JPH08259663A - 活性エネルギ−線硬化型エポキシアクリレ−ト樹脂組成物 - Google Patents
活性エネルギ−線硬化型エポキシアクリレ−ト樹脂組成物Info
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Abstract
キシ樹脂に、エポキシ基1モルに対して無水(メタ)ア
クリル酸0.1〜0.8モルと、不飽和一塩基酸0.2
〜0.9モルとを、反応させて得られるエポキシアクリ
レ−ト樹脂(A)に、更に多塩基酸無水物(B)を反応
させて得られる酸ペンダント型エポキシアクリレ−ト
(C)を必須の成分として含有する活性エネルギ−線硬
化型エポキシアクリレ−ト樹脂組成物。 【効果】 本発明は、ソルダーレジスト等の光重合性樹
脂として有用な、高感度で、溶剤乾燥時における安定
性、電気特性、耐メッキ性に優れた、活性エネルギ−線
硬化型エポキシアクリレ−ト樹脂組成物を提供できる。
Description
エポキシアクリレ−ト樹脂組成物に関する。より詳しく
は、光、紫外線、電子線等の活性エネルギ−線に対して
優れた硬化性を有し、耐熱性や硬度や電気特性に優れた
硬化膜を形成し、かつアルカリ水溶液で現像可能で、カ
ラ−フィルタ−層や電子デバイスの保護膜、印刷配線基
板用ソルダ−レジスト等の永久保護マスク、配線基板の
絶縁層等の用途に有用な活性エネルギー線硬化型樹脂組
成物に関する。
シアクリレートおよびビニルエステルとも呼ばれ、耐熱
性、耐薬品性、耐水性、密着性、機械特性が他のアクリ
ルオリゴマー類に比べ優れるため、各種コーティング材
料、構造材料、配線基盤のソルダーレジスト用樹脂とし
てとして広く用いられている。
報量の増加につれてパターンの細密化が嘱望されてお
り、写真製版法によるソルダーレジストが用いられてい
る。手法としては、未露光部インキを溶剤や希アルカリ
液で現像する方法があるが、コストや溶剤の公害問題か
ら、希アルカリ液現像型が主流となっている。
としては、エポキシアクリレート樹脂の水酸基に酸無水
物を反応させてカルボキシル基をペンダン卜化させた、
いわゆる酸ペンダン卜型エポキシアクリレー卜樹脂が主
成分となているものが多く、該樹脂の製法やそれを利用
した塗装方法は、特開昭61−243869号公報や特
開昭63−258975号公報等に記載されている。
合物に(メタ)アクリル酸等の不飽和カルボン酸を反応
させるエポキシアクリレ−トでは、感度が低く、長い露
光時間が必要となり、作業性が低下するばかりか、露光
時の温度上昇によりフォトマスクが損傷するなどの欠点
があった。
タエリスルトールトリアクリレ−トやジペンタエリスル
トールヘキサアクリレ−ト等の多官能アクリレートを組
成物中に配合する手段がとられているが、多量に混合し
た場合は、仮乾燥後のタックが出てフォトマスクを損傷
する原因となる為、その使用において限定がある。
リレートの多官能化が種々の手法で試みられている。特
に特開昭49−23900号公報、特公昭55−120
43号公報、特開平1−161069号公報において
は、エポキシ樹脂に無水(メタ)アクリル酸及び(メ
タ)アクリル酸を反応させて得られる多官能型エポキシ
アクリレ−トの光硬化組成物が開示されているが、これ
らはアルカリ現像が出来ずパタ−ン形成には適さないも
のである。
電気的特性を向上させる目的で、インキ中にカルボキシ
ル基を封鎖するエポキシ樹脂を配合し、紫外線照射時の
幅射熱を利用するか、又は120〜130℃で後加熱す
ることで架橋密度を向上させ強靱な皮膜を形成する方法
がとられている。
にエポキシ樹脂を配合してインキや塗料に用いる場合、
エポキシ基とカルボキシル基が反応し、経時的に増粘し
たりゲル化に至るといった欠点がある。
作業性の面から、溶剤又は必要に応じ少量のアクリルモ
ノマーが配合されており、ネガフィルムによるパターン
化前に塗布したインキを70〜80℃雰囲気下で加熱し
て溶剤を揮散、除去した後、露光によるパターン化の工
程がとられる。
キシ基の反応が一部進行すると、露光後の現像が不充分
になる場合が多く、配合や溶剤除去の温度及び時間等に
制約が多いという難点があった。従って、組成物として
のライフあるいは、仮乾燥時の現像ライフが長い組成物
が望まれている。
は、ラジオ、ビデオ、テレビ、コンピューター、制御機
器等であるが、近年、これら機器の屋外使用や車両等へ
の登載需要によって、これらの使用環境がより過酷な条
件となっており、永久保護マスクとして、これまで要求
されていた以上に高い電気絶縁性、感度、耐メッキ性等
が要求されて来ており、これら問題の解決の為に、種々
のエポキシアクリレ−ト合成時の触媒やエポキシアクリ
レート樹脂構造の研究がなされている。
は、酸ペンダント型エポキシアクリレートの製造にエス
テル化触媒として有機酸の金属塩を使用するものが提案
されているが、感度、電気特性、耐メッキ性等の性能は
従来から用いられてきた触媒で得られた樹脂と殆ど差が
見られない。又、特開平3−100009号公報でも、
特殊なエポキシ化合物を用いた酸ペンダント型エポキシ
アクリレートのソルダーレジストインキ組成物が提案さ
れているが、同様に、感度、電気特性、耐メッキ性等の
性能は従来の樹脂と殆ど差が見られない。
しようとする課題は、ソルダーレジスト等の光重合性樹
脂として有用な、高感度で、溶剤乾燥時における安定
性、電気特性、耐メッキ性に優れた、活性エネルギ−線
硬化型エポキシアクリレ−ト樹脂組成物を提供すること
にある。
去乾燥時に於ける現像精度、現像化安定性、高感度化、
耐メッキ性、電気絶縁性について鋭意研究を重ねた結
果、一分子中にエポキシ基を2個以上有するエポキシ樹
脂に無水(メタ)アクリル酸と(メタ)アクリル酸とを
反応させて得られるエポキシアクリレ−ト樹脂に多塩基
酸無水物を反応させて得られる酸ペンダント型エポキシ
アクリレ−トを含有してなることを特徴とする活性エネ
ルギ−線硬化型エポキシアクリレ−ト樹脂組成物によっ
て、上述の課題が解決されることを見いだし、本発明を
完成するに至った。
2個以上有するエポキシ樹脂に、エポキシ基1モルに対
して無水(メタ)アクリル酸0.1〜0.8モルと、不
飽和一塩基酸0.2〜0.9モルとを、反応させて得ら
れるエポキシアクリレ−ト樹脂(A)に、更に多塩基酸
無水物(B)を反応させて得られる酸ペンダント型エポ
キシアクリレ−ト(C)を必須の成分として含有する活
性エネルギ−線硬化型エポキシアクリレ−ト樹脂組成物
である。
(A)の不飽和一塩基酸の反応したモル数1モルに対
し、多塩基酸無水物(B)を0.2から1.0モル反応
させて得られる酸ペンダント型エポキシアクリレ−ト
(C)を必須の成分として含有することを特徴とする請
求項1記載の活性エネルギ−線硬化型エポキシアクリレ
−ト樹脂組成物であり、
造に用いる一分子中にエポキシ基2個以上を有するエポ
キシ樹脂が、数平均分子量700から3000で、かつ
軟化点が30℃〜120℃であるノボラックエポキシ樹
脂の1種以上から成ることを特徴とする活性エネルギ−
線硬化型エポキシアクリレ−ト樹脂組成物である。
化型エポキシアクリレ−ト樹脂組成物に、更に、光重合
開始剤(D)と、光重合性ビニル系モノマー(E)及び
/又は有機溶剤と、1分子中に少なくとも2個以上のエ
ポキシ基を有するエポキシ化合物(F)とを含有する活
性エネルギ−線硬化型エポキシアクリレ−ト樹脂組成物
を含むものである。
有するエポキシ樹脂としては、ビスフェノール型エポキ
シ樹脂、ノボラック型エポキシ樹脂、ハロゲン化ビスフ
ェノール型エポキシ樹脂、ハロゲン化ノボラック型エポ
キシ樹脂、更に多価カルボン酸のグリシジルエステル型
樹脂、線状脂肪族エポキシ樹脂、及び脂環式エポキシ樹
脂、トリグリシジルイソシアヌレートやその誘導体、ポ
リグリシジル(メタ)アクリレートやグリシジル(メ
タ)アクリレート等のグリシジル基含有不飽和モノマ−
と他の不飽和モノマ−との共重合体等が挙げられる。
は、耐熱性、硬度、仮乾燥後のタック性の面から、ノボ
ラック型エポキシ樹脂が好ましく、更に数平均分子量が
700から3000であり、かつ軟化点が30℃以上で
120℃以下である樹脂1種以上からなることが好まし
い。
は、(メタ)アクリル酸のアシルハライドと(メタ)ア
クリル酸のアルカリ金属塩との反応、あるいは塩化チオ
ニル、塩化ホスホリル等の脱水剤の存在下により(メ
タ)アクリル酸から製造可能である。また、一部(メ
タ)アクリル酸のダイマー酸、トリマー酸、不飽和一塩
基酸、飽和一塩基酸を併用して調製することも可能であ
る。
タ)アクリル酸、及び不飽和一塩基酸の反応は、エポキ
シ基1モルに対して無水(メタ)アクリル酸0.1から
0.8モル、不飽和一塩基酸は、0.2から0.9モル
の範囲内で用いることが望ましい。
は、α,β−エチレン性不飽和結合を有する一塩基酸化
合物が使用できるが、好ましくは、(メタ)アクリレー
ト基とカルボン酸基を有する化合物が紫外線等のエネル
ギ−線に対する反応性の面で好ましく代表例としてアク
リル酸又はメタアクリル酸、およびこれらのダイマー及
びトリマー酸、あるいは、ヒドロキシエチル(メタ)ア
クリレート、
ト、ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート等ヒドロキ
シ(メタ)アクリレート化合物と多塩基性無水物とのハ
−フエステル化合物、あるいは、(メタ)アクリル酸と
イプシロンカプロラクトン等の反応物もしくはこれらの
混合物等が挙げられる。特にエポキシ基との反応性の面
から(メタ)アクリル酸が好ましい。
は、飽和又は不飽和酸無水物、例えば無水マレイン酸、
無水フタル酸、無水コハク酸、無水テトラヒドロフタル
酸、無水へキサヒドロフタル酸、無水トリメリット酸、
無水ヘット酸、無水メチルナジック酸、無水イタコン
酸、ベンゾフェノンテトラカルボン酸無水物等である。
して使用する場合、仮乾燥時の現像ライフの面から、無
水テトラヒドロフタル酸、無水ヘキサヒドロフタル酸、
或いは、ドデセニル無水こはく酸、メチル置換無水テト
ラヒドロフタル酸、無水ヘキサヒドロフタル酸等、アル
キル置換の無水こはく酸、無水テトラヒドロフタル酸、
無水ヘキサヒドロフタル酸等が好適に用いられる。
び不飽和一塩基酸とのエステル化反応は、エポキシエス
テル化触媒、重合禁止剤や酸化防止剤等安定剤存在下で
好ましく行われる。
用のトリエチルアミン、トリスジメチルアミノメチルフ
ェノール、ベンジルジメチルアミン等の第三級アミン、
トリメチルペンジルアンモニウムクロライド、水酸化ア
ンモニュウム塩等の第四級アンモニウム塩、2−エチル
−4−メチルイミダゾールで代表されるイミダゾール化
合物、ジエチルアミン塩酸塩、ジアザビスシクロウンデ
セン等の窒素化合物、卜リフェニルフォスフィンに代表
されるリン化合物、ナフテン酸クロム等の有機金属塩等
が使用する事が出来る。
イドロキノン、メチルハイドロキノン、トリメチルハイ
ドロキノン、ターシャリブチルハイドロキノン、2,6
−ジターシャリブチル−4−メトキシフェノール、銅
塩、フェノチアジン等が使用可能であり、酸化防止剤も
周知慣用の例えば、亜リン酸、亜リン酸エステル類、亜
リン酸ジエステル類等が使用できる。
される水酸基に対して、0.2〜1.0当量の多塩基酸
無水物を30〜130℃、好ましくは50〜110℃で
反応し、ぺンダントエステル化する。ここでエポキシア
クリレートに含有される水酸基は、原料となるエポキシ
樹脂に含まれる水酸基と不飽和一塩基酸の反応モル数の
和となる。
ートの酸価は、アルカリ水溶液にて現像できうる酸価と
して30〜150KOH-mg/g(固形分当たり)、好ましく
は、55〜130KOH-mg/g(固形分当たり)で調製する
ことが好ましい。反応終点は、赤外分光スペク卜ル17
70cm-1及び1850cm-1の酸無水物ピークが消失
することで確認する。
が、攪拌効率を良くするためにベンゼン、トルエン、キ
シレン、ブチルセロソルブァセテート、セロソルブアセ
テート、カルビトールアセテート等の溶剤を加えて反応
を行っても良い。
開始剤(D)は、特に制限はなく、公知慣用の重合性光
開始剤を用いることができるが、代表例を挙げれば、4
−ジメチルアミノ安息香酸、4−ジメチルアミノ安息香
酸エステル、アルコキシアセトフェノン、ベンゾフェノ
ンおよびベンゾフェノン誘導体、ベンゾイル安息香酸ア
ルキル、ビス(4−ジアルキルアミノフェニル)ケト
ン、ベンジルおよびベンジル誘導体、ベンゾインおよび
ベンゾイン誘導体、
キシ−2−メチルプロピオフェノン、1−ヒドロキシシ
クロヘキシルフェニルケトン、2,4,6−トリメチル
ベンゾイルジフェノイルフォスフィンオキシド、2−メ
チル−1−[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モル
ホリノ−1−プロパノン、2−ベンジル−2−ジメチル
アミノ−1−(4−モルホリノフェニル)−ブタン−1
−オン、
−フェニルアセトフェノン、2,2−ジエトキシ−2−
フェニルアセトフェノン、1,1−ジクロロアセトフェ
ノンのごときアセトフェノン類、
ントラキノン、2−ターシャリブチルアントラキンノ
ン、1−クロロアントラキノン、2−アルミアントラキ
ノンのごときアントラキノン類、
−ジエチルチオキサントン、2−クロロチオキサント
ン、2,4−ジイソプロピルチオキサントンのごときチ
オキサントン類、
ルジメチルケタールのごときケタール類、またはキサン
トン類等がある。光重合開始剤の使用量は、通常、酸ペ
ンダント型エポキシアクリレート樹脂固形分100重量
部に対して0.2〜30重量部、好ましくは2〜20重
量部の範囲である。かかる光重合開始剤は公知慣用の光
重合促進剤の一種あるいは二種以上と組み合わせて用い
ることもできる。
ペンダント型エポキシアクリレート樹脂(C)の100
重量部に対して0.2〜30重量部、好ましくは2〜2
0重量部の範囲である。かかる光重合開始剤は公知慣用
の光重合促進剤の一種あるいは二種以上と組み合わせて
用いることもできる。
ー(E)は、特に制限はなく、公知慣用の光重合性ビニ
ルモノマーを用いることができるが、代表的な例として
は、β−ヒドロキシエチルアクリレート、β−ヒドロキ
シプロピルアクリレート、グリシジルアクリレート、β
−ヒドロキシエチルアクリロイルフォスフェート、ジメ
チルアミノエチルアクリレート、ジエチルアミノエチル
アクリレート、
チレングリコールジアクリレート、トリエチレングリコ
ールジアクリレート、ポリエチレングリコールジアクリ
レート、プロピレングリコールジアクリレート、ジプロ
ピレングリコールジアクリレート、トリプロピレングリ
コールジアクリレート、ポリプロピレングリコールジア
クリレート、トリメチロールプロパンジアクリレート、
ト、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエ
リスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリト
ールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールペン
タアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリ
レート、もしくは、ビス(アクリロイルオキシエチル)
ヒドロキシエチルイソシアヌレート、トリス(2−アク
リロイルオキシエチル)イソシアヌレート、または、上
記アクリレートに対する各メタクリレート類、
クリレートとのモノ−、ジ−、トリ−またはそれ以上の
ポリエステル、あるいはビスフェノールA型エポキシア
クリレート、ノボラック型エポキシアクリレートまたは
ウレタンアクリレートの如きエチレン性不飽和二重結合
を有するモノマー類、オリゴマー類を用いてもよい。
としては、メチルエチルケトン、シクロヘキサノンなど
のケトン類、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素
類、セロソルブ、ブチルセロソルブなどのセロソルブ
類、カルビトール、ブチルカルビトールなどのブチルカ
ルビトールなどのカルビトール類、酢酸エチル、酢酸ブ
チル、セロソルブアセテート、ブチルセロソルブアセテ
ート、カルビトールアセテート、ブチルカルビトールア
セテートなどの酢酸エステル類などがある。
(E)及び/又は有機溶剤は単独又は2種以上の混合物
として用いられる。その使用量の好ましい範囲は、酸ペ
ンダント型エポキシアクリレート樹脂(C)の100重
量部に対して30〜300重量部、更に好ましくは50
〜200重量部である。
ポキシ基を有するエポキシ化合物(F)の代表的な例と
しては、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノ
ールF型エポキシ樹脂、ビスフェノールS型エポキシ樹
脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾール
ノボラック型エポキシ樹脂、N−グリシジル型エポキシ
樹脂または脂環式エポキシ樹脂などの1分子中に2個以
上のエポキシ基を有するエポキシ化合物などがある。特
にN−グリシジル型エポキシ樹脂が好ましく用いられ
る。
基を有するエポキシ化合物(F)は単独または2種以上
の混合物として用いられ、その好ましい使用範囲は、酸
ペンダント型エポキシアクリレート樹脂(C)の100
重量部に対して、30〜300重量部、好ましくは30
〜300重量部、更に好ましくは50〜200重量部で
ある。
アクリレ−ト樹脂組成物には、更に必要に応じて、硫酸
バリウム、酸化ケイ素、タルク、クレー、炭酸カルシウ
ムなどの公知慣用の充填剤、フタロシアニンブルー、フ
タロシアニングリーン、酸化チタン、カーボンブラック
などの公知慣用の着色用顏料、消泡剤、密着性付与剤類
を加えてもよい。
ない範囲で、反応促進のためのアミン化合物類、イミダ
ゾール化合物類、ジアルキル尿素類、カルボン酸類、フ
ェノール類、又はメチロール基含有化合物類などの公知
のエポキシ硬化促進剤を少量併用し、塗膜を後加熱する
ことにより、光硬化成分の重合促進ならびに、エポキシ
化合物と酸ペンダント型エポキシアクリレートのカルボ
キシル基の反応及び、エポキシ化合物同士の反応を通し
て得られるレジスト被膜の諸物性を向上せしめることも
できる。
プリント配線基板上にスクリーン印刷法、ロールコータ
ー法あるいはカーテンコーター法、スプレーコーター法
などにより全面に塗布し、活性エネルギー線を照射して
必要部分を硬化後、希アルカリ水溶液で未露光部を溶か
し去り、更に熱による後硬化を加えることにより、目的
とする被膜を形成せしめることができる。また、熱を加
えないで、エッチングレジストとして使用することもで
きる。
アクリレ−ト樹脂組成物を硬化させるための照射光源と
しては、例えば、低圧水銀ランプ、中圧水銀ランプ、高
圧水銀ランプ、キセノンランプまたはメタハライドラン
プ等が適当であり、その他レーザー光線なども硬化用の
活性エネルギー線として利用できる。光源として紫外
線、高圧水銀ランプを用いた場合は、照射線量としては
10mJ/cm2以上、通常10〜1000mJ/cm2
の照射で十分である。
して重要なものは、感度、解像能と現像性である。特に
感度は照射した光に対してパターンが形成される溶解残
膜の量によって評価でき、より低照射量でパターンが形
成されるものほど高感度である。感光高分子に光があた
ると、光量に応じた変化が生じるが、反応分子(部位)
の数と現像液に対する溶解性の変化により感度が変化す
る。
ては、グレースケール法(ステップタブレット法)、残
膜収率法、電気抵抗法等が知られている。(機能性高分
子シリーズ 感光性高分子 永松元太郎 乾英夫著 講談社
サイエンテフィック編集)
層具体的に説明するが、以下において、部、および%は
特に断わりのない限り、全て重量基準であるものとす
る。また数平均分子量は、高速液体クロマトグラフィー
(GPC)により測定し、ポリスチレン換算値として示
した。
却器を備えたフラスコに、エチルカルビトールアセテー
ト78.9部を入れ、オルソクレゾールノボラック型エ
ポキシ樹脂エピクロンN−695(大日本インキ化学工
業株式会社製、エポキシ当量216)216部を溶解
し、熱重合禁止剤としてハイドロキノン1.3部加えた
後、アクリル酸50.4部、無水(メタ)アクリル酸
49.2部 トリフェニルフォスフィン5部を添加し、
空気を吹き込みながら120℃で12時間エステル化反
応を行なった。
当量は11200g/eqであった。その後、エチルカ
ルビトールアセテート140.1部、テトラヒドロ無水
フタル酸91.2部を加え90℃で5時間反応し、目的
とする酸ペンダント型エポキシアクリレート(a−1)
を得た。この時の系の酸価は55KOH-mg/g(固形分計算
84.6KOH-mg/g)、エポキシ当量は33000g/e
qであった。
却器を備えたフラスコに、カルビトールアセテート7
4.7部を入れ、フェノ−ルノボラック型エポキシ樹脂
エピクロンN−770(大日本インキ化学工業株式会社
製、エポキシ当量190)190部を溶解し熱重合禁止
剤としてハイドロキノン1.3部加えた後、アクリル酸
43.2部、無水メタクリル酸65.6部、トリフェニ
ルフォスフィン5部を添加し、空気を吹き込みながら1
20℃で12時間エステル化反応を行なった。
キシ当量は13200g/eqであった。その後、エチ
ルカルビトールアセテート135.3部、テトラヒドロ
無水フタル酸91.2部を加え90℃で5時間反応し、
目的とする酸ペンダント型エポキシアクリレート(a−
2)を得た。この時の系の酸価は56KOH-mg/g(固形分
計算86.2KOH-mg/g)、エポキシ当量は34000g
/eqであった。
却器を備えたフラスコに、カルビトールアセテート7
8.9部を入れ、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂
エピクロンN−695(大日本インキ化学工業株式会社
製、エポキシ当量216)216部を溶解し熱重合禁止
剤としてハイドロキノン1.3部を加えた後、アクリル
酸50.4部、無水メタクリル酸49.2部、トリフェ
ニルフォスフィン5部を添加し、空気を吹き込みながら
120℃で12時間エステル化反応を行なった。
キシ当量は13200g/eqであった。その後、エチ
ルカルビトールアセテート140.8部、ヘキサヒドロ
無水フタル酸92.4部を加え90℃で5時間反応し、
目的とする酸ペンダント型エポキシアクリレート(a−
3)を得た。この時の系の酸価は54KOH-mg/g(固形分
計算83KOH-mg/g)、エポキシ当量は31500g/e
qであった。
流冷却器を備えたフラスコに、エチルカルビトールアセ
テート72.1部を入れ、オルソクレゾールノボラック
型エポキシ樹脂エピクロンN−695(大日本インキ化
学工業株式会社製、エポキシ当量216)216部を溶
解し、熱重合禁止剤としてハイドロキノン1.3部加え
た後、アクリル酸72.4部、トリフェニルフォスフィ
ン5部を添加し、空気を吹き込みながら、120℃でエ
ステル化反応を行なった。
キシ当量は12500g/eqであった。その後、エチ
ルカルビトールアセテート132.2部、テトラヒドロ
無水フタル酸152部を加え90℃で5時間反応し、比
較対照の酸ペンダント型エポキシアクリレート(x−
1)を得た。この時の系の酸価は57KOH-mg/g(固形分
計算87.7KOH-mg/g)、エポキシ当量は23000g
/eqであった。
流冷却器を備えたフラスコに、ビスフェノールA型エポ
キシ樹脂エピクロン850(大日本インキ化学工業株式
会社製、エポキシ当量190)190部を溶解し、熱重
合禁止剤としてハイドロキノン1.3部加えた後、アク
リル酸43.4部、無水メタクリル酸65.6部、トリ
フェニルフォスフィン5部を添加し空気を吹き込みなが
ら120℃でエステル化反応を行なった。
キシ当量は11800g/eqであった。その後、エチ
ルカルビトールアセテート161部加え溶解させ、比較
対照エポキシアクリレート(x−2)を得た。
合成された樹脂の性状値を表1に示す。表1中の「エポ
キシ樹脂」は酸ペンダント型エポキシアクリレート
(A)の原料に使用するエポキシ樹脂、「アクリル酸」
はエポキシ基1モル当たりのアクリル酸仕込みモル数、
「無水(メタ)アクリル酸」はエポキシ基1モル当たり
の無水メタクリル酸仕込みモル数、「酸価」は溶液酸価
(不揮発分65%)(KOH−mg/g)を表わす。
(a−1)100部に、光開始剤としてイルガキュア9
07を3.25部を添加し完全に溶解させ、紫外線硬化
組成物を作成した。
(a−2)100部を(a−1)に代わって使用した以
外は、実施例1と同様に、紫外線硬化組成物を作成し
た。
(a−3)100部を(a−1)に代わって使用した以
外は、実施例1と同様に、紫外線硬化組成物を作成し
た。
(x−1)100部を(a−1)に代わって使用した以
外は、実施例1と同様に、紫外線硬化組成物を作成し
た。
(x−2)100部を(a−1)に代わって使用した以
外は、実施例1と同様に、紫外線硬化組成物を作成し
た。
−1)を用いて、下記の成分を配合せしめ、ロールミル
により混練してインキを調製した。
スエポキシ基材の銅張積層板の全面に150メッシュの
スクリーンを用いて塗布し、テストピースを作成した。
(a−2)53.0部を樹脂(a−1)に代わって使用
した以外は、実施例1と同様に紫外線硬化組成物を作成
し、テストピ−スを作成した。
(a−3)53.0部を(a−1)に代わって使用した
以外は、実施例1と同様に、紫外線硬化組成物を作成
し、テストピ−スを作成した。
(x−1)53.0部を(a−1)に代わって使用した
以外は、実施例1と同様に、紫外線硬化組成物を作成
し、テストピ−スを作成した。
(x−2)53.0部を(a−1)に代わって使用した
以外は、実施例1と同様に、紫外線硬化組成物を作成
し、テストピ−スを作成した。
と2で作成された組成物を銅板上に乾燥膜厚30μmに
なるよう塗装した。その後、この塗装物を90℃にて3
0分溶剤乾燥を行った。得られた塗膜をグレースケール
法を用いて評価した。即ち、得られた塗膜上に富士ステ
ップガイドP(富士写真フィルム社製)を乗せ、高圧水
銀ランプを用い120mJ/cm2、200mJ/cm2
の紫外線を照射し後、1%炭酸ソーダ水溶液に180秒
浸積し、紫外線露光により現像できなかった最大の段数
にて評価を行なった。評価結果を表2に示す。段数の大
きいほど高感度であることを示す。
スを90℃の乾燥器中に20分〜80分放置して溶剤を
揮散させ、1%炭酸ソーダ水溶液に180秒浸積して現
像し、溶剤乾燥時の安定性を目視にて判定した。得られ
た試験結果を表3に示す。なお性能評価は下記の基準で
行ない、70分以上安定なものを合格とした。
ピースを80℃の乾燥器中に30分放置して溶剤を揮散
させ、塗膜上にステップタブレットNo.2(コダック
株式会社製)をのせ、高圧水銀ランプを用い300mJ
/cm2、500mJ/cm2の紫外線を照射し後、1%
炭酸ソーダ水溶液に180秒浸積し、グレースケール法
で評価を行なった。
字はステップタブレットの段数を示し、数字が大きいほ
ど硬化性が優れていることを示す。300mJ/cm2
の照射条件では6段以上、500mJ/cm2の条件で
は9段以上を合格とした。
スを80℃の乾燥器中に30分放置して溶剤を揮散さ
せ、高圧水銀ランプを用い500mJ/cm2の紫外線
を照射し後、150℃の乾燥器中に30分放置し後硬化
させ、脱脂、活性化などの前処理を行なった後、無電解
ニッケルメッキ液に90℃で30分浸積し、水洗、希塩
酸で洗浄して活性化後、無電解金メッキ液に90℃で3
0分浸積して金メッキを行なった。
プで剥離試験を行ない、塗膜の剥がれの程度を黙視によ
り判定した。得られた評価試験の結果を表2に示す。な
お、性能評価は、下記のような要領で行なった。 ○:全く剥がれが認められない。 ×:わずかに剥がれが認められる。
スを80℃の乾燥器中に30分放置して溶剤を揮散さ
せ、高圧水銀ランプを用い500mJ/cm2の紫外線
を照射し後、150℃の乾燥器中に30分放置し後硬化
させた。硬化サンプルについて 260℃の溶融ハンダ
に2分間浸漬した後の、塗膜状態について判定を行っ
た。結果を表5に示す。尚、評価基準は、下記の要領で
行った。
性樹脂として有用な、高感度で、溶剤乾燥時における安
定性、電気特性、耐メッキ性に優れた、活性エネルギ−
線硬化型エポキシアクリレ−ト樹脂組成物を提供でき
る。
Claims (4)
- 【請求項1】 一分子中にエポキシ基を2個以上有する
エポキシ樹脂に、エポキシ基1モルに対して無水(メ
タ)アクリル酸0.1〜0.8モルと、不飽和一塩基酸
0.2〜0.9モルとを、反応させて得られるエポキシ
アクリレ−ト樹脂(A)に、更に多塩基酸無水物(B)
を反応させて得られる酸ペンダント型エポキシアクリレ
−ト(C)を必須の成分として含有する活性エネルギ−
線硬化型エポキシアクリレ−ト樹脂組成物。 - 【請求項2】 エポキシアクリレ−ト樹脂(A)の不飽
和一塩基酸の反応したモル数1モルに対し、多塩基酸無
水物(B)を0.2から1.0モル反応させて得られる
酸ペンダント型エポキシアクリレ−ト(C)を必須の成
分として含有することを特徴とする請求項1記載の活性
エネルギ−線硬化型エポキシアクリレ−ト樹脂組成物。 - 【請求項3】 エポキシアクリレート樹脂(A)の製造
に用いる一分子中にエポキシ基2個以上を有するエポキ
シ樹脂が、数平均分子量700から3000で、かつ軟
化点が30℃〜120℃であるノボラックエポキシ樹脂
の1種以上から成ることを特徴とする特許請求項1また
は2に記載の活性エネルギ−線硬化型エポキシアクリレ
−ト樹脂組成物。 - 【請求項4】 請求項1から3のいずれか一つに記載の
活性エネルギ−線硬化型エポキシアクリレ−ト樹脂組成
物に、更に、光重合開始剤(D)と、光重合性ビニル系
モノマー(E)及び/又は有機溶剤と、1分子中に少な
くとも2個以上のエポキシ基を有するエポキシ化合物
(F)とを含有する活性エネルギ−線硬化型エポキシア
クリレ−ト樹脂組成物。
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