選
ばれた少なくとも１種の無機粉末を含むことを特徴とす
る請求項１に記載の磁気記録媒体の製造方法。
【請求項７】前記下層非記録層の粉末が磁気記録が不
可能な磁性粉末を含むことを特徴とする請求項１に記載
の磁気記録媒体の製造方法。
【請求項８】前記下層非記録層用塗布液の粉末として
磁性粉末を含み、かつ前記下層非記録層のＢｍが５００
ガウス以下であることを特徴とする請求項１に記載の磁
気記録媒体の製造方法。
【請求項９】前記支持体の弾性率は１００〜２０００
Ｋｇ／ｍｍ²であることを特徴とする請求項１に記載の
磁気記録媒体の製造方法。
【請求項１０】前記支持体はポリエチレンテレフタレ
−ト、ポリエチレンナフタレ−トのポリエステル類、ポ
リオレフィン類、セルロ−ストリアセテ−ト、ポリカ−
ボネ−ト、ポリアミド、ポリイミド、ポリアミドイミ
ド、ポリスルフォン、アラミド、芳香族ポリアミドから
選ばれた少なくとも１種であることを特徴とする請求項
１に記載の磁気記録媒体の製造方法。