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JPH0827133B2 - 湿潤粉粒体の処理装置 - Google Patents

湿潤粉粒体の処理装置

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Publication number
JPH0827133B2
JPH0827133B2 JP5196818A JP19681893A JPH0827133B2 JP H0827133 B2 JPH0827133 B2 JP H0827133B2 JP 5196818 A JP5196818 A JP 5196818A JP 19681893 A JP19681893 A JP 19681893A JP H0827133 B2 JPH0827133 B2 JP H0827133B2
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JP
Japan
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fluid
granules
wet powder
ejecting
container
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JP5196818A
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勝順 吉田
一郎 小泉
公一 木村
信治 守屋
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Fuji Paudal Co Ltd
Original Assignee
Fuji Paudal Co Ltd
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Publication date
Application filed by Fuji Paudal Co Ltd filed Critical Fuji Paudal Co Ltd
Priority to JP5196818A priority Critical patent/JPH0827133B2/ja
Priority to US08/248,966 priority patent/US5544426A/en
Priority to DE9410985U priority patent/DE9410985U1/de
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Publication of JPH0827133B2 publication Critical patent/JPH0827133B2/ja
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    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29B—PREPARATION OR PRETREATMENT OF THE MATERIAL TO BE SHAPED; MAKING GRANULES OR PREFORMS; RECOVERY OF PLASTICS OR OTHER CONSTITUENTS OF WASTE MATERIAL CONTAINING PLASTICS
    • B29B9/00—Making granules
    • B29B9/16—Auxiliary treatment of granules
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29B—PREPARATION OR PRETREATMENT OF THE MATERIAL TO BE SHAPED; MAKING GRANULES OR PREFORMS; RECOVERY OF PLASTICS OR OTHER CONSTITUENTS OF WASTE MATERIAL CONTAINING PLASTICS
    • B29B13/00—Conditioning or physical treatment of the material to be shaped
    • B29B13/06—Conditioning or physical treatment of the material to be shaped by drying
    • B29B13/065—Conditioning or physical treatment of the material to be shaped by drying of powder or pellets
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F26—DRYING
    • F26B—DRYING SOLID MATERIALS OR OBJECTS BY REMOVING LIQUID THEREFROM
    • F26B7/00—Drying solid materials or objects by processes using a combination of processes not covered by a single one of groups F26B3/00 and F26B5/00
    • F26B7/007—Drying solid materials or objects by processes using a combination of processes not covered by a single one of groups F26B3/00 and F26B5/00 centrifugal fluidised beds

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  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • Glanulating (AREA)
  • Drying Of Solid Materials (AREA)
  • Medical Preparation Storing Or Oral Administration Devices (AREA)
  • Control And Other Processes For Unpacking Of Materials (AREA)
  • Formation And Processing Of Food Products (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は医薬品、食品、農薬、肥
料、飼料、触媒、セラミックス等を取り扱う各種業界、
分野において、主に湿潤状態の粉末原材料を用いて押し
出し造粒法により製造された造粒物の整粒に利用される
ものである。
【０００２】
【従来の技術】一般に、押し出し造粒においては、粉体
原料とバインダーの役目をする液体成分とをニーダー等
により混練し、この混練物をスクリーンを通して押し出
す。押し出された造粒物は自重で適時落下、切断される
ため、この造粒法により得られる造粒物は一般に細長い
円柱状であり、湿潤状態にある粉体原料の可塑性の程度
によって異なるが、アスペクト比（長さ／径）は通常数
１０〜数１００となっている。押し出された造粒物は、
湿潤状態にあるため、従来は種々の乾燥装置で所定の含
水率になるまで乾燥される。乾燥装置としては、例えば
流動層乾燥機、容器回転式乾燥機、バンド乾燥機等が用
いられる。
【０００３】このようにして得られる顆粒は、その最終
使用目的によって要求度は異なるが、一般にはアスペク
ト比（長さ／径）が一定に揃ったものが要求される。例
えば、医薬品における「顆粒剤」の場合は、１０（ｍｅ
ｓｈ）オーバー＝０％、１２（ｍｅｓｈ）オーバー＜５
％、４２（ｍｅｓｈ）アンダー＜１５％であることを必
要とする旨が日局−１１に規定されている。
【０００４】このため、通常、乾燥工程後に乾式の整粒
機を用いて、凝集した造粒物を解砕すると共に、略一定
長さに整粒する。さらに必要に応じて最終工程にて篩機
により粗粒と微粉とを除去してから製品とする場合もあ
る。上述の乾式の整粒機としては、スクリーン内でカッ
ター羽根もしくは解砕バーを回転させるタイプのものが
知られている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】上述のように押し出し
造粒機によりアスペクト比が小さく粒度の揃った顆粒を
連続的に得る場合、従来は、押し出し造粒機→乾燥機→
乾式整粒機→篩い機の工程によって行われるのである
が、以下の点について解決することが要望されている。
【０００６】１） まず乾式整粒機における造粒物の粉
化の問題がある。すなわち乾燥機の造粒物を破砕してス
クリーン等を通すため多くのダストが発生し、歩留りの
低下を招くのである。
【０００７】２） 次に前述の混練物の粘着性が比較的
大きい場合には、スクリーンから押し出された造粒物が
その粘着力により相互にくっつき麺状につながる現象が
起こる問題がある。この場合、後の乾燥工程がバンド型
（静止／通気型）であると造粒物は麺状のまま固着し、
流動層型の場合には造粒物は充分に分散されずブロック
状となる問題が発生し、歩留りの低下および顆粒の乾燥
むらを生ずる。
【０００８】３） さらに顆粒の径が０．５ｍｍ以下の
微細顆粒を得ようとする場合には、大きな押し出し抵抗
が働くため能力の低下や品温が上昇する問題を生ずる。
これを避けようとして液体（バインダー）の量を増加さ
せると、２）に記載したのと同様に、顆粒同士がくっつ
くという問題が起こる。
【０００９】４） 粘着性の大きい、もしくは高含水率
の顆粒を乾燥前に処理しようとすると転動及び衝撃作用
による圧密効果のため、顆粒の表面水分が過剰になり装
置内壁もしくはスクリーンへの原料の付着とか、ブロッ
ク状となる等の問題がおこる。
【００１０】５） また、大量の顆粒を処理するために
は、バッチ式処理で行う装置では困難で、連続的に処理
できる装置が好ましい。本発明はこれらの要望をできる
だけ満足した装置を提供することを目的とするものであ
る。
【００１１】
【課題を解決するための手段】本発明は、湿潤粉粒体の
処理装置であって、円筒状の容器と、該容器内に置かれ
て、該容器の軸心の回りに回転可能であり、回転軸心近
辺に開口を有する円形の処理円板と、該処理円板より上
部にあり、前記容器の内壁から内方向に向けて流体を噴
出する複数個の流体噴出手段と、処理円板上に湿潤粉粒
体を供給する供給手段と、前記開口から落下する粉粒体
を排出する排出手段と、前記処理円板を回転する回転駆
動手段とを備えてなり、主として造粒品の凝集をほぐ
し、そのサイズを揃えるのに用いられる湿潤粉粒体の処
理装置。
【００１２】流体噴出用の前記流体噴出手段が複数個設
けられていて、該複数個の流体噴出手段の噴出角度が全
部同一である場合と各々異なっている場合とがある。ま
た前記流体噴出手段からの流体の噴出方向が、前記処理
円板の回転方向と同じ方向に傾斜されている場合と逆の
方向に傾斜されている場合とがある。流体噴出手段から
の流体の噴出方向が、前記処理円板の回転方向と同じ方
向に傾斜されている場合というのは、流体噴出手段から
噴出する流体の速度ベクトルの円周方向成分が前記処理
円板の回転方向と同じ方向となるように傾斜されている
ことであり、流体噴出手段からの流体の噴出方向が、前
記処理円板の回転方向と逆の方向に傾斜されている場合
というのは、流体噴出手段から噴出する流体の速度ベク
トルの円周方向成分が前記処理円板の回転方向と逆の方
向となるように傾斜されていることである。さらに、前
記容器内に液体成分を加える加液手段を付加する場合も
ある。
【００１３】
【作用】円筒状の容器内にあって、該容器と同軸の処理
円板上に造粒物を載せた状態で処理円板が回転されるこ
とにより、造粒物に転動・解砕作用を生じるとともに、
この処理円板より上部に設けた噴出手段から噴出される
流体により造粒物の表面水分の除去作用および分散・解
砕作用を生じ、これにより、造粒物が整粒される。しか
も、この噴出される流体により、処理円板の回転により
造粒物に与えられる遠心力に打ち勝って、整粒された顆
粒を処理円板の中央部に設けられた開口から連続して排
出可能となる。
【００１４】これにより、押し出し造粒機による湿潤造
粒物を分散・整粒処理し、アスペクト比が小さく長さの
揃った顆粒を連続して生産できる。流体を処理円板の回
転方向と逆方向に傾斜させて噴出させるときは、処理円
板により旋回運動している造粒物にガス流による強い剪
断力を与え、高い分散・整粒効果を生じる。
【００１５】さらにこの逆方向のガス流によって、処理
円板の回転により造粒物に与えられる遠心力に打ち勝っ
て、整粒された顆粒を処理円板の中央部に設けられた開
口からガス流とともに短時間に連続して排出可能とされ
る。流体を処理円板の回転方向と同方向に傾斜させて噴
出させるときは、処理円板により旋回運動をやや持続さ
せながら造粒物にガス流による剪断力を与え、分散・整
粒効果も生じる。
【００１６】
【実施例】以下、本発明に係る実施例を図面に基づいて
説明する。図１は、造粒物を処理する整粒装置に本発明
を適用した場合を示す概念図であり、一部断面にして斜
め上から見た状態を示している。図２は図１に示す整粒
装置の平面図であり、図３は断面図である。
【００１７】これらの図に示す整粒装置は容器１と、容
器１内中央部に設けられた処理円板２と、処理円板２の
上方に設けられた受板１０と処理円板２の下方に設けら
れた排出円板１１とを備えている。受板１０は排出円板
１１の中心に貫設されたシャフト１５の上端に固定さ
れ、処理円板２は排出円板１１の外周部に立設されたサ
ポート材１２の上端に固定されている。シャフト１５の
下端には回転駆動手段（図示せず）が設けられて、受板
１０、処理円板および排出円板を回転する。図示の例で
は受板１０、処理円板２、排出円板１１を一体にして回
転しているが、各板を別個に支持し、別個の回転速度に
よって回転してもよい。
【００１８】処理円板２には中心軸心近辺に開口３が開
けられており、受板１０は開口３より大径の円形に形成
されて、受板１０の外周を越えて落下した造粒物が直接
開口３内に入らないようにしている。なお、押し出し造
粒物を処理円板２上に直接供給する場合は受板を省略す
ることもできる。また図示の例では、押し出し造粒物を
上方から投入しているが、側方から供給してもよい。
【００１９】容器１には上底７と下底８とを有し、上底
７には造粒物Ａを受板１０の上に投入する投入孔１３が
設けられるとともに、容器１の底部には、整粒された造
粒物Ｂを排出する排出孔１４が設けられている。
【００２０】また処理円板２の上部に位置する容器側壁
１ａには、流体である空気或いはガスを内方に向けて噴
出する噴出手段であるノズル４が周方向に複数個設けら
れている。５は圧力チャンバーであり、６は流体供給路
である。なお、処理円板２より上であって流体噴出手段
からの噴出流体による作用を受ける領域をワークゾーン
という。受板１０を備える場合は、処理円板２の面と受
板１０の面との間によって形成される領域をワークゾー
ンという。
【００２１】押出し造粒機から押し出された造粒物Ａは
容器１の上部の投入孔１３から連続的に供給され、まず
受板１０によって分散され、受板１０の遠心力によって
外周部へ向かうとともに旋回しながら下降しワークゾー
ン３０に入る。ワークゾーン内の造粒物は、処理円板２
と接することにより、自転・公転を伴う旋回運動をし、
処理円板２および容器内壁１ａとの摩擦・剪断作用によ
り解砕される。なお、処理円板２のワークゾーン側の表
面には摩擦効果を高め、解砕作用を増大させるため凹凸
を設けてもよい。
【００２２】一方、ワークゾーンの外周部、すなわち容
器内壁のノズル４から流体として例えばガス（空気）が
内方に向けて噴出されているので、ノズル近傍にきた造
粒物は噴出流体によってその方向を変えられ、さらに噴
出流体によって運ばれ処理円板２の中央部に設けられた
開口３を通って下部の排出円板１１上に運ばれる。排出
円板１１の上に落下した顆粒Ｂは、回転する排出円板の
遠心力により、その容器側壁１ａに設けられた排出孔１
４を通って整粒機外に取り出される。開口３から落下し
た顆粒の排出は、排出円板に代えて間欠的に掻きだして
もよくあるいは排出孔を傾斜して形成しておき、直接排
出孔に導いてもよい。
【００２３】図４は本発明による整粒機１００を用いた
システム例を示す。整粒機上部には押し出し造粒機２０
が配置され、この押し出し造粒機２０からの湿潤造粒物
Ａは投入孔１３を通って整粒機１００に供給される。一
方、流体であるガス流はブロアー２１からガスヒーター
（もしくはガスクーラー）２２を通って、圧力チャンバ
ー５に入り、ノズル４からワークゾーン３０に噴出され
る。
【００２４】ワークゾーンにおいて、処理円板２の回転
とノズル４からのガス流とにより整粒された顆粒は、排
出孔１４を通ってサイクロン２３で捕集され、サイクロ
ン２３の下部に設けられたロータリーバルブ２４等を介
して後工程の乾燥機等に連続して供給される。このシス
テムでは、サイクロンからのダストを含む排気ガスをバ
ッグフイルター２５を通すことにより浄化している。な
お、排風用としてブロアー２６が用いられている。
【００２５】次に、整粒機１００の機内における原料で
ある造粒物の挙動を説明する。図５、図６、図７はこの
挙動を示す図である。図５、図６は容器１内における受
板１０および処理円板２の上における造粒物の挙動を平
面視により示し、図７は受板１０、処理円板２、排出円
板１１の上における造粒物の挙動を斜視的に示したもの
である。これらの図において、受板１０、処理円板２お
よび排出円板１１は、いずれも矢印４０の方向に回転さ
れており、容器１の内壁に設けられた複数のノズル４か
らは矢印４４の方向に流体が噴出されている。
【００２６】図５、６、７において、点線４１は受板１
０の回転による原料の軌跡を示し、線４２は処理円板２
による原料の旋回軌跡を示し、点線４３は処理円板２に
よる原料の移動軌跡を示し、矢印４４はノズル４からの
ガス流の噴出方向を示し、線４５はガス流による原料の
軌跡を示し、点線４６は排出円板１１による原料の軌跡
を示している。
【００２７】図７において、押し出し造粒機からの造粒
物Ａは投入孔１３から供給され、処理円板２の上に落下
すると、その遠心力によって原料は矢印４１のような軌
跡を描き、容器１の内壁に沿ってワークゾーン３０に入
る。ワークゾーンでは、原料は処理円板２の遠心力及び
処理円板表面と容器１内壁との摩擦力により、矢印４２
に示すような「縄をよじった渦巻き状」の運動をし、見
かけ状は処理円板２の外周面にドーナツ状に分布し、全
体としては矢印４３の方向に旋回する。
【００２８】一方、複数のノズル４からガス流が矢印４
４の方向に噴出しているため、矢印４３の方向に進んで
きた原料はノズル４近辺において逆方向のガス流により
その遠心力が弱められ、ガス流により矢印４５の方向、
即ち開口３の方向に向かう。
【００２９】次に、造粒物の分散、解砕作用について説
明する。粘着力の大きい、または高含水率の押し出し造
粒物は、押し出しダイから出た直後では麺状につながっ
ており、しかも相互に付着・凝集している。これらが、
まず最上段の受板１０の中央部に落下すると、遠心力に
より外方向に飛び散り第１次の分散作用を受ける。
【００３０】次に、ワークゾーンでは上述の渦巻状の運
動により自転・公転作用を受けて、長い造粒物は切断、
解砕されるが、この時、ガス流により表面の過剰液分が
除去されるため、粒子相互の凝集が防止されると共に円
板や容器内壁への付着も防止される。さらに比較的高速
のガス流によっても分散・解砕され造粒物どうしの衝突
も起こるため、そのアスペクト比は非常に短時間で小さ
くなる。またこの自転、公転効果は処理円板２の表面に
凸状物を設けると一層増大する。
【００３１】本発明に係る整粒機により得られる顆粒の
品質、処理能力等に影響を及ぼす設計上、運転上のパラ
メーターとしては、処理円板の回転数、処理円板の開口
の大きさ、ノズル数、ノズル角度、円板回転方向に対す
るノズルの噴出方向、ガス流の速度、ガス流の流量等が
挙げられ、これらについては、被処理物の物性を考慮し
て最適値が選ばれる。たとえば、押し出し造粒物の強度
が大きい場合には、処理円板の回転数を大きくすると共
にノズル数及びガス流量も多くし、解砕エネルギーを増
加させた運転とする。
【００３２】造粒物の強度がさらに大きい場合には、ノ
ズルの一部を円板の回転方向と同一とし、これらノズル
からのガス流速を大きくしガス流と造粒物との衝突及び
造粒物同士の衝突作用を増大させる。逆に、造粒物の強
度が小さい場合には、円板回転数を小さくするとともに
ノズル数及びガス流量を減少させ、解砕エネルギーを抑
えた運転とする。
【００３３】また、顆粒の品質に関しては、例えばアス
ペクト比のできるだけ小さい物を得ようとする場合に
は、機内のホールドアップ量を多くして造粒物の機内に
おける滞留時間を長くとることが必要である。この機内
におけるホールドアップ量とは、図８に示す回転円板２
上に形成される渦巻状の原料の旋回物４２のことを示
し、見かけ上は円板２の外周部にドーナツ状に分布する
原料の旋回層を示す。
【００３４】機内における原料には、これが円周方向に
旋回することに起因する遠心力が働き、この力は原料を
円周の外周方向に押しやる作用を持つ。一方、機内には
ガス流が円板２の開口部３に流れ込むことに起因する半
径方向のガス流の速度成分が存在する。原料にはこのガ
ス流による抗力が働き、この力は原料を処理円板２の中
央部へ運ぶ作用を持つ。
【００３５】機内の原料のホールドアップ量は上記の２
つの力のバランスにより決定されることになる。よって
このホールドアップ量を多くするためには、ノズルから
のガス流量を小さくし、ガス流の半径方向の速度成分を
下げるほか、円板の回転数を大きくし原料に大きな遠心
力を与えればよい。そのほか、図９に示すように、処理
円板２の開口３周縁に原料排出抑制のためにリング状の
堰４７を設けることも有効である。
【００３６】図１０から図１３は、ノズルの方向、角度
についての例を示すもので、処理円板２は矢印４０の方
向に回転し、ノズル４が８個設けられた場合を示してい
る。図１０は全部のノズルからのガス流が処理円板と逆
方向に噴出されている場合を示す。図１１は全部のガス
流が円板の半径方向、即ち円板の中心に向かって噴出さ
れている場合を示す。図１２は、全部のノズルからのガ
ス流が円板と同方向に傾斜されて噴出される場合を示
す。図１３は８個のノズルの内、２個のノズル４−１，
４−２が円板と同方向に傾斜され、他の６個は円板と逆
方向に傾斜されている場合を示している。
【００３７】なお、図１０から図１３においては、全て
のノズルは同一平面にある場合を示しているが、各ノズ
ルの処理円板からの高さが異なっていてもよい。即ち、
ノズルの位置を高さ方向に複数段とし、それらの角度及
び方向が異なるものを使用してもよい。
【００３８】また、本発明による整粒機は、さらに広範
囲な物性の原料の取り扱いを可能とする目的で、種々の
機能を付加することもできる。例えば、非常に含水率の
高い造粒物の場合は図３に示すように、整粒機１００の
手前にガスヒーター２２を付加することにより、乾燥能
力を高め、ブロックの発生や付着を防ぐことができる。
【００３９】またできるだけアスペクト比が小さく、球
状な顆粒を得ようとする場合には、機内の滞留時間を長
くとることが必要となる。しかしながら滞留時間を長く
とると造粒物中の水分の蒸発が進み、その結果、造粒物
が小さくなり粉化を招く場合が多い。このような場合に
は、ワークゾーンにおいて例えばガス噴出ノズルの一部
を２流体ノズルとし、コーティング液をスプレイして造
粒物の含水率を一定のレベルに保ち、粉化を防止するこ
とができる。
【００４０】さらに、図３に示すように、整粒機の排出
部１４にサイクロン、バッグフィルター等と共に排風用
のブロアー２６を連結することにより、整粒機内部の静
圧をコントロールすることが可能であり、たとえば大気
圧より若干低くすることにより、造粒機２０と整粒機１
００を密閉しなくてもスムースな造粒物の供給が可能と
なる。また、この排風ブロアーの静圧、風量を適当に選
べば、サイクロンもしくはバッグフィルターからの製品
顆粒の取出を整粒機から離れた位置で行うことが可能で
あり、空気輸送の機能が付加される。
【００４１】
【発明の効果】次に、本発明により実施した整粒機を用
いてテストした結果により、本発明の効果を説明する。 １）テスト装置、条件及び原材料の仕様 テストに用いた装置の仕様及び運転条件を表１に示す。
【００４２】
【表１】
【００４３】テストに用いた原料の仕様を表２に示す。
【００４４】
【表２】
【００４５】押し出し造粒機は、２軸の前押し出し式タ
イプを用い、押し出し造粒物の径はφ０．５ｍｍとし
た。
【００４６】２）テスト結果 上記の造粒機からφ０．５ｍｍの押し出し造粒物を、１
５００（ｋｇ／ｈｒ．）で連続して本発明による整粒機
にかけ、その後流動層乾燥機にて乾燥して得られた顆粒
を顕微鏡写真に撮影し、２００個の顆粒について、その
アスペクト比を測定した結果を表３及び図８に示す。
【００４７】次に、同じ押し出し造粒物を本発明による
整粒機にかけずに、直接に流動層乾燥機に投入し、その
後従来の乾式整粒機（φ２スクリーン＆カッター羽根）
を通した物のアスペクト比の測定結果を表４及び図９に
示す。従来の乾式整粒機の場合、顆粒の平均アスペクト
比が約４であるのに対し、本発明による整粒機では２と
なっており、またそのバラツキも小さい値であった。
【００４８】さらに、両者に於ける粉化の程度を見るた
め、１００（Ｍｅｓｈ）のフルイ通過量を調べたとこ
ろ、従来乾式整粒機では１．５％であるのに対し、本発
明の整粒機では０．３％と約５分の１であった。そし
て、本発明は以下の通りの効果を奏することが判った。
【００４９】１） 押し出し造粒物を湿潤状態で分散・
解砕でき、ダストの発生の少ない整粒機を提供すること
を可能とした。 ２） 粘着性の大きい、あるいは高含水率の混練物であ
っても、麺状顆粒の分散・整粒が可能であり、後工程の
乾燥工程においてブロック状となるのを防止することが
できた。 ３） 湿潤状態の押し出し品を連続的に処理しアスペク
ト比が小さく、長さの揃った顆粒を量産できた。 ４） 顆粒の分散・整粒にガス（エアー）を用いるため
装置内部への原料付着がほとんど無く、安定して連続運
転ができた。 ５） 上記した分散・整粒用のガスの温度及び湿度をコ
ントロールすることにより、整粒と同時に顆粒の加熱、
冷却及び表面水分の除去等の複合操作も可能である。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明による整粒機の斜視図である。
【図２】本発明による整粒機の平面図である。
【図３】本発明による整粒機の正面からみた断面図であ
る。
【図４】本発明により整粒機を含むシステムのフローシ
ートを示す図である。
【図５】図３のＸ−Ｘ断面図である。
【図６】図３のＹ−Ｙ断面図である。
【図７】整粒機内の原料の挙動を示す斜視図である。
【図８】整粒機内のホールドアップを示す断面図であ
る。
【図９】整粒機内のホールドアップを示す断面図であ
る。
【図１０】ノズルからのガス流の方向、角度の例を示す
平面図である。
【図１１】ノズルからのガス流の方向、角度の例を示す
平面図である。
【図１２】ノズルからのガス流の方向、角度の例を示す
平面図である。
【図１３】ノズルからのガス流の方向、角度の例を示す
平面図である。
【図１４】本発明による整粒機により得られた顆粒のア
スペクト比のグラフである。
【図１５】従来の乾式整粒機により得られた顆粒のアス
ペクト比のグラフである。
【符号の説明】
１ 容器 ２ 処理円板 ３ 開口 ４ ノズル ５ 圧力チャンバー １０ 受板 １１ 排出円板 １３ 投入孔 １５ シャフト ２０ 押し出し造粒機 ３０ ワークゾーン ４０ 処理円板の回転方向 ４１ 受板による原料の軌跡 ４２ 処理円板による原料の旋回軌跡 ４３ 処理円板による原料の移動軌跡 ４４ ガス流の噴出方向 ４５ ガス流による原料の軌跡
【表３】
【表４】
フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｆ２６Ｂ 3/08 17/12 (56)参考文献 特開 昭61−245832（ＪＰ，Ａ) 特開 昭50−41780（ＪＰ，Ａ) 特開 昭49−83675（ＪＰ，Ａ)

Claims (11)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 円筒状の容器と、 該容器内に置かれて、該容器の軸心の回りに回転可能で
    あり、回転軸心近辺に開口を有する円形の処理円板と、 該処理円板より上部にあり、前記容器の内壁から内方向
    に向けて流体を噴出する複数個の流体噴出手段と、 処理円板上に湿潤粉粒体を供給する供給手段と、 前記開口から落下する粉粒体を排出する排出手段と前記処理円板を回転する回転駆動手段 とを備えてなり、
    主として造粒品の凝集をほぐし、そのサイズを揃えるの
    に用いられる湿潤粉粒体の処理装置。
  2. 【請求項２】 流体噴出用の前記流体噴出手段が複数個
    設けられ、該複数個の流体噴出手段の噴出角度が全部同
    一である請求項１記載の湿潤粉粒体の処理装置。
  3. 【請求項３】 流体噴出用の前記流体噴出手段が複数個
    設けられ、該複数個の流体噴出手段の噴出角度が異なる
    請求項１記載の湿潤粉粒体の処理装置。
  4. 【請求項４】 前記流体噴出手段から噴出する流体の速
    度ベクトルの円周方向成分が前記処理円板の回転方向と
    同じ方向となるように傾斜されている請求項１から３の
    いずれかに記載の湿潤粉粒体の処理装置。
  5. 【請求項５】 前記流体噴出手段から噴出する流体の速
    度ベクトルの円周方向成分が前記処理円板の回転方向と
    逆の方向となるように傾斜されている請求項１から３の
    いずれかに記載の湿潤粉粒体の処理装置。
  6. 【請求項６】 前記流体噴出手段から噴出する流体の速
    度ベクトルの円周方向成分が前記処理円板の回転方向と
    同じ方向となるように傾斜されたものと、逆の方向とな
    るように傾斜されたものとを備えている請求項３に記載
    の湿潤粉粒体の処理装置。
  7. 【請求項７】 前記流体噴出手段が軸方向に多段に設け
    られ、各段の流体噴出手段の傾斜方向が同じである請求
    項１に記載の湿潤粉粒体の処理装置。
  8. 【請求項８】 前記流体噴出手段が軸方向に多段に設け
    られ、各段の流体噴出手段の傾斜方向が異なる請求項１
    に記載の湿潤粉粒体の処理装置。
  9. 【請求項９】 前記容器内に液体成分を加える加液手段
    を有する請求項１から８のいずれかに記載の湿潤粉粒体
    の処理装置。
  10. 【請求項１０】 前記供給手段が押し出し造粒機である
    請求項１から９のいずれかに記載の湿潤粉粒体の処理装
    置。
  11. 【請求項１１】 前記開口を覆う大きさの受板が、前記
    開口上方に設置され、該受板に回転駆動手段が連結さ
    れ、湿潤粉粒体が該受板上に供給された後処理円板上に
    供給されてなる請求項１から１０のいずれかに記載の湿
    潤粉粒体の処理装置。
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