JPH08267760A - Hole forming method - Google Patents
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- JPH08267760A JPH08267760A JP7075376A JP7537695A JPH08267760A JP H08267760 A JPH08267760 A JP H08267760A JP 7075376 A JP7075376 A JP 7075376A JP 7537695 A JP7537695 A JP 7537695A JP H08267760 A JPH08267760 A JP H08267760A
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Landscapes
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、光エネルギーにより被
加工物の厚さ方向に対して傾斜する孔部を形成する孔部
形成方法に関する。詳しくは、被加工物のエネルギー集
中部に凹凸部を設け、光エネルギーの入射角が臨界角を
越えても光エネルギーが反射されないようにし、被加工
物の厚さ方向に対する傾斜角の大きな孔部の形成を可能
にする孔部形成方法に係るものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a hole forming method for forming a hole inclined with respect to the thickness direction of a workpiece by light energy. More specifically, a concavo-convex part is provided in the energy concentration part of the work piece so that the light energy is not reflected even when the incident angle of the light energy exceeds the critical angle, and the hole part has a large inclination angle with respect to the thickness direction of the work piece. The present invention relates to a hole forming method that enables formation of a hole.
【0002】[0002]
【従来の技術】近年、記録信号に応じてインク液滴をノ
ズルより吐出して紙,フィルム等の記録媒体に記録す
る、いわゆるオンデマインド型のプリンタ装置が、小型
化,低コスト化が可能であることから、急速に普及しつ
つある。2. Description of the Related Art In recent years, a so-called on-de-mind type printer, which ejects ink droplets from a nozzle in accordance with a recording signal to record on a recording medium such as paper or film, can be downsized and reduced in cost. Therefore, it is rapidly spreading.
【0003】ところで、最近では、文字や図形だけでな
く、写真用のカラーの自然画像を文字,図形とともに出
力するといった要求も増加してきている。そして、これ
に伴い、高品位な自然画像をプリントすることが要求さ
れ、中間調の再現が重要となってきている。By the way, recently, in addition to characters and figures, there is an increasing demand for outputting color natural images for photographs together with characters and figures. Along with this, it is required to print high-quality natural images, and the reproduction of halftones has become important.
【0004】そこで本発明者等は、中間調の再現を可能
とするために、インクと希釈液を混合してインク溶液と
し、上記インク溶液の濃度を変化させ、上記インク溶液
の吐出により印刷されるドットの濃度を制御することを
可能にし、解像度の劣化を発生させることなく自然画像
をプリントアウトする印刷用ヘッドを提案してきた。Therefore, in order to enable reproduction of halftones, the present inventors mixed ink and diluent to form an ink solution, changed the concentration of the ink solution, and printed by ejecting the ink solution. We have proposed a printing head that makes it possible to control the density of dots, and prints out a natural image without causing deterioration of resolution.
【0005】このような印刷用ヘッドは、インク或いは
希釈液を吐出させるための力をインク或いは希釈液に加
える部分(例えばピエゾ素子や発熱素子を備えるインク
溜まり及び希釈液溜まり)とインク或いは希釈液に吐出
方向を与えるノズル部分(いわゆるオリフィスプレー
ト)により構成されている。In such a printing head, a portion for applying a force for ejecting the ink or the diluent to the ink or the diluent (for example, an ink reservoir including a piezo element or a heating element and a diluent reservoir) and the ink or the diluent. It is composed of a nozzle portion (so-called orifice plate) that gives a discharge direction to the.
【0006】そして、上記オリフィスプレートには、イ
ンク用のノズルとなる貫通孔と希釈液用のノズルとなる
貫通孔が形成されているが、これら貫通孔は非常に径の
小さい孔である。The orifice plate is formed with a through hole which serves as a nozzle for ink and a through hole which serves as a nozzle for diluting liquid, and these through holes have very small diameters.
【0007】従って、上記貫通孔の形成は、最小寸法に
限界があること、複数個作製する場合に切刃の磨耗など
により開口寸法の精度が良くないことから、ボール盤や
ドリルを用いた方法では不可能である。また、上記貫通
孔の形成は、超音波による方法でも困難である。Therefore, the method of using a drilling machine or a drill is not suitable for forming the through holes because the minimum size is limited, and the accuracy of the opening size is not good due to abrasion of the cutting edge when producing a plurality of holes. It is impossible. Further, it is difficult to form the through holes even by a method using ultrasonic waves.
【0008】なお、上記貫通孔の形成に、半導体製造プ
ロセス等に使用されているリアクティブイオンエッチン
グ(RIE)やイオンミリング等の手法を用いることも
考えられるが、オリフィスプレートとして使用できる厚
さの被加工物を上記手法により加工すると、多大な時間
を要するため、これらの手法は適さない。It is also possible to use a technique such as reactive ion etching (RIE) or ion milling used in the semiconductor manufacturing process or the like to form the through hole, but the thickness which can be used as an orifice plate is required. If the workpiece is processed by the above methods, it takes a lot of time, and therefore these methods are not suitable.
【0009】[0009]
【発明が解決しようとする課題】また、本発明者等はオ
リフィスプレートに形成されるインク用のノズルとなる
貫通孔と希釈液用のノズルとなる貫通孔のうち少なくと
も一方をオリフィスプレートの厚さ方向に対して斜めに
形成するオリフィスプレートも提案しているが、このよ
うな斜めとされる貫通孔を上記ボール盤やドリルを用い
た方法や超音波による方法により形成するのは非常に困
難である。Further, the inventors of the present invention have found that at least one of a through hole which is a nozzle for ink and a through hole which is a nozzle for diluting liquid formed in the orifice plate has a thickness of the orifice plate. Although an orifice plate that is formed obliquely to the direction is also proposed, it is very difficult to form such an oblique through hole by a method using the drilling machine or the drill or a method using ultrasonic waves. .
【0010】そこで、上記のように径が小さく、斜め方
向に形成する必要が生じる可能性のあるオリフィスプレ
ートの貫通孔は、レーザー等の光エネルギーを照射する
ことにより形成するようにしている。上記レーザーは、
ビームを細く絞り、照射径を小さくすることが可能であ
るため、径の小さい孔部を形成するのに非常に適してい
る。なお、上記レーザーとしては、エキシマレーザーの
他、炭酸ガスレーザー,YAGレーザー等が挙げられ
る。Therefore, the through hole of the orifice plate, which has a small diameter and may need to be formed in an oblique direction as described above, is formed by irradiating light energy such as a laser. The laser is
Since the beam can be narrowed down and the irradiation diameter can be reduced, it is very suitable for forming a hole portion having a small diameter. Examples of the laser include an excimer laser, a carbon dioxide gas laser, a YAG laser, and the like.
【0011】上記のようにレーザーで加工を行う場合、
形成しようとする貫通孔の傾斜角と同一の傾斜角を有す
るレーザー光を被加工物の表面方向から照射し、レーザ
ー光の進行方向に貫通孔を形成する。When laser processing is performed as described above,
Laser light having the same inclination angle as that of the through hole to be formed is irradiated from the surface direction of the workpiece to form the through hole in the traveling direction of the laser light.
【0012】しかしながら、貫通孔の傾斜角があまり大
きいと、レーザーによる加工も不可能となる。図23に
示すように、屈折率n1 の第1の媒体中に図中矢印Lで
示すレーザー光を照射し、屈折率n2 の第2の媒体中に
レーザー光を入射させた場合においてレーザー光Lの第
1の媒体中における傾斜角をθ、第2の媒体中における
傾斜角をαとする。このとき、sinθ/sinα=n
1 /n2 が成り立つ。そして、上記傾斜角αが90°と
なってしまうと、当然のことながらレーザー光Lは全反
射されてしまう。すなわち、sinθ=n1 /n2 とな
り、これを満足する傾斜角θ以上の傾斜角を有する貫通
孔をレーザーにより加工することは不可能となる。つま
り、図24に示すように、被加工物101にその表面1
01a側から図中矢印L1 で示すレーザー光を照射して
も、表面101aにより図中矢印L2 で示すように反射
されてしまう。However, if the inclination angle of the through hole is too large, laser processing becomes impossible. As shown in FIG. 23, when the laser light indicated by the arrow L in the figure is irradiated into the first medium having the refractive index n 1 and the laser light is made incident on the second medium having the refractive index n 2 , the laser light is emitted. The inclination angle of the light L in the first medium is θ, and the inclination angle in the second medium is α. At this time, sin θ / sin α = n
1 / n 2 holds. When the inclination angle α is 90 °, the laser light L is naturally totally reflected. That is, sin θ = n 1 / n 2 , and it becomes impossible to process a through hole having an inclination angle of θ or more satisfying this with a laser. That is, as shown in FIG.
Even when the laser beam shown by the arrow L 1 in the figure is irradiated from the 01a side, the laser beam is reflected by the surface 101a as shown by the arrow L 2 in the figure.
【0013】そこで本発明は、従来の実情に鑑みて提案
されたものであり、光エネルギーを使用して傾斜角の大
きい孔部の形成を可能とする孔部形成方法を提供するこ
とを目的とする。Therefore, the present invention has been proposed in view of the conventional circumstances, and an object thereof is to provide a hole forming method capable of forming a hole having a large inclination angle by using light energy. To do.
【0014】[0014]
【課題を解決するための手段】上述の目的を達成するた
めに本発明者等は鋭意検討した結果、被加工物の光エネ
ルギーの集中する部分に凹凸部を形成するようにすれ
ば、光エネルギーの反射する方向に壁が形成される、或
いは光エネルギーの食いつきが改善され、光エネルギー
が反射されないことから、光エネルギーの傾斜角が大き
くてもそのまま加工が始まることを見い出した。Means for Solving the Problems As a result of intensive studies made by the present inventors in order to achieve the above object, as a result of forming an uneven portion in a portion of the workpiece where the light energy is concentrated, the light energy is reduced. It has been found that, even if the inclination angle of the light energy is large, a wall is formed in the direction in which the light is reflected, or the bite of the light energy is improved and the light energy is not reflected, so that the processing starts as it is.
【0015】すなわち、本発明の孔部形成方法は、被加
工物のエネルギー集中部に凹凸部を設け、この凹凸部に
光エネルギーを照射して被加工物の厚さ方向に対して傾
斜する孔部を形成することを特徴とするものである。That is, in the hole forming method of the present invention, a concavo-convex portion is provided in the energy concentration portion of the workpiece, and the concavo-convex portion is irradiated with light energy to incline with respect to the thickness direction of the workpiece. It is characterized by forming a part.
【0016】なお、上記被加工物の凹凸部は、被加工物
の射出成形時に一体的に形成されても良い。The uneven portion of the work piece may be integrally formed during injection molding of the work piece.
【0017】また、上記被加工物の凹凸部は、サンドブ
ラスト法,化学エッチング法,研磨ブラシにより形成さ
れても良い。Further, the uneven portion of the workpiece may be formed by a sandblast method, a chemical etching method, or a polishing brush.
【0018】さらに、上記光エネルギーはレーザーであ
ることが好ましく、エキシマレーザーであることがより
好ましい。Further, the light energy is preferably a laser, more preferably an excimer laser.
【0019】さらにまた、上記被加工物は有機材料,無
機材料,金属材料のいずれでも良い。Furthermore, the work piece may be an organic material, an inorganic material or a metal material.
【0020】そして、本発明の孔部形成方法は、オリフ
ィスプレートの貫通孔を形成するのに適しており、この
場合、被加工物の孔部形成部分の厚さは15μm〜20
0μmであることが好ましい。The hole forming method of the present invention is suitable for forming the through hole of the orifice plate, and in this case, the thickness of the hole forming portion of the workpiece is 15 μm to 20 μm.
It is preferably 0 μm.
【0021】[0021]
【作用】本発明の孔部形成方法においては、被加工物の
エネルギー集中部に凹凸部を設け、この凹凸部に光エネ
ルギーを照射するため、光エネルギーの反射する方向に
壁が形成される、或いは光エネルギーの食いつきが改善
され、光エネルギーの傾斜角が大きく、臨界角を越えて
いても反射されることなくそのまま加工が始まり、被加
工物の厚さ方向に対して傾斜する孔部が形成される。In the method of forming a hole of the present invention, the uneven portion is provided in the energy concentration portion of the workpiece, and the uneven portion is irradiated with the light energy, so that the wall is formed in the direction in which the light energy is reflected. Alternatively, the bite of the light energy is improved, the inclination angle of the light energy is large, and even if it exceeds the critical angle, the processing starts without reflection, and the hole that is inclined with respect to the thickness direction of the workpiece is formed. To be done.
【0022】なお、上記被加工物の凹凸部を被加工物の
射出成形時に一体的に形成すれば、被加工物の加工が容
易に一度に大量に行われる。If the uneven portions of the work piece are integrally formed during injection molding of the work piece, the work piece can be easily processed in large quantities at one time.
【0023】また、上記被加工物の凹凸部を、サンドブ
ラスト法,化学エッチング法,研磨ブラシにより形成す
れば、上記凹凸部が微小な凹凸部として加工される。If the uneven portion of the workpiece is formed by a sandblast method, a chemical etching method, or a polishing brush, the uneven portion is processed as a minute uneven portion.
【0024】さらに、上記光エネルギーとしてレーザー
を用いれば径の小さい孔部の加工が容易になされ、レー
ザーとしてエキシマレーザーを使用すれば、被加工物に
発熱を起こすことなく加工が行われる。Further, if a laser is used as the above-mentioned light energy, a hole having a small diameter can be easily processed, and if an excimer laser is used as a laser, the work can be processed without generating heat.
【0025】[0025]
【実施例】以下、本発明を適用した具体的な実施例につ
いて図面を参照しながら詳細に説明する。なお、本実施
例においては、本発明の孔部形成方法をオリフィスプレ
ートの製造に適用した例について述べる。DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Specific embodiments to which the present invention is applied will be described in detail below with reference to the drawings. In this example, an example in which the hole forming method of the present invention is applied to the manufacture of an orifice plate will be described.
【0026】本実施例において製造されるオリフィスプ
レートを図1に示す。上記オリフィスプレートは、オリ
フィスプレート11の一方の面11aから他方の面11
bへと貫通して設けられた一対の貫通孔1,2を有し、
その貫通孔1,2の一方の主面11aに呈する開口が液
体供給口1a,2aとされ、他方の主面11bに呈する
開口が液体吐出口1b,2bとされてなるものである。The orifice plate manufactured in this embodiment is shown in FIG. The orifice plate includes one surface 11a of the orifice plate 11 to the other surface 11a.
b has a pair of through holes 1 and 2 penetrating to b,
The openings provided on one main surface 11a of the through holes 1 and 2 are liquid supply ports 1a and 2a, and the openings provided on the other main surface 11b are liquid ejection ports 1b and 2b.
【0027】そして、上記オリフィスプレート11にお
いては、一方の貫通孔2がオリフィスプレート11の厚
さ方向に対して傾きを有して斜めに形成され、他方の貫
通孔1がオリフィスプレート11の厚さ方向に対して平
行に形成されている。なお、以下、一方の貫通孔2を第
1の貫通孔2と称し、他方の貫通孔1を第2の貫通孔1
と称する。さらに、第1の貫通孔2が液体吐出口2bに
近づくに従い、第2の貫通孔1の液体吐出口1bに近づ
いていくようになされている。In the orifice plate 11, one through hole 2 is formed obliquely with an inclination with respect to the thickness direction of the orifice plate 11, and the other through hole 1 is formed in the thickness of the orifice plate 11. It is formed parallel to the direction. Hereinafter, one through hole 2 is referred to as a first through hole 2, and the other through hole 1 is referred to as a second through hole 1.
Called. Further, as the first through hole 2 approaches the liquid ejection port 2b, it approaches the liquid ejection port 1b of the second through hole 1.
【0028】また、上記オリフィスプレートにおいて
は、第1の貫通孔2をインク用のノズルとしており、第
2の貫通孔1を希釈液用のノズルとしている。In the above orifice plate, the first through hole 2 is used as an ink nozzle, and the second through hole 1 is used as a diluting liquid nozzle.
【0029】さらにまた、上記オリフィスプレート11
においては、図1及び図2に示すように、第1,2の貫
通孔2,1の断面積が液体供給口2a,1a側から液体
吐出口2b,1b側に向かって小さくなっている。すな
わち、第1,2の貫通孔2,1の液体供給口2a,1a
側の断面積をそれぞれS2a ,S1a とし、液体吐出口
2b,1b側の断面積をそれぞれS2b ,S1b とした
場合、S2b <S2a、S1b <S1a の関係が成り立
つこととなる。Furthermore, the above-mentioned orifice plate 11
In FIG. 1, as shown in FIGS. 1 and 2, the cross-sectional areas of the first and second through holes 2 and 1 decrease from the liquid supply ports 2a and 1a side toward the liquid discharge ports 2b and 1b side. That is, the liquid supply ports 2a, 1a of the first and second through holes 2, 1
When the cross-sectional areas on the side are S2 a and S1 a, and the cross-sectional areas on the liquid discharge ports 2b and 1b are S2 b and S1 b , respectively, the relationship of S2 b <S2 a and S1 b <S1 a is established. Becomes
【0030】さらに、上記オリフィスプレートにおいて
は、その厚さは液滴の飛翔方向を安定化するため、また
高くなった液体の圧力に耐え得るように、15〜100
μm程度とされている。Further, in the above orifice plate, its thickness stabilizes the flight direction of the liquid droplets, and in order to withstand the increased pressure of the liquid, the thickness is 15 to 100.
It is about μm.
【0031】次に、本実施例により製造されたオリフィ
スプレートを使用した印刷用ヘッドを示す。上記印刷用
ヘッドは、図3に示すように、上記オリフィスプレート
11の第1の貫通孔2の液体供給口2a側に内部にイン
ク6の充填されている箱状のインク溜まり16を配し、
第2の貫通孔1の液体供給口1a側に内部に希釈液5の
充填されている箱状の希釈液溜まり15を配したキャリ
アジェットタイプのものである。そして、上記希釈液溜
まり15の底面15aには発熱素子3が配され、上記イ
ンク溜まり16の底面16aには発熱素子4が配されて
いる。Next, a printing head using the orifice plate manufactured according to this embodiment will be shown. As shown in FIG. 3, the printing head has a box-shaped ink reservoir 16 filled with ink 6 inside the first through hole 2 of the orifice plate 11 on the liquid supply port 2a side.
This is a carrier jet type in which a box-shaped diluting liquid reservoir 15 filled with the diluting liquid 5 is arranged on the liquid supply port 1a side of the second through hole 1. The heating element 3 is disposed on the bottom surface 15a of the diluent reservoir 15, and the heating element 4 is disposed on the bottom surface 16a of the ink reservoir 16.
【0032】従って、上記印刷用ヘッドにより印刷を行
う場合には、先ず、図3中に示すように、インク溜まり
16内部に充填されているインク6を毛細管現象により
第1の貫通孔2に充填して第1のメニスカスM2 を形成
し、希釈液溜まり15内部に充填されている希釈液5を
毛細管現象により第2の貫通孔1内に充填して第2のメ
ニスカスM1 を形成する。Therefore, when printing is performed by the printing head, first, as shown in FIG. 3, the ink 6 filled in the ink reservoir 16 is filled in the first through hole 2 by a capillary phenomenon. Then, the first meniscus M 2 is formed, and the diluting liquid 5 filled in the diluting liquid reservoir 15 is filled in the second through hole 1 by the capillary phenomenon to form the second meniscus M 1 .
【0033】次に、図4に示すように、インク溜まり1
6の底面16aに配された発熱素子4に電圧パルスを与
え、インク溜まり16内部のインク6を加熱して発熱素
子4に対応する位置に泡B2 を発生させる。すると、図
4中に示されるように、インク溜まり16内部の圧力が
高まり、これに伴って第1の貫通孔2内の圧力も高ま
り、貫通孔2内のインク6が液体吐出口2bから押し出
されオリフィスプレート11の主面11b上に滴状に付
着する。なお、このとき、インク6の押し出される量
は、発熱素子4に供給される電圧パルスの電圧値または
パルス幅によって制御される。Next, as shown in FIG. 4, the ink reservoir 1
A voltage pulse is applied to the heat generating element 4 disposed on the bottom surface 16a of the nozzle 6 to heat the ink 6 inside the ink pool 16 to generate bubbles B 2 at a position corresponding to the heat generating element 4. Then, as shown in FIG. 4, the pressure inside the ink reservoir 16 increases, and the pressure inside the first through hole 2 increases accordingly, and the ink 6 inside the through hole 2 is pushed out from the liquid ejection port 2b. The droplets adhere to the main surface 11b of the orifice plate 11 in a droplet shape. At this time, the amount of the ink 6 pushed out is controlled by the voltage value or pulse width of the voltage pulse supplied to the heating element 4.
【0034】続いて、図5に示すように、希釈液溜まり
15の底面15aに配された発熱素子3に電圧パルスを
与え、希釈液溜まり15内部の希釈液5を加熱して発熱
素子3に対応する位置に泡B1 を発生させる。すると、
図5中に示されるように、希釈液溜まり15内部の圧力
が高まり、これに伴って第2の貫通孔1内の圧力も高ま
り、貫通孔1内の希釈液5が液体吐出口1bから押し出
され、オリフィスプレート11の主面11b上に滴状に
付着しているインク6と一体化し、滴状のインク溶液7
が形成される。Subsequently, as shown in FIG. 5, a voltage pulse is applied to the heating element 3 disposed on the bottom surface 15a of the diluting liquid reservoir 15 to heat the diluting liquid 5 inside the diluting liquid reservoir 15 to cause the heating element 3 to operate. Bubbles B 1 are generated at the corresponding positions. Then
As shown in FIG. 5, the pressure inside the diluting liquid reservoir 15 increases, and the pressure inside the second through hole 1 also increases accordingly, and the diluting liquid 5 inside the through hole 1 is pushed out from the liquid discharge port 1b. The droplet 6 is integrated with the ink 6 adhering to the main surface 11b of the orifice plate 11 in the form of a droplet to form a droplet of the ink solution 7
Is formed.
【0035】そしてこのとき、もしくはこれに先立って
発熱素子4への電圧パルスの供給を停止すると、泡B2
が急速に消滅し、インク溜まり16及び第1の貫通孔2
内の内部圧力が低下する。これにより、図6に示される
ように、インク溶液7とインク6間は引きちぎられ、イ
ンク6は第1の貫通孔2内に引き込まれ、再びメニスカ
スM2 を形成する。なお、インク溶液7は柱状に成長す
る。At this time or before the supply of the voltage pulse to the heating element 4 is stopped, bubbles B 2
Disappears rapidly, and the ink reservoir 16 and the first through hole 2
The internal pressure inside drops. As a result, as shown in FIG. 6, the ink solution 7 and the ink 6 are torn off, the ink 6 is drawn into the first through hole 2, and the meniscus M 2 is formed again. The ink solution 7 grows in a columnar shape.
【0036】次に、発熱素子3の電圧パルスの供給を停
止する。すると、図7に示すように、泡B1 が急速に消
滅して行き、希釈液溜まり15及び第2の貫通孔1内の
内部圧力が低下し、希釈液5が第2の貫通孔1内に引き
込まれることから、インク溶液7の液体吐出口1b側に
くびれ7aが生じる。Next, the supply of the voltage pulse of the heating element 3 is stopped. Then, as shown in FIG. 7, the bubble B 1 rapidly disappears, the internal pressure in the diluting liquid reservoir 15 and the second through hole 1 is reduced, and the diluting liquid 5 is in the second through hole 1. Since the ink solution 7 is drawn in, a constriction 7a occurs on the liquid ejection port 1b side.
【0037】さらに泡B1 が小さくなっていくと、図8
に示すように、インク溶液7の飛翔が開始され、図9に
示すように、インク溶液7が空中に飛び出す。そして、
上記インク溶液7は記録媒体上に付着し、印刷がなされ
る。When the bubble B 1 is further reduced, as shown in FIG.
As shown in FIG. 9, the ink solution 7 starts to fly, and as shown in FIG. 9, the ink solution 7 jumps out into the air. And
The ink solution 7 adheres to the recording medium and is printed.
【0038】このとき、インクと希釈液の混合物である
インク溶液7の濃度は第1の貫通孔2から押し出される
インク6の量により決定され、発熱素子4に与えられる
電圧パルスの振幅やパルス幅によって制御される。上記
振幅やパルス幅を大きくすると、インク6の量が増加
し、小さくするとインク6の量が減少し、インク溶液7
の濃度が変化する。上記電圧パルスの振幅,パルス幅の
可変範囲は実験的に最適な値に定めれば良い。At this time, the concentration of the ink solution 7 which is a mixture of the ink and the diluent is determined by the amount of the ink 6 pushed out from the first through hole 2, and the amplitude and pulse width of the voltage pulse applied to the heating element 4. Controlled by. When the amplitude or pulse width is increased, the amount of the ink 6 increases, and when the amplitude or the pulse width is decreased, the amount of the ink 6 decreases.
The concentration of changes. The amplitude of the voltage pulse and the variable range of the pulse width may be experimentally set to optimum values.
【0039】また、上述の印刷用ヘッドにおける一連の
動作は一例であり、各動作のタイミングや状態、例えば
インク溶液の形状、充填動作等は液体吐出口の大きさ等
の構造的要素、インクや希釈液の粘性や表面張力等の物
理的要素、吐出周波数等の動作条件によって変化する。The above-described series of operations in the printing head is an example, and the timing and state of each operation, for example, the shape of the ink solution, the filling operation, etc., are structural elements such as the size of the liquid ejection port, the ink, and the like. It changes depending on physical factors such as the viscosity and surface tension of the diluent, and operating conditions such as the discharge frequency.
【0040】次に、本発明の孔部形成方法を適用したオ
リフィスプレートの製造方法について述べる。Next, a method for manufacturing an orifice plate to which the hole forming method of the present invention is applied will be described.
【0041】先ず、オリフィスプレートを構成するプレ
ートを用意する。なお、本実施例においては、上記プレ
ートを高分子材料等の有機材料により形成するものと
し、射出成形により形成するものとする。そして、本実
施例においては、射出成形により被加工物であるプレー
トを形成する際に、図10に示すように、斜めとされる
貫通孔を形成するために光エネルギーを照射するプレー
ト31のエネルギー集中部分に、光エネルギー照射面と
される一主面31a側に臨む溝部41を形成する。First, a plate which constitutes an orifice plate is prepared. In this embodiment, the plate is made of an organic material such as a polymer material and is formed by injection molding. Then, in the present embodiment, when forming a plate that is a workpiece by injection molding, as shown in FIG. 10, the energy of the plate 31 that irradiates light energy to form an oblique through hole. In the concentrated portion, the groove portion 41 facing the one main surface 31a side which is the light energy irradiation surface is formed.
【0042】なお、上記溝部41は断面略コ字状の溝部
であり、光エネルギー進行方向にあたる側面41aが傾
斜面とされる溝部である。The groove 41 is a groove having a substantially U-shaped cross section, and the side surface 41a corresponding to the light energy advancing direction is an inclined surface.
【0043】次に、図11に示すように、プレート31
の一主面31a側からプレート31の厚さ方向に図中矢
印M1 で示すレーザー等の光エネルギーを照射する。な
お、上記レーザーとしては、エキシマレーザー,炭酸ガ
スレーザー,YAGレーザー等が例示されるが、ここで
は、エキシマレーザーを用いることとした。Next, as shown in FIG. 11, the plate 31
Light energy of a laser or the like indicated by an arrow M 1 in the drawing is applied from the one main surface 31a side in the thickness direction of the plate 31. Examples of the laser include an excimer laser, a carbon dioxide gas laser, a YAG laser, and the like. Here, the excimer laser is used.
【0044】上記エキシマレーザーを使用して加工する
と、アブレーション加工と呼ばれる分子の結合を切っ
て、物質を蒸散・除去させる加工が行われるため、従来
の熱加工で見られる熱影響が無く、レーザー光を照射し
た箇所だけの高品質な加工が可能となる。When the above-mentioned excimer laser is used for processing, a process called an ablation process for breaking a bond of molecules to evaporate and remove a substance is carried out. It is possible to perform high-quality processing only on the area irradiated with.
【0045】すると、図12に示すように、プレート3
1の厚さ方向に一主面31a側から相対向する主面31
b側に貫通し、一主面31a側の開口32aが液体供給
口とされ、相対向する主面31b側の開口32bが液体
吐出口とされる第2の貫通孔32が形成される。このと
き、上記第2の貫通孔32においては、レーザー等の照
射により形成されることから、光エネルギーが入射され
る側の一主面31aにおける断面積S32a の方が相対
向する主面31bにおける断面積S32b よりも大きく
なり、S32b <S32a の関係が成り立つ。Then, as shown in FIG. 12, the plate 3
In the thickness direction of 1, the main surface 31 opposite to the one main surface 31a side
A second through hole 32 is formed which penetrates to the b side and has an opening 32a on the one main surface 31a side as a liquid supply port and an opening 32b on the opposite main surface 31b side as a liquid discharge port. At this time, in the second through-holes 32, from being formed by the irradiation of laser or the like, the main surface 31b of direction of the cross-sectional area S32 a in the one main surface 31a of the side where the light energy is incident opposed greater than the cross-sectional area S32 b in, holds the relationship S32 b <S32 a.
【0046】次に図12中に示すように、プレート31
の一主面31a側からプレート31の厚さ方向に対して
斜め方向に図中矢印M2 で示すレーザー等の光エネルギ
ーを照射する。なお、上記光エネルギーの照射方向は一
主面31a側から主面31b側に向かうにつれ第2の貫
通孔32の液体吐出口である開口32bに近づく方向と
した。また、上記レーザーとしても、エキシマレーザ
ー,炭酸ガスレーザー,YAGレーザー等が例示され、
ここでもエキシマレーザーを使用した。Next, as shown in FIG. 12, the plate 31
Light energy of a laser or the like indicated by an arrow M 2 in the drawing is irradiated from the one main surface 31a side in a direction oblique to the thickness direction of the plate 31. In addition, the irradiation direction of the above-mentioned light energy was set so as to approach the opening 32b which is the liquid ejection port of the second through hole 32 as it goes from the one main surface 31a side to the main surface 31b side. Also, as the above laser, an excimer laser, a carbon dioxide gas laser, a YAG laser, etc. are exemplified,
Here again, an excimer laser was used.
【0047】このとき、本実施例においては、上述のよ
うに、被加工物であるプレート31において斜めとされ
る貫通孔を形成するための斜め方向の光エネルギーの集
中するエネルギー集中部に溝部41を設けて凹凸部を設
けていることから、図10中に示すように矢印M2 で示
す光エネルギーは溝部41の側面41aに照射されるこ
ととなる。At this time, in this embodiment, as described above, the groove portion 41 is formed in the energy concentration portion where the light energy in the oblique direction is concentrated to form the oblique through hole in the plate 31 which is the workpiece. Since the concave-convex portion is provided by providing the above, the light energy indicated by the arrow M 2 is irradiated to the side surface 41a of the groove portion 41 as shown in FIG.
【0048】そして、上記側面41aが傾斜面とされて
いることから、矢印M2 で示す光エネルギーは側面41
aに対して垂直に近い角度で入射することとなり、入射
した光エネルギーはそのまま直進して加工を行う。Since the side surface 41a is an inclined surface, the light energy indicated by the arrow M 2 is the side surface 41a.
The light is incident at an angle almost perpendicular to a, and the incident light energy goes straight to be processed.
【0049】その結果、図13に示すようにプレート3
1の厚さ方向に一主面31a側から相対向する主面31
b側に貫通し、一主面31a側の開口33aが液体供給
口とされ、相対向する主面31b側の開口33bが液体
吐出口とされる第1の貫通孔33が形成され、図14に
示すように、斜め方向の第1の貫通孔33と厚さ方向の
第2の貫通孔32を有するオリフィスプレートが完成す
る。As a result, as shown in FIG.
In the thickness direction of 1, the main surface 31 opposite to the one main surface 31a side
A first through hole 33 is formed which penetrates to the b side and has an opening 33a on the one main surface 31a side as a liquid supply port and an opening 33b on the opposite main surface 31b side as a liquid discharge port. As shown in, the orifice plate having the first through holes 33 in the diagonal direction and the second through holes 32 in the thickness direction is completed.
【0050】このとき、上記第1の貫通孔33において
は、エキシマレーザーの照射により形成されることか
ら、光エネルギーが入射される側の一主面31aにおけ
る断面積S33a の方が相対向する主面31bにおける
断面積S33b よりも大きくなり、S33b <S33a
の関係が成り立つ。また、第1の貫通孔33は、液体吐
出口である開口33bに近づくに従い、第2の貫通孔3
3の液体吐出口である開口32bに近づいていくような
貫通孔として形成される。At this time, since the first through-hole 33 is formed by the irradiation of the excimer laser, the cross-sectional area S33 a of the one main surface 31a on the side where the light energy is incident is opposed to each other. It becomes larger than the cross-sectional area S33 b on the main surface 31b, and S33 b <S33 a
The relationship is established. Further, the first through hole 33 approaches the second through hole 3 as it approaches the opening 33b which is the liquid ejection port.
It is formed as a through hole that approaches the opening 32b which is the liquid discharge port of No. 3.
【0051】なお、上記製造方法においては第2の貫通
孔を形成した後に第1の貫通孔を形成したが、図15に
示すように、プレート31の一主面31a側から上記製
造方法において使用した図中矢印M1 ,M2 で示す光エ
ネルギーを同時に照射し、第1,2の貫通孔を同時に形
成してオリフィスプレートを形成しても良い。In the above manufacturing method, the first through hole is formed after forming the second through hole. However, as shown in FIG. 15, the plate 31 is used in the above manufacturing method from one main surface 31a side. The orifice plates may be formed by simultaneously irradiating the light energies shown by the arrows M 1 and M 2 in the figure to form the first and second through holes at the same time.
【0052】また、上記製造方法においては、被加工物
であるプレート31に光エネルギー進行方向の側面が傾
斜面とされる断面略コ字状の溝部を設けてプレート31
のエネルギー集中部分に凹凸部を形成するようにした
が、上記エネルギー集中部の凹凸部は、図16に示すよ
うに、光エネルギー照射面とされる一主面31a側に臨
む断面コ字状の溝部51を形成するようにして形成して
も良い。Further, in the above manufacturing method, the plate 31 which is the object to be processed is provided with a groove portion having a substantially U-shaped cross section whose side surface in the light energy advancing direction is an inclined surface.
Although the uneven portion is formed in the energy concentration portion of, the uneven portion of the energy concentration portion has a U-shaped cross section facing the one main surface 31a side which is the light energy irradiation surface, as shown in FIG. You may form like the groove part 51.
【0053】このような溝部51を形成されるプレート
31に一主面31a側から図16中矢印M2 で示す光エ
ネルギーを照射すると、上記光エネルギーは入射方向と
逆の方向に反射するが、壁となる側面51aにより跳ね
返され、この部分において加工が始まり、図17に示す
ように溝部51の底部に小さな穴部52が形成される。
その結果、光エネルギーの食いつきが良くなり、光エネ
ルギーの入射方向に加工が始まり、図18に示すよう
に、プレート31の厚さ方向に一主面31a側から相対
向する主面31b側に貫通し、一主面31a側の開口3
3aが液体供給口とされ、相対向する主面31b側の開
口33bが液体吐出口とされる第1の貫通孔33が形成
される。なお、上記光エネルギーとしては、レーザー光
等が挙げられ、上記レーザー光としては、エキシマレー
ザーの他、炭酸ガスレーザー,YAGレーザー等が挙げ
られ、前述の理由からエキシマレーザーを使用するのが
好ましい。When the plate 31 having such a groove 51 is irradiated with light energy indicated by an arrow M 2 in FIG. 16 from the one main surface 31a side, the light energy is reflected in a direction opposite to the incident direction, It is repelled by the side surface 51a serving as a wall, processing is started at this portion, and a small hole portion 52 is formed at the bottom of the groove portion 51 as shown in FIG.
As a result, the biting of the light energy is improved, processing is started in the light energy incident direction, and as shown in FIG. 18, the plate 31 penetrates from the one main surface 31a side to the opposite main surface 31b side in the thickness direction. Then, the opening 3 on the one main surface 31a side
A first through hole 33 is formed in which 3a serves as a liquid supply port and an opening 33b on the opposite main surface 31b side serves as a liquid discharge port. Examples of the light energy include laser light and the like. Examples of the laser light include excimer laser, carbon dioxide gas laser, YAG laser, and the like, and it is preferable to use the excimer laser for the above reason.
【0054】これまで述べた製造方法においては、プレ
ートを射出成形により形成する際に同時に凹凸部を形成
する例について述べたが、プレートの凹凸部近傍を射出
成形により形成しておき、これをプレートの他の部分と
なる部材に張り合わせてプレートに凹凸部を形成しても
良い。なお、このとき、プレートの凹凸部近傍部を構成
する部材を構成する材料と他の部分となる部材を構成す
る材料は同種或いは異種のものの何れでも良い。In the manufacturing method described so far, the example in which the uneven portion is formed at the same time when the plate is formed by injection molding has been described. However, the vicinity of the uneven portion of the plate is formed by injection molding, and the plate is formed. The uneven portion may be formed on the plate by adhering it to a member to be another portion. At this time, the material forming the member forming the portion near the uneven portion of the plate and the material forming the member forming the other portion may be the same or different.
【0055】さらに、上述の製造方法においては、被加
工物であるプレート31の表面に溝部を形成して凹凸部
を形成する例について述べたが、プレートの表面を荒ら
してエネルギー集中部に凹凸部を形成するようにしても
良い。Further, in the above-mentioned manufacturing method, the example in which the groove portion is formed on the surface of the plate 31 which is the workpiece to form the uneven portion, but the surface of the plate is roughened and the uneven portion is formed on the energy concentration portion. May be formed.
【0056】すなわち、先ず、オリフィスプレートを構
成するプレートを用意する。なお、本実施例において
は、上記プレートを高分子材料等の有機材料により形成
するものとし、ポリイミドフィルムを使用するものとし
た。That is, first, a plate which constitutes an orifice plate is prepared. In this embodiment, the plate is made of an organic material such as a polymer material and a polyimide film is used.
【0057】次に、図19に示すようなプレート61の
光エネルギー照射面となる一主面61aの表面をサンド
ブラスト法により荒らす。上記サンドブラスト法は、細
かい粒子を被加工物に勢い良くぶつけ、その粒子により
物理的に表面を削る方法である。ここでは、表面の凹凸
部の最大高さが数十オングストロームである極平滑なポ
リイミドフィルムの表面をサンドブラスト法により荒ら
すことによって、最大高さが5μm程度の微小な凸凹部
を形成するものとした。Next, as shown in FIG. 19, the surface of one main surface 61a which is the light energy irradiation surface of the plate 61 is roughened by a sandblast method. The sandblast method is a method in which fine particles are vigorously struck against a workpiece, and the surface is physically shaved by the particles. Here, the surface of the extremely smooth polyimide film having the maximum height of the uneven portion of the surface of several tens of angstroms is roughened by the sand blast method to form the fine projections and depressions having the maximum height of about 5 μm.
【0058】次に、図19中に示すように、プレート6
1の一主面61a側から図中矢印M2 で示す光エネルギ
ーを照射すると、図20に示すように、入射する光エネ
ルギーはプレート61の一主面61aにサンドブラスト
法により形成された突起部62に当たり、光エネルギー
は逃げることができず、この部分において加工が始ま
り、図21に示すように突起部62の基端部に小さな穴
部63が形成される。その結果、光エネルギーの食いつ
きが良くなり、光エネルギーの入射方向に加工が始ま
り、図22に示すように、プレート61の厚さ方向に一
主面61a側から相対向する主面61b側に貫通し、一
主面61a側の開口33aが液体供給口とされ、相対向
する主面61b側の開口33bが液体吐出口とされる第
1の貫通孔33が形成される。Next, as shown in FIG. 19, the plate 6
When the light energy indicated by the arrow M 2 in the drawing is irradiated from the one main surface 61a side of the No. 1, the incident light energy is projected onto the one main surface 61a of the plate 61 by the sandblast method as shown in FIG. At this time, the light energy cannot escape, and the processing starts at this portion, and a small hole portion 63 is formed at the base end portion of the protrusion 62 as shown in FIG. As a result, the biting of the light energy is improved, processing is started in the light energy incident direction, and as shown in FIG. 22, the plate 61 penetrates in the thickness direction of the plate 61 from the one main surface 61a side to the opposite main surface 61b side. Then, the first through hole 33 in which the opening 33a on the one main surface 61a side serves as a liquid supply port and the opening 33b on the opposite main surface 61b side serves as a liquid discharge port is formed.
【0059】そこで、表面を加工しないポリイミドフィ
ルムと表面を上述のようにサンドブラスト法により加工
して凹凸部を形成したポリイミドフィルムに上記のよう
に斜め方向の孔部を形成してみたところ、表面を加工し
ていないポリイミドフィルムにおいては最大80°の傾
斜角を有する孔部の形成が可能であり、表面を荒らした
ポリイミドフィルムにおいては最大85°の傾斜角を有
する孔部の形成が可能であった。Then, when a hole is formed in the oblique direction as described above in the polyimide film having the surface not processed and the polyimide film having the surface processed by the sand blast method as described above, the surface is processed. In the unprocessed polyimide film, it was possible to form holes having a maximum inclination angle of 80 °, and in the polyimide film having a roughened surface, it was possible to form holes having a maximum inclination angle of 85 °. .
【0060】なお、上記光エネルギーとしては、レーザ
ー光等が挙げられ、上記レーザー光としては、エキシマ
レーザーの他、炭酸ガスレーザー,YAGレーザー等が
挙げられ、前述の理由からエキシマレーザーを使用する
のが好ましい。The light energy may be laser light or the like. The laser light may be excimer laser, carbon dioxide gas laser, YAG laser or the like, and the excimer laser is used for the above reason. Is preferred.
【0061】また、上記製造方法においては、プレート
表面をサンドブラスト法により荒らす例について述べた
が、プレート表面は化学エッチング法或いは研磨ブラシ
を用いた方法で荒らしても良い。Further, in the above manufacturing method, the example in which the plate surface is roughened by the sandblast method has been described, but the plate surface may be roughened by the chemical etching method or the method using the polishing brush.
【0062】なお、これまで述べた製造方法において
は、被加工物であるプレートを構成する材料として高分
子材料等の有機材料を使用してきたが、無機材料、金属
を使用しても良い。In the manufacturing method described above, an organic material such as a polymer material has been used as a material for forming a plate which is a workpiece, but an inorganic material or a metal may be used.
【0063】従って、これまで述べた本発明の孔部形成
方法を適用したオリフィスプレートの製造方法において
は、被加工物であるプレートのエネルギー集中部に凹凸
部を設け、この凹凸部に光エネルギーを照射するため、
光エネルギーの反射する方向に壁が形成される、或いは
光エネルギーの食いつきが改善され、光エネルギーによ
る加工が容易となる。さらには、光エネルギーの傾斜角
が大きく、臨界角を越えていても反射されることなくそ
のまま加工が始まり、プレートの厚さ方向に対する傾斜
角が光エネルギーの臨界角を越えるような傾斜角の大き
な貫通孔の形成が可能となる。Therefore, in the method of manufacturing an orifice plate to which the hole forming method of the present invention described above is applied, a concavo-convex portion is provided in the energy concentrating portion of the plate to be processed, and light energy is applied to the concavo-convex portion. To irradiate,
A wall is formed in the direction in which the light energy is reflected, or biting of the light energy is improved, which facilitates processing by the light energy. Furthermore, the inclination angle of the light energy is large, and even if it exceeds the critical angle, the processing starts without reflection, and the inclination angle with respect to the thickness direction of the plate has a large inclination angle exceeding the critical angle of the light energy. Through holes can be formed.
【0064】なお、上述の実施例のようにプレートの凹
凸部をプレートの射出成形時に一体的に形成するように
すれば、プレートの加工が容易に一度に大量に行われ、
生産性も良好になる。If the concavo-convex portion of the plate is integrally formed during the injection molding of the plate as in the above-described embodiment, the plate can be easily processed in a large amount at one time.
Productivity is also good.
【0065】また、上述の実施例のように、プレートの
表面の凹凸部を、サンドブラスト法,化学エッチング
法,研磨ブラシにより形成すれば、上記凹凸部が微小な
凹凸部として加工される。If the uneven portion on the surface of the plate is formed by the sandblast method, the chemical etching method or the polishing brush as in the above-mentioned embodiment, the uneven portion is processed as a minute uneven portion.
【0066】さらに、上述の実施例のように光エネルギ
ーとしてレーザーを用いれば径の小さい孔部の加工が容
易になされ、レーザーとしてエキシマレーザーを使用す
れば、被加工物に発熱を起こすことなく加工が行われ、
レーザー光を照射した箇所だけの高品質な加工が可能と
なる。Further, when a laser is used as the light energy as in the above-mentioned embodiment, a hole having a small diameter can be easily processed, and when an excimer laser is used as the laser, the work is processed without generating heat. Is done
High-quality processing is possible only at the location irradiated with laser light.
【0067】[0067]
【発明の効果】以上の説明からも明かなように、本発明
の孔部形成方法においては、被加工物のエネルギー集中
部に凹凸部を設け、この凹凸部に光エネルギーを照射す
るため、光エネルギーの反射する方向に壁が形成され
る、或いは光エネルギーの食いつきが改善され、光エネ
ルギーの傾斜角が大きく、臨界角を越えていても反射さ
れることなくそのまま加工が始まり、被加工物の厚さ方
向に対する傾斜角が臨界角を越えるような傾斜角の大き
な孔部の形成が可能とされる。As is clear from the above description, in the hole forming method of the present invention, since the uneven portion is provided in the energy concentration portion of the workpiece and the uneven portion is irradiated with light energy, A wall is formed in the direction in which energy is reflected, or biting of light energy is improved, the inclination angle of light energy is large, and even if it exceeds the critical angle, processing starts without reflection, It is possible to form a hole having a large inclination angle such that the inclination angle with respect to the thickness direction exceeds the critical angle.
【0068】なお、上記被加工物の凹凸部を被加工物の
射出成形時に一体的に形成すれば、被加工物の加工が容
易に一度に大量に行われ、生産性も向上する。If the irregularities of the work piece are integrally formed during the injection molding of the work piece, the work piece can be easily processed in a large amount at one time, and the productivity can be improved.
【0069】また、上記被加工物の凹凸部を、サンドブ
ラスト法,化学エッチング法,研磨ブラシにより形成す
れば、上記凹凸部が微小な凹凸部として加工される。If the uneven portion of the workpiece is formed by the sandblast method, the chemical etching method, or the polishing brush, the uneven portion is processed as a minute uneven portion.
【0070】さらに、上記光エネルギーとしてレーザー
を用いれば径の小さい孔部の加工が容易になされ、レー
ザーとしてエキシマレーザーを使用すれば、被加工物に
発熱を起こすことなく加工が行われ、レーザー光を照射
した箇所だけの高品質な加工が可能となる。Further, if a laser is used as the light energy, it is easy to process a hole having a small diameter, and if an excimer laser is used as a laser, the work is processed without generating heat, and the laser light is used. It is possible to perform high-quality processing only on the area irradiated with.
【図1】本発明の孔部形成方法を適用したオリフィスプ
レートの製造方法により製造されるオリフィスプレート
を示す断面図である。FIG. 1 is a cross-sectional view showing an orifice plate manufactured by a method for manufacturing an orifice plate to which a hole forming method of the present invention is applied.
【図2】本発明の孔部形成方法を適用したオリフィスプ
レートの製造方法により製造されるオリフィスプレート
を示す平面図である。FIG. 2 is a plan view showing an orifice plate manufactured by a method for manufacturing an orifice plate to which the hole forming method of the present invention is applied.
【図3】製造されたオリフィスプレートを使用した印刷
用ヘッドの動作を順に示すものであり、オリフィスプレ
ートにメニスカスが形成されている状態を示す模式図で
ある。FIG. 3 is a schematic view showing in sequence the operation of the printing head using the manufactured orifice plate, and a schematic view showing a state in which a meniscus is formed on the orifice plate.
【図4】製造されたオリフィスプレートを使用した印刷
用ヘッドの動作を順に示すものであり、貫通孔内のイン
クを押し出した状態を示す模式図である。FIG. 4 is a schematic view showing in sequence the operation of the printing head using the manufactured orifice plate, showing a state in which the ink in the through hole is pushed out.
【図5】製造されたオリフィスプレートを使用した印刷
用ヘッドの動作を順に示すものであり、貫通孔内の希釈
液を押し出してインク溶液を形成した状態を示す模式図
である。FIG. 5 is a schematic view showing in sequence the operation of the printing head using the manufactured orifice plate, and is a schematic view showing a state in which the diluent in the through hole is extruded to form an ink solution.
【図6】製造されたオリフィスプレートを使用した印刷
用ヘッドの動作を順に示すものであり、インク溶液が柱
状に成長した状態を示す模式図である。FIG. 6 is a schematic view showing in sequence the operation of the printing head using the manufactured orifice plate, showing a state in which the ink solution grows in a columnar shape.
【図7】製造されたオリフィスプレートを使用した印刷
用ヘッドの動作を順に示すものであり、柱状のインク溶
液にくびれが生じた状態を示す模式図である。FIG. 7 is a schematic view showing in sequence the operation of the printing head using the manufactured orifice plate, and is a schematic view showing a state in which a columnar ink solution is constricted.
【図8】製造されたオリフィスプレートを使用した印刷
用ヘッドの動作を順に示すものであり、インク溶液が飛
翔を開始した状態を示す模式図である。FIG. 8 is a schematic view showing in sequence the operation of the printing head using the manufactured orifice plate, and is a schematic view showing a state in which the ink solution has started to fly.
【図9】製造されたオリフィスプレートを使用した印刷
用ヘッドの動作を順に示すものであり、インク溶液が空
中に飛び出した状態を示す模式図である。FIG. 9 is a schematic view showing in sequence the operation of the printing head using the manufactured orifice plate, and is a schematic diagram showing a state in which the ink solution has jumped out into the air.
【図10】本発明の孔部形成方法を適用したオリフィス
プレートの製造方法の一例を工程順に示すものであり、
プレートに溝部を形成する工程を拡大して示す模式図で
ある。FIG. 10 shows an example of a method of manufacturing an orifice plate to which the hole forming method of the present invention is applied in the order of steps,
It is a schematic diagram which expands and shows the process of forming a groove part in a plate.
【図11】本発明の孔部形成方法を適用したオリフィス
プレートの製造方法の一例を工程順に示すものであり、
プレートに第2の貫通孔を形成するために光エネルギー
を照射している状態を示す模式図である。FIG. 11 shows an example of a method of manufacturing an orifice plate to which the hole forming method of the present invention is applied, in the order of steps,
It is a schematic diagram which shows the state which is irradiating light energy in order to form a 2nd through-hole in a plate.
【図12】本発明の孔部形成方法を適用したオリフィス
プレートの製造方法の一例を工程順に示すものであり、
プレートに第1の貫通孔を形成するために光エネルギー
を照射している状態を示す模式図である。FIG. 12 shows an example of a method of manufacturing an orifice plate to which the hole forming method of the present invention is applied in the order of steps,
It is a schematic diagram which shows the state which is irradiating light energy in order to form a 1st through-hole in a plate.
【図13】本発明の孔部形成方法を適用したオリフィス
プレートの製造方法の一例を工程順に示すものであり、
プレートに第1の貫通孔が形成された状態を拡大して示
す模式図である。FIG. 13 shows an example of a method of manufacturing an orifice plate to which the hole forming method of the present invention is applied, in the order of steps,
It is a schematic diagram which expands and shows the state in which the 1st through-hole was formed in the plate.
【図14】本発明の孔部形成方法を適用したオリフィス
プレートの製造方法の一例を工程順に示すものであり、
オリフィスプレートが完成した状態を示す模式図であ
る。FIG. 14 shows an example of a method of manufacturing an orifice plate to which the hole forming method of the present invention is applied in the order of steps,
It is a schematic diagram which shows the state which the orifice plate was completed.
【図15】本発明の孔部形成方法を適用したオリフィス
プレートの製造方法の他の例を示すものであり、プレー
トに第1,2の貫通孔を形成するために光エネルギーを
照射している状態を示す模式図である。FIG. 15 shows another example of a method of manufacturing an orifice plate to which the hole forming method of the present invention is applied, in which light energy is irradiated to form first and second through holes in the plate. It is a schematic diagram which shows a state.
【図16】本発明の孔部形成方法を適用したオリフィス
プレートの製造方法のさらに他の例を工程順に示すもの
であり、プレートに溝部を形成する工程を拡大して示す
模式図である。FIG. 16 shows still another example of the method of manufacturing an orifice plate to which the hole forming method of the present invention is applied, in order of steps, and is a schematic view showing an enlarged step of forming a groove in a plate.
【図17】本発明の孔部形成方法を適用したオリフィス
プレートの製造方法のさらに他の例を工程順に示すもの
であり、プレートの溝部の底部に穴部が形成された状態
を拡大して示す模式図である。FIG. 17 shows still another example of the method of manufacturing an orifice plate to which the hole forming method of the present invention is applied, in the order of steps, showing an enlarged state in which a hole is formed at the bottom of the groove of the plate. It is a schematic diagram.
【図18】本発明の孔部形成方法を適用したオリフィス
プレートの製造方法のさらに他の例を工程順に示すもの
であり、プレートに第1の貫通孔が形成された状態を拡
大して示す模式図である。FIG. 18 is a view showing still another example of the method of manufacturing the orifice plate to which the hole forming method of the present invention is applied, in order of steps, showing an enlarged view of the state where the first through hole is formed in the plate. It is a figure.
【図19】本発明の孔部形成方法を適用したオリフィス
プレートの製造方法のさらに他の例を工程順に示すもの
であり、プレートの表面を荒らす工程を示す模式図であ
る。FIG. 19 is a schematic view showing still another example of the method for manufacturing an orifice plate to which the hole forming method according to the present invention is applied, in the order of steps, showing a step of roughening the surface of the plate.
【図20】本発明の孔部形成方法を適用したオリフィス
プレートの製造方法のさらに他の例を工程順に示すもの
であり、プレートに光エネルギーを照射している状態を
示す模式図である。FIG. 20 is a schematic view showing still another example of the method of manufacturing the orifice plate to which the hole forming method of the present invention is applied, in the order of steps, showing a state in which the plate is irradiated with light energy.
【図21】本発明の孔部形成方法を適用したオリフィス
プレートの製造方法のさらに他の例を工程順に示すもの
であり、プレートの突起部の基端部に穴部が形成されて
いる状態を示す模式図である。FIG. 21 is a view showing still another example of the method of manufacturing an orifice plate to which the hole forming method of the present invention is applied, showing a state in which the hole is formed at the base end of the protrusion of the plate. It is a schematic diagram which shows.
【図22】本発明の孔部形成方法を適用したオリフィス
プレートの製造方法のさらに他の例を工程順に示すもの
であり、プレートに第1の貫通孔が形成された状態を拡
大して示す模式図である。FIG. 22 is a view showing still another example of the method of manufacturing an orifice plate to which the hole forming method of the present invention is applied, in the order of steps, showing an enlarged view of a state where the first through hole is formed in the plate. It is a figure.
【図23】レーザー光の傾斜角と屈折率を示す模式図で
ある。FIG. 23 is a schematic diagram showing a tilt angle and a refractive index of laser light.
【図24】被加工物がレーザー光を反射している様子を
示す模式図である。FIG. 24 is a schematic diagram showing a state in which a workpiece is reflecting laser light.
31,61 プレート 31a,61a 一主面 41,51 溝部 41a,51a 側面 52,63 穴部 62 突起部 31, 61 Plates 31a, 61a One main surface 41, 51 Grooves 41a, 51a Side surfaces 52, 63 Holes 62 Projections
フロントページの続き (72)発明者 村上 隆昭 東京都品川区北品川6丁目7番35号 ソニ ー株式会社内Front page continuation (72) Inventor Takaaki Murakami 6-7-35 Kitashinagawa, Shinagawa-ku, Tokyo Sony Corporation
Claims (12)
設け、この凹凸部に光エネルギーを照射して被加工物の
厚さ方向に対して傾斜する孔部を形成することを特徴と
する孔部形成方法。1. An uneven portion is provided in an energy concentrating portion of a workpiece, and the uneven portion is irradiated with light energy to form a hole portion inclined with respect to a thickness direction of the workpiece. Hole forming method.
形時に一体的に形成されていることを特徴とする請求項
1記載の孔部形成方法。2. The hole forming method according to claim 1, wherein the uneven portion of the work piece is integrally formed during injection molding of the work piece.
より形成することを特徴とする請求項1記載の孔部形成
方法。3. The method for forming a hole according to claim 1, wherein the uneven portion of the workpiece is formed by a sandblast method.
より形成することを特徴とする請求項1記載の孔部形成
方法。4. The method of forming a hole according to claim 1, wherein the uneven portion of the workpiece is formed by a chemical etching method.
て形成することを特徴とする請求項1記載の孔部形成方
法。5. The method for forming a hole according to claim 1, wherein the uneven portion of the workpiece is formed by using a polishing brush.
徴とする請求項1記載の孔部形成方法。6. The method for forming a hole according to claim 1, wherein the light energy is a laser.
を特徴とする請求項6記載の孔部形成方法。7. The method for forming a hole according to claim 6, wherein the laser is an excimer laser.
とする請求項1記載の孔部形成方法。8. The method for forming a hole according to claim 1, wherein the workpiece is made of an organic material.
とする請求項1記載の孔部形成方法。9. The method for forming a hole according to claim 1, wherein the workpiece is made of an inorganic material.
徴とする請求項1記載の孔部形成方法。10. The method for forming a hole according to claim 1, wherein the workpiece is made of a metal material.
μm〜200μmであることを特徴とする請求項1記載
の孔部形成方法。11. The thickness of the hole forming portion of the workpiece is 15
The hole portion forming method according to claim 1, wherein the hole portion forming diameter is from 200 to 200 μm.
ことを特徴とする請求項11記載の孔部形成方法。12. The hole forming method according to claim 11, wherein the workpiece is an orifice plate.
Priority Applications (6)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7075376A JPH08267760A (en) | 1995-03-31 | 1995-03-31 | Hole forming method |
US08/622,702 US5811019A (en) | 1995-03-31 | 1996-03-26 | Method for forming a hole and method for forming nozzle in orifice plate of printing head |
MYPI96001183A MY116507A (en) | 1995-03-31 | 1996-03-29 | Method for forming a hole and method for forming nozzle in orifice plate of printing head |
KR1019960008992A KR960033764A (en) | 1995-03-31 | 1996-03-29 | How to form hole part |
CN96105756A CN1075448C (en) | 1995-03-31 | 1996-03-29 | Method for forming hole and method for forming nozzle in orifice plate of printing head |
US09/005,461 US6083411A (en) | 1995-03-31 | 1998-01-12 | Method for forming a hole and method for forming nozzle in orifice plate of printing head |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7075376A JPH08267760A (en) | 1995-03-31 | 1995-03-31 | Hole forming method |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH08267760A true JPH08267760A (en) | 1996-10-15 |
Family
ID=13574429
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP7075376A Withdrawn JPH08267760A (en) | 1995-03-31 | 1995-03-31 | Hole forming method |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH08267760A (en) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009234081A (en) * | 2008-03-27 | 2009-10-15 | Key Tranding Co Ltd | Method of manufacturing hole-formed injection molding and hole-formed injection molding obtained thereby |
-
1995
- 1995-03-31 JP JP7075376A patent/JPH08267760A/en not_active Withdrawn
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009234081A (en) * | 2008-03-27 | 2009-10-15 | Key Tranding Co Ltd | Method of manufacturing hole-formed injection molding and hole-formed injection molding obtained thereby |
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