JPH08297810A - Substrate for magnetic head core and its production - Google Patents
Substrate for magnetic head core and its productionInfo
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、VTRなどの磁気ヘッ
ドの製造に用いられる積層型の磁気ヘッドコア用基板及
びその製造方法に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a laminated type magnetic head core substrate used for manufacturing a magnetic head such as a VTR and a method for manufacturing the same.
【0002】[0002]
【従来の技術】近年、VTRなどの磁気記録の高密度化
・広帯域化の要求に伴い、高飽和密度・高透磁率を有す
る磁気ヘッドの開発が進められている。このような要求
を満たす磁気ヘッドコア用基板として、例えばセンダス
トのような合金系材料やアモルファス合金材料を用いた
積層型の磁気ヘッドコア用基板製造工程の概略を以下に
示す。2. Description of the Related Art In recent years, development of magnetic heads having high saturation density and high magnetic permeability has been advanced in response to demands for higher density and wider band of magnetic recording such as VTR. As a magnetic head core substrate satisfying such requirements, an outline of a manufacturing process of a laminated type magnetic head core substrate using an alloy material such as Sendust or an amorphous alloy material is shown below.
【0003】すなわち、図18は、積層される単位基板
Aを示すものであって、この単位基板Aは、例えばセラ
ミックスなどからなる厚さ1mm程度の非磁性基板B上
に、例えばセンダストなどからなる厚さ10〜20μm
の金属製の磁性膜Cをスパッタリングなどにより成膜
し、さらに、この磁性膜C上に、例えば1μmの接合ガ
ラス膜Dをスパッタリングなどによって成膜して作成さ
れる。このようにして作成された単位基板Aを、図19
に示すように、所定数積層し加熱して接合ガラス膜Dを
溶融し、さらに、上方から加圧することにより、単位基
板Aが複数枚、例えば5枚積層接着され、磁気ヘッドコ
ア用基板Eが作成される。That is, FIG. 18 shows a unit substrate A to be laminated. The unit substrate A is made of sendust or the like on a non-magnetic substrate B made of, for example, ceramics and having a thickness of about 1 mm. Thickness 10-20 μm
The metal magnetic film C is formed by sputtering or the like, and the bonding glass film D of 1 μm, for example, is formed on the magnetic film C by sputtering or the like. The unit board A produced in this way is shown in FIG.
As shown in FIG. 3, a predetermined number of layers are laminated, heated to melt the bonded glass film D, and further pressed from above to laminate and bond a plurality of unit substrates A, for example, 5 units, to prepare a magnetic head core substrate E. To be done.
【0004】しかして、単位基板Aを積層接着して磁気
ヘッドコア用基板Eに作成した後、切断,溝加工,形状
加工,スライス加工等の工程を経て、図20に示すよう
なヘッドコアF,Fが作成され、このヘッドコアF,F
に巻線加工して磁気ヘッドGが作成される。However, after the unit substrates A are laminated and adhered to form the magnetic head core substrate E, the head cores F and F as shown in FIG. 20 are subjected to steps such as cutting, grooving, shaping and slicing. Is created, and this head core F, F
The magnetic head G is created by winding the wire.
【0005】しかして、図21の箱状の積層治具Gは、
複数枚の単位基板A…を積層状態で収納するものであ
る。そして、これら複数枚の単位基板A…は、一対のブ
ロックH,Hにより挾持されている。さらに、これら単
位基板A…は、積層方向に押圧機構Jにより押圧力fで
押圧されるようになっている。The box-shaped stacking jig G shown in FIG.
A plurality of unit substrates A ... Are stored in a laminated state. The plurality of unit substrates A ... Are held by a pair of blocks H, H. Further, these unit substrates A ... Are pressed by the pressing mechanism J in the stacking direction with a pressing force f.
【0006】[0006]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、実際の
単位基板Aは、磁性膜Cの膜応力に基因して、図22に
示すように、反りを生じている。したがって、積層方向
に押圧機構Jにより、反りの生じている複数の単位基板
A…を加圧し、無理に反りを矯正した状態で、接合ガラ
ス膜Dを介して接着した場合、単位基板A…の積層枚数
に比例して残留応力が磁気ヘッドコア用基板Eに滞留
し、その残留応力が接合ガラス膜Dの接着強度よりも大
きい場合、磁気ヘッドコア用基板Eに剥離現象が生じて
しまう不具合をもっている。However, the actual unit substrate A is warped due to the film stress of the magnetic film C as shown in FIG. Therefore, when a plurality of warped unit substrates A ... Are pressed by the pressing mechanism J in the stacking direction and the warps are forcibly corrected and bonded via the bonding glass film D, the unit substrates A ... If the residual stress stays in the magnetic head core substrate E in proportion to the number of stacked layers and the residual stress is larger than the adhesive strength of the bonding glass film D, the magnetic head core substrate E has a problem of peeling.
【0007】また、実際の単位基板Aへ磁性膜Cを均一
に成膜することは困難で、通常は、図23に示すよう
に、単位基板Aは楔形を呈する。このような楔形の単位
基板Aをそのまま積層すると、例えば図24に示すよう
に、積層方向が偏向してしまうため、押圧機構Jにより
加圧した場合、加圧が不均一になってしまうため、十分
な接着が行われず、最終的に磁気ヘッドコア用基板Eの
接着強度がすこぶる脆弱なものとなってしまう。このこ
とは、磁気ヘッドコア用基板Eの信頼性低下の一因とな
っている。Further, it is difficult to uniformly form the magnetic film C on the actual unit substrate A, and the unit substrate A usually has a wedge shape as shown in FIG. If such wedge-shaped unit substrates A are stacked as they are, the stacking direction is deflected, as shown in FIG. 24, for example, and when pressing by the pressing mechanism J, the pressing becomes non-uniform. Adhesion strength of the magnetic head core substrate E becomes extremely weak in the end, because sufficient adhesion is not performed. This contributes to a decrease in the reliability of the magnetic head core substrate E.
【0008】本発明は上記事情を勘案してなされたもの
で、本発明の第1の目的は、剥離が生じない磁気ヘッド
コア用基板及びその製造方法を提供することにある。ま
た、本発明の第2の目的は、ガラス接着により磁気ヘッ
ドコア用基板を製造する際の積層されたヘッド基板に対
する加圧を均一に行うことができ接着強度が高い磁気ヘ
ッドコア用基板及びその製造方法を提供することにあ
る。The present invention has been made in view of the above circumstances, and a first object of the present invention is to provide a magnetic head core substrate that does not cause peeling and a method for manufacturing the same. A second object of the present invention is to provide a magnetic head core substrate and a method for manufacturing the same, which can uniformly apply pressure to the stacked head substrates when manufacturing the magnetic head core substrate by glass bonding. To provide.
【0009】[0009]
【課題を解決するための手段】本発明の請求項1に係る
磁気ヘッドコア用基板は、複数の単位基板と、これら単
位基板間に介挿された緩衝基板とを具備し、上記複数の
単位基板及び上記緩衝基板は、積層状態で接着されてな
るとともに、上記単位基板は、非磁性基板と、この非磁
性基板上に被着された磁性膜とからなることをを特徴と
する。A magnetic head core substrate according to a first aspect of the present invention comprises a plurality of unit substrates and a buffer substrate interposed between the unit substrates, and the plurality of unit substrates are provided. Also, the buffer substrate is adhered in a laminated state, and the unit substrate is composed of a non-magnetic substrate and a magnetic film deposited on the non-magnetic substrate.
【0010】本発明の請求項2に係る磁気ヘッドコア用
基板は、請求項1において、単位基板及び緩衝基板は、
ガラス膜を介して接着されていることを特徴とする。本
発明の請求項3に係る磁気ヘッドコア用基板は、請求項
1において、緩衝基板の単位基板間への介挿枚数及び介
挿間隔は、単位基板の反りにより生じる応力の大きさに
応じて設けられていることを特徴とする。According to a second aspect of the present invention, there is provided a magnetic head core substrate according to the first aspect, wherein the unit substrate and the buffer substrate are:
It is characterized by being bonded through a glass film. A magnetic head core substrate according to a third aspect of the present invention is the magnetic head core substrate according to the first aspect, wherein the number of the buffer substrates to be inserted between the unit substrates and the spacing are set according to the magnitude of the stress generated by the warp of the unit substrates. It is characterized by being.
【0011】本発明の請求項4に係る磁気ヘッドコア用
基板の製造方法は、複数の単位基板と、これら単位基板
間に介挿された緩衝基板とを具備し、上記複数の単位基
板及び上記緩衝基板は、積層状態で接着されてなるとと
もに、上記単位基板は、非磁性基板と、この非磁性基板
上に被着された磁性膜とからなる磁気ヘッドコア用基板
の製造方法において、上記単位基板の磁性膜上及び上記
緩衝基板の少なくとも片面にガラス膜を形成するガラス
膜形成工程と、上記緩衝基板と上記単位基板を積層する
積層工程と、上記緩衝基板が介挿されている単位基板を
積層方向に加圧する加圧工程と、上記加圧工程にて加圧
されている単位基板を上記ガラス膜を介して接着する接
着工程とを具備することを特徴とする。A method of manufacturing a magnetic head core substrate according to a fourth aspect of the present invention comprises a plurality of unit substrates and a buffer substrate interposed between the unit substrates, wherein the plurality of unit substrates and the buffer are provided. The substrates are adhered in a laminated state, and the unit substrate comprises a non-magnetic substrate and a magnetic film deposited on the non-magnetic substrate. A glass film forming step of forming a glass film on the magnetic film and on at least one surface of the buffer substrate, a laminating step of laminating the buffer substrate and the unit substrate, and a laminating direction of the unit substrate in which the buffer substrate is interposed. And a bonding step of bonding the unit substrates pressed in the pressing step through the glass film.
【0012】本発明の請求項5に係る磁気ヘッドコア用
基板の製造方法は、複数の単位基板と、これら単位基板
間に介挿された緩衝基板とを具備し、上記複数の単位基
板及び上記緩衝基板は、積層状態で接着されてなるとと
もに、上記単位基板は、非磁性基板と、この非磁性基板
上に被着された磁性膜とからなる磁気ヘッドコア用基板
の製造方法において、上記複数の単位基板の磁性膜の厚
さ測定を行う磁性膜測定工程と、この磁性膜測定工程に
おける測定結果に基づいて上記磁性膜の断面形状が山形
の単位基板を除外し上記磁性膜の断面形状が楔形の単位
基板を選別する単位基板選別工程と、この単位基板選別
工程にて選別された単位基板の磁性膜上にガラス膜を形
成するガラス膜形成工程と、このガラス膜形成工程の後
に上記単位基板を積層する積層工程と、この積層工程の
後に上記単位基板を積層方向に加圧する加圧工程と、こ
の加圧工程により加圧されている単位基板を上記ガラス
膜を介して接着する接着工程とを具備し、上記積層工程
においては、上記磁性膜の断面形状が楔形の単位基板の
厚肉側端部及び薄肉側端部を利用して、上記単位基板の
積層方向を上記加圧工程における加圧方向に一致させる
ことを特徴とする。A method of manufacturing a magnetic head core substrate according to a fifth aspect of the present invention comprises a plurality of unit substrates and a buffer substrate interposed between the unit substrates, wherein the plurality of unit substrates and the buffer are provided. The substrates are adhered in a laminated state, and the unit substrate is a method for manufacturing a magnetic head core substrate comprising a non-magnetic substrate and a magnetic film deposited on the non-magnetic substrate. A magnetic film measurement step of measuring the thickness of the magnetic film of the substrate, and based on the measurement results in this magnetic film measurement step, the unit substrate in which the cross sectional shape of the magnetic film is mountain-shaped is excluded and the cross sectional shape of the magnetic film is wedge-shaped. A unit substrate selecting step of selecting the unit substrate, a glass film forming step of forming a glass film on the magnetic film of the unit substrate selected in the unit substrate selecting step, and the unit substrate after the glass film forming step. A laminating step of layering, a pressurizing step of pressurizing the unit substrate in the stacking direction after the laminating step, and an adhering step of adhering the unit substrate pressed by the pressurizing step through the glass film. In the laminating step, the lamination direction of the unit substrate is pressed in the pressing step by utilizing the thick side end and the thin side end of the unit substrate having a wedge-shaped cross section of the magnetic film. It is characterized by matching the directions.
【0013】本発明の請求項6に係る磁気ヘッドコア用
基板の製造方法は、請求項5において、積層された磁性
膜の断面形状が楔形の単位基板の一端部が、厚肉側端
部,薄肉側端部,薄肉側端部,厚肉側端部の各順に設け
られてなる4枚の単位基板を1周期として繰り返し積層
することを特徴とする。A method of manufacturing a magnetic head core substrate according to a sixth aspect of the present invention is the method of manufacturing a magnetic head core substrate according to the fifth aspect, wherein one end of the unit substrate having a wedge-shaped cross section of the laminated magnetic films has a thick side end and a thin side It is characterized in that four unit substrates, which are provided in the order of the side edge portion, the thin side edge portion, and the thick side edge portion, are repeatedly laminated as one cycle.
【0014】本発明の請求項7に係る磁気ヘッドコア用
基板の製造方法は、請求項5において、積層された磁性
膜の断面形状が楔形の単位基板の一端部が、厚肉側端
部,薄肉側端部,薄肉側端部,厚肉側端部,薄肉側端
部,厚肉側端部,厚肉側端部,薄肉側端部の各順に設け
られてなる8枚の単位基板を1周期として繰り返し積層
することを特徴とする。According to a seventh aspect of the present invention, there is provided a method of manufacturing a magnetic head core substrate according to the fifth aspect, wherein one end of the unit substrate having a wedge-shaped cross section of the laminated magnetic film has a thick side end and a thin side. Eight unit substrates each including a side end, a thin side end, a thick side end, a thin side end, a thick side end, a thick side end, and a thin side end It is characterized in that layers are repeatedly laminated as a cycle.
【0015】本発明の請求項8に係る磁気ヘッドコア用
基板の製造方法は、磁性膜が成膜された非磁性基板が複
数枚積層して接着されてなる単位基板と、これら単位基
板間に介挿して接着され上記単位基板の反りにより生じ
た応力を吸収する上記緩衝基板とを具備する磁気ヘッド
コア用基板の製造方法において、上記複数の単位基板の
磁性膜の厚さ測定を行う磁性膜測定工程と、この磁性膜
測定工程における測定結果に基づいて上記磁性膜の断面
形状が山形の単位基板を除外し上記磁性膜の断面形状が
楔形の単位基板を選別する単位基板選別工程と、この単
位基板選別工程にて選別された単位基板の磁性膜上及び
上記緩衝基板の少なくとも片面にガラス膜を形成するガ
ラス膜形成工程と、このガラス膜形成工程の後に上記緩
衝基板と上記単位基板を積層する積層工程と、上記緩衝
基板が介挿されている単位基板を積層方向に加圧する加
圧工程と、この加圧工程により加圧されている単位基板
を上記ガラス膜を介して接着する接着工程とを具備し、
上記積層工程においては、上記磁性膜の断面形状が楔形
の単位基板の厚肉側端部及び薄肉側端部を利用して、上
記単位基板の積層方向を上記加圧工程における加圧方向
に一致させることを特徴とする。According to an eighth aspect of the present invention, there is provided a method of manufacturing a magnetic head core substrate, wherein a unit substrate is formed by laminating a plurality of non-magnetic substrates having a magnetic film formed thereon and adhering the non-magnetic substrates to each other. In a method of manufacturing a magnetic head core substrate comprising the buffer substrate that is inserted and adhered to absorb the stress generated by the warp of the unit substrate, a magnetic film measuring step of measuring the thickness of the magnetic films of the plurality of unit substrates. And a unit substrate selecting step of selecting a unit substrate having a cross-sectional shape of the magnetic film excluding a mountain shape and selecting a unit substrate having a wedge-shaped cross-sectional shape based on the measurement result in the magnetic film measuring step, and the unit substrate A glass film forming step of forming a glass film on the magnetic film of the unit substrate selected in the selecting step and on at least one surface of the buffer substrate, and the buffer substrate and the unit after the glass film forming step Laminating step of laminating the plates, pressurizing step of pressurizing the unit substrate in which the buffer substrate is interposed in the laminating direction, and adhering the unit substrate pressurized by the pressing step through the glass film. And a bonding step to
In the laminating step, by utilizing the thick side end and the thin side end of the unit substrate having a wedge-shaped cross section of the magnetic film, the laminating direction of the unit substrate matches the pressing direction in the pressing process. It is characterized by
【0016】本発明の請求項9に係る磁気ヘッドコア用
基板の製造方法は、請求項8において、積層された磁性
膜の断面形状が楔形の単位基板の一端部が、厚肉側端
部,薄肉側端部,薄肉側端部,厚肉側端部の各順に設け
られてなる4枚の単位基板を1周期として繰り返し積層
することを特徴とする。According to a ninth aspect of the present invention, there is provided a method of manufacturing a magnetic head core substrate according to the eighth aspect, wherein one end of the unit substrate having a wedge-shaped cross section of the laminated magnetic films has a thick side end and a thin side end. It is characterized in that four unit substrates, which are provided in the order of the side edge portion, the thin side edge portion, and the thick side edge portion, are repeatedly laminated as one cycle.
【0017】本発明の請求項10に係る磁気ヘッドコア
用基板の製造方法は、請求項8において、積層された磁
性膜の断面形状が楔形の単位基板の一端部が、厚肉側端
部,薄肉側端部,薄肉側端部,厚肉側端部,薄肉側端
部,厚肉側端部,厚肉側端部,薄肉側端部の各順に設け
られてなる8枚の単位基板を1周期として繰り返し積層
することを特徴とする。According to a tenth aspect of the present invention, there is provided a method for manufacturing a magnetic head core substrate according to the eighth aspect, wherein one end of the unit substrate having a wedge-shaped cross section of the laminated magnetic film has a thick side end and a thin side. Eight unit substrates each including a side end, a thin side end, a thick side end, a thin side end, a thick side end, a thick side end, and a thin side end It is characterized in that layers are repeatedly laminated as a cycle.
【0018】本発明の請求項11に係る磁気ヘッドコア
用基板の製造方法は、請求項8において、緩衝基板の単
位基板間への介挿は、4枚又は8枚の単位基板の周期ご
とに単位基板の反りにより生じる応力の大きさ応じて選
択的に行うことを特徴とする。A method of manufacturing a magnetic head core substrate according to an eleventh aspect of the present invention is the method of manufacturing the magnetic head core substrate according to the eighth aspect, wherein the buffer substrate is inserted between the unit substrates in units of four or eight unit substrates. It is characterized in that it is selectively performed according to the magnitude of the stress caused by the warp of the substrate.
【0019】[0019]
【作用】請求項1乃至請求項3に係る磁気ヘッドコア用
基板は、緩衝基板が単位基板間に介挿されているので、
磁性膜に基因する単位基板の反りにより発生している残
留応力を緩衝基板が吸収するので、長期間使用している
最中に単位基板が剥離し、不慮の事故を招くようなこと
がなくなり、高い信頼性を得ることができる。In the magnetic head core substrate according to any one of claims 1 to 3, since the buffer substrate is interposed between the unit substrates,
Since the buffer substrate absorbs the residual stress generated by the warp of the unit substrate due to the magnetic film, the unit substrate does not peel off during long-term use, which may cause an accident. High reliability can be obtained.
【0020】請求項4に係る磁気ヘッドコア用基板の製
造方法は、積層工程において単位基板間に緩衝基板を介
挿するようにしているので、加圧工程において単位基板
に反りを生じていても、この反りに基因する歪みは、緩
衝基板により大部分吸収される結果、接着工程後の磁気
ヘッドコア用基板全体の残留応力を小さくすることがで
きる。したがつて、単位基板の剥離の発生を防止するこ
とができ、信頼性及び歩留りの向上に寄与することがで
きる。のみならず、残留応力が小さくなるため、単位基
板の積層枚数を従来よりも増加させることができ、この
磁気ヘッドコア用基板から取り出せる磁気ヘッドコアの
収量を増加することができるので、生産性向上及び生産
コスト低減にも寄与することができる。In the magnetic head core substrate manufacturing method according to the fourth aspect, since the buffer substrate is inserted between the unit substrates in the laminating step, even if the unit substrates warp in the pressing step, Most of the strain due to the warp is absorbed by the buffer substrate, and as a result, the residual stress of the entire magnetic head core substrate after the bonding step can be reduced. Therefore, the peeling of the unit substrate can be prevented, which can contribute to the improvement of reliability and yield. Not only that, since the residual stress is reduced, the number of laminated unit substrates can be increased more than ever, and the yield of magnetic head cores that can be taken out from this magnetic head core substrate can be increased. It can also contribute to cost reduction.
【0021】請求項5乃至請求項7に係る磁気ヘッドコ
ア用基板の製造方法は、積層工程において、楔形の単位
基板の厚肉側端部及び薄肉側端部を利用して、単位基板
の積層方向を加圧工程における加圧方向に一致させるよ
うにしたので、単位基板を均一な加圧力で加圧すること
ができ、その結果として、単位基板の接着強度を向上さ
せることができるようなるので、接着不良に基因する種
々の故障を未然に防止できるなど信頼性向上に大いに寄
与することができる。According to the fifth aspect of the present invention, there is provided a method of manufacturing a magnetic head core substrate, wherein in the laminating step, the thick-side end and the thin-side end of the wedge-shaped unit substrate are utilized to form the unit substrate in the laminating direction. Since the pressure is aligned with the pressure direction in the pressure step, the unit substrate can be pressed with a uniform pressure, and as a result, the adhesive strength of the unit substrate can be improved. It is possible to greatly contribute to the improvement of reliability by preventing various failures due to defects in advance.
【0022】請求項8乃至請求項11に係る磁気ヘッド
コア用基板の製造方法は、積層工程において、楔形の単
位基板の厚肉側端部及び薄肉側端部を利用して、単位基
板の積層方向を加圧工程における加圧方向に一致させる
ようにするとともに、緩衝基板の単位基板間への介挿
を、4枚又は8枚の単位基板の周期ごとに、単位基板の
反りにより生じる応力の大きさ応じて選択的に行うよう
にしたので、単位基板に反りが生じていても、高い接着
強度の磁気ヘッドコア用基板を得ることができ、信頼性
及び歩留り向上に寄与することができることはもとよ
り、単位基板の積層枚数を増加させることができるの
で、生産性向上及び生産コスト低減にも寄与することが
できる。According to the eighth aspect of the present invention, there is provided a method of manufacturing a magnetic head core substrate, wherein in the laminating step, the thick-side end and the thin-side end of the wedge-shaped unit substrate are utilized. Is adjusted to the pressing direction in the pressing step, and the buffer board is inserted between the unit boards at every cycle of four or eight unit boards. Therefore, even if the unit substrate is warped, it is possible to obtain a magnetic head core substrate with high adhesive strength, which can contribute to reliability and yield improvement. Since it is possible to increase the number of stacked unit substrates, it is possible to contribute to improvement of productivity and reduction of production cost.
【0023】[0023]
【実施例】以下、本発明の一実施例を図面を参照して詳
述する。図1は、第1の実施例の磁気ヘッドコア用基板
1を示している。この磁気ヘッドコア用基板1は、複数
枚(例えば30枚)の積層されてなる単位基板2…と、
これら単位基板2…の所定枚数(例えば10枚)ごとに
介挿された緩衝基板3…とからなっている。しかして、
単位基板2は、厚さ例えば580μmの縦横5mmの正
方形をなしている。そして、この単位基板2は、図2に
示すように、MnO−NiO系のセラミックスからなる
厚さ例えば560μmの非磁性基板4と、この非磁性基
板4上にスパッタリングにより成膜された厚さ例えば2
0μmの磁性膜5と、この磁性膜5上にガラス膜スパッ
タリングにより成膜された厚さ例えば0.5μmのガラ
ス膜6とからなっている。上記磁性膜5は、スパッタリ
ングにより成膜された厚さ4μmのセンダスト膜が5層
積層されてなるものである。また、ガラス膜6の材質と
しては、SiO2 ,B2 O3 ,Na2 O,K2 O等を主
成分とする低融点の接着用ガラスが好適である。さら
に、緩衝基板3の厚さは、単位基板2…より厚めの例え
ば900μmである。そして、この緩衝基板3の材質
は、アルミナ(Al2 O3 ),フェライトなどのガラス
接着時の温度(例えば650°C)にて有害なガスを発
生しないものや、非磁性基板4と同質のMnO−NiO
系のセラミックス材が好適である。また、緩衝基板3の
少なくとも片面には単位基板2にガラス接着させるため
の厚さ例えば0.5μmのガラス膜7がスパッタリング
により成膜されている。なお、この緩衝基板3には、磁
性膜5は形成されていないので、反りは発生しない。DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An embodiment of the present invention will be described in detail below with reference to the drawings. FIG. 1 shows a magnetic head core substrate 1 of a first embodiment. The magnetic head core substrate 1 is composed of a plurality of (for example, 30) unit substrates 2 ...
Buffer boards 3 are inserted for every predetermined number (for example, 10) of these unit boards 2. Then
The unit substrate 2 has a square shape with a thickness of, for example, 580 μm and a length and width of 5 mm. As shown in FIG. 2, the unit substrate 2 is made of MnO—NiO ceramics and has a thickness of, for example, 560 μm. The non-magnetic substrate 4 is formed on the non-magnetic substrate 4 by sputtering. Two
The magnetic film 5 has a thickness of 0 μm, and the glass film 6 having a thickness of, for example, 0.5 μm is formed on the magnetic film 5 by glass film sputtering. The magnetic film 5 is formed by stacking five sendust films having a thickness of 4 μm formed by sputtering. Further, as the material of the glass film 6, a low melting point bonding glass containing SiO 2 , B 2 O 3 , Na 2 O, K 2 O or the like as a main component is preferable. Further, the thickness of the buffer substrate 3 is 900 μm, which is thicker than that of the unit substrates 2 ... The material of the buffer substrate 3 is the same as that of the non-magnetic substrate 4 such as alumina (Al 2 O 3 ) or ferrite that does not generate harmful gas at the temperature (for example, 650 ° C.) at the time of glass bonding. MnO-NiO
Ceramic-based materials are suitable. On at least one surface of the buffer substrate 3, a glass film 7 having a thickness of, for example, 0.5 μm for glass bonding to the unit substrate 2 is formed by sputtering. Since the magnetic film 5 is not formed on the buffer substrate 3, warpage does not occur.
【0024】つぎに、上記構成の磁気ヘッドコア用基板
1の製造方法について述べる。板2…及び緩衝基板3…
の少なくとも片面に厚さ例えば0.5μmのガラス膜
6,7をスパッタリングにより成膜するガラス膜形成工
程(図3,ステップSA1)と、このガラス膜形成工程
の後に積層治具11(図4参照)内にて緩衝基板3…を
介挿しながら単位基板2…を積層する積層工程(図3,
ステップSA2)と、積層治具11により緩衝基板3…
が介挿されている単位基板2…を加圧する加圧工程(図
3,ステップSA3)と、単位基板2…を加圧している
積層治具11を例えば650°Cで1時間加熱しガラス
膜6,7を溶融させたのち冷却固化させることにより加
圧されている単位基板2…をガラス接着する接着工程
(図3,ステップSA4)とからなっている。ここで、
積層治具11は、箱状の本体部12と、この本体部12
に形成されている収納空間13の両端部に配設された一
対の挾圧ブロック14a,14bと、一方の挾圧ブロッ
ク14aに当接する当接板15と、この当接板15の背
面側に設けられた板バネ16と、この板バネ16の中心
部に当接する加圧球17と、この加圧球17を転動自在
に保持する保持部材18と、本体部12の側板19に螺
着され保持部材18を接離自在に押圧するねじ20とか
らなっている。しかして、積層工程においては、まず、
ねじ20を螺動することにより矢印R1方向に後退さ
せ、挾圧ブロック14a,14b間に十分なスペースを
設ける。つぎに、単位基板2…を10枚積層した後、緩
衝基板3を積層する。さらに、この緩衝基板3に続い
て、単位基板2…を10枚積層した後、再び緩衝基板3
を積層する。最後に、単位基板2…を10枚積層する。
つぎに、加圧工程においては、ねじ20を螺動すること
により矢印R2方向に前進させ、加圧力を保持部材1
8,加圧球17,板バネ16及び当接板15を介して挾
圧ブロック14aに伝達する。その結果、挾圧ブロック
14aは、他方の挾圧ブロック14bに対して前進し、
緩衝基板3…が介挿されている単位基板2…は、これら
一対の挾圧ブロック14a,14bにより強固に挾持さ
れる。さらに、接着工程は、一対の挾圧ブロック14
a,14bにより単位基板2…を強固に挾持している積
層治具11をガラス接着炉(図示せず。)中に入れ、例
えば650°Cで1時間加熱しガラス膜6,7を溶融さ
せる。しかして、室温まで徐冷すると、緩衝基板3…が
介挿されている単位基板2…は確実にガラス接着され
る。Next, a method of manufacturing the magnetic head core substrate 1 having the above structure will be described. Plate 2 ... and buffer substrate 3 ...
A glass film forming step (FIG. 3, step SA1) of forming glass films 6 and 7 having a thickness of, for example, 0.5 μm on at least one surface of the substrate by sputtering, and a laminating jig 11 (see FIG. 4) after the glass film forming step. ) In which the buffer substrates 3 are inserted while the unit substrates 2 are laminated (FIG. 3, FIG.
Step SA2) and the buffer jig 3 by the laminating jig 11 ...
The pressurizing step (FIG. 3, step SA3) for pressing the unit substrates 2 ... In which the is inserted and the laminating jig 11 for pressing the unit substrates 2 ... The bonding step (FIG. 3, step SA4) of bonding the pressed unit substrates 2 by glass by melting and cooling and solidifying 6, 7 is performed. here,
The stacking jig 11 includes a box-shaped main body 12 and the main body 12
A pair of constriction blocks 14a, 14b arranged at both ends of the storage space 13 formed in the above, a contact plate 15 contacting one of the constriction blocks 14a, and a rear surface side of the contact plate 15. A leaf spring 16 provided, a pressure ball 17 that contacts the center of the leaf spring 16, a holding member 18 that rotatably holds the pressure ball 17, and a side plate 19 of the main body portion 12 are screwed. And a screw 20 for pressing the holding member 18 so that the holding member 18 can be contacted and separated. Then, in the lamination process, first,
By screwing the screw 20, the screw 20 is retracted in the direction of the arrow R1 to provide a sufficient space between the constriction blocks 14a and 14b. Next, after stacking 10 unit substrates 2 ..., The buffer substrate 3 is laminated. Further, ten unit boards 2 ... Are laminated after the buffer board 3, and then the buffer board 3 is again formed.
Are laminated. Finally, ten unit substrates 2 ... Are laminated.
Next, in the pressurizing step, by screwing the screw 20, the screw 20 is advanced in the direction of the arrow R2 to apply the pressing force.
8, the pressure ball 17, the plate spring 16 and the contact plate 15 are transmitted to the constriction block 14a. As a result, the constriction block 14a moves forward with respect to the other constriction block 14b,
The unit boards 2 with the buffer boards 3 interposed therebetween are firmly held by the pair of clamping blocks 14a and 14b. In addition, the bonding step is performed by the pair of pressing blocks 14
The laminating jig 11 that holds the unit substrates 2 by a, 14b firmly is placed in a glass bonding furnace (not shown) and heated at 650 ° C. for 1 hour to melt the glass films 6 and 7. . Then, when gradually cooled to room temperature, the unit substrates 2 with the buffer substrates 3 interposed therebetween are securely glass-bonded.
【0025】このように、本実施例の磁気ヘッドコア用
基板1の製造方法は、積層工程において単位基板2…間
に緩衝基板3…を介挿するようにしているので、図5に
示すように、加圧工程において単位基板2…に反りを生
じていても、この反りに基因する歪みは、磁性膜5が形
成されていないことにより反りがほとんどない緩衝基板
3…により大部分吸収される。その結果、接着工程後の
磁気ヘッドコア用基板1全体の残留応力を小さくするこ
とができる。したがつて、この残留応力が、ガラス膜
6,7の強度よりも大きくなることがなくなり、単位基
板2…の剥離の発生を防止することができ、信頼性及び
歩留りの向上に寄与することができる。のみならず、残
留応力が小さくなるため、単位基板2…の積層枚数を従
来よりも増加させることができるので、この磁気ヘッド
コア用基板1から取り出せる磁気ヘッドコアの収量を増
加することができるので、生産性向上及び生産コスト低
減にも寄与することができる。As described above, in the method of manufacturing the magnetic head core substrate 1 of this embodiment, the buffer substrate 3 is inserted between the unit substrates 2 in the laminating step, and therefore, as shown in FIG. Even if the unit substrates 2 are warped in the pressurizing step, most of the distortion caused by the warping is absorbed by the buffer substrate 3 having almost no warping because the magnetic film 5 is not formed. As a result, the residual stress of the entire magnetic head core substrate 1 after the bonding step can be reduced. Therefore, this residual stress does not become larger than the strength of the glass films 6 and 7, and the peeling of the unit substrates 2 can be prevented, which contributes to improvement in reliability and yield. it can. In addition, since the residual stress is reduced, the number of stacked unit substrates 2 can be increased more than in the conventional case, and thus the yield of magnetic head cores that can be taken out from the magnetic head core substrate 1 can be increased. It is also possible to contribute to improving the productivity and reducing the production cost.
【0026】さらに、実施例の磁気ヘッドコア用基板1
は、緩衝基板3…が単位基板2…間に介挿されているの
で、磁性膜5に基因する単位基板2…の反りにより発生
している残留応力を緩衝基板3…が吸収するので、長期
間使用している最中に単位基板2…が剥離し、不慮の事
故を招くようなことがなくなり、高い信頼性を得ること
ができる。Further, the magnetic head core substrate 1 of the embodiment
, Since the buffer substrates 3 are interposed between the unit substrates 2, the buffer substrate 3 absorbs the residual stress generated by the warp of the unit substrates 2 due to the magnetic film 5, so that The unit substrates 2 ... Are not peeled off during use for a period of time and an accident does not occur accidentally, and high reliability can be obtained.
【0027】なお、上記実施例においては、緩衝基板3
…の介挿枚数は、2枚としたが、その枚数は、単位基板
2…の反りによる応力の大きさに応じて適宜加減する必
要がある。また、緩衝基板3…の介挿間隔は、必ずしも
一定にする必要はない。In the above embodiment, the buffer substrate 3
Although the number of inserted sheets of ... Is two, it is necessary to appropriately adjust the number of sheets according to the magnitude of the stress due to the warp of the unit substrates 2. Further, the interposing interval of the buffer boards 3 ... Does not necessarily have to be constant.
【0028】つぎに、本発明の第2の実施例の磁気ヘッ
ドコア用基板31の製造方法について述べる。図6は、
この実施例の磁気ヘッドコア用基板31の構成を示して
いる。すなわち、この磁気ヘッドコア用基板31は、複
数枚(例えば30枚)の積層されてなる単位基板32…
からなっている。しかして、単位基板32は、厚さ例え
ば580μmの縦横5mmの正方形をなしている。そし
て、この単位基板32は、MnO−NiO系のセラミッ
クスからなる厚さ例えば560μmの非磁性基板34
と、この非磁性基板34上にスパッタリングにより成膜
された厚さ例えば20μmの磁性膜35と、この磁性膜
35上にガラス膜スパッタリングにより成膜された厚さ
例えば0.5μmのガラス膜36とからなっている。上
記磁性膜35は、スパッタリングにより成膜された厚さ
4μmのセンダスト膜が5層積層されてなるものであ
る。また、ガラス膜36の材質としては、SiO2 ,B
2 O3 ,Na2O,K2 O等を主成分とする低融点の接
着用ガラスが好適である。Next, a method of manufacturing the magnetic head core substrate 31 of the second embodiment of the present invention will be described. FIG.
The structure of the magnetic head core substrate 31 of this embodiment is shown. That is, the magnetic head core substrate 31 is a unit substrate 32 including a plurality of (for example, 30) laminated layers.
It consists of Thus, the unit substrate 32 has a square shape with a thickness of, for example, 580 μm and a length and width of 5 mm. The unit substrate 32 is made of MnO—NiO ceramics and has a thickness of, for example, 560 μm.
A magnetic film 35 having a thickness of, for example, 20 μm formed on the non-magnetic substrate 34 by sputtering, and a glass film 36 having a thickness of, for example, 0.5 μm formed on the magnetic film 35 by glass film sputtering. It consists of The magnetic film 35 is formed by stacking five layers of sendust films having a thickness of 4 μm formed by sputtering. The material of the glass film 36 is SiO 2 , B.
Adhesive glass having a low melting point and containing 2 O 3 , Na 2 O, K 2 O or the like as a main component is suitable.
【0029】しかして、この実施例の磁気ヘッドコア用
基板31の製造方法は、複数の単位基板32…の磁性膜
35の厚さ測定を行う磁性膜測定工程(図7,ステップ
SB1)と、この磁性膜測定工程における測定結果に基
づいて磁性膜35の断面形状が楔形(図8参照)のもの
から山形(図9参照)のものを除外する単位基板選別工
程(図7,ステップSB2)と、この単位基板選別工程
にて選別された単位基板32…の磁性膜35上にガラス
膜36をスパッタリングにより成膜するガラス膜形成工
程(図7,ステップSB3)と、このガラス膜形成工程
の後に単位基板32…を積層治具11の収納空間13に
収納する積層工程(図7,ステップSB4)と、積層工
程の後に積層治具11により単位基板32…を積層方向
に加圧する加圧工程(図7,ステップSB5)と、単位
基板32…を加圧している積層治具11を例えば650
°Cで1時間加熱しガラス膜36を溶融させたのち冷却
固化させることにより加圧されている単位基板32…を
ガラス接着する接着工程(図7,ステップSB6)とか
らなっている。ところで、図10は、スパッタ・テーブ
ル38における単位基板32a,32b,32c,32
d,32e,32fの位置を示している。一方、図11
は、これら単位基板32a,32b,32c,32d,
32e,32fの位置と磁性膜35の断面形状との関係
及び最大/最小膜厚差を示している。これらは、スパッ
タ・テーブル38の円周方向の磁性膜の膜厚差はほとん
どないことを示している。また、スパッタ・テーブル3
8の直径方向内側の磁性膜35の断面形状は楔形である
のに対して、直径方向外側の磁性膜35の断面形状は山
形となっている。したがって、あらかじめ実験的にスパ
ッタ・テーブル38うち、断面形状は楔形となる領域を
確定しておく。そうすることにより、単位基板選別工程
における選別作業を能率的に行うことができる。すなわ
ち、単位基板選別工程は、磁性膜測定工程における測定
結果に基づいて磁性膜35の断面形状が楔形のものから
山形ものを除外する楔形基板採取工程(図12,ステッ
プSC1)と、この楔形基板採取工程により採取された
断面形状が楔形をなすもののうち右側が厚く左側が薄い
単位基板32R…(図13参照)と右側が薄く左側が厚
い単位基板32L…(図13参照)とに向きを管理して
おく配向工程(図12,ステップSC2)とからなって
いる。Therefore, the method of manufacturing the magnetic head core substrate 31 of this embodiment includes a magnetic film measuring step (FIG. 7, step SB1) for measuring the thickness of the magnetic films 35 of the plurality of unit substrates 32. A unit substrate selection step (FIG. 7, step SB2) for excluding the wedge-shaped (see FIG. 8) cross-sectional shape of the magnetic film 35 based on the measurement result in the magnetic film measurement step (see FIG. 9); A glass film forming step (FIG. 7, step SB3) of forming a glass film 36 on the magnetic film 35 of the unit substrates 32 ... Selected by the unit substrate selecting step by sputtering, and a unit after the glass film forming step. Laminating step (step SB4 in FIG. 7) for accommodating the substrates 32 in the accommodating space 13 of the laminating jig 11, and a pressing process for pressing the unit substrates 32 ... in the laminating direction by the laminating jig 11 after the laminating step. (Figure 7, step SB5) and, for example, 650 stacking jig 11 which presses the unit substrates 32 ...
This is composed of a bonding step (step SB6 in FIG. 7) for bonding the pressed unit substrates 32 by glass by heating at ° C for 1 hour to melt and then cooling and solidifying the glass film 36. By the way, FIG. 10 shows the unit substrates 32a, 32b, 32c, 32 in the sputter table 38.
The positions of d, 32e, and 32f are shown. On the other hand, FIG.
Are unit boards 32a, 32b, 32c, 32d,
The relationship between the positions of 32e and 32f and the cross-sectional shape of the magnetic film 35 and the maximum / minimum film thickness difference are shown. These indicate that there is almost no difference in the film thickness of the magnetic film in the circumferential direction of the sputter table 38. Also, spatter table 3
The cross-sectional shape of the magnetic film 35 on the inner side in the diametrical direction of 8 is a wedge shape, whereas the cross-sectional shape of the magnetic film 35 on the outer side in the diametrical direction is a mountain shape. Therefore, a region of the sputtering table 38 having a wedge-shaped cross section is previously determined experimentally. By doing so, the sorting operation in the unit substrate sorting step can be efficiently performed. That is, the unit substrate selection step includes a wedge-shaped substrate sampling step (FIG. 12, step SC1) of excluding the mountain-shaped magnetic film 35 from the wedge-shaped cross-sectional shape based on the measurement result in the magnetic film measurement step, and the wedge-shaped substrate. Of the wedge-shaped cross-sections sampled in the sampling step, the orientation is controlled to the unit substrate 32R ... (See FIG. 13) that is thick on the right side and thin on the left side and the unit substrate 32L ... (See FIG. 13) that is thin on the right side and thick on the left side. The alignment step (FIG. 12, step SC2) is performed.
【0030】しかして、積層工程は、図14に示すよう
に、32R,32L,32L,32Rというように4枚
1周期で、例えば20枚積層する。このようにすること
により、単位基板32…を加圧工程における加圧方向に
積層することができる。ここで、図15に示すように、
32R,32L,32R,32L,32R,32L,…
というように、単に、楔形をキャンセルするような積層
では、積層方向は、加圧方向(図15,矢印R3方向)
に対して偏向してしまうので好ましくない。したがっ
て、32R,32L,32L,32Rというように4枚
1周期で積層したものの加圧工程においては、単位基板
32…の楔形がキャンセルされることはもとより、積層
方向を加圧方向(図14,矢印R3方向)に一致させる
ことができるので、一対の挾圧ブロック14a,14b
により、単位基板32R…,32L…を均一な加圧力で
加圧することができる。よって、単位基板32…は、ガ
ラス膜36を介して、強固に接着される。In the laminating process, as shown in FIG. 14, for example, 20 sheets such as 32R, 32L, 32L, and 32R are laminated in one cycle. By doing so, the unit substrates 32 ... Can be stacked in the pressing direction in the pressing process. Here, as shown in FIG.
32R, 32L, 32R, 32L, 32R, 32L, ...
As such, in the stacking that simply cancels the wedge shape, the stacking direction is the pressing direction (FIG. 15, arrow R3 direction).
It is not preferable because it is biased against. Therefore, in the pressurizing step of four sheets laminated in one cycle such as 32R, 32L, 32L, 32R, the wedge shape of the unit substrates 32 ... (In the direction of the arrow R3), the pair of compression blocks 14a and 14b can be aligned.
As a result, the unit substrates 32R ..., 32L ... can be pressed with a uniform pressing force. Therefore, the unit substrates 32 are firmly adhered to each other via the glass film 36.
【0031】以上のように、第2の実施例の磁気ヘッド
コア用基板の製造方法は、積層工程において、楔形の単
位基板32R…,32L…の厚肉側端部及び薄肉側端部
を利用して、単位基板32R…,32L…の積層方向を
加圧工程における加圧方向に一致させるようにしたの
で、単位基板32R…,32L…を均一な加圧力で加圧
することができ、その結果として、単位基板32R…,
32L…の接着強度を向上させることができるようなる
ので、接着不良に基因する種々の故障を未然に防止でき
るなど信頼性向上に大いに寄与することができる。As described above, in the method of manufacturing the magnetic head core substrate according to the second embodiment, the thick side end and the thin side end of the wedge-shaped unit substrates 32R ... Since the stacking direction of the unit substrates 32R ..., 32L ... is made to coincide with the pressurizing direction in the pressurizing step, the unit substrates 32R ..., 32L ... can be pressed with a uniform pressing force. As a result, , Unit board 32R ...
Since the adhesive strength of 32L ... can be improved, various failures due to defective adhesion can be prevented, which can greatly contribute to the improvement of reliability.
【0032】なお、上記実施例の積層工程においては、
32R,32L,32L,32Rというように4枚1周
期で例えば20枚積層しているが、図16に示すよう
に、32R,32L,32L,32R,32L,32
R,32R,32Lというように8枚1周期で例えば2
4枚積層しても同様の作用効果を得ることができる。In the laminating process of the above embodiment,
For example, as shown in FIG. 16, 32R, 32L, 32L, and 32R, for example, 20 sheets are stacked in one cycle, but as shown in FIG. 16, 32R, 32L, 32L, 32R, 32L, 32
R, 32R, 32L, for example, 8 sheets in one cycle, for example, 2
Similar effects can be obtained by stacking four sheets.
【0033】さらに、図17に示すように、52R,5
2L,52L,52R(あるいは52R,52L,52
L,52R,52L,52R,52R,52L)という
ように4枚1周期(あるいは8枚1周期)ごとに第1の
実施例に示した緩衝基板53…を介挿させるようにして
もよい。こうすることにより、単位基板52…の楔形が
キャンセルされることはもとより、積層方向を加圧方向
に一致させることができるので、均一な加圧力で加圧す
ることができることはもとより、単位基板52…に反り
が生じていても、加圧に伴う残留応力を緩衝基板53…
で吸収することができる。したがって、これら二つの相
乗作用により、磁性膜55上のガラス膜(図示せず。)
及び緩衝基板53…上のガラス膜(図示せず。)により
単位基板52…を強固に接着することができるようにな
り、単位基板52…の剥離等の事故発生を完全に防止す
ることができる。その結果、信頼性及び歩留りの向上に
寄与することができばかりか、単位基板52…の積層枚
数を増加させることができるので、生産性向上及び生産
コスト低減にも寄与することができる。Further, as shown in FIG. 17, 52R, 5
2L, 52L, 52R (or 52R, 52L, 52
L, 52R, 52L, 52R, 52R, 52L), the buffer substrates 53 shown in the first embodiment may be inserted every four cycles (or eight cycles). By doing so, not only is the wedge shape of the unit substrates 52 cancelled, but the stacking direction can be made to coincide with the pressing direction, so that the unit substrates 52 can be pressed with a uniform pressing force, and the unit substrates 52. Even if the warp occurs, the buffer substrate 53 ...
Can be absorbed. Therefore, due to the synergistic effect of these two, a glass film (not shown) on the magnetic film 55.
The unit substrate 52 can be firmly adhered by the glass film (not shown) on the buffer substrate 53, and the occurrence of an accident such as peeling of the unit substrate 52 can be completely prevented. . As a result, not only the reliability and the yield can be improved, but also the number of stacked unit substrates 52 can be increased, which can contribute to the productivity improvement and the production cost reduction.
【0034】なお、この場合、緩衝基板53…は、必ず
しも、4枚1周期(あるいは8枚1周期)ごとでなくと
も、残留応力の大きさに応じて、2周期以上ごとに介挿
するようにしてもよい。In this case, the buffer substrates 53 are not necessarily inserted every four cycles (or every eight cycles), but may be inserted every two cycles or more depending on the magnitude of the residual stress. You may
【0035】[0035]
【発明の効果】本発明の請求項1乃至請求項3に係る磁
気ヘッドコア用基板は、緩衝基板が単位基板間に介挿さ
れているので、磁性膜に基因する単位基板の反りにより
発生している残留応力を緩衝基板が吸収するので、長期
間使用している最中に単位基板が剥離し、不慮の事故を
招くようなことがなくなり、高い信頼性を得ることがで
きる。In the magnetic head core substrate according to the first to third aspects of the present invention, since the buffer substrate is interposed between the unit substrates, it is caused by the warp of the unit substrate due to the magnetic film. Since the residual stress is absorbed by the buffer substrate, the unit substrate is prevented from peeling off during long-term use, which may result in an unexpected accident, and high reliability can be obtained.
【0036】本発明の請求項4に係る磁気ヘッドコア用
基板の製造方法は、積層工程において単位基板間に緩衝
基板を介挿するようにしているので、加圧工程において
単位基板に反りを生じていても、この反りに基因する歪
みは、緩衝基板により大部分吸収される結果、接着工程
後の磁気ヘッドコア用基板全体の残留応力を小さくする
ことができる。したがつて、単位基板の剥離の発生を防
止することができ、信頼性及び歩留りの向上に寄与する
ことができる。のみならず、残留応力が小さくなるた
め、単位基板の積層枚数を従来よりも増加させることが
でき、この磁気ヘッドコア用基板から取り出せる磁気ヘ
ッドコアの収量を増加することができるので、生産性向
上及び生産コスト低減にも寄与することができる。In the method of manufacturing the magnetic head core substrate according to the fourth aspect of the present invention, since the buffer substrate is interposed between the unit substrates in the laminating process, the unit substrates warp in the pressing process. However, as a result of the distortion caused by the warp being mostly absorbed by the buffer substrate, the residual stress of the entire magnetic head core substrate after the bonding step can be reduced. Therefore, the peeling of the unit substrate can be prevented, which can contribute to the improvement of reliability and yield. Not only that, since the residual stress is reduced, the number of laminated unit substrates can be increased more than ever, and the yield of magnetic head cores that can be taken out from this magnetic head core substrate can be increased. It can also contribute to cost reduction.
【0037】本発明の請求項5乃至請求項7に係る磁気
ヘッドコア用基板の製造方法は、積層工程において、楔
形の単位基板の厚肉側端部及び薄肉側端部を利用して、
単位基板の積層方向を加圧工程における加圧方向に一致
させるようにしたので、単位基板を均一な加圧力で加圧
することができ、その結果として、単位基板の接着強度
を向上させることができるようなるので、接着不良に基
因する種々の故障を未然に防止できるなど信頼性向上に
大いに寄与することができる。In the method of manufacturing a magnetic head core substrate according to any one of claims 5 to 7 of the present invention, the thick side end and the thin side end of the wedge-shaped unit substrate are utilized in the laminating step.
Since the stacking direction of the unit substrates is made to coincide with the pressing direction in the pressing process, the unit substrates can be pressed with a uniform pressing force, and as a result, the adhesive strength of the unit substrates can be improved. As a result, various failures due to defective adhesion can be prevented in advance, which can greatly contribute to the improvement of reliability.
【0038】本発明の請求項8乃至請求項11に係る磁
気ヘッドコア用基板の製造方法は、積層工程において、
楔形の単位基板の厚肉側端部及び薄肉側端部を利用し
て、単位基板の積層方向を加圧工程における加圧方向に
一致させるようにするとともに、緩衝基板の単位基板間
への介挿を、4枚又は8枚の単位基板の周期ごとに、単
位基板の反りにより生じる応力の大きさ応じて選択的に
行うようにしたので、単位基板に反りが生じていても、
高い接着強度の磁気ヘッドコア用基板を得ることがで
き、信頼性及び歩留り向上に寄与することができること
はもとより、単位基板の積層枚数を増加させることがで
きるので、生産性向上及び生産コスト低減にも寄与する
ことができる。According to the eighth aspect of the present invention, there is provided a method for manufacturing a magnetic head core substrate, comprising:
By utilizing the thick side end and the thin side end of the wedge-shaped unit substrate, the stacking direction of the unit substrates is made to coincide with the pressing direction in the pressing step, and the buffer substrate is interposed between the unit substrates. Since the insertion is selectively performed according to the magnitude of the stress caused by the warp of the unit substrates for each cycle of four or eight unit substrates, even if the unit substrates are warped,
A magnetic head core substrate having high adhesive strength can be obtained, which contributes to improvement of reliability and yield, and moreover, since the number of laminated unit substrates can be increased, productivity is improved and production cost is also reduced. Can contribute.
【図1】本発明の一実施例の磁気ヘッドコア用基板の構
成を示す斜視図である。FIG. 1 is a perspective view showing a configuration of a magnetic head core substrate according to an embodiment of the present invention.
【図2】本発明の一実施例の磁気ヘッドコア用基板の要
部拡大断面図である。FIG. 2 is an enlarged cross-sectional view of a main part of a magnetic head core substrate according to an embodiment of the present invention.
【図3】本発明の一実施例の磁気ヘッドコア用基板の製
造方法を示すフローチャートである。FIG. 3 is a flowchart showing a method of manufacturing a magnetic head core substrate according to an embodiment of the present invention.
【図4】本発明の一実施例の磁気ヘッドコア用基板の製
造方法に用いられる積層治具を示す図である。FIG. 4 is a diagram showing a laminating jig used in a method for manufacturing a magnetic head core substrate according to an embodiment of the present invention.
【図5】本発明の一実施例の磁気ヘッドコア用基板の製
造方法の説明図である。FIG. 5 is an explanatory diagram of a method of manufacturing a magnetic head core substrate according to an embodiment of the present invention.
【図6】本発明の他の実施例の磁気ヘッドコア用基板の
構成図である。FIG. 6 is a configuration diagram of a magnetic head core substrate according to another embodiment of the present invention.
【図7】本発明の他の実施例の磁気ヘッドコア用基板の
製造方法を示すフローチャートである。FIG. 7 is a flowchart showing a method of manufacturing a magnetic head core substrate according to another embodiment of the present invention.
【図8】本発明の他の実施例の磁気ヘッドコア用基板の
製造方法において採用される単位基板の断面図である。FIG. 8 is a cross-sectional view of a unit substrate used in a method of manufacturing a magnetic head core substrate according to another embodiment of the present invention.
【図9】本発明の他の実施例の磁気ヘッドコア用基板の
製造方法において除去される単位基板の断面図である。FIG. 9 is a cross-sectional view of a unit substrate removed in a method of manufacturing a magnetic head core substrate according to another embodiment of the present invention.
【図10】本発明の他の実施例の磁気ヘッドコア用基板
の製造方法における単位基板への磁性膜を形成するため
のスパッタ・テーブルの平面図である。FIG. 10 is a plan view of a sputtering table for forming a magnetic film on a unit substrate in a method of manufacturing a magnetic head core substrate according to another embodiment of the present invention.
【図11】図10に示すスパッタ・テーブル上における
位置と磁性膜との関係を示す図である。11 is a diagram showing the relationship between the position on the sputtering table shown in FIG. 10 and the magnetic film.
【図12】本発明の他の実施例の磁気ヘッドコア用基板
の製造方法のうち単位基板選別工程を示すフローチャー
トである。FIG. 12 is a flow chart showing a unit substrate selection step in a method of manufacturing a magnetic head core substrate according to another embodiment of the present invention.
【図13】本発明の他の実施例の磁気ヘッドコア用基板
の製造方法において配向される二種類の単位基板を示す
断面図である。FIG. 13 is a cross-sectional view showing two types of unit substrates oriented in a method of manufacturing a magnetic head core substrate according to another embodiment of the present invention.
【図14】本発明の他の実施例の磁気ヘッドコア用基板
の製造方法のうち積層工程を示す図である。FIG. 14 is a diagram showing a laminating step in a method of manufacturing a magnetic head core substrate according to another embodiment of the present invention.
【図15】図14に示す積層工程に対する比較例を示す
図である。15 is a diagram showing a comparative example with respect to the stacking process shown in FIG.
【図16】本発明の他の実施例の磁気ヘッドコア用基板
の製造方法の変形例を示す図である。FIG. 16 is a diagram showing a modified example of the method of manufacturing the magnetic head core substrate according to another embodiment of the present invention.
【図17】本発明の他の実施例の磁気ヘッドコア用基板
の製造方法の変形例を示す図である。FIG. 17 is a diagram showing a modified example of the method of manufacturing the magnetic head core substrate of another embodiment of the present invention.
【図18】従来技術における単位基板の断面図である。FIG. 18 is a cross-sectional view of a unit substrate according to a conventional technique.
【図19】従来技術における磁気ヘッドコア用基板の断
面図である。FIG. 19 is a cross-sectional view of a conventional magnetic head core substrate.
【図20】従来技術における磁気ヘッドコア用基板を用
いた磁気ヘッドを示す斜視図である。FIG. 20 is a perspective view showing a magnetic head using a conventional magnetic head core substrate.
【図21】従来技術における磁気ヘッドコア用基板の製
造に用いられる積層治具を示す図である。FIG. 21 is a diagram showing a stacking jig used for manufacturing a magnetic head core substrate according to a conventional technique.
【図22】従来技術における単位基板の反りを示す断面
図である。FIG. 22 is a cross-sectional view showing a warp of a unit substrate in the related art.
【図23】従来技術における単位基板の楔状形状を示す
断面図である。FIG. 23 is a cross-sectional view showing a wedge shape of a unit substrate according to a conventional technique.
【図24】図23に示す単位基板による積層工程を示す
図である。24 is a diagram showing a laminating process using the unit substrate shown in FIG. 23.
1,31:磁気ヘッドコア用基板,2,32,52:単
位基板,3,53:緩衝基板,4,34:非磁性基板,
5,35:磁性膜,6,36:ガラス膜,14a,14
b:挾圧ブロック。1, 31: magnetic head core substrate, 2, 32, 52: unit substrate, 3, 53: buffer substrate, 4, 34: non-magnetic substrate,
5, 35: magnetic film, 6, 36: glass film, 14a, 14
b: A pressure block.
Claims (11)
挿された緩衝基板とを具備し、上記複数の単位基板及び
上記緩衝基板は、積層状態で接着されてなるとともに、
上記単位基板は、非磁性基板と、この非磁性基板上に被
着された磁性膜とからなることを特徴とする磁気ヘッド
コア用基板。1. A plurality of unit boards, and a buffer board interposed between these unit boards, wherein the plurality of unit boards and the buffer board are bonded in a laminated state, and
The magnetic head core substrate, wherein the unit substrate comprises a non-magnetic substrate and a magnetic film deposited on the non-magnetic substrate.
て接着されていることを特徴とする請求項1記載の磁気
ヘッドコア用基板。2. The magnetic head core substrate according to claim 1, wherein the unit substrate and the buffer substrate are bonded to each other through a glass film.
挿間隔は、単位基板の反りにより生じる応力の大きさに
応じて設けられていることを特徴とする請求項1記載の
磁気ヘッドコア用基板。3. The magnetic field according to claim 1, wherein the number of the buffer boards to be inserted between the unit boards and the interval of the buffer boards are set according to the magnitude of the stress generated by the warp of the unit boards. Substrate for head core.
挿された緩衝基板とを具備し、上記複数の単位基板及び
上記緩衝基板は、積層状態で接着されてなるとともに、
上記単位基板は、非磁性基板と、この非磁性基板上に被
着された磁性膜とからなる磁気ヘッドコア用基板の製造
方法において、上記単位基板の磁性膜上及び上記緩衝基
板の少なくとも片面にガラス膜を形成するガラス膜形成
工程と、上記緩衝基板と上記単位基板を積層する積層工
程と、上記緩衝基板が介挿されている単位基板を積層方
向に加圧する加圧工程と、上記加圧工程にて加圧されて
いる単位基板を上記ガラス膜を介して接着する接着工程
とを具備することを特徴とする磁気ヘッドコア用基板の
製造方法。4. A plurality of unit substrates and a buffer substrate interposed between the unit substrates, wherein the plurality of unit substrates and the buffer substrate are bonded in a laminated state, and
The unit substrate is a non-magnetic substrate and a method for manufacturing a magnetic head core substrate comprising a magnetic film deposited on the non-magnetic substrate, wherein a glass is formed on the magnetic film of the unit substrate and on at least one surface of the buffer substrate. A glass film forming step of forming a film; a laminating step of laminating the buffer substrate and the unit substrate; a pressurizing step of pressurizing a unit substrate in which the buffer substrate is interposed in a stacking direction; And a step of adhering the unit substrate, which has been pressed by the method, through the glass film, to the magnetic head core substrate.
挿された緩衝基板とを具備し、上記複数の単位基板及び
上記緩衝基板は、積層状態で接着されてなるとともに、
上記単位基板は、非磁性基板と、この非磁性基板上に被
着された磁性膜とからなる磁気ヘッドコア用基板の製造
方法において、上記複数の単位基板の磁性膜の厚さ測定
を行う磁性膜測定工程と、この磁性膜測定工程における
測定結果に基づいて上記磁性膜の断面形状が山形の単位
基板を除外し上記磁性膜の断面形状が楔形の単位基板を
選別する単位基板選別工程と、この単位基板選別工程に
て選別された単位基板の磁性膜上にガラス膜を形成する
ガラス膜形成工程と、このガラス膜形成工程の後に上記
単位基板を積層する積層工程と、この積層工程の後に上
記単位基板を積層方向に加圧する加圧工程と、この加圧
工程により加圧されている単位基板を上記ガラス膜を介
して接着する接着工程とを具備し、上記積層工程におい
ては、上記磁性膜の断面形状が楔形の単位基板の厚肉側
端部及び薄肉側端部を利用して、上記単位基板の積層方
向を上記加圧工程における加圧方向に一致させることを
特徴とする磁気ヘッドコア用基板の製造方法。5. A plurality of unit boards and a buffer board interposed between the unit boards, wherein the plurality of unit boards and the buffer board are bonded in a laminated state, and
In the method for manufacturing a magnetic head core substrate, wherein the unit substrate is a non-magnetic substrate and a magnetic film deposited on the non-magnetic substrate, a magnetic film for measuring the thickness of the magnetic films of the plurality of unit substrates. Based on the measurement step and the measurement result in the magnetic film measurement step, the unit substrate selection step of excluding the unit substrate having a mountain-shaped cross section of the magnetic film and selecting the unit substrate having a wedge-shaped cross section of the magnetic film, A glass film forming step of forming a glass film on the magnetic film of the unit substrate selected in the unit substrate selecting step, a laminating step of laminating the unit substrate after the glass film forming step, and a laminating step after the laminating step. The step of pressing the unit substrates in the laminating direction and the step of adhering the unit substrates pressed by the pressing step through the glass film include the magnetic film in the laminating step. A magnetic head core substrate, characterized in that the stacking direction of the unit substrates is matched with the pressing direction in the pressing step by utilizing the thick side end and the thin side end of the unit substrate having a wedge-shaped cross section. Manufacturing method.
基板の一端部が、厚肉側端部,薄肉側端部,薄肉側端
部,厚肉側端部の各順に設けられてなる4枚の単位基板
を1周期として繰り返し積層することを特徴とする請求
項5記載の磁気ヘッドコア用基板の製造方法。6. A laminated magnetic film has a wedge-shaped cross-sectional shape, and one end of a unit substrate is provided in order of a thick side end, a thin side end, a thin side end, and a thick side end. 6. The method for manufacturing a magnetic head core substrate according to claim 5, wherein the four unit substrates are repeatedly laminated in one cycle.
基板の一端部が、厚肉側端部,薄肉側端部,薄肉側端
部,厚肉側端部,薄肉側端部,厚肉側端部,厚肉側端
部,薄肉側端部の各順に設けられてなる8枚の単位基板
を1周期として繰り返し積層することを特徴とする請求
項5記載の磁気ヘッドコア用基板の製造方法。7. A unit substrate having a wedge-shaped cross section of laminated magnetic films has a thick side end, a thin side end, a thin side end, a thick side end, a thin side end, 6. The magnetic head core substrate according to claim 5, wherein eight unit substrates each having a thick-side end portion, a thick-side end portion, and a thin-side end portion provided in this order are repeatedly stacked for one cycle. Production method.
層して接着されてなる単位基板と、これら単位基板間に
介挿して接着され上記単位基板の反りにより生じた応力
を吸収する上記緩衝基板とを具備する磁気ヘッドコア用
基板の製造方法において、上記複数の単位基板の磁性膜
の厚さ測定を行う磁性膜測定工程と、この磁性膜測定工
程における測定結果に基づいて上記磁性膜の断面形状が
山形の単位基板を除外し上記磁性膜の断面形状が楔形の
単位基板を選別する単位基板選別工程と、この単位基板
選別工程にて選別された単位基板の磁性膜上及び上記緩
衝基板の少なくとも片面にガラス膜を形成するガラス膜
形成工程と、このガラス膜形成工程の後に上記緩衝基板
と上記単位基板を積層する積層工程と、上記緩衝基板が
介挿されている単位基板を積層方向に加圧する加圧工程
と、この加圧工程により加圧されている単位基板を上記
ガラス膜を介して接着する接着工程とを具備し、上記積
層工程においては、上記磁性膜の断面形状が楔形の単位
基板の厚肉側端部及び薄肉側端部を利用して、上記単位
基板の積層方向を上記加圧工程における加圧方向に一致
させることを特徴とする磁気ヘッドコア用基板の製造方
法。8. A unit substrate formed by laminating and adhering a plurality of non-magnetic substrates having a magnetic film formed thereon, and inserting and adhering between the unit substrates to absorb stress generated by the warp of the unit substrate. In the method of manufacturing a magnetic head core substrate including the buffer substrate, the magnetic film measuring step of measuring the thickness of the magnetic film of the plurality of unit substrates, and the magnetic film measurement step based on the measurement result in the magnetic film measuring step. A unit substrate selection step of excluding a unit substrate having a mountain-shaped cross section and selecting a unit substrate having a wedge-shaped cross section of the magnetic film, and a magnetic film of the unit substrate selected in the unit substrate selection step and the above A glass film forming step of forming a glass film on at least one surface of the buffer substrate, a laminating step of laminating the buffer substrate and the unit substrate after the glass film forming step, and a single step in which the buffer substrate is interposed. The method comprises a pressing step of pressing the substrates in the stacking direction, and an adhesion step of bonding the unit substrates pressed by the pressing step through the glass film. A magnetic head core substrate, characterized in that the stacking direction of the unit substrates is matched with the pressing direction in the pressing step by utilizing the thick side end and the thin side end of the unit substrate having a wedge-shaped cross section. Manufacturing method.
基板の一端部が、厚肉側端部,薄肉側端部,薄肉側端
部,厚肉側端部の各順に設けられてなる4枚の単位基板
を1周期として繰り返し積層することを特徴とする請求
項8記載の磁気ヘッドコア用基板の製造方法。9. One end of a unit substrate having a wedge-shaped cross section of laminated magnetic films is provided in the order of a thick side end, a thin side end, a thin side end, and a thick side end. 9. The method for manufacturing a magnetic head core substrate according to claim 8, wherein the four unit substrates are repeatedly laminated in one cycle.
位基板の一端部が、厚肉側端部,薄肉側端部,薄肉側端
部,厚肉側端部,薄肉側端部,厚肉側端部,厚肉側端
部,薄肉側端部の各順に設けられてなる8枚の単位基板
を1周期として繰り返し積層することを特徴とする請求
項8記載の磁気ヘッドコア用基板の製造方法。10. A laminated magnetic film having a wedge-shaped cross-sectional shape, wherein one end of a unit substrate has a thick side end, a thin side end, a thin side end, a thick side end, a thin side end, 9. The magnetic head core substrate according to claim 8, wherein eight unit substrates each having a thick-side end portion, a thick-side end portion, and a thin-side end portion are provided in this order in a cycle. Production method.
又は8枚の単位基板の周期ごとに単位基板の反りにより
生じる応力の大きさに応じて選択的に行うことを特徴と
する請求項8記載の磁気ヘッドコア用基板の製造方法。11. A buffer substrate is selectively inserted between unit substrates in accordance with the magnitude of stress generated by the warp of the unit substrates for each cycle of four or eight unit substrates. The method for manufacturing a magnetic head core substrate according to claim 8.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10516295A JPH08297810A (en) | 1995-04-28 | 1995-04-28 | Substrate for magnetic head core and its production |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10516295A JPH08297810A (en) | 1995-04-28 | 1995-04-28 | Substrate for magnetic head core and its production |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH08297810A true JPH08297810A (en) | 1996-11-12 |
Family
ID=14400009
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP10516295A Pending JPH08297810A (en) | 1995-04-28 | 1995-04-28 | Substrate for magnetic head core and its production |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH08297810A (en) |
-
1995
- 1995-04-28 JP JP10516295A patent/JPH08297810A/en active Pending
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